【課題】製造プロセスを増やすことなく、オイルに対する耐性の高いバンプを形成することを目的とする。
【解決手段】第３上面６８を囲むように樹脂層５０を貫通する切れ目７６が形成されている。膜５２は、切れ目７６の内側では樹脂層５０の底面を除く全体を覆い、切れ目７６の外側では樹脂層５０の少なくとも一部が露出するように形成する。切れ目７６の内側では膜５２に全体的に覆われた樹脂層５０を残し、切れ目７６の外側では膜５２からの露出面から連続する樹脂層５０の全体を除去する。切れ目７６の内側に樹脂層５０及び膜５２からバンプ４８を形成し、切れ目７６の外側に第１基板１０から浮いた状態で膜５２からシャッタ１４と駆動部４０の少なくとも一部とを形成する。 （もっと読む）

【課題】オフセット印刷により、ストライプ状の従来より幅の広いライン電極を形状精度及び寸法精度良く形成することができるオフセット印刷による電極形成方法を提供する。
【解決手段】版に導電性インクを充填後、ドクターナイフによって余剰な導電性インクを掻き取るドクタリング工程を含むオフセット印刷により、印刷用基材上にストライプ状のライン電極を形成する電極形成方法において、オフセット印刷に用いる版として、形成するライン電極に対応し、版の導電性インクを充填する凹形状のパターン内に、各々が凸形状の複数のドット部１１を有し、形成するライン電極の面積に対するドット部の合計面積の比率ＴＳ（％）が、０＜ＴＳ≦３０％で、かつ、個々のドット部の面積Ｓ（μｍ^２）が、０＜Ｓ≦２５００μｍ^２を満足する版、を用いる。 （もっと読む）

【課題】表示装置の作製工程で紫外線の照射を行っても、酸化物半導体層を用いた薄膜ト
ランジスタのしきい値電圧のシフトを低減させることができる、表示装置の作製方法を提
供することを課題の一つとする。
【解決手段】少なくとも一回以上の紫外線の照射を行い、且つ酸化物半導体層を有する薄
膜トランジスタをスイッチング素子として用いる、表示装置の作製方法において、全ての
紫外線照射工程を終えた後で、紫外線照射による該酸化物半導体層のダメージを回復させ
る熱処理を行う表示装置の作製方法である。 （もっと読む）

【課題】印刷により、ストライプ状の従来より幅の広いライン電極を形状精度及び寸法精度良く形成することができるオフセット印刷による電極形成方法を提供する。
【解決手段】版に導電性インクを充填後、ドクターナイフによって余剰な導電性インクを掻き取るドクタリング工程を含むオフセット印刷により、印刷用基材上にストライプ状のライン電極を形成する電極形成方法において、オフセット印刷に用いる版として、形成するライン電極に対応し、版の導電性インクを充填する凹形状のパターン内に、各々が凹形状の複数の彫刻部１１を有し、形成するライン電極の面積に対する彫刻部の合計面積の比率ＴＳ（％）が、７０％≦ＴＳ＜１００％で、かつ、個々の彫刻部の面積Ｓ（μｍ^２）が、０＜Ｓ≦８００００μｍ^２を満足する版、を用いる。 （もっと読む）

【課題】電極接合構造体の製造方法における製造工程を簡素化する。
【解決手段】フレキシブル基板１０２の端部のフレキシブル基板端縁１０２ｃに沿った領域は、第一のガラス基板１００の端部のガラス基板端縁１００ａに沿った領域よりも内側にある領域に、接着部材１０５を介して接合されており、隙間Ｇが、フレキシブル基板１０２の端部のフレキシブル基板端縁１０２ｃに沿った領域よりも内側にある領域と、第一のガラス基板１００の端部のガラス基板端縁１００ａに沿った領域と、の間に形成されており、封止樹脂部材１０４は、フレキシブル基板１０２の端部のフレキシブル基板上面１０２ｕを覆うとともに少なくとも隙間Ｇの一部分に入り込むように形成されており、隙間Ｇの高さｈは、第一のガラス基板１００の端部のガラス基板端縁１００ａから内側に向かって小さくなっている、電極接合構造体である。 （もっと読む）

【課題】コントラストの改善を図ることが可能であり、製造が容易なアパーチャープレートを提供すること。
【解決手段】本発明の表示装置においては、（Ａ）透光性の基板１３０上に金属層１３２を形成し、（Ｂ）金属層１３２上に開口パターンが形成されたレジストマスク１３６を設け、この状態で金属層１３２の露出部分をエッチングして開口部１２６を形成し、（Ｃ）その後レジストマスク１３６を除去し、（Ｄ）金属層１３２の表面及び開口部１２６の側壁面を酸化して金属の酸化物層１３４を形成することにより、アパーチャープレートの表裏の反射率を異ならせる。酸化物層１３４は、レジストマスク１３６をアッシングするときに、レジスト除去と同時に形成することができる。 （もっと読む）

【課題】位相差板の位置合わせが困難である。
【解決手段】貼付治具は、位相差板を表示部に貼り付ける貼付治具であって、前記貼付治具は、前記位相差板を前記表示部へと押圧する押圧部と、前記押圧部を取り外し可能に前記位相差板に貼り付ける粘着層と、前記押圧部に設けられた把持可能な把持部とを備える。位相差板の貼付方法は、把持可能な把持部が設けられた押圧部を有する貼付治具を、粘着層によって位相差板に取り外し可能に貼り付ける段階と、前記位相差板を表示部に載置する載置段階と、前記把持部を把持して、前記位相差板の位置合わせをする位置合わせ段階と、前記位相差板から前記貼付治具を取り外す取り外し段階とを備える。 （もっと読む）

【課題】液晶パネル用の自動化加工システムを提供する。
【解決手段】自動化加工システム１は、ワークテーブル主体１１と、支持装置１２と、導電粘着テープ付着装置１３とを備える。ワークテーブル主体１１は、粘着テープ付着領域と材料出入領域とを規定している。支持装置１２はワークテーブル主体１１に設けられ、薄膜トランジスタ基板２１とカラーフィルター基板２２との基板アセンブリ２を支持することに用いられる。基板アセンブリ２は材料出入領域から支持装置１２に置かれ、支持装置１２は、基板アセンブリ２を材料出入領域から粘着テープ付着領域に支持する。導電粘着テープ付着装置１３は、導電粘着テープ３を導電粘着テープシート３１に切断し、粘着テープ付着領域において導電粘着テープシート３１を薄膜トランジスタ基板２１とカラーフィルター基板２２との界面に貼り合せることに用いられる。 （もっと読む）

【課題】液晶パネルなどのセル構造体の製造において、紫外線透過シートによる上基板の静電チャックを確実に行うことができる十分な静電気が得られるとともに、紫外線の透過が減衰しないようにしてシール材を硬化させることのできる封止装置となるようにする。
【解決方法】予め塗布されたシール材に紫外線を照射して上下一対の基板を貼り合わせるようにした封止装置において、透明シート材の紫外線透過範囲に静電チャックのための静電気を発生させる金属電極を配設するとともに、紫外線の入射側の金属電極間上の全長に亘り集光レンズを配し、該集光レンズにより集光した紫外線を前記金属電極間から上基板に向けて出射するようにした紫外線透過シートを備えるようにする。 （もっと読む）

【課題】パネル側に凹部を有したシャーシでも安易で安価な構成で輝度差のないＰＤＰ装置を提供する。
【解決手段】プラズマディスプレイパネルと、プラズマディスプレイパネルを保持するシャーシとで構成され、シャーシはプラズマディスプレイパネル側に凹部を有し、この凹部に接着剤によって、シャーシまたはＰＤＰのいずれかに固定した金属繊維、金属シート、金属テープまたは樹脂スポンジのいずれかよりなる熱伝導部材または熱拡散部材を有したプラズマディスプレイ装置。 （もっと読む）

【課題】カラー電気光学ディスプレイの提供。
【解決手段】電気光学材料の層（１２）、接着層または保護層の一つの表面上に複数の着色された領域（２２Ｒ、２２Ｇ、２２Ｂ）をインクジェットプリントすることによって、電気光学ディスプレイ内にカラーフィルターアレイが提供される。代替案として、上記インクジェットプリントすることは、電気光学ディスプレイを生産するために使われる多様なサブアセンブリー内の同一の層上で行われ得る。本発明は、また、その上にカラーフィルターアレイ（２２Ｒ、２２Ｇ、２２Ｂ）を有する電気光学材料の層（１２）を調製する方法も提供する。 （もっと読む）

【課題】切断時における電子デバイスへの負担を軽減し、歩留まりを向上させることが可能な電子デバイスおよび表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本技術の電子デバイスの製造方法は、可撓性基板上に複数の電子デバイスを形成する工程と、可撓性基板を直線刃により電子デバイスごとに切断する工程とを含むものである。 （もっと読む）

【課題】
基板上の配線エリアを広げ、基板幅を狭くし、表示装置の小型化、ひいてはコストの低減を図る。
【解決手段】
表示パネルと、回路基板と、前記表示パネルと前記回路基板を接続するフレキシブルプリント基板とを有し、前記回路基板と前記フレキシブルプリント基板とが異方性導電フィルムにより電気的に接続される表示装置において、前記回路基板に、前記フレキシブルプリント基板１１の実装領域の圧着端子１５および実装領域外の圧着ダミー端子１６を設け、前記圧着ダミー端子の一部を圧着抵抗測定用のテスト端子１８とし、前記基板上で、前記圧着端子１５と前記テスト端子１８とを電気的に配線した。 （もっと読む）

【課題】簡易な工程で製造歩留まりを向上させることが可能なデバイスの製造方法および表示装置の製造方法等を提供する。
【解決手段】基板１１上にデバイス（ＴＦＴ層１２）を形成する工程は、薄膜を形成する工程（工程Ｓ１１）と、薄膜上にフォトレジスト膜を形成する工程（工程Ｓ１２）と、露光マスクＭ１を用いてフォトレジスト膜に対して露光を行う露光工程（工程Ｓ１３）と、露光がなされたフォトレジスト膜をエッチングする工程（工程Ｓ１５）とを含んでいる。露光工程では、フォトレジスト膜に対する露光を複数回連続して行う（工程Ｓ１３１，Ｓ１３２）。これにより、製造工程の増加を抑えつつ、異物の混入等に起因した薄膜パターンにおけるエッチング不良を低減することができる。 （もっと読む）

【課題】貼り合わせのときの樹脂のはみ出しを防止する方法の提供を目的とする。
【解決手段】基板３８と表示パネル１０の間隔を狭くして樹脂前駆体４６を拡げる。樹脂前駆体４６を拡げる工程の期間中に樹脂前駆体４６の粘性を変化させる。樹脂前駆体４６から、基板３８と表示パネル１０を接着する接着層４０を形成する。基板３８及び表示パネル１０の少なくとも一方は、中央を囲む領域に沿って配置されたダム４２を有し、ダム４２は切れ目４４を有する。樹脂前駆体４６をダム４２に囲まれるように配置し、ダム４２を基板３８と表示パネル１０の間で圧縮して、樹脂前駆体４６をダム４２でせき止めながら切れ目４４の方向に流動させる。樹脂前駆体４６の粘性を変化させる工程で、切れ目４４に向かって流動する先頭部分の樹脂前駆体４６の粘性を、他の部分の樹脂前駆体４６の粘性よりも高くする。 （もっと読む）

【課題】表示パネルモジュール組立装置における圧着装置では、上刃とパネル基板や下刃の面平行にずれが生じると搭載する部品にずれが生じる。搭載ずれを抑制するためには、極めて高い面平行度が要求されるため調整に労力と時間が必要であるとともに、経時的な各部材の平行度ずれなどには対応できない。
【解決手段】圧着装置の圧着刃７，８に、圧着方向に直交する軸周りの回転機構１２と圧着するパネル基板１７の面内方向にスライド可能なスライド機構１３を設けることで、圧着動作時に、上刃７とパネル基板１７や下刃８の面平行ズレのために生じるパネル基板面方向への剪断力を抑制しつつ、上刃７とパネル基板１７や下刃８の面平行を確保することにより、圧着動作時の搭載部品１６のずれを防止し、高精度かつ安定な部品搭載が可能な表示パネルモジュール組立装置が実現する。 （もっと読む）

【課題】光ビーム照射装置の空間的光変調器の傾きとヘッド部の傾きとを容易に判別して、光ビームの歪みを抑制し、描画精度を向上させる。
【解決手段】光ビーム照射装置２０から照射される光ビームを受光する受光装置５１をチャック１０に設け、光ビーム照射装置２０のヘッド部２０ａを回転する回転機構２８を設ける。回転機構２８によりヘッド部２０ａを回転する前と回転した後に、光ビーム照射装置２０から照射された光ビームを受光装置５１により受光する。ヘッド部２０ａを回転する前後の、受光装置５１により受光した光ビームの位置の変化から、光ビーム照射装置２０の空間的光変調器２５の傾きとヘッド部２０ａの傾きとを判別し、判別結果に基づき、空間的光変調器の傾き又はヘッド部２０aの傾きを補正する。 （もっと読む）

【課題】ソース電極およびドレイン電極からのオーミックコンタクト膜の延在部分の表面を介したリーク電流、およびオーミックコンタクト膜と半導体能動膜との接合側面部での欠陥を介したリーク電流を増大させないことが可能な薄膜トランジスタを提供することにある。
【解決手段】オーソミックコンタクト層８の一方は、電極９，１０の一方に接触して覆われた接触部分８１と、接触部分８１よりも厚さ方向Ｄ２において薄く、厚さ方向Ｄ２から見て電極９，１０の一方からはみ出して電極９，１０の他方へと延在して半導体能動膜７の少なくとも一部７１を避けて覆う延在部分８２とを有する。 （もっと読む）

【課題】検査精度の向上、および検査回路自体の検査およびリペアが可能なアクティブマトリクス基板を提供する。
【解決手段】基板と、前記基板上に配置された複数のゲート線１０２と、前記基板上に複数のゲート線１０２と交差する方向に配置された複数のソース線１０３と、ｍ（ｍは２以上の整数）本のソース線１０３ごとにブロック化されたデータ線ブロックＢごとに設けられた端子１４１と、データ線ブロックＢごとに設けられ、ｍ本のソース線１０３のうちから選択される少なくとも１本のソース線１０３と端子１４１とを導通させる第１選択回路１２１と、ｎ（ｎは２以上の整数）個のデータ線ブロックＢごとに設けられた端子１４２と、ｎ個のデータ線ブロックＢごとに設けられ、ｍ×ｎ本のソース線１０３のうちから選択される少なくとも１本のソース線１０３と端子１４２とを導通させる第２選択回路１２２と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】層数を低減し、製造コストを抑え、かつ点灯異常を抑制して製造歩留まりの向上を図ることのできる液晶表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】画素部（ａ）と周辺部（ｃ）とを有する基板を用いた液晶表示装置の製造方法において、ゲート絶縁膜３上に半導体層４と画素電極５を形成した後、基板上に導電膜を平面ベタに形成し、ホトレジストパターンをマスクとして、画素部（ａ）の半導体層４と画素電極５とを電気的に接続するドレイン電極を形成すると共に、画素部（ａ）と周辺部（ｃ）における半導体層４を露出させ、周辺部の半導体層４をエッチング量の指標として用いて画素領域（ａ）の半導体層４をエッチングする。 （もっと読む）