【課題】優れたＣＤ均一性（ＣＤＵ）を有し、欠陥の発生数が少ないレジストパターン製造用レジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（ａａ）で表される構造単位と、式（ａｂ）で表される構造単位とを有する樹脂及びこれを用いたレジスト組成物。
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【課題】優れたフォーカスマージンを有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤と、スルホニウム塩又はヨードニウム塩を含むクエンチャーと、シクロヘキサノンを含む溶剤とからなるレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、前記高分子化合物を含有するレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し且つ酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、下記一般式（ａ０−１）で表される基を有する構成単位（ａ０−１）と、α位の炭素原子に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよいアクリル酸エステルから誘導される構成単位であって酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含む構成単位（ａ１）とを有する樹脂成分（Ａ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物。
［化１］
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【課題】リソグラフィ工程における現像時のコントラスト向上およびその後の乾燥時に、塗膜の発泡、膨れ、剥がれ等がない平滑性に優れた硬化膜を得ることを目的とする。
【解決手段】１分子中に２個以上のアミノ基を有する化合物（ａ）と１分子中に２個以上の二塩基酸無水物基を有する化合物（ｂ）とを反応させて得られるアミド酸（Ａ）、フェノール性水酸基を有するポリアミド樹脂（Ｂ）、及び光酸発生剤（Ｃ）を含む感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【解決手段】本発明は、化学増幅型レジスト材料のベース樹脂が酸不安定基で保護された酸性官能基を有するアルカリ不溶性又は難溶性の高分子化合物及びポリスチレン換算重量平均分子量が１００，０００〜５００，０００のアルキルビニルエーテルもしくはアルキルビニルエーテル共重合体の両者を含有する化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法に関する。
【効果】本発明によれば、基板上に塗布した膜厚が５〜１００μｍと厚い場合のパターン形成において、基板付近、パターン底部の抜け性（溶解性）に優れ、感度を向上させることができ、更には、５〜１００μｍと厚い場合、現像時間の短縮が可能になるといった特徴を有した化学増幅ポジ型レジスト材料を提供できる。 （もっと読む）

【課題】現像時の着色剤の溶出、着色剤の染み込みや色移り、及び現像残渣が抑制され、且つザラ（色ムラ）が良好な着色膜が形成される着色組成物及び着色感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】色素多量体の合成時に必要な全色素単量体の１５質量％以上７０質量％以下を仕込み、これに残りを滴下する滴下重合により製造され、一般式（Ａ２）で示される構造単位の含有量（モル％）を（ａ２）、一般式（Ａ１）で示される構造単位の含有量を（ａ１）としたとき、両者が式（１）を満たし、且つ、分子内にアルカリ可溶性基を含む色素多量体を含有する着色組成物。式中、Ｘ^Ａ１、Ｘ^Ａ２は重合によって形成される連結基を、Ｌ^Ａ１、Ｌ^Ａ２は単結合又は２価の連結基を、Ｄｙｅは色素化合物から任意の水素原子を１個取り除いた色素残基を、Ｒは、水素原子、アルキル基等を有する部分構造を含む１価の置換基を表す。
式（１） （ａ２）／（ａ１）≧０．３
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【課題】電子線又は極紫外線を用いたフォトマスク・半導体素子の微細加工における技術課題を解決することであり、特に、高感度、高解像性（例えば、高い解像力、優れたパターン形状、小さいラインエッジラフネス（ＬＥＲ））、及び、良好なドライエッチング耐性を同時に満足する化学増幅型レジスト組成物、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、レジストパターン形成方法、及び、フォトマスク、並びに、高分子化合物を提供する。
【解決手段】（Ａ）非酸分解性の多環脂環炭化水素構造を有する基で、フェノール性水酸基の水素原子が置換された構造を有する高分子化合物、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する、化学増幅型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】カラー液晶表示装置の高画質化、低消費電力化に対応できる高解像性を有する感光性着色組成物、特に、ＣＯＡ方式のような厚膜でも高解像度で、パターン剥がれをおこさない密着性の優れた感光性着色組成物、およびこれを用いたカラーフィルタを提供することを目的とする。
【解決手段】着色剤（Ａ）と、樹脂（Ｂ）と、光重合性単量体（Ｃ）と、アシルフォスフィンオキサイド系有機化合物またはオキシムエステル系有機化合物を含む光重合開始剤（Ｄ）と、ベンゾトリアゾール系有機化合物、トリアジン系有機化合物、およびベンゾフェノン系有機化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種である紫外線吸収剤（Ｅ）とを含むことを特徴とする感光性着色組成物により解決される。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク・半導体素子の微細加工における技術課題を解決することであり、特に高い感度、高い解像性（例えば、高い解像力）、良好な露光ラチチュード（ＥＬ）及び良好なラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を同時に満足する化学増幅ポジ型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、及び、レジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される繰り返し単位、下記一般式（２）で表される繰り返し単位及び下記一般式（３）で表される繰り返し単位を有する高分子化合物（Ａ）を含有する、化学増幅ポジ型レジスト組成物。
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【課題】微細配線が形成可能、現像液汚染物の低減、めっき液への耐性が良好、めっき後のレジスト剥離が容易になる感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造法、プリント配線板の製造法を提供する。
【解決手段】（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物及び（Ｃ）光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物であって、（Ｂ）成分が、オキシアルキレン鎖の繰り返し単位が異なる二種のビスフェノールＡ系（メタ）アクリレート化合物を含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）