【課題】 小型で簡便でありつつ、均一な研磨を行えるステント研磨装置を提供する。
【解決手段】 ステント研磨装置１０は、研磨液ＰＬを上流から下流に流す傾斜槽１１と、研磨液ＰＬの中にステント６９を浸し、下流から上流に、ステント６９を回転させつつ搬送させる搬送ユニット２９と、を含む。 （もっと読む）

【課題】ブラシ状の電極部を採択しかつ有毒ガスを発生させない電解研磨による酸化スケール除去方法およびその装置を提供する。
【解決手段】酸化スケール除去装置は、ステンレス鋼５の溶接部分５０に発生する酸化スケールを電解研磨により除去するためのもので、装置本体１と電解液１０とから成る。電解液１０として、クエン酸、酒石酸、リンゴ酸、乳酸、またはそれらのナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩のうちの１種または２種以上を組み合わせた中性塩水溶液を用いている。装置本体１は、電源供給部２と、電源供給部２の出力端子２１，２２より引き出される２本のコード線２３，２４の先端にそれぞれ設けられる電極部３，４とを有する。一方の電極部３はステンレス鋼５に接続可能である。他方の電極部４は、電解液を含ませることが可能なように炭素繊維をブラシ状に束ねて形成されている。 （もっと読む）

【課題】 酸洗設備の規模に応じた適切な槽の構成を設計し、電流効率９０％以上を得る。
【解決手段】 焼鈍後のステンレス鋼帯を中性塩水溶液または酸性水溶液中において、間接通電法による陽極電解によって脱スケールを行う設備（以下、単に電解酸洗設備と言う）について、陽極と陰極間の距離をＬ（ｍｍ）、電極間を通電する電流をＩ（Ａ）、陽極と陰極間における酸洗槽の実質幅をＷ（ｍｍ）、実質深さをＤ（ｍｍ）としたとき、以下の式を満たす電解酸洗法。
実質幅Ｗ、実質深さＤとは、実際の寸法から、絶縁物が設置してある部分を差し引いた寸法を言う。
Ｌ＞０．６ＤＷ／Ｉ （もっと読む）

【課題】連続処理中にシート状ワークが切断した場合でも、その復旧を容易に行うことができるとともに、シート状ワークの折り返し回数を最小限に抑えることができるシート状ワーク連続処理装置を提供すること。
【解決手段】アルミニウム箔連続処理装置１００においては、複数の長尺のアルミニウム箔Ｆを、幅方向を上下方向（Ｚ方向）に向けて互いに並列させた状態で長手方向に連続的に繰り出す。また、繰り出した複数のアルミニウム箔Ｆを、幅方向を上下方向（Ｚ方向）に向けて互いに並列した状態のまま、エッチング液貯留部３５に貯留されたエッチング液Ｌ3中を連続的に通過させる。アルミニウム箔Ｆは、エッチング液貯留部３５に対して入側スリット３５１ｓから入って出側スリット３５２ｓから出る。 （もっと読む）

【課題】半導体の金属密着性を向上させることができる、半導体の電気化学エッチング方法を提供する。
【解決手段】ａ）酸化エミッター層を有する前面、裏面、及びＰＮ接合を有する半導体ウエハを提供し、ｂ）半導体ウエハを１以上のビフルオリド源、１以上のフッ化物塩、又はこれらの混合物及び１以上の金属イオン源を含有する組成物に接触させ、ｃ）該組成物に電流を発生させ、ｄ）前もって決定された時間アノード電流を適用し、続いて前もって決定された時間アノード電流を切断し、このサイクルを半導体ウエハの酸化エミッター層にナノ細孔が形成されるまで繰り返し、そしてｅ）ナノ細孔の層上に金属が析出するようカソード電流及び光を適用する方法、 （もっと読む）

【課題】バッチ処理が可能で、かつ、電極の交換頻度を抑制して稼働率を向上させることができる陽極化成装置を提供する。
【解決手段】貯留槽９内に配置されている基板ホルダー４１に複数枚の基板を保持させ、電極２１，２３に通電すると、電極槽２１，２３間でイオンが移動し、イオン交換膜２９，３５を通して複数枚の基板に化成反応が生じる。したがって、複数枚の基板を処理するバッチ処理が可能となる。また、電極槽５，７内に貯留している電解質溶液の濃度は、貯留槽９内に貯留している電解質溶液の濃度よりも低く設定されている。したがって、電極槽５，７内における化成反応が貯留槽９内に比較して抑制されるので、電極槽５，７内における電極２１，２３に生じる局所的な化成反応が抑制できる。その結果、電極２１，２３の劣化を抑制することができ、装置の稼働率を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】広範な材料に適用可能であり、サイズ、深さ、ピッチ等が制御された細孔が形成された多孔質層を有する微粒子を煩雑な工程を経ることなく高スループットで製造できる方法、およびその方法により製造された多孔性微粒子を提供する。
【解決手段】金属または半導体のうち少なくともいずれか一つを含む微粒子１の集合体２を電解液中で電解エッチングすることを特徴とする多孔性微粒子３の製造方法、およびその方法により製造された多孔性微粒子。 （もっと読む）

【課題】油膜不純物が表面に残存したアルミニウム合金、特に脱脂後のシリンダボア内周面に油膜不純物が残存したワークであっても良好なめっき密着性を確保し、めっき品質の向上を実現可能なめっき前処理方法及び該方法に使用する装置を提供することを目的とする。
【解決手段】硬質粒子を懸濁させたエッチング液を流速１００〜１５０ｃｍ／秒で流動させてアルミニウム合金のエッチングを行うエッチング前期工程と、前記エッチング前期工程の後、前記エッチング液を流速１０〜５０ｃｍ／秒で流動させてエッチングを行うエッチング後期工程とを含むアルミニウム合金のめっき前処理方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】従来の間接通電方式の連続電解エッチングの問題点を有利に解決して、電解エッチングを安定化させることを可能とし、特に、電解エッチングにより形成される形状を安定化させて、溝幅や溝深さにバラツキが生じるのを抑えることを可能とする。
【解決手段】金属帯１の電解エッチングすべきエッチング面１ａと相対向して金属帯１の搬送方向に順に第１電極３１及び第２電極３３を配設する。続いて、第１電極３１及び第２電極３３から金属帯１のエッチング面１ａにラミナー流となる電解液Ｗｒを噴射する。第１電極３１及び第２電極３３の何れか一方を陽極、他方を陰極としてこれらの間で電圧を印加して、噴射している電解液Ｗｒ及び金属帯１を通して通電させる。 （もっと読む）

【課題】基板の所定の位置に安価な方法で且つ高い位置精度で処理液を供給する。
【解決手段】処理液供給方法であって、表面６０ａにおいて、所定の位置に対応する箇所に開口部９０が複数形成され、且つ表面６０ａに形成された開口部９０から裏面６０ｂに連通する流通路９１を備えたテンプレート６０を、テンプレート６０の裏面６０ｂを保持して回転させるスピンチャック６２に載置する。次いで、テンプレート６０の表面６０ａに処理液を供給すると共にスピンチャック６２を回転させて流通路９１に処理液を充填する。処理液が充填されたテンプレート６０の表面６０ａにウェハＷを密着させ、次いで、テンプレート６０とウェハＷとの密着を維持したまま、テンプレート６０とウェハＷとを上下反転させる。 （もっと読む）