【課題】書き込み動作と消去動作との干渉を防止し、誤書き込みの発生を抑制した不揮発性半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】不揮発性半導体記憶装置は、互いに交差する複数の第１及び第２の配線の各交差部に設けられ同一極性の電圧印加によってデータの書き込みと消去を行う複数のメモリセルからなるメモリセルアレイと、選択された第１及び第２の配線を介してメモリセルに対してセットパルス／リセットパルスを供給する書き込み回路とを備え、リセットパルスの電圧の大きさ及び電圧印加時間の組み合わせの集合であるリセット領域は、電圧の大きさ及び電圧印加時間の関係が負の相関関係を持つ領域であり、書き込み回路は、消去動作時、リセットパルスを、その電圧の大きさ及び電圧印加時間をリセット領域の範囲内で増減させながら、選択メモリセルに対してデータが消去されるまで繰り返し供給する。 （もっと読む）

【課題】従来のメモリ素子とは異なり、軟化又は溶融といった状態変化を利用したメモリ素子を提供し、メモリ容量が増大されたメモリ装置を提供することを課題とする。
【解決手段】一対の電極間に、ガラス転移温度が異なる複数のメモリ材料層を積層させたメモリ素子である。ガラス転移温度は１０℃以上の差があると好ましい。このようなメモリ素子に電圧を印加することで、複数のメモリ材料層を一つずつ軟化又は溶融させる。このような構成により、メモリ容量が３値以上となり増大される。 （もっと読む）

【課題】不揮発性であって、作成が簡単であり、追記が可能な記憶回路を有する半導体装
置及びその作製方法の提供を課題とする。
【解決手段】一対の導電層間に有機化合物層が挟まれた単純な構造の記憶素子を有する半
導体装置及びその作製方法を提供する。また、不揮発性であり、作製が簡単であり、追記
が可能な記憶回路を有する半導体装置及びその作製方法を提供する。絶縁層上に設けられ
た複数の電界効果トランジスタと、複数の電界効果トランジスタ上に設けられた複数の記
憶素子とを有する。複数の電界効果トランジスタは、単結晶半導体層をチャネル部とした
電界効果トランジスタである。複数の記憶素子の各々は、第１の導電層と、有機化合物層
と、第２の導電層が順に積層された素子である。 （もっと読む）

【課題】電荷蓄積層での電子の蓄積または放出が十分でない場合に、不揮発性メモリ素子に保持された記憶状態の正誤を判定し、誤ったデータを読み出すことによる不良を低減する。
【解決手段】メモリセル領域１０４と、テスト領域１０５と、を含む半導体記憶回路１０３と、制御回路と、を有し、制御回路は、メモリセルへのデータの書き込み、第１の領域１０５Ａへの第１の記憶状態の書き込み、または第２の領域１０５Ｂへの第２の記憶状態の書き込みを行うための第１の動作を行い、第１の領域及び第２の領域からの第１の記憶状態または第２の記憶状態の読み出しを行うための第２の動作を行い、メモリセルからのデータの読み出しを行うための第３の動作を行い、第２の動作において、第１の領域からの読み出しが第１の記憶状態であるか、または第２の領域からの読み出しが第２の記憶状態であるかに応じて、第３の動作の正誤を判定する。 （もっと読む）

【課題】ＣＡＭにおけるメモリセル面積の縮小化を図る。
【解決手段】データ線（Ｄ０，Ｄ１）を第１記憶部（ＭＡ）及び第２記憶部（ＭＢ）とで共有し、また、第１比較データ線（ＣＤ０）に結合された第１トランジスタ（ＭＣ０）と、第１記憶部の記憶ノードに結合された第２トランジスタ（ＭＣＡ）とを直列接続して第１比較回路（１１）を形成し、第２比較データ線（ＣＤ１）に結合された第３トランジスタ（ＭＣ１）と、上記第２記憶部の記憶ノードに結合された第４トランジスタ（ＭＣＢ）とを直列接続して第２比較回路（１２）を形成することは、拡散層や配線層のレイアウトにおける対称性を向上させ、メモリセルをその中心を通る中心線に対して線対称となるレイアウトの容易化を達成する。それにより製造プロセス条件を最適化し易くなり、製造プロセスのばらつきが低減されてメモリセルの微細化が達成される。 （もっと読む）

【課題】動作の信頼性が高い不揮発性半導体記憶装置及びその駆動方法を提供する。
【解決手段】不揮発性半導体記憶装置１においては、シリコン基板上に、それぞれ複数の絶縁膜及び電極膜が交互に積層された積層体ＭＬが設けられており、積層体ＭＬ内には積層方向に延びる貫通ホール２１が形成されており、各電極膜は複数の制御ゲート電極ＣＧに分断されており、貫通ホール２１の内部にはシリコンピラー３１が埋設されている。また、装置１には、制御ゲート電極ＣＧに対して電位を供給する駆動回路４１が設けられている。そして、貫通ホール２１の径は積層方向における位置によって異なっており、駆動回路４１は、貫通している貫通ホール２１の径が小さい制御ゲート電極ＣＧほど、シリコンピラー３１との間の電位差が小さくなるような電位を印加する。 （もっと読む）

【課題】積層された複数の半導体チップ間で貫通電極切替情報を共有する。
【解決手段】複数の半導体チップ間でデータ転送を行うための複数の貫通電極を互いに共有した積層型半導体装置であって、複数の半導体チップに含まれる第１の半導体チップＩＦは、複数の貫通電極のうちデータ転送を行う貫通電極を指定する貫通電極切替情報ＳＷを保持し、複数の半導体チップに含まれる第２の半導体チップＣＣ０〜ＣＣ７に貫通電極切替情報ＳＷを転送する。本発明によれば、貫通電極切替情報ＳＷが第１の半導体チップＩＦから第２の半導体チップＣＣ０〜ＣＣ７に転送されることから、第２の半導体チップには貫通電極切替情報ＳＷを不揮発的に記憶する回路を設ける必要がない。これにより、第２の半導体チップのチップ面積を縮小することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】ゲート絶縁膜内の電子のトラップに対処可能な半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】半導体記憶装置は、基板２０１と、基板の表面に平行な方向に沿って、基板内に交互に形成された第１の素子分離領域と第１の活性領域とを含む領域であり、第１の活性領域上にセルトランジスタが形成されているセル部２２１と、基板内に形成された第２の活性領域を含む領域であるダミー部２２２と、第１の活性領域上に形成されたコンタクトプラグ２３１と、第２の活性領域上に形成されたダミーコンタクトプラグ２３２とを備え、当該半導体記憶装置内のメモリセルに対する書き込み時又は消去時に、ダミーコンタクトプラグに電圧を印加する。 （もっと読む）

【課題】複数のコアチップとインターフェースチップからなる半導体記憶装置において、Ｉ／Ｏ構成の切り替えを容易とする。
【解決手段】互いに異なるチップ識別情報ＬＩＤが割り当てられた複数のコアチップＣＣ０〜ＣＣ７と、コアチップＣＣ０〜ＣＣ７を制御するインターフェースチップＩＦとを備える。インターフェースチップＩＦは、外部との間で同時に入出力する単位外部データのビット数が可変であり、チップ識別情報ＬＩＤと比較するためのチップ選択情報ＳＥＬを、単位外部データのビット数に応じて可変とする。これにより、Ｉ／Ｏ構成の変更に伴うページ構成の切り替えを不要とすることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】複数のコアチップとインターフェースチップからなる半導体記憶装置においてリフレッシュ動作時におけるピーク電流を低減する。
【解決手段】予め互いに異なるチップ情報ＬＩＤが付与される複数のコアチップＣＣ０〜ＣＣ７を備え、内部リフレッシュコマンドＲＥＦａを互いにタイミングの異なる複数のリフレッシュコマンドＲＥＦｂに分割し、分割されたリフレッシュコマンドＲＥＦｂのカウント値Ｃ２とチップ情報ＬＩＤの少なくとも一部とが互いに一致したコアチップにおいてリフレッシュ動作が実行される。これにより、複数のコアチップＣＣ０〜ＣＣ７に内部リフレッシュコマンドＲＥＦｂが共通に供給される場合であっても、各コアチップにおけるリフレッシュ動作のタイミングをずらすことが可能となる。これにより、リフレッシュ動作時におけるピーク電流を低減することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】複数のコアチップから出力されるリードデータをインターフェースチップにおいて正しく取り込む。
【解決手段】コアチップＣＣ０〜ＣＣ７は、パラレルデータの出力に同期したタイミング信号ＤＲＡＯＩＦをインターフェースチップＩＦに出力するタイミング制御回路１００を含み、インターフェースチップＩＦは、タイミング信号ＤＲＡＯＩＦに同期してパラレルデータを取り込むデータ入力回路２５ｉを含む。これにより、パラレルデータの出力タイミングと、パラレルデータの取り込みタイミングがいずれもコアチップによって生成されるタイミング信号に同期することから、各コアチップとインターフェースチップとの間に動作速度差がある場合であっても、インターフェースチップ側においてパラレルデータを正しく取り込むことが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 高電圧の生成効率を向上し、消費電力を削減する。
【解決手段】 昇圧回路は、第１ノードおよび第２ノードの間に第３ノードを介して直列に接続された第１および第２キャパシタと、第４ノードおよび第５ノードの間に第６ノードを介して直列に接続された第３および第４キャパシタと、第４ノードが第１レベルに設定されているときに、第３ノードを電源線に接続する第１スイッチと、第１ノードが第１レベルに設定されているときに、第６ノードを電源線に接続する第２スイッチと、第６ノードの電荷を第２ノードに転送する第３スイッチと、第３ノードの電荷を第５ノードに転送する第４スイッチと、第２ノードを電圧線に接続する第５スイッチと、第５ノードを電圧線に接続する第６スイッチとを有する。 （もっと読む）

【課題】 製造工程数の増加を招くことなく形成可能であり、かつ、所望の抵抗値を得ることが可能な抵抗素子を備えた不揮発性半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】
半導体基板上に形成されたメモリセルトランジスタと、抵抗素子とを備え、
抵抗素子１０は、抵抗体３０と、抵抗体３０上の前記抵抗体両端部に形成された絶縁膜３１と、第１絶縁膜３１上に形成され、第１絶縁膜に形成された開口部を介して抵抗体３０と接続されたポリシリコン電極層３７と、ポリシリコン電極層３７に電気的に接続されたコンタクトプラグＣＰ３、ＣＰ４と、抵抗体３０上の第１絶縁膜３１の間の領域に形成された絶縁膜３２と、絶縁膜３２上に形成されたポリシリコン電極層３８と、ポリシリコン電極層３８に電気的に接続されたコンタクトプラグＣＰ５と、を有することを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。 （もっと読む）

【課題】製造時以外にデータの書き込みが可能であり、書き換えによる偽造を防止可能な半導体装置を提供することを目的とする。さらに、本発明は、単純な構造のメモリから構成される安価な半導体装置の提供を課題とする。
【解決手段】単結晶半導体基板上に形成された電界効果トランジスタと、電界効果トラン
ジスタの上に設けられた第１の導電層と、第１の導電層上に設けられた有機化合物層と、
有機化合物層上に設けられた第２の導電層とを有し、第１の導電層と有機化合物と前記第
２の導電層とで記憶素子を構成する。また、上記構成において、アンテナを具備すること
によって、非接触でデータの送受信が可能な半導体装置を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】複数のアンチヒューズ素子を同時にプログラムして処理速度を短縮する。
【解決手段】半導体記憶装置１００は、それぞれトランジスタにより構成される第１のアンチヒューズ素子（Ａ_１）および第２のアンチヒューズ素子（Ａ_３）を含む。第１のアンチヒューズ素子および第２のアンチヒューズ素子は、同時にプログラム可能に構成され、第１のアンチヒューズ素子および第２のアンチヒューズ素子は、それぞれ、基板１０２上のＰウェル１３０およびＰウェル１３４に形成され、Ｐウェル１３０とＰウェル１３４との間には、これらを分離する逆導電型のＮウェル１２２やＮウェル１２４が形成されている。 （もっと読む）

【課題】高電圧を支障なく転送可能とした不揮発性半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】複数の転送トランジスタＱＮｉは、半導体基板１１上にゲート絶縁膜２０２を介して形成されたゲート電極２０３と、ゲート電極２０３の下方に位置する基板１１の表面に設けられたベース拡散領域２０１ａと、ベース拡散領域２０１ａに隣接して基板１１の表面に形成されたドレイン拡散領域２０１ｂと、ドレイン拡散領域２０１ｂと共にベース拡散領域２０１ａを挟むように基板１１の表面に形成されたソース拡散領域２０１ｃとを備える。ベース拡散領域２０１ａの上部であり且つソース拡散領域２０１ｃの上部である領域ＡＲ６には、転送トランジスタＱＮｉが書込みに用いられる電圧を転送する際にソース拡散領域２０１ｃが空乏化することを防止するための所定電圧を与えられるＭ０配線３０１ｆが形成されている。 （もっと読む）

【課題】メモリセルの閾値電圧の分布幅の拡大を抑制することが可能なＮＡＮＤ型フラッシュメモリを提供する。
【解決手段】ＮＡＮＤ型フラッシュメモリは、半導体基板表面のウェル上に第１の絶縁膜を介して形成され周囲から絶縁された電荷保持層と、前記電荷保持層との間に第２の絶縁膜を介して設けられた制御ゲートと、を有し、且つ前記電荷保持層に保持された電荷量に応じた閾値電圧に対応して情報が記憶されるメモリセルトランジスタと、前記制御ゲートに印加する電圧、および前記ウェルに印加する電圧を制御することにより、前記メモリセルトランジスタの動作を制御する制御回路と、を備える。 （もっと読む）

【課題】安価なメモリデバイスを提供する。
【解決手段】１Ｆ^２当り少なくとも１ビットを記憶するよう構成されたメモリセルのアレイは、アレイの最小ピッチの半分に等しい距離で離間した電子メモリ機能を与える実質的に縦型の構造を含む。電子メモリ機能を与える構造は、ゲート当り１ビットを超えて記憶するよう構成されている。また、アレイは、実質的に縦型の構造を含むメモリセルに対する電気接点も含む。セルは、第１のソース／ドレイン領域に隣接したゲート絶縁物にトラップされた多数の電荷レベルの１つを有するようプログラムすることができる。これにより、チャネル領域は第１のしきい値電圧領域と第２のしきい値電圧領域とを有し、プログラムされたセルが低減されたドレインソース電流で動作する。 （もっと読む）

【課題】選択メモリセルから確実にデータを読み出すことのできる不揮発性半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】不揮発性半導体記憶装置は、データ読み出し動作を制御する制御回路を備える。制御回路は、データ読み出しの実行の際、選択メモリセルＭｎに接続された選択ワード線ＷＬｎに、複数の閾値電圧分布の間の電圧である電圧Ｖｃｇｒｖを印加し、選択ワード線ＷＬｎに隣接する非選択ワード線ＷＬｎ＋１、ＷＬｎ−１に、電圧Ｖｃｇｒｖ以下の電圧Ｖｃｇｒｖを印加し、非選択ワード線ＷＬｎ＋１、ＷＬｎ−１に隣接する非選択ワード線ＷＬｎ＋２、ＷＬｎ−２に、不揮発性メモリセルを導通させ得る読み出しパス電圧Ｖｒｅａｄ以上の電圧ＶｃｇｒｖＨを印加し、非選択ワード線ＷＬｎ＋１、ＷＬｎ−１及び非選択ワード線ＷＬｎ＋２、ＷＬｎ−２を除く非選択ワード線に、読み出しパス電圧Ｖｒｅａｄを印加する。 （もっと読む）

【課題】安定した動作を実行可能な不揮発性半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】不揮発性半導体記憶装置は、ワード線ＷＬと、ビット線ＢＬと、ワード線ＷＬとビット線ＢＬの交差部で両配線間に接続されたメモリセルＭＣとを備える。メモリセルＭＣは、絶縁層２６にて構成されて、金属酸化膜２６を含みエネルギー印加によって抵抗値を可逆的に変化させる可変抵抗素子ＶＲと、金属酸化膜２４ｂを含み、可変抵抗素子ＶＲと直列接続されたＭＩＩＭダイオードＤＩとを備える。金属酸化膜２６の誘電率は、金属酸化膜２４ｂの誘電率よりも低い。金属酸化膜２６の物理膜厚は、金属酸化膜２４ｂの物理膜厚よりも厚い。 （もっと読む）