【課題】発振されたレーザー光線の平行度を容易に調整することができる平行度調整機能を備えたレーザー加工装置を提供する。
【解決手段】パルスレーザー光線発振手段６２と集光器６３の間に配設されたビーム径調整手段６４と、通過したレーザー光線を集光器に向けて光路を変換する光路変換ミラー６５と、レーザー光線を集光器６３に導く作用位置と、検出光路に導く非作用位置に位置付けるミラー位置付け手段６６と、検出光路に導かれたレーザー光線のビーム径を検出する撮像手段６９と、撮像手段６９の光路長を変更する光路長変更手段７０と、撮像手段６９とビーム径調整手段６４および光路長変更手段７０を制御する制御手段とを具備し、撮像手段６９を光路長が異なる２個所に位置付け、２個所においてレーザー光線のビーム径を検出し、検出された２個のビーム径に基づいて２個のビーム径が所定の関係になるようにビーム径調整手段６４を制御する。 （もっと読む）

【課題】周期構造のパターニングの自由度を損なうことなく、作成作業時間の短縮化を図ることができる、生産性に優れる周期構造の作成方法および周期構造の作成装置を提供する。
【解決手段】主走査を行う主走査用偏向器５と副走査を行う副走査用偏向器６とを同時に連続的に動作させながら、パルスレーザ光源１の繰返し周波数と主走査用偏向器５の主走査周波数の関係が、整数比の関係か、整数比の関係から一定数を加減した関係になるように保って、レーザ照射スポットをレーザ照射済みスポットの一部を含むようにオーバーラップ位置を制御して二次元的に走査する。 （もっと読む）

【課題】光強度を向上したレーザ装置及びその制御方法を提供する。
【解決手段】第１のレーザと、第２のレーザと、外部共振器と、制御部と、を備えたレーザ装置が提供される。前記第１のレーザは、第１のレーザ光を出射する。前記第２のレーザは、第２のレーザ光を出射する。前記外部共振器は、前記第１のレーザ光と前記第２のレーザ光とが入射される。前記制御部は、前記外部共振器の共振波長を制御して前記第１のレーザ光に共振させ、前記第２のレーザを制御して前記第２のレーザ光を前記外部共振器に共振させる。 （もっと読む）

【課題】繰り返し周波数が可変の複数の超短光パルスを備えるパルスレーザビームを生じさせるレーザ光源を提供する。
【解決手段】このレーザ光源は、光パルスを出力するファイバ発振器と、光パルスを受け取るために配置されるパルスストレッチャとを備える。光パルスは光パルス幅を有する。パルスストレッチャは、光パルス幅を拡大し、引き伸ばされた光パルスを生じさせる分散を有する。レーザ光源は、引き伸ばされた光パルスを受け取るように配置されるファイバ増幅器を更に含む。ファイバ光増幅器は、引き伸ばされた光パルスを増幅するための利得を有する。レーザ光源は、光パルス幅を減少させる分散を有する自動的に調整可能なグレーティングコンプレッサを含む。グレーティングコンプレッサは、異なった繰り返し周波数についてこの分散を自動的に調整する。 （もっと読む）

【課題】大型の被加工物表面の安定した微細加工とその高速化が容易にするパルスレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】クロック信号を発生する基準クロック発振回路と、クロック信号に同期した一定の周波数のパルスレーザビームを出射するレーザ発振器と、クロック信号に同期してパルスレーザビームを１次元方向のみに走査するレーザ・スキャナーと、被加工物を載置可能で１次元方向に直交する方向に移動するし、回転軸に保持されるロールと、レーザ発振器とレーザ・スキャナーとの間の光路に設けられ、クロック信号に同期してパルスレーザビームの通過と遮断を切り替えるパルスピッカーと、を備えることを特徴とするパルスレーザ加工装置。 （もっと読む）

【課題】ペルチェ素子に適正な面圧を与えることができ且つ光学結晶体の確実なる位置固定を行う。
【解決手段】光学結晶体2を載置した固定板3は、台座5に対してスペーサ6を貫通する第３のネジ12によって間隔を隔てて位置固定される。台座5には、台座5を上下に貫通するネジ山付きの開口102が形成され、この開口102に押し上げ部材104が螺着されている。押し上げ部材104は、これと直交する横方向から接近する固定ネジによって、その高さ位置がロックされる。押し上げ部材104と固定板3との間に熱電素子であるペルチェ素子7が配設される。押し上げ部材104に所定のトルクの回転力を加えることでペルチェ素子7が固定板3に圧接される。 （もっと読む）

【課題】モジュールの設置及びメンテナンスをしやすくする。
【解決手段】レーザ光を発振する発振器と、発振器を支持する支持部とを含む第１のモジュールと、レーザ光を伝送するビーム伝送器と、ビーム伝送器を支持する支持部とを含む第２のモジュールと、レーザ光を増幅する増幅器と、増幅器を支持する支持部とを含む第３のモジュールと、のうちの少なくとも２つのモジュールと、少なくとも２つのモジュールが載置されるフレームであって、少なくとも２つのモジュールの各々につき、支持部が載置されるマウントを含むフレームと、を含んでいてもよい。 （もっと読む）

【課題】汎用的な曲率誤差をもった凸レンズおよび凹ミラーを用いて、０．５ｍｒａｄ以下の平行なレーザビームを実現する。
【解決手段】レーザ出力を取り出す出力鏡と、入射したレーザビームが入射角４５度で反射された後、所定の方向へビームを伝送するように配置された放物面鏡とを備え、位置可変機構によって前記放物面鏡への入射ビーム径に対して出射ビーム径を所定の範囲で可変することが可能であり、前記放物面鏡からの出射ビームによって成される外部光軸方向は前記位置可変機構による位置変化によっても略一定であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】出射するレーザ光の副波長帯成分を低減することができるレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】レーザ加工装置１０は、信号用レーザ光を出射する種光源２１と信号用レーザ光を増幅する予備増幅部２２とを備えた本体ユニット１１と、本体ユニット１１に接続され、予備増幅部２２にて増幅された予備増幅光を伝送するファイバケーブル１２（伝送用ファイバ３７）と、ファイバケーブル１２に接続され、該ファイバケーブル１２にて伝送されたレーザ光Ｌを外部に出射するレーザ出射部１３ａを有するヘッドユニット１３とを備える。そして、ヘッドユニット１３には、レーザ光Ｌの光軸上のファイバケーブル１２の出射側端部とレーザ出射部１３ａとの間にバンドパスフィルタ４８が設けられる。 （もっと読む）

【課題】ファイバと保護部材との接着部分におけるファイバの発熱による影響を小さく抑えることが可能なファイバ保護構造を提供する。
【解決手段】第１接続部２４において、ドープファイバＤとスリーブ４１との接着部分におけるファイバ発熱量は、第１伝送用ファイバＦ１とスリーブ４１との接着部分におけるファイバ発熱量よりも大きく、ドープファイバＤ側の接着剤Ｇ２の長手方向幅Ｔ２は、第１伝送用ファイバＦ１側の接着剤Ｇ１の長手方向幅Ｔ１よりも小さい。また、第２接続部２５においては、第２伝送用ファイバＦ２とスリーブ４２との接着部分におけるファイバ発熱量は、ドープファイバＤとスリーブ４１との接着部分におけるファイバ発熱量よりも大きく、第２伝送用ファイバＦ２側の接着剤Ｇ４の長手方向幅Ｔ４は、ドープファイバＤ側の接着剤Ｇ３の長手方向幅Ｔ３よりも小さい。 （もっと読む）

【課題】装置本体と加工ヘッドとを光ファイバで接続した場合の不便や問題点を全て解消して、装置の信頼性、コスト性およびメンテナンス性を向上させる。
【解決手段】このレーザ加工装置は、装置本体１０および加工ヘッド１２と、両ユニット１０，１２を電気的に接続する外部電気ケーブル１４とを有する。装置本体１０は、電源回路１６、主制御部１８および操作パネル２０を備える。加工ヘッド１２は、ＭＯＰＡ方式のファイバレーザ発振器３０、冷却部３２、伝送光学系３４、シャッタ３６、ガルバノスキャナ３８、ガイドＬＤ４０およびｆθレンズ４２を備える。加工ヘッド１２内で電気的に動作する部品またはアッセンブリは外部電気ケーブル１４を介して装置本体１０側の主制御部１８および／または電源回路１６に電気的に接続される。 （もっと読む）

【課題】メンテナンス性を向上させることが可能なレーザ出射装置を提供する。
【解決手段】信号用レーザ光源２１を含む第１のユニットＵ１（信号用光源ユニット）と、レーザダイオード２７及び希土類ドープ光ファイバＦ３をそれぞれ含む第２及び第３のユニットＵ２，Ｕ３（増幅ユニット）と、レーザダイオード３７、希土類ドープ光ファイバＦ６及びレーザダイオード４４をそれぞれ含む第５、第６及び第７のユニットＵ５〜Ｕ７（増幅ユニット）とを、ユニット毎で個別に交換可能に備える。そして、ＣＰＵ１７は、各ユニットＵ１〜Ｕ８の異常状態を検出し、検出されたユニットＵ１〜Ｕ８の異常検出情報（異常状態に関するデータ）を表示部１６ａに出力する。 （もっと読む）

【課題】予備励起により光パルス列を安定的に出力できるとともに、動作条件を変更する場合でも、ＯＦＦ区間を短くすることが可能なレーザ装置を提供すること。
【解決手段】励起用半導体レーザ４０から出射されるレーザ光によって増幅器５０を励起させる前に、低励起用の励起用半導体レーザ２０及び高励起用の励起用半導体レーザ３０からそれぞれ出射されるレーザ光によって増幅器５０を予備励起させる。その予備励起では、低励起用の励起用半導体レーザ２０のレーザ出力を一定とする一方、高励起用の励起用半導体レーザ３０のレーザ出力を調整することで、増幅光の動作条件に合わせて予備励起に必要なエネルギーを調整する。 （もっと読む）

【課題】光ファイバを容易かつ正確に巻き取ることが可能であり、さらに、巻き取られた状態で光ファイバを保持可能なファイバ保持具を提供する。
【解決手段】ファイバボビン４１に形成された溝（導入部４９ａ）に光ファイバ１１を収容し、その後、ボビンカバー４２に形成された切欠き４８に光ファイバ１１を当てたままボビンカバー４２を螺旋状の溝４９の回転方向に回転させる。これによって、溝４９に光ファイバ１１を収容することができる。したがって容易かつ正確に光ファイバを巻き取ることができるとともに、光ファイバをファイバボビン４１に保持することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】光増幅ファイバを用いた光増幅装置の出力光パルスごとのピーク値を検出するための技術を提供する。
【解決手段】波高値検出器１６は、光増幅ファイバから出力された出力光パルス群のパワーを検出する。受光素子１５は、複数のパルスを含む光パルス群を受光して、その光パルス群を電流信号に変換する。電流／電圧変換回路３１は、受光素子１５から出力される電流を電圧に変換する。積分回路３２は、電流／電圧変換回路３１の出力電圧を積分する。ＰＧＡ（Programmable Gain Amplifier）３３は、積分回路３２から出力された信号を増幅してＡＤ変換回路３４に与える。ＰＧＡ３３のゲインは信号処理回路４０からのゲイン設定信号によって設定される。信号処理回路４０は、パルス群の繰り返し周波数が高いほどゲインが高くなるようにＰＧＡ３３のゲインを調整する。 （もっと読む）

【課題】ファイバを備えたレーザ照射装置において、出力の低下を抑制しつつ高品質のビームを得ることを可能にする。
【解決手段】光ファイバ（１１Ｂ，１２）は、レーザ光源からのレーザ光を伝送する。光ファイバ（１１Ｂ，１２）は、動きの自由な状態にある自由部位（１１Ｂ）を有している。さらに光ファイバ１２の出射端の近傍において、光ファイバ１２はリング状に曲げられている（リング部１２Ａ）。光ファイバの出射端近傍において光ファイバが所定の曲率で曲げられていることによって、高次モードの光を除去しなくともレーザ光のビーム形状を良好にすることができる。 （もっと読む）

【課題】レーザ発振器とビームエキスパンダとの間の面倒な位置調整を伴わずに、レーザ発振器の部品交換を行うことができるレーザ加工装置を提供することができるレーザ加工装置及びレーザ加工システムを提供する。
【解決手段】レーザ光源ユニット２４は、レーザ発振器２６の光出射口側の端面に、ビームエキスパンダ２７が位置調整された状態で一体に組み付けられることにより構成されている。ガルバノスキャナ３６を収容するケーシング３３には、ビームエキスパンダ２７と相対する箇所に開口３３ａが設けられている。レーザ光源ユニット２４とスキャナユニット２５は、ビームエキスパンダ２７が開口３３ａを介してケーシング３３内に挿入された状態で、パッキン５０を介して接合される。つまり、レーザ光源ユニット２４はスキャナユニット２５に対してビームエキスパンダ２７をケーシングに挿入可能な状態で着脱可能に構成されている。 （もっと読む）

【課題】簡便にパルス光を整形することができるパルス整形装置、パルス整形方法、及びそれを用いた電子銃を提供すること。
【解決手段】本発明の一態様にかかるパルス整形装置は、パルス光の直交する偏光成分間に時間遅延を与える複屈折素子１２３と、複屈折素子１２３からのパルス光のパルス形状を調整する可変ミラー４０と、複屈折素子１２３から出射したパルス光の直交する偏光成分の一方を他方の偏光成分から取り出すＰＢＳ１２５と、可変ミラー４０によりパルス形状を調整するために、ＰＢＳ１２５によって取り出された一方の偏光成分に応じた測定を行うビームモニタ５５と、を備えるものである。 （もっと読む）

【課題】安定したレーザ光を得る。
【解決手段】マスタオシレータは、励起光を出力するポンピングレーザと、前記励起光によってレーザ発振するシードレーザと、前記シードレーザから出力されたパルスレーザ光を前記励起光によって増幅する増幅器と、前記シードレーザと前記増幅器との間の光路上に設置された少なくとも１つの光シャッタと、前記ポンピングレーザを所定の繰返し周波数で継続的に発振させるとともに、前記光シャッタを開閉制御するコントローラと、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】高出力ビームが得られ、エネルギー効率に優れたレーザ装置およびこれを用いたレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】レーザ装置は、全反射ミラー１１，部分反射ミラー１２およびブリュースターウィンドウ１３を含むレーザ発振器と、レーザ発振器から出力されたレーザ光を時間的に分配するための音響光学素子２１と、ウィンドウ１４，ミラー１５，１６および偏光回転ミラー１７を含むレーザ増幅器などで構成される。レーザ光は、レーザ増幅器内に配置された放電励起ガス２を複数回通過する。 （もっと読む）