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発光ダイオード (162,814) | LED形式 (36,241) | 電極 (5,970) | 電極構造 (2,261) | 電極形状 (1,012)

Fターム[5F041CA93]に分類される特許

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【課題】
素子生産量と光抽出効率を向上させることができる垂直型発光素子の製造方法およびその垂直型発光素子に用いる基板モジュールを提供すること。
【解決手段】
垂直型発光素子の製造方法において、基板10とLED構造のインターフェースが分離するまたは剥離するところに隙間13’を形成することで、基板10を該基板10に形成されたLED構造から容易に分離または剥離できるようにする。基板10とエピタキシャル層20からなる基板モジュールは制御可能な方式で基板10とエピタキシャル層20との間のインターフェースに複数の隙間13’を形成している。そして、該エピタキシャル層20にLED構造を形成させ、LED構造をスーパーストレート70に付着させ、基板10をエピタキシャル層20から分離し、かつ、基板10の所在部に導電層と接触電極を形成させて、垂直型発光素子を形成させる。 (もっと読む)


【課題】発光面での発光強度の均一化を図ることができる半導体発光素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】半導体発光素子は、発光体と、第1電極層と、第2電極層と、パッド電極と、補助電極部と、を備える。発光体は、一方側に第1導電形の第1半導体層が設けられ、他方側に第2導電形の第2半導体層が設けられ、第1半導体層と第2半導体層との間に発光層が設けられる。第1電極層は、第2半導体層の第1半導体層とは反対側に設けられ、金属層と、第1半導体層から第2半導体層に向かう第1方向に沿って前記金属層を貫通する複数の開口部と、を有する。第2電極層は、第1半導体層と導通する。パッド電極は、第1電極層と導通する。補助電極部は、第1電極層と導通し、第1方向と直交する第2方向に延在する。 (もっと読む)


【課題】高出力・高効率で850nm以上、特に900nm以上の発光ピーク波長の赤外光を発光する発光ダイオードを提供する。
【解決手段】本発明の発光ダイオードは、基板上に、DBR反射層と、発光部とを順に備える発光ダイオードであって、前記発光部は、組成式(InX1Ga1−X1)As(0≦X1≦1)からなる井戸層と組成式(AlX2Ga1−X2Y1In1−Y1P(0≦X2≦1,0<Y1≦1)からなるバリア層との積層構造を有する活性層と、組成式(AlX3Ga1−X3Y2In1−Y2P(0≦X3≦1,0<Y2≦1)からなる第1のガイド及び第2のガイドと、該第1のガイド及び第2のガイドのそれぞれを介して該活性層を挟む、組成式(AlX4Ga1−X4In1−YP(0≦X4≦1,0<Y≦1)からなる第1のクラッド層及び第2のクラッド層とを有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】列状に配列された複数の発光素子において、列方向の長さと列方向と直交する方向の長さとが異なる発光領域を有する発光素子から光を効率よく取り出す。
【解決手段】発光部102を構成する発光サイリスタ列のそれぞれの発光サイリスタLの発光領域311は、点灯信号線75の2つの主部75aおよび2つの副部75cで取り囲まれている。接続部75dは、発光サイリスタ列の列方向に延びるように設けられ、2つの副部75cの一方と発光領域311上に設けられたn型オーミック電極321とを接続している。そして、副部75cは、隣接する発光サイリスタLの発光領域311の間の分離溝の中に設けられている。 (もっと読む)


【課題】高出力であり、高効率で動作電圧が低い半導体発光素子を提供する。
【解決手段】半導体発光素子は、少なくとも支持基板10、及び発光層5を含む半導体層14と、金属反射層9と、誘電体層15と、界面電極8と、絶縁性保護膜24と、透明導電膜21と、金属分配電極12と、第一電極13と、第二電極17とを有している。界面電極8の深さ方向における直上の領域において、半導体層14はエッチングによって除去され、界面電極8と接する半導体層14の第二主表面の半導体層を残し、界面電極8上には発光層5が形成されていない。 (もっと読む)


【課題】発光効率が向上し、安全性及び信頼性の向上した発光素子を提供すること。
【解決手段】実施例の発光素子は、第1半導体層、第2半導体層、及び前記第1及び第2半導体層の間に活性層を含む発光構造物と、前記発光構造物の下面に接触する絶縁層と、前記発光構造物の下に配置され、前記絶縁層が配置されるパターンが形成された保護層と、を含む。 (もっと読む)


【課題】基板面積に対する発光面積の比率が高く、且つ反射層の耐湿性を向上した半導体発光装置を提供する。
【解決手段】n型半導体層21、活性層22及びp型半導体層23がこの順で積層された積層体20と、p型半導体層23上に配置された透明電極30と、透明電極30上に配置された電極絶縁膜40と、電極絶縁膜40上に配置され、電極絶縁膜40、透明電極30、p型半導体層23及び活性層22を貫通して設けられたn側開口部41でn型半導体層21に接するn側電極51と、電極絶縁膜40上にn側電極51と離間して配置され、電極絶縁膜40に設けられたストライプ状のp側開口部43で透明電極30に接するp側電極53と、電極絶縁膜40内部に、又は透明電極30と電極絶縁膜40との間に、積層体20の上面に対向して配置され、活性層22から出射された光を反射する反射層70とを備える。 (もっと読む)


【課題】光の取り出し効率が高くかつ放熱性のよい発光装置を提供することにある。
【解決手段】棒状のn型GaNからなる半導体コア11と、上記半導体コア11の一部を覆うように形成されたp型GaNからなる半導体層12とを有すると共に、半導体コア11の一部の外周面が露出した棒状構造発光素子10と、棒状構造発光素子10の長手方向が実装面に平行になるように棒状構造発光素子10が実装された絶縁性基板16とを備える。 (もっと読む)


【課題】 窒化物半導体紫外線発光素子において、n型AlGaN系半導体層からなるn型クラッド層とn電極間の寄生抵抗を、n型クラッド層のAlNモル分率に関係なく低抵抗化し、順方向電圧の低電圧化を図る。
【解決手段】 n型クラッド層6上のn型クラッド層6の表面と平行な面内の第1領域に、バンドギャップエネルギが3.4eV以上のAlGaN系半導体層を有する活性層7と、活性層7より上層に位置するp型AlGaN系半導体層からなるp型クラッド層9が形成され、n型クラッド層6上の第1領域以外の第2領域内の少なくとも一部に、n型AlGaN系半導体層からなるn型コンタクト層11が形成され、n型コンタクト層11のAlNモル分率が0%以上60%以下の範囲内にあって、且つ、n型クラッド層6のAlNモル分率より小さく、n型コンタクト層6とオーミック接触するn電極13がn型コンタクト層11上に形成されている。 (もっと読む)


【課題】信頼性が高く、製造の容易な発光デバイス、及び、その製造方法を提供するこを提供すること。
【解決手段】透明結晶基板2は、一面が光出射面21であり、発光素子1は透明結晶基板2の光出射面21とは反対側の他面22に積層されている。透明結晶基板の側に位置するN型半導体層31は、P型半導体層32と重ならない部分33を有している。N型半導体層31の第1半導体面電極51は、重ならない部分33の表面に設けられており、P型半導体層32の第2半導体面電極52は、第1半導体面電極51と同じ側の面に設けられている。発光素子1は絶縁層6によって覆われており、絶縁層6には支持基板9が積層されている。絶縁層6を通って第1及び第2半導体面電極51、52に接続された第1及び第2縦導体71、72が、支持基板9を貫通する第1及び第2貫通電極94、95と接続されている。 (もっと読む)


【課題】高い駆動電圧で動作できる発光装置を提供する。
【解決手段】基板と、前記基板の上に隣接して配置され、同じ極性の電圧が印加される電極を上面にそれぞれ備える第1と第2の発光部を有し、前記基板と一体形成された2つのGaN系発光素子とを備える発光装置であって、前記2つのGaN系発光素子それぞれの前記2つの発光部は互いに1つの電極を共有し、前記共有されている電極は前記2つの発光部と共通の半導体層の上に配置され、一方の前記GaN系発光素子の前記共有されている電極は、他方の前記GaN系発光素子の前記第1の発光部の電極に接続され、他方の前記GaN系発光素子の前記共有されている電極は前記一方の前記GaN系発光素子の前記第2の発光部の電極に接続されていることを特徴とする発光装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】発光素子において、動作電圧を減少させ、発光素子の効率性を向上させる。
【解決手段】発光素子は、第1導電型半導体層122、活性層124及び第2導電型半導体層126を含む発光構造物と、活性層124及び第2導電型半導体層126の側面に形成される保護層110と、第1導電型半導体層122の少なくとも一部上及び発光構造物120の側面に形成される第1電極190と、を含む。 (もっと読む)


【課題】窒化物半導体発光素子における電流拡散効率を向上させる。
【解決手段】窒化物半導体発光素子は、基板上の矩形の窒化物半導体領域内に1以上のn型半導体層、活性層、および1以上のp型半導体層を含み、n型半導体層はエッチングで形成された部分的露出領域を有し、p型半導体層上に形成された電流拡散層上にはp側電極パッドと一体のp側枝電極が形成され、n型半導体層の部分的露出領域上にはn側電極パッドと一体のn側枝電極が形成され、p側とn側の枝電極は矩形の窒化物半導体領域の対向する2辺に沿って互いに平行に延びており、p側とn側の電極パッドの中心間距離をLで表し、p側とn側の枝電極間距離をMで表し、そしてp側とn側の電極パッドが矩形の窒化物半導体領域の対角位置に形成される場合のそれら電極パッドの中心間距離をLmaxで表すときに、0.3<M/L<1.1およびL<Lmaxの条件を満たす。 (もっと読む)


【課題】スペックルノイズを低減でき、かつ高出力である新規な発光装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る発光装置100は、第1クラッド層106と、第1クラッド層106の上方に形成された活性層108と、活性層108の上方に形成された第2クラッド層110と、を含み、活性層108は、第1側面107と、第1側面107に平行な第2側面109と、を有し、活性層108のうちの少なくとも一部は、利得領域180を構成し、利得領域180は、第1側面107側に設けられた第1端面140と、第2側面109側に設けられた第2端面142と、を有し、平面的に見て、第1端面140から第2端面142まで、第1側面107の垂線に対して傾いた方向に向かって延びており、第2端面109は、平面的に見て、利得領域180の延びている方向に対して直交し、第2端面109には、反射部150が設けられ、利得領域で生じる光10の一部は、第2端面142に設けられた反射部150において反射して、第1端面140から出射される。 (もっと読む)


【課題】本発明は、pnpn構造を利用した論理演算回路等を提供する。
【解決手段】(a)は第1のNOT回路300の断面構造を、(b)は第1のNOT回路300の等価回路を示す。第1のNOT回路300は、p型の第1半導体層201と、n型の第2半導体層202と、p型の第3半導体層203とが、それぞれエミッタ領域と、ベース領域と、コレクタ領域として働くpnpトランジスタ(Q1)と、n型の第2半導体層202と、p型の第3半導体層203と、n型の第4半導体層204とが、それぞれエミッタ領域と、ベース領域と、コレクタ領域として働くnpnトランジスタ(Q2)とが組み合わされた回路である。なお、pnpトランジスタ(Q1)とnpnトランジスタ(Q2)とは縦に積層されている。
【選択図】図
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【課題】光の高出力化及び取出効率並びに低動作電圧化を向上させ、かつ、リーク電流の発生を阻止することができる半導体発光素子を提供する。
【解決手段】本発明の半導体発光素子1においては、半導体積層体14のn型コンタクト層3に設けられた平面視ドット状の複数の分配電極12、p型コンタクト層7と導電反射層9とを接続する円環状の界面電極8、及び、複数の分配電極12を覆う透明導電膜21の中央に円形状に設けられた表面電極17が、積層方向において互いに重ならないように配置されている。また、絶縁性保護膜25は、少なくとも半導体積層体14の側面の全面を覆っている。 (もっと読む)


【課題】光の高出力化及び取出効率並びに低動作電圧化を向上させることができる半導体発光素子を提供する。
【解決手段】本発明の半導体発光素子1は、半導体積層体14の他方の表面側に積層された導電反射層9、半導体積層体14の一方の表面に形成された透明導電膜21、透明導電膜21の表面に形成された表面電極17を備える。表面電極17は、透明導電膜21の表面に形成される反射用電極層17a、外部配線に接続される接続用電極層17bの積層電極構造になっている。 (もっと読む)


【課題】光取り出し効率を向上させることのできる発光素子を提供する。
【解決手段】発光素子1は、第1半導体層と、第2半導体層と、第1半導体層と第2半導体層とに挟まれる発光層とを有する半導体積層構造10と、半導体積層構造10の一方の面上に設けられ、線状表面電極部を有する表面電極50と、半導体積層構造10の表面電極50が設けられる側の反対の面側に設けられ、光を反射する反射層32と、半導体積層構造10と反射層32との間に設けられる誘電体層と、半導体積層構造10と反射層32とを電気的に接続し、線状界面電極部を有する界面電極40とを備え、線状表面電極部と線状界面電極部とがそれぞれ、平面視にて予め定められた方向に沿って延び、半導体積層構造10が、半導体積層構造10の反射層32の反対側の表面に、予め定められた方向とは異なる方向に沿って設けられる溝80を有する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、光抽出効率が向上した半導体発光素子及びその製造方法に関する。
【解決手段】本発明は、第1の導電型半導体層と、当該第1の導電型半導体層の一面上に形成される活性層と、当該活性層の上に形成され複数のホールを含む第2の導電型半導体層と、当該第2の導電型半導体層の上に形成される透明電極と、を含む半導体発光素子;成長用基板上に第2の導電型半導体層、活性層及び第1の導電型半導体層を形成する段階と、当該第1の導電型半導体層の上に導電性基板を形成する段階と、上記成長用基板を上記第2の導電型半導体層から分離し当該第2の導電型半導体層に複数のホールを形成する段階と、上記第2の導電型半導体層の上に透明電極を形成する段階と、を含む半導体発光素子の製造方法;を提供する。 (もっと読む)


【課題】複数の接触部を有する発光素子を提供する。
【解決手段】本発明の一実施例による発光素子は、支持基板と、該支持基板の上に位置する反射層と、該反射層の上に位置する透明層と、該透明層の上に位置する発光スタック層と、該透明層と該反射層との間に位置するエッチング阻止層と、該発光スタック層と該透明層との間に位置する複数の接触部とを有する。 (もっと読む)


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