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国際特許分類[C25F7/00]の内容

化学;冶金 (1,075,549) | 電気分解または電気泳動方法;そのための装置 (15,555) | 材料の電気分解による除去方法;そのための装置 (703) | 材料の電気分解除去用槽の構造部品またはその組立体;保守または操作 (173)

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【課題】狭小な開口部しかないオーステナイト系のステンレス鋼容器内面に生じた溶接焼けを安全かつ容易に除去する手段を提供する。
【解決手段】オーステナイト系ステンレス鋼製の小開口部を備えた筒状密閉容器内の溶接線に沿い当接するように、電気短絡防止用の布を被覆した電極と、該布に電解液を供給する供給装置と、該電極と一体的に装着した永久磁石または電磁石又は磁性材料を備え、一方、該容器の外周回りの溶接線上には、上記磁石等と容器壁を挟んで相対峙するように上記磁石等と相吸引するよう磁石を固定配置して、磁力による吸着力により、上記電極を上記溶接線上に密着させたうえ、該容器を軸回りに回動するか、上記容器外に配置した磁石自体を該容器外周回りに溶接線上を移動させつつ、該容器を他電極として上記容器内の電極との間で電解処理し、以て容器内溶接線上の溶接焼け、錆汚れ等を除去すると共に、不動態化処理することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】個片状の複数のワークを連続的に処理する電解研磨装置において、簡単な構成により、ワーク数の変動やワークの脱落、欠損による電流密度変化に対応してワークに対して所望の電流密度となるように電流を制御し、高品質処理を実現可能とする。
【解決手段】電解研磨装置1は、電解槽2に満たされた電解液2a中に個片状の複数のワークWを連続的に通すことにより該ワークWを電解研磨する装置であり、電解槽2中に投入されたワークWを検知するセンサ3と、センサ3による検知結果に基づくワーク数に応じて電解研磨用の電流を制御する制御部4と、を備えている。制御部4は、ワーク1個あたりの最適電流値にワーク数を掛け算して得られた電流値となるように電解研磨用の全体電流を制御して高品質処理を実現する。 (もっと読む)


【課題】摺動面を極力変性させることなく、潤滑油を捕油可能とする適切な微小凹凸を有する摺動面を安定して効率よく形成する方法を提供する。
【解決手段】特定の金属が不働態を示す電解液110中で、前記金属(作用極)106の電位を、浸漬電位Vcorr(金属106に電流を流さずに電解液110に浸着させているときの電位)以上で、且つ、孔食電位Vcpit(不働態化した金属106に孔食が発生成長する臨界の電位)以下に制御して、該金属(作用極)106の表面を局部的に溶解させて微小凹凸を形成させる。 (もっと読む)


【課題】簡単な構成で電解生成物を除去する効果的な電解液の流れを形成して高速電解剥離を持続させることが可能な電解剥離用陰電極構造体を提供する。
【解決手段】陽極として作動する平板状被加工物11との間に電解液を介在させて通電し、平板状被加工物11の表層部を電解剥離する電解剥離用陰電極構造体10において、平板状被加工物11の幅方向に隙間を有して配置され、平板状被加工物11の幅方向に渡って電解液を噴出する溝形の電解液ノズル12が底部中央に設けられた保持ブロック13を備え、保持ブロック13の電解液ノズル12の前後方向片側又は両側には陽極と対となる陰極14が形成され、更に、電解液供給路15から、電解液ノズル12に幅方向に均一に電解液を供給する複数の電解液流入路16を有する。 (もっと読む)


【課題】ほぼ全域に亘って導電性金属酸化物薄膜を除去可能な方法と装置を提供する。
【解決手段】基材11表面の導電性金属酸化物薄膜12に対向すべく、基材11の移動方向に、絶縁体17を介し、多孔体の正電極14と、負電極15を順に配置する。負電極14を導電性金属酸化物薄膜12と接触させ、両電極14,15と導電性金属酸化物薄膜12間に電解液13を介在させた状態で、両電極14,15間に電圧を印加し、基材11を移動させて導電性金属酸化物薄膜12を還元反応により除去する。その際、正電極14から負電極15へ向く方向と反対方向に電解液13を供給し、還元反応により発生した基材11表面の気泡を除去する。正電極14表面や電解液13中の気泡を正電極14の背面側から吸引する。
【効果】基材の移動方向後端部に未還元のまま残留する導電性金属酸化物薄膜を減少でき、また加工速度を速くすることができる。 (もっと読む)


【課題】 基板の局所に所望の大きさの液体を形成させ、高精度なエッチング、メッキやコーティング等を、微小な局所においても高精度に行いうる局所表面処理方法を提供することを課題とする。
【解決手段】 マイクロプローブ11にメッキ液やエッチング液等の液体21を付着させて、基板12の所定の局所に付着させた後、マイクロプローブ11と基板12に電流を流し、基板12界面での電気化学的反応を利用して、液体21の接触角を変化させて接触面積を所望の大きさに制御する。所望の大きさに制御した液体21を用いてメッキ、エッチングやコーティング等の局所表面処理を行う。 (もっと読む)


【課題】電解加工において安定した電気供給を確保し、且つ、電極の腐食劣化を防止し、ウエハに形成されたメタル膜を平坦化する際に好適に用いられる電解加工装置及び電解加工方法を提供する。
【解決手段】電解加工装置1はウェハWと対向する加工電極5を備え、ウェハWと加工電極5の間に電解液を供給しつつ電解加工を行う。ウェハWの外周部にはウェハチャック41〜46を着脱可能に取り付ける。又、各ウェハチャック41〜46内にはウェハWと接触する給電電極A〜Fを設け、給電電極A〜Fの周囲をゴム等の弾性体にて被覆保護する。給電電極A〜Fの先端部には可撓性の導電部材を設け、導電部材をウェハWに弾接させる。更に、非電解加工時に保護カバー又はシャッター等により給電電極A〜Fの外気との暴露を遮断する。 (もっと読む)


【課題】ウェハ表面の導電性膜の通電不良による加工残りを無くし、ウェハ全面に安定して電流を供給して導電性膜を除去し、既に加工された導電性膜の腐食を防止する。
【解決手段】ウェハWの外周部に複数のウェハチャック41〜46を着脱可能に取り付け、各ウェハチャック41〜46に電解加工時にウェハWと接触する給電電極を設ける。加工ヘッド3はアーム6によりウェハWの半径方向に移動可能に保持し、加工ヘッド3をウェハWの中心から外周部に向かって移動させながら、常に均等な電気を供給してウェハW表面の導電性膜Mを除去する。又、既に電解加工が終了した部分から、導電性膜を保護する表面保護用の酸化防止剤53を塗布する。 (もっと読む)


【課題】本発明の課題は、大きな面積全体、あるいは適当なピッチでの溝構造をエッチングするにあたり、周辺部が中心部より早くエッチングされてしまう不具合を解決して、全体として加工精度のよいエッチング加工を施せる方法を提示することにある。
【解決手段】本発明の電気化学的エッチングの均一化手法は、水溶液槽内においてパネルを陽電極とし対向電極の陰電極との間に電圧を印加して前記パネルの面に穴を電気化学的反応でエッチング加工する際に、前記パネルの被加工面部の最も外側部分に絶縁体のブロックを配置してエッチングを実施するようにした。 (もっと読む)


【課題】高い搬送速度および電流密度で電解粗面化処理などの電解処理を行なう場合においてもチャターマークの発生を効果的に抑制できる電解処理装置および電解処理方法などの提供。
【解決手段】複数個の電解槽2A、2Bが直列に配置され、電解槽2A、2Bには、アルミニウムウェブWの走行経路に面するように配設され、交番電流が印加される電極8A、8Bが設けられ、電解槽2A、2Bにおける前記交番電流の電流密度は、最下流側の電解槽2Bにおいて最も低くなるように設定され、電解槽2Aにおいては、金属ウェブが導出される出口部分に低電流密度ゾーン87Aが設けられている電解処理装置である。 (もっと読む)


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