【課題】本発明は、レーザー蒸着する場合のターゲットの無駄を少なくして成膜コストの低減を図るとともに、成膜領域の熱分布を均等にして安定した膜質の薄膜を成膜することができるレーザー蒸着装置の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、レーザー光をターゲットの表面に照射し、該ターゲットから叩き出され若しくは蒸発した蒸着粒子をヒーターボックス内において巻回部材に支持された長尺基材表面に堆積させるレーザー蒸着装置であって、巻回部材間に複数列に分けて支持される長尺基材の幅方向の設置範囲に対応する幅のターゲットが設置され、該ターゲットの裏面側に該ターゲットよりも幅広のバッキングプレートが設置され、該ターゲットの幅方向両側に耐熱金属製のダミープレートが設置され、ダミープレートのバッキングプレート側に酸化物膜が形成されてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ＭｇＢ_２を良好な結晶配向性を維持しつつ成膜させることで、臨界電流密度が高く超電導特性の良好な超電導導体を提供することを第一の目的とする。また、本発明は、安定してＭｇＢ_２の結晶配向を制御し、高い超電導特性を有するＭｇＢ_２超電導導体の製造方法を提供することを第二の目的とする。
【解決手段】本発明の超電導導体１０は、金属基材１１と、金属基材１１上に、イオンビームアシスト（ＩＢＡＤ）法により形成された３回対称ＭｇＯ（１１１）層１３と、ＭｇＢ_２層１４とが積層された積層体よりなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】交流損失の低減効果が高い超電導線材の提供。
【解決手段】金属基材１１上に金属酸化物からなる中間層１２、超電導層１３及び金属安定化層１４をこの順に積層し、金属安定化層１４に、長手方向に沿って第一の溝１８を形成して超電導層１３を露出させ、露出させた超電導層１３に、長手方向に沿って第二の溝１９を形成して中間層１２を露出させ、この時、金属基材１１の中間層１２積層面（表面１１ａ）に対して略平行な方向において、第二の溝１９の幅を第一の溝１８の幅よりも狭くして、超電導線材１とする。 （もっと読む）

【課題】超電導層の安定化と交流損失の低減が可能で、且つ簡便に製造できる超電導線材の提供。
【解決手段】金属基材１１上に金属酸化物からなる中間層１２、超電導層１３、第一の金属安定化層１４、絶縁層１５及び第二の金属安定化層１６がこの順に積層され、中間層１２に達して第一の金属安定化層１４及び超電導層１３を幅方向に分割する第一の溝１８及び第二の溝１９が、第一の金属安定化層１４及び超電導層１３に、長手方向に沿って一体に形成され、第一の金属安定化層１４及び第二の金属安定化層１６が、電気的に接続されていることを特徴とする超電導線材１。 （もっと読む）

【課題】通電方向に対して垂直方向に縞状を形成する超電導限流素子を提供する。
【解決手段】絶縁性基板４と、絶縁性基板４の少なくとも一側面に形成された超電導膜３と、超電導膜３の一側面に、第１抵抗部１と第２抵抗部２とが通電方向に交互に配置され縞状に形成された常電導抵抗膜５と、を含む超電導限流素子１０。とする。 （もっと読む）

【課題】曲げ特性の劣化を抑制することが可能な、銅めっき薄膜が形成された薄膜超電導線材および当該薄膜超電導線材を有する超電導ケーブル導体を提供する。
【解決手段】基板１と、基板１の一方の主表面上に形成された中間層３と、中間層３の、基板１と対向する主表面と反対側の主表面上に形成された超電導層５とを含む積層構造２０を備える薄膜超電導線材１０であり、積層構造２０の外周を覆う銅めっき薄膜９をさらに備えており、銅めっき薄膜９の内部の残留応力が圧縮応力になっている。積層構造２０には銀スパッタ層６を備えていてもよいし、銅めっき薄膜９と積層構造２０との間に、積層構造２０の外周を覆う銀被覆層７をさらに備えていてもよい。 （もっと読む）

【課題】成膜速度を向上させることが可能な薄膜の製造方法および薄膜の製造装置を提供する。
【解決手段】薄膜の製造方法は、基材上に原料粉末を供給する工程（Ｓ１０）と、原料粉末に対してパルスレーザを照射して原料粉末を昇華させる工程（Ｓ３０）と、昇華した原料粉末を構成する材料を、基材に対向して配置された基板上に堆積させる工程（Ｓ４０）とを備えている。このとき、基材において原料粉末を載置する表面は、原料粉末と同一材料からなっていることが好ましい。 （もっと読む）

【解決課題】配向性基板を適用する超電導線材について、基板の配向性を従来よりも改善し、高特性を発揮し得る超電導線材を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、結晶配向金属からなる基板上に、少なくとも１層の中間層と、酸化物超電導材料からなる超電導材層が形成された超電導線材において、前記結晶配向金属からなる基板は、｛１００｝＜００１＞立方体集合組織を有する銅層と、前記銅層の上に形成され、厚さ１〜５０００ｎｍのニッケルからなる配向性改善層とからなり、前記基板表面における結晶軸のずれ角ΔφがΔφ≦５°であることを特徴とする超電導線材である。この配向性改善層により、基板表面の配向度を改善することができる。そして、配向性改善層は、その表面にパラジウムを膜厚相当で３０ｎｍ以下含むものとすることで、その平滑性が改善されると共に、その後の形成される中間層等の成膜性も改善される。 （もっと読む）

【課題】ヒステリシス損失を低減できる前駆体の製造方法、超電導線材の製造方法、前駆体および超電導線材を提供する。
【解決手段】超電導線材の製造方法は、以下の工程を備えている。第１の金属層と、第１の金属層上に形成されたＮｉ層とを有する積層金属を準備する。積層金属のＮｉ層上に中間層２０を形成する。中間層２０上に超電導層３０を形成する。中間層２０を形成する工程および超電導層３０を形成する工程の少なくともいずれか一方の後に、積層金属を熱処理することで、積層金属から非磁性Ｎｉ合金層１２を形成する。 （もっと読む）

【課題】幅方向に複数のレーンを成すように配列した基材または幅広の基材に対しても、膜厚や特性が均一な薄膜を効率良く成膜することが可能であり、また、良好な生産性で厚い膜の成膜が可能な成膜方法および成膜装置を提供する。
【解決手段】レーザー光Ｌによってターゲット６から叩き出され若しくは蒸発した構成粒子を帯状の基材３４の表面上に堆積させ、基材３４の表面上に薄膜を形成するにあたり、基材３４の移動方向を転向させる転向部材１１を囲んで加熱ボックス２０を設けるとともに、転向部材１１に接した状態にある基材３４の表面に対向するようにターゲット６を配し、転向部材１１に基材３４の裏面が接しつつ、基材３４を長手方向に移動させた状態で、加熱ボックス２０の中を均等加熱するヒーター２５により、基材３４を加熱し、ターゲット６にレーザー光Ｌを照射する位置を、基材３４の幅方向と同じ方向に振幅させる。 （もっと読む）

【課題】帯状の基材の幅方向において膜厚や特性が均一な薄膜を効率良く成膜することができ、構成粒子の収率及び生産性の向上を図ることが可能な成膜方法を提供する。
【解決手段】成膜方法は、レーザ光Ｌをターゲット６の表面に照射して、このターゲット６の構成粒子６Ａを叩き出し若しくは蒸発させ、この構成粒子６Ａを帯状の基材上に堆積させることにより薄膜を形成する成膜方法であって、前記レーザ光Ｌが前記ターゲット６の表面に照射する位置を、前記基材の幅方向と同じ方向に振幅させ、前記基材を、転向部材に該基材の裏面が接しつつ長手方向に移動する状態として、前記構成粒子６Ａの堆積領域内を通過させることにより、前記基材の表面上に前記構成粒子６Ａを堆積させ、前記基材の表面上に薄膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】基材の表面に超電導薄膜を形成させる際に、ヒーターなど基材以外の表面に堆積した蒸着物を容易に除去して厚膜で均一な超電導薄膜を連続して形成することができる薄膜超電導線材の製造方法および製造装置を提供する。
【解決手段】テープ状の基材を、裏面側に配置された支持部に沿って長尺方向に走行させる基材走行ステップと、前記基材の表面に薄膜材料の蒸発物を蒸着させて超電導薄膜層を連続的に形成する薄膜形成ステップと、前記基材の走行方向とは垂直の方向に前記基材を往復移動させて、前記基材の表面以外の領域に蒸着した薄膜材料を除去する蒸着物除去ステップとを有している薄膜超電導線材の製造方法および製造装置。 （もっと読む）

【課題】均質な薄膜を長時間に渡って形成することが可能な薄膜の製造方法および薄膜製造装置を提供する。
【解決手段】この発明に従った薄膜の製造方法は、基板準備工程と、基板と対向する位置にターゲット材を準備する工程と、ターゲット材にエネルギー線としてのレーザ光を照射することにより、ターゲット材から放出される原子を含むプルームを形成し、プルームに含まれる原子を基板表面上に供給することにより薄膜を形成する成膜工程とを備える。成膜工程では、工程（Ｓ２１）〜工程（Ｓ２４）に示すようにプルームの発光強度に応じて基板とターゲット材との間の距離が調整される。 （もっと読む）

【課題】金属基板の配向性を保持した酸化物薄膜を形成することを可能とする酸化物薄膜の形成方法を提供すること。
【解決手段】加熱された配向金属基板上に、酸素を含む雰囲気中で金属または金属酸化物からなる原料をエレクトロンビーム蒸着法により蒸着する工程を具備し、前記蒸着を、雰囲気中の水蒸気分圧を１×１０−４Ｐａ以下とし、かつ雰囲気中の酸素分圧及び成膜温度の少なくとも一方を制御して行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】超電導線材を超電導体で接続した超電導線材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ｃ軸面を主面とした第１超電導層を有する第１超電導線と、前記第１超電導体と並置され、ｃ軸面を主面とした第２超電導層を有する第２超電導線と、前記第１超電導層の前記主面と、前記第２超電導層の前記主面と、にそれぞれ接続され、前記第１超電導層と前記２超電導層とを電気的に接続する超電導体からなる超電導接続体と、を備えたことを特徴とする超電導線材を提供する。 （もっと読む）

超伝導性物品であって、基板、基板の上に横たわるバッファ層、及びバッファの上に横たわる高温超伝導性（ＨＴＳ）材料よりなるフィラメントを持つものが与えられる。フィラメントは基板の長さに沿って伸び、かつ、隣接するフィラメントから水平方向にある空間だけ空けて配置されている。多層フィラメント超伝導性テープは、少なくとも約０．４である臨界電流保持比を持つ。
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【課題】磁場下における臨界電流特性の向上とともに、無磁場下における臨界電流密度の低下を抑制し、良好な臨界電流特性を有する酸化物超電導導体とその簡便な製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る酸化物超電導導体１は、基体２と、該基体の一方の面上に形成された酸化物超電導層５とを備え、該酸化物超電導層はＲＥ１２３系の超電導材料からなり、不純物を含まない第一超電導膜３と不純物を含む第二超電導膜４との積層体であって、前記積層体は、前記第一超電導膜と前記第二超電導膜との界面を少なくとも備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】バッキングプレートを用いないでレーザが照射された場合でも、クラックが入り難く、且つ、適用可能な酸化物超電導焼結体の組成範囲が広いレーザ蒸着用ターゲットを提供する。
【解決手段】酸化物超電導焼結体を含むレーザ蒸着用のターゲットであって、当該ターゲット使用面に垂直な向きにおける線熱膨張率の値が、当該ターゲット使用面に平行な向きにおける線熱膨張率の値より１０％以上大きいことを特徴とするレーザ蒸着用ターゲットを提供する。 （もっと読む）

【課題】レーザ蒸着装置に用いる酸化物ターゲットにおいて、その使用限界時間を改善し、安定した成膜を長時間行うことができるレーザー蒸着用酸化物ターゲットの提供。
【解決手段】ターゲットにレーザー光を照射してターゲット表面から酸化物の微粒子を発生させ、該微粒子を基材表面に堆積させ、基材表面に酸化物膜を成膜するレーザ蒸着装置に用いる酸化物ターゲットにおいて、ターゲットの固定プレート上に、Ａｇろう層が接合され、該Ａｇろう層上に酸化物・Ａｇ混合層が接合され、該酸化物・Ａｇ混合層上に酸化物層が接合されてなることを特徴とするレーザー蒸着用酸化物ターゲット。 （もっと読む）

【課題】レーザ蒸着装置に用いる酸化物ターゲットにおいて、高レーザー出力および高温雰囲気によるターゲットの割れの伸展を防いで、安定した成膜を長時間行うことができるレーザー蒸着用酸化物ターゲットの提供。
【解決手段】ターゲットにレーザー光を照射してターゲット表面から酸化物の微粒子を発生させ、該微粒子を基材表面に堆積させ、基材表面に酸化物膜を成膜するレーザ蒸着装置に用いる酸化物ターゲットにおいて、希土類酸化物粉末、炭酸バリウム粉末及び酸化銅粉末を一定比率で混合し、この混合粉末を圧粉成型し、さらに部分溶融成型して得られたターゲット本体に銀網が埋設されたことを特徴とするレーザー蒸着用酸化物超電導ターゲット。 （もっと読む）