説明

Fターム[5F041CA93]の内容

発光ダイオード (162,814) | LED形式 (36,241) | 電極 (5,970) | 電極構造 (2,261) | 電極形状 (1,012)

Fターム[5F041CA93]に分類される特許

201 - 220 / 1,012


【課題】光出力を高めつつ、信頼性が改善された発光素子を提供する。
【解決手段】放出光を放出可能な発光層と、第1電極と、前記発光層と前記第1電極との間に設けられた第1の層と、前記第1の層と前記第1電極との間に設けられた第2の層と、前記第1の層と前記発光層との間に設けられたクラッド層と、を備えた発光素子が提供される。第1の層は、第1導電形の第1の不純物濃度を有し、前記第1電極から注入されたキャリアを前記発光層の面内方向に拡散可能とする。第2の層は、前記第1の不純物濃度よりも高い第1導電形の第2の不純物濃度を有し、第1の面が前記第1の層と接触し、前記第1の面とは反対側の第2の面が前記第1電極の形成領域と非形成領域とを有し、平均ピッチが前記放出光の波長以下とされた網状または複数の島状の凸部が前記非形成領域に設けられている。前記クラッド層は、第1導電形を有する。 (もっと読む)


【課題】半導体層中の特定領域に電流が集中することを抑制した発光素子を提供する。
【解決手段】発光素子は、支持層と、支持層の上方に形成され、第1の導電型を有し、支持層よりも抵抗率が低い下側半導体層と、下側半導体層の上に形成された発光層と、発光層の上に形成され、第1の導電型と反対の第2の導電型を有する上側半導体層と、上側半導体層上に形成された上側電極とを含む第1の領域と;支持層と、支持層の上方に形成された下側半導体層と、下側半導体層上に形成された下側電極の第1の部分とを含む第2の領域と;支持層と、支持層上に形成された下側電極の第2の部分とを含む第3の領域とを有する。 (もっと読む)


【課題】半導体素子を実装する際に用いられる接合部材が、密着層に拡散されるのを軽減することができる半導体素子を提供する。
【解決手段】本発明に係る半導体素子は、半導体層と、前記半導体層上に設けられ、第1上面と、前記第1上面よりも突出する第2上面と、を有する電極と、前記電極の第1上面に設けられ、上面が前記電極の第2上面よりも前記半導体層側にある密着層と、密着層の上面から半導体層まで被覆する絶縁層と、を備える。 (もっと読む)


【課題】半導体膜内部における電流拡散を阻害することなく半導体膜内部を伝搬する光の自己吸収を抑制することができる半導体発光装置を提供すること。
【解決手段】支持体上の反射電極と、反射電極上の第1クラッド層と、第1クラッド層上の発光層と、発光層の上に設けられ、凹部及び凸部からなるテラス構造を有し、凸部の頂面及び凹部の底面に凹凸形状の光取り出し構造が形成された第2クラッド層と、凸部の頂面上の表面電極と、を有し、第2クラッド層は、発光層上に、第1電流拡散層、第1電流拡散層上に設けられ凹部の底面の光取り出し構造を備える第1光取り出し層、第1光取り出し層上に設けられた第2電流拡散層、及び第2電流拡散層上に設けられ凸部の頂面の光取り出し構造を備える第2光取り出し層を含む積層構造を有し、第1光取り出し層及び第2光取出し層は、第1電流拡散層及び第2電流拡散層よりも小なる光吸収率と、第1電流拡散層及び第2電流拡散層よりも大なる抵抗値と、を有すること。 (もっと読む)


【課題】LED素子は静電気で破壊しやすいため保護素子とともに回路基板に実装されることがある。また放熱性や生産性、実装面積効率を考えるとLED素子及び保護素子を回路基板にフリップチップ実装することが好ましい。ところが保護素子を回路基板上にフリップチップ実装すると、保護素子の周辺が暗くなってしまうので保護素子を省きたい。
【解決手段】回路基板12上にフリップチップ実装されるLED素子13は、カソードであるn側バンプ23とアノードであるp側バンプ24を備え、このn側バンプ23とp側バンプ24の間にバリスタ26が充填されている。この結果バリスタ26によりLED素子13の静電気対策がとられるため回路基板12に保護素子が不要になった。 (もっと読む)


【課題】高い電流を印加した場合における出力を向上させた半導体発光素子を提供する。
【解決手段】半導体層10と、半導体層10の一部を切り欠くことにより露出されたn型半導体層の露出面12a上に設けられたn型電極18と、半導体層10上に設けられた透明導電膜と、透明導電膜上に設けられたp型電極17とを備え、半導体層10と透明導電膜との間に、平面視で少なくとも一部がp型電極17と重なり合う光反射層39が備えられ、p型電極17が、パッド部Pと、パッド部Pから線状に延在する平面視環状の線状部Lとからなり、n型電極18が、平面視でパッド部Pの中心17aと半導体層10の中心10aとを通る直線L1上における線状部Lに囲まれた内側の領域に配置され、n型電極18の中心18aとパッド部Pの中心17aとの間の距離D3が、パッド部Pの中心17aと半導体層10の中心10aとの距離D4以上である半導体発光素子1とする。 (もっと読む)


【課題】活性層への注入電流の密度を均一化でき、その上、光取り出し効率を向上させることもできる半導体発光装置およびそれを備えた半導体パッケージを提供する。
【解決手段】半導体発光装置1は、サファイア基板11と、このサファイア基板11下に設けられたn型半導体層12と、このn型半導体層12下に設けられ、光を発する活性層13と、この活性層13下に設けられたp型半導体層14と、このp型半導体層14下に設けられ、上記光を透過する透明導電膜15と、この透明導電膜15下に設けられ、島状の第1開口16a複数有する層間絶縁膜16と、この層間絶縁膜16下に設けられて、第1開口16aに重なる島状の第2開口17aを複数有し、上記光を反射する反射膜17と、この反射膜17上に設けられると共に、一部が第1開口16aおよび第2開口17a内に入って透明導電膜15に接続された接続電極18とを備えている。 (もっと読む)


【課題】簡易な構成で発光素子の高密度化を図る発光素子アレイ及びこれを備えるプリントヘッドを提供する。
【解決手段】発光素子アレイは、半絶縁性基板上に、順次、P型の第1半導体層、N型の第2半導体層、P型の第3半導体層、N型の第4半導体層が形成され、第1半導体層上にアノード電極が形成され、第4半導体層上にカソード電極が形成されて構成される。アノード電極は、2本の共通のアノード配線115,116としてパターニングされて形成される。各発光素子は、2本のアノード配線115,116により異なる2つの領域において発光する。 (もっと読む)


【課題】ワイヤーボンディングをすることなくパッケージングが可能な半導体発光素子及び半導体発光素子の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に順次に積層された第1電極層、第1絶縁層、第2電極層、第2半導体層、活性層及び第1半導体層と、基板を貫通して、第1電極層と電気的に接続する第1コンタクトと、基板、第1電極層及び第1絶縁層を貫通して、第2電極層と電気的に接続する第2コンタクトと、を備え、第2電極層、第2半導体層及び活性層を貫通するコンタクトホールが形成され、第1電極層は、コンタクトホールを介して、第1半導体層と電気的に連結される半導体発光素子を提供する。 (もっと読む)


【課題】本発明は光電素子を提供する。
【解決手段】光電素子であって、基板と、基板に位置し、それぞれ第一半導体層、第二半導体層及びその間に形成された活性領域を有し、相互電気的に接続されている複数の半導体ユニットと、それぞれ第一半導体層に位置する複数の第一電極と、この複数の半導体ユニットに形成されて複数の半導体ユニットを電気的に直列につなぐ連結部と、それぞれ第二半導体層に位置する複数の第二電極と、を含み、複数の第一電極の中の一つは第一延在部を有し、複数の第二電極の中の一つは第二延在部を有する。 (もっと読む)


【課題】LED素子は静電気で破壊しやすいため保護素子とともに回路基板に実装されることがある。また放熱性や生産性、実装面積効率を考えるとLED素子及び保護素子を回路基板にフリップチップ実装することが好ましい。ところが保護素子を回路基板上にフリップチップ実装すると、保護素子の周辺が暗くなってしまうので保護素子を省きたい。
【解決手段】回路基板12上にフリップチップ実装されるLED素子13は、n型半導体層21に接続するn側バンプ23とp型半導体層22に接続するp側バンプ24を備えている。このときn側バンプ23から延出したアンダーバンプメタル層23aと、p側バンプ24から延出したアンダーバンプメタル層24aとが対向する領域にバリスタ26が存在する。この結果バリスタ26によりLED素子13の静電気対策がとられるため回路基板12に保護素子が不要になった。 (もっと読む)


【課題】半導体薄膜発光素子上から基板上まで、又は、半導体薄膜発光素子上から基板上の駆動用素子上までの配線を、容易かつ選択的にエッチングできる半導体発光素子装置、この半導体発光素子装置を備えた画像露光装置、この画像露光装置を備えた電子写真式の画像形成装置、及び前記半導体発光素子装置を備えた画像表示装置を提供する。
【解決手段】半導体発光素子装置は、電極配線112,113を備えた集積基板101と、集積基板101上に備えられた半導体薄膜発光素子102と、半導体薄膜発光素子102上に備えられ、半導体薄膜発光素子102に電気的に接続された電極パッド108,109と、電極パッド108,109と電極配線112,113とを電気的に接続するリムーバブル接続配線111a,111bとを有し、リムーバブル接続配線111a,111bは、ケミカルエッチングによって選択的にエッチング可能な材料で構成されている。 (もっと読む)


【課題】 配光特性を向上させた発光素子を提供する。
【解決手段】 本発明の発光素子1は、複数の半導体層が積層されてなる光半導体層11と、光半導体層11に電圧を印加し、光半導体層11を発光させる一対の電極12とを備え、一対の電極12は、光半導体層11で発光した光を反射する一方電極(第2電極)14を有しており、一方電極14は光半導体層11上に設けられた、光半導体層11を構成する最上層の半導体層よりも屈折率が小さい第1透明電極層14aと、第1透明電極層14a上に設けられた、第1透明電極層14aよりも屈折率が大きい第2透明電極層14bと、第2透明電極層14b上に設けられた、第2透明電極層14bを透過した光を光半導体層11の方向へ反射させる反射性電極層14cとを具備している。光半導体層11で発光した光を光半導体層11の厚み方向と垂直な方向へ良好に拡散させることができ、発光素子1の配光特性を向上させることができる。 (もっと読む)


【課題】 ガラス基板の代わりにプラスチック基板100を用いた表示装置1において、プラスチック基板100の熱伝導率が低く、放熱性が悪いために、安定した特性を得ることが難しく、信頼性に欠けるという課題を解決すること。
【解決手段】 プラスチック基板100上に熱伝導層310を設け、その上側に薄膜LED102の下側コンタクト層113を接合する。かつ放熱用メタルフレーム303の内側に複数の薄膜LED102を設け、各薄膜LED102の熱伝導層310と該放熱用メタルフレーム303とを接続する。 (もっと読む)


【課題】電極構造改善を通じて電流密度分布を均一にして高輝度を具現できる半導体発光素子を提供する。
【解決手段】基板、基板上に順次形成されたn型半導体層、活性層及びp型半導体層、p型半導体層の一側エッジ上に形成されたp型電極パッドと、p型電極パッドに連結されたp型補助電極と、を含むp型電極、p型電極パッドの反対側でn型半導体層の他側エッジ上に形成されたn型電極パッドと、n型電極パッドに連結されたn型補助電極と、を含むn型電極を含み、n型補助電極は、p型電極パッドが形成された一側エッジに向かい、p型補助電極は、n型電極パッドが形成された他側エッジに向かって互いに平行に載置されて、p型電極がn型電極を取り囲む半導体発光素子。 (もっと読む)


【課題】外部発光効率に優れた発光素子アレイ及びこれを備えるプリントヘッドを提供する。
【解決手段】発光素子アレイは、半絶縁性基板上に、順次、P型の第1半導体層、N型の第2半導体層、P型の第3半導体層、N型の第4半導体層が形成され、第1半導体層上にアノード電極が形成され、第4半導体層28上にカソード電極30が形成されて構成される。アノード電極は、1本の共通のアノード配線115としてパターニングされて形成される。アノード配線115は、カソード電極が形成されるメサ領域を囲むように形成される。 (もっと読む)


【課題】大発光量、高発光効率、均一面発光を実現し得るコストの安価な発光ダイオード、それを用いた発光装置、照明装置及びディスプレイを提供する。
【解決手段】n型半導体層21及びp型半導体層23は、支持層1の一面上で積層されている。p側電極4は、支持層1側に位置するn型半導体層21を、支持層1の側から貫通し、先端がp型半導体層23に達している。n側電極は、n型半導体層21の、支持層1の側に位置する面に形成された薄膜電極3である。 (もっと読む)


【課題】電極の判別を容易化し、小型化に適した半導体発光装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、発光部10dと第1導電部30aと第2導電部30bと封止部50と光学層60とを備えた半導体発光装置が提供される。発光部は、第1主面10bと第1主面とは反対の側の第2主面10aとを有する半導体積層体と、第2主面10aに設けられた第1、第2電極と、を含む。第1、第2導電部は、それぞれ第1、第2電極に電気的に接続され、第2主面に立設された第1、第2柱部を含む。封止部は第1、第2導電部の側面を覆う。光学層は、半導体積層体の第1主面に設けられ、発光部からの発光光の波長を変換する波長変換部を含む。第1導電部の半導体積層体とは反対側の第1端面31aeと第2導電部の半導体積層体とは反対側の第2端面31beとは非対称である。 (もっと読む)


【課題】電極の接続性を高く維持し、小型化に適した半導体発光装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、発光部10dと第1導電部30aと絶縁層20と第2導電部30bと封止部50と光学層60とを備えた半導体発光装置が提供される。発光部は、第1半導体層、発光層及び第2半導体層を含む半導体積層体10と、第2主面10aの側で第1、第2半導体層に接続された第1、第2電極14、15と、を含む。第1導電部は、第1電極に接続され、第2半導体層と離間しつつ第2半導体層の一部12pを覆う第1柱部31aを含む。絶縁層20は第2半導体層と第1柱部との間に設けられる。第2導電部は第2電極に接続され第2主面の上に立設される。封止部は第1、第2導電部の側面を覆う。光学層は、半導体積層体の第1主面10bに設けられ、波長変換部を含む。 (もっと読む)


【課題】素子の内部を、光取り出し方向とは反対の方向に進行する光を、より効率的に反射させる構造を備えた、光取り出し効率の改善されたGaN系LEDを提供することを目的とする。
【解決手段】n型GaN系半導体層2と、GaN系半導体からなる発光層3と、p型GaN系半導体層4とをこの順に含む積層体と、前記p型GaN系半導体層4の表面に形成された、前記発光層で発生される光を透過するn型半導体からなる半導体電極層P2aと、前記半導体電極層の表面に部分的に形成された金属電極P2bと、前記金属電極P2bを挟んで前記半導体電極層P2aの表面に形成された、前記半導体電極層P2aよりも低屈折率の透明絶縁膜Insと、前記透明絶縁膜Insの表面に形成された金属製の反射膜Rと、を有するGaN系発光ダイオード。 (もっと読む)


201 - 220 / 1,012