本発明は、基板(6)上へのポリマーフィルムの化学気相蒸着法に係り、該方法は、以下の2つの別々の、連続する段階を含む：ガス相のフォトン活性化段階、ここではフォトン活性化エネルギー(42、43)が、主としてガス状組成物中に存在する少なくとも一つのガス状ポリマープリカーサに供給され；および化学気相蒸着段階、ここでは前記フォトン活性化段階から得られる、該活性化されたガス状ポリマープリカーサが、基板(6)上にポリマーフィルムを生成するように、該基板上に堆積され、またここで該ガス相の全圧力は、10²〜10⁵Paなる範囲内にある。本発明は、またこのような方法を使用するためのデバイス(1)にも係る。
（もっと読む）

比較的短い遅延時間での堆積を可能にするために、異なる伝導率を有する多数の流路を使用しうる高−スループットＯＶＪＰシステムおよび方法が提供される。高−スループットＯＶＪＰシステムが、堆積の間にソース材料が排出されうる１つまたはそれ以上の開口の直径よりも極めて大きな断面積を有する流管を含みうる。このような構造の使用により、低減された遅延時間での堆積が可能になりうる。
（もっと読む）

【課題】有機層および無機層を有する積層型のガスバリアフィルムにおいて、ガスバリア性のみならず、生産性にも優れるガスバリアフィルムを提供する。
【解決手段】基板Ｚの表面に大気中で成膜された第１有機層１２を有し、その上に、真空中で成膜された第２有機層１４を有し、その上に、真空中で成膜された無機層１６を有する。 （もっと読む）

【課題】蒸着重合により均一に成膜することが可能な成膜装置を提供する。
【解決手段】チャンバー内に設置された基板に、気化した複数の物質を化学反応させることにより、前記基板上に前記化学反応により生成された物質からなる膜を形成する成膜装置において、前記チャンバー内には、前記基板に対向して設けられた前記気化した複数の物質を供給するための供給口を有する材料供給器を有し、前記供給口は前記複数の物質の各々に対し、複数設けられていることを特徴とする成膜装置を提供することにより上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】基体の表面における原料モノマーの滞留時間を考慮することなく、基体の表面を平坦化することができる成膜方法および成膜装置を提供する。
【解決手段】本発明の成膜方法は、２つの蒸発源２１Ａ、２１Ｂにそれぞれ注入された２種の原料モノマーＡ、Ｂを加熱し気化させて得られた原料ガスを混合して混合ガスとし、この混合ガスを真空チャンバ１２内へ導入し、被処理体１３の一方の面１３ａにて、２種の原料モノマーＡ、Ｂを蒸着重合させて、被処理体１３の一方の面１３ａに被膜を形成する成膜方法であって、２種の原料モノマーＡ、Ｂとして、融点が室温よりも低いものを用いることを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、基材に高疎水性を付与するために基材の表面を処理する方法に関する。さらに詳細には、上記方法は、基板の処理中に、低い表面エネルギーを有するが異なる鎖長を有する２つの異なる種類の有機シラン分子の自発的に生じる相分離を利用する。これらのドメイン（domain）とマトリクス（matrix）構造の高さ差から生じ、相分離され低い表面エネルギーを有する長い有機シラン分子及び短い有機シラン分子により形成された表面粗度は、それぞれロータス効果（Lotus effect）の超疎水性を再現する。このように、上記方法は上記基板を高疎水性とすることができる。最後に、基板の表面を高疎水性にする、上記基板表面の処理方法は、高疎水性の表面が、ＣＦ_３基を官能基として有する有機シランと上記有機シランより炭素鎖長が短くＣＨ_３基を官能基として有する有機シランとを使用して、化学気相蒸着によって混合自己組織化単分子膜を形成することにより得られることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ガスバリア性のみならず耐久性にも優れる、有機／無機酸化物のガスバリア積層体を提供する。
【解決手段】 有機化合物層と、その上の珪素原子含有化合物層と、その上の酸化物無機化合物層とを有することにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）

インライン堆積システムにおいて有機材料層を基板上に形成する方法であって、有機材料は、所定の一定でない堆積レートプロファイルで堆積される。該プロファイルは、所定の第１平均堆積レートで有機材料層の少なくとも第１単分子層を堆積するために用意した所定の第１堆積レート範囲と、所定の第２平均堆積レートで有機材料層の少なくとも第２単分子層を堆積するために用意した所定の第２堆積レート範囲とを含む。インジェクタの開口を経由した有機材料の注入は、所定の堆積レートプロファイルを実現するために制御される。
（もっと読む）

１つの実施の形態における本発明は、蒸発材料を含んだ複数の気体流を基材に送り出すという形で、蒸発材料を運ぶ第１の気体流を基材に提供して基材上で積層させること、気体流を囲む気体カーテンを形成することにより、目標印刷範囲を越えて気体流が拡散するのを防ぐこと、蒸発材料を目標印刷範囲で凝縮させること、に関する。また、別の実施の形態では、熱を利用して蒸発材料の流れと積層の厚みとを制御する。 （もっと読む）

【課題】高精細パターンを形成したテンションマスクを均一に冷却する。
【解決手段】冷却体４をテンションマスク１のマスク箔３に接触させ、冷却体４をマスク箔上で走査させることにより、マスク箔３の全面を冷却する。冷却体４によってマスク箔３を冷却した後、基板７をマスク箔３に接触させ、シャッター８を開いて、蒸着源６から発生する蒸気を基板７に付着させる。マスク箔３の全面に冷却体４を直接接触させて冷却するため、短時間で均一にテンションマスクの温度調整を行うことが可能である。 （もっと読む）