【課題】基板温度の調整が不要であり、高精度な加工により高い生産効率を実現することができる光電変換装置の製造方法および光ビーム照射加工装置を提供する。
【解決手段】温度情報と事前に取得した歪情報とを含む情報に基づいて決定された位置に光ビームを照射することにより被加工物の加工が行なわれる光電変換装置の製造方法である。また、温度情報取得部によって取得された温度情報と内部記憶された歪情報とを含む情報に基づいて決定された位置に光ビームを照射できるように光ビーム発振部と駆動部とを制御することが可能な制御部を備えた光ビーム照射加工装置である。 （もっと読む）

【課題】微細加工及び高精度かつ高品質の加工を行うことができるとともに、高い加工効率を有し、かつ、レーザ光の照射回数を少なくして任意の形状加工においても短時間に加工可能なレーザ加工装置を提供すること。
【解決手段】レーザ加工システムＳは、レーザ光源１００から出力されたフェムトレーザビームの一部を遅延させ、加工対象物Ｍに時間差を与えてフェムトレーザビームを異なる集光スポットＳＰに集光することによって加工対象物Ｍを加工するようになっている。特に、このレーザ加工システムＳは、第１位置に遅延を生じていない第１フェムトレーザビームを照射し、第２位置に遅延を生じさせた第２フェムトレーザビームを照射するようになっている。 （もっと読む）

【課題】レーザ加工における反射防止光学素子として適した新規な反射防止光学素子を実現する。
【解決手段】無機光学材料による基板の表面に１次元の微細周期構造を形成してなり、所定の波長領域内で反射防止効果を有する反射防止光学素子であって、微細周期構造は、高さ：Ｈ１、幅：Ｄで断面山形三角形の構造単位１−１、１−２・・を周期：Ｐ（＞Ｄ）で配列してなる第１の凹凸構造と、第１の凹凸構造における隣接構造単位間に、凹凸の高さ：Ｈ２が「０．４Ｈ１≦Ｈ２≦０．８Ｈ１」を満足する断面山形三角形の構造単位２−１、２−２・・による第２の凹凸構造が形成され、第１の凹凸構造における構造単位の幅：Ｄは上記周期：Ｐに対し「０＜Ｐ−Ｄ≦Ｄ／２」を満足し、且つ、周期：Ｐが、波長領域の最短波長よりも短く、第１及び第２の凹凸構造は、平坦部のない楔形の凹部を形成し、上記最短波長に対して回折光を発生しない周期構造となっている。 （もっと読む）

【課題】水分や塩素成分など腐食性要因の排除、及び加工対象物の耐熱性や耐薬品性などの制限の考慮を要せず、最終製品に求められる強度を損なわずに、冷間加工応力腐食割れを防止することができる方法を提供する。
【解決手段】冷間加工により引張応力が残留している表面硬化層を有する鋼鉄を、開放端部を有する防護壁内に位置づけて、不活性ガスを高速噴射し、鋼鉄の表面に１パルス当たり照射エネルギー面密度が０．５Ｊ／ｃｍ^２以下で且つ５ｐｓ以下のパルス幅のｆｓ域極短パルスｋＷ級高平均出力レーザーを照射して表面硬化層を油煙状に蒸発させ、不活性ガスにより、表面硬化層からの剥離物質の酸化並びに対流及びレーザー照射野周囲への堆積を防止して、温度上昇を抑制し、表面硬化層が蒸発して現出する新しい表面に圧縮残留応力を発生させず且つ蒸発熱による引っ張り残留応力を発生させない。 （もっと読む）

【課題】レーザ光出力ポートを構成する複数の光出射端それぞれからのレーザ光供給を可能にするレーザ装置に於いて、全体として低消費電力化と低非線形化を実現する。
【解決手段】種光源41と、出射端70a,70bと、中間光増幅器AMP0と、光分岐器80と、最終段光増幅器AMP1₁,AMP1₂を備え、光出射端70a,70bの数は種光源41の数よりも多く、最終段光増幅器AMP1₁,AMP1₂と光出射端70a,70bとは互いに一対一に対応し、光分岐器80は、種光源41に対応した入力ポートと光出射端70a,70bそれぞれに対応した複数の出力ポートを有し、中間光増幅器AMP0は種光源41と光分岐器80との間の光路上に配置される一方、最終段光増幅器AMP1₁,AMP1₂は光出射端70a,70bと光分岐器80との間の光路上にそれぞれ配置される。 （もっと読む）

【課題】レーザ光を用いて、デジタルカメラ等の筐体にあたる塗装成形品の、導通性等を必要とする所定部位の下地層（素地層および化成処理層）にダメージを与えることなく、前記所定部位の塗装被膜層のみをアブレーションすることで、高精度に前記塗装被膜層を剥離し、高品質の塗装成形品と塗装マスキングレス化を提供する。
【解決手段】レーザによる自動塗装被膜剥離装置は、塗装被膜層４０ｃをアブレーションにより剥離するレーザ加工装置５０とアブレーション現象の際に発生する前記塗装被膜層４０ｃの微粉を集塵する装置と塗装成形品をセットする受治具を有する自動傾斜テーブルと前記自動調整テーブルへの前記塗装成形品の自動供給装置および自動取出し装置と所定部位７０の塗装被膜剥離の加工品質を判定する画像処理装置等を主構成とする。 （もっと読む）

【課題】従来のパルス発振ファイバレーザ光源の構成ではパルス発振を得るための部材が効率低下の要因となっていた。また、高効率な波長変換素子を使用した場合出力が飽和したり波長変換素子が劣化したりする等の問題があった。
【解決手段】Ｙｂファイバレーザ共振器部分のＹｂファイバに励起が弱くなる部分をもうけ、ポンプ用ＬＤに印加する電流をパルス状にすることによりファイバレーザを安定的にパルス発振させ、高効率な波長変換を実現する。 （もっと読む）

【課題】放電負荷の負荷変動による過電流検出保護回路の誤動作、および、高電圧スイッチング電源の半導体制御素子の過電流による損傷を防止し、高信頼性のレーザ発振装置を提供する。
【解決手段】インバータ部６の出力電流を１次電流検出部で検出し、検出電流値が所定の電流値を超えた場合にインバータ部制御素子のゲートパルス幅を縮小させて、インバータ部６の出力電流値を制限するパルス幅制限手段３７の保護回路によりインバータ部制御素子で発生する電力損失を減少させて熱破壊より防止する。 （もっと読む）

光学素子構造体と集束ビームとを用いて、レーザ・パターンを形成する。ある実施形態では、光学素子構造体は単一の基板上に集積化して形成できる。ある実施形態では、多数の光学部品は、所望のパターンを呈するために、光路で組み合わせることができる。少なくとも一つの実施形態では、投影マスクを用いて、投影マスクの制御された動きと対象物の制御された動きとレーザビームの制御された動きとを組み合わせて、レーザ出力に対する対象物の露光を制御する。ある実施形態では、投影マスクを用いて対象物の露光を制御し、投影マスクは、レーザ出力を吸収、散乱、反射、又は減衰できる。ある実施形態では、投影マスクは、投影マスクの領域の全体を透過したレーザビームの光パワーと偏光を変える光学的素子を含むことができる。
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【課題】短い加工時間で精度良く被加工物に傾斜部を形成することができる加工装置を提供する。
【解決手段】加工装置１０は、光を出射するマスク照明系１１と、マスク照明系１１からの光を変調して出射する変調マスク３３と、変調された光を結像して被加工物１８に照射し、被加工物１８に傾斜部１８ｂを形成する結像光学系１７とを備えている。変調マスク３３は、被加工物１８の傾斜部１８ｂに照射される光を位相変調する変調マスク傾斜部２４ｂと、変調マスク傾斜部２４ｂに隣接し、被加工物１８の非加工部１８ｃに対応する変調マスク遮蔽部２４ｃと、を有している。このうち変調マスク傾斜部２４ｂは、複数の位相変調単位領域２４ｅからなっている。一方変調マスク遮蔽部２４ｃは、光を遮蔽する光遮蔽層２７を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】ドーパント拡散領域の少なくとも一部の端部において、基板の表面と平行な方向に急峻に変化するドーピング濃度プロファイルを形成するレーザドーピング方法を提供する。
【解決手段】レーザ光８１の照射により基板１０の表面１２上に形成される照射像９１は、表面１２と平行な第１の方向において第１照射像領域Ｒ１と第２照射像領域Ｒ２とを含む。レーザ光８１の光強度密度は、第１照射像領域Ｒ１において第１光強度密度Ｐ１で略均一であり、第２照射像領域Ｒ２において第１光強度密度Ｐ１より高く且つピーク値である第２光強度密度Ｐ２を含む。第２照射像領域Ｒ２におけるレーザ光８１の光強度密度プロファイルは、第１照射像領域Ｒ１から第２照射像領域Ｒ２に向かう方向において、第１光強度密度Ｐ１を起点として第２光強度密度Ｐ２に向かい、第２光強度密度Ｐ２おいてピーク値となり、当該ピーク値を起点として以降減少する。 （もっと読む）

【課題】 信頼性の高いガラス溶着体を製造することができるガラス溶着方法、及びそのためのガラス層定着方法を提供する。
【解決手段】 バインダをガス化させると共にガラスフリット２を溶融させて、ガラス部材４にガラス層３を定着する際、溶着予定領域Ｒにおける照射開始位置Ａからその照射開始位置Ａまで溶着予定領域Ｒに沿ってレーザ光Ｌ１を照射した後、連続して、溶着予定領域Ｒにおける照射開始位置Ａからの不安定領域に沿って安定領域開始位置Ｂまで再度レーザ光Ｌ１を照射して、不安定領域のガラス層３を再溶融させてバインダを除去し安定領域とした上でガラス層３をガラス部材４に定着させる。 （もっと読む）

【課題】装置の大型化および構成の複雑化を回避しつつ、所望の加工のためのレーザ光（パルス列）を出力可能なレーザ加工装置、およびそのレーザ加工装置を用いたレーザ加工方法を提供する。
【解決手段】レーザ加工装置１００は、シード光を発するシードＬＤ２と、励起光を発する励起ＬＤ３と、シード光および励起光が入射されることによってシード光を増幅するように構成された光ファイバ１，８とを備える。シードＬＤ２は、シード光として、複数の光パルスを含むパルス列を繰返し発生させる。複数の光パルスの間の時間間隔は、パルス列同士の間隔よりも短い。さらに、光パルスの数、パルス幅、振幅および間隔の少なくとも１つが可変である。 （もっと読む）

【課題】レーザースクライブ時に発生する発塵物の基板表面への付着を低減して、太陽電池モジュール等の製造における歩留まりの向上を図ることのできるレーザースクライブ装置を得ること。
【解決手段】レーザー光源１１からのレーザー光２を走査させて被加工物１をレーザースクライブするレーザースクライブ装置２０であって、被加工物へのレーザー光の照射位置近傍に向けて、レーザー光の走査方向の両側から気流を噴出する気流噴出ノズル３と、被加工物へのレーザー光の照射位置の近傍で気流を吸引する吸引ノズル４と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 高品質の加工を行う。
【解決手段】 レーザビームを出射するビーム出射装置と、加工対象物を保持するステージと、ビーム出射装置を出射したレーザビームをステージに伝搬する光学系と、ビーム出射装置からレーザビームが出射する状態と出射しない状態とを切り替える制御装置とを有し、ビーム出射装置は、レーザ光の波長を変換する波長変換素子を含み、レーザ媒質の励起波長の高調波を出射するレーザ光源と、外部から与えられる信号により、レーザ光源を出射したレーザビームの一部をレーザビームの経路を逆向きに伝搬するように反射するとともに、残余のレーザビームをビーム出射装置の外部に出射させない戻り光発生装置とを備え、制御装置は、戻り光発生装置への信号で、ビーム出射装置からレーザビームが出射する状態と出射しない状態とを切り替えるレーザ加工装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】太陽電池基板として用いられる板厚５ｍｍ程度のガラスにＣＯ２レーザ光照射によって深さ２００μｍ程度の表面スクライブを発生させ、後続の機械ブレークによって割断を実現させる方法及び装置。
【解決手段】ＣＯ２レーザ光を回折格子光学素子によって断面形状をラインビームに変換し、ガラス表面に走査を伴って照射させ、走査レーザビームの背後を同速度にて追従走査する冷却ユニットを伴うガラスの表面スクライバー装置において、ガラス端部のスクライブ開始点から１０−２０ｍｍまでの領域の走査速度を低下させることによって同領域におけるスクライブ深さを３−４ｍｍの深さまで増大させ、同領域における後工程の機械ブレークを容易化し、いったん開始した同ブレークをスクライブ深さが２００μｍとより浅い他領域にわたって進展させ、板厚５ｍｍの厚板ガラスをレーザ出力７０Ｗを用いて速度５０ｍｍ／Ｓで割断することを特徴とするもの。 （もっと読む）

【課題】設置面積を大きくすることなく堅牢で高価な光学系移動機構等を共有することによって廉価なレーザ加工ステーションを構築する。
【解決手段】ソーラパネルモジュールを製造する場合、透明電極層の加工に適した波長（例えば、１０６４［ｎｍ］）のレーザ光を発生する第１のレーザ発生装置と、半導体層及び金属層の加工に適した波長（例えば、５３２［ｎｍ］）のレーザ光を発生する第２のレーザ発生装置とを１のレーザ加工ステーションに設け、ワーク上の成膜層毎に第１及び第２のレーザ発生装置を切り換えて照射する。これによって、透明電極層、半導体層、金属層を成膜する３箇所の成膜ステーションと、１のレーザ加工ステーションを設けるだけでよくなる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、従来のＣＶＤ装置で用いることの出来なかった材料により成膜を可能にし、さらに不純物が混じらない高品質の成膜を可能とした薄膜堆積方法および装置を提供することを目的とする。
【解決手段】非平衡プラズマにより原料ガス１４に与えるエネルギーと、原料ガス１４より生成する目的の反応生成物固有のポテンシャルエネルギーとの差分のエネルギーを求め、ポテンシャルエネルギーが不足の場合、前記差分のエネルギーを補充するレーザ光１９の波長を求め、ポテンシャルエネルギーが余剰の場合、差分のエネルギーを誘導放出により放出するレーザ光１９の波長を求め、非平衡プラズマ化された原料ガス１４に、求めた波長のレーザ光１９を照射して、原料ガス１４の基底準位を前記ポテンシャルエネルギーに遷移し、原料物質より目的の反応生成物を解離または分解し、被成膜物質１２に堆積して成膜する。 （もっと読む）

【課題】より有効にレーザ光を利用しながら、より電気絶縁性に優れたエッジデリーションを行う。
【解決手段】SHGレーザ発振器１１３は、パルス発生器１１１から供給される出射指令信号に同期してSHGパルスを出射し、基本波レーザ発振器１１４は、遅延回路１１２により遅延された出射指令信号に同期して基本波パルスを出射する。SHGパルスおよび基本波パルスは、角形光ファイバ１２０を通過し、２波長コリメータレンズ１２１および２波長結像レンズ１２２により、スリット１２３の入射面において矩形の開口部を含むように結像された後、スリット１２３を通過し、２波長結像レンズ１２４および２波長ｆθレンズ１２６により、薄膜太陽電池パネル１０２の加工面に入射し結像される。本発明は、例えば、エッジデリーションを行うレーザ加工装置に適用できる。 （もっと読む）

【課題】レーザ発振による振動が光学ユニットに伝達されることを抑制する連結ユニット、及びこれを含むレーザ発振装置を提供する。
【解決手段】レーザを発振する発振ユニットと、前記レーザを取り囲むシャッターユニットと、前記レーザを取り囲んで前記発振ユニットと前記シャッターユニットとの間を連結し、前記発振ユニットに支持されている第１連結部及び前記シャッターユニットに支持されている第２連結部を含む連結ユニットとを含み、前記第１連結部及び前記第２連結部のいずれか一つは、他の一つから離隔し、前記他の一つの一部以上を取り囲むレーザ発振装置。 （もっと読む）