【課題】真空プラズマ・プロセッサ中で工作物を静電的にチャッキング及びデチャッキングするための新規の改善された方法及び装置を提供する。
【解決手段】真空プラズマ加工チャンバ１０中で加工されるガラス工作物３２は、工作物を締め付けるために十分に高い電圧を維持しながら加工中にチャッキング電圧を徐々に下げることによりデチャッキングされる。加工中のチャッキング電圧は、チャッキング力及びチャックに流れる伝熱流体の流量に応答して制御される。加工終了時にチャックに印加される逆極性電圧がデチャッキングを援助する。工作物温度は、加工の終了時に高い値に維持される。チャックからの工作物持上げ時のチャック中を流れるピーク電流は、次のデチャッキング操作中の逆極性電圧の振幅及び／または持続時間を制御する。チャンバ１０中の不活性プラズマが、チャック３０からの工作物持上げ時に工作物３２から残留電荷を除去する。 （もっと読む）

【課題】スキャニング露光プロセスの間にパターンジェネレータの位置を制御する、ステージシステムに対するパターンジェネレータの滑りを実質的に低減又は排除するために使用されることができるシステム及び方法を提供する。
【解決手段】マスク保持装置３３０に結合された第１のパターン付マスク保持システム３３２が、マスクをマスク保持装置に解放可能に結合するようになっており、前記マスク保持装置に結合された第２のマスク保持システム３３４が、マスクをマスク保持装置に解放可能に結合するために、第１のマスク保持システムと同時に動作するようになっており、露光動作のスキャニング部分の間にパターン付マスク保持装置とマスクとを移動させる、マスク保持装置に結合された移動装置が設けられている。 （もっと読む）

【課題】基板及びリソグラフィ装置の性能に関する物理的特性を迅速に検出する。
【解決手段】概ね第一方向に延在する少なくとも１本の線によって形成された延在パターンの特性を検出する。延在パターンは、基板又は基板テーブル上に形成され、好ましくは線の幅の少なくとも５０倍の長さにわたって延在する。検出方法は、基板テーブルを第一方向に移動させ、その第一方向ｘに沿って延在パターンの特性を測定することを含む。特性は、第一方向に対して直角の第二方向ｙにおける延在パターンの物理的特性の結果である。次のステップでは、延在パターンの測定位置から基板テーブル位置の較正を導出することができる。 （もっと読む）

【課題】基板のローディング／アンローディングの効率を向上させる基板処理装置及びその基板処理装置で基板を移送する方法を提供すること。
【解決手段】基板処理装置は、各移送アームの速度を調節する制御部７１０を具備し、同時駆動される各移送アームが各目標地点に同時に到達するように制御する。基板移送方法については、基板処理装置は、受納部材に対して基板を引出及び積載する移送部材２００と、移送部材２００を制御する制御部７１０とを含む。移送部材２００は、基板が各々積載される多数の移送アームと、各移送アームを水平方向に移動させるアーム駆動部とを具備する。制御部７１０は、移送部材２００の移動速度と位置を制御し、各移送アームの移動中の予想速度プロファイルを比較して、各移送アームの移動速度を制御する。 （もっと読む）

【課題】各種の処理が施される半導体ウェハ等の処理対象物の温度を，汚染を回避しつつ高精度で測定することができること。
【解決手段】ウェハステージ２上の処理ウェハ１と，参照ウェハ支持部２ｘ上の参照ウェハ１ｘ（処理ウェハ１と同じ材質）とのそれぞれに対し，両者の温度が同等の安定状態で超音波を出力し，反射超音波の検出信号の特徴量（共振周波数，超音波伝播時間，位相等）を検出し，それらの特徴量から処理ウェハ１の厚みの調整値を算出し，処理中の処理ウェハ１における反射超音波の検出信号の特徴量と，前記厚みの調整値とに基づいて，処理ウェハ１の温度を算出する。また，前記定常状態での参照ウェハ１ｘの検出温度と前記特徴量とに基づいて，処理ウェハ１における温度と超音波伝播速度との関係を調整する。 （もっと読む）

【課題】処理単位の全ての基板処理が終了していない状況でも、基板処理中に異常を検知することができ、異常を検知した後、例えば、以後の生産を停止させる機能を持つ基板処理装置を提供することにある。
【解決手段】プラズマを生成してウェハＷを処理する際に、サセプタに発生する自己バイアス電圧を検出する検出手段と、該検出手段から検出された前記自己バイアス電圧の最大値及び最小値と、予め設定された上限許容値、下限許容値及び許容値幅を格納する格納手段と、前記自己バイアス電圧の最大値と最小値との幅と前記上限許容値と下限許容値との幅との差を前記許容値幅と比較して処理の異常を判定する判定手段と、該判定結果に応じて異常を通知する通知手段とを有する。 （もっと読む）

【課題】半導体ウエハの表面に紫外線硬化樹脂の保護膜を均一の厚さに形成することができる半導体ウエハの保護膜の形成装置を提供する。
【解決手段】半導体ウエハの保護膜の形成装置であって、上下に貫通して紫外線が通過可能な開口を有する機台および定盤と、前記定盤の下部に装着されて紫外線を上方へ向けて反射する光反射体と、この光反射体の下部に装着されて紫外線を上方へ向けて照射する紫外線照射手段と、前記定盤の上方位置に昇降可能に配設された昇降部材と、前記定盤の上面に前記開口を被うようにして装着されるとともに前記半導体ウエハを載置可能な平坦状の上面を有する紫外線透過性の受圧部材と、前記昇降部材の下方側に位置してこの昇降部材に角度調整手段を介しかつ前記受圧部材と対向して装着されるとともに平坦状の下面を有する加圧部材と、前記昇降部材を昇降させる電動シリンダと、を具備している。 （もっと読む）

【課題】真空プラズマプロセッサ内でワークピースを静電的にチャックおよびチャック解除するための改善された方法および装置を提供する。
【解決手段】真空プラズマ処理チャンバ内で処理されているガラスワークピース３２は、ワークピースを締め付けるのに十分なほどの高さに電圧を維持しつつ、処理中にチャック電圧を徐々に削減することによりモノポール静電チャックからチャック解除される。処理の最後にチャックに印加される逆の極性電圧が、チャック解除を補助する。ワークピース温度は、チャック解除を補助するために処理の最後で高い値で維持される。ワークピースをチャックから持ち上げる間にチャックを通って流れるピーク電流が、次のチャック解除動作の間の逆極性電圧の振幅および／または期間を制御する。 （もっと読む）

【課題】液浸タイプのリソグラフィ装置が開示される。
【解決手段】装置内で、投影システムの最終要素の近傍に、例えば液体ハンドリングシステムのバリア部材内に、複数の加熱及び／又は冷却デバイスが設けられる。加熱及び／又は冷却デバイスは、例えば投影システムの最終要素内で温度勾配を制御し、その収差を制御するために使用することができる。 （もっと読む）

【課題】容器および加工装置の滑り性の評価を正しく行うことができる滑り性試験装置、および滑り性試験方法を目的とする。
【解決手段】位置決めピンを嵌める３つの断面Ｖ字状または断面Ｕ字状をした位置決め溝２４が底面に設けられた容器２２における、位置決め溝２４と位置決めピンとの滑り性を評価する滑り性試験装置１であって、３つの位置決め溝２４のいずれかに嵌めて、位置決め溝２４の幅方向および鉛直方向に移動可能な測定用ピン７と、測定用ピン７を、測定用ピン７が嵌まる位置決め溝２４の幅方向および鉛直方向に移動させる移動部４と、位置決め溝２４の最深部２５から測定用ピン７の頂部をずらして位置決め溝２４に嵌める際の、測定用ピン７に掛かる最大荷重を測定する測定部とを有することを特徴とする滑り性試験装置１。 （もっと読む）

【課題】ステージと防振台とが相対変位しないようにステージを制御する。
【解決手段】ステージと、前記ステージが取り付けられた基準台に対して該ステージを並進駆動する第１駆動手段と、前記並進駆動の方向とは異なる回転軸の周りに前記ステージを回転駆動する第２駆動手段と、前記ステージの目標位置に基づいて前記第１及び第２駆動手段の駆動力を制御する第１制御手段と、を有するステージ装置において、前記ステージを前記目標位置へ駆動するための目標軌道に基づいて、前記ステージが加速駆動されることで前記基準台がその反作用を受けて変位する際の該ステージの位置における加速度を求め、該求めた加速度が更に前記ステージに加わるように前記第１及び第２駆動手段の駆動力を制御する第２制御手段を備える。 （もっと読む）

【課題】移動体の位置情報を精度良く計測できる位置計測装置を提供する。
【解決手段】位置計測装置は、移動面内を移動する移動体の位置情報を計測する。位置計測装置は、移動体の第１面に配置された移動格子に光を照射する光源と、光源との位置関係が固定で、移動格子で回折された光が入射する第２面を有し、入射した光を回折又は反射して移動格子に戻す固定光学部材と、移動格子を再度介して干渉された光を検出する検出装置と、を備え、第１面と第２面とはほぼ平行である。 （もっと読む）

【解決手段】開示される装置は、静電チャックのエッジビードに装着されるように構成されたエッジ接合シールを含む。エッジ接合シールは、光学的に監視可能な種を放出するように、又は監視可能な電気抵抗値を有するように、又はその両方であるように構成された第１の材料からなる監視層を含む。エッジ接合シールは、更に、少なくとも監視層とプラズマ環境との間に散在されるように構成されたエッジ接合層も含む。エッジ接合層は、プラズマ環境との反応に起因する浸食を受けやすくプラズマ環境に十分に暴露されると監視層をプラズマ環境に暴露させるように構成された第２の材料からなる。 （もっと読む）

【課題】自動倉庫内のクリーン環境を保ち、保管物品の汚染を効率的に防止し、搬送中に物品が受ける振動を所定のレベル以下に保ち、物品への悪影響を効率的に防止する。
【解決手段】棚と、入出庫装置と、クリーンエアの供給用ファンフィルタユニットと、開度調整自在な排気口と、入出庫装置によって搬送と棚との間の受け渡しが自在なクリーン環境の測定用ユニット、とを備えた自動倉庫であって、予め定められた所定のルールに従って、自動倉庫内のクリーン環境と振動とを測定すると共に、ＦＦＵの送風量及び排気バルブの開度を調整し、搬送中に搬送物品が受ける振動を所定レベル以下に保つためにスタッカークレーンの動作を規制する。 （もっと読む）

【課題】半導体集積回路装置の製造工程のうちの組立工程におけるダイシング後のチップのピックアップ工程では、急速なチップの薄膜化によって、ピックアップ不良の低減が重要な課題となっている。特に、剥離動作によるチップ周辺部の湾曲がチップの割れ、欠けを惹起する可能性が高い。
【解決手段】これらの課題を解決するための本願発明は、ダイシング・テープ（粘着テープ）等からチップを吸引コレットで真空吸着して剥離する場合において、吸引コレットの真空吸着系の流量をモニタすることで、チップが粘着テープから完全に剥離する以前のチップの湾曲状態を監視するものである。 （もっと読む）

【課題】照射機構と基板との相対位置に基づいて、高精度なパターン描画を実現する技術を提供することを目的とする。
【解決手段】基板保持プレート２１に保持された基板９０に向けて照射ユニット３３から光ビームを照射することで、基板９０にパターン描画を行う。このとき、ベースプレート２３の主走査方向の位置をレーザ測長器４２によって測定するとともに、架橋構造体１２に固設された照射ユニット３３の主走査方向の位置をレーザ測長器４１によって測定する。制御部８は、レーザ測長器４１，４２から出力される各検出結果に基づいて、照射ユニット３３と基板９０の相対位置を算出し、当該算出結果に基づいて、照射ユニット３３による光ビームの照射制御を行う。 （もっと読む）

【課題】インデクサ部における基板搬送の信頼性を高めることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１０はＩＤ部１と処理部３とを備え、ＩＤ部１は載置台８と搬送部９とを備えて処理部３に隣接している。搬送部９はカセットＣと処理部３とに対して基板Ｗを搬送する第１主搬送機構Ｔ_ＩＤＭと、第１主搬送機構Ｔ_ＩＤＭに替わってカセットＣと処理部３とに対して基板Ｗを搬送する第１予備搬送機構Ｔ_ＩＤＳと、を備えている。したがって、第１主搬送機構Ｔ_ＩＤＭの機能が低下した場合であっても第１主搬送機構Ｔ_ＩＤＭに替わって第１予備搬送機構Ｔ_ＩＤＳが基板搬送を行うことができる。よって、ＩＤ部１における基板搬送の信頼性が高く、処理部３を含む装置１０全体が安定して稼働することができる。 （もっと読む）

【課題】気体圧の制御の下で下テーブルに対し上テーブルを微小傾斜させることである。
【解決手段】気体圧制御型微小傾斜装置１０は、本体筐体部１２と、本体筐体部１２に案内されるピストン台２０と、ピストン台２０の上部に取り付けられる下テーブル３０と、下テーブル３０の上方に配置される上テーブル４０と、下テーブル３０と上テーブル４０との間に配置される傾斜支持部５０と傾斜駆動部７０と、傾斜駆動部７０に隙間制御用気体を供給する気体圧制御弁３４と、制御部２８とを含んで構成される。傾斜駆動部７０は、上テーブルの裏面に向かい合う対物上面に気体吹出部を有する対物パッドと、気体が流れることができる貫通窓を有し、対物パッドの対物上面と反対側のパッド裏面と下テーブルの上面との間に平行に複数整列配置される平板可動子とを含んで構成される。 （もっと読む）

【課題】ロードポート装置、加工処理装置の構造的な改良と、制御プログラムの改良と、を最小限に抑えることが可能なパージ制御装置を提供する。
【解決手段】パージ装置３２は、加工物１を収容するクリーンボックス２から、加工物を壁に設けられた開口部１０を介して内部空間へ出し入れするロードポート装置３に取り付けて使用され、開口部へ向けてガスを噴出しパージ処理をする。パージ装置を制御するパージ制御装置３１は、ロードポート装置に電気的に接続され、ロードポート装置を動作させる動作命令を生成する上位装置５１から、動作命令を受信する送受信手段３５と、上位装置から受信した動作命令を、ロードポート装置とパージ装置とにパージ処理を含む動作をさせる変換動作命令に変換する制御手段３３と、を備える。制御手段により変換された変換動作命令が、ロードポート装置とパージ装置とへ送受信手段により送信される。 （もっと読む）

【課題】マスクに設けられたパターンの像をパターン全域にわたって高精度に感光基板に転写することができる露光装置を提供する。
【解決手段】第１方向に沿って配置された一対の保持部１０Ｒ，１０Ｌのうち少なくとも一方が上下動可能な保持部対１０を前記第１方向と交差する第２方向に複数有し、該保持部対を介して保持したマスクＭを前記第２方向へ移動させるマスクステージＭＳＴと、前記第１方向に配列された複数の投影光学モジュールを有し、前記マスクステージが移動させる前記マスクに設けられたパターンの像を前記投影光学モジュールを介して投影する投影光学ユニットとを備える。 （もっと読む）