【課題】Ｘ線検出器等の被冷却物を冷却できない原因となる異常箇所を判定できる冷却装置を提供する。
【解決手段】筐体４１内に配置された被冷却物３２を設定目標温度に冷却する冷却装置４０であって、被冷却物３２の熱を吸熱する吸熱部５１と、吸熱部５１が吸熱した熱を排熱する排熱部５２と、回転羽根４２ｂが回転することで排熱部５２に向かって冷却風を送るファン４２と、被冷却物３２の温度を測定する被冷却物温度センサ４４と、吸熱部５１の温度を測定する吸熱部温度センサ４５と、被冷却物温度センサ４４からの温度情報に基づいて、被冷却物３２の温度が設定目標温度となるように、吸熱部５１が吸熱する熱量を調整する制御部とを備え、制御部は、回転検知センサ４６、被冷却物温度センサ４４及び吸熱部温度センサ４５からの情報に基づいて、被冷却物３２を冷却することができない原因となる異常箇所を判定する。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で安定したパルスＸ線を発生させることができるＸ線装置を提供する。
【解決手段】Ｘ線装置１は、Ｘ線源１０、照射部２０、結像部３０、検出部４０、真空容器５０および制御部６０を備える。Ｘ線源１０は、Ｘ線を連続的に出力する。照射部２０は、入力端２１および出力端２２を有し、Ｘ線が或る特定の方位に沿って入力端２１に到達すると、そのＸ線を出力端２２から試料９０へ出力することができる。結像部３０は、試料９０で発生した二次Ｘ線の像を検出部４０の受光面上に結像する。検出部４０は、照射部２０の出力端２２から出力されたＸ線が試料９０に照射されたときに試料９０で発生した二次Ｘ線（蛍光Ｘ線または散乱Ｘ線）を入力して、この二次Ｘ線の入力に応じて電荷を発生して蓄積し、その蓄積した電荷を読み出す。 （もっと読む）

【課題】波高分析器で選別される所定の波高範囲が変更されても、計数手段で求められたパルスの計数率を正確に補正できる波長分散型蛍光Ｘ線分析装置を提供する。
【解決手段】数え落とし補正手段１１が、検出器７のデッドタイムに基づいて計数手段１０で求められたパルスの計数率を補正するにあたり、波高分析器９で選別される所定の波高範囲とデッドタイムとの相関をあらかじめ記憶しており、その記憶した相関に基づいて、測定時の所定の波高範囲に対応するようにデッドタイムを決定する。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線蛍光（ＸＲＦ）分光計により、タンパク質の特徴を測定し、生体認証解析に利用できるセキュリティシステムを含む装置を提供する。
【解決手段】Ｘ線蛍光（ＸＲＦ）分光計は、タンパク質と小分子の結合現象を検出し、化学物質と受容体の間の結合選択性を測定するために使用される。ＸＲＦは、セキュリティシステムへの利用の他、タンパク質の純度を測定し化学物質の治療指数を推測するために、化学物質対化学物質類縁体の結合選択性を推測し、タンパク質の翻訳後修飾を測定するために、及び薬物の製造のためにも使用することができる。 （もっと読む）

【課題】分析対象の測定面が曲率を有する場合でも、分析対象に含まれる成分の被分析元素の量についての情報を正確に得る。
【解決手段】制御部１１Ｃで、分析対象２０の表面の曲率１／Ｒまたは半径Ｒに基づいて、蛍光Ｘ線強度から算出される量的情報を補正する。 （もっと読む）

【課題】簡単な機構を付加するだけで、測定室内の雰囲気を短時間でヘリウムガスから空気に置換することが可能な蛍光Ｘ線分析装置を提供する。
【解決手段】開口部３を有するベース板１の下方に測定室２が設けられ、該開口部３を塞ぐように試料Ｓを載置し、試料ＳにＸ線光源４から一次Ｘ線を照射して、発生する蛍光Ｘ線を検出器５で検出して試料Ｓに含まれる元素を分析する蛍光Ｘ線分析装置において、測定室２にヘリウムガスを注入するヘリウムガス注入手段Ａと、測定室２に空気を強制送入する空気送入手段Ｂと、ベース板１の試料Ｓの上方空間１４を囲う着脱可能な蓋体１５とを備え、ヘリウムガス注入手段Ａは、測定室２の壁板２ａに形成されたガス注入口６と、該ガス注入口６からガスボンベ７に接続する配管８とからなり、空気送入手段Ｂは、測定室２の壁板２ａに形成された空気注入口９と、該空気注入口９から空気供給源１０に接続する配管１１とで構成する。 （もっと読む）

【課題】触媒濃度の極めて低い条件化においてＸＲＦ分析を実施するに際し、高精度のＸＲＦ分析結果を得ることのできる触媒特定方法を提供する。
【解決手段】マトリックス担体に金属触媒が担持されてなる触媒コート層１において、Ｘ線照射によって励起される金属触媒に固有のＸ線エネルギとＸ線強度を検出する蛍光Ｘ線分析（ＸＲＦ）を使用して、金属触媒の濃度もしくは分布を特定する触媒特定方法であって、Ｘ線照射方向に１００μｍ以下の厚みを有する触媒コート層１を準備する第１のステップと、触媒コート層１にＸ線を照射して金属触媒の濃度もしくは分布を特定する第２のステップからなる。 （もっと読む）

【課題】中性子線の遮蔽に用いられるホウ素添加材料に含まれる、ホウ素ならびに無機系材料の組成を、迅速、正確に定量評価する。
【解決手段】有機材料に炭化ホウ素を添加してなる遮蔽材の組成評価方法であって、この組成評価方法は、第一の工程と第二の工程とを有し、第一の工程は、遮蔽材の炭化ホウ素を含む試料を採取して溶液化して、この溶液状態における試料のホウ素をＩＣＰプラズマ発光分析法により定量化して、組成を評価するものであり、第二の工程は、遮蔽材の炭化ホウ素を含む試料を採取して、無機系不純物元素の組成を蛍光Ｘ線分析法によって評価するものである。有機材料としては、シリコーンゴムが好ましい。 （もっと読む）

【課題】微小試料の測定室への落下による装置の不具合と故障を、未然に防止することができる蛍光Ｘ線分析装置を提供する。
【解決手段】測定部に備えられた撮像装置７によって、試料３下部の透明な落下防止板１１を通して試料３の被測定部位を、例えば０．５秒に一回撮影する。この画像を画像記憶装置１６によって記憶し、画像比較装置１５直近の２つの画像を比較する画像に差がある場合は、表示装置１７に警報を表示するとともに、制御装置１４を介して落下防止板１１の動作を停止する。 （もっと読む）

【課題】シリコンウェーハの表面におけるＣｕの濃度を測定するＴＸＲＦ法を用いるにもかかわらず、シリコンウェーハ中に固溶しているＣｕの全量、ひいてはバルク領域中のＣｕ濃度を評価する方法を提供する。
【解決手段】シリコンウェーハ中のＣｕ濃度の評価方法であって、熱処理が施されたシリコンウェーハの表面でのＣｕ濃度をＴＸＲＦ法により測定し、前記熱処理においてシリコンウェーハを熱処理炉から取り出すときの温度又は熱処理炉から取り出して冷却するときの冷却速度と、前記測定された表面でのＣｕ濃度の測定値とから、バルク領域中のＣｕ濃度を評価するシリコンウェーハ中のＣｕ濃度評価方法。 （もっと読む）