説明

国際特許分類[C23G5/00]の内容

国際特許分類[C23G5/00]の下位に属する分類

国際特許分類[C23G5/00]に分類される特許

21 - 30 / 91


本発明は、表面が酸化ケイ素の層で覆われているシリコン基板の表面の洗浄方法を提供する。この方法は、上記表面をフッ素化ガスから発生させた高周波プラズマに60秒〜900秒からなる時間暴露させ、上記プラズマによって発生させた出力密度が10mW/cm2〜350mW/cm2からなり、上記フッ素化ガスの圧力が1.333Pa〜26.664Pa (10ミリトール〜200ミリトール)からなり、そして、上記シリコン基板の温度が300℃以下であるステップa);および、上記表面を水素高周波プラズマに5秒〜120秒からなる時間暴露させ、出力密度が10mW/cm2〜350mW/cm2からなり、水素圧が1.333Pa〜133.322Pa (10ミリトール〜1トール)からなり、そして、上記シリコン基板の温度が300℃以下であるステップb)を含む。 (もっと読む)


【課題】レーザクリーニングにおいて、エネルギ消費量も抑えつつ短時間に精度良く付着物を除去することができる付着物の除去方法を提供する。
【解決手段】作業者は、周期構造形成装置100を用いて被処理対象物WKの表面に複数の微細な凹凸形状からなる周期構造を形成する。周期構造形成装置100は、ステージ装置106により被処理対象物WKを変位可能に支持しつつ、レーザ光源101からフェムト秒レーザ光L100を照射して被処理対象物WKの表面に周期構造を形成する。一方、作業者は、付着物が付着した被処理対象物WKに対してクリーニング装置200を用いてクリーニングを行なう。クリーニング装置200は、レーザ光源201から出射され被処理対象物WK上に集光するレーザ光L200をガルバノミラー203によって被処理対象物WK上を走査することにより、被処理対象物WKの表面に付着した付着物を剥離させて除去する。 (もっと読む)


【課題】プリント基板に付着したイオン性汚損物中のイオン成分の種類と量を分析できる汚損物の分析方法及び、プリント基板の洗浄方法を提供する。
【解決手段】イオン性汚損物で汚損されたプリント基板から、該イオン性汚損物質中のイオン成分を純水中に抽出させ、得られた抽出液中のイオン成分をイオンクロマトグラフィー法で測定し、検出されたイオン成分の種類と量を分析する。該方法で、プリント基板に付着したイオン成分の種類と量を分析することにより、プリント基板に付着した各イオン成分の濃度を所定値以下とするのに必要な洗浄条件を求め、この洗浄条件に従って、同様な使用条件下で汚染されたプリント基板の洗浄を行う。 (もっと読む)


【課題】本発明は、有機物質でコーティングされた材料4の表面をクリーニングするための方法に関する。
【解決手段】本発明の方法は、内部の圧力が10mbarから1barであり、且つ容量で少なくとも90%の酸素を含むガス流が供給される処理チャンバ2内に、材料4を導入する工程と、材料の表面と誘電体で覆われた電極(5a、5b、5c、5d、5e、5f、5g)との間で放電を引き起こすことによりプラズマを形成し、生成されたフリーラジカルOの作用により有機物質を分解する工程とを含むことを特徴とする。本発明はさらに、前記方法を行なうために使われる装置1に関する。 (もっと読む)


【課題】反応生成物の回収処理や有機還元剤の処理作業が不要で環境の汚染もなく金属ないし銅線を冷却・還元処理することを可能とする方法の提供。
【解決手段】金属101の表面に液状流体201を接触させることにより金属101の表面の酸化膜を還元する表面処理方法であって、前記液状流体201が水を主たる成分とし、且つ1体積百分率以上25体積百分率未満の還元性気体の分子を含む。前記液状流体は、直径1マイクロメートル以上125マイクロメートル以下の気泡を含み、該気泡が前記還元性気体からなる。前記金属101は、銅である。前記還元性気体は、水素または一酸化炭素である。 (もっと読む)


【課題】地球環境に悪影響を及ぼすことなく、且つ、異形銅条の表面を荒らすことなく、その表面を有効に洗浄することができる異形銅条の製造方法を提供すること。
【解決手段】圧延や切削等の加工を経て異形断面に成形された異形銅条2の表面を水温60〜100℃、水圧0.2〜3MPaの洗浄水を当てて洗浄する、異形銅条の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 リソグラフィー工程を経ず、曲面にも大面積で形成可能であり、大量生産や設備コスト面で有利な湿式方式によって、凹凸構造を有する基板を作製するための光学素子成形用金型を提供する。
【解決手段】 酸化反応における標準電極電位が負である表面を持つ基板と、前記基板の上に設けられた前記標準電極電位が正となる保護層と、前記保護層の上に設けられたアルミニウム陽極酸化層と、を有することを特徴とする光学素子成形用金型。 (もっと読む)


【課題】低コストで、優れた除去効果を有する付着物の除去方法およびこれに用いる付着物の除去装置を提供する。
【解決手段】本発明にかかる付着物の除去方法は、液滴を含む気体を被処理物に対して吹き付ける、ことを特徴とし、本発明にかかる付着物の除去装置、前記付着物の除去方法に使用する除去装置であって、液滴を含む気体を吹き付けるためのノズルと、気体を送り込む配管と、前記配管に液体を合流させる配管と、気体を送り込む配管の途中に設けられ前記液体の合流前の気体および/または合流後の気体を加熱する少なくとも1つの加熱部と、を含む、ことを特徴とする。 (もっと読む)


洗浄工程で、現場生成されたフッ化水素(HF)を使用するシステム及び装置を開示する。例示的なシステムは、液相又は気相のハロゲン化供給材料と水素ガスとの現場反応を促進してHFを形成するために十分な温度で動作する洗浄レトルトを含む。このシステムは、洗浄レトルトの外部に配置された、液相又は気相のハロゲン化供給材料源と水素ガス源とを含み、それらは、反応すると洗浄レトルト内でHFを生成する。洗浄レトルト内に配置されるHFスクラバーは、現場反応によって形成された残留HFガスを実質的に除去する。例示的な装置は、洗浄レトルトを含み、洗浄レトルトは、洗浄の必要がある部品を保持できる第1の領域と、HFスクラバーとして動作する第2の領域とを備える。
(もっと読む)


【課題】アルカリ洗浄液を使用することなく、低コストで鋼板を十分に洗浄できる、鋼板の洗浄方法および装置を提供すること。または、少量のアルカリ洗浄液の使用であっても、低コストで鋼板を十分に洗浄できる、鋼板の洗浄方法および装置を提供すること。
【解決手段】鋼板7に水蒸気と、空気および/または液滴とを吹き付けて洗浄することを特徴とする鋼板の洗浄方法を用いる。液滴が水であることが好ましい。このために、水蒸気を高速で噴出させることが出来る蒸気ノズル2と、蒸気ノズル2内に空気および/または液体を供給する供給管とを備え、該供給管の供給口5から供給された空気および/または液体と前記水蒸気とを蒸気ノズル2内で混合し蒸気ノズル2の噴出口6から噴出することを特徴とする鋼板の洗浄装置を用いる。供給管が、空気を供給する供給管3と、液体を供給する供給管4とからなることが好ましい。 (もっと読む)


21 - 30 / 91