【課題】基板を規則正しく整列させることのできる基板整列治具を提供し、また、当該基板整列治具を用いた基板の移送方法を提供する。
【解決手段】基板１１収納する基板カセットに用いられる基板整列治具２５であって、前記基板カセットは、上部及び下部が開放したカセット本体２を備え、前記カセット本体２内部には、基板１１を整列させるために、相対向する一対の面に、上部から下部に向かって溝部７が設けられており、前記基板整列治具２５は、前記カセット本体２の開放した下部に設けられ、基板１１を整列させて保持するための溝２３が設けられたコーム２４が形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

浄化ガス供給装置の取り付けの間に相対湿度、酸素、微粒子が所望のレベルとなるまで微小環境を浄化するための改良したシステム及び方法並びに、微小環境内に浄化ガスを均等に分布させる方法。基材容器は中にタワーを有し、該タワーはその長手の方向に延びる流体流路を有する。流体流路との間に多孔質媒体を有する開口によって、各開口から放出される空気の体積及び圧力を制限する。また、前記タワーは、多孔質管状高分子材料から形成することができる。スリーブによって、放出される浄化ガスを内部に向けることができる。
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【課題】本発明は、ウェハ収納カセットからウェハが脱落することを簡易な方法で防止できるウェハ収納カセットと、ウェハ収納カセットから容易にウェハを出し入れできるウェハ搬送装置を提供することを目的とする。
【解決手段】一対の側板と、上記一対の側板の内壁に形成された収納溝と、上記一対の側板の開放面でありウェハを出し入れするためのウェハ出入面とを有する。そして、上記一対の側板の底部は、上記ウェハ出入面側に角部を有しており、上記ウェハ出入面と反対側には角のない丸角部を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】真空容器に栓開閉装置を設ける必要がなく、気体制御ポートが収納容器のどの箇所に配置されていても確実な気体置換操作を容易に且つ効率的に実施可能な気体置換装置および気体置換方法を提供する。
【解決手段】内部と外部の間の気体の移動を内外の圧力差に基づいて許す気体制御ポート３ａ，３ｂを備えた収納容器２、収納容器２を収納可能な密封式の置換操作容器７、置換操作容器７内部を減圧する減圧装置１５、置換操作容器７内部に不活性ガスを供給するガス供給装置１６を設け、減圧装置１５による置換操作容器７内部の減圧によって収納容器２内が気体制御ポート３ａを介して減圧化され、ガス供給装置１６による不活性ガス供給によって、気体制御ポート３ｂを介して収納容器２に不活性ガスが満たされる構成にした。 （もっと読む）

【課題】接合対象をより安定して取り扱うこと。
【解決手段】カートリッジと、そのカートリッジが載せられるキャリッジと、静電チャックと、その静電チャックを駆動する圧接機構とを備えている。そのカートリッジは、所定領域の表面粗さが所定の表面粗さより大きくなるように、形成されている。このとき、そのカートリッジは、ウェハがその所定領域に接している場合で、ウェハが静電引力によりその静電チャックに吸着されているときに、ウェハとともにその静電チャックに吸着されないで、その静電チャックが移動しても移動しない。この結果、このような接合装置は、その静電チャックの吸着力を変化させることなく、かつ、ウェハに所定の加工を施すことなく、ウェハをより安定して取り扱うことができる。 （もっと読む）

【課題】基板の表面およびエッジ部分を汚染することなく、且つ、基板を容易に容器に着脱させることを可能にした基板収納容器およびそれを搬送するための搬送容器を提供する。
【解決手段】本発明の基板収納容器５０は、周縁部同士を対向配置することによって中空部１３を形成することができる一対のプレート体１を備え、下側プレート体１１には収納する基板の片面におけるエッジ部分よりも内側において貼着して当該基板を支持固定する台座１４であって、下側プレート体１１の下側周縁部１１ａよりも、対向配置させた上側プレート体１２に向けて突出している台座１４を有している。これにより、基板のエッジ部分と下側周縁部１１ａとの間に比較的広い隙間を形成することができ、治具を挿入することによって、容易に、且つ基板のエッジ部分を汚染することなく、基板を台座１４から取り外すことができる。 （もっと読む）

【課題】 剛性の確保及び振動減衰特性の向上を図ることができるサポートバー、及びそのようなサポートバーを備える基板収納カセットを提供する。
【解決手段】 サポートバー１０においては、繊維強化プラスチックからなる内側層１１と外側層１３との間に、内側層１１の周方向において連続し且つ基端１０ａから先端１０ｂに渡って延在するように制振弾性層１２が配置されている。これにより、振動減衰時間の短縮化等、振動減衰特性の向上を図ることができる。しかも、繊維強化プラスチックからなる内側層１１が円管状であり、繊維強化プラスチックからなる内側層１１と外側層１３とで制振弾性層１２が挟まれている。これにより、制振弾性層１２の適用に起因した剛性の低下を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】発塵が抑制されるウエハキャリアを提供する。
【解決手段】ウエハキャリア１０は、半導体ウエハが載置される下部ユニット３０と、下部ユニット３０が着脱可能であり、取り付けられた下部ユニット３０との間に半導体ウエハ２００を収容する密閉空間を形成する上部ユニット２０を備えている。下部ユニット３０には、載置された半導体ウエハ２００の外周縁に当接する位置決め部材４０が、周方向に沿って複数設けられている。各々の位置決め部材４０は、例えば一軸回りに回転可能なローラ部材であって、回転可能に支持されている。 （もっと読む）

【課題】温度検出装置が半導体処理装置内で、または半導体処理装置間を移動して用いられる場合、温度検出装置から引き出される配線ケーブルの取り回しが常に問題となる。その上、その移動できる範囲はおよそ配線ケーブルの長さに制限される。
【解決手段】半導体基板を保持する半導体基板ホルダであって、半導体基板を保持するに替えて、温度センサを内蔵する温度検出装置を保持したときに、温度検出装置の接触端子に対応する位置に設けられた接続端子を備える。 （もっと読む）

【課題】撓み易い基板を高い寸法精度で支持し、蓋体のフロントリテーナに基板を適切に保持させ、基板のローディング等に支障を来たしたり、基板損傷のおそれを払拭できる基板収納容器を提供する。
【解決手段】半導体ウェーハＷ収納用の容器本体１と、容器本体１を開閉する蓋体２０を備え、容器本体１に、半導体ウェーハＷを水平に支持する支持体３０を配設し、蓋体２０に、半導体ウェーハＷの前部周縁両側を保持する一対のフロントリテーナ３４を装着する。半導体ウェーハＷをローディング・アンローディングする方向における半導体ウェーハＷの中心線を中心線Ｙとし、中心線Ｙと直交する中心線を中心線Ｘとした場合、容器本体１の側壁７に対する支持体３０の配設領域を、中心線Ｘに対して前部３２側が２０°〜３０°、中心線Ｘに対して後部３３側が２０°〜５３°の範囲になるよう設定する。中心線Ｙを挟んで蓋体２０に装着する一対のフロントリテーナ３４の取り付け領域を、４０°〜１１０°の範囲とする。 （もっと読む）