【課題】実際に即した配線ＯＣＶｐ係数を用い、タイミング解析の精度を向上させる。
【解決手段】配線ＯＣＶｐ係数を用いて配線遅延値を補正することにより、設計回路に含まれる第１パスと第２パスとの間の遅延差を検証する。配線ＯＣＶｐ係数の変動成分ΔＯＣＶｐは、配線のグローバルばらつきに起因するΔＯＣＶｐ＿λと、同層の配線のローカルばらつきに起因するΔＯＣＶｐ＿θと、異層間の配線のローカルばらつきに起因するΔＯＣＶｐ＿ωと、を含む。ΔＯＣＶｐ＿λは、それぞれのパスを構成する配線の各配線層における配線長に依存する。ΔＯＣＶｐ＿θは、上記配線長に加えてパス間距離に依存する。ΔＯＣＶｐ＿ωは、上記配線長に加えてチップサイズに依存する。それら配線長、パス間距離、及びチップサイズを示すデータを読み出し、読み出されたデータを用いて配線ＯＣＶｐ係数を算出し、算出された配線ＯＣＶｐ係数を配線遅延値に適用する。 （もっと読む）

【課題】複数のスタンダードセルを有する半導体装置のチップ面積をさらに小さくする。
【解決手段】半導体装置ＳＤ１は第１および第２スタンダードセルＳＣ１，ＳＣ２を備える。第１スタンダードセルＳＣ１は、拡散領域Ａｎ１１、拡散領域Ａｎ１１に対向する機能素子領域ＦＥ１、および金属層ＭＴ１１を有する。第２スタンダードセルＳＣ２は、拡散領域Ａｎ１１に連続する拡散領域Ａｎ２１、拡散領域Ａｎ２１に対向する機能素子領域ＦＥ２、ならびに拡散領域Ａｎ２１および機能素子領域ＦＥ２の間に形成された拡散領域ＣＲ２１を有する。金属層ＭＴ１１および機能素子領域ＦＥ２は、拡散領域Ａｎ１１、拡散領域Ａｎ２１、および拡散領域ＣＲ２１通して電気的に接続される。 （もっと読む）

【課題】対象階層マクロブロックから他の階層マクロブロックへの配線間容量を更に抑制すること。
【解決手段】本発明では、チップ全体を階層的に分割した複数の階層マクロブロックを生成する（Ｓ２）。階層マクロブロック３０に対する回路図データから、初段、最終段のセルを表す境界セル群４０〜４３、４４〜４７と、上位の階層マクロブロック６０のセル７１、７２及び境界セル群４０〜４３、４４〜４７を接続する境界パス群５３、５４とを抽出する（Ｓ３）。階層マクロブロック３０において、境界３１の一部分３２から内部に延びる境界回路領域６１と、境界回路領域６１を囲う境界セル領域６２と、それ以外の領域６３とを決定し（Ｓ４）、境界セル群４０〜４３、４４〜４７を境界セル領域６２に配置する（Ｓ５）。階層マクロブロック６０にセル７１、７２を配置すると同時に、境界回路領域６１に境界パス群５３、５４を配置する（Ｓ９）。 （もっと読む）

【課題】配線に多数のスルーホールが存在する場合にも、多数のスルーホール分割要素に分割されることを回避し、分割要素の数の増大を抑制し、配線抵抗の算出時間を短縮する装置の提供。
【解決手段】第１配線層と第２配線層の配線を接続する複数のスルーホールを有する領域に、複数のスルーホールを含む枠図形ＦＦ１を設定し、枠図形を複数の枠領域ＦＲ１〜３に分割する。各枠領域内の複数のスルーホールを合成して１つのスルーホールにまとめ、各枠領域内にはそれぞれ１つの合成スルーホールＣＴ１〜３が設定される。各枠領域に１つに設定されたスルーホールの位置を基準として、第１配線層、第２配線層における枠図形に対応する配線抵抗を分割した抵抗値ＲＬ１１〜１４、ＲＬ２１〜２２と、各枠領域内で１つに設定されたスルーホールの抵抗値ＲＣＴ１〜３とを用いて、抵抗回路網を作成し、抵抗回路網を１つの抵抗ＲＳに合成する。 （もっと読む）

【課題】アクティブフィーチャの容量カップリングを低減する。
【解決手段】本発明は、研磨ダミーフィーチャパターンの無差別な配置ではなく、研磨ダミーフィーチャパターンの選択的な配置を使用する。トポグラフィ変化の低周波数（数百ミクロン以上）及び高周波数（１０ミクロン以下）の両方が検討された。研磨ダミーフィーチャパターンは半導体デバイス及び半導体デバイスの作製に使用される研磨条件に特に適合されている。集積回路をデザインする場合にはアクティブフィーチャの研磨効果が予測可能である。研磨ダミーフィーチャパターンが例図とに配置された後、局部的な（デバイスの全てではなく一部）レベルにおいて、及びさらに広域的なレベル（全デバイス、デバイスとは、レチクルフィールド、或いはさらにはウェハ全体に対応する）平坦性が検査される。 （もっと読む）

【課題】消費電力の増加をできるだけ抑えながら、回路の動作速度を向上させる。
【解決手段】本製造方法では、対象経路上のトランジスタの設計パターン形状の少なくとも一部を特徴づけるパラメータの値により閾値を算出し、算出された閾値と目標閾値との差を算出し、トランジスタの閾値とゲート長との関数関係にしたがって、閾値と目標閾値との差に対応するゲート長の変更量を算出し、対象経路上のトランジスタのゲート長を変更量だけ縮小し、ゲート長が縮小されたトランジスタを含む回路の設計情報から回路が製造される。 （もっと読む）

【課題】クロストークノイズ及び配線遅延を効果的に抑制することができる半導体集積回路のレイアウト方法及び半導体集積回路を提供すること。
【解決手段】本発明は、被シールド配線である信号配線１ａを配置する。次に、フローティングメタル７を、信号配線１ａに沿う方向に、信号配線１ａと隣接させて複数配置する。次に、フローティングメタル７が信号配線１ａ及び信号配線１ｂ又は１ｃとカップリング容量を形成している場合には、当該フローティングメタル７を電源電位ＶＤＤ又はグランド電位ＧＮＤと接続する。そして、残存するフローティングメタル７と信号配線１ａとの間のカップリング容量値が予め定められた容量値Ｃｃよりも大きければ、残存するフローティングメタル７を削除する。 （もっと読む）

【課題】半導体集積回路装置の性能を下げることなく、コスト低減及び小型化を図ることができる半導体集積回路装置を提供する。
【解決手段】内部回路と、外部から入力された入力信号を内部回路に供給及び内部回路から供給された出力信号を外部に出力する入出力回路と、を有する半導体集積回路装置であって、内部回路に駆動電圧を供給するための内部回路用電源端子と、入出力回路に駆動電圧を供給するための入出力回路用電源端子と、内部回路及び入出力回路に共通のグランド電圧を供給するための共通グランド端子と、を有し、内部回路用電源端子、入出力回路用電源端子、及び共通グランド端子が隣り合って配置されることによって当該３つの端子から単位端子群が形成されていること。 （もっと読む）

【課題】電源電圧の電圧降下を抑制しつつ、信号配線リソースを大きく確保可能な電源配線構造を実現する。
【解決手段】第１配線層に、電源電位配線１０１ａ〜１０１ｄおよび基板電位配線１０２ａ〜１０２ｄが形成されており、配線層全体の真ん中より下層側の配線層に、電源ストラップ配線１０３ａ，１０３ｂ，１０４ａ，１０４ｂが形成されている。上方ビア部１１４は、下方ビア部１１２よりも、電源ストラップ配線１０３ａ，１０３ｂ，１０４ａ，１０４ｂが延びる方向における配置密度が低くなっている。 （もっと読む）

【課題】チップサイズの縮小を図ること。
【解決手段】設計支援装置は、作成したユニットセルに応じて、複数種類のバルクを配置した列（バルク領域）を設定し（ステップ２２ａ）し、列にユニットセルを配置する（ステップ２２ｂ）。設計支援装置は、列におけるバルクの使用情報をバルクの周類毎に生成し、その使用情報に基づいてバルクの使用状況を検証する（ステップ２２ｃ）。そして、設計支援装置は、バルクの配置が均等ではない場合にユニットセルの配置を変更する。 （もっと読む）

【課題】基板ノイズ違反を解消しつつ、半導体集積回路の大型化を抑制することができる半導体装置の電源配線レイアウト方法。
【解決手段】アナログ回路とデジタル回路とが混載された半導体集積回路の電源配線レイアウト方法。電源配線を、複数のノードと、それぞれが互いに隣接するノード間に配置された複数の要素抵抗と、を含む解析モデルとしてモデル化し、回路シミュレーションにより各複数のノードにおける電圧値を求め、アナログ回路のノードの電圧値に基板ノイズ違反がある場合、デジタル回路のノードのうち当該アナログ回路のノードへ流れ込む電流量が最大となる最大電流ノードを探索し、デジタル回路において最大電流ノードへ流れ込む電流経路を探索し、複数の要素抵抗のうち、電流経路に含まれる要素抵抗からボトルネック要素抵抗を選択し、ボトルネック要素抵抗の抵抗値を変更する。 （もっと読む）

【課題】配線のしやすさを損なうことなく、ビアの不良による歩留まりの低下を抑制可能な半導体回路の設計装置および設計方法を提供する。
【解決手段】半導体回路の設計方法は、論理回路を構成するセルの配置およびセル間の配線を行い、複数箇所にビアが設けられる配線を含むレイアウトパターンを生成するステップ（ステップＳ１、Ｓ２）と、ビアから、配線上の信号を受信するレシーバセルまでの負荷容量をビア毎に算出するステップ（ステップＳ４）と、ビアごとの、負荷容量に基づいて、負荷容量が大きいビアを優先的に低抵抗のビアに置換するステップ（ステップＳ６、Ｓ７）を備える。 （もっと読む）

【課題】基本データパスセルに基づいてＳｅＯＩ（絶縁体上半導体）基板上に製造された半導体デバイスに関する。
【解決手段】本発明は、第１の態様によれば、絶縁層によってバルク基板から分離された半導体材料の薄層を備えた、絶縁体上半導体の基板上に製造された集積回路内で用いるために特にそれ自体の環境に適合されたデータパスセルであって、セルは電界効果トランジスタのアレイを備え、各トランジスタは薄層内に、ソース領域（Ｓ_７）と、ドレイン領域（Ｄ_７）と、ソースおよびドレイン領域によって境界付けられたチャネル領域（Ｃ_７）とを有し、チャネル領域の上に形成された表面ゲート制御領域（ＧＡ_７）をさらに含むセルにおいて、少なくとも１つのトランジスタ（Ｔ_７）は、チャネル領域の下のバルク基板内に形成された裏面ゲート制御領域（ＧＮ_２）を有し、裏面ゲート領域はトランジスタの性能特性を変更するようにバイアスすることが可能であることを特徴とするセルに関する。 （もっと読む）

【課題】少なくともロジック回路ブロックを含む半導体集積回路において、半導体集積回路の電源用パッドとロジック回路ブロックの電源ラインとを接続する電源配線、及び／又は、半導体集積回路のグランド用パッドとロジック回路ブロックのグランドラインとを接続するグランド配線の抵抗値を下げる。
【解決手段】この半導体集積回路は、半導体基板と、半導体基板上にそれぞれの層間絶縁膜を介して形成され、半導体基板に形成された複数のトランジスタに接続されて複数のトランジスタと共に少なくともロジック回路ブロックを構成する複数の配線層と、複数の配線層が形成された半導体基板上に層間絶縁膜を介して形成され、複数の配線層における最大膜厚の５倍〜２０倍の膜厚を有する最上層の配線層とを具備する。 （もっと読む）

【課題】ＯＢＩＲＣＨ法を行う際に、特性チェック素子の特性を容易に測定することができる、半導体装置、及び半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】レーザ光が照射されることにより特性が検査される、特性チェック素子と、前記特性チェック素子よりも上層に位置し、ダミーメタルが配置された、上部配線層とを具備する。前記上部配線層は、前記特性チェック素子に重なる第１領域と、前記特性チェック素子に重ならない第２領域とを備える。前記第１領域における前記ダミーメタルの密度は、前記第２領域における前記ダミーメタルの密度よりも、小さい。 （もっと読む）

【課題】機能回路の電源配線及び接地配線に要する接地面積を少なくし、同時に消費電流による電源電圧降下及び接地電圧上昇を抑えることで、薄型・軽量・高機能・低価格の半導体装置を提供する。
【解決手段】機能回路に電源電圧を供給する電源配線１００９及び接地電圧を供給する接地配線１０１０が格子状に配置されている半導体装置である。格子状にすることで、電源電圧降下及び接地電圧上昇は大幅に低減できる。また、配線幅を細くしても、格子状にしない場合と同程度の電源電圧降下及び接地電圧上昇に抑えられるので、電源配線及び接地配線の配置面積を大幅に低減できる。 （もっと読む）

【課題】電子回路の小型化を実現する。
【解決手段】ＭＯＳトランジスタ２０が、格子状に形成されたゲート電極２２と、ゲート電極２２で囲まれたソース領域２３およびドレイン領域２４と、ゲート電極２２の格子の一方向に沿って配置され、ソース領域２３およびドレイン領域２４とコンタクトを介して接続するソース用メタル配線２７およびドレイン用メタル配線２８を有する。ソース領域２３およびドレイン領域２４のそれぞれは、各メタル配線の長さ方向に長辺を有する長方形状に形成される。ソース用メタル配線２７およびドレイン用メタル配線２８は、その長さ方向にジグザグ形状に形成されて、それぞれソース用コンタクト２５およびドレイン用コンタクト２６に接続する。 （もっと読む）

【課題】従来技術の半導体集積回路では、電源遮断領域において発生する電圧降下等を抑制することができないという問題があった。
【解決手段】本発明にかかる半導体集積回路は、高電位側電源ライン１４及び低電位側電源ライン１５と、部分電源ライン１３ａ，１３ｂと、高電位側電源ライン１４と部分電源ライン１３ａとの間に設けられた電源スイッチＳＷＡ１〜ＳＷＡｍと、部分電源ライン１３ａと低電位側電源ライン１５との間に設けられた内部回路１２ａと、高電位側電源ライン１４と部分電源ライン１３ｂとの間に設けられた電源スイッチＳＷＢ１〜ＳＷＢｎと、部分電源ライン１３ｂと低電位側電源ライン１５との間に設けられた内部回路１２ｂと、部分電源ライン１３ａ，１３ｂ間に設けられ、電源スイッチＳＷＡ１〜ＳＷＡｍ，ＳＷＢ１〜ＳＷＢｎがオンの場合にオンに制御される電源スイッチＳＷＸ１〜ＳＷＸｐと、を備える。 （もっと読む）

【課題】設計工数の増大や設計の後戻りが発生していた。
【解決手段】既存スキャンパスの複数のＦＦの接続情報を含む論理接続情報と、追加ＦＦと論理接続情報のＦＦのレイアウト、スキャンイン端子、スキャンアウト端子とを接続するネットの情報を含むレイアウト情報と、ネットの単位配線長当たりの遅延時間を計算する情報を含む遅延ライブラリ情報と、ネットの遅延を制約する遅延制約情報とを入力し、それら情報を参照し、追加ＦＦの挿入先を決定する追加先決定手段と、追加された追加ＦＦを既存スキャンパスに挿入するように論理接続情報を更新する論理接続情報更新手段と、更新された論理接続情報を参照し、接続が変更されたスキャンイン端子、スキャンアウト端子間の配線を行いレイアウト情報を更新する再配線手段と、それら更新された情報を出力するするＦＦ追加システム。 （もっと読む）

【課題】シリサイド配線の寄生抵抗による影響を許容できる範囲に抑制しながら、チップ面積の低減を実現する。
【解決手段】半導体装置は、半導体基板１０上に、セル高さＡＨのセルＡ及びセル高さＢＨのセルＢを備えている。セルＡは、Ｐ型ソース領域１３ＰＳ及びＰ型ドレイン領域１３ＰＤと、ゲート電極１６Ａとを含むＰ型ＭＩＳトランジスタと、Ｎ型基板コンタクト領域１３ＮＳＣとを有している。セルＢは、Ｐ型ソース領域１３ＰＳ及びＰ型ドレイン領域１３ＰＤと、ゲート電極１６Ｂとを含むＰ型ＭＩＳトランジスタと、Ｐ型電源供給領域１３ＰＳＰと、該Ｐ型電源供給領域１３ＰＳＰと接続するように、Ｐ型ソース領域１３ＰＳが引き出されてシリサイド化されたＰ型引き出し領域１３ＰＳＴとを有している。セル高さＡＨは、セル高さＢＨよりも大きい。 （もっと読む）