レーザシステム
【課題】モジュールの設置及びメンテナンスをしやすくする。
【解決手段】レーザ光を発振する発振器と、発振器を支持する支持部とを含む第１のモジュールと、レーザ光を伝送するビーム伝送器と、ビーム伝送器を支持する支持部とを含む第２のモジュールと、レーザ光を増幅する増幅器と、増幅器を支持する支持部とを含む第３のモジュールと、のうちの少なくとも２つのモジュールと、少なくとも２つのモジュールが載置されるフレームであって、少なくとも２つのモジュールの各々につき、支持部が載置されるマウントを含むフレームと、を含んでいてもよい。
【解決手段】レーザ光を発振する発振器と、発振器を支持する支持部とを含む第１のモジュールと、レーザ光を伝送するビーム伝送器と、ビーム伝送器を支持する支持部とを含む第２のモジュールと、レーザ光を増幅する増幅器と、増幅器を支持する支持部とを含む第３のモジュールと、のうちの少なくとも２つのモジュールと、少なくとも２つのモジュールが載置されるフレームであって、少なくとも２つのモジュールの各々につき、支持部が載置されるマウントを含むフレームと、を含んでいてもよい。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、レーザシステムに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体プロセスの微細化に伴って、半導体プロセスの光リソグラフィにおける転写パターンの微細化が急速に進展している。次世代においては、７０ｎｍ〜４５ｎｍの微細加工、更には３２ｎｍ以下の微細加工が要求されるようになる。このため、例えば３２ｎｍ以下の微細加工の要求に応えるべく、波長１３ｎｍ程度の極端紫外（ＥＵＶ）光を生成するための装置と縮小投影反射光学系とを組み合わせた露光装置の開発が期待されている。
【０００３】
ＥＵＶ光を生成するための装置としては、一般に、ターゲット物質にレーザ光を照射することによって生成されるプラズマが用いられるＬＰＰ（Laser Produced Plasma）方式の装置と、放電によって生成されるプラズマが用いられるＤＰＰ（Discharge Produced Plasma）方式の装置と、軌道放射光が用いられるＳＲ（Synchrotron Radiation）方式の装置との３種類の装置が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】米国特許出願公開第２００９−０１０３５７５号明細書
【概要】
【０００５】
本開示の１つの観点に係るレーザシステムは、レーザ光を発振する発振器と、発振器を支持する支持部とを含む第１のモジュールと、レーザ光を伝送するビーム伝送器と、ビーム伝送器を支持する支持部とを含む第２のモジュールと、レーザ光を増幅する増幅器と、増幅器を支持する支持部とを含む第３のモジュールと、のうちの少なくとも２つのモジュールと、少なくとも２つのモジュールが載置されるフレームであって、少なくとも２つのモジュールの各々につき、支持部が載置されるマウントを含むフレームと、を含んでいてもよい。
【０００６】
本開示の他の１つの観点に係るレーザシステムは、レーザ光を増幅する増幅器と、増幅器を支持する第１〜第３の支持部とを含むモジュールと、モジュールが載置されるフレームであって、第１〜第３の支持部がそれぞれ載置される第１〜第３のマウントを含むフレームと、を含み、モジュールは、入射光が第１の外部ユニットから入射するための入射部と、出射光が第２の外部ユニットへ出射するための出射部と、を更に含み、第１の支持部は、モジュールの重心から見て入射部側の第１の位置に有し、第２の支持部は、第１の位置から見て入射光の入射方向側の第２の位置に有し、第３の支持部は、第３の位置に有してもよい。
【０００７】
本開示の他の１つの観点に係るレーザシステムは、レーザ光を増幅する増幅器と、増幅器を支持する第１〜第３の支持部とを含むモジュールと、モジュールが載置されるフレームであって、第１〜第３の支持部がそれぞれ載置される第１〜第３のマウントを含むフレームと、を含み、モジュールは、出射光が外部ユニットへ出射するための出射部を更に含み、第１の支持部は、モジュールの重心から見て出射部側の第１の位置に有し、第２の支持部は、第１の位置から見て出射光の出射方向とは反対側の第２の位置に有し、第３の支持部は、第３の位置に有してもよい。
【０００８】
本開示の他の１つの観点に係るレーザシステムは、レーザ光を増幅する増幅器と、増幅器を支持する第１〜第３の支持部とを含むモジュールと、モジュールが載置されるフレームであって、第１〜第３の支持部がそれぞれ載置される第１〜第３のマウントを含むフレームと、を含み、モジュールは、入射光が第１の外部ユニットから入射するための入射部と、出射光が第２の外部ユニットへ出射するための出射部と、を更に含み、第１の支持部は、モジュールの重心から見て入射部側の第１の位置に有し、第２の支持部は、モジュールの重心から見て出射部側の第２の位置に有し、第３の支持部は、第３の位置に有してもよい。
【０００９】
本開示の他の１つの観点に係るレーザシステムは、レーザ光を増幅する増幅器と、増幅器を支持する第１〜第３の支持部とを含むモジュールと、モジュールが載置されるフレームであって、第１〜第３の支持部がそれぞれ載置される第１〜第３のマウントと、第１〜第３のマウントがそれぞれ載置される第１〜第３の設置部と、を含むフレームと、を含み、第１のマウントは、第１の支持部をフレームの所定位置に位置決めし、第２のマウントは、第２の設置部に形成された段差に沿って移動できるように第２の設置部に載置され、第２の設置部が重力方向に垂直な面に対して傾斜していることにより、第２のマウントは段差に押し付けられ、第２のマウントは、第２の支持部を第２のマウントの所定位置に位置決めすることにより、第２の支持部がフレームに対して重力方向と交差する一方向に沿った方向に移動できるように第２の支持部を支持し、第３のマウントは、第３の支持部がフレームに対して重力方向と交差する面内において移動できるように第３の支持部を支持してもよい。
【００１０】
本開示の他の１つの観点に係るレーザシステムは、レーザ光を増幅する増幅器と、増幅器を支持する第１〜第３の支持部とを含むモジュールと、モジュールが載置されるフレームであって、第１〜第３の支持部がそれぞれ載置される第１〜第３のマウントと、第１〜第３のマウントがそれぞれ載置される第１〜第３の設置部と、を含むフレームと、を含み、第１のマウントは、第１の支持部をフレームの所定位置に位置決めし、第２のマウントは、第２の設置部に形成された段差に沿って移動できるように第２の設置部に載置され、第２の設置部又は第２のマウントに設けられた弾性部材により、第２のマウントは段差に押し付けられ、第２のマウントは、第２の支持部を第２のマウントの所定位置に位置決めすることにより、第２の支持部がフレームに対して重力方向と交差する一方向に沿った方向に移動できるように第２の支持部を支持し、第３のマウントは、第３の支持部がフレームに対して重力方向と交差する面内において移動できるように第３の支持部を支持してもよい。
【００１１】
本開示の他の１つの観点に係るレーザシステムは、レーザ光を伝送するビーム伝送器と、ビーム伝送器を支持する第１〜第３の支持部とを含むモジュールと、モジュールが載置されるフレームであって、第１〜第３の支持部がそれぞれ載置される第１〜第３のマウントを含むフレームと、を含み、第１及び第２のマウントは、フレームの第１の面に設けられ、第３のマウントは、フレームの第２の面であって第１の面と交差する面に設けられ、第１のマウントは、第１の支持部を所定位置に位置決めし、第２のマウントは、第２の支持部が第１のマウントに近づく方向に沿った方向に移動できるように第２の支持部を支持し、第３のマウントは、第３の支持部が第２の面に沿った方向に移動できるように第３の支持部を支持してもよい。
【００１２】
本開示の１つの観点に係るフレームは、レーザ光を発振する発振器と、発振器を支持する支持部とを含む第１のモジュールと、レーザ光を伝送するビーム伝送器と、ビーム伝送器を支持する支持部とを含む第２のモジュールと、レーザ光を増幅する増幅器と、増幅器を支持する支持部とを含む第３のモジュールと、のうちの少なくとも２つのモジュールが載置されるフレームであって、少なくとも２つのモジュールの各々につき、支持部が載置されるマウントを含んでもよい。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
本開示のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の図面を参照して以下に説明する。
【図１】図１は、ＬＰＰ方式のＥＵＶ光生成装置の構成を概略的に示す。
【図２】図２は、本開示の第１の実施形態に係るＥＵＶ光生成システムの構成を示すブロック図である。
【図３Ａ】図３Ａは、第１の実施形態に係るレーザシステムを構成するモジュールの具体的な配置を示す斜視図である。
【図３Ｂ】図３Ｂは、図３Ａにおける下層部のモジュールの配置を示す斜視図である。
【図３Ｃ】図３Ｃは、図３Ａにおけるフレームを示す斜視図である。
【図４】図４は、レーザシステムを構成するモジュールの具体的な配置を示す平面図である。
【図５】図５は、第１のメインアンプの斜視図である。
【図６】図６は、第１のメインアンプを図５の矢印ＶＩで示す方向から見た平面図である。
【図７Ａ】図７Ａは、第１のメインアンプを図５の矢印ＶＩＩＡで示す方向から見た正面図である。
【図７Ｂ】図７Ｂは、車輪とメインアンプとの間の距離を長くした状態を示す正面図である。
【図８】図８は、第１のメインアンプを図５の矢印ＶＩＩＩで示す方向から見た側面図である。
【図９Ａ】図９Ａは、第２及び第３のプリアンプの斜視図である。
【図９Ｂ】図９Ｂは、第２及び第３のプリアンプを図９Ａの矢印ＩＸＢで示す方向から見た平面図である。
【図１０Ａ】図１０Ａは、第３のビーム伝送器の斜視図である。
【図１０Ｂ】図１０Ｂは、第３のビーム伝送器を図１０Ａの矢印ＸＢで示す方向から見た平面図である。
【図１１Ａ】図１１Ａは、マスターオシレータの正面図である。
【図１１Ｂ】図１１Ｂは、マスターオシレータを図１１Ａの矢印ＸＩＢで示す方向から見た平面図である。
【図１２】図１２は、本開示の第２の実施形態における第１のメインアンプの正面図である。
【図１３】図１３は、本開示の第３の実施形態における第１のメインアンプの正面図である。
【図１４】図１４は、本開示の第４の実施形態における第１のメインアンプの斜視図である。
【図１５】図１５は、本開示の第５の実施形態における第１のメインアンプの正面図である。
【図１６】図１６は、本開示の第６の実施形態における第１のメインアンプの側面図である。
【図１７】図１７は、本開示の第７の実施形態における第１のメインアンプの側面図である。
【図１８Ａ】図１８Ａは、本開示の第８の実施形態においてモジュールを支持するための構造を示す分解斜視図である。
【図１８Ｂ】図１８Ｂは、第８の実施形態においてモジュールを支持するための構造を示す斜視図である。
【図１９】図１９は、本開示の第９の実施形態においてモジュールを支持するための第２のマウントを示す断面図である。
【図２０Ａ】図２０Ａは、本開示の第１０の実施形態においてモジュールを支持するための構造を示す分解斜視図である。
【図２０Ｂ】図２０Ｂは、本開示の第１０の実施形態においてモジュールを支持するための構造を示す斜視図である。
【図２０Ｃ】図２０Ｃは、図２０Ｂの矢印ＸＸＣで示す方向から見た一部断面図である。
【図２１】図２１は、本開示の第１１の実施形態に係るＥＵＶ光生成システムの構成を示すブロック図である。
【図２２Ａ】図２２Ａは、第１１の実施形態に係るレーザシステムを構成するモジュールの具体的な配置を示す斜視図である。
【図２２Ｂ】図２２Ｂは、図２２Ａにおける下層部のモジュールの配置を示す斜視図である。
【図２２Ｃ】図２２Ｃは、図２２Ａにおけるフレームを示す斜視図である。
【実施形態】
【００１４】
内容
１．概要
２．用語の説明
３．ＥＵＶ光生成システムの全体説明
３．１ 構成
３．２ 動作
４．第１の実施形態
４．１ レーザシステムの構成
４．２ モジュールの配置
４．３ メインアンプの支持機構
４．４ プリアンプの支持機構
４．５ ビーム伝送器の支持機構
４．６ マスターオシレータの支持機構
５．第２の実施形態
６．第３の実施形態
７．第４の実施形態
８．第５の実施形態
９．第６の実施形態
１０．第７の実施形態
１１．第８の実施形態
１２．第９の実施形態
１３．第１０の実施形態
１４．第１１の実施形態
【００１５】
以下、本開示の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。以下に説明される実施形態は、本開示のいくつかの例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、各実施形態で説明される構成及び動作の全てが本開示の構成及び動作として必須であるとは限らない。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
【００１６】
１．概要
本開示の各実施形態においては、レーザ光を増幅するメインアンプ等のモジュールが、脚部を含み、脚部がフレームの所定位置に載置されることによってモジュールが位置決めされ得る。更に、このモジュールには車輪が取り付けられ、車輪は、モジュールとの間の距離を伸縮し得る。車輪とモジュールとの間の距離を離すことにより、脚部をフレームから離れさせれば、モジュールをフレームに対して移動させ得る。反対に、車輪とモジュールとの間の距離を近づけることにより、脚部をフレームの所定位置に載置すれば、モジュールをフレームの所定位置に位置決めし得る。
【００１７】
２．用語の説明
本開示において使用する用語を説明する。「チャンバ」は、ＥＵＶ光の生成が行われる空間を大気から隔絶するためのチャンバである。「ドロップレット生成器」は、ＥＵＶ光を生成するために用いられるスズ等のターゲット物質を液滴の状態でチャンバ内に供給する装置である。「レーザシステム」は、ターゲット物質を励起してプラズマ化するためのレーザ光を出力するシステムである。「プラズマ生成領域」とは、プラズマが生成される空間として予め設定された３次元空間である。レーザ光のエネルギーによってターゲット物質が励起されて放射される光には特定波長の光（ＥＵＶ光）が含まれている。「ＥＵＶ集光ミラー」は、プラズマ化されたターゲット物質から放射されるＥＵＶ光を高い反射率で反射して、チャンバ外に出力するミラーである。レーザ光の光軸または光路における「上流」とは、レーザ光の起源となるマスターオシレータに近い側を指す。一方、光軸または光路における「下流」とは、プラズマ生成領域に近い側を指す。
【００１８】
３．ＥＵＶ光生成システムの全体説明
３．１ 構成
図１に、例示的なＬＰＰ方式のＥＵＶ光生成装置１の構成を概略的に示す。ＥＵＶ光生成装置１は、少なくとも１つのレーザシステム３と共に用いられてもよい（ＥＵＶ光生成装置１及びレーザシステム３を含むシステムを、以下、ＥＵＶ光生成システム１１と称する）。図１に示し、かつ以下に詳細に説明されるように、ＥＵＶ光生成装置１は、チャンバ２、ターゲット供給装置（例えばドロップレット生成器２６）等を含んでもよい。チャンバ２は、密閉可能であってもよい。ターゲット供給装置は、例えばチャンバ２に取り付けられていてもよい。ターゲット供給装置から供給されるターゲットの材料は、スズ、テルビウム、ガドリニウム、リチウム、キセノンそれらのうちのいずれか２つ以上の組合せ等を含んでもよいが、これらに限定されない。
【００１９】
チャンバ２の壁には、少なくとも１つの貫通孔が設けられていてもよく、その貫通孔をレーザシステム３から出力されたパルスレーザ光３２が通過してもよい。或いは、チャンバ２には、レーザシステム３から出力されたパルスレーザ光３２が透過する少なくとも１つのウィンドウ２１が設けられてもよい。チャンバ２の内部には例えば、回転楕円面形状の反射面を有するＥＵＶ集光ミラー２３が配置されてもよい。ＥＵＶ集光ミラー２３は、第１及び第２の焦点を有し得る。ＥＵＶ集光ミラー２３の表面には例えば、モリブデンとシリコンとが交互に積層された多層反射膜が形成されていてもよい。ＥＵＶ集光ミラー２３は、例えば、第１の焦点がプラズマ生成領域２５に位置し、第２の焦点が露光装置の仕様によって規定される所望の集光位置（中間焦点（ＩＦ）２９２）に位置するように配置されるのが好ましい。ＥＵＶ集光ミラー２３の中央部には、貫通孔２４が設けられてもよい。
【００２０】
ＥＵＶ光生成装置１は、ＥＵＶ光生成制御システム５、ターゲットセンサ４等をさらに含んでもよい。ターゲットセンサ４は、撮像機能を有してもよく、ターゲットの存在、軌道、位置等を検出してもよい。
【００２１】
更に、ＥＵＶ光生成装置１は、チャンバ２内部と露光装置６内部とを連通させる接続部２９を含んでもよい。接続部２９内部には、アパーチャが形成された壁２９１が設けられてもよい。壁２９１は、そのアパーチャがＥＵＶ集光ミラー２３の第２の焦点位置に位置するように配置されてもよい。
【００２２】
更に、ＥＵＶ光生成装置１は、レーザ光進行方向制御部３４、レーザ光集光光学系２２、ドロップレットターゲット２７を回収するためのターゲット回収部２８等を含んでもよい。レーザ光進行方向制御部３４は、レーザ光の進行方向を規定するための光学素子と、この光学素子の位置や姿勢等を制御するためのアクチュエータとを備えてもよい。
【００２３】
３．２ 動作
図１を参照に、レーザシステム３から出力されたパルスレーザ光３１は、レーザ光進行方向制御部３４を経て、パルスレーザ光３２としてウィンドウ２１を透過して、チャンバ２に入射してもよい。パルスレーザ光３２は、少なくとも１つのレーザ光経路に沿ってチャンバ２内に進み、レーザ光集光光学系２２で反射されて、パルスレーザ光３３として少なくとも１つのドロップレットターゲット２７に照射されてもよい。
【００２４】
ドロップレット生成器２６からは、ドロップレットターゲット２７がチャンバ２内部のプラズマ生成領域２５に向けて出力されてもよい。ドロップレットターゲット２７には、パルスレーザ光３３に含まれる少なくとも１つのパルスレーザ光が照射され得る。パルスレーザ光が照射されたドロップレットターゲット２７はプラズマ化し、そのプラズマからＥＵＶ光２５１が放射され得る。ＥＵＶ光２５１は、ＥＵＶ集光ミラー２３によって集光されるとともに反射されてもよい。ＥＵＶ集光ミラー２３で反射されたＥＵＶ光２５２は、中間焦点２９２を通って露光装置６に出力されてもよい。なお、１つのドロップレットターゲット２７に、パルスレーザ光３３に含まれる複数のパルスレーザ光が照射されてもよい。
【００２５】
ＥＵＶ光生成制御システム５は、ＥＵＶ光生成システム１１全体の制御を統括してもよい。ＥＵＶ光生成制御システム５はターゲットセンサ４によって撮像されたドロップレットターゲット２７のイメージデータ等を処理してもよい。ＥＵＶ光生成制御システム５は、例えば、ドロップレットターゲット２７を出力するタイミングやドロップレットターゲット２７の出力方向等を制御してもよい。また、ＥＵＶ光生成制御システム５は、例えば、レーザシステム３のレーザ発振タイミングやパルスレーザ光３２の進行方向やパルスレーザ光３３の集光位置等を制御してもよい。上述の様々な制御は単なる例示に過ぎず、必要に応じて他の制御を追加してもよい。
【００２６】
４．第１の実施形態
４．１ レーザシステムの構成
図２は、本開示の第１の実施形態に係るＥＵＶ光生成システムの構成を示すブロック図である。ＥＵＶ光生成システム１１に含まれるレーザシステム３は、マスターオシレータ３００と、第１〜第３のプリアンプ３０１〜３０３と、第１及び第２のメインアンプ３０４及び３０５と、プリパルスレーザ部３０６と、光路調整部３０７とを含んでもよい。
【００２７】
マスターオシレータ３００（発振器）は、例えばＣＯ２レーザ装置によって構成されてもよい。マスターオシレータ３００は、メインパルスレーザ光の種光を生成するよう構成されてもよい。メインパルスレーザ光は、ターゲットに照射されることによってターゲットをプラズマ化し得る。
【００２８】
マスターオシレータ３００の下流側には、第１のプリアンプ３０１、第２のプリアンプ３０２、第３のプリアンプ３０３、第１のメインアンプ３０４及び第２のメインアンプ３０５が、この順で配置されてもよい。第１のプリアンプ３０１、第２のプリアンプ３０２、第３のプリアンプ３０３、第１のメインアンプ３０４及び第２のメインアンプ３０５は、マスターオシレータ３００によって生成されたメインパルスレーザ光の種光を順次増幅して、光路調整部３０７に出力するよう構成されてもよい。第１のプリアンプ３０１、第２のプリアンプ３０２及び第３のプリアンプ３０３は、それぞれ例えばスラブ型増幅器で構成されてもよい。第１のメインアンプ３０４及び第２のメインアンプ３０５は、それぞれ例えば高速軸流型増幅器で構成されてもよい。
【００２９】
第２のプリアンプ３０２の上流側及び下流側には、それぞれ、第１及び第２のビーム調節器（ＢＦ）３１１及び３１２が配置されてもよい。第３のプリアンプ３０３の上流側及び下流側には、それぞれ、第３及び第４のビーム調節器３１３及び３１４が配置されてもよい。
【００３０】
第１のプリアンプ３０１と第１のビーム調節器３１１との間には、第１のビーム伝送器（ＢＤ）３２１が配置されてもよい。第１のビーム伝送器３２１は、第１のプリアンプ３０１からの出射光を第１のビーム調節器３１１への入射位置へ伝送してもよい。
【００３１】
第４のビーム調節器３１４と第１のメインアンプ３０４との間には、第２及び第３のビーム伝送器３２２及び３２３が配置されてもよい。第２及び第３のビーム伝送器３２２及び３２３は、第４のビーム調節器３１４からの出射光を第１のメインアンプ３０４への入射位置へ伝送してもよい。
【００３２】
第１のメインアンプ３０４と第２のメインアンプ３０５との間には、第３及び第４のビーム伝送器３２３及び３２４が配置されてもよい。第３及び第４のビーム伝送器３２３及び３２４は、第１のメインアンプ３０４からの出射光を第２のメインアンプ３０５への入射位置へ伝送してもよい。
【００３３】
第２のメインアンプ３０５と光路調整部３０７との間には、第４及び第５のビーム伝送器３２４及び３２５が配置されてもよい。第４及び第５のビーム伝送器３２４及び３２５は、第２のメインアンプ３０５からの出射光を光路調整部３０７への入射位置へ伝送してもよい。
【００３４】
プリパルスレーザ部３０６は、プリパルスレーザ光を出力し得る。プリパルスレーザ光は、ドロップレットターゲット２７（図１参照）に照射されることにより、ドロップレットターゲット２７を拡散させ、拡散したターゲットに対するメインパルスレーザ光の吸収率を向上させ得る。プリパルスレーザ部３０６から出力されたプリパルスレーザ光は、光路調整部３０７に入射してもよい。光路調整部３０７に入射したメインパルスレーザ光及びプリパルスレーザ光は、第６のビーム伝送器３２６を介してＥＵＶ光生成装置１に入射してもよい。
【００３５】
４．２ モジュールの配置
図３Ａは、第１の実施形態に係るレーザシステムを構成するモジュールの具体的な配置を示す斜視図である。図３Ｂは、図３Ａにおける下層部のモジュールの配置を示す斜視図である。図３Ｃは、図３Ａにおけるフレームを示す斜視図である。図３Ｃに示すように、このフレームは複数の梁を組合わせた構造物であってもよい。上述のマスターオシレータ３００、第１〜第３のプリアンプ３０１〜３０３、第１及び第２のメインアンプ３０４及び３０５、プリパルスレーザ部３０６、光路調整部３０７、第１〜第４のビーム調節器３１１〜３１４、第１〜第４のビーム伝送器３２１〜３２４は、フレーム３３０によって支持されてもよい。なお、第６のビーム伝送器３２６及びＥＵＶ光生成装置１（図２参照）は、図３Ａに示す構成要素とは遠隔に配置されてもよいため、図３Ａには第６のビーム伝送器３２６を記載していない。図３Ａにおいて、ＸＹＺの３次元直交軸を規定し、以降の図においても共通の座標軸を用いる。ＸＹ平面は重力方向に直行する面、Ｚ方向は重力の逆方向である。
【００３６】
フレーム３３０は、少なくとも３つのフレーム支持部３３１〜３３３によって床面上に支持されてもよい。フレーム支持部３３１〜３３３は、例えば、エアーサスペンション装置によって構成されてもよい。
【００３７】
図３Ａに示すように、第１のプリアンプ３０１と第１のビーム伝送器３２１とは、１つの筐体に収容されてもよい。また、第５のビーム伝送器３２５と、プリパルスレーザ部３０６と、光路調整部３０７とは、それぞれ別の１つの筐体に収容されてもよい。
【００３８】
マスターオシレータ３００、第１のプリアンプ３０１、第１のビーム伝送器３２１、第２のビーム伝送器３２２、第５のビーム伝送器３２５、プリパルスレーザ部３０６及び光路調整部３０７は、レーザシステム３の上層部に配置されてもよい。図３Ｂに示すように、第２及び第３のプリアンプ３０２及び３０３、第１及び第２のメインアンプ３０４及び３０５、第１〜第４のビーム調節器３１１〜３１４は、レーザシステム３の下層部に配置されてもよい。
【００３９】
マスターオシレータ３００に隣接して、第１のプリアンプ３０１と第１のビーム伝送器３２１とを収容した筐体が配置されてもよい。第１のプリアンプ３０１と第１のビーム伝送器３２１とが収容された筐体の下方に、図３Ｂに示す第１のビーム調節器３１１が配置されてもよい。
【００４０】
図３Ｂに示すように、第１のビーム調節器３１１に隣接して、第２のプリアンプ３０２が配置されてもよい。第２のプリアンプ３０２に隣接して、第２のビーム調節器３１２が配置されてもよい。第２のビーム調節器３１２に隣接して、第３のビーム調節器３１３が配置されてもよい。第３のビーム調節器３１３に隣接して、第３のプリアンプ３０３が配置されてもよい。第３のプリアンプ３０３に隣接して、第４のビーム調節器３１４が配置されてもよい。第４のビーム調節器３１４の上方に、図３Ａに示す第２のビーム伝送器３２２が配置されてもよい。
【００４１】
図３Ａに示すように、第２のビーム伝送器３２２に隣接して、第３のビーム伝送器３２３が配置されてもよい。第３のビーム伝送器３２３に隣接していて、かつ第２のビーム伝送器３２２の下方の位置に、第１のメインアンプ３０４が配置されてもよい。また、第３のビーム伝送器３２３に隣接して、第４のビーム伝送器３２４が配置されてもよい。第４のビーム伝送器３２４に隣接して、第２のメインアンプ３０５が配置されてもよい。また、第４のビーム伝送器３２４に隣接していて、かつ第２のメインアンプ３０５の上方には、第５のビーム伝送器３２５、プリパルスレーザ部３０６及び光路調整部３０７が収容された筐体が配置されてもよい。
【００４２】
図３Ｂに示すように、第２のプリアンプ３０２及び第３のプリアンプ３０３は、それぞれ、水平面（Ｘ−Ｙ平面）に対して所定角度θ（例えばθ＝４５°）傾いた状態で配置されてもよい。このように傾いて配置されるプリアンプに入射するメインパルスレーザ光は、プリアンプの傾斜方向に対し、ビーム断面形状の長手方向が略一致するようなたとえば楕円形状のレーザ光であってもよい。そこで、第１の実施形態では、第１のビーム調節器３１１によって、ビーム断面形状が略円形のメインパルスレーザ光を、ビーム断面形状が一方向に長いレーザ光に変換してもよい。そして、第１のビーム調節器３１１は、メインパルスレーザ光のビーム断面形状の長手方向と第２のプリアンプ３０２の傾斜方向とが略一致するように、メインパルスレーザ光を第２のプリアンプ３０２に入射させてもよい。
【００４３】
第２のビーム調節器３１２は、第２のプリアンプ３０２から出力されたメインパルスレーザ光を、ビーム断面形状が略円形のレーザ光に戻してもよい。第３のビーム調節器３１３は、ビーム断面形状が略円形のメインパルスレーザ光を、ビーム断面形状が一方向に長いレーザ光に変換してもよい。あるいは、第２のビーム調節器３１２は、第２のプリアンプ３０２から出力されたメインパルスレーザ光を、ビーム断面形状が一方向に長いレーザ光で第３のビーム調節器３１３に入射してもよい。この際、メインパルスレーザ光のダイバージェンスやビーム断面積が調整されてもよい。そして、第３のビーム調節器３１３は、メインパルスレーザ光のビーム断面の長手方向と第３のプリアンプ３０３の傾斜方向とが一致するように、メインパルスレーザ光を第３のプリアンプ３０３に入射させてもよい。第４のビーム調節器３１４は、第３のプリアンプ３０３から出力されたメインパルスレーザ光を、ビーム断面形状が略円形のレーザ光に戻してもよい。
【００４４】
第２及び第３のプリアンプ３０２及び３０３、並びに第１及び第２のメインアンプ３０４及び３０５は、メインパルスレーザ光のエネルギー増幅量が多い場合がある。そのため、これらの装置は、上流側のマスターオシレータ３００及び第１のプリアンプ３０１に比べて、大きく且つ重い装置であり得る。そこで、第２及び第３のプリアンプ３０２及び３０３、並びに第１及び第２のメインアンプ３０４及び３０５のメンテナンスを容易にするため、これらの装置をレーザシステム３の下層部に配置してもよい。
【００４５】
図４は、レーザシステムを構成するモジュールの具体的な配置を示す平面図である。マスターオシレータ３００、第１〜第３のプリアンプ３０１〜３０３、第１及び第２のメインアンプ３０４、３０５、プリパルスレーザ部３０６、光路調整部３０７、第１〜第４のビーム調節器３１１〜３１４、第１〜第４のビーム伝送器３２１〜３２４等のモジュールは、フレーム３３０から取り外してメンテナンスできるようにしてもよい。例えば、マスターオシレータ３００、第２及び第３のプリアンプ３０２及び３０３、第１及び第２のメインアンプ３０４及び３０５は、設置面に対して平行に（たとえば図４におけるＸＹ方向に）移動してメンテナンスできるようにしてもよい。以下に、これらのモジュールをフレーム３３０に対して位置決めしたり、フレーム３３０から取り外したりするための構成について説明する。
【００４６】
４．３ メインアンプの支持機構
図５は、第１のメインアンプの透視斜視図である。図６は、第１のメインアンプを図５の矢印ＶＩで示す方向から見た透視平面図である。図７Ａは、第１のメインアンプを図５の矢印ＶＩＩＡで示す方向から見た透視正面図である。図８は、第１のメインアンプを図５の矢印ＶＩＩＩで示す方向から見た透視側面図である。
【００４７】
１つのモジュールを構成し得る第１のメインアンプ３０４は、例えば高速軸流型増幅器を含んでもよい。高速軸流型増幅器は、入射窓４０１と、複数の放電管４１１〜４１８と、ミラー４２１〜４２８と、出射窓４０２とを含んでもよい。入射窓４０１は、Ｘ軸に沿って第３のビーム伝送器３２３（図３Ａ参照）からのレーザ光が入射するための透明な窓であってもよい。出射窓４０２は、Ｘ軸に沿って第３のビーム伝送器３２３へレーザ光が出射するための透明な窓であってもよい。
【００４８】
図６に示すように、放電管４１１〜４１８各々の外周に一対の電極４３３及び４３４を含んでもよい。また、放電管４１１〜４１８の各々の内部には、レーザ媒質としてＣＯ２ガスを含む混合ガスが供給されてもよい。
【００４９】
放電管４１１〜４１８の各々において、図示しない外部のＲＦ電源装置から電極４３３と電極４３４との間に高周波電圧が印加されてもよい、これにより、ＣＯ２ガスを含む混合ガスが励起され、励起された領域を通過するレーザ光が増幅され得る。レーザ光は、入射窓４０１から放電管４１１へ入射され、ミラー４２１〜４２８（図５参照）によって反射されて放電管４１２〜４１８内を通過することで順次増幅されて、Ｘ軸に沿って出射窓４０２から出力され得る。
【００５０】
第１のメインアンプ３０４は、脚部（支持部）４４１〜４４３を更に含んでもよい。脚部（支持部）は少なくとも３箇所にもうけられ、３点でメインアンプを支持してもよい。望ましくは、脚部４４１は、第１のメインアンプ３０４の入射窓４０１及び出射窓４０２側の位置に設けられてもよい。また、脚部４４２は、脚部４４１から見て、入射窓４０１からの入射光の入射方向側の位置に設けられてもよい。また、脚部４４３は、脚部４４１及び４４２が設けられる側とは反対側に設けられてもよい。
【００５１】
図７Ａに示すように、フレーム３３０は、脚部４４１〜４４３が載置されるマウント３４１〜３４３を含んでもよい。脚部４４１〜４４３がマウント３４１〜３４３にそれぞれ載置されることにより、第１のメインアンプ３０４がフレーム３３０に支持されてもよい。
【００５２】
マウント３４１の上面には、円錐状の窪み３４１ａが形成されてもよい。マウント３４２の上面には、断面がＶ字状の溝３４２ａが形成されてもよい。溝３４２ａは、入射窓４０１からの入射光の入射方向（Ｘ軸方向）と平行で、且つ出射窓４０２からの出射光の出射方向と平行な方向（Ｘ軸方向）に形成されてもよい。マウント３４３の上面は、平面状になっていてもよい。
【００５３】
脚部４４１がマウント３４１に載置されることにより、脚部４４１がＸＹ方向には動き難い。脚部４４２がマウント３４２に載置されることにより、脚部４４２は、溝３４２ａに沿った方向に移動できるように支持され得る。すなわち、脚部４４２は、入射窓４０１からの入射光の入射方向（Ｘ軸方向）と平行で、且つ出射窓４０２からの出射光の出射方向（Ｘ軸方向）と平行な方向に移動できるように支持され得る。脚部４４３は、マウント３４３に載置されることにより、マウント３４３の上面に沿って移動できるように支持され得る。すなわち、脚部４４３は、重力方向と交差する面内において移動できるように支持され得る。
【００５４】
図６に示すように、脚部４４１及び４４２は、入射窓４０１からの入射光の軸（出射窓４０２からの出射光の軸）を第１のメインアンプ３０４内に延長した線の直下に設けられてもよい。そして、脚部４４１は、入射窓４０１側（出射窓４０２側）に設けられ、第１のメインアンプ３０４をフレーム３３０に対して位置決めしてもよい。
【００５５】
以上の構成により、第１のメインアンプ３０４が熱により膨張または変形した場合でも、入射窓４０１及び出射窓４０２の空間的な位置が変動することが抑制される。さらに、出射光の出射方向が入射光の入射方向に対して相対的に変位することが抑制される。
【００５６】
図６，図７Ａに示すように第１のメインアンプ３０４には、複数の伸縮機構（昇降機構）４６１、４６２、４６３、４６４が取り付けられ、これらの伸縮機構には、車輪（ガイドフォロア）４５１、４５２、４５３、４５４が取り付けられてもよい。なお、伸縮機構４６３および４６４に取り付けられた車輪４５３および４５４は図７Ａにおいてそれぞれ車輪４５１および４５２の奥に隠れてあり、その図示は省略した。また、フレーム３３０には、平行に配置される２本のレール（ガイド）３５１及び３５２が設けられてもよい。この構成において、伸縮機構４６１、４６２、４６３、４６４を伸張することで図７Ｂ、図８に示す状態としてもよい。
【００５７】
図７Ｂは、伸縮機構４６１、４６２、４６３、４６４を伸張することで車輪とメインアンプとの間の距離を長くした状態を示す正面図である。伸縮機構４６１〜４６４によって、車輪４５１〜４５４と第１のメインアンプ３０４との間の距離を離すことにより、メインアンプに固定された脚部４４１〜４４３がフレーム３３０に固定されたマウント３４１〜３４３から離れ得る。これにより、車輪４５１〜４５４がレール３５１及び３５２上を走行することができ、第１のメインアンプ３０４をフレーム３３０に対して移動させることができる。
【００５８】
更に、図８に示すように、フレーム３３０の近くに、台車７を用意してもよい。台車７には、例えば、平行に配置される２本のレール７５１及び７５２が設けられてもよい。これにより、フレーム３３０上の位置から台車７上の位置に第１のメインアンプ３０４を移動させ、所望のメンテナンスエリアに運搬してもよい。
【００５９】
また、台車７には、マウント３４１〜３４３と同様に配置されるマウント７６１〜７６３を設けてもよい。マウント７６１〜７６３は、第１のメインアンプ３０４が台車７に対して固定され得る形状に形成されてもよい。メインアンプ３０４はレール７５１及び７５２によって、メインアンプ３０４の脚部４４１〜４４３がそれぞれ対応する、台車７上のマウント７６１〜７６３の直上位置に移動してもよい。この状態で、伸縮機構４６１〜４６４を短縮することで、車輪４５１〜４５４と第１のメインアンプ３０４との間の距離を近づけてもよい。これにより、脚部４４１〜４４３を台車７上のマウント７６１〜７６３にそれぞれ載置し、第１のメインアンプ３０４を台車７上に安定的に載置することができる。
【００６０】
４．４ プリアンプの支持機構
図９Ａは、第２及び第３のプリアンプの透視斜視図である。図９Ｂは、第２及び第３のプリアンプを図９Ａの矢印ＩＸＢで示す方向から見た透視平面図である。図９Ａ及び図９Ｂにおいて、第３のプリアンプ３０３についてはその内部を透視図として示し、第２のプリアンプ３０２については内部の図示を省略しているが、これらの構成は同様としてもよい。
【００６１】
１つのモジュールを構成し得る第３のプリアンプ３０３は、例えばスラブ型増幅器を含んでもよい。スラブ型増幅器は、入射窓５０１と、出射窓５０２と、一対の凹面ミラー５０３及び５０４と、一対の放電電極５０５及び５０６と、を含んでもよい。
【００６２】
入射窓５０１は、第３のビーム調節器３１３（図３Ｂ参照）からのレーザ光が入射するための透明な窓であってもよい。出射窓５０２は、第４のビーム調節器３１４へレーザ光が出射するための透明な窓であってもよい。一対の放電電極５０５と５０６との間には、図示しない電源装置によって、高電圧を印加してもよい。放電電極５０５と放電電極５０６との間には、図示しないレーザチャンバによって、ガス状のレーザ媒質が大気から隔絶された状態で保持されてもよい。
【００６３】
一対の凹面ミラー５０３及び５０４は、レーザ光を反射することにより、放電電極５０５と放電電極５０６との間においてレーザ光を所定回数ジグザグに進行させ、マルチパス増幅光路を形成させ得る。放電電極５０５と５０６との間に高電圧を印加することでガス状のレーザ媒質を励起状態としてもよい。入射窓５０１から入射したメインパルスレーザ光は、一対の凹面ミラー５０３及び５０４によって反射されて励起状態のレーザ媒質内をジグザグに進行する際に増幅され、出射窓５０２から出力され得る。入射窓５０１からの入射光の入射方向と、出射窓５０２からの出射光の出射方向とは、同一方向ではないが、ほぼ一致した方向となり得る。
【００６４】
図５〜図８を参照しながら説明した第１のメインアンプ３０４と同様に、第３のプリアンプ３０３は、脚部５４１〜５４３を更に含んでもよい。脚部５４１は、第３のプリアンプ３０３の出射窓５０２側の位置に設けられてもよい。脚部５４２は、第３のプリアンプ３０３の入射窓５０１側の位置に設けられてもよい。脚部５４３は、脚部５４１及び５４２が設けられる側とは反対側に設けられてもよい。
【００６５】
フレーム３３０は、脚部５４１〜５４３が載置されるマウント３４１〜３４３を含んでもよい。マウント３４１〜３４３の構成は、図５〜図８を参照しながら説明した構成と同様でもよい。但し、マウント３４２の溝３４２ａは、入射窓５０１からの入射光の入射方向と、出射窓５０２からの出射光の出射方向とにほぼ一致した方向に形成されてもよい。なお、マウント３４１，３４２の位置は入れ替えてもよく、Ｖ字型溝と円錐状の窪みはそれぞれどちらに設置されても良い。
【００６６】
図９Ｂに示すように、脚部５４１及び５４２は、それぞれ、出射窓５０２からの出射光の軸及び入射窓５０１からの入射光の軸を第３のプリアンプ３０３内に延長した線の直下に設けられてもよい。以上の構成により、第３のプリアンプ３０３が熱により膨張または変形した場合でも、入射窓５０１及び出射窓５０２の空間的な位置が変動することが抑制される。さらに、出射光の出射方向が入射光の入射方向に対して相対的に変位することが抑制される。
【００６７】
図９Ａに示すように第３のプリアンプ３０３には、複数の伸縮機構４６１、４６２、４６３、４６４が取り付けられ、これらの伸縮機構には、車輪４５１、４５２、４５３、４５４が取り付けられてもよい。また、フレーム３３０には、平行に配置される２本のレール３５１及び３５２が設けられてもよい。これらの構成要素の構成は、図５〜図８を参照しながら説明した構成と同様でもよい。さらに、図８を参照しながら説明したのと同様に、第３のプリアンプ３０３を台車に載せて運搬できるように構成してもよい。
【００６８】
４．５ ビーム伝送器の支持機構
図１０Ａは、第３のビーム伝送器の透視斜視図である。図１０Ｂは、第３のビーム伝送器を図１０Ａの矢印ＸＢで示す方向から見た平面図である。
【００６９】
１つのモジュールを構成し得る第３のビーム伝送器３２３は、第１の入射窓６０１と、第１の出射窓６０２と、第２の入射窓６０３と、第２の出射窓６０４と、第１〜第３の高反射ミラー６０５〜６０７と、を含んでもよい。
【００７０】
第１の入射窓６０１は、第２のビーム伝送器３２２（図３Ａ参照）からのレーザ光が入射するための透明な窓でもよい。第１の出射窓６０２は、第１のメインアンプ３０４へレーザ光が出射するための透明な窓でもよい。第２の入射窓６０３は、第１のメインアンプ３０４からのレーザ光が入射するための透明な窓でもよい。第２の出射窓６０４は、第４のビーム伝送器３２４へレーザ光が出射するための透明な窓でもよい。
【００７１】
第１の入射窓６０１から入射したメインパルスレーザ光を反射して、第１の出射窓６０２から出力されるように、第１及び第２の高反射ミラー６０５及び６０６が配置されていてもよい。第２の入射窓６０３から入射したメインパルスレーザ光を反射して、第２の出射窓６０４から出力されるように、第３の高反射ミラー６０７が配置されていてもよい。このように、第１の高反射ミラー６０５、第２の高反射ミラー６０６、および第３の高反射ミラー６０７は入射したビームの方向を規定して反射するようにしてもよい。
【００７２】
第１の入射窓６０１からの入射光の入射方向と、第１の出射窓６０２からの出射光の出射方向と、第２の入射窓６０３からの入射光の入射方向とは、ほぼ平行でもよい。第２の入射窓６０３からの入射光の入射方向と、第２の出射窓６０４からの出射光の出射方向とは、ほぼ直交してもよい。このように、第１の高反射ミラー６０５、第２の高反射ミラー６０６、および第３の高反射ミラー６０７に対する入射角と反射角は約４５度であってもよい。
【００７３】
図５〜図８を参照しながら説明した第１のメインアンプ３０４と同様に、第３のビーム伝送器３２３は、脚部６４１〜６４３を更に含んでもよい。脚部６４１は、第２の入射窓６０３からの入射光の軸と、第２の出射窓６０４からの出射光の軸を第３のビーム伝送器３２３内に延長した線の直下に設けられてもよい。たとえば高反射ミラー６０７の直下に設けられてもよい。脚部６４２は、脚部６４１から見て、第２の出射窓６０４からの出射光の出射方向とは反対側の位置に設けられてもよい。脚部６４３は、脚部６４１及び６４２が設けられる側とは反対側に設けられてもよい。
【００７４】
フレーム３３０（図３Ａ参照）は、脚部６４１〜６４３が載置されるマウント３４１〜３４３を含んでもよい。マウント３４１〜３４３の構成は、図５〜図８を参照しながら説明した構成と同様でもよい。また、マウント３４２の溝３４２ａは、第２の出射窓６０４からの出射光の出射方向と平行な方向に形成されてもよい。
【００７５】
図５〜図８を参照しながら説明したのと同様に、第３のビーム伝送器３２３には、複数の伸縮機構及び車輪を取り付けてもよい。また、図８を参照しながら説明したのと同様に、第３のビーム伝送器３２３を台車に載せて運搬できるように構成してもよい。これらの運搬機構は、第３のビーム伝送器３２３の重量が大きくない場合には、設けられなくてもよい。ビーム伝送器にレーザ光が入射又は出射するための窓６０１〜６０４が設けられた実施形態を示した。しかし、この実施形態に限定されることなく、レーザシステム３の設置空間が十分なクリーン度に保たれている場合、各窓を備えず各窓に対応する位置にレーザ光が通過する貫通孔が設けられてもよい。また、窓の有無にかかわらず、安全のためにビーム伝送器と他のモジュールとの間にレーザ光が通過するための配管が設けられてもよい。
【００７６】
４．６ マスターオシレータの支持機構
図１１Ａは、マスターオシレータの透視正面図である。図１１Ｂは、マスターオシレータを図１１Ａの矢印ＸＩＢに示す方向から見た透視平面図である。
【００７７】
１つのモジュールを構成し得るマスターオシレータ３００は、出力結合ミラー７０１と、高反射ミラー７０２と、一対の放電電極７０３及び７０４と、Ｑスイッチ７０５と、出射窓７０６とを含んでもよい。
【００７８】
出射窓７０６は、第１のプリアンプ３０１（図３Ａ参照）へレーザ光が出射するための透明な窓でもよい。一対の放電電極７０３と７０４との間には、図示しない電源装置によって、高電圧が印加されてもよい。放電電極７０３と放電電極７０４との間には、図示しないレーザチャンバにより、レーザ媒質としてＣＯ２ガスを含む混合ガスが保持されてもよい。
【００７９】
放電電極７０３と７０４との間に電源装置から高電圧が印加されると、放電電極７０３と７０４との間に放電が起こり得る。この放電のエネルギーにより、レーザ媒質が励起されて高エネルギー準位に移行し得る。励起されたレーザ媒質が、その後低エネルギー準位に移行するとき、そのエネルギー準位差に応じた光が放出され得る。
【００８０】
励起されたレーザ媒質から放出された光は、光共振器を構成する出力結合ミラー７０１と高反射ミラー７０２との間で往復し、放電電極７０３と７０４との間（レーザゲイン空間）を通過する度に増幅され得る。Ｑスイッチ７０５は、レーザ媒質を構成する原子の多くが励起状態になるまで光損失を大きい状態に保って発振を抑え、レーザ媒質を構成する原子の多くが励起状態になったときに光損失を低下させ得る。Ｑスイッチ７０５が備えられることにより、パルス状のレーザ光が生成され得る。高いエネルギーに増幅されたパルスレーザ光の一部が、出力結合ミラー７０１を介して出力され得る。出力結合ミラー７０１を通過したパルスレーザ光は、出射窓７０６を介して第１のプリアンプ３０１に出力され得る。
【００８１】
図５〜図８を参照しながら説明した第１のメインアンプ３０４と同様に、マスターオシレータ３００は、脚部７４１〜７４３を更に含んでもよい。脚部７４１は、マスターオシレータ３００の出射窓７０６側の位置に設けられてもよい。脚部７４２は、脚部７４１に対して、出射窓７０６からの出射光の出射方向とは反対側の位置に設けられてもよい。または、脚部７４１は出力結合ミラー７０１の直下に、脚部７４２は高反射ミラー７０２の直下に配置されるようにしてもよい。脚部７４３は、脚部７４１及び７４２が設けられる側とは反対側に設けられてもよい。または、脚部７４１は出力結合ミラー７０１の直下に、脚部７４２は高反射ミラー７０２の直下に配置されるようにしてもよい。
【００８２】
フレーム３３０は、脚部７４１〜７４３が載置されるマウント３４１〜３４３を含んでもよい。マウント３４１〜３４３の構成は、図５〜図８を参照しながら説明した構成と同様でもよい。但し、マウント３４２の溝３４２ａは、出射窓７０６からの出射光の出射方向と平行な方向に形成されてもよい。
【００８３】
図１１Ｂに示すように、脚部７４１及び７４２は、出射窓７０６からの出射光の軸をマスターオシレータ３００内に延長した線の直下に設けられてもよい。そして、脚部７４１は、出射窓７０６側に設けられ、マスターオシレータ３００をフレーム３３０に対して位置決めしてもよい。
【００８４】
以上の構成により、マスターオシレータ３００が熱により膨張または変形した場合でも、出射窓７０６から出力される出射光の軸からずれることが抑制され得る。
【００８５】
マスターオシレータ３００には、複数の伸縮機構４６１、４６２、４６３、４６４が取り付けられ、これらの伸縮機構には、車輪４５１、４５２、４５３、４５４が取り付けられてもよい。また、フレーム３３０には、２本の平行に配置されるレール３５１及び３５２が設けられてもよい。これらの構成要素の構成は、図５〜図８を参照しながら説明した構成と同様でもよい。
【００８６】
５．第２の実施形態
図１２は、本開示の第２の実施形態における第１のメインアンプの透視正面図である。第２の実施形態において、第１のメインアンプ３０４は、支持部３４４〜３４６を含んでもよい。支持部３４４の下面には、円錐状の窪み３４１ａが形成されてもよい。支持部３４５の下面には、断面がＶ字状の溝３４２ａが形成されてもよい。溝３４２ａは、入射窓４０１からの入射光の入射方向と平行で、且つ出射窓４０２からの出射光の出射方向と平行な方向に形成されてもよい。支持部３４６の下面は、平面状になっていてもよい。
【００８７】
一方、フレーム３３０は、支持部３４４〜３４６が載置される脚部（マウント）４４４〜４４６を含んでもよい。脚部４４４〜４４６は、フレーム３３０の下方から上方に向けて突出していてもよい。
【００８８】
このように、第２の実施形態は、支持部とマウントとの関係が逆になっている点で、図７Ａを参照しながら説明した第１の実施形態と異なる。他の点については、図７Ａを参照しながら説明した第１の実施形態と同様でよい。
【００８９】
６．第３の実施形態
図１３は、本開示の第３の実施形態における第１のメインアンプの透視正面図である。図１３は、車輪と第１のメインアンプ３０４との間の距離を長くした状態を示している。第３の実施形態において、伸縮機構４６１、４６２および図示を省略した伸縮機構４６３、４６４に固定されたプレート４６５は、伸縮機構４６１、４６２、４６３および４６４によって、車輪４５１及び４５２と一緒に押し下げられてもよい。プレート４６５にはマウント４４１〜４４３が貫通することのできる貫通孔が形成されていてもよい。伸縮機構を伸張することにより、車輪４５１、４５２および図示を省略した車輪４５３、４５４と第１のメインアンプ３０４との間の距離を離すようにしてもよい。プレート４６５に伸縮機構４６１〜４６４が固定されているため、各伸縮機構の伸縮速度が異なっていてもメインアンプ３０４を略水平に保持するようにしてもよい。他の点については、図７Ｂを参照しながら説明した第１の実施形態と同様でよい。
【００９０】
７．第４の実施形態
図１４は、本開示の第４の実施形態における第１のメインアンプの透視斜視図である。第４の実施形態において、レール３５１及び３５２上を走行する車輪が設けられなくてもよい。伸縮機構４６１、４６２、４６３および図示を省略した伸縮機構４６４には、ガイドフォロア４５５、４５６、４５７および図示を省略したガイドフォロア４５８が取り付けられていてもよい。これらのガイドフォロア４５５、４５６、４５７、４５８が、レール３５１及び３５２上を滑ることにより走行するように構成してもよい。他の点については、図５を参照しながら説明した第１の実施形態と同様でよい。
【００９１】
８．第５の実施形態
図１５は、本開示の第５の実施形態における第１のメインアンプの正面図である。第５の実施形態において、レールを備えず、車輪４５１及び４５２が、フレーム３３０の任意の面上を走行するよう構成されてもよい。
【００９２】
図１５に示すように、フレーム３３０には、一本のガイド３５９が設けられてもよい。一方、第１のメインアンプ３０４には、ガイド３５９に沿って動くガイドフォロア４５９が設けられていてもよい。ガイド３５９は断面がＵ字状でもよく、ガイドフォロア４５９は、このガイド３５９に挟まれた状態でガイド３５９に沿って動くように構成されてもよい。他の点については、図７Ａを参照しながら説明した第１の実施形態と同様でよい。
【００９３】
９．第６の実施形態
図１６は、本開示の第６の実施形態における第１のメインアンプの側面図である。第６の実施形態において、フレーム３３０には、レールではなく複数の車輪３７１〜３７３が設けられていてもよい。車輪３７１〜３７３は、フレーム３３０上の所定の位置で回転できるように構成されてもよい。一方、第１のメインアンプ３０４の伸縮機構４６１及び４６３には、レール４７１が固定されていてもよい。レール４７１は、車輪３７１〜３７３の上に配置されてもよい。車輪３７１〜３７３の回転に伴って、第１のメインアンプ３０４がレール４７１と共に移動するように構成されてもよい。
【００９４】
さらに、台車７にも複数の車輪７７１〜７７３が設けられていてもよい。これにより、フレーム３３０上の位置から台車７上の位置へ第１のメインアンプ３０４を移動させ、所望のメンテナンスエリアに運搬してもよい。
【００９５】
このように、第６の実施形態は、レールと車輪との関係が逆になっている点で、図８を参照しながら説明した第１の実施形態と異なる。他の点については、図８を参照しながら説明した第１の実施形態と同様でよい。
【００９６】
１０．第７の実施形態
図１７は、本開示の第７の実施形態における第１のメインアンプの側面図である。第７の実施形態においては、レール（ガイド）及び車輪（ガイドフォロア）がなくてもよい。図１７に示すように、第１のメインアンプ３０４の下面には、エア吹出し装置（昇降機構）４７５が設けられていてもよい。エア吹出し装置４７５の周囲には、スカート４７６が設けられていてもよい。エア吹出し装置４７５から高圧ガスを噴出することにより、スカート４７６の内側のガス圧が大気圧よりも上昇し、第１のメインアンプ３０４を上昇させてもよい。これにより、僅かな力で第１のメインアンプ３０４をフレーム３３０上の位置から台車７上の位置へ移動させてもよい。他の点については、図８を参照しながら説明した第１の実施形態と同様でよい。
【００９７】
１１．第８の実施形態
図１８Ａは、本開示の第８の実施形態においてモジュールを支持するための構造を示す分解斜視図である。図１８Ｂは、第８の実施形態においてモジュールを支持するための構造を示す斜視図である。図１８Ａ及び図１８Ｂにおいて、モジュールはその脚部４４１〜４４３のみが図示されている。
【００９８】
第８の実施形態において、マウント３６１〜３６３の上面には、それぞれ円錐状の窪み３６１ａ〜３６３ａが形成されていてもよい。なお、窪みの形状は円錐以外の形状でもよく、たとえば半球状の窪みでもよい。マウント３６１は、フレーム３３０の設置部３６１ｂ上に、ピン３６１ｃ又はボルトにより固定されていてもよい。これにより、脚部４４１が水平方向に動き難いように位置決めされてもよい。
【００９９】
フレーム３３０には、載置台３６２ｄがピン３６２ｃ又はボルトにより固定されていてもよい。マウント３６２が、載置台３６２ｄの上に載置されてもよい。載置台３６２ｄの上面には、段差３６２ｅと傾斜とを有する設置部３６２ｂが形成されていてもよい。マウント３６２の下面には、段差３６２ｅに対応する段差３６２ｆが形成されていてもよい。これらの段差３６２ｅと段差３６２ｆとは、例えば、直方体状のキーと、これに対応する形状のキー溝とによって形成されてもよい。マウント３６２は、載置台３６２ｄに固定されなくてもよい。
【０１００】
マウント３６２が載置台３６２ｄの設置部３６２ｂ上に載置されたとき、重力によって、マウント３６２が設置部３６２ｂの傾斜に従って滑ることにより、段差３６２ｅに段差３６２ｆが押し付けられてもよい。設置部３６２ｂは、水平面に対して摩擦角以上の傾斜角を有することが望ましい。マウント３６２は、段差３６２ｅに押し付けられた状態で、段差３６２ｅに沿って移動可能であってもよい。これにより、モジュールの脚部４４２は、段差３６２ｅに沿って移動できてもよい。
【０１０１】
マウント３６３は、フレーム３３０の設置部３６３ｂ上に載置されてもよく、設置部３６３ｂに固定されなくてもよい。マウント３６３が設置部３６３ｂに載置されたとき、マウント３６３は、設置部３６３ｂの面に沿って移動可能であってもよい。これにより、脚部４４３は、マウント３６３と共に重力方向と交差する面内において移動できるように支持され得る。
【０１０２】
第８の実施形態によれば、マウント３６１〜３６３に形成された円錐状の窪み３６１ａ〜３６３ａによって、脚部４４１〜４４３を支持するので、マウント３６１〜３６３と脚部４４１〜４４３との接触箇所が点状ではなく線状となり荷重が分散し得る。従って、マウント３６１〜３６３と脚部４４１〜４４３とがモジュールの大きな荷重にも耐え得る。なお、脚部４４１〜４４３の先端は丸い必要は無く、前記窪み内に接する大きさと形状を有すればよい。
【０１０３】
また、第８の実施形態によれば、マウント３６２を載置するための載置台３６２ｄの上面が傾斜し、且つ段差３６２ｅが形成されているので、マウント３６２が段差３６２ｅに押し付けられ得る。そのため、マウント３６２が段差３６２ｅに沿って精度よく位置決めされ得る。他の点については、図８を参照しながら説明した第１の実施形態と同様でよい。
【０１０４】
１２．第９の実施形態
図１９は、本開示の第９の実施形態においてモジュールを支持するためのマウントを示す断面図である。第９の実施形態においては、第８の実施形態におけるマウント３６２及び載置台３６２ｄ（図１８Ａ参照）の代わりに、傾斜を有しない設置部３８２ｂ上に載置されたマウント３８２が用いられてもよい。
【０１０５】
設置部３８２ｂには、段差３８２ｅが形成されていてもよい。マウント３８２の下面には、段差３８２ｅに対応する段差３８２ｆが形成されていてもよい。これらの段差は、例えば、設置部３８２ｂにピン３８２ｃ又はボルトにより固定されたキー３８２ｇと、キー３８２ｇに対応する形状のキー溝３８２ｈとによって形成されてもよい。
【０１０６】
マウント３８２には、弾性部材によってキー溝３８２ｈ内部に向かって付勢されたプランジャ３８２ｉが設けられていてもよい。マウント３８２が設置部３８２ｂに載置されたとき、プランジャ３８２ｉは、キー３８２ｇを押圧してもよい。これにより、段差３８２ｅに段差３８２ｆが押し付けられてもよい。マウント３８２は、段差３８２ｅに押し付けられた状態で、段差３８２ｅに沿って（図１９の奥行方向に）移動可能であってもよい。これにより、モジュールの脚部４４２は、段差３８２ｅに沿って移動できるように支持され得る。他の点については、図１８Ａ及び図１８Ｂを参照しながら説明した第８の実施形態と同様でよい。
【０１０７】
１３．第１０の実施形態
図２０Ａは、本開示の第１０の実施形態においてモジュールを支持するための構造を示す分解斜視図である。図２０Ｂは、本開示の第１０の実施形態においてモジュールを支持するための構造を示す斜視図である。図２０Ｃは、図２０Ｂの矢印ＸＸＣで示す方向から見た一部断面図である。図２０Ａ〜図２０Ｃにおいて、モジュール内の光学素子及びレーザ光が通過する窓又は配管は、図示を省略している。
【０１０８】
第１０の実施形態において、フレーム３３０はフレーム形状の他にプレート形状の部分を有してもよい。フレーム３３０のプレート形状部側面には、第３のビーム伝送器３２３などのモジュールが設置されてもよい。第３のビーム伝送器３２３は、その伝送器の長い方向が重力方向に向くようにして設置されても良い。図１０Ａ及び図１０Ｂを参照しながら説明した如く第３のビーム伝送器３２３の下面を支持する代わりに、第１０の実施形態においては、第３のビーム伝送器３２３をフレーム３３０の側面で支持してもよい。
【０１０９】
フレーム３３０のプレート形状部上面には、第３のビーム伝送器３２３の脚部６４１及び６４２が載置されるマウント３９１及び３９２が配置されていてもよい。脚部６４１がマウント３９１に載置されることにより、脚部６４１が水平方向に動き難いように位置決めされてもよい。脚部６４２がマウント３９２に載置されることにより、脚部６４２は、Ｙ方向に移動できるように支持されてもよい。
【０１１０】
フレーム３３０のプレート形状部側面に、マウント３９３が形成されていてもよい。マウント３９３は、フレーム３３０に形成された凹部であってもよい。第３のビーム伝送器３２３の脚部６４３は、第３のビーム伝送器３２３がフレーム３３０のプレート形状部に対向する面に配置されていてもよく、マウント３９３に対して押し付けられるとともに、フレーム３３０の側面に沿った方向に移動できるようになっていてもよい。脚部６４３が押し付けられるマウント３９３の平坦面３９３ｂは、図２０Ｃに示すように、マウント３９１及び３９２の中心を通過する面であることが望ましい。
【０１１１】
脚部６４３をマウント３９３に対して押し付けるために、ボルト６４３ａが、第３のビーム伝送器３２３の壁面の貫通孔（大径部６４３ｂ及び小径部６４３ｃ）を貫通し、フレーム３３０に対してねじ込まれていてもよい。ボルト６４３ａの頭部６４３ｄと貫通孔の大径部６４３ｂの底面との間には、ばね等の弾性部材６４３ｅが配置され、第３のビーム伝送器３２３をマウント３９３に対して押し付けてもよい。第３のビーム伝送器３２３をマウント３９３に対して押し付けるために、ボルト６４３ａ等の代わりに、磁石等を用いてもよい。第３のビーム転送器３２３がフレーム３３０の側面に沿って移動しやすいように、ボルト６４３ａと小径部６４３ｃとの間に間隙を設けてもよい。
【０１１２】
第１０の実施形態によれば、モジュールの底面の大きさに対してモジュールの高さが高く、下面で支持するだけでは倒れる可能性のあるモジュールであっても、安定的に支持することができる。他の点については、図８を参照しながら説明した第１の実施形態と同様でよい。
【０１１３】
１４．第１１の実施形態
図２１は、本開示の第１１の実施形態に係るＥＵＶ光生成システムの構成を示すブロック図である。ＥＵＶ光生成システム１１ａに含まれるレーザシステム３ａは、マスターオシレータ３００ａと、第１、第２及び第３のプリアンプ３０１ａ、３０２ａ及び３０３ａと、第１及び第２のメインアンプ３０４及び３０５と、プリパルスレーザ部３０６と、光路調整部３０７とを含んでもよい。
【０１１４】
図２２Ａは、第１１の実施形態に係るレーザシステムを構成するモジュールの具体的な配置を示す斜視図である。図２２Ｂは、図２２Ａにおける下層部のモジュールの配置を示す斜視図である。図２２Ｃは、図２２Ａにおけるフレームを示す斜視図である。
【０１１５】
マスターオシレータ３００ａと第１のプリアンプ３０１ａとは、１つの筐体に収容されてもよい。第１１の実施形態において、第２及び第３のプリアンプ３０２ａ及び３０３ａが、いずれも第１及び第２のメインアンプ３０４及び３０５と同様の高速軸流型増幅器で構成されてもよい。従って、第１の実施形態における第１〜第４のビーム調節器３１１〜３１４が設けられなくてもよい。
【０１１６】
第１１の実施形態においては、第１及び第２のプリアンプ３０１ａと３０２ａとの間に、第７のビーム伝送器３２７が配置されてもよい。第２及び第３のプリアンプ３０２ａと３０３ａとの間には、第７及び第８のビーム伝送器３２７及び３２８が配置されてもよい。第３のプリアンプ３０３ａと第１のメインアンプ３０４との間には、第８、第２及び第３のビーム伝送器３２８、３２２及び３２３が配置されてもよい。
【０１１７】
第１１の実施形態によれば、レーザシステム３をコンパクトに構成することができる。第１１の実施形態における各種モジュールの支持機構は、第１の実施形態における支持機構と同様でもよい。
【０１１８】
上記の説明は、制限ではなく単なる例示を意図したものである。従って、添付の特許請求の範囲を逸脱することなく本開示の実施形態に変更を加えることができることは、当業者には明らかであろう。
【０１１９】
本明細書及び添付の特許請求の範囲全体で使用される用語は、「限定的でない」用語と解釈されるべきである。例えば、「含む」又は「含まれる」という用語は、「含まれるものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。「有する」という用語は、「有するものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。また、本明細書、及び添付の特許請求の範囲に記載される修飾句「１つの」は、「少なくとも１つ」又は「１又はそれ以上」を意味すると解釈されるべきである。
【符号の説明】
【０１２０】
１…ＥＵＶ光生成装置、２…チャンバ、３、３ａ…レーザシステム、４…ターゲットセンサ、５…ＥＵＶ光生成制御システム、６…露光装置、７…台車、１１、１１ａ…ＥＵＶ光生成システム、２１…ウィンドウ、２２…レーザ光集光光学系、２３…ＥＵＶ集光ミラー、２４…貫通孔、２５…プラズマ生成領域、２６…ドロップレット生成器、２７…ドロップレットターゲット、２８…ターゲット回収部、２９…接続部、３１、３２、３３…パルスレーザ光、３４…レーザ光進行方向制御部、２５１、２５２…ＥＵＶ光、２９１…壁、２９２…中間焦点、３００、３００ａ…マスターオシレータ、３０１、３０１ａ…第１のプリアンプ、３０２、３０２ａ…第２のプリアンプ、３０３、３０３ａ…第３のプリアンプ、３０４…第１のメインアンプ、３０５…第２のメインアンプ、３０６…プリパルスレーザ部、３０７…光路調整部、３１１…第１のビーム調節器、３１２…第２のビーム調節器、３１３…第３のビーム調節器、３１４…第４のビーム調節器、３２１…第１のビーム伝送器、３２２…第２のビーム伝送器、３２３…第３のビーム伝送器、３２４…第４のビーム伝送器、３２５…第５のビーム伝送器、３２６…第６のビーム伝送器、３２７…第７のビーム伝送器、３２８…第８のビーム伝送器、３３０…フレーム、３３１〜３３３…フレーム支持部、３４１〜３４３…マウント、３４１ａ…窪み、３４２ａ…溝、３４４〜３４６…支持部、３５１、３５２…レール（ガイド）、３５９…ガイド、３６１〜３６３…マウント、３６１ａ〜３６３ａ…窪み、３６１ｂ〜３６３ｂ…設置部、３６１ｃ、３６２ｃ…ピン、３６２ｄ…載置台、３６２ｅ…段差、３６２ｆ…段差、３７１〜３７３…車輪（ガイドフォロア）、３８２…マウント、３８２ｂ…設置部、３８２ｃ…ピン、３８２ｅ…段差、３８２ｆ…段差、３８２ｇ…キー、３８２ｈ…キー溝、３８２ｉ…プランジャ、３９１〜３９３…マウント、３９３ｂ…平坦面、４０１…入射窓、４０２…出射窓、４１１〜４１８…放電管、４２１〜４２８…ミラー、４３３、４３４…電極、４４１〜４３３…脚部（支持部）、４４４〜４４６…脚部（マウント）、４５１〜４５３…車輪（ガイドフォロア）、４５５〜４５９…ガイドフォロア、４６１〜４６４…伸縮機構、４６５…プレート、４７１…レール、４７５…エア吹出し装置、４７６…スカート、５０１…入射窓、５０２…出射窓、５０３…凹面ミラー、５０５、５０６…放電電極、５４１〜５４３…脚部（支持部）、６０１…第１の入射窓、６０２…第１の出射窓、６０３…第２の入射窓、６０４…第２の出射窓、６０５…第１の高反射ミラー、６０６…第２の高反射ミラー、６０７…第３の高反射ミラー、６４１〜６４３…脚部（支持部）、６４３ａ…ボルト、６４３ｂ…大径部、６４３ｃ…小径部、６４３ｄ…頭部、６４３ｅ…弾性部材、７０１…出力結合ミラー、７０２…高反射ミラー、７０３、７０４…放電電極、７０５…Ｑスイッチ、７０６…出射窓、７４１〜７４３…脚部（支持部）、７５１、７５２…レール、７６１〜７６３…マウント、７７１〜７７３…車輪
【技術分野】
【０００１】
本開示は、レーザシステムに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体プロセスの微細化に伴って、半導体プロセスの光リソグラフィにおける転写パターンの微細化が急速に進展している。次世代においては、７０ｎｍ〜４５ｎｍの微細加工、更には３２ｎｍ以下の微細加工が要求されるようになる。このため、例えば３２ｎｍ以下の微細加工の要求に応えるべく、波長１３ｎｍ程度の極端紫外（ＥＵＶ）光を生成するための装置と縮小投影反射光学系とを組み合わせた露光装置の開発が期待されている。
【０００３】
ＥＵＶ光を生成するための装置としては、一般に、ターゲット物質にレーザ光を照射することによって生成されるプラズマが用いられるＬＰＰ（Laser Produced Plasma）方式の装置と、放電によって生成されるプラズマが用いられるＤＰＰ（Discharge Produced Plasma）方式の装置と、軌道放射光が用いられるＳＲ（Synchrotron Radiation）方式の装置との３種類の装置が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】米国特許出願公開第２００９−０１０３５７５号明細書
【概要】
【０００５】
本開示の１つの観点に係るレーザシステムは、レーザ光を発振する発振器と、発振器を支持する支持部とを含む第１のモジュールと、レーザ光を伝送するビーム伝送器と、ビーム伝送器を支持する支持部とを含む第２のモジュールと、レーザ光を増幅する増幅器と、増幅器を支持する支持部とを含む第３のモジュールと、のうちの少なくとも２つのモジュールと、少なくとも２つのモジュールが載置されるフレームであって、少なくとも２つのモジュールの各々につき、支持部が載置されるマウントを含むフレームと、を含んでいてもよい。
【０００６】
本開示の他の１つの観点に係るレーザシステムは、レーザ光を増幅する増幅器と、増幅器を支持する第１〜第３の支持部とを含むモジュールと、モジュールが載置されるフレームであって、第１〜第３の支持部がそれぞれ載置される第１〜第３のマウントを含むフレームと、を含み、モジュールは、入射光が第１の外部ユニットから入射するための入射部と、出射光が第２の外部ユニットへ出射するための出射部と、を更に含み、第１の支持部は、モジュールの重心から見て入射部側の第１の位置に有し、第２の支持部は、第１の位置から見て入射光の入射方向側の第２の位置に有し、第３の支持部は、第３の位置に有してもよい。
【０００７】
本開示の他の１つの観点に係るレーザシステムは、レーザ光を増幅する増幅器と、増幅器を支持する第１〜第３の支持部とを含むモジュールと、モジュールが載置されるフレームであって、第１〜第３の支持部がそれぞれ載置される第１〜第３のマウントを含むフレームと、を含み、モジュールは、出射光が外部ユニットへ出射するための出射部を更に含み、第１の支持部は、モジュールの重心から見て出射部側の第１の位置に有し、第２の支持部は、第１の位置から見て出射光の出射方向とは反対側の第２の位置に有し、第３の支持部は、第３の位置に有してもよい。
【０００８】
本開示の他の１つの観点に係るレーザシステムは、レーザ光を増幅する増幅器と、増幅器を支持する第１〜第３の支持部とを含むモジュールと、モジュールが載置されるフレームであって、第１〜第３の支持部がそれぞれ載置される第１〜第３のマウントを含むフレームと、を含み、モジュールは、入射光が第１の外部ユニットから入射するための入射部と、出射光が第２の外部ユニットへ出射するための出射部と、を更に含み、第１の支持部は、モジュールの重心から見て入射部側の第１の位置に有し、第２の支持部は、モジュールの重心から見て出射部側の第２の位置に有し、第３の支持部は、第３の位置に有してもよい。
【０００９】
本開示の他の１つの観点に係るレーザシステムは、レーザ光を増幅する増幅器と、増幅器を支持する第１〜第３の支持部とを含むモジュールと、モジュールが載置されるフレームであって、第１〜第３の支持部がそれぞれ載置される第１〜第３のマウントと、第１〜第３のマウントがそれぞれ載置される第１〜第３の設置部と、を含むフレームと、を含み、第１のマウントは、第１の支持部をフレームの所定位置に位置決めし、第２のマウントは、第２の設置部に形成された段差に沿って移動できるように第２の設置部に載置され、第２の設置部が重力方向に垂直な面に対して傾斜していることにより、第２のマウントは段差に押し付けられ、第２のマウントは、第２の支持部を第２のマウントの所定位置に位置決めすることにより、第２の支持部がフレームに対して重力方向と交差する一方向に沿った方向に移動できるように第２の支持部を支持し、第３のマウントは、第３の支持部がフレームに対して重力方向と交差する面内において移動できるように第３の支持部を支持してもよい。
【００１０】
本開示の他の１つの観点に係るレーザシステムは、レーザ光を増幅する増幅器と、増幅器を支持する第１〜第３の支持部とを含むモジュールと、モジュールが載置されるフレームであって、第１〜第３の支持部がそれぞれ載置される第１〜第３のマウントと、第１〜第３のマウントがそれぞれ載置される第１〜第３の設置部と、を含むフレームと、を含み、第１のマウントは、第１の支持部をフレームの所定位置に位置決めし、第２のマウントは、第２の設置部に形成された段差に沿って移動できるように第２の設置部に載置され、第２の設置部又は第２のマウントに設けられた弾性部材により、第２のマウントは段差に押し付けられ、第２のマウントは、第２の支持部を第２のマウントの所定位置に位置決めすることにより、第２の支持部がフレームに対して重力方向と交差する一方向に沿った方向に移動できるように第２の支持部を支持し、第３のマウントは、第３の支持部がフレームに対して重力方向と交差する面内において移動できるように第３の支持部を支持してもよい。
【００１１】
本開示の他の１つの観点に係るレーザシステムは、レーザ光を伝送するビーム伝送器と、ビーム伝送器を支持する第１〜第３の支持部とを含むモジュールと、モジュールが載置されるフレームであって、第１〜第３の支持部がそれぞれ載置される第１〜第３のマウントを含むフレームと、を含み、第１及び第２のマウントは、フレームの第１の面に設けられ、第３のマウントは、フレームの第２の面であって第１の面と交差する面に設けられ、第１のマウントは、第１の支持部を所定位置に位置決めし、第２のマウントは、第２の支持部が第１のマウントに近づく方向に沿った方向に移動できるように第２の支持部を支持し、第３のマウントは、第３の支持部が第２の面に沿った方向に移動できるように第３の支持部を支持してもよい。
【００１２】
本開示の１つの観点に係るフレームは、レーザ光を発振する発振器と、発振器を支持する支持部とを含む第１のモジュールと、レーザ光を伝送するビーム伝送器と、ビーム伝送器を支持する支持部とを含む第２のモジュールと、レーザ光を増幅する増幅器と、増幅器を支持する支持部とを含む第３のモジュールと、のうちの少なくとも２つのモジュールが載置されるフレームであって、少なくとも２つのモジュールの各々につき、支持部が載置されるマウントを含んでもよい。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
本開示のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の図面を参照して以下に説明する。
【図１】図１は、ＬＰＰ方式のＥＵＶ光生成装置の構成を概略的に示す。
【図２】図２は、本開示の第１の実施形態に係るＥＵＶ光生成システムの構成を示すブロック図である。
【図３Ａ】図３Ａは、第１の実施形態に係るレーザシステムを構成するモジュールの具体的な配置を示す斜視図である。
【図３Ｂ】図３Ｂは、図３Ａにおける下層部のモジュールの配置を示す斜視図である。
【図３Ｃ】図３Ｃは、図３Ａにおけるフレームを示す斜視図である。
【図４】図４は、レーザシステムを構成するモジュールの具体的な配置を示す平面図である。
【図５】図５は、第１のメインアンプの斜視図である。
【図６】図６は、第１のメインアンプを図５の矢印ＶＩで示す方向から見た平面図である。
【図７Ａ】図７Ａは、第１のメインアンプを図５の矢印ＶＩＩＡで示す方向から見た正面図である。
【図７Ｂ】図７Ｂは、車輪とメインアンプとの間の距離を長くした状態を示す正面図である。
【図８】図８は、第１のメインアンプを図５の矢印ＶＩＩＩで示す方向から見た側面図である。
【図９Ａ】図９Ａは、第２及び第３のプリアンプの斜視図である。
【図９Ｂ】図９Ｂは、第２及び第３のプリアンプを図９Ａの矢印ＩＸＢで示す方向から見た平面図である。
【図１０Ａ】図１０Ａは、第３のビーム伝送器の斜視図である。
【図１０Ｂ】図１０Ｂは、第３のビーム伝送器を図１０Ａの矢印ＸＢで示す方向から見た平面図である。
【図１１Ａ】図１１Ａは、マスターオシレータの正面図である。
【図１１Ｂ】図１１Ｂは、マスターオシレータを図１１Ａの矢印ＸＩＢで示す方向から見た平面図である。
【図１２】図１２は、本開示の第２の実施形態における第１のメインアンプの正面図である。
【図１３】図１３は、本開示の第３の実施形態における第１のメインアンプの正面図である。
【図１４】図１４は、本開示の第４の実施形態における第１のメインアンプの斜視図である。
【図１５】図１５は、本開示の第５の実施形態における第１のメインアンプの正面図である。
【図１６】図１６は、本開示の第６の実施形態における第１のメインアンプの側面図である。
【図１７】図１７は、本開示の第７の実施形態における第１のメインアンプの側面図である。
【図１８Ａ】図１８Ａは、本開示の第８の実施形態においてモジュールを支持するための構造を示す分解斜視図である。
【図１８Ｂ】図１８Ｂは、第８の実施形態においてモジュールを支持するための構造を示す斜視図である。
【図１９】図１９は、本開示の第９の実施形態においてモジュールを支持するための第２のマウントを示す断面図である。
【図２０Ａ】図２０Ａは、本開示の第１０の実施形態においてモジュールを支持するための構造を示す分解斜視図である。
【図２０Ｂ】図２０Ｂは、本開示の第１０の実施形態においてモジュールを支持するための構造を示す斜視図である。
【図２０Ｃ】図２０Ｃは、図２０Ｂの矢印ＸＸＣで示す方向から見た一部断面図である。
【図２１】図２１は、本開示の第１１の実施形態に係るＥＵＶ光生成システムの構成を示すブロック図である。
【図２２Ａ】図２２Ａは、第１１の実施形態に係るレーザシステムを構成するモジュールの具体的な配置を示す斜視図である。
【図２２Ｂ】図２２Ｂは、図２２Ａにおける下層部のモジュールの配置を示す斜視図である。
【図２２Ｃ】図２２Ｃは、図２２Ａにおけるフレームを示す斜視図である。
【実施形態】
【００１４】
内容
１．概要
２．用語の説明
３．ＥＵＶ光生成システムの全体説明
３．１ 構成
３．２ 動作
４．第１の実施形態
４．１ レーザシステムの構成
４．２ モジュールの配置
４．３ メインアンプの支持機構
４．４ プリアンプの支持機構
４．５ ビーム伝送器の支持機構
４．６ マスターオシレータの支持機構
５．第２の実施形態
６．第３の実施形態
７．第４の実施形態
８．第５の実施形態
９．第６の実施形態
１０．第７の実施形態
１１．第８の実施形態
１２．第９の実施形態
１３．第１０の実施形態
１４．第１１の実施形態
【００１５】
以下、本開示の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。以下に説明される実施形態は、本開示のいくつかの例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、各実施形態で説明される構成及び動作の全てが本開示の構成及び動作として必須であるとは限らない。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
【００１６】
１．概要
本開示の各実施形態においては、レーザ光を増幅するメインアンプ等のモジュールが、脚部を含み、脚部がフレームの所定位置に載置されることによってモジュールが位置決めされ得る。更に、このモジュールには車輪が取り付けられ、車輪は、モジュールとの間の距離を伸縮し得る。車輪とモジュールとの間の距離を離すことにより、脚部をフレームから離れさせれば、モジュールをフレームに対して移動させ得る。反対に、車輪とモジュールとの間の距離を近づけることにより、脚部をフレームの所定位置に載置すれば、モジュールをフレームの所定位置に位置決めし得る。
【００１７】
２．用語の説明
本開示において使用する用語を説明する。「チャンバ」は、ＥＵＶ光の生成が行われる空間を大気から隔絶するためのチャンバである。「ドロップレット生成器」は、ＥＵＶ光を生成するために用いられるスズ等のターゲット物質を液滴の状態でチャンバ内に供給する装置である。「レーザシステム」は、ターゲット物質を励起してプラズマ化するためのレーザ光を出力するシステムである。「プラズマ生成領域」とは、プラズマが生成される空間として予め設定された３次元空間である。レーザ光のエネルギーによってターゲット物質が励起されて放射される光には特定波長の光（ＥＵＶ光）が含まれている。「ＥＵＶ集光ミラー」は、プラズマ化されたターゲット物質から放射されるＥＵＶ光を高い反射率で反射して、チャンバ外に出力するミラーである。レーザ光の光軸または光路における「上流」とは、レーザ光の起源となるマスターオシレータに近い側を指す。一方、光軸または光路における「下流」とは、プラズマ生成領域に近い側を指す。
【００１８】
３．ＥＵＶ光生成システムの全体説明
３．１ 構成
図１に、例示的なＬＰＰ方式のＥＵＶ光生成装置１の構成を概略的に示す。ＥＵＶ光生成装置１は、少なくとも１つのレーザシステム３と共に用いられてもよい（ＥＵＶ光生成装置１及びレーザシステム３を含むシステムを、以下、ＥＵＶ光生成システム１１と称する）。図１に示し、かつ以下に詳細に説明されるように、ＥＵＶ光生成装置１は、チャンバ２、ターゲット供給装置（例えばドロップレット生成器２６）等を含んでもよい。チャンバ２は、密閉可能であってもよい。ターゲット供給装置は、例えばチャンバ２に取り付けられていてもよい。ターゲット供給装置から供給されるターゲットの材料は、スズ、テルビウム、ガドリニウム、リチウム、キセノンそれらのうちのいずれか２つ以上の組合せ等を含んでもよいが、これらに限定されない。
【００１９】
チャンバ２の壁には、少なくとも１つの貫通孔が設けられていてもよく、その貫通孔をレーザシステム３から出力されたパルスレーザ光３２が通過してもよい。或いは、チャンバ２には、レーザシステム３から出力されたパルスレーザ光３２が透過する少なくとも１つのウィンドウ２１が設けられてもよい。チャンバ２の内部には例えば、回転楕円面形状の反射面を有するＥＵＶ集光ミラー２３が配置されてもよい。ＥＵＶ集光ミラー２３は、第１及び第２の焦点を有し得る。ＥＵＶ集光ミラー２３の表面には例えば、モリブデンとシリコンとが交互に積層された多層反射膜が形成されていてもよい。ＥＵＶ集光ミラー２３は、例えば、第１の焦点がプラズマ生成領域２５に位置し、第２の焦点が露光装置の仕様によって規定される所望の集光位置（中間焦点（ＩＦ）２９２）に位置するように配置されるのが好ましい。ＥＵＶ集光ミラー２３の中央部には、貫通孔２４が設けられてもよい。
【００２０】
ＥＵＶ光生成装置１は、ＥＵＶ光生成制御システム５、ターゲットセンサ４等をさらに含んでもよい。ターゲットセンサ４は、撮像機能を有してもよく、ターゲットの存在、軌道、位置等を検出してもよい。
【００２１】
更に、ＥＵＶ光生成装置１は、チャンバ２内部と露光装置６内部とを連通させる接続部２９を含んでもよい。接続部２９内部には、アパーチャが形成された壁２９１が設けられてもよい。壁２９１は、そのアパーチャがＥＵＶ集光ミラー２３の第２の焦点位置に位置するように配置されてもよい。
【００２２】
更に、ＥＵＶ光生成装置１は、レーザ光進行方向制御部３４、レーザ光集光光学系２２、ドロップレットターゲット２７を回収するためのターゲット回収部２８等を含んでもよい。レーザ光進行方向制御部３４は、レーザ光の進行方向を規定するための光学素子と、この光学素子の位置や姿勢等を制御するためのアクチュエータとを備えてもよい。
【００２３】
３．２ 動作
図１を参照に、レーザシステム３から出力されたパルスレーザ光３１は、レーザ光進行方向制御部３４を経て、パルスレーザ光３２としてウィンドウ２１を透過して、チャンバ２に入射してもよい。パルスレーザ光３２は、少なくとも１つのレーザ光経路に沿ってチャンバ２内に進み、レーザ光集光光学系２２で反射されて、パルスレーザ光３３として少なくとも１つのドロップレットターゲット２７に照射されてもよい。
【００２４】
ドロップレット生成器２６からは、ドロップレットターゲット２７がチャンバ２内部のプラズマ生成領域２５に向けて出力されてもよい。ドロップレットターゲット２７には、パルスレーザ光３３に含まれる少なくとも１つのパルスレーザ光が照射され得る。パルスレーザ光が照射されたドロップレットターゲット２７はプラズマ化し、そのプラズマからＥＵＶ光２５１が放射され得る。ＥＵＶ光２５１は、ＥＵＶ集光ミラー２３によって集光されるとともに反射されてもよい。ＥＵＶ集光ミラー２３で反射されたＥＵＶ光２５２は、中間焦点２９２を通って露光装置６に出力されてもよい。なお、１つのドロップレットターゲット２７に、パルスレーザ光３３に含まれる複数のパルスレーザ光が照射されてもよい。
【００２５】
ＥＵＶ光生成制御システム５は、ＥＵＶ光生成システム１１全体の制御を統括してもよい。ＥＵＶ光生成制御システム５はターゲットセンサ４によって撮像されたドロップレットターゲット２７のイメージデータ等を処理してもよい。ＥＵＶ光生成制御システム５は、例えば、ドロップレットターゲット２７を出力するタイミングやドロップレットターゲット２７の出力方向等を制御してもよい。また、ＥＵＶ光生成制御システム５は、例えば、レーザシステム３のレーザ発振タイミングやパルスレーザ光３２の進行方向やパルスレーザ光３３の集光位置等を制御してもよい。上述の様々な制御は単なる例示に過ぎず、必要に応じて他の制御を追加してもよい。
【００２６】
４．第１の実施形態
４．１ レーザシステムの構成
図２は、本開示の第１の実施形態に係るＥＵＶ光生成システムの構成を示すブロック図である。ＥＵＶ光生成システム１１に含まれるレーザシステム３は、マスターオシレータ３００と、第１〜第３のプリアンプ３０１〜３０３と、第１及び第２のメインアンプ３０４及び３０５と、プリパルスレーザ部３０６と、光路調整部３０７とを含んでもよい。
【００２７】
マスターオシレータ３００（発振器）は、例えばＣＯ２レーザ装置によって構成されてもよい。マスターオシレータ３００は、メインパルスレーザ光の種光を生成するよう構成されてもよい。メインパルスレーザ光は、ターゲットに照射されることによってターゲットをプラズマ化し得る。
【００２８】
マスターオシレータ３００の下流側には、第１のプリアンプ３０１、第２のプリアンプ３０２、第３のプリアンプ３０３、第１のメインアンプ３０４及び第２のメインアンプ３０５が、この順で配置されてもよい。第１のプリアンプ３０１、第２のプリアンプ３０２、第３のプリアンプ３０３、第１のメインアンプ３０４及び第２のメインアンプ３０５は、マスターオシレータ３００によって生成されたメインパルスレーザ光の種光を順次増幅して、光路調整部３０７に出力するよう構成されてもよい。第１のプリアンプ３０１、第２のプリアンプ３０２及び第３のプリアンプ３０３は、それぞれ例えばスラブ型増幅器で構成されてもよい。第１のメインアンプ３０４及び第２のメインアンプ３０５は、それぞれ例えば高速軸流型増幅器で構成されてもよい。
【００２９】
第２のプリアンプ３０２の上流側及び下流側には、それぞれ、第１及び第２のビーム調節器（ＢＦ）３１１及び３１２が配置されてもよい。第３のプリアンプ３０３の上流側及び下流側には、それぞれ、第３及び第４のビーム調節器３１３及び３１４が配置されてもよい。
【００３０】
第１のプリアンプ３０１と第１のビーム調節器３１１との間には、第１のビーム伝送器（ＢＤ）３２１が配置されてもよい。第１のビーム伝送器３２１は、第１のプリアンプ３０１からの出射光を第１のビーム調節器３１１への入射位置へ伝送してもよい。
【００３１】
第４のビーム調節器３１４と第１のメインアンプ３０４との間には、第２及び第３のビーム伝送器３２２及び３２３が配置されてもよい。第２及び第３のビーム伝送器３２２及び３２３は、第４のビーム調節器３１４からの出射光を第１のメインアンプ３０４への入射位置へ伝送してもよい。
【００３２】
第１のメインアンプ３０４と第２のメインアンプ３０５との間には、第３及び第４のビーム伝送器３２３及び３２４が配置されてもよい。第３及び第４のビーム伝送器３２３及び３２４は、第１のメインアンプ３０４からの出射光を第２のメインアンプ３０５への入射位置へ伝送してもよい。
【００３３】
第２のメインアンプ３０５と光路調整部３０７との間には、第４及び第５のビーム伝送器３２４及び３２５が配置されてもよい。第４及び第５のビーム伝送器３２４及び３２５は、第２のメインアンプ３０５からの出射光を光路調整部３０７への入射位置へ伝送してもよい。
【００３４】
プリパルスレーザ部３０６は、プリパルスレーザ光を出力し得る。プリパルスレーザ光は、ドロップレットターゲット２７（図１参照）に照射されることにより、ドロップレットターゲット２７を拡散させ、拡散したターゲットに対するメインパルスレーザ光の吸収率を向上させ得る。プリパルスレーザ部３０６から出力されたプリパルスレーザ光は、光路調整部３０７に入射してもよい。光路調整部３０７に入射したメインパルスレーザ光及びプリパルスレーザ光は、第６のビーム伝送器３２６を介してＥＵＶ光生成装置１に入射してもよい。
【００３５】
４．２ モジュールの配置
図３Ａは、第１の実施形態に係るレーザシステムを構成するモジュールの具体的な配置を示す斜視図である。図３Ｂは、図３Ａにおける下層部のモジュールの配置を示す斜視図である。図３Ｃは、図３Ａにおけるフレームを示す斜視図である。図３Ｃに示すように、このフレームは複数の梁を組合わせた構造物であってもよい。上述のマスターオシレータ３００、第１〜第３のプリアンプ３０１〜３０３、第１及び第２のメインアンプ３０４及び３０５、プリパルスレーザ部３０６、光路調整部３０７、第１〜第４のビーム調節器３１１〜３１４、第１〜第４のビーム伝送器３２１〜３２４は、フレーム３３０によって支持されてもよい。なお、第６のビーム伝送器３２６及びＥＵＶ光生成装置１（図２参照）は、図３Ａに示す構成要素とは遠隔に配置されてもよいため、図３Ａには第６のビーム伝送器３２６を記載していない。図３Ａにおいて、ＸＹＺの３次元直交軸を規定し、以降の図においても共通の座標軸を用いる。ＸＹ平面は重力方向に直行する面、Ｚ方向は重力の逆方向である。
【００３６】
フレーム３３０は、少なくとも３つのフレーム支持部３３１〜３３３によって床面上に支持されてもよい。フレーム支持部３３１〜３３３は、例えば、エアーサスペンション装置によって構成されてもよい。
【００３７】
図３Ａに示すように、第１のプリアンプ３０１と第１のビーム伝送器３２１とは、１つの筐体に収容されてもよい。また、第５のビーム伝送器３２５と、プリパルスレーザ部３０６と、光路調整部３０７とは、それぞれ別の１つの筐体に収容されてもよい。
【００３８】
マスターオシレータ３００、第１のプリアンプ３０１、第１のビーム伝送器３２１、第２のビーム伝送器３２２、第５のビーム伝送器３２５、プリパルスレーザ部３０６及び光路調整部３０７は、レーザシステム３の上層部に配置されてもよい。図３Ｂに示すように、第２及び第３のプリアンプ３０２及び３０３、第１及び第２のメインアンプ３０４及び３０５、第１〜第４のビーム調節器３１１〜３１４は、レーザシステム３の下層部に配置されてもよい。
【００３９】
マスターオシレータ３００に隣接して、第１のプリアンプ３０１と第１のビーム伝送器３２１とを収容した筐体が配置されてもよい。第１のプリアンプ３０１と第１のビーム伝送器３２１とが収容された筐体の下方に、図３Ｂに示す第１のビーム調節器３１１が配置されてもよい。
【００４０】
図３Ｂに示すように、第１のビーム調節器３１１に隣接して、第２のプリアンプ３０２が配置されてもよい。第２のプリアンプ３０２に隣接して、第２のビーム調節器３１２が配置されてもよい。第２のビーム調節器３１２に隣接して、第３のビーム調節器３１３が配置されてもよい。第３のビーム調節器３１３に隣接して、第３のプリアンプ３０３が配置されてもよい。第３のプリアンプ３０３に隣接して、第４のビーム調節器３１４が配置されてもよい。第４のビーム調節器３１４の上方に、図３Ａに示す第２のビーム伝送器３２２が配置されてもよい。
【００４１】
図３Ａに示すように、第２のビーム伝送器３２２に隣接して、第３のビーム伝送器３２３が配置されてもよい。第３のビーム伝送器３２３に隣接していて、かつ第２のビーム伝送器３２２の下方の位置に、第１のメインアンプ３０４が配置されてもよい。また、第３のビーム伝送器３２３に隣接して、第４のビーム伝送器３２４が配置されてもよい。第４のビーム伝送器３２４に隣接して、第２のメインアンプ３０５が配置されてもよい。また、第４のビーム伝送器３２４に隣接していて、かつ第２のメインアンプ３０５の上方には、第５のビーム伝送器３２５、プリパルスレーザ部３０６及び光路調整部３０７が収容された筐体が配置されてもよい。
【００４２】
図３Ｂに示すように、第２のプリアンプ３０２及び第３のプリアンプ３０３は、それぞれ、水平面（Ｘ−Ｙ平面）に対して所定角度θ（例えばθ＝４５°）傾いた状態で配置されてもよい。このように傾いて配置されるプリアンプに入射するメインパルスレーザ光は、プリアンプの傾斜方向に対し、ビーム断面形状の長手方向が略一致するようなたとえば楕円形状のレーザ光であってもよい。そこで、第１の実施形態では、第１のビーム調節器３１１によって、ビーム断面形状が略円形のメインパルスレーザ光を、ビーム断面形状が一方向に長いレーザ光に変換してもよい。そして、第１のビーム調節器３１１は、メインパルスレーザ光のビーム断面形状の長手方向と第２のプリアンプ３０２の傾斜方向とが略一致するように、メインパルスレーザ光を第２のプリアンプ３０２に入射させてもよい。
【００４３】
第２のビーム調節器３１２は、第２のプリアンプ３０２から出力されたメインパルスレーザ光を、ビーム断面形状が略円形のレーザ光に戻してもよい。第３のビーム調節器３１３は、ビーム断面形状が略円形のメインパルスレーザ光を、ビーム断面形状が一方向に長いレーザ光に変換してもよい。あるいは、第２のビーム調節器３１２は、第２のプリアンプ３０２から出力されたメインパルスレーザ光を、ビーム断面形状が一方向に長いレーザ光で第３のビーム調節器３１３に入射してもよい。この際、メインパルスレーザ光のダイバージェンスやビーム断面積が調整されてもよい。そして、第３のビーム調節器３１３は、メインパルスレーザ光のビーム断面の長手方向と第３のプリアンプ３０３の傾斜方向とが一致するように、メインパルスレーザ光を第３のプリアンプ３０３に入射させてもよい。第４のビーム調節器３１４は、第３のプリアンプ３０３から出力されたメインパルスレーザ光を、ビーム断面形状が略円形のレーザ光に戻してもよい。
【００４４】
第２及び第３のプリアンプ３０２及び３０３、並びに第１及び第２のメインアンプ３０４及び３０５は、メインパルスレーザ光のエネルギー増幅量が多い場合がある。そのため、これらの装置は、上流側のマスターオシレータ３００及び第１のプリアンプ３０１に比べて、大きく且つ重い装置であり得る。そこで、第２及び第３のプリアンプ３０２及び３０３、並びに第１及び第２のメインアンプ３０４及び３０５のメンテナンスを容易にするため、これらの装置をレーザシステム３の下層部に配置してもよい。
【００４５】
図４は、レーザシステムを構成するモジュールの具体的な配置を示す平面図である。マスターオシレータ３００、第１〜第３のプリアンプ３０１〜３０３、第１及び第２のメインアンプ３０４、３０５、プリパルスレーザ部３０６、光路調整部３０７、第１〜第４のビーム調節器３１１〜３１４、第１〜第４のビーム伝送器３２１〜３２４等のモジュールは、フレーム３３０から取り外してメンテナンスできるようにしてもよい。例えば、マスターオシレータ３００、第２及び第３のプリアンプ３０２及び３０３、第１及び第２のメインアンプ３０４及び３０５は、設置面に対して平行に（たとえば図４におけるＸＹ方向に）移動してメンテナンスできるようにしてもよい。以下に、これらのモジュールをフレーム３３０に対して位置決めしたり、フレーム３３０から取り外したりするための構成について説明する。
【００４６】
４．３ メインアンプの支持機構
図５は、第１のメインアンプの透視斜視図である。図６は、第１のメインアンプを図５の矢印ＶＩで示す方向から見た透視平面図である。図７Ａは、第１のメインアンプを図５の矢印ＶＩＩＡで示す方向から見た透視正面図である。図８は、第１のメインアンプを図５の矢印ＶＩＩＩで示す方向から見た透視側面図である。
【００４７】
１つのモジュールを構成し得る第１のメインアンプ３０４は、例えば高速軸流型増幅器を含んでもよい。高速軸流型増幅器は、入射窓４０１と、複数の放電管４１１〜４１８と、ミラー４２１〜４２８と、出射窓４０２とを含んでもよい。入射窓４０１は、Ｘ軸に沿って第３のビーム伝送器３２３（図３Ａ参照）からのレーザ光が入射するための透明な窓であってもよい。出射窓４０２は、Ｘ軸に沿って第３のビーム伝送器３２３へレーザ光が出射するための透明な窓であってもよい。
【００４８】
図６に示すように、放電管４１１〜４１８各々の外周に一対の電極４３３及び４３４を含んでもよい。また、放電管４１１〜４１８の各々の内部には、レーザ媒質としてＣＯ２ガスを含む混合ガスが供給されてもよい。
【００４９】
放電管４１１〜４１８の各々において、図示しない外部のＲＦ電源装置から電極４３３と電極４３４との間に高周波電圧が印加されてもよい、これにより、ＣＯ２ガスを含む混合ガスが励起され、励起された領域を通過するレーザ光が増幅され得る。レーザ光は、入射窓４０１から放電管４１１へ入射され、ミラー４２１〜４２８（図５参照）によって反射されて放電管４１２〜４１８内を通過することで順次増幅されて、Ｘ軸に沿って出射窓４０２から出力され得る。
【００５０】
第１のメインアンプ３０４は、脚部（支持部）４４１〜４４３を更に含んでもよい。脚部（支持部）は少なくとも３箇所にもうけられ、３点でメインアンプを支持してもよい。望ましくは、脚部４４１は、第１のメインアンプ３０４の入射窓４０１及び出射窓４０２側の位置に設けられてもよい。また、脚部４４２は、脚部４４１から見て、入射窓４０１からの入射光の入射方向側の位置に設けられてもよい。また、脚部４４３は、脚部４４１及び４４２が設けられる側とは反対側に設けられてもよい。
【００５１】
図７Ａに示すように、フレーム３３０は、脚部４４１〜４４３が載置されるマウント３４１〜３４３を含んでもよい。脚部４４１〜４４３がマウント３４１〜３４３にそれぞれ載置されることにより、第１のメインアンプ３０４がフレーム３３０に支持されてもよい。
【００５２】
マウント３４１の上面には、円錐状の窪み３４１ａが形成されてもよい。マウント３４２の上面には、断面がＶ字状の溝３４２ａが形成されてもよい。溝３４２ａは、入射窓４０１からの入射光の入射方向（Ｘ軸方向）と平行で、且つ出射窓４０２からの出射光の出射方向と平行な方向（Ｘ軸方向）に形成されてもよい。マウント３４３の上面は、平面状になっていてもよい。
【００５３】
脚部４４１がマウント３４１に載置されることにより、脚部４４１がＸＹ方向には動き難い。脚部４４２がマウント３４２に載置されることにより、脚部４４２は、溝３４２ａに沿った方向に移動できるように支持され得る。すなわち、脚部４４２は、入射窓４０１からの入射光の入射方向（Ｘ軸方向）と平行で、且つ出射窓４０２からの出射光の出射方向（Ｘ軸方向）と平行な方向に移動できるように支持され得る。脚部４４３は、マウント３４３に載置されることにより、マウント３４３の上面に沿って移動できるように支持され得る。すなわち、脚部４４３は、重力方向と交差する面内において移動できるように支持され得る。
【００５４】
図６に示すように、脚部４４１及び４４２は、入射窓４０１からの入射光の軸（出射窓４０２からの出射光の軸）を第１のメインアンプ３０４内に延長した線の直下に設けられてもよい。そして、脚部４４１は、入射窓４０１側（出射窓４０２側）に設けられ、第１のメインアンプ３０４をフレーム３３０に対して位置決めしてもよい。
【００５５】
以上の構成により、第１のメインアンプ３０４が熱により膨張または変形した場合でも、入射窓４０１及び出射窓４０２の空間的な位置が変動することが抑制される。さらに、出射光の出射方向が入射光の入射方向に対して相対的に変位することが抑制される。
【００５６】
図６，図７Ａに示すように第１のメインアンプ３０４には、複数の伸縮機構（昇降機構）４６１、４６２、４６３、４６４が取り付けられ、これらの伸縮機構には、車輪（ガイドフォロア）４５１、４５２、４５３、４５４が取り付けられてもよい。なお、伸縮機構４６３および４６４に取り付けられた車輪４５３および４５４は図７Ａにおいてそれぞれ車輪４５１および４５２の奥に隠れてあり、その図示は省略した。また、フレーム３３０には、平行に配置される２本のレール（ガイド）３５１及び３５２が設けられてもよい。この構成において、伸縮機構４６１、４６２、４６３、４６４を伸張することで図７Ｂ、図８に示す状態としてもよい。
【００５７】
図７Ｂは、伸縮機構４６１、４６２、４６３、４６４を伸張することで車輪とメインアンプとの間の距離を長くした状態を示す正面図である。伸縮機構４６１〜４６４によって、車輪４５１〜４５４と第１のメインアンプ３０４との間の距離を離すことにより、メインアンプに固定された脚部４４１〜４４３がフレーム３３０に固定されたマウント３４１〜３４３から離れ得る。これにより、車輪４５１〜４５４がレール３５１及び３５２上を走行することができ、第１のメインアンプ３０４をフレーム３３０に対して移動させることができる。
【００５８】
更に、図８に示すように、フレーム３３０の近くに、台車７を用意してもよい。台車７には、例えば、平行に配置される２本のレール７５１及び７５２が設けられてもよい。これにより、フレーム３３０上の位置から台車７上の位置に第１のメインアンプ３０４を移動させ、所望のメンテナンスエリアに運搬してもよい。
【００５９】
また、台車７には、マウント３４１〜３４３と同様に配置されるマウント７６１〜７６３を設けてもよい。マウント７６１〜７６３は、第１のメインアンプ３０４が台車７に対して固定され得る形状に形成されてもよい。メインアンプ３０４はレール７５１及び７５２によって、メインアンプ３０４の脚部４４１〜４４３がそれぞれ対応する、台車７上のマウント７６１〜７６３の直上位置に移動してもよい。この状態で、伸縮機構４６１〜４６４を短縮することで、車輪４５１〜４５４と第１のメインアンプ３０４との間の距離を近づけてもよい。これにより、脚部４４１〜４４３を台車７上のマウント７６１〜７６３にそれぞれ載置し、第１のメインアンプ３０４を台車７上に安定的に載置することができる。
【００６０】
４．４ プリアンプの支持機構
図９Ａは、第２及び第３のプリアンプの透視斜視図である。図９Ｂは、第２及び第３のプリアンプを図９Ａの矢印ＩＸＢで示す方向から見た透視平面図である。図９Ａ及び図９Ｂにおいて、第３のプリアンプ３０３についてはその内部を透視図として示し、第２のプリアンプ３０２については内部の図示を省略しているが、これらの構成は同様としてもよい。
【００６１】
１つのモジュールを構成し得る第３のプリアンプ３０３は、例えばスラブ型増幅器を含んでもよい。スラブ型増幅器は、入射窓５０１と、出射窓５０２と、一対の凹面ミラー５０３及び５０４と、一対の放電電極５０５及び５０６と、を含んでもよい。
【００６２】
入射窓５０１は、第３のビーム調節器３１３（図３Ｂ参照）からのレーザ光が入射するための透明な窓であってもよい。出射窓５０２は、第４のビーム調節器３１４へレーザ光が出射するための透明な窓であってもよい。一対の放電電極５０５と５０６との間には、図示しない電源装置によって、高電圧を印加してもよい。放電電極５０５と放電電極５０６との間には、図示しないレーザチャンバによって、ガス状のレーザ媒質が大気から隔絶された状態で保持されてもよい。
【００６３】
一対の凹面ミラー５０３及び５０４は、レーザ光を反射することにより、放電電極５０５と放電電極５０６との間においてレーザ光を所定回数ジグザグに進行させ、マルチパス増幅光路を形成させ得る。放電電極５０５と５０６との間に高電圧を印加することでガス状のレーザ媒質を励起状態としてもよい。入射窓５０１から入射したメインパルスレーザ光は、一対の凹面ミラー５０３及び５０４によって反射されて励起状態のレーザ媒質内をジグザグに進行する際に増幅され、出射窓５０２から出力され得る。入射窓５０１からの入射光の入射方向と、出射窓５０２からの出射光の出射方向とは、同一方向ではないが、ほぼ一致した方向となり得る。
【００６４】
図５〜図８を参照しながら説明した第１のメインアンプ３０４と同様に、第３のプリアンプ３０３は、脚部５４１〜５４３を更に含んでもよい。脚部５４１は、第３のプリアンプ３０３の出射窓５０２側の位置に設けられてもよい。脚部５４２は、第３のプリアンプ３０３の入射窓５０１側の位置に設けられてもよい。脚部５４３は、脚部５４１及び５４２が設けられる側とは反対側に設けられてもよい。
【００６５】
フレーム３３０は、脚部５４１〜５４３が載置されるマウント３４１〜３４３を含んでもよい。マウント３４１〜３４３の構成は、図５〜図８を参照しながら説明した構成と同様でもよい。但し、マウント３４２の溝３４２ａは、入射窓５０１からの入射光の入射方向と、出射窓５０２からの出射光の出射方向とにほぼ一致した方向に形成されてもよい。なお、マウント３４１，３４２の位置は入れ替えてもよく、Ｖ字型溝と円錐状の窪みはそれぞれどちらに設置されても良い。
【００６６】
図９Ｂに示すように、脚部５４１及び５４２は、それぞれ、出射窓５０２からの出射光の軸及び入射窓５０１からの入射光の軸を第３のプリアンプ３０３内に延長した線の直下に設けられてもよい。以上の構成により、第３のプリアンプ３０３が熱により膨張または変形した場合でも、入射窓５０１及び出射窓５０２の空間的な位置が変動することが抑制される。さらに、出射光の出射方向が入射光の入射方向に対して相対的に変位することが抑制される。
【００６７】
図９Ａに示すように第３のプリアンプ３０３には、複数の伸縮機構４６１、４６２、４６３、４６４が取り付けられ、これらの伸縮機構には、車輪４５１、４５２、４５３、４５４が取り付けられてもよい。また、フレーム３３０には、平行に配置される２本のレール３５１及び３５２が設けられてもよい。これらの構成要素の構成は、図５〜図８を参照しながら説明した構成と同様でもよい。さらに、図８を参照しながら説明したのと同様に、第３のプリアンプ３０３を台車に載せて運搬できるように構成してもよい。
【００６８】
４．５ ビーム伝送器の支持機構
図１０Ａは、第３のビーム伝送器の透視斜視図である。図１０Ｂは、第３のビーム伝送器を図１０Ａの矢印ＸＢで示す方向から見た平面図である。
【００６９】
１つのモジュールを構成し得る第３のビーム伝送器３２３は、第１の入射窓６０１と、第１の出射窓６０２と、第２の入射窓６０３と、第２の出射窓６０４と、第１〜第３の高反射ミラー６０５〜６０７と、を含んでもよい。
【００７０】
第１の入射窓６０１は、第２のビーム伝送器３２２（図３Ａ参照）からのレーザ光が入射するための透明な窓でもよい。第１の出射窓６０２は、第１のメインアンプ３０４へレーザ光が出射するための透明な窓でもよい。第２の入射窓６０３は、第１のメインアンプ３０４からのレーザ光が入射するための透明な窓でもよい。第２の出射窓６０４は、第４のビーム伝送器３２４へレーザ光が出射するための透明な窓でもよい。
【００７１】
第１の入射窓６０１から入射したメインパルスレーザ光を反射して、第１の出射窓６０２から出力されるように、第１及び第２の高反射ミラー６０５及び６０６が配置されていてもよい。第２の入射窓６０３から入射したメインパルスレーザ光を反射して、第２の出射窓６０４から出力されるように、第３の高反射ミラー６０７が配置されていてもよい。このように、第１の高反射ミラー６０５、第２の高反射ミラー６０６、および第３の高反射ミラー６０７は入射したビームの方向を規定して反射するようにしてもよい。
【００７２】
第１の入射窓６０１からの入射光の入射方向と、第１の出射窓６０２からの出射光の出射方向と、第２の入射窓６０３からの入射光の入射方向とは、ほぼ平行でもよい。第２の入射窓６０３からの入射光の入射方向と、第２の出射窓６０４からの出射光の出射方向とは、ほぼ直交してもよい。このように、第１の高反射ミラー６０５、第２の高反射ミラー６０６、および第３の高反射ミラー６０７に対する入射角と反射角は約４５度であってもよい。
【００７３】
図５〜図８を参照しながら説明した第１のメインアンプ３０４と同様に、第３のビーム伝送器３２３は、脚部６４１〜６４３を更に含んでもよい。脚部６４１は、第２の入射窓６０３からの入射光の軸と、第２の出射窓６０４からの出射光の軸を第３のビーム伝送器３２３内に延長した線の直下に設けられてもよい。たとえば高反射ミラー６０７の直下に設けられてもよい。脚部６４２は、脚部６４１から見て、第２の出射窓６０４からの出射光の出射方向とは反対側の位置に設けられてもよい。脚部６４３は、脚部６４１及び６４２が設けられる側とは反対側に設けられてもよい。
【００７４】
フレーム３３０（図３Ａ参照）は、脚部６４１〜６４３が載置されるマウント３４１〜３４３を含んでもよい。マウント３４１〜３４３の構成は、図５〜図８を参照しながら説明した構成と同様でもよい。また、マウント３４２の溝３４２ａは、第２の出射窓６０４からの出射光の出射方向と平行な方向に形成されてもよい。
【００７５】
図５〜図８を参照しながら説明したのと同様に、第３のビーム伝送器３２３には、複数の伸縮機構及び車輪を取り付けてもよい。また、図８を参照しながら説明したのと同様に、第３のビーム伝送器３２３を台車に載せて運搬できるように構成してもよい。これらの運搬機構は、第３のビーム伝送器３２３の重量が大きくない場合には、設けられなくてもよい。ビーム伝送器にレーザ光が入射又は出射するための窓６０１〜６０４が設けられた実施形態を示した。しかし、この実施形態に限定されることなく、レーザシステム３の設置空間が十分なクリーン度に保たれている場合、各窓を備えず各窓に対応する位置にレーザ光が通過する貫通孔が設けられてもよい。また、窓の有無にかかわらず、安全のためにビーム伝送器と他のモジュールとの間にレーザ光が通過するための配管が設けられてもよい。
【００７６】
４．６ マスターオシレータの支持機構
図１１Ａは、マスターオシレータの透視正面図である。図１１Ｂは、マスターオシレータを図１１Ａの矢印ＸＩＢに示す方向から見た透視平面図である。
【００７７】
１つのモジュールを構成し得るマスターオシレータ３００は、出力結合ミラー７０１と、高反射ミラー７０２と、一対の放電電極７０３及び７０４と、Ｑスイッチ７０５と、出射窓７０６とを含んでもよい。
【００７８】
出射窓７０６は、第１のプリアンプ３０１（図３Ａ参照）へレーザ光が出射するための透明な窓でもよい。一対の放電電極７０３と７０４との間には、図示しない電源装置によって、高電圧が印加されてもよい。放電電極７０３と放電電極７０４との間には、図示しないレーザチャンバにより、レーザ媒質としてＣＯ２ガスを含む混合ガスが保持されてもよい。
【００７９】
放電電極７０３と７０４との間に電源装置から高電圧が印加されると、放電電極７０３と７０４との間に放電が起こり得る。この放電のエネルギーにより、レーザ媒質が励起されて高エネルギー準位に移行し得る。励起されたレーザ媒質が、その後低エネルギー準位に移行するとき、そのエネルギー準位差に応じた光が放出され得る。
【００８０】
励起されたレーザ媒質から放出された光は、光共振器を構成する出力結合ミラー７０１と高反射ミラー７０２との間で往復し、放電電極７０３と７０４との間（レーザゲイン空間）を通過する度に増幅され得る。Ｑスイッチ７０５は、レーザ媒質を構成する原子の多くが励起状態になるまで光損失を大きい状態に保って発振を抑え、レーザ媒質を構成する原子の多くが励起状態になったときに光損失を低下させ得る。Ｑスイッチ７０５が備えられることにより、パルス状のレーザ光が生成され得る。高いエネルギーに増幅されたパルスレーザ光の一部が、出力結合ミラー７０１を介して出力され得る。出力結合ミラー７０１を通過したパルスレーザ光は、出射窓７０６を介して第１のプリアンプ３０１に出力され得る。
【００８１】
図５〜図８を参照しながら説明した第１のメインアンプ３０４と同様に、マスターオシレータ３００は、脚部７４１〜７４３を更に含んでもよい。脚部７４１は、マスターオシレータ３００の出射窓７０６側の位置に設けられてもよい。脚部７４２は、脚部７４１に対して、出射窓７０６からの出射光の出射方向とは反対側の位置に設けられてもよい。または、脚部７４１は出力結合ミラー７０１の直下に、脚部７４２は高反射ミラー７０２の直下に配置されるようにしてもよい。脚部７４３は、脚部７４１及び７４２が設けられる側とは反対側に設けられてもよい。または、脚部７４１は出力結合ミラー７０１の直下に、脚部７４２は高反射ミラー７０２の直下に配置されるようにしてもよい。
【００８２】
フレーム３３０は、脚部７４１〜７４３が載置されるマウント３４１〜３４３を含んでもよい。マウント３４１〜３４３の構成は、図５〜図８を参照しながら説明した構成と同様でもよい。但し、マウント３４２の溝３４２ａは、出射窓７０６からの出射光の出射方向と平行な方向に形成されてもよい。
【００８３】
図１１Ｂに示すように、脚部７４１及び７４２は、出射窓７０６からの出射光の軸をマスターオシレータ３００内に延長した線の直下に設けられてもよい。そして、脚部７４１は、出射窓７０６側に設けられ、マスターオシレータ３００をフレーム３３０に対して位置決めしてもよい。
【００８４】
以上の構成により、マスターオシレータ３００が熱により膨張または変形した場合でも、出射窓７０６から出力される出射光の軸からずれることが抑制され得る。
【００８５】
マスターオシレータ３００には、複数の伸縮機構４６１、４６２、４６３、４６４が取り付けられ、これらの伸縮機構には、車輪４５１、４５２、４５３、４５４が取り付けられてもよい。また、フレーム３３０には、２本の平行に配置されるレール３５１及び３５２が設けられてもよい。これらの構成要素の構成は、図５〜図８を参照しながら説明した構成と同様でもよい。
【００８６】
５．第２の実施形態
図１２は、本開示の第２の実施形態における第１のメインアンプの透視正面図である。第２の実施形態において、第１のメインアンプ３０４は、支持部３４４〜３４６を含んでもよい。支持部３４４の下面には、円錐状の窪み３４１ａが形成されてもよい。支持部３４５の下面には、断面がＶ字状の溝３４２ａが形成されてもよい。溝３４２ａは、入射窓４０１からの入射光の入射方向と平行で、且つ出射窓４０２からの出射光の出射方向と平行な方向に形成されてもよい。支持部３４６の下面は、平面状になっていてもよい。
【００８７】
一方、フレーム３３０は、支持部３４４〜３４６が載置される脚部（マウント）４４４〜４４６を含んでもよい。脚部４４４〜４４６は、フレーム３３０の下方から上方に向けて突出していてもよい。
【００８８】
このように、第２の実施形態は、支持部とマウントとの関係が逆になっている点で、図７Ａを参照しながら説明した第１の実施形態と異なる。他の点については、図７Ａを参照しながら説明した第１の実施形態と同様でよい。
【００８９】
６．第３の実施形態
図１３は、本開示の第３の実施形態における第１のメインアンプの透視正面図である。図１３は、車輪と第１のメインアンプ３０４との間の距離を長くした状態を示している。第３の実施形態において、伸縮機構４６１、４６２および図示を省略した伸縮機構４６３、４６４に固定されたプレート４６５は、伸縮機構４６１、４６２、４６３および４６４によって、車輪４５１及び４５２と一緒に押し下げられてもよい。プレート４６５にはマウント４４１〜４４３が貫通することのできる貫通孔が形成されていてもよい。伸縮機構を伸張することにより、車輪４５１、４５２および図示を省略した車輪４５３、４５４と第１のメインアンプ３０４との間の距離を離すようにしてもよい。プレート４６５に伸縮機構４６１〜４６４が固定されているため、各伸縮機構の伸縮速度が異なっていてもメインアンプ３０４を略水平に保持するようにしてもよい。他の点については、図７Ｂを参照しながら説明した第１の実施形態と同様でよい。
【００９０】
７．第４の実施形態
図１４は、本開示の第４の実施形態における第１のメインアンプの透視斜視図である。第４の実施形態において、レール３５１及び３５２上を走行する車輪が設けられなくてもよい。伸縮機構４６１、４６２、４６３および図示を省略した伸縮機構４６４には、ガイドフォロア４５５、４５６、４５７および図示を省略したガイドフォロア４５８が取り付けられていてもよい。これらのガイドフォロア４５５、４５６、４５７、４５８が、レール３５１及び３５２上を滑ることにより走行するように構成してもよい。他の点については、図５を参照しながら説明した第１の実施形態と同様でよい。
【００９１】
８．第５の実施形態
図１５は、本開示の第５の実施形態における第１のメインアンプの正面図である。第５の実施形態において、レールを備えず、車輪４５１及び４５２が、フレーム３３０の任意の面上を走行するよう構成されてもよい。
【００９２】
図１５に示すように、フレーム３３０には、一本のガイド３５９が設けられてもよい。一方、第１のメインアンプ３０４には、ガイド３５９に沿って動くガイドフォロア４５９が設けられていてもよい。ガイド３５９は断面がＵ字状でもよく、ガイドフォロア４５９は、このガイド３５９に挟まれた状態でガイド３５９に沿って動くように構成されてもよい。他の点については、図７Ａを参照しながら説明した第１の実施形態と同様でよい。
【００９３】
９．第６の実施形態
図１６は、本開示の第６の実施形態における第１のメインアンプの側面図である。第６の実施形態において、フレーム３３０には、レールではなく複数の車輪３７１〜３７３が設けられていてもよい。車輪３７１〜３７３は、フレーム３３０上の所定の位置で回転できるように構成されてもよい。一方、第１のメインアンプ３０４の伸縮機構４６１及び４６３には、レール４７１が固定されていてもよい。レール４７１は、車輪３７１〜３７３の上に配置されてもよい。車輪３７１〜３７３の回転に伴って、第１のメインアンプ３０４がレール４７１と共に移動するように構成されてもよい。
【００９４】
さらに、台車７にも複数の車輪７７１〜７７３が設けられていてもよい。これにより、フレーム３３０上の位置から台車７上の位置へ第１のメインアンプ３０４を移動させ、所望のメンテナンスエリアに運搬してもよい。
【００９５】
このように、第６の実施形態は、レールと車輪との関係が逆になっている点で、図８を参照しながら説明した第１の実施形態と異なる。他の点については、図８を参照しながら説明した第１の実施形態と同様でよい。
【００９６】
１０．第７の実施形態
図１７は、本開示の第７の実施形態における第１のメインアンプの側面図である。第７の実施形態においては、レール（ガイド）及び車輪（ガイドフォロア）がなくてもよい。図１７に示すように、第１のメインアンプ３０４の下面には、エア吹出し装置（昇降機構）４７５が設けられていてもよい。エア吹出し装置４７５の周囲には、スカート４７６が設けられていてもよい。エア吹出し装置４７５から高圧ガスを噴出することにより、スカート４７６の内側のガス圧が大気圧よりも上昇し、第１のメインアンプ３０４を上昇させてもよい。これにより、僅かな力で第１のメインアンプ３０４をフレーム３３０上の位置から台車７上の位置へ移動させてもよい。他の点については、図８を参照しながら説明した第１の実施形態と同様でよい。
【００９７】
１１．第８の実施形態
図１８Ａは、本開示の第８の実施形態においてモジュールを支持するための構造を示す分解斜視図である。図１８Ｂは、第８の実施形態においてモジュールを支持するための構造を示す斜視図である。図１８Ａ及び図１８Ｂにおいて、モジュールはその脚部４４１〜４４３のみが図示されている。
【００９８】
第８の実施形態において、マウント３６１〜３６３の上面には、それぞれ円錐状の窪み３６１ａ〜３６３ａが形成されていてもよい。なお、窪みの形状は円錐以外の形状でもよく、たとえば半球状の窪みでもよい。マウント３６１は、フレーム３３０の設置部３６１ｂ上に、ピン３６１ｃ又はボルトにより固定されていてもよい。これにより、脚部４４１が水平方向に動き難いように位置決めされてもよい。
【００９９】
フレーム３３０には、載置台３６２ｄがピン３６２ｃ又はボルトにより固定されていてもよい。マウント３６２が、載置台３６２ｄの上に載置されてもよい。載置台３６２ｄの上面には、段差３６２ｅと傾斜とを有する設置部３６２ｂが形成されていてもよい。マウント３６２の下面には、段差３６２ｅに対応する段差３６２ｆが形成されていてもよい。これらの段差３６２ｅと段差３６２ｆとは、例えば、直方体状のキーと、これに対応する形状のキー溝とによって形成されてもよい。マウント３６２は、載置台３６２ｄに固定されなくてもよい。
【０１００】
マウント３６２が載置台３６２ｄの設置部３６２ｂ上に載置されたとき、重力によって、マウント３６２が設置部３６２ｂの傾斜に従って滑ることにより、段差３６２ｅに段差３６２ｆが押し付けられてもよい。設置部３６２ｂは、水平面に対して摩擦角以上の傾斜角を有することが望ましい。マウント３６２は、段差３６２ｅに押し付けられた状態で、段差３６２ｅに沿って移動可能であってもよい。これにより、モジュールの脚部４４２は、段差３６２ｅに沿って移動できてもよい。
【０１０１】
マウント３６３は、フレーム３３０の設置部３６３ｂ上に載置されてもよく、設置部３６３ｂに固定されなくてもよい。マウント３６３が設置部３６３ｂに載置されたとき、マウント３６３は、設置部３６３ｂの面に沿って移動可能であってもよい。これにより、脚部４４３は、マウント３６３と共に重力方向と交差する面内において移動できるように支持され得る。
【０１０２】
第８の実施形態によれば、マウント３６１〜３６３に形成された円錐状の窪み３６１ａ〜３６３ａによって、脚部４４１〜４４３を支持するので、マウント３６１〜３６３と脚部４４１〜４４３との接触箇所が点状ではなく線状となり荷重が分散し得る。従って、マウント３６１〜３６３と脚部４４１〜４４３とがモジュールの大きな荷重にも耐え得る。なお、脚部４４１〜４４３の先端は丸い必要は無く、前記窪み内に接する大きさと形状を有すればよい。
【０１０３】
また、第８の実施形態によれば、マウント３６２を載置するための載置台３６２ｄの上面が傾斜し、且つ段差３６２ｅが形成されているので、マウント３６２が段差３６２ｅに押し付けられ得る。そのため、マウント３６２が段差３６２ｅに沿って精度よく位置決めされ得る。他の点については、図８を参照しながら説明した第１の実施形態と同様でよい。
【０１０４】
１２．第９の実施形態
図１９は、本開示の第９の実施形態においてモジュールを支持するためのマウントを示す断面図である。第９の実施形態においては、第８の実施形態におけるマウント３６２及び載置台３６２ｄ（図１８Ａ参照）の代わりに、傾斜を有しない設置部３８２ｂ上に載置されたマウント３８２が用いられてもよい。
【０１０５】
設置部３８２ｂには、段差３８２ｅが形成されていてもよい。マウント３８２の下面には、段差３８２ｅに対応する段差３８２ｆが形成されていてもよい。これらの段差は、例えば、設置部３８２ｂにピン３８２ｃ又はボルトにより固定されたキー３８２ｇと、キー３８２ｇに対応する形状のキー溝３８２ｈとによって形成されてもよい。
【０１０６】
マウント３８２には、弾性部材によってキー溝３８２ｈ内部に向かって付勢されたプランジャ３８２ｉが設けられていてもよい。マウント３８２が設置部３８２ｂに載置されたとき、プランジャ３８２ｉは、キー３８２ｇを押圧してもよい。これにより、段差３８２ｅに段差３８２ｆが押し付けられてもよい。マウント３８２は、段差３８２ｅに押し付けられた状態で、段差３８２ｅに沿って（図１９の奥行方向に）移動可能であってもよい。これにより、モジュールの脚部４４２は、段差３８２ｅに沿って移動できるように支持され得る。他の点については、図１８Ａ及び図１８Ｂを参照しながら説明した第８の実施形態と同様でよい。
【０１０７】
１３．第１０の実施形態
図２０Ａは、本開示の第１０の実施形態においてモジュールを支持するための構造を示す分解斜視図である。図２０Ｂは、本開示の第１０の実施形態においてモジュールを支持するための構造を示す斜視図である。図２０Ｃは、図２０Ｂの矢印ＸＸＣで示す方向から見た一部断面図である。図２０Ａ〜図２０Ｃにおいて、モジュール内の光学素子及びレーザ光が通過する窓又は配管は、図示を省略している。
【０１０８】
第１０の実施形態において、フレーム３３０はフレーム形状の他にプレート形状の部分を有してもよい。フレーム３３０のプレート形状部側面には、第３のビーム伝送器３２３などのモジュールが設置されてもよい。第３のビーム伝送器３２３は、その伝送器の長い方向が重力方向に向くようにして設置されても良い。図１０Ａ及び図１０Ｂを参照しながら説明した如く第３のビーム伝送器３２３の下面を支持する代わりに、第１０の実施形態においては、第３のビーム伝送器３２３をフレーム３３０の側面で支持してもよい。
【０１０９】
フレーム３３０のプレート形状部上面には、第３のビーム伝送器３２３の脚部６４１及び６４２が載置されるマウント３９１及び３９２が配置されていてもよい。脚部６４１がマウント３９１に載置されることにより、脚部６４１が水平方向に動き難いように位置決めされてもよい。脚部６４２がマウント３９２に載置されることにより、脚部６４２は、Ｙ方向に移動できるように支持されてもよい。
【０１１０】
フレーム３３０のプレート形状部側面に、マウント３９３が形成されていてもよい。マウント３９３は、フレーム３３０に形成された凹部であってもよい。第３のビーム伝送器３２３の脚部６４３は、第３のビーム伝送器３２３がフレーム３３０のプレート形状部に対向する面に配置されていてもよく、マウント３９３に対して押し付けられるとともに、フレーム３３０の側面に沿った方向に移動できるようになっていてもよい。脚部６４３が押し付けられるマウント３９３の平坦面３９３ｂは、図２０Ｃに示すように、マウント３９１及び３９２の中心を通過する面であることが望ましい。
【０１１１】
脚部６４３をマウント３９３に対して押し付けるために、ボルト６４３ａが、第３のビーム伝送器３２３の壁面の貫通孔（大径部６４３ｂ及び小径部６４３ｃ）を貫通し、フレーム３３０に対してねじ込まれていてもよい。ボルト６４３ａの頭部６４３ｄと貫通孔の大径部６４３ｂの底面との間には、ばね等の弾性部材６４３ｅが配置され、第３のビーム伝送器３２３をマウント３９３に対して押し付けてもよい。第３のビーム伝送器３２３をマウント３９３に対して押し付けるために、ボルト６４３ａ等の代わりに、磁石等を用いてもよい。第３のビーム転送器３２３がフレーム３３０の側面に沿って移動しやすいように、ボルト６４３ａと小径部６４３ｃとの間に間隙を設けてもよい。
【０１１２】
第１０の実施形態によれば、モジュールの底面の大きさに対してモジュールの高さが高く、下面で支持するだけでは倒れる可能性のあるモジュールであっても、安定的に支持することができる。他の点については、図８を参照しながら説明した第１の実施形態と同様でよい。
【０１１３】
１４．第１１の実施形態
図２１は、本開示の第１１の実施形態に係るＥＵＶ光生成システムの構成を示すブロック図である。ＥＵＶ光生成システム１１ａに含まれるレーザシステム３ａは、マスターオシレータ３００ａと、第１、第２及び第３のプリアンプ３０１ａ、３０２ａ及び３０３ａと、第１及び第２のメインアンプ３０４及び３０５と、プリパルスレーザ部３０６と、光路調整部３０７とを含んでもよい。
【０１１４】
図２２Ａは、第１１の実施形態に係るレーザシステムを構成するモジュールの具体的な配置を示す斜視図である。図２２Ｂは、図２２Ａにおける下層部のモジュールの配置を示す斜視図である。図２２Ｃは、図２２Ａにおけるフレームを示す斜視図である。
【０１１５】
マスターオシレータ３００ａと第１のプリアンプ３０１ａとは、１つの筐体に収容されてもよい。第１１の実施形態において、第２及び第３のプリアンプ３０２ａ及び３０３ａが、いずれも第１及び第２のメインアンプ３０４及び３０５と同様の高速軸流型増幅器で構成されてもよい。従って、第１の実施形態における第１〜第４のビーム調節器３１１〜３１４が設けられなくてもよい。
【０１１６】
第１１の実施形態においては、第１及び第２のプリアンプ３０１ａと３０２ａとの間に、第７のビーム伝送器３２７が配置されてもよい。第２及び第３のプリアンプ３０２ａと３０３ａとの間には、第７及び第８のビーム伝送器３２７及び３２８が配置されてもよい。第３のプリアンプ３０３ａと第１のメインアンプ３０４との間には、第８、第２及び第３のビーム伝送器３２８、３２２及び３２３が配置されてもよい。
【０１１７】
第１１の実施形態によれば、レーザシステム３をコンパクトに構成することができる。第１１の実施形態における各種モジュールの支持機構は、第１の実施形態における支持機構と同様でもよい。
【０１１８】
上記の説明は、制限ではなく単なる例示を意図したものである。従って、添付の特許請求の範囲を逸脱することなく本開示の実施形態に変更を加えることができることは、当業者には明らかであろう。
【０１１９】
本明細書及び添付の特許請求の範囲全体で使用される用語は、「限定的でない」用語と解釈されるべきである。例えば、「含む」又は「含まれる」という用語は、「含まれるものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。「有する」という用語は、「有するものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。また、本明細書、及び添付の特許請求の範囲に記載される修飾句「１つの」は、「少なくとも１つ」又は「１又はそれ以上」を意味すると解釈されるべきである。
【符号の説明】
【０１２０】
１…ＥＵＶ光生成装置、２…チャンバ、３、３ａ…レーザシステム、４…ターゲットセンサ、５…ＥＵＶ光生成制御システム、６…露光装置、７…台車、１１、１１ａ…ＥＵＶ光生成システム、２１…ウィンドウ、２２…レーザ光集光光学系、２３…ＥＵＶ集光ミラー、２４…貫通孔、２５…プラズマ生成領域、２６…ドロップレット生成器、２７…ドロップレットターゲット、２８…ターゲット回収部、２９…接続部、３１、３２、３３…パルスレーザ光、３４…レーザ光進行方向制御部、２５１、２５２…ＥＵＶ光、２９１…壁、２９２…中間焦点、３００、３００ａ…マスターオシレータ、３０１、３０１ａ…第１のプリアンプ、３０２、３０２ａ…第２のプリアンプ、３０３、３０３ａ…第３のプリアンプ、３０４…第１のメインアンプ、３０５…第２のメインアンプ、３０６…プリパルスレーザ部、３０７…光路調整部、３１１…第１のビーム調節器、３１２…第２のビーム調節器、３１３…第３のビーム調節器、３１４…第４のビーム調節器、３２１…第１のビーム伝送器、３２２…第２のビーム伝送器、３２３…第３のビーム伝送器、３２４…第４のビーム伝送器、３２５…第５のビーム伝送器、３２６…第６のビーム伝送器、３２７…第７のビーム伝送器、３２８…第８のビーム伝送器、３３０…フレーム、３３１〜３３３…フレーム支持部、３４１〜３４３…マウント、３４１ａ…窪み、３４２ａ…溝、３４４〜３４６…支持部、３５１、３５２…レール（ガイド）、３５９…ガイド、３６１〜３６３…マウント、３６１ａ〜３６３ａ…窪み、３６１ｂ〜３６３ｂ…設置部、３６１ｃ、３６２ｃ…ピン、３６２ｄ…載置台、３６２ｅ…段差、３６２ｆ…段差、３７１〜３７３…車輪（ガイドフォロア）、３８２…マウント、３８２ｂ…設置部、３８２ｃ…ピン、３８２ｅ…段差、３８２ｆ…段差、３８２ｇ…キー、３８２ｈ…キー溝、３８２ｉ…プランジャ、３９１〜３９３…マウント、３９３ｂ…平坦面、４０１…入射窓、４０２…出射窓、４１１〜４１８…放電管、４２１〜４２８…ミラー、４３３、４３４…電極、４４１〜４３３…脚部（支持部）、４４４〜４４６…脚部（マウント）、４５１〜４５３…車輪（ガイドフォロア）、４５５〜４５９…ガイドフォロア、４６１〜４６４…伸縮機構、４６５…プレート、４７１…レール、４７５…エア吹出し装置、４７６…スカート、５０１…入射窓、５０２…出射窓、５０３…凹面ミラー、５０５、５０６…放電電極、５４１〜５４３…脚部（支持部）、６０１…第１の入射窓、６０２…第１の出射窓、６０３…第２の入射窓、６０４…第２の出射窓、６０５…第１の高反射ミラー、６０６…第２の高反射ミラー、６０７…第３の高反射ミラー、６４１〜６４３…脚部（支持部）、６４３ａ…ボルト、６４３ｂ…大径部、６４３ｃ…小径部、６４３ｄ…頭部、６４３ｅ…弾性部材、７０１…出力結合ミラー、７０２…高反射ミラー、７０３、７０４…放電電極、７０５…Ｑスイッチ、７０６…出射窓、７４１〜７４３…脚部（支持部）、７５１、７５２…レール、７６１〜７６３…マウント、７７１〜７７３…車輪
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ光を発振する発振器と、前記発振器を支持する支持部とを含む第１のモジュールと、
レーザ光を伝送するビーム伝送器と、前記ビーム伝送器を支持する支持部とを含む第２のモジュールと、
レーザ光を増幅する増幅器と、前記増幅器を支持する支持部とを含む第３のモジュールと、
のうちの少なくとも２つのモジュールと、
前記少なくとも２つのモジュールが載置されるフレームであって、前記少なくとも２つのモジュールの各々につき、前記支持部が載置されるマウントを含む前記フレームと、
を含むレーザシステム。
【請求項２】
前記少なくとも２つのモジュールの各々につき、前記少なくとも２つのモジュールを前記マウントに対して昇降する昇降機構をさらに含む、請求項１に記載のレーザシステム。
【請求項３】
前記フレームに設置された少なくとも２つのガイドと、
前記少なくとも２つのモジュールをそれぞれ支持する少なくとも２つの群のガイドフォロアであって、前記少なくとも２つのガイドにそれぞれ沿って動くことにより前記少なくとも２つのモジュールをそれぞれ移動させる前記少なくとも２つの群のガイドフォロアと、
をさらに含む、請求項１に記載のレーザシステム。
【請求項４】
前記少なくとも２つのモジュールの各々につき、前記少なくとも２つの群のガイドフォロアとの間の距離をそれぞれ伸縮することにより前記少なくとも２つのモジュールをそれぞれ昇降する昇降機構をさらに含む、請求項３に記載のレーザシステム。
【請求項５】
前記少なくとも２つのモジュールが、それぞれ第１の位置と前記第１の位置の下方の第２の位置とに配置される、請求項１に記載のレーザシステム。
【請求項６】
前記第２の位置に配置されるモジュールが、前記第１の位置に配置されるモジュールより質量が小さい、請求項５に記載のレーザシステム。
【請求項７】
レーザ光を増幅する増幅器と、前記増幅器を支持する第１〜第３の支持部とを含むモジュールと、
前記モジュールが載置されるフレームであって、前記第１〜第３の支持部がそれぞれ載置される第１〜第３のマウントを含む前記フレームと、
を含み、
前記モジュールは、
入射光が第１の外部ユニットから入射するための入射部と、
出射光が第２の外部ユニットへ出射するための出射部と、
を更に含み、
前記第１の支持部は、前記モジュールの重心から見て前記入射部側の第１の位置に有し、
前記第２の支持部は、前記第１の位置から見て前記入射光の入射方向側の第２の位置に有し、
前記第３の支持部は、第３の位置に有する、レーザシステム。
【請求項８】
前記第１のマウントは、前記第１の支持部を所定位置に位置決めし、
前記第２のマウントは、前記第２の支持部が前記入射光の入射方向に沿った方向に移動できるように前記第２の支持部を支持し、
前記第３のマウントは、前記第３の支持部が重力方向と交差する面内において移動できるように前記第３の支持部を支持する、請求項７に記載のレーザシステム。
【請求項９】
レーザ光を増幅する増幅器と、前記増幅器を支持する第１〜第３の支持部とを含むモジュールと、
前記モジュールが載置されるフレームであって、前記第１〜第３の支持部がそれぞれ載置される第１〜第３のマウントを含む前記フレームと、
を含み、
前記モジュールは、
出射光が外部ユニットへ出射するための出射部を更に含み、
前記第１の支持部は、前記モジュールの重心から見て前記出射部側の第１の位置に有し、
前記第２の支持部は、前記第１の位置から見て前記出射光の出射方向とは反対側の第２の位置に有し、
前記第３の支持部は、第３の位置に有する、レーザシステム。
【請求項１０】
前記第１のマウントは、前記第１の支持部を所定位置に位置決めし、
前記第２のマウントは、前記第２の支持部が前記出射光の出射方向に沿った方向に移動できるように前記第２の支持部を支持し、
前記第３のマウントは、前記第３の支持部が重力方向と交差する面内において移動できるように前記第３の支持部を支持する、請求項９に記載のレーザシステム。
【請求項１１】
レーザ光を増幅する増幅器と、前記増幅器を支持する第１〜第３の支持部とを含むモジュールと、
前記モジュールが載置されるフレームであって、前記第１〜第３の支持部がそれぞれ載置される第１〜第３のマウントを含む前記フレームと、
を含み、
前記モジュールは、
入射光が第１の外部ユニットから入射するための入射部と、
出射光が第２の外部ユニットへ出射するための出射部と、
を更に含み、
前記第１の支持部は、前記モジュールの重心から見て前記入射部側の第１の位置に有し、
前記第２の支持部は、前記モジュールの重心から見て前記出射部側の第２の位置に有し、
前記第３の支持部は、第３の位置に有する、レーザシステム。
【請求項１２】
前記第１のマウントは、前記第１の支持部を所定位置に位置決めし、
前記第２のマウントは、前記第２の支持部が前記出射光の出射方向に沿った方向に移動できるように前記第２の支持部を支持し、
前記第３のマウントは、前記第３の支持部が重力方向と交差する面内において移動できるように前記第３の支持部を支持する、請求項１１に記載のレーザシステム。
【請求項１３】
前記第１のマウントは、前記第２の支持部を所定位置に位置決めし、
前記第２のマウントは、前記第１の支持部が前記入射光の入射方向に沿った方向に移動できるように前記第１の支持部を支持し、
前記第３のマウントは、前記第３の支持部が重力方向と交差する面内において移動できるように前記第３の支持部を支持する、請求項１１に記載のレーザシステム。
【請求項１４】
レーザ光を増幅する増幅器と、前記増幅器を支持する第１〜第３の支持部とを含むモジュールと、
前記モジュールが載置されるフレームであって、前記第１〜第３の支持部がそれぞれ載置される第１〜第３のマウントと、前記第１〜第３のマウントがそれぞれ載置される第１〜第３の設置部と、を含む前記フレームと、
を含み、
前記第１のマウントは、前記第１の支持部を前記フレームの所定位置に位置決めし、
前記第２のマウントは、前記第２の設置部に形成された段差に沿って移動できるように前記第２の設置部に載置され、前記第２の設置部が重力方向に垂直な面に対して傾斜していることにより、前記第２のマウントは前記段差に押し付けられ、前記第２のマウントは、前記第２の支持部を前記第２のマウントの所定位置に位置決めすることにより、前記第２の支持部が前記フレームに対して前記段差に沿った方向に移動できるように前記第２の支持部を支持し、
前記第３のマウントは、前記第３の支持部が前記フレームに対して重力方向と交差する面内において移動できるように前記第３の支持部を支持する、レーザシステム。
【請求項１５】
レーザ光を増幅する増幅器と、前記増幅器を支持する第１〜第３の支持部とを含むモジュールと、
前記モジュールが載置されるフレームであって、前記第１〜第３の支持部がそれぞれ載置される第１〜第３のマウントと、前記第１〜第３のマウントがそれぞれ載置される第１〜第３の設置部と、を含む前記フレームと、
を含み、
前記第１のマウントは、前記第１の支持部を前記フレームの所定位置に位置決めし、
前記第２のマウントは、前記第２の設置部に形成された段差に沿って移動できるように前記第２の設置部に載置され、前記第２の設置部又は前記第２のマウントに設けられた弾性部材により、前記第２のマウントは前記段差に押し付けられ、前記第２のマウントは、前記第２の支持部を前記第２のマウントの所定位置に位置決めすることにより、前記第２の支持部が前記フレームに対して前記段差に沿った方向に移動できるように前記第２の支持部を支持し、
前記第３のマウントは、前記第３の支持部が前記フレームに対して重力方向と交差する面内において移動できるように前記第３の支持部を支持する、レーザシステム。
【請求項１６】
レーザ光を伝送するビーム伝送器と、前記ビーム伝送器を支持する第１〜第３の支持部とを含むモジュールと、
前記モジュールが載置されるフレームであって、前記第１〜第３の支持部がそれぞれ載置される第１〜第３のマウントを含む前記フレームと、
を含み、
前記第１及び第２のマウントは、前記フレームの第１の面に設けられ、
前記第３のマウントは、前記フレームの第２の面であって前記第１の面と交差する面に設けられ、
前記第１のマウントは、前記第１の支持部を所定位置に位置決めし、
前記第２のマウントは、前記第２の支持部が前記第１のマウントに近づく方向に沿った方向に移動できるように前記第２の支持部を支持し、
前記第３のマウントは、前記第３の支持部が前記第２の面に沿った方向に移動できるように前記第３の支持部を支持する、レーザシステム。
【請求項１７】
レーザ光を発振する発振器と、前記発振器を支持する支持部とを含む第１のモジュールと、
レーザ光を伝送するビーム伝送器と、前記ビーム伝送器を支持する支持部とを含む第２のモジュールと、
レーザ光を増幅する増幅器と、前記増幅器を支持する支持部とを含む第３のモジュールと、
のうちの少なくとも２つのモジュールが載置されるフレームであって、前記少なくとも２つのモジュールの各々につき、前記支持部が載置されるマウントを含む、フレーム。
【請求項１】
レーザ光を発振する発振器と、前記発振器を支持する支持部とを含む第１のモジュールと、
レーザ光を伝送するビーム伝送器と、前記ビーム伝送器を支持する支持部とを含む第２のモジュールと、
レーザ光を増幅する増幅器と、前記増幅器を支持する支持部とを含む第３のモジュールと、
のうちの少なくとも２つのモジュールと、
前記少なくとも２つのモジュールが載置されるフレームであって、前記少なくとも２つのモジュールの各々につき、前記支持部が載置されるマウントを含む前記フレームと、
を含むレーザシステム。
【請求項２】
前記少なくとも２つのモジュールの各々につき、前記少なくとも２つのモジュールを前記マウントに対して昇降する昇降機構をさらに含む、請求項１に記載のレーザシステム。
【請求項３】
前記フレームに設置された少なくとも２つのガイドと、
前記少なくとも２つのモジュールをそれぞれ支持する少なくとも２つの群のガイドフォロアであって、前記少なくとも２つのガイドにそれぞれ沿って動くことにより前記少なくとも２つのモジュールをそれぞれ移動させる前記少なくとも２つの群のガイドフォロアと、
をさらに含む、請求項１に記載のレーザシステム。
【請求項４】
前記少なくとも２つのモジュールの各々につき、前記少なくとも２つの群のガイドフォロアとの間の距離をそれぞれ伸縮することにより前記少なくとも２つのモジュールをそれぞれ昇降する昇降機構をさらに含む、請求項３に記載のレーザシステム。
【請求項５】
前記少なくとも２つのモジュールが、それぞれ第１の位置と前記第１の位置の下方の第２の位置とに配置される、請求項１に記載のレーザシステム。
【請求項６】
前記第２の位置に配置されるモジュールが、前記第１の位置に配置されるモジュールより質量が小さい、請求項５に記載のレーザシステム。
【請求項７】
レーザ光を増幅する増幅器と、前記増幅器を支持する第１〜第３の支持部とを含むモジュールと、
前記モジュールが載置されるフレームであって、前記第１〜第３の支持部がそれぞれ載置される第１〜第３のマウントを含む前記フレームと、
を含み、
前記モジュールは、
入射光が第１の外部ユニットから入射するための入射部と、
出射光が第２の外部ユニットへ出射するための出射部と、
を更に含み、
前記第１の支持部は、前記モジュールの重心から見て前記入射部側の第１の位置に有し、
前記第２の支持部は、前記第１の位置から見て前記入射光の入射方向側の第２の位置に有し、
前記第３の支持部は、第３の位置に有する、レーザシステム。
【請求項８】
前記第１のマウントは、前記第１の支持部を所定位置に位置決めし、
前記第２のマウントは、前記第２の支持部が前記入射光の入射方向に沿った方向に移動できるように前記第２の支持部を支持し、
前記第３のマウントは、前記第３の支持部が重力方向と交差する面内において移動できるように前記第３の支持部を支持する、請求項７に記載のレーザシステム。
【請求項９】
レーザ光を増幅する増幅器と、前記増幅器を支持する第１〜第３の支持部とを含むモジュールと、
前記モジュールが載置されるフレームであって、前記第１〜第３の支持部がそれぞれ載置される第１〜第３のマウントを含む前記フレームと、
を含み、
前記モジュールは、
出射光が外部ユニットへ出射するための出射部を更に含み、
前記第１の支持部は、前記モジュールの重心から見て前記出射部側の第１の位置に有し、
前記第２の支持部は、前記第１の位置から見て前記出射光の出射方向とは反対側の第２の位置に有し、
前記第３の支持部は、第３の位置に有する、レーザシステム。
【請求項１０】
前記第１のマウントは、前記第１の支持部を所定位置に位置決めし、
前記第２のマウントは、前記第２の支持部が前記出射光の出射方向に沿った方向に移動できるように前記第２の支持部を支持し、
前記第３のマウントは、前記第３の支持部が重力方向と交差する面内において移動できるように前記第３の支持部を支持する、請求項９に記載のレーザシステム。
【請求項１１】
レーザ光を増幅する増幅器と、前記増幅器を支持する第１〜第３の支持部とを含むモジュールと、
前記モジュールが載置されるフレームであって、前記第１〜第３の支持部がそれぞれ載置される第１〜第３のマウントを含む前記フレームと、
を含み、
前記モジュールは、
入射光が第１の外部ユニットから入射するための入射部と、
出射光が第２の外部ユニットへ出射するための出射部と、
を更に含み、
前記第１の支持部は、前記モジュールの重心から見て前記入射部側の第１の位置に有し、
前記第２の支持部は、前記モジュールの重心から見て前記出射部側の第２の位置に有し、
前記第３の支持部は、第３の位置に有する、レーザシステム。
【請求項１２】
前記第１のマウントは、前記第１の支持部を所定位置に位置決めし、
前記第２のマウントは、前記第２の支持部が前記出射光の出射方向に沿った方向に移動できるように前記第２の支持部を支持し、
前記第３のマウントは、前記第３の支持部が重力方向と交差する面内において移動できるように前記第３の支持部を支持する、請求項１１に記載のレーザシステム。
【請求項１３】
前記第１のマウントは、前記第２の支持部を所定位置に位置決めし、
前記第２のマウントは、前記第１の支持部が前記入射光の入射方向に沿った方向に移動できるように前記第１の支持部を支持し、
前記第３のマウントは、前記第３の支持部が重力方向と交差する面内において移動できるように前記第３の支持部を支持する、請求項１１に記載のレーザシステム。
【請求項１４】
レーザ光を増幅する増幅器と、前記増幅器を支持する第１〜第３の支持部とを含むモジュールと、
前記モジュールが載置されるフレームであって、前記第１〜第３の支持部がそれぞれ載置される第１〜第３のマウントと、前記第１〜第３のマウントがそれぞれ載置される第１〜第３の設置部と、を含む前記フレームと、
を含み、
前記第１のマウントは、前記第１の支持部を前記フレームの所定位置に位置決めし、
前記第２のマウントは、前記第２の設置部に形成された段差に沿って移動できるように前記第２の設置部に載置され、前記第２の設置部が重力方向に垂直な面に対して傾斜していることにより、前記第２のマウントは前記段差に押し付けられ、前記第２のマウントは、前記第２の支持部を前記第２のマウントの所定位置に位置決めすることにより、前記第２の支持部が前記フレームに対して前記段差に沿った方向に移動できるように前記第２の支持部を支持し、
前記第３のマウントは、前記第３の支持部が前記フレームに対して重力方向と交差する面内において移動できるように前記第３の支持部を支持する、レーザシステム。
【請求項１５】
レーザ光を増幅する増幅器と、前記増幅器を支持する第１〜第３の支持部とを含むモジュールと、
前記モジュールが載置されるフレームであって、前記第１〜第３の支持部がそれぞれ載置される第１〜第３のマウントと、前記第１〜第３のマウントがそれぞれ載置される第１〜第３の設置部と、を含む前記フレームと、
を含み、
前記第１のマウントは、前記第１の支持部を前記フレームの所定位置に位置決めし、
前記第２のマウントは、前記第２の設置部に形成された段差に沿って移動できるように前記第２の設置部に載置され、前記第２の設置部又は前記第２のマウントに設けられた弾性部材により、前記第２のマウントは前記段差に押し付けられ、前記第２のマウントは、前記第２の支持部を前記第２のマウントの所定位置に位置決めすることにより、前記第２の支持部が前記フレームに対して前記段差に沿った方向に移動できるように前記第２の支持部を支持し、
前記第３のマウントは、前記第３の支持部が前記フレームに対して重力方向と交差する面内において移動できるように前記第３の支持部を支持する、レーザシステム。
【請求項１６】
レーザ光を伝送するビーム伝送器と、前記ビーム伝送器を支持する第１〜第３の支持部とを含むモジュールと、
前記モジュールが載置されるフレームであって、前記第１〜第３の支持部がそれぞれ載置される第１〜第３のマウントを含む前記フレームと、
を含み、
前記第１及び第２のマウントは、前記フレームの第１の面に設けられ、
前記第３のマウントは、前記フレームの第２の面であって前記第１の面と交差する面に設けられ、
前記第１のマウントは、前記第１の支持部を所定位置に位置決めし、
前記第２のマウントは、前記第２の支持部が前記第１のマウントに近づく方向に沿った方向に移動できるように前記第２の支持部を支持し、
前記第３のマウントは、前記第３の支持部が前記第２の面に沿った方向に移動できるように前記第３の支持部を支持する、レーザシステム。
【請求項１７】
レーザ光を発振する発振器と、前記発振器を支持する支持部とを含む第１のモジュールと、
レーザ光を伝送するビーム伝送器と、前記ビーム伝送器を支持する支持部とを含む第２のモジュールと、
レーザ光を増幅する増幅器と、前記増幅器を支持する支持部とを含む第３のモジュールと、
のうちの少なくとも２つのモジュールが載置されるフレームであって、前記少なくとも２つのモジュールの各々につき、前記支持部が載置されるマウントを含む、フレーム。
【図１】
【図２】
【図３Ａ】
【図３Ｂ】
【図３Ｃ】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７Ａ】
【図７Ｂ】
【図８】
【図９Ａ】
【図９Ｂ】
【図１０Ａ】
【図１０Ｂ】
【図１１Ａ】
【図１１Ｂ】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８Ａ】
【図１８Ｂ】
【図１９】
【図２０Ａ】
【図２０Ｂ】
【図２０Ｃ】
【図２１】
【図２２Ａ】
【図２２Ｂ】
【図２２Ｃ】
【図２】
【図３Ａ】
【図３Ｂ】
【図３Ｃ】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７Ａ】
【図７Ｂ】
【図８】
【図９Ａ】
【図９Ｂ】
【図１０Ａ】
【図１０Ｂ】
【図１１Ａ】
【図１１Ｂ】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８Ａ】
【図１８Ｂ】
【図１９】
【図２０Ａ】
【図２０Ｂ】
【図２０Ｃ】
【図２１】
【図２２Ａ】
【図２２Ｂ】
【図２２Ｃ】
【公開番号】特開２０１３−４８２０２（Ｐ２０１３−４８２０２Ａ）
【公開日】平成２５年３月７日（２０１３．３．７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−２５６４８９（Ｐ２０１１−２５６４８９）
【出願日】平成２３年１１月２４日（２０１１．１１．２４）
【出願人】（３０００７３９１９）ギガフォトン株式会社 (227)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年３月７日（２０１３．３．７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年１１月２４日（２０１１．１１．２４）
【出願人】（３０００７３９１９）ギガフォトン株式会社 (227)
【Ｆターム（参考）】
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