【課題】参照光の位相設定精度に限界がある場合でも、測定対象物による位相シフト量を用いた計測する光位相測定装置を提供する。
【解決手段】コヒーレント光源８１、光源よりの光波を２分岐する光分岐手段８２、光波のうちの参照光波８９を周波数ωｍで位相変調する位相変調手段８３ａ、分岐された後に被測定対象物８５を透過又は反射した信号光波と位相変調された参照光波８９とを合成する光合成手段９７と、合成された干渉光の強度を測定する光強度測定手段８８を有する光干渉計を備えた光位相測定装置で、干渉光の強度を一定の時間に亘って取得し、取得した時系列の強度信号をフーリエ変換し、位相変調の周波数ωｍの整数倍の周波数成分のうち少なくとも２つの成分の光強度を演算して、位相変調手段の変調指数ｍを同定して、該変調指数ｍに基づいて前記被測定対象物８５による信号光波の位相変化量φを算出する演算手段９５を備えた光位相測定装置。 （もっと読む）

【課題】
試料表面に非接触で超音波励起を行い、超音波を励起した点を光干渉計測する手段を用いた非接触で試料内部の観察を行うことにより、稼動部分が無く、コンパクトな構成で、高感度で非破壊・非接触に内部欠陥を検査する。
【解決手段】
検査対象の試料から離れた場所から超音波を発射してこの超音波を試料に照射し、この試料の表面の超音波が照射された箇所に偏光の状態が制御された偏光光を照射し、この偏光光が照射された試料の表面からの反射・散乱光のうち照射した偏光光と同じ偏光特性を持つ光を光検出器で検出し、この光検出器で検出した信号を処理して試料の内部の欠陥を検出する内部欠陥検査方法及びその装置とした。 （もっと読む）

【課題】光学マルチ波長インターフェロメトリーを使用した薄膜素子測定方法の提供。
【解決手段】光学マルチ波長インターフェロメトリー使用の薄膜素子測定方法が開示される。本発明は異なる波長での薄膜の反射係数を使用して薄膜の厚さと光学定数を測定する。試験表面と参考表面の間の反射位相差由来の位相差は異なる波長での測定を行うことで参考光束と試験光束の間の空間経路差に由来する位相差と区別され、なぜならそれらは測定波長変化に伴い異なった変化を示すためである。反射位相がそれから得られる。薄膜の測定反射率と結合され、薄膜の反射係数が得られる。各点の反射係数が収集され、該薄膜の厚さと２次元の光学定数分布が計算される。表面輪郭が、参考光束と私見光束の間の空間経路差を通して知られる。これらは動的干渉計で測定されて振動影響が回避される。 （もっと読む）

【課題】ＤＮＡチップおよび蛋白質チップに応用するための、マルチ検体アレイ形式はもとより、より有用な使い捨てヘッド形式とすることも可能な光ファイバーアセンブリを提供する。
【解決手段】
試料溶液内検体の結合の存在、または量、または速度を検出するための装置および方法を開示する。装置には、５０ｎｍを超える距離「ｄ」だけ離間した第１および第２反射面を有する光アセンブリ、ならびに前記第１および第２反射面上に光ビームを導くための光源が含まれ、第１面は、検体結合分子層により形成される。装置の検出器は、アセンブリを検体溶液内に置く場合、第１および第２反射面から反射される光波の位相シフトを検出することにより、検体の検体結合分子への結合から生じる第１反射層の厚さ変化を検出するように動作する。 （もっと読む）

【課題】観察対象物の内部の媒質が変化する境界部に関する情報を鮮明に取得できる観察装置及び観察方法を提供する。
【解決手段】この観察装置１は、電磁波３１に感応して双極子モーメントが変化する感応因子を含んだ観察対象物２を観察するための装置である。出力部１１は、電磁波３１を出力し、出力した電磁波３１によって観察対象物２に含まれる感応因子の双極子モーメントを変化させる。検出部１２は、出力部１１が出力した電磁波３１のうちの観察対象物２を経て到来する信号電磁波３３、及び観察対象物２を経ずに到来する参照電磁波３２を検出する。制御部１３は、検出部１２の検出結果に基づいて観察対象物２の構造を解析する。電磁波３１は、パルス状に断続的に出力されるパルスレーザー光である。電磁波３１の波長は、感応因子の吸収波長帯域内に設定される。 （もっと読む）

【課題】被検物の屈折率分布を高精度に計測する。
【解決手段】屈折率分布計測方法は、媒質Ｍ中における被検物１４０の配置が互いに異なる複数の配置について、第１の波長による被検物の第１の透過波面の計測結果と基準被検物が該媒質中にて被検物の配置と同じ配置とされているときの第１の波長による透過波面との差分である第１の波面収差を複数の配置について算出し、第２の波長による被検物の第２の透過波面の計測結果と基準被検物が該媒質中において被検物の配置と同じ配置とされているときの第２の波長による透過波面との差分である第２の波面収差を複数の配置について算出する。第１及び第２の波面収差に基づいて、被検物の形状成分を除去しつつ、複数の配置のそれぞれにおける被検物の屈折率分布投影値を取得し、複数の配置に対応する複数の屈折率分布投影値に基づいて被検物の３次元屈折率分布を算出する。 （もっと読む）

【課題】低コストでありながら操作性及び機能の優れた干渉対物レンズ装置、及び当該干渉対物レンズ装置を備えた光干渉測定装置を提供する。
【解決手段】光出射部１０から出力された光をワークＷに対して収束させる対物レンズ３１と、対物レンズ３１よりもワークＷ側に配される参照ミラー３２と、対物レンズ３１を透過してきた光を、参照ミラー３２を有する参照光路とワークＷを配置した測定光路とに分岐させると共に、参照ミラー３２からの反射光とワークＷからの反射光とを合成して干渉光として出力させる分岐合成部材３３と、参照ミラー３２からの反射光又はワークＷからの反射光の何れか一方の他方に対する光量を調節する光量調節手段（液晶パネル３４及び制御部７０）を備える。 （もっと読む）

【課題】白色干渉法を用いて、μメートルオーダの高精度で測定対象物の位置を決定し、さらに測定対象物の振動周波数をｋＨｚオーダの高速で検出でき、かつナノメートルオーダの振動変位量を測定できる振動測定装置及び振動測定方法を提供する。
【解決手段】白色光を参照光と測定光に分割する光カプラと、参照光の進行方向を変える光学素子、参照光の進行方向を反転する反射素子、光学素子を往復移動させる直動ステージ及び光学素子の位置を取得するスケールヘッドからなる参照光路長スキャナ部と、測定光を発散又は収束させる集光レンズと集光レンズを移動させるレンズ移動機構からなるセンサ部と、反射して返った参照光と測定光を合成して干渉信号を出力する光検出器と、所定時間取得した干渉信号の強度を高速フーリエ変換処理で解析して、測定対象物の振動周波数及び振動変位量を求める処理装置とからなる振動測定装置の構成とした。 （もっと読む）

【課題】測定対象物による測定光の吸収特性を適切に検出することができる分光分析装置を提供する。
【解決手段】分光分析装置１０では、光源１１からの光が第２ファイバカプラＦＣ２で分岐し、固定鏡１８及び可動鏡１５とで反射する。各鏡１５，１８で反射した光は、第２ファイバカプラＦＣ２において同位相で合波され、第３ファイバカプラＦＣ３で分岐されて測定光と参照光となる。測定光と参照光の位相は、第３位相調整器Ｐ３及び第４位相調整器Ｐ４で同位相となるように調整される。光検出器３０は、参照光と試料測定部２０を透過した測定光とを受光し、これらの光を光電変換してフーリエ変換した後に減算処理する。 （もっと読む）

【課題】真の測定したい金属薄膜の平面上（平面方向）の電場増強度を測定することができ、また、金属薄膜の厚さ、金属薄膜近傍に捕捉したアナライトの高さ位置に対応した、電場増強度の３次元的な分布を得ることができ、正確な電場増強度を測定（推定）する。
【解決手段】光源より第１の励起光を照射し、前記金属薄膜表面に表面プラズモン光を発生させるとともに、金属薄膜に向かって、第１の励起光とは別の第２の励起光を照射して、前記金属薄膜表面に第２の光を発生させ、表面プラズモン光と前記第２の光とによる干渉縞を発生させ、第２の励起光の光量を変えながら、干渉縞のコントラストが最大となる時の第２の励起光の光量に基づいて、電場増強度測定用部材の所定の高さ位置における電場増強度を換算して推定する。 （もっと読む）