【課題】レーザ光源からの光を短パルス又は長パルスのいずれかに切り換えることができるレーザ光源駆動装置、レーザ発振器及びレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】第１電源スイッチ２０がオン、第２電源スイッチ２３がオフの状況下で、スイッチング素子２２がオン／オフされると、ＣＲ回路２７（コンデンサ２６）が充放電されることにより、ＣＲ回路２７を電源としてレーザダイオード７がレーザ光を短パルスで出力する。一方、第１電源スイッチ２０がオフ、第２電源スイッチ２３がオンの状況下で、スイッチング素子２２がオン／オフされると、主電源＋Ｖを電源としてレーザダイオード７がレーザ光を長パルスで出力する。このため、レーザ光のパルス幅を、短パルス又は長パルスのいずれかに切り換えることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】周期構造のパターニングの自由度を損なうことなく、作成作業時間の短縮化を図ることができる、生産性に優れる周期構造の作成方法および周期構造の作成装置を提供する。
【解決手段】主走査を行う主走査用偏向器５と副走査を行う副走査用偏向器６とを同時に連続的に動作させながら、パルスレーザ光源１の繰返し周波数と主走査用偏向器５の主走査周波数の関係が、整数比の関係か、整数比の関係から一定数を加減した関係になるように保って、レーザ照射スポットをレーザ照射済みスポットの一部を含むようにオーバーラップ位置を制御して二次元的に走査する。 （もっと読む）

【課題】簡便にパルス光を整形することができるパルス整形装置、パルス整形方法、及びそれを用いた電子銃を提供すること。
【解決手段】本発明の一態様にかかるパルス整形装置は、パルス光の直交する偏光成分間に時間遅延を与える複屈折素子１２３と、複屈折素子１２３からのパルス光のパルス形状を調整する可変ミラー４０と、複屈折素子１２３から出射したパルス光の直交する偏光成分の一方を他方の偏光成分から取り出すＰＢＳ１２５と、可変ミラー４０によりパルス形状を調整するために、ＰＢＳ１２５によって取り出された一方の偏光成分に応じた測定を行うビームモニタ５５と、を備えるものである。 （もっと読む）

【課題】高出力ビームが得られ、エネルギー効率に優れたレーザ装置およびこれを用いたレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】レーザ装置は、全反射ミラー１１，部分反射ミラー１２およびブリュースターウィンドウ１３を含むレーザ発振器と、レーザ発振器から出力されたレーザ光を時間的に分配するための音響光学素子２１と、ウィンドウ１４，ミラー１５，１６および偏光回転ミラー１７を含むレーザ増幅器などで構成される。レーザ光は、レーザ増幅器内に配置された放電励起ガス２を複数回通過する。 （もっと読む）

【課題】所望の帯域幅および強度を有するＳＣ光を発生させることができる光源装置を提供する。
【解決手段】光源装置１は、ファイバレーザ光源１０、シングルモード光ファイバ２０およびマルチモード光ファイバ３０を備える。シングルモード光ファイバ２０は、ファイバレーザ光源１０の種光出力端１１から出力された種光を第１端２１に入力して導光し、その種光の導光の際に発現する非線形光学現象により帯域を拡大されたＳＣ光を第２端２２から出力する。マルチモード光ファイバ３０は、シングルモード光ファイバ２０の第２端２２から出力されたＳＣ光を入力端３１に入力して導光し、その導光したＳＣ光を出力端３２から出力する。 （もっと読む）

【課題】 交換性、拡張性、及び調整容易性に優れたレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】 レーザビームを出射する光源と、光源を出射したレーザビームのビーム径を変化させるエキスパンダ光学系と、エキスパンダ光学系を出射したレーザビームの断面形状を整形するマスク光学系と、マスク光学系で整形されたレーザビームの断面形状を加工点に転写倍率可変に転写する転写倍率変化光学系と、転写倍率変化光学系を出射したレーザビームを、集光して加工点に入射させる集光光学系と、光源と加工点との間のレーザビームの光路上に配置され、入射するレーザビームの通過と遮蔽とを切り替えることができるシャッタ光学系とを有し、エキスパンダ光学系、マスク光学系、転写倍率変化光学系、集光光学系、シャッタ光学系の少なくとも一つは、一体化されたモジュールとして構成されているレーザ加工装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】 高出力のパルスレーザ光を生成することが可能なレーザ装置を提供する。
【解決手段】 レーザ装置１ではチャネル増幅器１４において、レーザ装置１Ａではスラブ型固体レーザ装置４４において、連続光であるレーザ光Ｌ_１のそれぞれを増幅する。このため、パルスレーザ光を増幅する場合に比べて、増幅率を高く設定できる。そのように増幅されたレーザ光Ｌ_２のそれぞれを回折格子１６の集光位置Ｐ_１で合波して合波光Ｌ_３を生成する際に、集光位置Ｐ_１において合波光Ｌ_３の出力のピークが（同じパルス時間波形が）所定の時間間隔で繰り返し現れるように、レーザ光Ｌ_１のそれぞれの位相を制御する。これにより、回折格子１６の集光位置Ｐ_１において、増幅された複数のレーザ光Ｌ_２によりパルスレーザ光が生成される。よって、このレーザ装置１によれば、高出力のパルスレーザ光を生成することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 発振スペクトル線幅の狭小化と、高速な波長掃引と、を達成し得る光源装置を提供する。
【解決手段】 光増幅媒体と光スイッチとを含んで構成された光共振器を備える光源装置で、光スイッチは、波長可変光源で構成された光照射源より、出射された光パルスの照射を受けて透過率または反射率が変化するもので、波長可変光源より出射される光パルスの中心波長に対応して、増幅された光を光共振器より出射するものであり、光共振器の長さＬと光パルスの繰り返し周波数ｆとの関係（Ｌ＜ｃ／（ｎｆ））と、光スイッチの変化した透過率または反射率が回復する回復時間τとＬとの関係（τ＞（ｎＬ）／ｃ）を規定。 （もっと読む）

【課題】半導体膜のパルスレーザ光を照射してアニールする際に、適正なパルスエネルギー密度を高くすることなく該パルスエネルギー密度のマージンを大きくすることを可能にする。
【解決手段】パルスレーザ光を出力するレーザ光源と、パルスレーザ光を整形して処理対象の半導体膜に導く光学系と、パルスレーザ光が照射される前記半導体膜を設置するステージとを有し、前記半導体膜に照射される前記パルスレーザ光が、パルスエネルギー密度で最大高さの１０％から最大高さに至るまでの立ち上がり時間が３５ｎ秒以下、最大高さから最大高さの１０％に至るまでの立ち下がり時間が８０ｎ秒以上であるものとすることで、結晶化などに適したパルスエネルギー密度を格別に大きくすることなく、そのマージン量を大きくして、良質なアニール処理をスループットを低下させることなく行う。 （もっと読む）

【課題】シード用のレーザダイオードよりパルス波形のシード光を増幅用光ファイバに注入するＭＯＰＡ方式において、アンプの利得を十分高くしてもスバイクノイズの発生を確実に防止または抑制すること。
【解決手段】このＭＯＰＡ方式ファイバレーザ加工装置は、シード光発生部１０、第１および第２の増幅用光ファイバ１２，１４および光ビーム照射部１６をアイソレータ１８，２０，２２および光結合器２４，２６を介して光学的に縦続接続している。ここで、シード光発生部１０より出力されるパルス波形のシード光のスペクトル中心波長は１０５４〜１０５７ｎｍの範囲にあり、ひいては被加工物Ｗの表面に照射される増幅パルスの光ビームＬＢのスペクトル中心波長も１０５４〜１０５７ｎｍの範囲にある。 （もっと読む）

【課題】レーザアニール処理に用いるパルスレーザ光のパルス波形を安定させて均一なアニール処理を可能にする。
【解決手段】ガス励起パルスレーザ発振器と、ガス励起パルスレーザ発振器から出力されたパルスレーザ光を所定の減衰率で透過させる可変アッテネータと、可変アッテネータを透過したパルスレーザ光を被処理体に導く光学系と、前記ガス励起パルスレーザ発振器における前記パルスレーザ光の出力値を調整する第１の制御を行う制御部とを備え、制御部は、ガス励起パルスレーザ発振器内のガスの劣化に応じて、第１の制御で調整される前記出力値を低下させるとともに、可変アッテネータの減衰率を小さくする第２の制御を行って、パルス波形の変化を抑制してパルス毎のムラをなくす。 （もっと読む）

【課題】装置が大型化せず、パワー損失も少なく、且つ、ビームラインシフトを抑えつつ波長を可変可能な真空紫外光発生装置を提供する。
【解決手段】本発明の４波混合法を用いる真空紫外光発生装置は、セル１０と可視光光源２０と紫外光光源３０と第１レンズ４０と第２レンズ５０と第３レンズ６０とからなる。可視光光源２０は、照射する可視光の波長を可変可能である。紫外光光源は、セル１０内の希ガスの２光子吸収線に合わせられる紫外光を照射するものである。第１レンズ４０は、オフアキシャルな状態で可視光及び紫外光をセル内で交差するように集光するものである。第２レンズ５０は、オフアキシャルな状態で真空紫外光を平行化するものである。第３レンズ６０は、可視光の波長の変化による真空紫外光の第３レンズ６０への入射角の変化を、真空紫外光の波長の変化による第３レンズ６０における出射角の変化により相殺するように構成される。 （もっと読む）

【課題】 出力されるレーザ光の立ち上がり期間短くしつつ、出力されるレーザ光の立ち上がり期間のばらつきを抑制することができるファイバレーザ装置を提供する。
【解決手段】 ファイバレーザ装置１００は、種レーザ光源１０と、励起光源２０と、増幅用光ファイバ３０と、制御部６０と、出力命令部６５とを備え、出力命令が制御部６０に入力されるとき、制御部６０は、予備励起状態と、出力状態となる様に種レーザ光源１０と励起光源２０とを制御し、予備励起状態においては、出力命令が制御部６０に入力される前の出力状態の終了時点から、出力命令が制御部６０に入力される時点までの期間の長さに基づいて定められる強度の励起光が励起光源２０から一定期間出力され、出力状態においては、出力部５０からレーザ光が出力されるように、レーザ光が種レーザ光源１０から出力されると共に励起光が励起光源２０から出力される。 （もっと読む）

【課題】レーザ加工装置から出力されるパルス光のパワーを安定化させるための技術を提供する。
【解決手段】レーザ加工装置１００は、シード光を励起光によって増幅する光増幅ファイバ１，８と、シード光をパルス状に発生させるシードＬＤ２と、励起光を発生させる励起ＬＤ３，９Ａ，９Ｂとを備える。レーザ加工装置１００は、レーザ加工装置から出力されるレーザ光に関する条件に基づいて、シード光が発生しない非発光期間における励起光の条件が可変である。制御装置２０は、ドライバ２２，２３Ａ，２３Ｂを制御することによって非発光期間における励起光の条件を変化させる。これにより、レーザ加工装置から出力されるパルス光のエネルギーを非発光期間の長さによらず安定化させることができる。 （もっと読む）

光学材料におけるレーザー誘起損傷は、光吸収が最小化される状態を作り出すことによって緩和されうる。具体的には、光学材料においてバンドギャップの欠陥エネルギーをポピュレートする電子は、一般にブリーチングと呼ばれるプロセスにおいて、伝導帯へと推進されうる。こうしたブリーチングは、材料内への最小限のエネルギー蓄積を保証する既定の波長を用いて達成されうるものであり、理想的には、電子を伝導帯のちょうど内側へと推進する。ある場合には、フォノン（すなわち、熱）励起も、高いデポピュレーションレートを達成するために用いられることが可能である。一実施形態において、レーザービームの波長よりも長い波長を有するブリーチング光ビームが、バンドギャップにおける欠陥エネルギー準位をデポピュレートするために、レーザービームと合成されうる。ブリーチング光ビームは、レーザービームと同じ方向、又は交差する方向で伝播されうる。
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極紫外光システムは、増幅光ビームを生成する駆動レーザシステムと、ターゲット位置でターゲット材料を生成するように構成されたターゲット材料送出システムと、駆動レーザシステムから出射された増幅光ビームを受け取り、かつ増幅光ビームをターゲット位置に向けて誘導するように構成されたビーム送出システムと、計測システムとを含む。ビーム送出システムは、ターゲット位置に増幅光ビームを集束させるように構成かつ配置された収束レンズを含む。計測システムは、収束レンズから反射した増幅光ビームの一部分と収束レンズから反射した案内レーザビームの一部分とを集光するように構成された集光システムを含む。集光システムは、これらの部分を光学的に分離するように構成された二色性光デバイスを含む。 （もっと読む）

【課題】レーザ光による加工時間を可能な限り短縮する。
【解決手段】ガラス基板上に透明電極層、半導体層又は金属層を形成する成膜装置から順次搬送されてくるガラス基板に対してレーザ加工を行なう場合、ガラス基板に対してアライメント処理を行い、その後にガラス基板を保持して移動させている。このアライメント処理とガラス基板を保持移動させるステージをレーザ加工ステージの両側２箇所に設けることによって、一方のステージでレーザ加工を行なっている間に、他方のステージでアライメント処理を行なうようにして、待ち時間を大幅に短縮化するようにした。また、いずれか一方のステージが故障等でダウンした場合でも他方のステージを用いてレーザ加工処理を維持できるようにした。 （もっと読む）

【課題】簡明な構成で、出力光のスペクトル幅を調整可能なレーザ装置、光源装置これらの調整方法を提供する。
【解決手段】光源装置１は、レーザ装置１０と波長変換部３０とを備えて構成される。レーザ装置１０は、単一波長のパルス光を発生するレーザ光発生部１１と、レーザ光発生部１１により発生されたパルス光Ｌsを増幅する光増幅部１２と、光増幅部１２により増幅されたパルス光Ｌaの一部を時間的に切り出して短パルス光Ｌp出射するパルス光変調部１５と、パルス光変調部１５による切り出しタイミングを調整する遅延調整器８７およびトリガパルス遅延部８４からなるタイミング調整部と、を備えて構成される。 （もっと読む）

【課題】ファイバレーザおよび非線形光学素子によって、所望の波長および所望のパワーを有するレーザ光を発生させることを可能にする技術を提供する。
【解決手段】レーザ光源１０１は、シードＬＤ２と、光増幅ファイバ１，１１と、励起ＬＤ３，９Ａ〜９Ｄと、波長変換素子を含む波長変換部１４とを備える。シードＬＤ２は、パルスレーザ光を発する。光増幅ファイバ１，１１は、パルスレーザ光と励起光とが入射されることによりパルスレーザ光を増幅可能に構成される。励起ＬＤ３（９Ａ〜９Ｄ）は、励起光を発する。波長変換部１４は、光増幅ファイバ１，１１によって増幅されたパルスレーザ光としての増幅光を受けることによって、増幅光とは波長が異なる波長変換光を発生させる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ＡＤ変換器でのサンプリング周波数を電界吸収型光変調器でのサンプリング周波数に同期させることを目的とする。
【解決手段】本願発明の光信号モニタ装置は、光パルス発生器２と、光サンプリングゲートとしての電界吸収型光変調器３と、バイアス電圧発生器４と、受光器５と、ＡＤ変換器６と、光カプラ７と、クロック再生器２１と、遅延器２２と、を備え、等価サンプリング方式で被測定光信号Ｐｘの波形評価を行なう光信号モニタ装置において、受光器５からの電気信号から被測定光信号Ｐｘをサンプリングするサンプリング周波数のクロック信号Ｅｓを抽出するクロック再生器２１をさらに備え、ＡＤ変換器６は、クロック再生器２１からのクロック信号Ｅｓに同期して電気信号Ｅｙをディジタル信号に変換することを特徴とする。 （もっと読む）