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Fターム[5F172NR22]の内容

Fターム[5F172NR22]に分類される特許

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【課題】長期劣化への耐性を有する固体レーザ、およびそのようなレーザを提供する。
【解決手段】高強度の内部赤外放射による長期劣化への耐性をレーザに付与するための、ダイオード励起赤外レーザの利得媒質の共ドーピングに関する。Cr3+およびCe3+などのイオンを用いる利得媒質の共ドーピングは、外部イオン化放射への耐性を利得媒質に付与し、利得媒質の長期劣化の問題を解決する。 (もっと読む)


【課題】レーザ光の低コヒーレンス化と高強度とを実現する。
【解決手段】固体レーザ10から出力されたシード光Lbをシード光Lbよりも短波長のレーザ光L1に変換した後、レーザ光L1を増幅して出力するレーザ装置1は、シード光Lbを短波長のレーザ光L1に変換する前に、シード光Lbを低コヒーレンス化する低コヒーレンス機構20を備える。 (もっと読む)


【課題】モードロックレーザのキャリア・エンベロープ・オフセット周波数を測定する。
【解決手段】モードロックレーザのキャリア・エンベロープ・オフセット周波数を測定する測定装置であって、光パルスを発生するモードロックレーザと、モードロックレーザの発振周波数範囲を広げる帯域拡大部と、モードロックレーザの高調波成分を発生する高調波発生部と、帯域拡大部から出力される前記モードロックレーザの所定の周波数成分および所定の周波数成分の少なくとも2倍の周波数成分の相対的なタイミングを変えずに、高調波発生部に入射させる光伝達部と、モードロックレーザが高調波発生部を透過した透過成分、および高調波成分のビート信号を検出する検出部と、ビート信号に基づいて、キャリア・エンベロープ・オフセット周波数を算出する算出部と、を備えるパルスレーザを提供する。 (もっと読む)


【課題】DUV光源のための高電力ガス放電レーザシステムを提供する。
【解決手段】方法及び装置は、線狭化パルスエキシマ又は分子フッ素ガス放電レーザシステムを含むことができ、システムは、パルスのレーザ出力光ビームを含む出力を生成し、かつ第1のガス放電エキシマ又は分子フッ素レーザチャンバと第1の発振空洞内の線狭化モジュールとを含むことができるシードレーザ発振器と、シードレーザ発振器の出力を受け取ってシードレーザ発振器の出力を増幅し、パルスのレーザ出力光ビームを含むレーザシステム出力を形成する第2のガス放電エキシマ又は分子フッ素レーザチャンバに増幅利得媒体を収容し、かつリング電力増幅ステージを含むことができて、シードレーザ発振器の出力がこのリング電力増幅ステージの増幅利得媒体をループ毎に少なくとも2回通過するレーザ増幅ステージとを含むことができる。 (もっと読む)


【課題】バースト発光におけるノイズを低減させたレーザ装置を提供する。
【解決手段】レーザ装置1が、パルス光発生部10と、パルス光発生部10から発生したパルス光Lpを2つのパルス光に分離させる分岐カップラー素子12と、分岐カップラー素子12において分離された2つのパルス光Lp1,Lp2をそれぞれ同軸に重ね合わせて紫外光を発生させる波長変換部と、分岐カップラー素子12と波長変換部とに接続された経路の異なる第1光路R11および第2光路R12と、第2光路R12の光路長を、第2のパルス光Lp2が波長変換部で第1のパルス光Lp1と時間的に重なる第1光路長および、第2のパルス光Lp2´が波長変換部で第1のパルス光Lp1と時間的に重ならない第2光路長のいずれかに選択的に切り替える一対の光スイッチング素子14,15とを備えて構成される。 (もっと読む)


【課題】最適な変換効率を維持しつつ、波長変換された出力光強度の変動を補償することができる波長 変換装置を提供すること。
【解決手段】レーザ光源部から出射した第1の波長の光を透過させ、一部を第2の波長の光に波長変換 して出射する非線形光学結晶と、第1の波長の光の特定の偏光成分を取り出して出射する偏光分岐部と 、偏光分岐部からの出射光強度を検知し、電気信号に変換する偏光強度検知部と、偏光強度検知部から の電気信号に基づいて非線形光学結晶に入射する特定の偏光成分の光強度を、偏光強度目標値と一致す るように第1の波長の光強度を制御する駆動制御部と、第2の波長の光出力の一部を分岐する出力分岐 部と、出力分岐部からの出射光強度を検知し、電気信号に変換する出力光強度検知部と、非線形光学結 晶の結晶温度を出力光強度検知部からの電気信号に基づいて制御する温度制御部と、を有する。 (もっと読む)


【課題】基板温度の調整が不要であり、高精度な加工により高い生産効率を実現することができる光電変換装置の製造方法および光ビーム照射加工装置を提供する。
【解決手段】温度情報と事前に取得した歪情報とを含む情報に基づいて決定された位置に光ビームを照射することにより被加工物の加工が行なわれる光電変換装置の製造方法である。また、温度情報取得部によって取得された温度情報と内部記憶された歪情報とを含む情報に基づいて決定された位置に光ビームを照射できるように光ビーム発振部と駆動部とを制御することが可能な制御部を備えた光ビーム照射加工装置である。 (もっと読む)


【課題】光出力の変動を抑制して長期的に安定した運用を実現することが可能な構成のレーザ装置を提供する。
【解決手段】レーザ装置は、レーザ光源11からの複数の基本波レーザ光をそれぞれ増幅する複数の光増幅器と、増幅された複数の基本波レーザ光を波長変換光学素子を用いて所定の高調波レーザ光に波長変換する波長変換部20と、高調波レーザ光の一部をモニタ光として分離して、このモニタ光の強度を検出するパワーコントロールユニット50と、パワーコントロールユニット50の検出結果に基づいて、基本波レーザ光の強度を操作して高調波レーザ光の出力制御を行う制御部60とを備え、複数の光増幅器は、励起光源部70からの励起光を光増幅用ファイバEDFに供給して基本波レーザ光を増幅するようにそれぞれ構成され、制御部60は、複数の光増幅器のうちで、波長変換部20での波長変換回数が最も多く設定された基本波レーザ光を増幅するための該光増幅器に供給される励起光出力のみを制御して、基本波レーザ光の強度を操作するようになっている。 (もっと読む)


【課題】レーザ光の出射光路を制御可能な新たな構成の光源装置を提供する。
【解決手段】光源装置1は、各々レーザ光を出射する第1,第2レーザ出力部II,IIIと、第1のウォークオフ角で配置され第1,第2レーザ出力部II,IIIから出射されたレーザ光が入射する第1非線形光学結晶35と、第1のウォークオフ角と直交する第2のウォークオフ角で配置され第1波長変換光学素子35から出射したレーザ光が入射する第2非線形光学結晶36と、ビーム制御装置80とを備える。ビーム制御装置80は、第1非線形光学結晶35における位相整合条件及び第2非線形光学結晶36における位相整合条件の少なくともいずれかを変化させ、ビームポインティングを変化させることにより、第2非線形光学結晶36から出射されるレーザ光の出射光路を変化させる。 (もっと読む)


【課題】光出力を正確に制御して長期的に安定した運用が可能な構成のレーザ装置を提供する。
【解決手段】レーザ装置は、レーザ光をモニタ光と出力光とに分離する部分反射ミラー57と、部分反射ミラー57からのモニタ光の強度を検出する光出力モニタ装置60と、光出力モニタ装置60の検出値に基づいてレーザ光源の出力を制御して部分反射ミラー57からの出力光の強度を制御する制御部80と、所定の校正時期において部分反射ミラー57からの出力光の強度を検出するパワーメータ装置72とを備え、制御部80は、パワーメータ装置72の検出値に基づいて光出力モニタ装置60の出力を校正するようになっている。 (もっと読む)


光学材料におけるレーザー誘起損傷は、光吸収が最小化される状態を作り出すことによって緩和されうる。具体的には、光学材料においてバンドギャップの欠陥エネルギーをポピュレートする電子は、一般にブリーチングと呼ばれるプロセスにおいて、伝導帯へと推進されうる。こうしたブリーチングは、材料内への最小限のエネルギー蓄積を保証する既定の波長を用いて達成されうるものであり、理想的には、電子を伝導帯のちょうど内側へと推進する。ある場合には、フォノン(すなわち、熱)励起も、高いデポピュレーションレートを達成するために用いられることが可能である。一実施形態において、レーザービームの波長よりも長い波長を有するブリーチング光ビームが、バンドギャップにおける欠陥エネルギー準位をデポピュレートするために、レーザービームと合成されうる。ブリーチング光ビームは、レーザービームと同じ方向、又は交差する方向で伝播されうる。
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【課題】ファイバレーザ装置の入力電流により励起用のレーザ光源を駆動したときにファイバレーザ装置から出てくる光パルスを積極的に利用してピーク値が数十Wの光パルス列を発生し、低コストで簡単な構成のパルスファイバレーザ装置を実現する。
【解決手段】本発明のパルスファイバレーザ装置10は、励起光(図示せず)を出射する励起用のレーザ光源11と、レーザ活性物質を含み励起光を入射するファイバ12と、ファイバ12を挟んで光学的に接続されている1組のファイバグレーティング13と、を備えたファイバレーザ14であって、レーザ光源11を駆動する入力電流15をファイバレーザ14からの光パルス16aが出射されると同時に遮断することにより出力光16が出射されている。 (もっと読む)


【課題】従来のパルス発振ファイバレーザ光源の構成ではパルス発振を得るための部材が効率低下の要因となっていた。また、高効率な波長変換素子を使用した場合出力が飽和したり波長変換素子が劣化したりする等の問題があった。
【解決手段】Ybファイバレーザ共振器部分のYbファイバに励起が弱くなる部分をもうけ、ポンプ用LDに印加する電流をパルス状にすることによりファイバレーザを安定的にパルス発振させ、高効率な波長変換を実現する。 (もっと読む)


【課題】波長変換によって生じるレーザ光(紫外光)の質を向上させたレーザ装置を提供する。
【解決手段】レーザ装置1が、レーザ光Lsを発生させるレーザ光発生部10と、誘導ラマン散乱を利用してレーザ光Lsの波長を所定波長に変換する波長変換器20と、波長変換器20により所定波長に変換されたレーザ光Ls1の波長を紫外域の波長に変換する波長変換光学系30とを備え、波長変換光学系30が非臨界位相整合による和周波発生により波長変換を行う波長変換光学素子34を有して構成される。 (もっと読む)


【課題】レーザーデバイスと波長変換素子の温度を適切に制御せずにこれらの光学素子を接合すると、光学素子の位置を適切に調整することができないことから、高効率な光源を得ることがでないという問題があった。そこで、温度により大きく特性が変化する光学素子であっても高効率な光源を製造することができる光源の製造装置、及び光源の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】レーザーデバイスと波長変換素子の温度を、それぞれ前記レーザーデバイス及び前記波長変換素子から出射される光の出力が最大出力に対して所定割合以上になる温度に保持した上で、前記波長変換素子から出射した出力が所定値以上となるように、温度が保持された前記レーザーデバイス及び前記波長変換素子を接合するようにした (もっと読む)


【課題】 出力されるレーザ光の立ち上がり期間短くしつつ、出力されるレーザ光の立ち上がり期間のばらつきを抑制することができるファイバレーザ装置を提供する。
【解決手段】 ファイバレーザ装置100は、種レーザ光源10と、励起光源20と、増幅用光ファイバ30と、制御部60と、出力設定部63と、出力命令部65とを備え、出力命令が制御部60に入力されるとき、制御部60は、予備励起状態と、出力状態となる様に種レーザ光源10と励起光源20とを制御し、予備励起状態においては、レーザ光が種レーザ光源10から出力されず、出力設定部63により設定されるレーザ光の強度に基づく所定の強度の励起光が励起光源20から一定期間出力され、出力状態においては、出力設定部により設定される強度のレーザ光が出力されるように、レーザ光が種レーザ光源10から出力されると共に励起光が励起光源20から出力されることを特徴とする。 (もっと読む)


本発明は、1030nmよりも短い波長での、制御された単一横方向モードの放射を放出するファイバを有する光源(1)であって、ポンピング波の放出に適している少なくとも1つのレーザダイオード(2)と、2つの端部を有しており、コアおよびポンピングシースを含んでいる、レアアースエレメントがドープされているシースを伴う増幅光ファイバ(6)部と、上記ドープされたファイバの上記シースにおいて上記ポンピング源を結合する手段と、を備えており、上記ドープされたファイバの上記コアは、上記シースの屈折率よりも高いコアの屈折率を得るために、イッテルビウム、ネオジム、ツリウムから選択されたレアアースエレメントがドープされた円筒形状部を含んでおり、上記レーザダイオード(2)の励起波長は、780nmから960nmの間に有り、上記シースの直径は50ミクロンよりも大きく、上記ドープされたコアの上記ポンピングシースに対する表面比率は8から50の間に有る、ことを特徴とする光源(1)に関する。
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【課題】 高品質の加工を行う。
【解決手段】 レーザビームを出射するビーム出射装置と、加工対象物を保持するステージと、ビーム出射装置を出射したレーザビームをステージに伝搬する光学系と、ビーム出射装置からレーザビームが出射する状態と出射しない状態とを切り替える制御装置とを有し、ビーム出射装置は、レーザ光の波長を変換する波長変換素子を含み、レーザ媒質の励起波長の高調波を出射するレーザ光源と、外部から与えられる信号により、レーザ光源を出射したレーザビームの一部をレーザビームの経路を逆向きに伝搬するように反射するとともに、残余のレーザビームをビーム出射装置の外部に出射させない戻り光発生装置とを備え、制御装置は、戻り光発生装置への信号で、ビーム出射装置からレーザビームが出射する状態と出射しない状態とを切り替えるレーザ加工装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】室温においても検出感度が高く、同時に高速に動作可能な単色波長可変型のテラヘルツ波発生/検出システムが存在しない。
【解決手段】1つの励起光源から発生された単色波長の励起光を、以下に示す励起光位相制御光学系を通じて波長可変テラヘルツ波光源と非線形光変換テラヘルツ波検出器に入射する。ここでの励起光位相制御光学系は、波長可変テラヘルツ波光源におけるテラヘルツ波の発生点と非線形光変換テラヘルツ波検出器におけるテラヘルツ波の入射点の両方が同時に共焦点光学系の焦点となるように、発生点に対する励起光の入射角と入射点に対する励起光の入射角を同時に可変できる光学素子を励起光の光路上に有する。 (もっと読む)


【課題】より有効にレーザ光を利用しながら、より電気絶縁性に優れたエッジデリーションを行う。
【解決手段】SHGレーザ発振器113は、パルス発生器111から供給される出射指令信号に同期してSHGパルスを出射し、基本波レーザ発振器114は、遅延回路112により遅延された出射指令信号に同期して基本波パルスを出射する。SHGパルスおよび基本波パルスは、角形光ファイバ120を通過し、2波長コリメータレンズ121および2波長結像レンズ122により、スリット123の入射面において矩形の開口部を含むように結像された後、スリット123を通過し、2波長結像レンズ124および2波長fθレンズ126により、薄膜太陽電池パネル102の加工面に入射し結像される。本発明は、例えば、エッジデリーションを行うレーザ加工装置に適用できる。 (もっと読む)


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