【課題】乾燥作業の迅速化や基板の汚染防止を図ることのできるリテーナ及び基板収納容器を提供する。
【解決手段】基板収納容器の蓋体１０と共に洗浄されるリテーナ２０を、蓋体１０に装着される縦長の枠体２１と、この枠体２１の一対の対向片２２からそれぞれ突出して相互に接近する一対の弾性片と、この一対の弾性片に形成されて半導体ウェーハの前部周縁を保持する保持部３０とから形成する。また、枠体２１の各対向片２２の蓋体１０に対向する裏面長手方向に、複数の凹凸２８を間隔をおいて交互に形成し、この複数の凹凸２８により、リテーナ２０の洗浄や乾燥時の水切り性を向上させる。 （もっと読む）

【課題】リテーナの変形のおそれを抑制し、リテーナの装着作業の円滑化や容易化を実現して作業効率を向上させることのできるリテーナ及び基板収納容器を提供する。
【解決手段】リテーナ２０を、蓋体１０に装着される縦長の枠体２１と、枠体２１の一対の対向片２２からそれぞれ突出して相互に接近する一対の弾性片２９と、一対の弾性片２９に形成されて半導体ウェーハＷの前部周縁を保持する保持部３０とから形成する。枠体２１を、間隔をおき平行に対向して蓋体１０の上下方向に伸びる一対の対向片２２と、一対の対向片２２の上下両端部間にそれぞれ水平に架設される一対の架設片２３とから形成し、各架設片２３に、半導体ウェーハＷ方向に突出して枠体２１を変形させるバネ性の屈曲部２５を形成する。 （もっと読む）

【課題】内外部を連通する連通部に水分が入り込まない基板収納容器を提供する。
【解決手段】一端に開口部を有し基板を収納する容器本体１と、開口部を閉鎖する蓋体とを有し、容器本体１の内部と外部とを連通する連通部３が少なくとも１ヶ設けられている基板収納容器であって、前記連通部３には、フィルタ保持部材５が取り付けられていて、フィルタ保持部材５の向き合う開口部の両端に第一のフィルタ６と第二のフィルタ７が向き合うように配設されていることを特徴とする。フィルタ保持部材には、逆止弁を備えた開閉バルブが内蔵されること、第一のフィルタ６の圧力損失が、フィルタ保持部材の他端部に設けられる第二のフィルタ７の圧力損失以上であること、等がそれぞれ好ましい。 （もっと読む）

【課題】半導体チップがトレイに張り付くのを防止する。
【解決手段】半導体チップ２を収容するための断面凹状の複数の収容部１ｃ，１ｅが主面および裏面に形成されたトレイ１を複数段積み重ねた時に、下段のトレイ１の主面の収容部１ｃと、上段のトレイ１の裏面の収容部１ｅとが重なったところに形成される空間に半導体チップ２を収容した状態で搬送する搬送方法において、上段のトレイ１の裏面の収容部１ｅの底面に、半導体チップ２に接しないような高さの孤立状の突起１ｆを分散させて配置した。これにより、半導体チップ２が上段のトレイ１の裏面に張り付いてしまう現象を防止できる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、大型ペリクル用の収納容器において、特に真空成形を用いて製造した容器であっても、洗浄性を損なわずに剛性を向上させることのできる大型ペリクル収納容器を提供することを可能にすることを目的としている。
【解決手段】 ペリクル１を収納して保管、搬送するために用いられる大型ペリクル収納容器であって、ペリクル１を収納するトレイ２と、該トレイ２を被覆する蓋３とからなり、該トレイ２または蓋３の少なくとも平面部は二重構造であって、２枚のトレイ２ａ，２ｂの間にハニカム構造42を設けて構成したことを特徴とする。
【選択図】 図５
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【課題】１つの処理室内で少なくとも２つのウェハを同時に処理するロードロック室、移送室及び１以上の処理室を含むウェハ処理用装置を提供する。
【解決手段】ロードロック室と、搬送室と、前記搬送室に接続された互いに空間的に隔離される複数の処理領域を各々に形成する１つ以上の処理室と、前記搬送室内に配置された第１ウェハ・ハンドリング部材を含むウェハ処理装置を提供する。処理室は、少なくとも２つの処理領域で複数の分離されたプロセスを同時に行なうことができるように構成し、共有ガス源、共有排気システム、別個のガス分配アセンブリ、別個のＲＦ電源、および別個の温度制御システムによってもたらされる高度な処理制御により、１つの処理室内で少なくとも２つのウェハを同時に処理することができる。 （もっと読む）

【課題】従来に比べて基板収容機構の小型化を図ることができ、フットプリントの増大を抑制することのできる基板収容機構及び半導体製造装置を提供する。
【解決手段】基板収容機構１の内側部材２は、外形が略半円筒状に構成されており、その内部に複数枚の円板状の半導体ウエハＷ（又はダミーウエハ）を、間隔を設けて棚状に支持するスロット状の支持部を有している。内側部材２の開放端側は、搬入・搬出部２ａとなっている。内側部材２の外側には、全体形状が略半円筒状とされた外側部材３が、内側部材２と同軸的に設けられている。内側部材２と外側部材３とは、軸６を中心として相対的に回転可能とされ、搬入・搬出部２ａを開放した状態と、外側部材３で覆った状態に設定可能とされている。 （もっと読む）

【課題】収納容器体内の雰囲気を被処理体の位置ずれを生ぜしめることなく迅速に、円滑に不活性ガスの置換を行なう被処理体の導入ポート機構を提供する。
【解決手段】収納容器体２内の被処理体Ｗを開口ゲート５２を介して不活性ガス雰囲気の被処理体移載エリア３６内へ取り込む被処理体の導入ポート機構において、収納容器体を載置する載置台５４と、開口ゲートを開閉可能に閉じる開閉ドア５６を有する開閉ドア機構５７と、開閉ドアに設けられて開閉蓋を開閉する蓋開閉機構６４と、不活性ガスを収納容器体内に向けて噴射するために開口ゲートの周辺部に沿って設けられると共に、多孔質材料により筒体状に成形された多孔質ガス噴射管８０を有するガス噴射手段１００と、開口ゲートの多孔質ガス噴射管を設けた周辺部以外の他の周辺部に設けられて、多孔質ガス噴射管から噴射された不活性ガスによりパージされた収納容器体内の雰囲気を排出する排気口８２を有する排気手段１０２とを備える。 （もっと読む）

互いにネストするベース及びカバーを備えたウェハ容器。ベースは、内壁及び外壁から成る互い違いの壁構造を含む。互い違いの壁構造は、側面衝撃による力が主に外壁セグメントにより吸収されるように配置される。カバーに設けられたリブは、外壁セグメントが内壁径を越えて曲がるのを制限する。ベースに設けられた基準タブは、カバーに対するベースの位置合わせを容易にする。 （もっと読む）

【課題】環境温度変化等によって両者間に寸法誤差が生じた場合でも、常時、安定した状態で支持プレートを容器本体の底部内面と蓋体の天板内面に形成した支持プレート用取付部内に嵌着できるようにした板状体の搬送容器を提供する。
【解決手段】容器本体の底部内面と蓋体３の天板内面に支持プレート５を嵌着するための支持プレート用取付部３２を形成する。支持プレート用取付部３２には、嵌着する支持プレート５の長手方向の両端を位置決めする端側壁３４と、両端側壁３４、３４間に支持プレート５の移動を拘束する２つ以上の拘束体４１、４２とを形成する。支持プレート５には、表面側に収容した板状体の下縁または上縁を挿入して支持する複数の横溝５１を、裏面側には前記各拘束体４１、４２に係合する凸部および凹部５５と、長手方向に直交する方向の１つ以上の切り欠き５３を形成する。 （もっと読む）

【課題】基板を破壊させることなく収納できる基板収納容器を提供する。
【解決手段】基板を収納する容器本体１０と、前記容器本体１０に対向する面の一部に前記容器本体１０内に突出する突出部２１ａを有し前記容器本体１０に係合する蓋部材２０と、前記容器本体１０内に収納され前記基板と略同一形状を有し前記基板よりも高い剛性を有する変形防止板３０とを具備し、前記変形防止板３０を介して前記蓋部材２０の前記突出部２１ａによって前記基板を押圧することで、前記基板を前記容器本体１０内に保持する。 （もっと読む）

【課題】ウェーハの品質を高く保持し、容易にウェーハをハンドリングする。
【解決手段】ウェーハ３１の外周縁より外側の外周部と、外周部の最上面よりも低い位置からウェーハ３１の径方向内側に向かって斜め下方に延出する傾斜面を有し、傾斜面における外周部の最上面よりも低い位置でウェーハ３１の外周縁と接触してウェーハ３１を載置する複数の載置部と、外周部の内周側において隣り合う載置部の間にあって、載置部よりもウェーハ３１の径方向外側であってウェーハ３１の載置高さより下方の切り欠き部２３とを備えるウェーハ収納容器１０からウェーハ３１を取り出し、あるいはウェーハ３１を収納するウェーハのハンドリング方法であって、ウェーハ収納容器１０に収納された状態で切り欠き部２３からウェーハ３１の外周縁に接触してウェーハ３１を保持し、ウェーハ３１をウェーハ収納容器１０から取り出すウェーハのハンドリング方法とする。 （もっと読む）

【課題】ウェーハの品質を高く保持したまま容易にウェーハをハンドリングすることが可能なウェーハのハンドリング方法を提供する。
【解決手段】ウェーハ収納容器１０からウェーハ３１を取り出し、あるいは該ウェーハ収納容器１０にウェーハ３１を収納するウェーハのハンドリング方法であって、切り欠き部２３の位置に対応して、切り欠き部２３のウェーハ３１外周縁より外側からウェーハ３１の径方向内側に向かって斜め下方に傾斜する第２傾斜面を有する先端を備えた突出部５４を複数有する冶具５０を切り欠き部２３の下方から挿入することにより、第２傾斜面をウェーハ収納容器１０に収納されたウェーハ３１の上記外周縁に接触させてウェーハ３１を保持し、ウェーハ３１をウェーハ収納容器１０から上方に浮かせてから取り出すウェーハのハンドリング方法とする。 （もっと読む）

【解決手段】フォトマスク用合成石英ガラス基板を収容、保管するプラスチック製保管ケースであって、この保管ケースに収容されるガラス基板の表面又は表面及び裏面と対向する保管ケース内面に、保管ケースから発生するアウトガス成分の吸収剤を保持する吸収剤保持部材を取り付けてなり、この保持部材に保持される吸収剤の総量（ｇ）とこの吸収剤のＢＥＴ比表面積（ｍ²／ｇ）との積Ａ（ｍ²）と、保持部材が取り付けられた保管ケースの内面に対向するガラス基板の表面又は表面及び裏面の合計面積Ｂ（ｃｍ²）との比（Ａ／Ｂ）が１．０〜１２０ｍ²／ｃｍ²であるフォトマスク用合成石英ガラス基板保管ケース。
【効果】本発明によれば、ガラス基板を長期保存しても、基板表面への化学吸着が進みにくく、これによりガラス基板にＣｒ膜等を成膜する際の成膜ムラを抑制でき、生産性の向上及び歩留まり向上につながる。 （もっと読む）

【課題】薄いウエハの周縁部を確実に固定し収納する枚葉式ウエハケースを提供する。
【解決手段】下ケースに適合する上側ウエハ押さえおよび下側ウエハ押さえ、下ケースおよび上ケースから構成されるウエハケースにおいて、上側ウエハ押さえおよび下側ウエハ押さえによりウエハ周縁部を押さえ、それ以外のウエハ領域にはウエハケースやウエハ押さえは接触しない。上側ウエハ押さえおよび下側ウエハ押さえとウエハとの接触部は、ウエハ上面および下面で同一のウエハ内領域である。ウエハ押さえは弾性構造および／または弾性材料で構成されている。 （もっと読む）

【課題】リングフレームのがたつきを抑制することができ、容器本体の構成を簡素化し、部品点数の増加するおそれの少ない処理治具用の収納ケースを提供する。
【解決手段】前後部が開口した容器本体１０と、容器本体１０の両側壁１４内面に対向して形成され、半導体ウェーハを搭載する処理治具のリングフレームを支持する一対の支持片２０とを備え、容器本体１０の上下方向に一対の支持片２０を間隔をおいて複数配列し、隣接する支持片２０と支持片２０の間をリングフレーム用の挿入溝２１に形成する。そして、各支持片２０の後部に、リングフレームの側部後方に干渉するストッパ２２を設け、ストッパ２２には、下方の支持片２０に向かうにしたがい徐々に狭まる傾斜面２３を形成する。傾斜面２３が挿入溝２１を徐々に埋めるので、リングフレームの上下方向へのがたつきを抑制防止することができ、リングフレームの損傷を防止できる。 （もっと読む）

【課題】収納室に多数のワークを収納可能であって、収納室へ先に搬入されたワークから順に搬出する「先入先出」の機構の実現が可能であると共に、ワークが載置されるワークトレイの昇降をシリンダ機構により実現して、収納・搬送中のワークの汚損防止が可能なホールドエレベータ装置を提供する。
【解決手段】本発明に係るホールドエレベータ装置は、ワークを一定姿勢で載置するワークトレイと、ワークトレイを収納室内で周回移動させるトレイ周回手段と、先にワークが保持されたワークトレイを支持し、後からワークが保持されたワークトレイが積層される際に該支持を開放するトレイ支持手段を備え、収納室へ先に搬入されたワークからワークトレイに載置してトレイ支持手段により一時的な支持を行いつつ、トレイ周回手段によりワークトレイを周回移動させて、先に搬入されたワークから順次、収納室から搬出される。 （もっと読む）

【課題】蓋体を外した状態で、該基板収納容器が動いた場合でも、ウェハを所定の位置に保持することができる基板収納容器を提供すること。
【解決手段】本発明は、天井部８、底部９、側壁５〜７により構成された基板収納部３と、側壁６と側壁７の内側面に、それぞれ、並設された複数のウェハスロット１１と、第２の側壁６と第３の側壁７に、それぞれ、ウェハスロット１１の配列方向に沿って延在形成されたスリット部１２と、各スリット部１２に沿って移動可能に配設されたスライド部１８と、スライド部１８の内側面に、ウェハスロット１１のピッチと略等しいピッチで並設された複数の基板固定片を有し、スライド部１８が基板固定位置において、基板固定片が基板をウェハスロット１１に押付固定し、基板固定解除位置において、基板固定片が基板の周縁部から離間し、基板の固定状態を解除する。 （もっと読む）

【課題】半導体装置のコーナー部とトレイとの接触に起因する、半導体装置の接続用端子の破損を防止することができ、また、量産性に優れた半導体集積回路装置用トレイおよび当該トレイを使用した半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体装置の収納部が、トレイ１０の表面側にトレイ表面から突出して形成され、平面視において、半導体装置の１辺の長さより短い辺を有する長方形状の複数のブロック１４を備える。当該複数のブロック１４の半導体装置の設置部側には、半導体装置を設置したときに、半導体装置のコーナー部を除く外縁部を下方から支持する支持面１７と、半導体装置の水平方向の移動を規制する規制面１６とを有するステップ部が形成されている。 （もっと読む）

【課題】移動体装置のレール走行に起因する発塵物を室内で拡散させることなく、レール近傍に向けて局所的に清浄空気を供給するとともにレール近傍の塵埃を含む空気を局所的に且つ速やかに排気すること。
【解決手段】レール近傍の少なくとも移動体装置６０の車輪６２が通過する位置に向けて、清浄空気吹出装置４０から清浄空気を吹き出し、移動体装置６０の走行により発生した塵埃を含む空気を、清浄空気吹出装置４０から吹き出された清浄空気とともに、レール３０ａ、３０ｂを挟んで清浄空気吹出装置４０と向かい合う排気装置５０により吸い込んで排気すること。 （もっと読む）