【課題】研磨後にウェーハを水没させて搬送する工程において、ウェーハの表面にウォータマークが形成されたり傷がついたりすることのないようなウェーハ収納装置を提供する。
【解決手段】先ず、水槽５の水面より上部に置かれたカセット４を水平にして、研磨後のウェーハ３を一枚ずつカセット４に収納する。次に、全てのウェーハ３がカセット４に収納されたら、傾斜手段８によってカセット４を１°〜２０°の範囲で傾斜させながら、カセット昇降機構７によって、カセット４を水槽５の内部の水中へウェーハ１枚分の間隔で沈める。セット４を水槽５から引き上げるときも、傾斜手段８によってカセット４を傾斜させながら引き上げる。これによって、ウェーハ３が浮き上がることなく、且つ上部のウェーハ３の水滴が下部のウェーハ３にたれることがなくなるので、ウェーハ３が傷ついたりウォータマークが形成されたりするおそれはない。 （もっと読む）

【課題】ディスプレイ用基板の製造工程の効率化とこの製造工程における基板の破損防止を図ることが出来るディスプレイ用基板の搬送プレートを提供する。
【解決手段】搬送プレートＰ１上に、搬送するディスプレイ用のガラス基板１０が載置される基板載置エリアＥ１が設定され、この基板載置エリアＥ１の周囲を囲む位置に、搬送プレートＰ１の基板載置エリアＥ１内に載置されたガラス基板１０の基板載置エリアＥ１内からの移動を規制する複数個の突起層Ｐ１ｂが、搬送プレートＰ１と分離不能に一体的に形成されている。 （もっと読む）

【課題】薄膜を形成する基板表面の温度差を解消して均一な薄膜を形成することができる気相成長装置を提供する。
【解決手段】サセプタ１２に回転可能に設けられたプレート受け台１３にそれぞれ保持される載置プレート１４の裏面側に加熱手段（ヒーター１６）を設けた自公転構造を有する気相成長装置において、載置プレートの底面中央部を研削し、載置プレート中央部の厚さを載置プレート外周部の厚さより薄くすることで載置プレートの上面温度を均一化し、載置プレートの上面に保持する基板の表面温度を均一化して均質な薄膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】イオン注入装置におけるウェハの交換位置を制御するための基準位置の設定を正確に効率良く行う位置調整装置を提供する。
【解決手段】回転する円板（２０）の指定位置（２２）を検出する毎に出力される第１パルスと、円板（２０）の回転と連動する回転軸（３０ａ）が１回転する毎に一つ出力される第２パルスと、回転軸（３０ａ）が１回転する毎に複数出力される第３パルスとを取得し、第１パルスと第２パルスとの間隔を第３パルスのパルス数に基づき計測する計測部（２）を具備する。 （もっと読む）

【課題】動的な機構を付加することなく、基板の表面において超音波振動が伝播しない領域を低減し、基板の表面を均一に洗浄できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】内槽１１の側壁１１ｂ，１１ｄに、傾斜面１４ａ，１５ａを有する反射部材１４，１５を設ける。内槽１１の側部付近に付与された超音波振動は、反射部材１４，１５の傾斜面１４ａ，１５ａにおいて反射し、支持棒２１１〜２１３の上方の領域に伝播する。このため、これらの領域にも超音波振動が伝播し、基板Ｗの表面において超音波振動が伝播しない領域が低減される。これにより、基板Ｗの表面を均一に洗浄できる。 （もっと読む）

【課題】効率的に成膜処理を行うことのできる成膜装置と、効率的な成膜方法とを提供する。
【解決手段】成膜装置１は、成膜室２内に載置された基板に成膜処理を行う。成膜室２には、第１の開閉部３を介して基板待機部４が接続しており、基板待機部４と成膜室２の間で複数の基板が載置されたサセプタを自動的に搬送する基板−サセプタ搬送用ロボット１７を有する。成膜室２の外部には、成膜処理を終えた後のサセプタを洗浄する洗浄部５が設けられている。 （もっと読む）

【課題】自公転型の気相成長装置において、複数の基板の温度を均一化することができる気相成長装置を提供する。
【解決手段】サセプタ１３の外周部に回転可能に設けた回転歯車部材１５に、スペーサリング２６を介装した状態で基板保持部材１４を保持し、複数の基板保持部材の表面温度に応じて前記スペーサリングの厚さを変化させることにより、複数の基板保持部材の表面温度を均一化し、各基板保持部材にそれ保持した各基板１６の温度分布を極力小さくする。 （もっと読む）

【課題】チャンバ内部の上下温度差による熱帯流の発生を根本的に抑える金属有機化学気相蒸着装置を提供する。
【解決手段】反応チャンバ１１０と、上、下部蓋１１１，１１２に備えられる上、下部サセプタ１２１，１２２を備え、上部蓋１１１と上部サセプタ１２１間、および下部蓋１１２と下部サセプタ１２２間に備えられる加熱部１３１，１３２と、上、下部中空軸を回転中心にし上、下部サセプタ１２１，１２２を一方向に回転させる動力を提供する回転駆動部１４０と、上、下部中空軸に連結され、上、下部中空軸間を連結する中央ガス供給ノズル１５３を通じ対向する上、下部サセプタ１２１，１２２の対応面間に反応ガスを供給するガス供給部１５０と、上、下部蓋１１１，１１２の外枠に接するよう配置され、反応チャンバ１１０の内部空間と連結されウェーハと反応が完了した反応ガスを外部に排出するガス排気部１６０とを含む。 （もっと読む）

【課題】基板の垂れることを防止してエッチング工程中エッチング液が溜まることなく、基板の両側に容易に流れることができる基板移送装置を提供する。
【解決手段】
本発明は、基板のエッチング工程中に基板を移送させる基板移送装置であって、基板が湾曲され、基板の両側にエッチング液が流れるように基板の両側を支持する基板支持台と、 基板が移送されるように基板支持台を移動させる移送駆動部とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【解決手段】基板処理システム及び方法を提供する。このシステムには、ステージと、このステージ上に装着された第１及び第２のチャックと、このステージに隣接して配置された少なくとも１つの基板処理ヘッドとを設けることができる。前記ステージ及び基板処理ヘッドは、前記基板処理ヘッドが第１及び第２のテスト基板の双方を処理するのに充分な距離に亘って相対移動するように構成されている。基板処理方法によれば、第１及び第２の基板を、ステージに装着したチャック上に配置しうる。前記ステージ及び処理ヘッドは、基板処理ヘッドが基板にまたがって走査するのに充分な第１の距離に亘って、第１の軸に沿う第１の方向で相対的に移動し、次に前記第１の方向に対し平行でない方向に沿って、第２の距離に亘って相対的に移動し、次に前記第１の方向とは反対の方向で、前記ヘッドが前記基板にまたがって走査するのに充分な第３の距離に亘って相対的に移動するようにしうる。前記処理ヘッドは、前記第１の距離及び前記第３の距離の双方又は何れか一方に沿う１つ以上の位置で前記第１の基板及び第２の基板を処理する。 （もっと読む）

【課題】 耐摩耗性に優れて使用寿命が画期的に延びるだけでなく、ウェーハの両面研磨時にウェーハのエッジに欠陥が発生しないようにその構造が改善されたウェーハキャリアの製造方法を提供する。
【解決手段】 ウェーハキャリアを構成する本体をあらかじめ設定された形状に加工する加工工程と、ウェーハキャリアの本体に予備孔及びスラリーを流入するためのスラリー流入孔を貫通形成する形成工程と、予備孔が形成された本体にＤＬＣをコーティングするコーティング工程と、ＤＬＣコーティング後に予備孔を拡孔してウェーハを挿入するためのウェーハ保持孔を形成するウェーハ保持孔形成工程と、を含むウェーハキャリアの製造方法。 （もっと読む）

回転ディスク式ＣＶＤ反応器用のウエハキャリア（３０）は、炭化ケイ素のようなセラミックの単一プレート（３２）であって、その上流面（３４）にポケット（３８）のようなウエハ保持特徴部を画定している単一プレート（３２）を備えており、プレート（３２）の中心領域（４４）においてプレート（３２）に取外し可能に取り付けられたハブ（４０）も備えている。ハブ（４０）は、セラミックプレート（３２）に集中応力を加えることなく、反応器のスピンドル（１６）への確実な接続をもたらすようになっている。プレート（３２）の洗浄中、ハブ（４０）を取り外しておくことができる。また、ウエハキャリア（３０）は、好ましくは、プレート（３２）の中心領域（４４）の上流面（３４）上にガス流促進要素（３４８，４４８）を備えている。ガス流促進要素（３４８，４４８）は、入射ガスの流れを上流面（３４）に沿って中心領域（４４）の流れ不連続部から離れる方に方向転換させるのを助長するようになっている。
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【課題】 多数の被処理体を一括受渡し可能で、かつ一括処理することが可能な載置台を提供する。
【解決手段】 サセプタ１０５に設けられた受渡し機構部１１１には、複数の板状の可動シールド部材１２３が互いに隙間を空けて同方向に昇降自在に配列されている。可動シールド部材１２３は、搬送装置２５のフォーク２３と干渉することなく、フォーク２３よりも高い位置まで上昇する。その途中で、フォーク２３に載置されていた小片基板Ｓは、可動シールド部材１２３に一括して受け渡される。 （もっと読む）

【課題】１つの処理室内で少なくとも２つのウェハを同時に処理するロードロック室、移送室及び１以上の処理室を含むウェハ処理用装置を提供する。
【解決手段】ロードロック室と、搬送室と、前記搬送室に接続された互いに空間的に隔離される複数の処理領域を各々に形成する１つ以上の処理室と、前記搬送室内に配置された第１ウェハ・ハンドリング部材を含むウェハ処理装置を提供する。処理室は、少なくとも２つの処理領域で複数の分離されたプロセスを同時に行なうことができるように構成し、共有ガス源、共有排気システム、別個のガス分配アセンブリ、別個のＲＦ電源、および別個の温度制御システムによってもたらされる高度な処理制御により、１つの処理室内で少なくとも２つのウェハを同時に処理することができる。 （もっと読む）

【課題】半導体などの基板の全体に対して均一に工程が行なわれるように基板を保持する基板保持ユニット、及びこれを利用する効率の良い基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板保持ユニットは、第１保持部及び第２保持部を含む。第１保持部は第１方向に移動可能であり、第１方向に対応する方向に工程流体が提供される基板に対して、基板の第１部分を保持する。第２保持部は第２方向に移動可能であり、基板の第２部分を保持する。第１及び第２保持部のうち少なくとも一つは、工程流体が提供される間、基板を保持する。 （もっと読む）

【課題】露光の高能率化を図ると共に、装置コストの低減を図る。
【解決手段】被露光部材としての基板Ｗを保持する基板保持部１を複数箇所配置し、且つ複数の前記基板保持部を個別に露光位置に配置すべく前記マスクＭに対して相対移動させる移動手段と、複数の前記基板保持部の内のいずれかが前記露光配置に配置されたときに、該露光位置に配置されてない前記基板保持部に対して前記基板を搬入、搬出する基板搬送部１０とを備え、前記移動手段は、複数の基板保持部を搭載する移動テーブル３と、該移動テーブルを移動可能に支持する案内軸８と、移動テーブルを案内軸に沿って移動させる駆動制御手段とを有し、案内軸をベース７上に形成し、当該ベースを移動テーブル毎に分解して輸送可能とするように分割し、且つ複数の基板搬送部は、一方の基板保持部の露光が終了するまでに、他方の基板保持部が基前記基板の搬出及び搬入を終了させて待機状態とされている。 （もっと読む）

【課題】ウェーハとサセプタの座ぐりの側面との固着による不良発生を低減して、ウェーハを上面から熱の反射、下面から高周波誘導によって加熱する機構を有するエピタキシャル成長装置に用いられるサセプタおよびエピタキシャル成長装置を提供する。
【解決手段】サセプタ１４の上面に、内部にウェーハ１６が配置される座ぐりが形成され、前記座ぐりの側面において、配置される前記ウェーハ１６の水平中心面３０より上部に相当する部分３２を、上方に向かって広がる傾斜面とする。 （もっと読む）

【課題】サセプタの形状を改良することにより、エピタキシャル層の膜厚のウェーハ面内均一性を向上するバレル型エピタキシャル成長装置用サセプタおよびこれを備えるバレル型エピタキシャル成長装置を提供する。
【解決手段】多角錘台状のサセプタの側面に半導体ウェーハを載置し、サセプタと、このサセプタを同軸に覆う円筒状容器との間に反応ガスを導入して半導体ウェーハ上に単結晶膜を形成するバレル型エピタキシャル成長装置用サセプタであって、サセプタの側面に半導体ウェーハを載置するための複数の円形凹状の座ぐりが配列され、複数の座ぐりの配列方向側の、座ぐりの内側壁部の高さｈａ（ｍｍ）が、座ぐりの配列方向に直交する方向側の、座ぐりの内側壁部の高さｈｂ（ｍｍ）よりも低いことを特徴とするバレル型エピタキシャル成長装置用サセプタおよびこれを備えるバレル型エピタキシャル成長装置。 （もっと読む）

【課題】移動体（ステージ）の位置を精度良く管理する。
【解決手段】移動体駆動システムは、第１座標系上の第１基準点に対して所定の位置関係で配置された複数のヘッド６４，６６を有し、ステージ（例えばＷＳＴ２）上面に対向するヘッド６４，６６の計測値に基づいてステージの位置情報を計測する第１計測システムが設けられ、ステージ上のウエハＷ２のアライメント処理が行われるアライメントステーションＡＳＳと、第２座標系上の第２基準点に対して、第１基準点に対する複数のヘッド６４，６６の位置関係と対応する位置関係で配置された複数のヘッド６５，６８を有し、ステージ上面に対向するヘッド６５，６８の計測値に基づいてステージの位置情報を計測する第２計測システムが設けられ、ステージ上のウエハに対して露光処理が行われる露光ステーションＥＳＳと、を備えている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、水晶素子、セラミック素子、半導体素子等の電子部品に対して、たとえば、蒸着またはスパッタ等の処理を行う際にこれらを搬送する搬送装置および搬送装置の作製方法に関するものである。
【解決手段】本発明に使用する３層部材は、エッチング不可能な部材の両側からエッチング可能な部材によって挟まれている。また、前記３層部材には、一方の側に多数の被搬送部材を収納する収納部が形成されている。前記３層部材の上に載置される上部板は、前記収納部の開口とほぼ同じ大きさのテーパー状開口部を備えている。前記被搬送部材を収納する収納部は、垂直な側壁からなり、搬送中に被搬送部材がガタツクことがない。また、テーパー状開口部を備えた上部板は、前記被搬送部材を前記収納部に収納する際にガイドとなり、収納が容易になる。 （もっと読む）