【課題】搬送アームに基板を静電吸着して搬送する場合において、真空中に電源やケーブルを導入する必要がなく、搬送モジュールにウェハを受け渡す際の基板の位置を高精度で制御することができ、更に、搬送モジュールで処理モジュールに搬送した後の基板の位置を高精度で制御することができる静電吸着部材を提供する。
【解決手段】静電吸着部材６０は、基板Ｗを大気中と真空中との間で受け渡すロードロックモジュールと、基板Ｗを真空中で処理する処理モジュールとの間で、基板Ｗを搬送する搬送モジュールのピック３１ｂに着脱可能に取り付けられ、ピック３１ｂが搬送する基板Ｗに静電吸着する。静電吸着部材６０は、ロードロックモジュールの載置ステージ７０とピック３１ｂとの間、又はピック３１ｂと処理モジュールとの間で、基板Ｗに静電吸着した状態で、基板Ｗと一緒に受け渡される。 （もっと読む）

【課題】異常放電の発生を未然に抑制し、且つ、処理対象物を安定的な保持状態に維持させる。
【解決手段】高周波電力によってプラズマを発生させるプラズマ発生機構（例えば、一対の対向電極１１、１２及び高周波電源２）を備える。処理対象物（例えば、半導体ウェハ４）を静電吸着力によって保持する静電チャック５と、静電チャック５に静電吸着用直流電圧を印加する直流電圧印可部（直流電源３）を備える。処理対象物の自己バイアス電位を検知する電位検知部（例えば、振幅検出部６及び演算部７）と、自己バイアス電位と静電吸着用直流電圧との差が所定範囲となるように静電吸着用直流電圧を制御する直流電圧制御部（制御部８）を備える。 （もっと読む）

【課題】静電チャック及び処理物に残留する電荷をより一層確実に除去できる処理物保持装置、静電チャックの制御方法及び半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】静電チャック２０上にウエハを載置し、電極２１ａ，２１ｂに相互に逆極性の電圧を印加して静電チャック２０にウエハを吸着する。ウエハに対しプラズマ処理が終了した後、逆極性電圧の印加、除電プラズマ処理、除電電圧の印加を順次行い、その後リフトピンを作動させてウエハを静電チャック２０から脱離する。ウエハを脱離する際に電極２１ａ，２１ｂの配線経路２４ａ，２４ｂに流れる電流を電流計３２ａ，３２ｂにより検出し、その検出結果に基づき、制御部３４は、次のウエハを処理する際の除電プラズマ処理時のプラズマ条件、並びに除電電圧の極性、電圧値及び印加時間を決定する。 （もっと読む）

【課題】サブステージにまたはその近傍に力を発生させるための熱が発生しない改善されたリソグラフィ装置の位置決めシステムを提供する。
【解決手段】サブステージ９は、メインステージ５に対して第１位置１１と第２位置１３の間で一方向に移動可能である。この方法は、メインステージ５の位置決めによって起動される受動力システムを使用して第１ステージを位置決めすることを含む。受動力システムは二つの磁石システム１９、２１を備える。各磁石システム１９，２１は、第２ステージに対して第１ステージに上記方向の力を非接触で与えるように構成される。力は、受動力システムによって第１ステージに与えられる上記移動方向の合力となる。合力の大きさおよび／または方向は、第２ステージに対する第１ステージの位置によって決まる。第１ステージは、合力がゼロとなるゼロ力位置２３を第１位置１１と第２位置１３との間に有する。 （もっと読む）

【課題】一般的に基板ホルダは基板に比べて非常に重いので、基板ホルダを基板搬送装置で搬送しようとすると、搬送装置の基台部から先端に位置する把持部にかけての伸縮アームに自重撓みを生じてしまう。自重撓みを生じると基板ホルダが水平に保たれず、搬送先であるステージに対して傾斜した姿勢となってしまう。
【解決手段】基板を保持する基板ホルダを搬送する基板搬送装置であって、基板ホルダを載置し固定する載置部と、載置部を水平軸周りに揺動可能に支持する回転軸と、回転軸に対して載置部と一体的に揺動するバランスウェイトと、回転軸を支持するアーム部と、アーム部を回転させることにより、載置部、回転軸およびバランスウェイトを一体的に上下反転させる反転部とを備え、バランスウェイトは、反転部によりアーム部が上下反転されても、載置部が固定する基板ホルダが水平を保つように設置される。 （もっと読む）

【課題】基板搬送装置には、搬送時の振動等による半導体基板およびこれを保持する基板ホルダの脱落を防止する機構が必要となる。しかし、脱落防止機構の駆動は発塵の原因となる。
【解決手段】基板を保持する基板ホルダを搬送する基板搬送装置は、基板ホルダを載置する載置部と、載置部に載置された基板ホルダが保持する基板に対して、載置部と同じ側に配置された回転軸と、回転軸の軸周りに回動して、基板ホルダの脱落を防止する防止位置と、基板ホルダを開放するための開放位置を取り得る開閉ロック機構と、載置部、回転軸および開閉ロック機構を一体的に上下反転させる反転部とを備える。 （もっと読む）

【課題】保護テープの剥離方向がいずれの方向であっても、適正な圧力でワークの表面の保護テープに剥離テープを貼着すること。
【解決手段】本発明のある実施の形態において、保護テープ剥離装置は、表面に保護テープ２３が貼着されたワーク２を保持する保持手段１上にワーク２が保持されていない状態で、保護テープ２３の剥離方向に応じた基準面の位置と圧着部材３５との接触による通電を検知することによって剥離方向に応じた基準面の高さ位置を検出する高さ位置検出機構を備える。また、剥離方向に応じた基準面の高さ位置と、予め定められる剥離テープ３１、ワーク２、ダイシングテープ２２および保護テープ２３の厚みとをもとに、下端面によって保護テープ２３の非粘着面を押圧する際の圧着部材送り機構の駆動量を制御する制御手段を備える。 （もっと読む）

【課題】基板テーブル及び／又は支持体の位置決めの精度を改良する
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射ビームを調整するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを与えてパターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構築された支持体と、基板を保持するように構築された基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、を含む。基板テーブル及び／又は支持体は、基板テーブル及び／又は支持体の加速度を測定する加速度計を備え、装置は、加速度計と通信し、加速度計によって測定された加速度から加速度に基づく位置信号を計算するカルキュレータを備える。 （もっと読む）

【課題】レチクルを交換する時間を削減しつつ、露光処理を精度良く行うための計測、補正時間をも削減する露光装置及び露光方法を提供する。
【解決手段】原版３を載置及び保持する原版ステージ４と、基板６を載置及び保持する少なくとも２つの基板ステージ７、８とを有し、原版３のパターンを基板６に対して多重露光する露光装置１であって、更に、原版ステージ４及び各基板ステージ７、８の動作と、露光処理を制御する制御部９を有し、制御部９は、第１の原版のパターンを、露光処理部に位置する第１の基板ステージ７に載置された第１の基板に対して投影転写させ、次に、各基板ステージ７、８を移動させて基板６を交換し、第１の原版のパターンを、第２の基板ステージ８に載置された第２の基板に対して投影転写させ、更に、投影転写に使用する原版３を、第１の原版から第２の原版へと交換した場合は、原版３の交換前後で同一の基板ステージに載置された同一の基板６に対して投影転写させる。 （もっと読む）

【課題】ウェーハの搬送時において、エンドエフェクタにウェーハを載置している間に、エンドエフェクタに対するウェーハの載置位置を検出することができるエンドエフェクタ及びそれを用いたウェーハ搬送ロボット、並びにそれを備えたウェーハ搬送装置を提供する。
【解決手段】ウェーハを搬送するウェーハ搬送ロボットのアームに取り付けられウェーハを保持するエンドエフェクタにおいて、エンドエフェクタに対するウェーハの位置ずれを検出するために、エンドエフェクタのひずみを検出するひずみセンサを少なくとも１つ備えた。特に、ひずみセンサは３つ設けられ、そのうち１つのひずみセンサは、エンドエフェクタの中心線上に配置され、他の２つのひずみセンサは、中心線に対して互いに線対称となる位置に配置される構成とした。 （もっと読む）

【課題】リフトピンの動作状況の異常を迅速に把握して半導体装置の加工不良を未然に防ぐことができ、半導体装置の製造ロスを大幅に軽減して製品の歩留まりを確実に向上することができる半導体基板処理装置を提供する。
【解決手段】リフトピン２を駆動するモータ１１の負荷を常時監視する機能１と、機能１における電圧値のバラつきが規格値を超えた場合にリフトピン２の動作を異常とみなす機能２を備え、リフトピン２を駆動するモータ１１の負荷を迅速に把握することにより、リフトピン２の昇降状況の迅速な把握を可能にする。 （もっと読む）

【課題】紫外線硬化型の保護テープの粘着剤を均一に硬化させ、保護テープを精度よく半導体ウエハの表面から剥離できるとともに、紫外線照射装置を小型化する。
【解決手段】保持テーブル８に載置保持された保護テープ付きのウエハＷの表面に紫外線を照射する前に、複数個の紫外線発光ダイオード１１がアレー状に配備された紫外線照射ユニット１２と対向する測定位置に照度センサ１４を移動させ、保護テープ表面に相当する位置の照度を測定し、当該測定結果と保持テーブル８の回転速度から求まる各ダイオード１１の紫外線照射位置における積算光量が一定となるように各ダイオード１１の出力を調節する。 （もっと読む）

【課題】基板の割損やずれを発生させずに，静電吸着力が残留しているか否かの判定を容易にする。
【解決手段】載置台２００の表面に設けられ，直流電圧を印加して発生した静電吸着力で載置台の表面に載置された基板を保持する静電チャック２１２と，載置台の表面から突没自在に設けられ，載置台の表面から基板を持ち上げて脱離させるリフトピン２３２と，リフトピンを昇降させるリフタ２３０と，リフトピンを上昇させる前に，リフトピンで基板を持ち上げるときのリフト推力を基板重量と同等の力に設定し，静電吸着用の直流電圧を止めて基板の電荷を除去する除電処理を実行し，リフタを駆動させて設定したリフト推力でリフトピンを上昇させる制御部３００とを備える。 （もっと読む）

【課題】絶縁膜付き試料のアースとの導通状態を、単一のコンタクトピンを用いる場合でも、正確に判断可能な荷電粒子線装置を実現する。
【解決手段】試料２０の上側、数ミリメートルには表面電位計４０を配置し、試料２０の表面電位を計測する。試料２０を表面電位計４０に対して水平方向に移動させ、試料２０の表面電位分布が計測される。試料２０とコンタクトピン３とが非導通の場合、試料２０の表面に観測される電位は、不均一な電位分布を有する。一方、試料２０とコンタクトピン３とが導通していると、電位シフト値は著しく低減する。試料２０の表面電位シフトを判断する事によって、試料２０とコンタクトピン３との導通、非導通を正しく判定する事が可能となる。 （もっと読む）

方法は、感光材料の層を上に有する基板を用意する工程と、連続する第１、第２、及び第３の部分を有するマスクを用意する工程であって、順次、ｉ）第１の部分を第１の速度の光線で走査し、その後露光領域で感光材料に衝突させ、ｉｉ）第２の部分内に走査する工程を固定し、ｉｉｉ）第３の部分にわたって走査を再開する、工程と、を含む。該プロセスにわたって、該基板が露光領域を通って移動する。該プロセスを実行するための装置は、光線源と、マスクマウントと、マスクステージと、コンベヤーアセンブリと、光線を矩形光線に操作するための少なくとも１つの光学素子と、を含む。 （もっと読む）

【課題】基板保持具の姿勢を検知することで、該基板保持具の傾きを起因とした該基板保持具と基板の破損を未然に防ぐ基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板を処理する処理室と、該処理室で基板を保持する基板保持具１４と、該基板保持具を載置する載置部と、該載置部に対して相対回転可能に設けられ相対回転により前記基板保持具を係合解除可能なロック部材と、該ロック部材と前記載置部とを相対回転させる回転部と、該回転部の回転動作を検出する検出部とを具備する。 （もっと読む）

【課題】ウェハの直径が大きくなる傾向にある近年、ウェハのウェハホルダに対する着脱、ウェハホルダの各装置に対する着脱を正確、高速かつ安定的に行うことが困難になってきている。
【解決手段】基板を保持する基板ホルダと、基板ホルダを載置するステージとを含む半導体処理装置であって、基板ホルダは、基板を保持するための静電吸着部と、基板を保持する保持面に設けられた貫通孔とを備え、ステージは、一端の開口が基板ホルダを載置する載置面において貫通孔と接続される第１吸引導管と、一端の開口が載置面において貫通孔とは接続されずに基板ホルダに対向する第２吸引導管とを備える。 （もっと読む）

【課題】プロキシミティ露光装置の振動によるマスクの損傷を防止する。
【解決手段】基板１をチャック１０により支持し、マスク２をマスクホルダ２０により保持する。所定値以上の振動の発生を検知したとき、マスクホルダ２０とチャック１０との間隔を広げて、マスクホルダ２０に保持されたマスク２がチャック１０又はチャック１０に支持された基板１に接触するのを防止する。あるいは、所定値以上の振動の発生を検知したとき、マスクホルダ２０とチャック１０又はチャック１０に支持された基板１との間に緩衝部材を入れて、マスクホルダ２０に保持されたマスク２がチャック１０又はチャック１０に支持された基板１に接触するのを防止する。 （もっと読む）

基板用輸送システムであって、基板をその上で受け取るための少なくとも１本のベルトと、ベルト上に離間距離で配置される保持器であって、その離間距離が少なくとも基板の幅と同程度に幅広く、基板が保持器にぶつかるときに、基板が摺動するのを妨げるのに十分である、ベルト上方の隆起まで上昇する保持器と、ベルトを移動するためのモータと、ベルトが加速するよりもベルトが速く減速するように、ベルトの非対称な加速および減速を提供し、それによって連続する加速サイクルおよび減速サイクルを通して保持器に対して基板を位置合わせするための運動コントローラとを有する輸送システム。 （もっと読む）

【課題】高い確率において基板トレイを吸着できる搬送装置を提供することにある。
【解決手段】搬送装置２は、吸着体２２に基板トレイ３２を吸着させて搬送することによって、載置台１０への基板トレイ３２の載置、および該載置台１０からの基板トレイ３２の載置解除の少なくとも何れかをおこなう搬送手段１４と、吸着体２２の吸着状態を検知する検知手段と、吸着体２２が基板トレイ３２に吸着していないことが上記検知手段によって検知された場合に、基板トレイ３２に対する複数の吸着体２２のうちの少なくとも１つの位置が変わるように載置台１０を回転させて該載置台１０上の基板トレイ３２を回転させる回転機構１２とを備えている。 （もっと読む）