【課題】異なった径の基板を処理することができ、効率的な接合基板の生産が可能となる、接合装置を提供することを目的とする。
【解決手段】基板保持部４４の下端に設けられた静電チャック４５の接触面４６には、パターン電極４９が埋設され、吸着力が作用して上側基板ＳＡを吸着、保持する吸着力作用領域４７が備えられている。吸着力作用領域４７は、処理される基板の中で最小径の上側基板ＳＡ１が吸着されると、その上側基板ＳＡ１により覆われるサイズに形成されている。また、吸着力作用領域４７内には、検知センサ５０を構成する可動部５８の接触部５５が進退する検知窓Ｗが開口されている。これにより、上側基板ＳＡ１の静電チャック４５への吸着、非吸着のみならず、上側基板ＳＡ１よりも大きな径を有する上側基板ＳＡ２、ＳＡ３の静電チャック４５への吸着、非吸着も検知することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】移動速度を上げなくても搬送時間を短縮することができる搬送装置を提供する。
【解決手段】搬送ロボット５０は、第１及び第２ハンド５２，５３を備えている。第１及び第２ハンド５２，５３は、基板６を夫々保持する２つのブレード５６を有している。また、搬送ロボット５０は、回動ユニット、第１進退ユニット、第２進退ユニット、昇降ユニットを有しており、これら４つのユニットにより第１及び第２ハンド５２，５３を基板６が載置されている基板搬送中継装置２５及び４つのプロセスチャンバ２３に夫々移動させることができるようになっている。 （もっと読む）

【課題】被処理体を安定して保持することが可能なロードロック装置と、このロードロック装置が付設された真空処理装置を提供する。
【解決手段】真空槽の内外に真空槽内の減圧状態を維持したまま基板を搬入出可能なロードロック装置であって、基板を載置する凹部を有するトレイを支持することが可能な支持台と、基板を保持する蓋部と、を備え、真空槽には、基板を搬入出する開口が設けられ、真空槽の開口は、真空槽外部から蓋部によって閉塞され、真空槽内部より支持台によって閉塞することで、真空槽の壁、蓋部、および支持台によって真空槽の外部および内部から遮蔽された閉塞空間が形成され、閉塞空間を大気圧とする通気手段と、閉塞空間を減圧する排気手段と、を、さらに備え、蓋部は、閉塞空間を形成しているときに基板を載置するトレイの凹部より外側に位置する複数の保護部材を有するロードロック装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】ラック・アンド・ピニオンの技術を用いた縦型搬送によるインライン型の真空処理装置であって、ピニオンギヤとラックギヤが同期ずれにより、トレイに振動や衝撃を与えることなく搬送を可能にする搬送機構、及び、それを備えた真空処理装置を提供することを目的とする。
【解決手段】複数のピニオンギヤのうち、少なくとも２つが回転してラックギヤに順次噛合することにより、該ラックギヤを現工程の処理室内に配置されるピニオンギヤから、次工程の処理室内に配置されるピニオンギヤへと受け渡して、トレイを搬送するラック・アンド・ピニオン機構、及び、それを備えた真空処理装置であって、各処理室を仕切るゲートバルブを挟んだ２つのピニオンギヤを同時に上下移動させる上下駆動部を有していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】サセプタ及び化学気相蒸着装置に関する。
【解決手段】化学気相蒸着装置用サセプタ１００は、光透過性物質からなり基板１０１を収容するポケットを少なくとも一つ備えるサセプタ本体部１０４と、サセプタ本体部の上面に形成され、光吸収性物質になって前記サセプタ本体部を通過した光を吸収する光吸収部１０７とを含む。ポケットは、底部と、底部から上昇した位置に基板の周囲部を載せるように形成された係止段差部とを備え、係止段差部は、サセプタ本体部に形成されるか、または、ポケットまで延長されて形成された光吸収部の端部に形成される。 （もっと読む）

【課題】２つの誘電層間に配置された電極を有する可撓性積層体を含んでいる、高効率静電チャック組立体を提供する。
【解決手段】少なくとも一方の誘電層は、標準度又は高純度の熱可塑性フィルムである。可撓性積層体１１２は、静電チャックの表面に改善された温度分布を与える利点を備えるように、第１誘電層１２４の基板支持表面１３２を艶消し仕上げとすることができる。可撓性積層体の基板非支持面側、すなわち、ペデスタル受け側は、プラズマ処理されて、所望の表面仕上げにすることが可能であり、アクリル又はエポキシの接着剤でペデスタルに接合されて、従来のポリマー型静電チャックに較べて、優れた接合強度を生じる結果となる。電極１２２は、剥離ライナーに形成したシート電極とすることができ、これにより製造を簡単にすることができる。 （もっと読む）

【課題】大型の基板であっても、安定して搬送することができ、同時に、搬送する基板の下方に充分なスペースを確保することができる搬送機構を提供することにある。
さらに、係る搬送機構によって基板を安定に搬送しながら効率良く真空処理を行いうる真空処理装置を提供することにある。
【解決手段】駆動軸に回転運動を付与する駆動系と、駆動軸に該駆動軸の中央に最も径が大きいコロを有するローラーとを具備し、ローラーに接触する金属ベルトを、駆動系でローラーを回転させることにより進行させて、金属ベルト上の被搬送物を順次移送させることを特徴とする搬送機構であり、及びそれを備えた真空処理装置である。 （もっと読む）

【課題】ウェハを低圧状態で処理する場合であっても，ウェハに対するパーティクルの付着や損傷の発生を防止しながら，ウェハの温度を効率的に調節できる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。また，かかる基板処理装置及び基板処理方法に用いられる記録媒体を提供する。
【解決手段】基板Ｗを処理室３２に搬入し，載置台４０の上面に設けられた当接部材４２に基板Ｗの下面を当接させ，基板Ｗと載置台４０との間に隙間Ｇを形成した状態で，載置台４０に基板Ｗを載置させる。そして，処理室３２を所定の圧力にした状態で，載置台４０の温度を調節することにより，当接部材４２に支持された基板Ｗの温度を調節する。その後，処理室３２を所定の圧力より低い圧力の処理雰囲気にして，基板Ｗに所定の処理を施す。 （もっと読む）

【課題】 ウェハを確実に吸着保持する静電チャックを提供すること。
【解決手段】 ウェハを静電的に吸着保持する静電チャック１４１０は、基板１４０５、電極１４１２板及び絶縁層１４０４を重ねて成り、ウェハの印加電圧が０ボルトから所定電圧まで時間とともに増大又は減少されるのに連動する電圧を静電チャックの電極板に印加することにより、ウェハとチャックの間に吸引力を発生する。 （もっと読む）

【課題】グリースやダスト等による真空装置等の汚染の問題がなく、設置面積が小さく、既存技術で容易に耐腐食処理が可能な搬送装置を提供する。
【解決手段】搬送装置は、第１の平行四辺形リンク機構Ｒ１と、第２の平行四辺形リンク機構Ｒ２を備える。ガイド機構８０は、ベース部材８１上において直線状に延びる第１〜第３ガイドアーム９１〜９３を有し、第１ガイドアーム９１の一端部がベース部材８１上に鉛直面方向に回転可能に軸支されるとともに、第１ガイドアーム９１の他端部に第２ガイドアーム９２の一端部が鉛直面方向に回転可能に軸支され、第２ガイドアーム９２の他端部に第３ガイドアーム９３の一端部が鉛直面方向に回転可能に軸支される。ベース部材８１が第２下アーム６２に水平面方向に回転可能に軸支され、第３ガイドアーム９３の他端部が第１上アーム７１の延長部７１ａに水平面方向に回転可能に軸支されている。 （もっと読む）

【課題】ウエハの処理の効率または装置への作業の効率を向上させた真空処理装置を提供する。
【解決手段】減圧された内部に供給された処理用ガスを用いて生成したプラズマを用いて前記内部に配置された試料を処理する真空容器と、雰囲気圧下で前記真空容器と連結されて配置されこの真空容器で処理される試料がその内部の空間で搬送される搬送容器５と、この搬送容器５内に前記雰囲気の流れを生成するための送風機及び前記搬送容器５に配置された排出口と、前記搬送容器５内の前記流れ中に配置され前記真空容器で処理された後の試料が収納される収納容器と、この収納容器内の気体を排気する排気手段とを備えた試料処理装置。 （もっと読む）

【課題】真空ロボットによる試料搬送時の位置ずれを補正するための簡単な機構を備えた検査装置を提供する。
【解決手段】試料ステージのロードポジション(X_L,Y_L)及びアンロードポジション(X_U,Y_U)と、プリアライナの回転角(θ_L)を保存する。プリアライナ上のウエハを基準方位に対して回転角(θ_L)だけ回転させるプリアライメントを実行し、更に、プリアライナに対するウエハの偏心量(Δx₁,Δy₁)を測定する。この偏心量(Δx₁,Δy₁)に基づいて、試料ステージのロードポジション(X_L,Y_L)を補正する。 （もっと読む）

【課題】基板ホルダの識別情報を管理して、基板貼り合せ装置の故障を防止する。
【解決手段】複数の基板を貼り合わせる基板貼り合わせ装置であって、複数の基板をそれぞれ保持し、固有の識別情報が割り当てられた複数の基板ホルダと、前記複数の基板ホルダに保持された前記複数の基板を貼り合わせる貼り合わせ部と、前記複数の基板ホルダに割り当てられた前記識別情報を認識する認識部と、前記認識部により認識された識別情報が重複する場合に、その旨を出力する出力部とを備える基板貼り合わせ装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】ダミーウェハを適切に使用することで生産処理とダミー処理とを効率よく実行する基板処理装置を提供する。
【解決手段】ダミー基板と製品基板とを含む基板に処理を施す複数の処理室と、前記各処理室へ基板を基板保持部に保持して搬送する第一搬送手段を備えた第一搬送室と、大気圧状態で基板を搬送する第二搬送手段を備えた第二搬送室と、前記第一搬送室と前記第二搬送室を連結する減圧可能な予備室と、前記搬送室と前記予備室に対して設けられる排気手段と、複数の基板が収納された基板収納手段と前記処理室との間の前記第一搬送手段および前記第二搬送手段の搬送を制御する制御手段とを設けた基板処理装置である。前記制御手段は、複数のダミー基板の使用状態を個別に管理し、ダミー基板の使用状態が予め定められた使用状態に達したか否かを判定する。 （もっと読む）

【課題】 被処理基板の周縁部の温度上昇を抑制することによってプラズマ処理の面内均一性を向上させることができ、均一なプラズマ処理を行うことのできるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】 内部を気密に閉塞可能とされた処理チャンバーと、処理チャンバー内に処理ガスを供給する処理ガス供給機構と、処理チャンバー内から排気するための排気機構と、処理ガスのプラズマを生成するためのプラズマ生成機構と、処理チャンバー内に設けられ、被処理基板と、当該被処理基板の周囲を囲むように配設されるフォーカスリングとが同一の平面に載置されるよう構成された載置台と、載置台の温度を調節する温調機構と、載置台の上面に配設され、フォーカスリングの下部にまで延在する吸着用電極を有する静電チャックとを具備したプラズマ処理装置。 （もっと読む）

【課題】次の振り分け生産時に初めに使用するプロセスチャンバを操作画面上に予め表示する基板処理装置を提供する。
【解決手段】所定枚数の基板(ロット)を連続して処理する場合、所定枚数の基板の処理が終了すると、制御コントローラは、次に搬送される基板が処理されるプロセスチャンバを指定する情報を操作部コントローラに通知し、前記操作部コントローラは、複数のプロセスチャンバのうち次に処理する基板が搬送されるプロセスチャンバを指定するアイコンを操作画面に表示する。 （もっと読む）

【課題】圧力差によって基板保持具を支持する支持部が傾斜するのを抑制することができる基板処理装置及び半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、ロードロック室と、ロードロック室内の雰囲気を制御するガス供給部及びガス排気部と、ロードロック室内でウエハを保持するボートと、ボートを支持するシャフト及び固定台５６と、これらシャフト及び固定台５６を昇降する昇降装置と、固定台５６に固定され昇降装置と面で接続する接続部材６０と、を有し、ロードロック室は、大気圧雰囲気下でウエハを搬送するＥＦＥＭ、及びウエハを処理する処理室に隣接し大気圧より圧力の低い真空雰囲気下でウエハを搬送する搬送室これらに隣接する。 （もっと読む）

【課題】放電開始直後に基板に位置ずれが発生しても，それを早期に検出して直ぐに処理を中止することで，異常放電による載置台の損傷を極力防止する。
【解決手段】伝熱ガスの供給開始で一時的に上昇した伝熱ガスの流量が低下して安定するよりも前に所定の調圧終了基準値以下になると，処理容器内に高周波電力を供給して放電を開始し，基板保持面上の被処理基板上に処理ガスのプラズマを発生させる放電ステップとを有し，上記放電ステップにおいて，流量センサで検出した伝熱ガス流量が所定の閾値を超えたときに基板ずれありと判定する判定ポイントを伝熱ガス流量が安定する前の時点において複数設け，各判定ポイントごとに閾値を設定することによって，伝熱ガス流量の安定を待たずに基板ずれ判定を行う。 （もっと読む）

【課題】ウエハの分子接着モジュールを備える製造装置でアライメント制度が十分で、層歪みが低減された製造装置を提供する。
【解決手段】この装置は、大気圧未満の圧力のもとでウェハの接着を行うための真空チャンバを備える接着モジュール１と、接着モジュール１に接続され、且つ接着モジュール１へのウェハ移送のために構成され、且つ第１の真空ポンプデバイス５に接続されている装填ロックモジュール２と、を具備し、第１の真空ポンプは、装填ロックモジュール２内の圧力を大気圧未満に低減するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】真空槽内での位置を移動できる基板縦方向揺動装置と、真空槽内で基板を縦方向及び横方向に往復移動できる基板ステージ装置及びイオン注入装置を提供する。
【解決手段】
基板縦方向揺動装置は真空槽１１内に配置され、回転軸３７を中心に上下に回動する腕部３３ａ、３３ｂと、本体３１に鉛直に固定された縦レール３２ａ、３２ｂと、縦レール３２ａ、３２ｂに沿って上下に移動する縦方向移動部材３４ａ、３４ｂと、腕部３３ａ、３３ｂの回動動作の鉛直方向の成分を抽出し、縦方向移動部材３４ａ、３４ｂを抽出した移動量移動させる縦方向抽出部材とを有し、基板保持台２１は一方の縦方向移動部材３４ａに設けられ、他方の縦方向移動部材３４ｂには重り２５が設けられる。基板ステージ装置３０は、基板縦方向揺動装置と、基板縦方向揺動装置を真空槽１１内で左右に移動させる基板横方向揺動装置とを有する。 （もっと読む）