【課題】プラズマ処理により、被処理物を覆う被覆を被処理物表面の酸化を抑制しつつ選択的かつ高速で除去する。
【解決手段】被覆除去装置１は、大気圧プラズマ照射部１５を備える。大気圧プラズマ照射部１５は、不活性ガスの誘導結合型プラズマからなる一次プラズマ４６を吹き出す放電管３３と、第２の不活性ガスと反応性ガスの混合ガス領域と一次プラズマ４６が衝突されることによりプラズマ化した混合ガスから成る二次プラズマ４７を発生する混合器４１を備える。二次プラズマ４７がマスク２２を介して線材２に照射され、反応熱により被覆４が炭化する。炭化した被覆は研磨部１７Ａ，１７Ｂで除去される。 （もっと読む）

【課題】 対象となる金属を効率的に回収するとともに、材料密度が高い状態で対象金属を回収可能とする。
【解決手段】 液体中にプラズマを発生させる工程と、レアメタル又は貴金属を含む材料を液体に投入する工程と、材料がプラズマの照射を受けて分解し、粒子化して、液体中に沈殿する工程と、沈殿したレアメタル又は貴金属のナノ粒子を回収する工程とを有した。 （もっと読む）

【課題】プラズマ発生を極大化でき、プラズマ密度を制御できる常圧プラズマ装置を提供する。
【解決手段】常圧プラズマ装置は、反応ガスを注入するための注入口１１が形成されたハウジング１０と、ハウジング１０の内部に複数層で備えられる高電圧電極１１０と、高電圧電極１１０を覆う誘電体１２０と、高電圧を発生させて高電圧電極１１０に印加する高電圧発生部と、誘電体１２０の両側に隣接するように配置される接地電極１３０、及び反応によって生成されるプラズマの密度を制御する制御部で構成される。 （もっと読む）

【課題】過酸化水素の注入や紫外線の照射を行なうことなく活性種を生成し、且つ活性種の生成率を制御可能な活性種の生成方法及び生成装置を提供する。
【解決手段】供給されるガスに電圧を印加することによって液外から液中に伸展する放電により活性種を生成する方法において、前記電圧を印加する際の周波数を制御することにより活性種の生成率を制御する。尚、前記活性種の生成率の制御の際には、周波数３〜２４ｋＨｚが使用される。 （もっと読む）

【課題】マグネトロン型スパッタ装置において複雑な駆動機構などを要することなくターゲットのエロージョンプロファイルを改善してターゲットの使用効率を向上させる。
【解決手段】ターゲット裏面の外周縁に沿って配置された外周磁石１と、外周磁石１の内周側に外周磁石１と間隔を有して周回配置された内周シム６と、ターゲット裏面の中央部でターゲットの長軸方向に沿って伸張して内周シム６内周側と間隔を有して配置された中央シム７を備え、外周磁石１は、ターゲットの短軸方向両端部に位置して長軸方向に伸長し、互いに異極の長軸磁石部２、３と、長軸方向両端部に位置して、長さ方向で二つに分割され、隣接する長軸磁石部２、３と同極の磁極を有する短軸磁石部２ａ、２ｂ、３ａ、３ｂを有し、生成プラズマ密度が一様となり、ターゲットのエロージョンを均一にできる。 （もっと読む）

【課題】基材の表面近傍をごく短時間だけ均一に高温熱処理するに際して、あるいは、反応ガスによるプラズマまたはプラズマと反応ガス流を同時に基材へ照射して基材を低温プラズマ処理するに際して、基材の所望の被処理領域全体を短時間で処理することができるプラズマ処理装置及び方法を提供することを目的とする。
【解決手段】プラズマトーチユニットＴにおいて、弧状の銅管３からなるコイルが、石英ブロック４の周囲に配置され、弧状の銅管３の弧が途切れた部分にプラズマ噴出口８が設けられる。筒状チャンバ内部の空間７にガスを供給しつつ、銅管３に高周波電力を供給して、筒状チャンバ内部の空間７にプラズマを発生させ、基材２に照射する。 （もっと読む）

【課題】大気圧状態でも被膜の形成等のプラスチックボトル内面の処理を短時間で均一に実施することができるプラスチックボトル内面の処理方法及びプラスチックボトル内面の処理装置を提供すること。
【解決手段】本発明に係るプラスチックボトル内面の処理装置１及び処理方法は、ガス供給間２を構成する、誘電体からなる供給管本体の内部に設けられた導電体の細棒部材が、プラスチックボトルＢの内部を優れた共振系として、リング状共振器６からスリット６１を介して３６０°方向から照射されたマイクロ波により表面波プラズマを形成する。よって、マイクロ波閉じ込め室Ｍには、極めて均一なプラズマ（表面波プラズマ）が生成され、大気圧状態でもボトルＢの内部にプラズマを維持しやすくなり、供給された原料ガスを効率よくプラズマ化してボトル内面ＢＩを均一に処理し、成膜等が効率よくかつ安定して行われることになる。 （もっと読む）

【課題】基材の表面近傍をごく短時間だけ均一に高温熱処理するに際して、あるいは、反応ガスによるプラズマまたはプラズマと反応ガス流を同時に基材へ照射して基材を低温プラズマ処理するに際して、基材の所望の被処理領域全体を短時間で処理することができるプラズマ処理装置及び方法を提供することを目的とする。
【解決手段】プラズマトーチユニットＴにおいて、全体としてコイルをなす銅棒３が、石英ブロック４に設けられた銅棒挿入穴１２内に配置され、石英ブロック４は、銅棒挿入穴１２及び冷却水配管１５内を流れる水によって冷却される。トーチユニットＴの最下部にプラズマ噴出口８が設けられる。長尺チャンバ内部の空間７にガスを供給しつつ、銅棒３に高周波電力を供給して、長尺チャンバ内部の空間７にプラズマを発生させ、基材２に照射する。 （もっと読む）

【課題】 基板とシート部材とによって構成される試料操作素子に対し、その操作構造での所望の領域を選択的に親水化処理することが可能な試料操作素子の表面処理方法、及び処理装置を提供する。
【解決手段】 下部基板１２と、上部シート部材１４とを有する試料操作素子１０を載置するステージ２０と、素子１０にレーザ光Ｌを供給するレーザ光源３０と、素子１０に対し、シート部材１４側からまたは基板１２側から所定の照射光軸Ａｘに沿って、シート部材と基板との間に形成された操作構造内にビームウエストが位置する集光条件でレーザ光Ｌを照射する集光光学系３５とによって表面処理装置１Ａを構成する。そして、試料操作素子１０の操作構造内において、レーザ発生プラズマにより、シート部材１４で操作構造を構成している凹状構造部の内側表面を親水化処理する。 （もっと読む）

【課題】処理対象のガス成分を含むガスに対して電圧を与えて大気圧中でプラズマ発生させるとき、ガスを効率よく処理するプラズマ発生装置を提供する。
【解決手段】プラズマ発生装置は、電力が給電される棒状電極と、内部空間を備え、前記棒状電極が前記内部空間内に設けられる金属製の筒状筐体と、を有する。前記棒状電極の第１の端部には、前記筒状筐体の一方の端部の第１の端面に対向し、前記第１の端部を保護するように電極側誘電体バリア層が設けられ、前記筒状筐体の前記第１の端面には前記ガスを供給する供給口が設けられ、前記筒状筐体の前記第１の端面には前記供給口の周りを覆うように筐体側誘電体バリア層が設けられる。前記棒状電極の前記第１の端部における周上エッジ部分を、前記筒状筐体の前記第１の端面上に前記長手方向に平行に投影したとき、前記周上エッジ部分は前記筐体側誘電体バリア層上あるいは前記供給口上の領域に投影される。 （もっと読む）