【課題】アライメント処理を短時間で行うことができ、比較的構成が簡易で、装置の大幅なスループットの向上が図れるウェハのアライメント装置を提供すること。
【解決手段】把持機構３０が、第１層３６ａ、第２層３６ｂ、及び第３層３６ｃの上下３層のグリップ部からなり、上下３層のグリップ部３６がそれぞれ独立にウェハ１を把持可能に構成され、ノッチ検出センサ１１３が、第１層或いは第２層で把持されたウェハの外周部分を検出する第１のセンサ１１２と、第２層或いは第３層で把持されたウェハの外周部分を検出する第１のセンサ１１１と、から構成される。 （もっと読む）

【課題】サセプタの隙間に起こる寄生成長を抑制するために、基板の間にあるサセプタの上面の空きを最小化する。
【解決手段】本発明は複数の基板（３）をコーティングするための装置に関する。複数の基板（３）は、プロセスチャンバーに結合されるサセプタ（１）の支持面（２）上に規則的に配置される。支持面（２）上に各基板（３）の端のかみ合いのために隣接側面が形成される。サセプタ（１）の表面の空きを最小に削減するために、側壁（５）によって定義される隣接側面は、支持面（２）から突出し、お互いにある距離を置いて配置される直立部分（４）によって形成されることが提案される。直立部分（４）は、ハチの巣状構造の頂点に配置され、実質的に内側に曲がった辺を持つ正三角形と一致する輪郭を持つ。 （もっと読む）

【課題】基板搬送装置への基板の搭載および取り外しを自動化することのできる基板ハンドリング装置、基板搭載方法、基板取り出し方法を提供する。
【解決手段】ロボットアームの先端に取り付けられる基板ハンドリング装置であって、ロボットアームに取り付けられた板状保持部材と、板状保持部材に基板保持方向に突出可能に軸支され、先端に基板吸着パッド部１５を備えた基板保持アーム１６と、基板保持アーム１６を板状保持部材から突出しない状態で固定するロック機構と、基板吸着パッド部１５を基板保持アーム１６から突出する方向に付勢する突出機構１８と、基板吸着パッド部１５の基板保持アーム１６からの突出を制限する吸着パッド部２４とを備えた。 （もっと読む）

【課題】塗布現像処理システムにおいて、メンテナンスによる基板製品の生産性の低下を抑制する。
【解決手段】塗布現像処理システム１では、処理ステーション２から搬入されたウェハが処理ステーション３で処理され、その後ウェハは処理ステーション３から露光装置４に搬出される。その後ウェハは、露光装置４から処理ステーション３に戻され、処理ステーション３で処理され、カセットステーション２に戻される。この塗布現像処理システム１では、カセットステーション２から搬入されてから露光装置４に搬出されるまでに行われる前段処理Ｐ１のスループットＡが、露光装置４から戻されてからカセットステーション２に戻されるまでに行われる後段処理Ｐ２のスループットＢよりも高く設定される。前段処理Ｐ１の終了したウェハは、バッファカセット６０に貯められる。 （もっと読む）

【課題】 挟持すべき基板等の厚さに依存せず、略一定の締付力で基板等を挟持できるようにした簡単な構造のチャック装置を提供する。
【解決手段】 被処理物Ｔが設置される設置面２ａから突設され、この設置面との間で被処理物に締付力を付与して被処理物を挟持するチャック手段１３と、この被処理物の挟持位置及び被処理物から離間した解放位置の間でこのチャック手段を駆動するエアーシリンダ１４と、エアーシリンダ内を摺動するピストンに作用する空気圧を切り換える切換手段１６とを備える。チャック手段の挟持位置でピストンに作用する空気圧を独立して変更する空気圧変更手段２０を設ける。 （もっと読む）

【課題】装置の大型化を抑止でき、また、基板の大型化に対応することができる加熱装置および基板処理装置を提供する。
【解決手段】平板状のヒータ２１と、ヒータ２１の表面に立設された複数の基板支持ピン２３とを有する基板加熱ユニット２４と、複数の基板加熱ユニット２４が上下方向に積層され、固定配置されてなる基板加熱部３０と、基板加熱部３０に隣接配置され、基板加熱部３０に対して基板１１を出し入れ可能であって、上下方向に昇降可能に構成された基板搬送ロボット５０と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】 複数枚の基板をレールに沿って処理薬品液中を垂直搬送させながら表面処理する表面処理方法と、この表面処理方法を実施する複列チャックハンガーと、この複列チャックハンガーの複列チャック開閉装置を提供する。
【解決手段】 複列チャックハンガー１で並列状態に吊持した複数の基板Ｗをレール２に沿って処理薬品液中を搬送させながら表面処理する方法を提供する。複数の基板Ｗを並列状態に吊持できる複数列の開閉チャック３Ａ，３Ｂ，３Ｃで構成した複列チャック５をもつ複列チャックハンガー１を提供し、この複列チャックハンガー１の複数列の前記開閉チャック３Ａ，３Ｂ，３Ｃを各列の開閉チャックごとバネによる付勢力に抗して押圧した開状態に独立した駆動部によって単独作動できるチャック開閉作動部２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃを有する複列チャック開閉装置２０を提供する。 （もっと読む）

【課題】簡易な方法で且つ短時間で、多数のウェーハ形状材料のエッジの不純物回収、洗浄、及びエッチングが可能な装置及び方法を提供する。
【解決手段】ウェーハ形状材料を実質的に垂直で保持しながら回転させるウェーハ回転手段を備えたウェーハ回転装置と、ウェーハの保持装置と、ウェーハを浸漬させてウェーハエッジ部分から不純物を回収する装置とを備えているウェーハエッジの不純物回収装置であって、ウェーハを浸漬させてウェーハエッジ部分から不純物を回収する手段としての薬液ホルダーと、少なくともウェーハの一部を前記薬液ホルダーの薬液に浸漬させた状態でウェーハをシーケンシャルに、ウェーハの所定部分を所定の回転速度で回転させるウェーハ回転手段を備え、薬液にウェーハを接触させた状態で回転させることにより、ウェーハのエッジ部から不純物を溶出させ、回収する。 （もっと読む）

【課題】自己チップ再分配のための装置および方法を提供する。
【解決手段】本発明の装置は、フォトレジストの層により形成されたトレンチ１８およびキャビティ１９を上部に備えるガラスベース１２を含む。チップ１０は、切り出されたウェハ１からピッキングされ、ガラスベース上に配置され、インデックスバー１５の前方へ流体の流れによって移動される。ガラスベースおよびインデックスバーは、チップをチップキャビティに充填するために低周波数で振動する。本発明は、自己再分配ツールを提供すること、再分配されたチップをパネル形成ツール上に移動すること、チップパネルを形成し、前記チップパネルをパネル形成ツールから分離すること、を含む自己チップ再分配のための方法をさらに提供する。 （もっと読む）

【課題】基板を処理する装置及び方法を提供すること。
【解決手段】複数のチャックが工程チャンバー内で相互平行に配置される。前記チャックは基板の裏面を全体的に支持し、多数の貫通ホールを有する。サポーターは、前記貫通ホールを通じて、移動可能に配置され、前記基板は前記チャックと前記サポーターの間の相対的な運動によって、前記チャック上にロードされるか前記チャックからアンロードされる。よって、前記基板を処理する期間、前記基板の裏面上に不希望の膜が形成されることを防止することができる。
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高スループットの非プラズマ処理を行う装置及び方法の実施例(100)が一般的に本明細書において記載されている。他の実施例も記載及び主張されている。
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【課題】複数枚の基板を保持して処理槽の内部とその上方位置との間で昇降するリフタと複数枚の基板を支持して水平方向へ移動する基板搬送機構との間で基板の受け渡しを行う際に、リフタの保持溝の内面部分と基板の下端縁とが擦れて塵埃や汚染物が発生して基板を汚染したり、基板に無理な力が加わって基板を破損したりすることを防止できる装置を提供する。
【解決手段】基板搬送ロボットの一対のチャック２８の基板支持部３２に形成される下部支持溝３４ａの溝底の幅を、基板Ｗの厚みに、リフタ１２の基板保持部１８ａ、１８ｂ、１８ｃに対して基板支持部３２が長手方向において位置ずれする予定量を加えた第１の寸法とし、基板支持部３２に形成される上部支持溝３４ｂの溝底の幅を、基板支持部３２に支持される互いに隣り合う基板同士が接触しないように第１の寸法より小さい第２の寸法とする。 （もっと読む）

【課題】基板を複数枚同時にスピン乾燥することができ、基板に付着した塵埃などを確実に除去できる、高度乾燥性能を有する基板の乾燥装置を提供する。
【解決手段】複数枚のワークＷを並行収納できるホルダー２は、ワークＷのそれぞれの中心を通り、且つ、ワークＷと垂直な回転中心軸のまわりに回転させる軸受部１０と、ワークＷをその外周から取り囲むように保持するための３本以上の支持ロッド１１とを有し、支持ロッド１１の内側面に、ワークＷをそれぞれ離間させた位置に固定保持するための支持溝１３を複数設け、支持ロッド１１の外側面に、支持ロッド１１を貫通する通過孔１４を複数設け、支持溝１３と通過孔１４とを連通する切込部を支持ロッド１１に形成し、通過孔１４はワークＷ回転時に、ワークＷに付着している付着物を、支持ロッド１１の外部に飛散させる通路としての機能を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】半導体装置の製造工程において、複数枚の半導体ウェハを短時間に一括して識別する。
【解決手段】ウェハ治具３に収容された複数枚の半導体ウェハ１をウェハ識別補助装置２によって識別する工程であって、ウェハ治具載置領域７に複数枚の半導体ウェハ１が収容されたウェハ治具３を載置する工程と、載置面４ａと鋭角をなして第一方向Ａに延在するように備えられた接触箇所６ａを有するウェハ押し出し部６によって複数枚の半導体ウェハ１を押し出す工程と、前記工程によって、各々が第一方向Ａに所望の長さだけずれた状態となるように、ウェハガイド部８に押し出された複数枚の半導体ウェハ１において、識別子ＩＤを識別する工程とを含むものである。 （もっと読む）

【課題】ウエーハ搬出手段を構成する搬送パッドの吸着面を洗浄する搬送パッド洗浄手段から搬送パッドの吸着面に銅イオンを付着しないようにした搬送パッド洗浄手段を備えた研削装置を提供する。
【解決手段】ウエーハを保持する保持面を有するチャックテーブルと、チャックテーブル上に保持されたウエーハを研削する研削手段と、チャックテーブル上で研削されたウエーハを吸引保持する吸着面を有する搬送パッドを備えたウエーハ搬出手段とを具備する研削装置であって、搬送パッドの搬出経路に配設され搬送パッドの吸着面を洗浄する洗浄部材を備えた搬送パッド洗浄手段を具備し、搬送パッド洗浄手段の洗浄部材は銅を含まないセラミックスによって形成されている。 （もっと読む）

【課題】 大型のワイヤーカセットの検査を短時間でかつ精度よく行うことの可能なワイヤーカセットの検査方法、検査装置、ローダー装置及びアンローダー装置を提供すること。
【解決手段】 直方体フレームの内部空間に水平に複数本張られたワイヤー列を垂直方向に多段に配置してなり、前記ワイヤー列上に基板を収納するワイヤーカセットを検査する方法であって、前記ワイヤー列の１つとレーザを用いたセンサとが所定の位置にあるときにレーザを用いて前記ワイヤー列の１つの高さを自動的に測定し、前記ワイヤーカセットとレーザを用いたセンサを相対的に垂直方向に移動させて、順次、他のワイヤー列の高さを自動的に測定することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】フェイスダウン構造で基板を固定、支持する際、基板の下面を支持することなく、固定できる気相エピタキシャル成長用治具を提供するものである。
【解決手段】本発明に係る気相エピタキシャル成長用治具１は、基板３を治具本体１１の収容穴１２にフェイスダウン構造で支持、固定するものであり、収容穴１２内に、基板３を径方向内方に付勢してバネ力で支持するバネ部材４を複数個設けたものである。 （もっと読む）

基板プロセス方法および装置が開示される。一部の実施形態において、基板プロセス装置は、支持構造と、第１および第２のステージを含む可動式ステージを備えてもよい。可動式ステージは、第１のステージおよび／または第１のステージの端部に隣接する第２のステージに取り付けられた１つ以上のマグレブユニットを有する。第１のステージは１つ以上の基板を保持し、第２のステージに対して略固定された第１の軸に対して移動する。第２のステージは、支持構造に対して第２の軸に沿って平行移動する。他の実施形態において、第１のモータは、ある角速度で回転ステージを維持してもよく、および／または第１の角速度から第２の角速度へ、ステージを加速または減速してもよい。第２のモータは静止状態から第１の角速度へステージを加速してもよく、および／またはゼロではない角速度からステージを減速してもよい。 （もっと読む）

イオン注入装置、システム、および方法が、真空と大気圧との間で複数のワークピースを搬送するために提供される。アライメント機構は、複数のワークピースを、複式ワークピースロードロックチャンバに向かって概して同時に搬送するために位置合わせする働きをする。アライメント機構は、評価装置、昇降機、および、２つのワークピースを支持するための２つの垂直配向ワークピース支持部を含む。第１および第２大気ロボットは、ロードロックモジュール、アライメント機構、およびＦＯＵＰの間において、一度に２つのワークピースを概して同時に搬送するように構成されている。第３および第４真空ロボットは、ロードロックモジュールおよび処理モジュールの間において、一度に１つのワークピースを搬送するように構成されている。
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【課題】縦型熱処理炉により被処理基板を熱処理する際、個々の支持部の傾きを起因とするスリップの発生を防止でき、安価で改良が容易な縦型熱処理用ボートを提供する。
【解決手段】少なくとも、複数の支柱と、各支柱の両端部に連結した一対の板状部材とを有し、前記各支柱に、被処理基板を水平に支持するための複数の支持部が形成されており、該複数の支持部に、前記被処理基板が各々一枚ずつ載置される支持補助部材が着脱可能に装着されている縦型熱処理用ボートであって、前記支持補助部材は、各々の支持部の形状に合わせて、前記支持部に装着している面に加工を施すか、前記支持部と前記支持補助部材との間にスペーサを介在させることによって、前記被処理基板が載置される面の傾きが各々の支持部ごとに調整されているものである縦型熱処理用ボート。 （もっと読む）