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Fターム[5F044KK05]の内容

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Fターム[5F044KK05]に分類される特許

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【課題】実装後のリペア作業が容易になるとともに、製造コストを抑えることができる半導体チップとその実装方法、及び半導体チップが実装された半導体装置を提供することを目的とする。
【解決手段】半導体基板1の裏面上に突起電極3を形成する。次に、半導体基板1の裏面上に封止樹脂5を選択的に形成する。突起電極3の少なくとも一部は封止樹脂5で被覆されず、個々の半導体チップの外周方向から露出されるようにする。次に、所定のダイシングラインDLに沿って半導体基板1を切断し、半導体チップ10に分割する。次に、突起電極3とパッド電極11とを接続させ、この状態で熱処理を加えると突起電極3とパッド電極11とが接合される。この際、半硬化状態の封止樹脂5は軟化して半導体チップ10と実装基板12との間の一部に充填され、半導体チップ10と実装基板12とが接着される。 (もっと読む)


【課題】無電解めっきによるフリップチップ接続で、レドックス系金属の還元剤の存在下で無電解めっきにより行うことを特徴とし、高密度実装が可能で、製造が容易であり、低コストで製造でき、接合部が均一かつ信頼性が高く、かつ低抵抗の製造可能な半導体チップの積層実装方法を提供すること。
【解決手段】配線基板1上に、外部引き出し電極に突起電極(バンプ)6を有する下部半導体チップ5を搭載し、この半導体チップ5の上に上部半導体チップ8を搭載する。配線基板1の配線層2と下部半導体チップ5の突起電極(バンプ)6との間、下部半導体チップ5の突起電極(バンプ)7と上部半導体チップ8の突起電極(バンプ)9の突起電極(バンプ)同士をレドックス系金属の還元剤を用いた無電解めっきにより電気的に接続させる。配線層2と突起電極(バンプ)6との間および半導体チップ5と8の突起電極(バンプ)同士はめっき膜10により同時に安定して接続される。 (もっと読む)


【課題】ESD保護素子対策が十分の特定の端子を優先的に最初に除電する事により、残りの端子の保護素子のサイズを小さくでき、チップ全体としてESD保護素子サイズを小さくできる半導体装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】複数の端子を有する半導体チップを複数個積層する半導体装置の製造方法において、隣接する2つの半導体チップ1A、1Bを電気的に接続する前記複数の端子のうち、少なくとも一方の半導体チップ1Aの端子2、3の一部(ボール端子3)は、一方の半導体チップ1の残りの端子(ボール端子2)より先に他方の半導体チップ1Bの端子(金バンプ10)に接触する。即ち、ボール端子3はボール端子2よりも径が大きいので高さが高く、他の端子より先に金バンプ10に接触する。 (もっと読む)


【課題】 切削加工された保護膜の表面粗さを小さくすることができる半導体装置の金属電極形成方法を実現する。
【解決手段】 半導体基板11の下地電極12を覆って開口部13aを有する保護膜13を形成し、保護膜13及び下地電極12の表面12aを覆って金属膜14を形成し、バイト21を用いてピッチPで金属膜14の表面から切削を行う切削加工により、金属膜14をパターニングして金属電極15を形成する。ここで、バイト21の曲率半径Rと、保護膜13の切込み深さdと、ピッチPとの間に、0<P≦2/3(2Rd−d1/2なる関係が成り立つようにピッチPを設定することにより、表面粗さが大きくなった領域を、バイト21がピッチPだけ移動した後の切削において切削することができるため、切削加工された保護膜13の表面粗さを小さくすることができる。 (もっと読む)


【課題】低背化が可能なこと、または、アンダーフィル材を簡単に形成することができること。
【解決手段】本発明は、半導体ウエハ10上に柱状電極40を形成する工程と、半導体ウエハ10上に第2半導体チップ20をフリップチップボンディングする工程と、半導体ウエハ10上に、柱状電極40及び第2半導体チップ20を覆うように封止する封止部30を形成する工程と、柱状電極40の上面及び第2半導体チップ20の上面が露出するように封止部30及び第2半導体チップ20を研削または研磨する工程と、封止部30および半導体ウエハ10を切断し第2半導体チップ20がフリップチップボンディングされ、柱状電極40が設けられた第1半導体チップ11を形成する工程と、を有することを特徴とする半導体装置の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】半導体素子に設けられた可動部の動作を阻害することなく、可動部を外部雰囲気から保護することができる半導体装置を容易に製造することができる半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】センサ基体11に可動部12が形成されたセンサ素子10において、可動部12の周辺に4つのセンサ側バンプ13を形成し(突起部形成工程)、可動部12に対向する領域を含む4つのセンサ側バンプ13によって囲まれる領域を覆いつつ、その領域の外部まで達する接着フィルム20を4つのセンサ側バンプ13上に被せ(被覆工程)、センサ素子10における接着フィルム20との対向面の反対面からホットプレート50によって加熱して、接着フィルム20とセンサ基体11とを接着して可動部12と接着フィルム20との間に中空部40を形成する(中空部形成工程)。 (もっと読む)


【課題】低コストで高さが均一且つ平滑であり、低荷重で接続される金属端子の形成が可能であり、低ダメージの実装を可能とし、高信頼性を有する半導体装置を実現する。
【解決手段】電極5及び絶縁膜6を共に常温では固体であり接着性を示さず、これより高温の第1の温度以上で接着性を発現し、これよりも高温の第2の温度以上で硬化する性質を有する材料から形成し、ダイヤモンド等からなる硬質のバイトを用いて、半導体チップ1aの電極5の表面及び絶縁膜6の表面が連続して平坦となるように切削加工し、平坦化処理する。 (もっと読む)


【課題】第1の回路基板と第2の回路基板との接合信頼性を向上させる回路基板接合構造体を提供する。
【解決手段】第1のバンプ電極2の第1の中心線L1と、第2のバンプ電極4の第2の中心線L2とが、重ならずに偏移するように、上記第1のバンプ電極2の頂面と上記第2のバンプ電極4の頂面とが、対向して接合されている。小面積の第2のバンプ電極4が塑性変形するときに、大面積の第1のバンプ電極2の側面までの距離が短い方は、自由端となり、バンプ電極の変形拘束をうけないため、小面積バンプ電極4が塑性変形するとき、大面積バンプ電極2の自由端の方向へ接合界面での横すべりが生じやすく、その結果、小面積バンプ電極4が容易に変形しやすくなる。 (もっと読む)


【課題】ICチップとインターポーザ基板との位置決めを効率よく実行できるICチップ(液晶ドライバ)実装パッケージを提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態である液晶ドライバ実装パッケージ1は、インターポーザ基板4aを介してフィルム基材2と液晶ドライバ3とが接続している。液晶ドライバ3は、インターポーザ基板4aとの対向面に第1アライメントマーク11を有し、インターポーザ基板4aは、液晶ドライバ3との対向面に第2アライメントマーク12を有している。第1アライメントマーク11と第2アライメントマーク12とを、インターポーザ基板4aの上記対向面に対して垂直方向からみると、互いが、液晶ドライバ3とインターポーザ基板4aを貼り合せる際の貼り合わせ位置として許容できる範囲の距離ほど離間されている。 (もっと読む)


【課題】ウェハボンディングによる電子回路及び光学回路集積を提供する。
【解決手段】本発明に係る装置は、光学回路ウェハ(102)と、集積回路ウェハ(104)とを備え、前記光学回路ウェハおよび前記集積回路ウェハは、ウェハボンディング工程によって共に接合される。また、前記ウェハボンディング工程は、共晶接合、圧着、融着、陽極接合、プラズマ接合および接着から成る群から選択される。また、前記集積回路ウェハの側面(126)は、前記光学回路ウェハを越えて突出し、電気的結合を収容するように構成されるボンドパッド(116)を備える。 (もっと読む)


【課題】半導体素子とインタポーザ基板との接合品質を安定化させる。
【解決手段】半導体装置1は、フィルム基板8に実装されてシリコンにより構成されたインタポーザ基板2と、液晶を駆動するためにインタポーザ基板2に実装された半導体素子3とを備え、インタポーザ基板2は、半導体素子3側に形成された基板突起電極4を有し、半導体素子3は、基板突起電極4と接合する素子突起電極5を有し、素子突起電極5の素子接合面の面積が、基板突起電極4の基板接合面の面積よりも大きい。 (もっと読む)


【課題】製造工程を簡素化しつつ、接続信頼性を向上することができる半導体装置の製造方法及び半導体装置を提供する。
【解決手段】ウエハの、各半導体チップ形成領域における電極形成面上に突起部をそれぞれ形成し、突起部の形成されたウエハに対し、突起部を含んで半導体チップ形成領域の電極形成面全面を覆うように、電気絶縁性を有する接着部材を配置する。次に、接着部材の配置されたウエハを切り分けて複数の半導体チップとした後、接着部材を加圧して、突起部の先端部位を接着部材から露出させる。そして、接着部材から露出させた突起部を光学的な位置基準として、接着部材が配置された半導体チップと異なる半導体チップとを位置決めし、この位置決め状態でバンプを介して2枚の半導体チップの電極間を電気的に接続する。 (もっと読む)


【課題】簡便に、かつ効率的に得ることができ、バンプの接続信頼性を高めることができる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】片面11aにバンプ4が設けられた第1の半導体装置構成部材11と、片面に電気接続端子が設けられた第2の半導体装置構成部材とを用意し、第1の半導体装置構成部材11のバンプ4が設けられている側の表面11aに、バンプ4よりも柔らかい第1の接着剤層6を形成し、押圧部材12を用いて、接着剤層6の表面6aを押圧し、接着剤層6にバンプ4を押し込んで、接着剤層6の表面6aからバンプ4を露出させ、露出されたバンプ4と電気接続端子とを対向させて接続しつつ、接着剤層6を介して第1、第2の半導体装置構成部材を接合する、半導体装置の製造方法。 (もっと読む)


【課題】インナーリード剥がれやテープの波打ちを回避できるICチップ実装パッケージを実現する。
【解決手段】ICチップ実装パッケージ1は、インターポーザ4を介してフィルム基材2とICチップ3とが接続されている。インターポーザ4におけるフィルム基材2側の接続端子は、ICチップ3側の接続端子よりもピッチが大きく形成されている。フィルム基材2にデバイスホール8が設けられており、ICチップ3はデバイスホール8内に配設されている。フィルム基材2におけるインナーリード先端からデバイスホール8の縁までの距離Aは、10μm以上に設定される。 (もっと読む)


【課題】傷及び汚染をできる限り回避したウエハ用の極めて緩やかに作動する装置及び対応する処理を提供すること。
【解決手段】本発明は、少なくとも2枚の基板(1、2)、特に半導体基板またはウエハをボンディングするための処理及び装置に関し、基板(1、2)を保持し、圧力を伝達し、特に基板(1、2)を加熱するための下側の加圧プレート(5)と、上側の加圧プレート(5)と反対側に配置され、圧力を伝達し、特に基板(1、2)を加熱するための上側の加圧プレート(6)と、基板(1、2)を、特に100℃を超える温度、特に250℃を超える温度まで加熱するための加熱手段(7、8)と、下側(5)及び/または上側の加圧プレート(6)に押圧力F、特に500Nより高く好ましくは1000Nよりも高い押圧力をかけるための圧力付与手段、具体的にはアクチュエータ(9)と、を有する。 (もっと読む)


【課題】 ワイヤ接合部及びはんだ接合部を形成する方法を提供すること。
【解決手段】 一実施形態において、この方法は、ワイヤ接合部のためのワイヤ接合金属領域及びはんだ接合部のためのはんだ接合金属領域を含む構造体を準備するステップであって、両領域がシリコン酸化物層の上のシリコン窒化物層で覆われたステップと、ワイヤ接合金属領域の上のシリコン酸化物層に至る第1の開口部と、はんだ接合金属領域を露出する第2の開口部とを材料内に形成するステップと、ワイヤ接合金属領域が覆われた状態を保ちながら、はんだ接合金属領域に対するはんだ接合部を形成するステップと、シリコン酸化物層をワイヤ接合金属領域に至るまで除去するステップを含む、ワイヤ接合金属領域を露出させるステップと、ワイヤ接合金属領域に対するワイヤ接合部を形成するステップとを含む。ワイヤ接合部及びはんだ接合部は、必要に応じて、単一のマルチパート・ウェハ(MPW)上又は単一チップ上でアクセス可能にすることができ、実質的に同時に形成することができる。 (もっと読む)


【課題】センサチップを回路チップに対してバンプを介してフリップチップ接続するものにあって、それらの接合強度を高める。
【解決手段】センサチップ12を回路チップ13に対しフェースダウン状態とし、4個のバンプ29により接続する。このとき、センサチップ12と回路チップ13との間に、バンプ29に加えて、両者の機械的な接続を行う8個のダミーバンプ31を設ける。ダミーバンプ31(ダミーパッド23)を、第1〜第4の仮想線L1〜L4が形成する仮想四角形の各頂点部に4個配置すると共に、第3の仮想線L3に沿って、各頂点と第3の電極パッド21との中間点に位置して2個、第4の仮想線L4に沿って、各頂点と第4の電極パッド22との中間点に位置して2個配置する。各バンプ29及び各ダミーバンプ31の、原点OからのX軸方向の距離の総和ΣXと、原点OからのX軸方向の距離の総和ΣYとの関係が、ΣX>ΣYとなる。 (もっと読む)


【課題】半導体パッケージ及びこれを用いた表示装置において、ICチップの入力端子と出力端子数が異なる場合、インターポーザ基板を必要以上に大型化させることなく、接続端子及び配線を配置することを可能とするテープキャリア型半導体パッケージを提供する。
【解決手段】半導体チップ2が、インターポーザ基板3を介してフィルム基板4に接続される半導体パッケージにおいて、半導体チップは、対向する2辺に、複数の端子6,7をそれぞれ有し、さらに、インターポーザ基板において、インターポーザ基板の中心より、2辺のうち端子数が少ない一方の側にずれて接続されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】一面に可動部を有するセンサチップと回路チップとをバンプを介して電気的に接続するとともに、可動部を接着フィルムの中空部で保護してなる角速度センサ装置において、接着フィルムの貼り付け後において中空部の形状を適切に保持する。
【解決手段】一面に可動部10を有するセンサチップ100を、その一面を回路チップ200に対向させた状態でバンプ80を介して回路チップ200に重ねて電気的に接続するとともに、バンプ80によって両チップ100、200を離間させ、センサチップ100の一面に、電気絶縁性を有するフィルム状の接着フィルム400を貼り付け、この接着フィルム400のうち可動部10に対応する部位を、可動部10とは空隙を有して離れた中空部410として構成し、中空部410の内部の圧力を、中空部410の外部の圧力よりも高いものとている。 (もっと読む)


【課題】バンプ電極の形成にあたり物理的被着法とめっき法の2種類の方法を用いることによって、半導体装置の小型化、高集積化及び鉛(Pb)フリー化への対応を図りつつ製造の歩留まりを上げて生産性の向上を図るとともに、高い信頼性を確保した半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板3上の外部端子5を覆う絶縁膜6に外部端子5に通じる開口Hを形成する工程と、開口H内において外部端子5上に物理的被着法によりバンプ電極7を生成する第1の金属膜9を形成する工程と、第1の金属膜9及び絶縁膜6の開口H周縁上において無電解めっき法によりバンプ電極7を生成する第2の金属膜11を形成する工程と、第1の金属膜9と第2の金属膜11を溶融しつつ、絶縁膜6上の第2の金属膜11を開口H内に集めてバンプ電極7を形成する工程とを備える。 (もっと読む)


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