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国際特許分類[G01B15/00]の内容

物理学 (1,541,580) | 測定;試験 (294,940) | 長さ,厚さまたは同種の直線寸法の測定;角度の測定;面積の測定;表面または輪郭の不規則性の測定 (22,327) | 波動性または粒子性放射線の使用によって特徴づけられた測定装置 (737)

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【課題】エミッタの散乱パラメータを安定化さすセンサアセンブリを提供する。
【解決手段】センサアセンブリ110は、所定の周波数範囲内で複数の周波数成分を含む少なくとも1つのマイクロ波信号から少なくとも1つの電磁界224を発生させるエミッタ206を備えた少なくとも1つのプローブ202であって、部品が少なくとも1つの電磁界224と相互に作用した場合にエミッタ206に負荷が誘起される、少なくとも1つのプローブ202と、エミッタと結合されたデータコンジット204であって、負荷を表す少なくとも1つの負荷信号がこのデータコンジット204内でエミッタ206から反射されるデータコンジット204と、少なくとも1つの負荷信号の受信と電気的出力の発生とを行うように構成された少なくとも1つの信号処理装置200と、を備える。 (もっと読む)



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【課題】コストを増大させることなく、高い位置計測精度を実現するX線位置計測装置を提供する。
【解決手段】X線位置計測装置10は、X線放射器10a及びX線カメラ10bを測定対象物で位置計測を行う位置に移動させる第1移動手段と、位置計測を行う位置において、画像表示部における基準位置と第2X線投影像の位置との位置ずれ量を測定するとともに、位置ずれ量を当該計測位置に対応する補正量として記憶部に記憶する第1測定記憶手段と、X線放射器10a及びX線カメラ10bを位置計測を行う位置に移動させる第2移動手段と、位置計測を行う位置において、上記補正量に基づいて、X線放射器10aの放射中心及びX線カメラ10bの光軸Lを合致させるとともに、測定対象物の位置計測を行う第1位置計測手段と、を備える。 (もっと読む)


【課題】複数の信号を用いた高精度な寸法測定を実現することを可能にする。
【解決手段】本実施形態は、走査顕微鏡を用いて対象物の寸法測定を行う寸法測定方法であって、前記対象物の測定に関する始点および終点となる測長点を定義する工程と、前記対象物にビームを入射して走査することにより、同時刻における前記対象物からの複数の信号を検出する工程と、前記対象物の測長点の定義に基づいて、前記複数の信号から測長点を決定する工程と、前記対象物において決定された測長点の間の距離を算出する工程と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】本発明の課題は、輪郭線が周期性を有する描画パターンのパターン幅を、精度よく測定できるパターン幅測定プログラム、パターン幅測定装置を提供する。
【解決手段】測定プログラム55aは、複数の単位形状3が一定の配列ピッチPで配置された段付データ2に基づいて描画され、周期性を持つ輪郭線5aを有する段付パターン5を測定する測定装置50を、段付パターン5の測定領域AでのボックスB1〜B3のボックス長さL1を、単位形状3の配列ピッチPに対応した長さに設定するボックス設定部56cと、ボックス設定部56cが設定したボックスB1〜B3の段付パターン5の幅を、一定の間隔毎に測定してパターン幅測定データを取得する電子顕微鏡54と、電子顕微鏡54が取得したパターン幅測定データに基づいて、ボックスB1〜B3内で平坦化したパターン幅を算出するパターン幅算出部56fと、して機能させる。 (もっと読む)



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【課題】フォトマスクのパターン又はフォトマスクのOPCパターンの寸法を容易に且つ正確に測定する。
【解決手段】本発明のパターン測定方法は、所定のパターンに対応する基準パターンと、予め指定された測定点と、を取得するステップと、基準パターンの外形線のうち、測定点の両側の直線状の2本の線分を含むように測定領域を設定するステップと、所定のパターンの走査像に、測定領域を重ね合わせ、測定領域にある、所定のパターンの走査像の2本の輪郭線の間の寸法を測定するステップと、を含む。測定領域は、2本の線分に接続される角部の近傍を含まないように設定する。 (もっと読む)


【課題】電子ビーム装置を用いたパターンの寸法計測または、形状観察において、高スループット化を可能にする。
【解決手段】試料の表面に走査電子顕微鏡(SEM)の収束させた電子ビームを照射し走査して試料から発生する二次電子または反射電子を検出して試料のSEM画像を取得し、取得したSEM画像を処理して画像取得条件を設定し、設定した画像取得条件に基づいて走査電子顕微鏡で試料のSEM画像を取得し、設定した画像取得条件に基づいて取得したSEM画像を処理する走査電子顕微鏡(SEM)を用いて試料を撮像して得たSEM画像を処理する走査電子顕微鏡装置及びその画像取得方法において、画像取得条件を設定するためのSEM画像を取得するときの電子ビームの走査条件と、画像取得条件を設定するためのSEM画像を取得するときの電子ビームの走査条件を変えてSEM画像を取得するようにした。 (もっと読む)


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