アルミニウム含有感光性組成物および電極の製造方法
【課題】ガラス基板に対して薄膜で密着強度が高く、抵抗値が低く、高精細なパターンを形成可能な、安価なアルミニウム含有感光性組成物を提供すること。
【解決手段】アルミニウム粉末およびアルミニウム合金粉末から選択される少なくとも１種の金属粉末（Ａ）、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）、光重合開始剤（Ｅ）、ならびにジヒドロターピネオールおよびテキサノールから選択される少なくとも１種の溶剤（Ｆ）を含有し、該金属粉末（Ａ）の平均粒径Ｄ５０が１〜２０μｍであることを特徴とするアルミニウム含有感光性組成物。
【解決手段】アルミニウム粉末およびアルミニウム合金粉末から選択される少なくとも１種の金属粉末（Ａ）、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）、光重合開始剤（Ｅ）、ならびにジヒドロターピネオールおよびテキサノールから選択される少なくとも１種の溶剤（Ｆ）を含有し、該金属粉末（Ａ）の平均粒径Ｄ５０が１〜２０μｍであることを特徴とするアルミニウム含有感光性組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アルミニウム含有感光性組成物および電極の製造方法に関する。より詳しくは、ディスプレイパネルの部材、電子部品の高度実装材料の部材および太陽電池の部材を製造する際に、高感度かつ高精度のパターンを形成することが可能なアルミニウム含有感光性組成物ならびに該組成物を用いた電極の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、回路基板やディスプレイパネルにおけるパターン形成に対して、高密度化および高精細化の要求が高まっている。このような要求が高まっているディスプレイパネルの中でも、特にプラズマディスプレイパネル（以下「ＰＤＰ」ともいう。）やフィールドエミッションディスプレイ（以下「ＦＥＤ」ともいう。）などのフラットパネルディスプレイ（以下「ＦＰＤ」ともいう。）が注目されている。
【０００３】
図１は交流型のＰＤＰの断面形状を示す模式図である。図１において、１０１および１０２は対向配置されたガラス基板、１０３および１１１は隔壁であり、ガラス基板１０１、ガラス基板１０２、背面隔壁１０３および前面隔壁１１１によりセルが区画形成されている。１０４はガラス基板１０１に固定された透明電極であり、１０５は透明電極１０４の抵抗を下げる目的で該透明電極１０４上に形成されたバス電極であり、１０６はガラス基板１０２に固定されたアドレス電極である。１０７はセル内に保持された蛍光体であり、１０８は透明電極１０４およびバス電極１０５を被覆するようガラス基板１０１の表面に形成された誘電体層であり、１０９はアドレス電極１０６を被覆するようガラス基板１０２の表面に形成された誘電体層であり、１１０は例えば酸化マグネシウムよりなる保護層である。
【０００４】
また、カラーＦＰＤにおいては、コントラストの高い画像を得るため、ガラス基板と誘電体層との間に、カラーフィルター（赤色・緑色・青色）やブラックマトリックスなどを設けることがある。
【０００５】
上述の構成を有するＰＤＰや図２に示されるＦＥＤに代表されるＦＰＤにおいては、パネルの大型化および高精細化が進んでおり、それに伴ってパターン形成技術の向上が要望されている。しかしながら、このようなパネルの大型化および高精細化に伴い、パターン精度の要求が非常に厳しくなり、従来の工法であるスクリーン印刷法では対応できないという問題がある。
【０００６】
そこで、現在ではフォトリソグラフィー法によるパターン形成が主に用いられている。例えば電極を製造する場合には、前記フォトリソグラフィー法において、感光性銀ペーストを用いることにより、スクリーン印刷法では対応できなかった問題である大型および高精細なパターン形成が可能となっている。
【０００７】
しかしながら、銀は貴金属であるため高価である。このため、感光性銀ペーストも高価な導電性ペーストになっている。また、感光性銀ペーストの欠陥として、高温多湿環境下でマイグレーションを起こし、銀表面において硫化が発生するという性質が挙げられる。
【０００８】
高価な銀に代わる無機粒子としては、アルミニウムが挙げられる。しかしながら、アルミニウムは銀よりも酸化されやすいため、焼成工程においてパターンの抵抗値が上昇してしまうという問題がある。さらに、焼成後に得られるパターンの基板に対する密着性に劣るという問題もある。このため、アルミニウムを用いて、基板に対する密着性に優れ、か
つ低抵抗なパターンを形成することは困難であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００２−３１３２３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、上記のような従来技術に伴う問題を解決しようとするものである。すなわち、本発明は、ガラス基板に対して薄膜で密着強度が高く、抵抗値が低く、高精細なパターンを形成可能な、安価なアルミニウム含有感光性組成物を提供することを目的とする。また、本発明は、前記アルミニウム含有感光性組成物を用いた電極の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らは上記課題を解決するため鋭意検討を行った。その結果、特定の粒子径を有するアルミニウムの金属粉末と特定の溶剤とを併用することにより上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１２】
すなわち、本発明は以下の［１］〜［６］に関する。
【００１３】
［１］アルミニウム粉末およびアルミニウム合金粉末から選択される少なくとも１種の金属粉末（Ａ）、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）、光重合開始剤（Ｅ）、ならびにジヒドロターピネオールおよびテキサノールから選択される少なくとも１種の溶剤（Ｆ）を含有し、該金属粉末（Ａ）の５０重量％平均粒子径（Ｄ５０）が１．０〜２０．０μｍであることを特徴とするアルミニウム含有感光性組成物。
【００１４】
［２］さらにガラス粉末（Ｂ）を含有し、該ガラス粉末（Ｂ）の５０重量％平均粒子径（Ｄ５０）が０．２〜４．０μｍであり、最大粒子径Ｄmaxが３０μｍ以下であることを
特徴とする前記［１］に記載のアルミニウム含有感光性組成物。
【００１５】
［３］前記［２］に記載のアルミニウム含有感光性組成物であって、前記ガラス粉末（Ｂ）が、軟化点が３００〜７００℃であるガラス粉末であり、該組成物に対して、該ガラス粉末が０．５〜２０重量％の量で含まれることを特徴とするアルミニウム含有感光性組成物。
【００１６】
［４］前記［１］〜［３］の何れかに記載のアルミニウム含有感光性組成物であって、該組成物に対して、前記金属粉末（Ａ）が２０〜７０重量％の量で含まれることを特徴とするアルミニウム含有感光性組成物。
【００１７】
［５］２５℃、ずり速度１０ｓ-1における粘度が、１０００〜５００００ｃＰであることを特徴とする前記［１］〜［４］の何れかに記載のアルミニウム含有感光性組成物。
【００１８】
［６］前記［１］〜［５］の何れかに記載のアルミニウム含有感光性組成物を用いて、フォトリソグラフィー法によりパターン形成することを特徴とする電極の製造方法。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、ガラス基板に対して薄膜で密着強度が高く、抵抗値が低く、高精細なパターンを形成可能な、安価なアルミニウム含有感光性組成物が提供される。また、本発明によれば、前記アルミニウム含有感光性組成物を用いた電極の製造方法が提供される。
【００２０】
本発明に係るアルミニウム含有感光性組成物は、ＦＰＤなどのディスプレイパネルの部材、電子部品の高度実装材料の部材および太陽電池の部材の製造に好適に使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】図１は、交流型ＰＤＰの断面形状を示す模式図である。
【図２】図２は、一般的なＦＥＤの断面形状を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明に係るアルミニウム含有感光性組成物（以下、単に「感光性組成物」ともいう。）および電極の製造方法について、詳細に説明する。なお、以下の説明では、前記感光性組成物を用いて形成される露光前の層を「感光性樹脂層」、該感光性樹脂層を露光・現像して得られたパターンや焼成後のパターンを総称して単に「パターン」ともいう。
【００２３】
〔感光性組成物〕
本発明に係る感光性組成物は、無機粒子と感光性樹脂とを含有する。本発明において、前記「無機粒子」は、金属粉末（Ａ）と任意成分であるガラス粉末（Ｂ）や他の金属粉末とから構成される。また、前記「感光性樹脂」は、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）、光重合開始剤（Ｅ）、溶剤（Ｆ）および任意成分である添加剤から構成される。
【００２４】
《金属粉末（Ａ）》
金属粉末（Ａ）は、アルミニウム粉末およびアルミニウム合金粉末から選択される少なくとも１種の金属粉末である。本発明においては銀などの高価な貴金属ではなく安価なアルミニウムの金属粉末を主に用いるため、安価なパターンを形成することができる。
【００２５】
上記アルミニウム合金粉末としては、例えば、Ａｌ−Ｃｕ系合金粉末、Ａｌ−Ｍｇ系合金粉末、Ａｌ−Ｓｎ系合金粉末、Ａｌ−Ｃｕ−Ｓｉ系合金粉末、Ａｌ−Ｓｉ系合金粉末、Ａｌ−Ｓｉ−Ｍｇ系合金粉末、Ａｌ−Ｍｎ系合金粉末、Ａｌ−Ｍｇ−Ｍｎ系合金粉末、Ａｌ−Ｚｎ−Ｍｇ系合金粉末、Ａｌ−Ｚｎ−Ｍｇ−Ｃｕ系合金粉末、Ａｌ−Ｓｉ−Ｃｕ−Ｍｇ系合金粉末、Ａｌ−Ｃｕ−Ｎｉ−Ｍｇ系合金粉末、Ａｌ−Ｓｉ−Ｃｕ−Ｎｉ−Ｍｇ系合金粉末が挙げられる。
【００２６】
金属粉末（Ａ）の平均粒子径は、５０重量％平均粒子径（Ｄ５０）が１．０〜２０．０μｍであり、３．０〜１０．０μｍであることが好ましい。金属粉末（Ａ）の平均粒子径が前記範囲にあると、露光工程における露光光が感光性樹脂層の底部まで充分到達し、高精細なパターンを得ることができる。なお、本発明において、平均粒子径はレーザー回折法によって測定される値である。また、金属粉末（Ａ）の形状は特に限定されないが、球状、不定形またはフレーク状であることが好ましい。
【００２７】
本発明において、感光性組成物に対して、金属粉末（Ａ）は２０〜７０重量％の量で含まれることが好ましく、２５〜６５重量％の量で含まれることがより好ましく、３０〜６０重量％の量で含まれることがさらに好ましい。金属粉末（Ａ）の含有量が前記範囲にあると、焼成工程において金属粉末（Ａ）の酸化を防止することができ、低抵抗かつ高精細なパターンを製造できる。また、前記パターンは基板との密着性にも優れる。
【００２８】
また、本発明においては、金属粉末（Ａ）とともに、本発明の目的を損なわない範囲で他の金属粉末（例えば、Ｋ、Ｎａ、Ｌｉ、Ｐｔ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｚｎ、Ｗ、Ｍｏ、およびこれらの化合物（ただし、ガラス粉末（Ｂ）で例示される酸化物
を除く。））を用いてもよい。例えば、前記他の金属粉末は、金属粉末（Ａ）１００重量部に対して、２５重量部以下の量で用いることができる。
【００２９】
《ガラス粉末（Ｂ）》
本発明で好ましく用いられるガラス粉末（Ｂ）は、感光性組成物により形成されるパターンの用途（ＦＰＤの部材、電子部品の高度実装材料の部材など）に応じて適宜選択することができる。
【００３０】
ガラス粉末（Ｂ）の好適な具体例としては、
１．酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素の混合物（ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）、
２．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素の混合物（ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）、
３．酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウムの混合物
（ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系）、
４．酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素の混合物
（ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）、
５．酸化ビスマス、酸化ホウ素、酸化ケイ素の混合物
（Ｂｉ2Ｏ3−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）、
６．酸化亜鉛、酸化リン、酸化ケイ素の混合物（ＺｎＯ−Ｐ2Ｏ5−ＳｉＯ2系）、
７．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化カリウムの混合物（ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−Ｋ2Ｏ系）、
８．酸化リン、酸化ホウ素、酸化アルミニウムの混合物
（Ｐ2Ｏ5−Ｂ2Ｏ3−Ａｌ2Ｏ3系）、
９．酸化亜鉛、酸化リン、酸化ケイ素、酸化アルミニウムの混合物
（ＺｎＯ−Ｐ2Ｏ5−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系）、
１０．酸化亜鉛、酸化リン、酸化チタンの混合物（ＺｎＯ−Ｐ2Ｏ5−ＴｉＯ2系）、
１１．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化カリウムの混合物
（ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ｋ2Ｏ系）、
１２．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化カリウム、酸化カルシウムの混合物
（ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ｋ2Ｏ−ＣａＯ系）、
１３．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化カリウム、酸化カルシウム、酸化アルミニウムの混合物（ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ｋ2Ｏ−ＣａＯ−Ａｌ2Ｏ3系）、
１４．酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウムの混合物
（Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系）、
１５．酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化ナトリウムの混合物
（Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ｎａ2Ｏ系）、
が挙げられる。これらの中では、環境に配慮した無鉛ガラス粉末が特に好ましい。
【００３１】
ガラス粉末（Ｂ）の平均粒子径は、形成しようとするパターンの形状を考慮して適宜選択されるが、好ましくは５０重量％平均粒子径（Ｄ５０）が０．２〜４．０μｍ、最大粒子径Ｄmaxが３０μｍ以下であり、より好ましくはＤ５０が０．５〜３．８μｍ、Ｄmaxが２５μｍ以下である。また、１０重量％平均粒子径（Ｄ１０）が０．０５〜０．５μｍ、９０重量％平均粒子径（Ｄ９０）が１０〜２０μｍであることが好ましい。ガラス粉末（Ｂ）の平均粒子径が前記範囲にあると、露光光が塗膜の底部まで充分到達し、高精細なパターンを得ることができる。
【００３２】
なお、本発明において、５０重量％平均粒子径（Ｄ５０）、最大粒子径Ｄmax、１０重
量％平均粒子径（Ｄ１０）および９０重量％平均粒子径（Ｄ９０）は、レーザー回折法によって測定される値である。
【００３３】
また、ガラス粉末（Ｂ）は、軟化点が好ましくは３００〜７００℃、より好ましくは３５０〜７００℃、さらに好ましくは４００〜６２０℃の範囲にある。このような軟化点を
有するガラス粉末は、例えばＦＰＤなどのディスプレイパネルを構成する電極を形成する場合に好適である。なお、本発明において、ガラス粉末（Ｂ）の軟化点は、ＤＳＣ測定により、後述する実施例での測定条件下で測定される場合の値である。
【００３４】
ガラス粉末（Ｂ）の軟化点が上記範囲を下回ると、パターンの焼成工程において、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）などの有機物質が完全に分解除去されない段階でガラス粉末が溶融することがある。このため、形成される電極中に有機物質の一部が残留し、結果として電極が着色されてその光透過率が低下する傾向がある。一方、ガラス粉末（Ｂ）の軟化点が上記範囲を上回ると、その軟化点以上の高温でパターンを焼成する必要があるために、ガラス基板に歪みなどが発生しやすい。
【００３５】
本発明において、感光性組成物に対して、軟化点が上記範囲にあるガラス粉末（Ｂ）は０．５〜２０重量％の量で含まれることが好ましく、１．０〜１８重量％の量で含まれることがより好ましく、２．０〜１５重量％の量で含まれることがさらに好ましい。
【００３６】
また、ガラス粉末（Ｂ）の含有量は、金属粉末（Ａ）およびガラス粉末（Ｂ）の含有量の合計１００重量％に対して、好ましくは１０〜３０重量％、より好ましくは１０〜２５重量％、さらに好ましくは１０〜２０重量％である。ガラス粉末（Ｂ）の含有量が前記範囲にあると、焼成工程において金属粉末（Ａ）の酸化を防止することができ、低抵抗なパターンを製造できる。また、前記パターンは基板との密着性にも優れる。
【００３７】
《アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）》
アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）は、アルカリ可溶性であれば特に限定されない。本発明において「アルカリ可溶性」とは、目的とする現像処理が可能な程度に、アルカリ性の現像液に溶解する性質をいう。
【００３８】
アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）としては、以下のアルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）と（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）との共重合体が好ましい。
【００３９】
≪アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）≫
アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）としては、例えば、（メタ）アクリル酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ケイ皮酸、コハク酸モノ（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）、２−メタクリロイロキシエチルフタル酸、２−アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレートなどのカルボキシル基含有モノマー類；
２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、（α−ヒドロキシメチル）アクリレートなどの水酸基含有モノマー類；
ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレンなどのフェノール性水酸基含有モノマー類などの、アルカリ可溶性官能基と不飽和結合とを有するモノマーが挙げられる。
【００４０】
これらの中では、（メタ）アクリル酸、２−メタクリロイロキシエチルフタル酸、２−アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートが好ましい。また、これらのモノマー（Ｃ１）は１
種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００４１】
アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）を共重合することにより、樹脂にアルカリ可溶性を付与することができる。アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）由来の構成単位の含有量は、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）の全構成単位中、通常は５〜９０重量％、好ましくは１０〜８０重量％、特に好ましくは１５〜７０重量％である。
【００４２】
≪（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）≫
（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）としては、アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）と共重合可能な（メタ）アクリル酸誘導体であれば特に限定されないが、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、トリチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボロニル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートなどの、アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）以外の（メタ）アクリレート類が挙げられる。これらのモノマー（Ｃ２）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００４３】
また、本発明では、（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）の代わりに、あるいは（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）とともに、例えば、スチレン、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレートなどから得られるポリマーの一方の鎖末端に、（メタ）アクリロイル基、アリル基、ビニル基などの重合性不飽和基を有するマクロモノマーなどを用いてもよい。
【００４４】
≪ラジカル重合開始剤≫
上記共重合の際、ラジカル重合開始剤を用いることが好ましい。ラジカル重合開始剤としては、ビニル単量体の重合に用いられる重合開始剤を用いることができる。前記重合開始剤としては、例えば、２，２'−アゾビスイソブチロニトリル、２，２'−アゾビス（２−メチルブチルニトリル）、２，２'−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、
１，１'−アゾビス（１−シクロヘキサンカルボニトリル）、ジメチルー２，２'−アゾビスイソブチレート、４，４'−アゾビス（４−シアノバレリック酸）などのアゾ化合物；
ｔ−ブチルパーオキシビバレート、ｔ−ブチルパーオキシ２−エチルヘキサノエート、クミルパーオキシ２−エチルヘキサノエートなどのパーオキシエステル類の有機過酸化物が挙げられる。ラジカル重合開始剤は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００４５】
上記ラジカル重合開始剤の使用量は、上記共重合に使用する全モノマー（マクロモノマーを含む。以下同じ。）１００重量部に対して、通常は０．１〜１０重量部程度である。
【００４６】
≪連鎖移動剤≫
上記共重合の際、連鎖移動剤を用いてもよい。連鎖移動剤としては、例えば、α−メチルスチレンダイマー、ｔ−ドデシルメルカプタン、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオン酸）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）、１，４−ビス（３−メルカプトブチリルオキシ）ブタンが挙げられる。
【００４７】
上記連鎖移動剤の使用量は、上記共重合に使用する全モノマー１００重量部に対して、通常は０．１〜１０重量部程度である。
【００４８】
≪アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）の物性≫
アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）の重量平均分子量（以下「Ｍｗ」ともいう。）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（以下「ＧＰＣ」ともいう。）により測定したポリスチレン換算値で、好ましくは５０００〜１０００００、より好ましくは１００００〜８００００である。Ｍｗは、上述のモノマー（Ｃ１）および（Ｃ２）の共重合割合、組成、連鎖移動剤、重合温度などの条件を適宜選択することにより制御することができる。Ｍｗが前記範囲よりも低いと、現像後の膜荒れが発生しやすくなる。また、Ｍｗが前記範囲を超えると、現像液に対する未露光部の感光性樹脂層の溶解性が低下し、解像度が低下する場合がある。
【００４９】
アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）のガラス転移温度（Ｔｇ）は、好ましくは０〜１２０℃、より好ましくは１０〜１００℃である。ガラス転移温度が前記範囲よりも低いと、塗膜にタックを生じやすく、ハンドリングが困難となる傾向にある。また、ガラス転移温度が前記範囲を超えると、感光性樹脂層とガラス基板などの支持体との密着性が悪くなり、後述する転写フィルムを用いる場合には、良好に該樹脂層を転写できないことがある。なお、ガラス転移温度は、アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）、（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）の量を変更することによって適宜調節することがでる。
【００５０】
アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）の酸価は、好ましくは２０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇ、より好ましくは３０〜１６０ｍｇＫＯＨ／ｇである。酸価が前記範囲よりも低いと、感光性樹脂層の未露光部をアルカリ現像液で除去しにくく、高精細なパターン形成が困難となる傾向にある。また、酸価が前記範囲を超えると、露光光によって硬化した部分もアルカリ現像液に浸食されやすくなり、高精細なパターン形成が困難となる傾向にある。
【００５１】
本発明に係る感光性ペースト組成物において、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）の含有量は、感光性樹脂１００重量％に対して、好ましくは２０〜８０重量％、より好ましくは５０〜７０重量％である。アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）の含有量が前記範囲にあると、感光性ペースト組成物における上記無機粒子の分散性、およびパターンの現像性に優れる。
【００５２】
《多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）》
多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）としては、例えば、アリル化シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート、２，５−ヘキサンジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メタ）アクリレート、メトキシ化シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリグリセロールジ（メタ）アクリレートなどのジ（メタ）アクリレート類；
ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン（エチレンオキサイド変性）トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン（プロピレンオキサイド変性）トリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ベンジルメルカプタントリ（メタ）アクリレートなどの３官能以上の（メタ）アクリレート類；
上記化合物中の芳香環の水素原子のうち、１〜５個を塩素または臭素原子に置換したモノマーが挙げられる。これらの中では、ジ（メタ）アクリレート類が好ましい。多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００５３】
本発明に係る感光性ペースト組成物において、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）の含有量は、露光光に対する感度の点から、感光性樹脂１００重量％に対して、好ましくは１０重量％以上、より好ましくは１５〜６０重量％の範囲にある。多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）の含有量が前記範囲を超えると、例えば焼成後のパターンの形状が劣化することがある。
【００５４】
なお、本発明に係る目的を損なわない範囲で、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）とともに、スチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、塩素化スチレン、臭素化スチレン、α−メチルスチレン、塩素化α−メチルスチレン、臭素化α−メチルスチレン、クロロメチルスチレン、ヒドロキシメチルスチレン、カルボシキメチルスチレン、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン、ビニルカルバゾール、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、１−ビニル−２−ピロリドンなどを用いてもよい。
【００５５】
《光重合開始剤（Ｅ）》
光重合開始剤（Ｅ）としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニル−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、４−アジドベンザルアセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、１−クロロ−４−プロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、メチレンアントロン、ジベンゾスベロン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサノン、ミヒラーケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１，２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２，２'−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、カ
ンファーキノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−３−エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシムなどのカルボニル化合物；
ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイドなどのアシルフォスフィンオキサイド系化合物；
ベンジルジメチルケタノール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、Ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、四臭素化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイン、および、エオシンやメチレンブルーなどの光還元性の色素とアスコルビン酸やトリエタノールアミンなどの還元剤との組み合せが挙げられる。これらの光重合開始剤は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００５６】
また、上記光重合開始剤とともに、感光性樹脂層の露光感度を向上させるために、増感
剤を用いてよい。前記増感剤としては、例えば、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、１−クロロ−４−プロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，３−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミニベンザル）シクロヘキサノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）−４−メチルシクロヘキサノン、ミヒラーケトン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）−ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジメチルアミノ）カルコン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）カルコン、ｐ−ジメチルアミノシンナミリデンインダノン、ｐ−ジメチルアミノベンジリデンインダノン、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニルビニレン）−イソナフトチアゾール、１，３−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）アセトン、１，３−カルボニル−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）アセトン、３，３−カルボニル−ビス（７−ジエチルアミノクマリン）、Ｎ−フェニル−Ｎ−エチルエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、Ｎ−トリルジエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、ジエチルアミノ安息香酸イソアミル、３−フェニル−５−ベンゾイルチオテトラゾール、１−フェニル−５−エトキシカルボニルチオテトラゾールが挙げられる。前記増感剤は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。なお、前記増感剤の中には光重合開始剤としても作用するものがある。
【００５７】
本発明に係る感光性組成物において、光重合開始剤（Ｅ）（増感剤も用いる場合は、光重合開始剤と増感剤との合計）の含有量は、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）１００重量部に対して、好ましくは１〜５０重量部、より好ましくは２〜４０重量部である。光重合開始剤（Ｅ）の含有量が前記範囲を超えると、例えば焼成後のパターンの形状が劣化することがある。
【００５８】
《溶剤（Ｆ）》
溶剤（Ｆ）は、ジヒドロターピネオールおよびテキサノールから選択される少なくとも１種の溶剤である。このような特定の溶剤を用いることにより、（１）高粘度のポリマー溶液を作製可能となり、（２）硬化により得られる重合体の分子量が揃い、現像特性が安定となる。一方、ジヒドロターピネオールの水素添加前のターピネオールを用いると、高粘度溶液を得ることができるが、ターピネオール構造に由来する分子量調整剤効果のため、硬化により得られる重合体の分子量がロットにより揃わず、現像特性が安定しない。
【００５９】
本発明において、感光性組成物に対して、溶剤（Ｆ）は１０〜５０重量％の量で含まれることが好ましく、１５〜５０重量％の量で含まれることがより好ましく、２０〜５０重量％の量で含まれることがさらに好ましい。
【００６０】
《添加剤》
本発明に係る感光性組成物は、紫外線吸収剤、重合禁止剤、酸化防止剤、密着助剤、溶解促進剤、増感助剤、可塑剤、増粘剤、分散剤、無機粒子および感光性樹脂の沈降防止剤、レベリング剤などの添加剤を含んでいてもよい。
【００６１】
≪紫外線吸収剤≫
本発明に係る感光性組成物には、紫外線吸収剤を添加してもよい。紫外線吸収効果の高い化合物を添加することによって、高アスペクト比、高精細、高解像度のパターンが得られる。紫外線吸収剤としては、有機系染料および無機顔料を用いることができ、中でも３５０〜４５０ｎｍの波長範囲で高い紫外線吸収係数を有する有機系染料および無機顔料が好ましく用いられる。
【００６２】
具体的には、アゾ系染料、アミノケトン系染料、キサンテン系染料、キノリン系染料、アミノケトン系染料、アントラキノン系染料、ベンゾフェノン系染料、ジフェニルシアノ
アクリレート系染料、トリアジン系染料、ｐ−アミノ安息香酸系染料などの有機系染料；酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウムなどの無機顔料が挙げられる。
【００６３】
上記無機顔料は、ガラス粉末（Ｂ）１００重量部に対して、好ましくは０．００１〜５重量部、より好ましくは０．０１〜１重量部の範囲となる量で添加することができる。無機顔料の添加量が前記範囲未満では紫外線吸収剤の添加効果が減少し、前記範囲を超えると紫外線吸収剤の効果が大きく、感光性樹脂層の底部まで光が届かなくなり、パターンを形成できなくなることや成膜強度が保てないことがある。
【００６４】
≪重合禁止剤≫
本発明に係る感光性組成物には、保存時の熱安定性を向上させるために、重合禁止剤を添加してもよい。重合禁止剤としては、例えば、ヒドロキノン、ヒドロキノンのモノエステル化物、Ｎ−ニトロソジフェニルアミン、フェノチアジン、ｐ−ｔ−ブチルカテコール、Ｎ−フェニルナフチルアミン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−メチルフェノール、クロラニール、ピロガロールが挙げられる。重合禁止剤は、前記組成物中に、好ましくは０．００１〜１重量％の範囲となる量で添加することができる。
【００６５】
≪酸化防止剤≫
本発明に係る感光性組成物には、保存時における感光性樹脂の酸化を防止するために、酸化防止剤を添加してもよい。酸化防止剤としては、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ−４−エチルフェノール、２，２−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２−メチレン−ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル−４−ヒドロキシ−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、ビス［３，３−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアシッド］グリコールエステル、ジラウリルチオジプロピオナート、トリフェニルホスファイトが挙げられる。酸化防止剤は、前記組成物中に、好ましくは０．００１〜１重量％の範囲となる量で添加することができる。
【００６６】
≪密着助剤≫
本発明に係る感光性組成物には、感光性樹脂層とガラス基板などの支持体との密着性を向上させるために、密着助剤を添加してもよい。密着助剤としては、シラン化合物が好適に用いられる。
【００６７】
シラン化合物の具体例としては、ｎ−プロピルジメチルメトキシシラン、ｎ−ブチルジメチルメトキシシラン、ｎ−デシルジメチルメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジメチルメトキシシラン、ｎ−イコサンジメチルメトキシシラン、ｎ−プロピルジエチルメトキシシラン、ｎ−ブチルジエチルメトキシシラン、ｎ−デシルジエチルメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジエチルメトキシシラン、ｎ−イコサンジエチルメトキシシラン、
ｎ−ブチルジプロピルメトキシシラン、ｎ−デシルジプロピルメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジプロピルメトキシシラン、ｎ−イコサンジプロピルメトキシシラン、ｎ−プロピルジメチルエトキシシラン、ｎ−ブチルジメチルエトキシシラン、ｎ−デシルジメチルエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジメチルエトキシシラン、ｎ−イコサンジメチルエトキシシラン、ｎ−プロピルジエチルエトキシシラン、ｎ−ブチルジエチルエトキシシラン、ｎ−デシルジエチルエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジエチルエトキシシラン、
ｎ−イコサンジエチルエトキシシラン、ｎ−ブチルジプロピルエトキシシラン、ｎ−デシルジプロピルエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジプロピルエトキシシラン、ｎ−イコサンジプロピルエトキシシラン、ｎ−プロピルジメチルプロポキシシラン、ｎ−ブチルジメチルプロポキシシラン、ｎ−デシルジメチルプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジメ
チルプロポキシシラン、ｎ−イコサンジメチルプロポキシシラン、ｎ−プロピルジエチルプロポキシシラン、ｎ−ブチルジエチルプロポキシシラン、ｎ−デシルジエチルプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジエチルプロポキシシラン、ｎ−イコサンジエチルプロポキシシラン、ｎ−ブチルジプロピルプロポキシシラン、ｎ−デシルジプロピルプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジプロピルプロポキシシラン、ｎ−イコサンジプロピルプロポキシシラン、ｎ−プロピルメチルジメトキシシラン、ｎ−ブチルメチルジメトキシシラン、
ｎ−デシルメチルジメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルメチルジメトキシシラン、ｎ−イコサンメチルジメトキシシラン、ｎ−プロピルエチルジメトキシシラン、ｎ−ブチルエチルジメトキシシラン、ｎ−デシルエチルジメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルエチルジメトキシシラン、ｎ−イコサンエチルジメトキシシラン、ｎ−ブチルプロピルジメトキシシラン、ｎ−デシルプロピルジメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルプロピルジメトキシシラン、ｎ−イコサンプロピルジメトキシシラン、ｎ−プロピルメチルジエトキシシラン、
ｎ−ブチルメチルジエトキシシラン、ｎ−デシルメチルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルメチルジエトキシシラン、ｎ−イコサンメチルジエトキシシラン、ｎ−プロピルエチルジエトキシシラン、ｎ−ブチルエチルジエトキシシラン、ｎ−デシルエチルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルエチルジエトキシシラン、ｎ−イコサンエチルジエトキシシラン、ｎ−ブチルプロピルジエトキシシラン、ｎ−デシルプロピルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルプロピルジエトキシシラン、ｎ−イコサンプロピルジエトキシシラン、
ｎ−プロピルメチルジプロポキシシラン、ｎ−ブチルメチルジプロポキシシラン、ｎ−デシルメチルジプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルメチルジプロポキシシラン、ｎ−イコサンメチルジプロポキシシラン、ｎ−プロピルエチルジプロポキシシラン、ｎ−ブチルエチルジプロポキシシラン、ｎ−デシルエチルジプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルエチルジプロポキシシラン、ｎ−イコサンエチルジプロポキシシラン、ｎ−ブチルプロピルジプロポキシシラン、ｎ−デシルプロピルジプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルプロピルジプロポキシシラン、ｎ−イコサンプロピルジプロポキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｎ−デシルトリメトキシシラン、
ｎ−ヘキサデシルトリメトキシシラン、ｎ−イコサントリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ｎ−ブチルトリエトキシシラン、ｎ−デシルトリエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリエトキシシラン、ｎ−イコサントリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリプロポキシシラン、ｎ−ブチルトリプロポキシシラン、ｎ−デシルトリプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリプロポキシシラン、ｎ−イコサントリプロポキシシラン、
ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチリデン）−３−（トリエトキシシリル）−１−プロパンアミン、Ｎ，Ｎ'−ビス−［３−（トリメトキシシリル）プロピル］
エチレンジアミンが挙げられる。これらは１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００６８】
密着助剤は、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）１００重量部に対して、好ましくは０．０５〜１５重量部、より好ましくは０．１〜１０重量部の範囲となる量で添加することができる。
【００６９】
≪溶解促進剤≫
本発明に係る感光性組成物は、後述する現像液への充分な溶解性を発現させる目的で、溶解促進剤を含有することが好ましい。溶解促進剤としては、界面活性剤が好ましく用いられる。前記界面活性剤としては、例えば、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性
剤、ノニオン系界面活性剤、脂肪酸が挙げられる。
【００７０】
上記フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、ＢＭ ＣＨＩＭＩＥ社製「ＢＭ−１０００」、「ＢＭ−１１００」；大日本インキ化学工業（株）製「メガファックＦ１４２Ｄ」、「同Ｆ１７２」、「同Ｆ１７３」、「同Ｆ１８３」；住友スリーエム（株）製「フロラードＦＣ−１３５」、「同ＦＣ−１７０Ｃ」、「同ＦＣ−４３０」、「同ＦＣ−４３１」；旭硝子（株）製「サーフロンＳ−１１２」、「同Ｓ−１１３」、「同Ｓ−１３１」、「同Ｓ−１４１」、「同Ｓ−１４５」、「同Ｓ−３８２」、「同ＳＣ−１０１」、「同ＳＣ−１０２」、「同ＳＣ−１０３」、「同ＳＣ−１０４」、「同ＳＣ−１０５」、「同ＳＣ−１０６」が挙げられる。
【００７１】
上記シリコーン系界面活性剤の市販品としては、例えば、東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製「ＳＨ−２８ＰＡ」、「ＳＨ−１９０」、「ＳＨ−１９３」、「ＳＺ−６０３２」、「ＳＦ−８４２８」、「ＤＣ−５７」、「ＤＣ−１９０」；信越化学工業（株）製「ＫＰ３４１」；新秋田化成（株）製「エフトップＥＦ３０１」、「同ＥＦ３０３」、「同ＥＦ３５２」が挙げられる。
【００７２】
上記ノニオン系界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテルなどのポリオキシエチレンアルキルエーテル類；ポリオキシエチレンジスチレン化フェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルなどのポリオキシアルキレンアリールエーテル類；ポリオキシエチレンジラウレート、ポリオキシエチレンジステアレートなどのポリオキシエチレンジアルキルエステル類が挙げられる。
【００７３】
上記ノニオン系界面活性剤の市販品としては、例えば、花王（株）製「エマルゲンＡ−６０」、「Ａ−９０」、「Ａ−５５０」、「Ｂ−６６」、「ＰＰ−９９」；共栄社化学（株）製「（メタ）アクリル酸系共重合体ポリフローＮｏ．５７」、「同Ｎｏ．９０」が挙げられる。
【００７４】
上記脂肪酸としては、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ぺラルゴン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、パルミトイル酸、マルガリン酸、ステアリン酸、オレイン酸、バクセン酸、リノール酸、リノレン酸、ノナデカン酸、アラキジン酸、アラキドン酸、ベヘン酸、リグノセレン酸、ネルボン酸、セロチン酸、モンタン酸、メリシン酸が挙げられる。
【００７５】
上記界面活性剤の中では、現像時に感光性樹脂層の未露光部の除去が容易であることから、ノニオン系界面活性剤が好ましく、ポリオキシアルキレンアリールエーテル類がより好ましく、特に下記式（１）で表される化合物が好ましい。
【００７６】
【化１】
【００７７】
上記式（１）中、Ｒ1は炭素数１〜５のアルキル基、好ましくはメチル基であり、ｐは１
〜５の整数であり、ｓは１〜５の整数、好ましくは２であり、ｔは１〜１００の整数、好ましくは１０〜２０の整数である。
【００７８】
本発明に係る感光性組成物において、上記溶解促進剤の含有量は、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）１００重量部に対して、好ましくは０．００１〜２０重量部、より好ましくは０．０１〜１５重量部、特に好ましくは０．１〜１０重量部である。溶解促進剤の含有量が前記範囲にあることにより、現像液への溶解性に優れた組成物が得られる。
【００７９】
＜感光性組成物の調製＞
本発明に係る感光性組成物は、必須成分として金属粉末（Ａ）、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）、光重合開始剤（Ｅ）および溶剤（Ｆ）、任意成分としてガラス粉末（Ｂ）などの上述の各種成分を所定の組成比となるように調合した後、３本ロールや混練機で均質に混合分散して調製される。
【００８０】
本発明に係る感光性組成物の２５℃、ずり速度１０ｓ-1における粘度は、１０００〜５００００ｃＰ（センチ・ポイズ）であることが好ましく、２０００〜３００００ｃＰであることがより好ましい。粘度が前記範囲にある感光性組成物は、量産性に優れる。粘度は、上記無機粒子、増粘剤、有機溶剤、可塑剤および沈殿防止剤などの添加量によって適宜調整することができる。
【００８１】
〔電極の製造方法〕
本発明に係る電極の製造方法は、上記感光性組成物を用いて、フォトリソグラフィー法によりパターン形成することを特徴とする。前記製造方法は、上記感光性組成物からなる感光性樹脂層を基板上に形成する工程（感光性樹脂層形成工程）、該樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程（露光工程）、該樹脂層を現像処理してパターンを形成する工程（現像工程）、および該パターンを焼成処理する工程（焼成工程）を含むことが好ましい。
【００８２】
本発明に係る電極の製造方法は、ＦＰＤなどの電極の製造に好ましく適用される。特に、上記各工程を有する本発明に係る電極の製造方法は、ＰＤＰを製造する際に好ましく採用することができる。
【００８３】
また、上記各工程を有するパターン形成方法により、電極に限らず、ディスプレイパネルの部材、電子部品の回路パターンおよび太陽電池の配線パターンなどを形成することができる。
【００８４】
＜感光性樹脂層形成工程＞
本工程では、上記感光性組成物からなる感光性樹脂層を基板上に形成する。感光性樹脂層の形成方法としては、例えば、（i）上記感光性組成物を基板上に塗布して塗膜を形成
し、該塗膜を乾燥させて形成する方法、（ii）上記感光性組成物を支持フィルム上に塗布して塗膜を形成し、該塗膜を乾燥させて得られる感光性樹脂層を有する転写フィルムを用いて、基板上に該樹脂層を転写する方法が挙げられる。
【００８５】
（i）上記感光性組成物を基板上に塗布する方法としては、膜厚が大きく（例えば２０
μｍ以上）、かつ均一性に優れた塗膜を効率よく形成することができる方法であれば特に限定されない。例えば、ナイフコータによる塗布方法、ロールコータによる塗布方法、ドクターブレードによる塗布方法、カーテンコータによる塗布方法、ダイコータによる塗布方法、ワイヤーコータによる塗布方法、スクリーン印刷装置によるスクリーン印刷法が挙げられる。
【００８６】
塗膜の乾燥条件は、乾燥後における溶剤の残存割合が２重量％以内となるように適宜調整すればよく、例えば、乾燥温度が５０〜１５０℃、乾燥時間が０．５〜６０分程度である。
【００８７】
上記のようにして形成された感光性樹脂層の厚みは、通常は３〜３００μｍ、好ましくは５〜２００μｍである。なお、上記組成物の塗布をｎ回繰り返すことで、ｎ層（ｎは２以上の整数を示す。）の感光性樹脂層を有する積層体を形成してもよい。
【００８８】
（ii）上記感光性樹脂層を有する転写フィルムを用いた転写工程の一例を以下に示す。基板の表面に感光性樹脂層の表面が当接するように転写フィルムを重ね合わせ、該転写フィルムを加熱ローラなどにより熱圧着した後、該樹脂層から支持フィルムを剥離除去する。これにより、基板の表面に感光性樹脂層が転写されて密着した状態となる。
【００８９】
上記支持フィルムは、耐熱性および耐溶剤性を有するとともに可撓性を有する樹脂フィルムであることが好ましい。支持フィルムを形成する樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリフロロエチレンなどの含フッ素樹脂、ナイロン、セルロースが挙げられる。
【００９０】
転写条件としては、例えば、加熱ローラの表面温度が１０〜２００℃、加熱ローラによるロール圧が０．５〜１０ｋｇ／ｃｍ2、加熱ローラの移動速度が０．１〜１０ｍ／分で
ある。また、上記基板は予熱されていてもよく、その予熱温度は、例えば４０〜１４０℃である。
【００９１】
本発明で用いられる基板としては、例えば、ガラス、セラミック、シリコン、ポリカーボネート、ポリエステル、芳香族アミド、ポリアミドイミド、ポリイミドなどの絶縁性材料からなる板状部材が挙げられる。これらの中では、耐熱性を有するガラス基板を用いることが好ましい。
【００９２】
＜露光工程＞
上記感光性樹脂層形成工程により基板上に感光性樹脂層を形成した後、露光装置を用いて露光を行う。具体的には、感光性樹脂層の表面に、露光用マスクを介して、紫外線などの露光光を選択的に照射して、該樹脂層にパターンの潜像を形成する。
【００９３】
露光は通常のフォトリソグラフィーで行われるように、フォトマスクを用いてマスク露光する方法を採用することができる。前記フォトマスクの露光パターンは、目的によって異なるが、例えば１０〜５００μｍ幅のストライプまたは格子である。
【００９４】
また、フォトマスクを用いずに、赤色や青色の可視光レーザー、Ａｒイオンレーザーなどで直接描画する方法を用いてもよい。
【００９５】
露光装置としては、平行光露光機、散乱光露光機、ステッパー露光機、プロキシミティ露光機などを用いることができる。また、大面積の露光を行う場合は、ガラス基板などの基板上に感光性樹脂層を形成した後に、該基板を搬送しながら露光を行うことによって、小さな露光面積の露光機で、大きな面積を露光することができる。
【００９６】
露光光としては、例えば、可視光線、近紫外線、紫外線、電子線、Ｘ線、レーザー光が挙げられるが、これらの中では紫外線が好ましく、その光源としては、例えば、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプが挙げられる。これらの中では超高圧水銀灯が好適である。
【００９７】
露光条件は、塗布厚みによって異なるが、１〜１００ｍＷ／ｃｍ2出力の超高圧水銀灯
を用いて０．０５〜１分間露光を行うことが好ましい。この場合、波長フィルターを用いて光の波長領域を狭くすることによって、光の散乱を抑制し、パターン形成性を向上させることができる。具体的には、ｉ線（３６５ｎｍ）の光をカットするフィルター、あるいは、ｉ線およびｈ線（４０５ｎｍ）の光をカットするフィルターを用いて、パターン形成性を向上させることができる。
【００９８】
＜現像工程＞
上記露光後、露光部分と非露光部分との現像液に対する溶解度差を利用して、感光性樹脂層を現像して該樹脂層のパターンを形成する。現像方法（例えば、浸漬法、揺動法、シャワー法、スプレー法、パドル法、ブラシ法など）および現像処理条件（例えば、現像液の種類・組成・濃度、現像時間、現像温度など）などは、感光性樹脂層の種類に応じて適宜選択、設定すればよい。
【００９９】
現像工程で用いられる現像液としては、感光性樹脂層中の感光性樹脂を溶解可能な有機溶媒が使用できる。また、前記有機溶媒にその溶解力が失われない範囲で水を添加してもよい。感光性樹脂層中にカルボキシル基などの酸性基を持つ化合物が存在する場合、アルカリ水溶液で現像できる。
【０１００】
本発明においては、感光性樹脂層に上記無機粒子が含まれているが、上記無機粒子はアルカリ可溶性樹脂（Ｃ）により均一に分散されている。このため、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）を現像液で溶解させて洗浄することにより、上記無機粒子も同時に除去される。
【０１０１】
上記アルカリ水溶液としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸二水素カリウム、リン酸二水素ナトリウム、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ホウ酸リチウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、アンモニア水溶液、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシド、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンが挙げられる。
【０１０２】
上記アルカリ水溶液のアルカリ濃度は、通常は０．０１〜１０重量％、より好ましくは０．１〜５重量％である。アルカリ濃度が低すぎると、可溶部が除去されないことがある。また、アルカリ濃度が高すぎると、パターン部を剥離させ、また非可溶部を腐食するおそれがある。
【０１０３】
また、現像時の現像温度は、２０〜５０℃で行うことが工程管理上好ましい。
【０１０４】
上記アルカリ水溶液には、上述のノニオン系界面活性剤などの添加剤が含有されていてもよい。なお、アルカリ現像液による現像処理がなされた後は、通常は水洗処理が施される。
【０１０５】
＜焼成工程＞
上記現像後の感光性樹脂層残留部（該樹脂層のパターン）に含まれる有機物質を焼失させるために、焼成炉にて該樹脂層のパターンを焼成処理する。
【０１０６】
焼成雰囲気は、感光性組成物や基板の種類によって異なるが、空気、オゾン、窒素、水素などの雰囲気中で焼成する。焼成炉としては、バッチ式の焼成炉やベルト式の連続型焼成炉を用いることができる。
【０１０７】
焼成処理条件は、パターン中の有機物質が焼失されることが必要であるため、通常は焼成温度が３００〜１０００℃、焼成時間が１０〜９０分間である。例えば、ガラス基板上にパターン形成する場合は、３５０〜６００℃の温度で１０〜６０分間保持して焼成を行うことが好ましい。
【０１０８】
＜加熱工程＞
上記感光性樹脂層形成、露光、現像、焼成の各工程中に、乾燥または予備反応の目的で、５０〜３００℃の加熱工程を導入してもよい。
【実施例】
【０１０９】
以下、実施例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は、これらの実施例により何ら限定されるものではない。なお、実施例および比較例における「部」および「％」は、特に断りのない限り、それぞれ「重量部」および「重量％」を示す。
【０１１０】
まず、物性の測定方法および評価方法について説明する。
【０１１１】
〔重量平均分子量（Ｍｗ）および重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）（以下「Ｍｗ／Ｍｎ」ともいう。）の測定方法〕
ＭｗおよびＭｗ／Ｍｎは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）（東ソー（株）製「ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ」）により測定したポリスチレン換算の値である。なお、ＧＰＣ測定は、ＧＰＣカラムとして東ソー（株）製「ＴＳＫｇｕａｒｄｃｏｌｕｍｎ ＳｕｐｅｒＨＺＭ−Ｍ」を用い、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）溶媒、測定温度４０℃の条件で行った。
【０１１２】
〔粘度の測定方法〕
感光性組成物の粘度は、東機産業（株）製の「ＶＩＳＣＯＭＡＴＥ ＶＭ−１５０III
ＴＶ−３３型粘度計コーンプレートタイプ、測定レンジＵ（フルスケールトルク：５７
４９．６１μＮ・ｍ）、ロータ名称：３°×Ｒ１２」により、２５℃、ずり速度１０ｓ-1において測定した値である。
【０１１３】
〔ガラス粉末（Ｂ）の軟化点の測定方法〕
ガラス粉末（Ｂ）を試料ホルダーに封入し、示差走査熱量計（ＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製 ２９２０ＮＤＳＣ）を用い、窒素雰囲気下に１０℃／分で３０℃から７００℃まで昇温して、得られた吸熱ピークトップの温度をガラス粉末（Ｂ）の軟化点とした。
【０１１４】
〔体積抵抗の測定方法〕
体積抵抗（μΩ・ｃｍ）は、感光性組成物をガラス基板（１５０ｍｍ×１５０ｍｍ×１．８ｍｍ）上に塗布・焼成して膜厚１０μｍの塗膜を形成して、これをＮＰＳ社製の「Ｒｅｓｉｓｔｉｖｉｔｙ Ｐｒｏｃｃｅｓｓｏｒ ＭｏｄｅｌΣ−５」により測定した値である。
【０１１５】
〔現像後および焼成後のパターンの評価方法〕
現像後および焼成後の試験片を切断して、パターン切断面を走査型電子顕微鏡（日立製作所製「Ｓ４３００」）で観察してパターンの幅および高さを計測し、それぞれを下記基準で評価した。なお、所望の規格は、パターンの幅が５０μｍ、高さが１０μｍ、間隔が１００μｍである。
Ａ：所望の規格のもの。
Ｂ：所望の規格±３μｍ以内のもの。
Ｃ：所望の規格±３μｍを超えて±５μｍ以内のもの。
Ｄ：所望の規格±５μｍを超えるもの。
【０１１６】
〔焼成後のパターンの密着性の評価方法〕
焼成後の試験片に対して、パターンと支持体であるガラス基板との密着性評価を、以下のようにして行った。なお、所望の規格は、パターンの幅が５０μｍ、高さが１０μｍ、間隔が１００μｍである。
【０１１７】
セロテープ（登録商標）（ニチバン社製）を支持体表面（パターン形成面）に加熱ローラにより熱圧着した。圧着条件は、加熱ローラの表面温度を２３℃、ロール圧を４ｋｇ／ｃｍ2、加熱ローラの移動速度を０．５ｍ／分とした。これにより、支持体表面（パター
ン形成面）にセロテープ（登録商標）が転写されて密着した状態となった。このセロテープ（登録商標）を支持体より剥離することで、パターンと支持体との密着性評価を行った。
○：パターン剥がれなし。
×：パターン剥がれあり。
【０１１８】
〔合成例１〕
２−ヒドロキシエチルメタクリレート１５ｇ、メタクリル酸１５ｇ、ｎ−ブチルメタクリレート４０ｇ、２−エチルヘキシルメタクリレート３０ｇ、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）１ｇ、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）（堺化学工業（株）製）１ｇを攪拌機付きオートクレーブに仕込み、窒素雰囲気下において、ジヒドロターピネオール１５０ｇ中で均一になるまで攪拌した。
【０１１９】
次いで、上記単量体を８０℃で４時間重合させ、さらに１００℃で１時間重合させた後、室温まで冷却してアルカリ可溶性樹脂（１）を得た。このアルカリ可溶性樹脂（１）の重合率は９８％であり、アルカリ可溶性樹脂（１）の重量平均分子量は２００００（Ｍｗ／Ｍｎ＝２）であった。
【０１２０】
〔合成例２〕
合成例１において、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）に代えてトリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）（堺化学工業（株）製）１ｇを使用したこと以外は合成例１と同様にして、アルカリ可溶性樹脂（２）を得た。このアルカリ可溶性樹脂（２）の重合率は９８％であり、アルカリ可溶性樹脂（２）の重量平均分子量は２２０００（Ｍｗ／Ｍｎ＝２）であった。
【０１２１】
〔合成例３〕
合成例１において、ジヒドロターピネオールに代えてテキサノールを使用したこと以外は合成例１と同様にして、アルカリ可溶性樹脂（３）を得た。このアルカリ可溶性樹脂（３）の重合率は９９％であり、アルカリ可溶性樹脂（３）の重量平均分子量は２５０００（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．５）であった。
【０１２２】
〔合成例４〕
合成例３において、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）に代えてジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）（堺化学工業（株）製）１ｇを使用したこと以外は合成例３と同様にして、アルカリ可溶性樹脂（４）を得た。このアルカリ可溶性樹脂（４）の重合率は９９％であり、アルカリ可溶性樹脂（４）の重量平均分子量は３００００（Ｍｗ／Ｍｎ＝３）であった。
【０１２３】
〔合成例５〕
合成例１において、ジヒドロターピネオールに代えてプロピレングリコールモノエチルエーテル１５０ｇを使用したこと以外は合成例１と同様にして、アルカリ可溶性樹脂（５）を得た。このアルカリ可溶性樹脂（５）の重合率は９９％であり、アルカリ可溶性樹脂（５）の重量平均分子量は２００００（Ｍｗ／Ｍｎ＝２）であった。
【０１２４】
〔調製例１〕
アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）としてアルカリ可溶性樹脂（Ｃ１）２０％、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）としてデカンジオールジアクリレート１０％、光重合開始剤（Ｅ）として２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパン−１−オン２％、増感剤として２，４−ジエチルチオキサントン０．５％、酸化防止剤として２，６−ジｔ−ブチル−４−メチルフェノール２％、溶剤（Ｆ）としてジヒドロターピネオール６５．５％となる割合で各成分を混合して、感光性樹脂（１）を調製した。
【０１２５】
〔調製例２〜５〕
調製例１において、表３に示す組成および割合で各成分を混合したこと以外は調製例１と同様にして、感光性樹脂（２）〜（５）を調製した。
【０１２６】
［実施例１］
金属粉末（Ａ）として表１に示すアルミニウム粉末（Ａ１）２０ｇ、ガラス粉末（Ｂ）として表２に示すガラス粉末（Ｂ１）５ｇ、感光性樹脂として表３に示す感光性樹脂（１）７５ｇを混練機で混練して、感光性組成物を調製した。
【０１２７】
上記感光性組成物を３２５メッシュのスクリーンを用いてガラス基板（１５０ｍｍ×１５０ｍｍ×１．８ｍｍ）上に１００ｍｍ角の大きさに印刷し、１００℃で２０分間保持・乾燥して感光性樹脂層を形成した。前記感光性樹脂層の膜厚は１０μｍ±１μｍの範囲にあった。
【０１２８】
次に、ネガ型クロムマスク（パターン幅５０μｍ、パターン間隔１００μｍ）を用いて、２５ｍＷ／ｃｍ2出力の超高圧水銀灯により、上記感光性樹脂層を上面から紫外線露光
した。露光量は１００ｍＪ／ｃｍ2であった。
【０１２９】
次に、２３℃に保持した炭酸ナトリウムの０．５％水溶液を露光後の感光性樹脂層にシャワーで６０秒間かけることにより、該樹脂層を現像した。その後、シャワースプレーを用いて水洗浄した。これにより、光硬化していない非露光部分を除去してガラス基板上に格子状のパターンを形成した。この現像後のパターンを上記評価方法により評価した。結果を表４に示す。
【０１３０】
次に、得られたパターンを５８０℃で３０分間焼成して電極パターンを形成した。この焼成後の電極パターンを上記評価方法により評価した。結果を表４に示す。
【０１３１】
［実施例２〜１２］
実施例１において、表４に示す組成の感光性組成物を調製したこと以外は実施例１と同様にして、ガラス基板上に感光性樹脂層、パターンおよび電極パターンを形成した。得られたパターンおよび電極パターンを上記評価方法により評価した。結果を表４に示す。
【０１３２】
［実施例１３］
金属粉末（Ａ）として表１に示すアルミニウム粉末（Ａ１）２７ｇ、ガラス粉末（Ｂ）として表２に示すガラス粉末（Ｂ１）３ｇ、感光性樹脂として表３に示す感光性樹脂（１
）７０ｇを混練機で混練して、感光性組成物を調製した。
【０１３３】
支持フィルムとして、予め離型処理したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（幅２００ｍｍ、長さ３０ｍ、厚さ５０μｍ）を２枚用意し、一方の支持フィルムの上に、上記感光性組成物をロールコーターにより塗布して塗膜を形成し、形成された塗膜を１２０℃で２０分間乾燥して溶媒を除去することにより、厚さ１０μｍの感光性樹脂層を形成した。
【０１３４】
次に、もう一方の支持フィルムを上記感光性樹脂層と貼り合せて、加熱ローラにより熱圧着した。圧着条件は、加熱ローラの表面温度を９０℃、ロール圧を４ｋｇ／ｃｍ2、加
熱ローラの移動速度を０．５ｍ／分とした。このようにして、膜厚１０μｍの感光性樹脂層を有する転写フィルムを作製した。
【０１３５】
次に、上記転写フィルムから一方の支持フィルムを剥離して、ガラス基板（１５０×１５０×１．８ｍｍ）の表面に上記感光性樹脂層を重ね合わせ、残りの支持フィルムを剥離した後、感光性樹脂層を加熱ローラにより熱圧着した。圧着条件は、加熱ローラの表面温度を９０℃、ロール圧を４ｋｇ／ｃｍ2、加熱ローラの移動速度を０．５ｍ／分とした。
これにより、ガラス基板の表面に感光性樹脂層が転写されて密着した状態となった。転写された感光性樹脂層の膜厚を測定したところ、１０μｍ±１μｍの範囲にあった。
【０１３６】
次に、ネガ型クロムマスク（パターン幅５０μｍ、パターン間隔１００μｍ）を用いて、２５ｍＷ／ｃｍ2出力の超高圧水銀灯により、上記感光性樹脂層を上面から紫外線露光
した。露光量は５０ｍＪ／ｃｍ2であった。
【０１３７】
次に、２３℃に保持した炭酸ナトリウムの０．５％水溶液を露光後の感光性樹脂層にシャワーで６０秒間かけることにより、該樹脂層を現像した。その後、シャワースプレーを用いて水洗浄した。これにより、光硬化していない非露光部分を除去してガラス基板上に格子状のパターンを形成した。この現像後のパターンを上記評価方法により評価した。結果を表４に示す。
【０１３８】
次に、得られたパターンを５８０℃で３０分間焼成して電極パターンを形成した。この焼成後の電極パターンを上記評価方法により評価した。結果を表４に示す。
【０１３９】
［比較例１〜３］
実施例１において、表４に示す組成の感光性ペーストを調製したこと以外は実施例１と同様にして、ガラス基板上に感光性樹脂層、パターンおよび電極パターンを形成した。得られたパターンおよび電極パターンを上記評価方法により評価した。結果を表４に示す。
【０１４０】
【表１】
【０１４１】
【表２】
【０１４２】
【表３】
【０１４３】
【表４】
【符号の説明】
【０１４４】
１０１・・・ガラス基板
１０２・・・ガラス基板
１０３・・・背面隔壁
１０４・・・透明電極
１０５・・・バス電極
１０６・・・アドレス電極
１０７・・・蛍光体
１０８・・・誘電体層
１０９・・・誘電体層
１１０・・・保護層
１１１・・・前面隔壁
２０１・・・ガラス基板
２０２・・・ガラス基板
２０３・・・絶縁層
２０４・・・透明電極
２０５・・・エミッタ
２０６・・・カソード電極
２０７・・・蛍光体
２０８・・・ゲート
２０９・・・スペーサ
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アルミニウム含有感光性組成物および電極の製造方法に関する。より詳しくは、ディスプレイパネルの部材、電子部品の高度実装材料の部材および太陽電池の部材を製造する際に、高感度かつ高精度のパターンを形成することが可能なアルミニウム含有感光性組成物ならびに該組成物を用いた電極の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、回路基板やディスプレイパネルにおけるパターン形成に対して、高密度化および高精細化の要求が高まっている。このような要求が高まっているディスプレイパネルの中でも、特にプラズマディスプレイパネル（以下「ＰＤＰ」ともいう。）やフィールドエミッションディスプレイ（以下「ＦＥＤ」ともいう。）などのフラットパネルディスプレイ（以下「ＦＰＤ」ともいう。）が注目されている。
【０００３】
図１は交流型のＰＤＰの断面形状を示す模式図である。図１において、１０１および１０２は対向配置されたガラス基板、１０３および１１１は隔壁であり、ガラス基板１０１、ガラス基板１０２、背面隔壁１０３および前面隔壁１１１によりセルが区画形成されている。１０４はガラス基板１０１に固定された透明電極であり、１０５は透明電極１０４の抵抗を下げる目的で該透明電極１０４上に形成されたバス電極であり、１０６はガラス基板１０２に固定されたアドレス電極である。１０７はセル内に保持された蛍光体であり、１０８は透明電極１０４およびバス電極１０５を被覆するようガラス基板１０１の表面に形成された誘電体層であり、１０９はアドレス電極１０６を被覆するようガラス基板１０２の表面に形成された誘電体層であり、１１０は例えば酸化マグネシウムよりなる保護層である。
【０００４】
また、カラーＦＰＤにおいては、コントラストの高い画像を得るため、ガラス基板と誘電体層との間に、カラーフィルター（赤色・緑色・青色）やブラックマトリックスなどを設けることがある。
【０００５】
上述の構成を有するＰＤＰや図２に示されるＦＥＤに代表されるＦＰＤにおいては、パネルの大型化および高精細化が進んでおり、それに伴ってパターン形成技術の向上が要望されている。しかしながら、このようなパネルの大型化および高精細化に伴い、パターン精度の要求が非常に厳しくなり、従来の工法であるスクリーン印刷法では対応できないという問題がある。
【０００６】
そこで、現在ではフォトリソグラフィー法によるパターン形成が主に用いられている。例えば電極を製造する場合には、前記フォトリソグラフィー法において、感光性銀ペーストを用いることにより、スクリーン印刷法では対応できなかった問題である大型および高精細なパターン形成が可能となっている。
【０００７】
しかしながら、銀は貴金属であるため高価である。このため、感光性銀ペーストも高価な導電性ペーストになっている。また、感光性銀ペーストの欠陥として、高温多湿環境下でマイグレーションを起こし、銀表面において硫化が発生するという性質が挙げられる。
【０００８】
高価な銀に代わる無機粒子としては、アルミニウムが挙げられる。しかしながら、アルミニウムは銀よりも酸化されやすいため、焼成工程においてパターンの抵抗値が上昇してしまうという問題がある。さらに、焼成後に得られるパターンの基板に対する密着性に劣るという問題もある。このため、アルミニウムを用いて、基板に対する密着性に優れ、か
つ低抵抗なパターンを形成することは困難であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００２−３１３２３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、上記のような従来技術に伴う問題を解決しようとするものである。すなわち、本発明は、ガラス基板に対して薄膜で密着強度が高く、抵抗値が低く、高精細なパターンを形成可能な、安価なアルミニウム含有感光性組成物を提供することを目的とする。また、本発明は、前記アルミニウム含有感光性組成物を用いた電極の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らは上記課題を解決するため鋭意検討を行った。その結果、特定の粒子径を有するアルミニウムの金属粉末と特定の溶剤とを併用することにより上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１２】
すなわち、本発明は以下の［１］〜［６］に関する。
【００１３】
［１］アルミニウム粉末およびアルミニウム合金粉末から選択される少なくとも１種の金属粉末（Ａ）、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）、光重合開始剤（Ｅ）、ならびにジヒドロターピネオールおよびテキサノールから選択される少なくとも１種の溶剤（Ｆ）を含有し、該金属粉末（Ａ）の５０重量％平均粒子径（Ｄ５０）が１．０〜２０．０μｍであることを特徴とするアルミニウム含有感光性組成物。
【００１４】
［２］さらにガラス粉末（Ｂ）を含有し、該ガラス粉末（Ｂ）の５０重量％平均粒子径（Ｄ５０）が０．２〜４．０μｍであり、最大粒子径Ｄmaxが３０μｍ以下であることを
特徴とする前記［１］に記載のアルミニウム含有感光性組成物。
【００１５】
［３］前記［２］に記載のアルミニウム含有感光性組成物であって、前記ガラス粉末（Ｂ）が、軟化点が３００〜７００℃であるガラス粉末であり、該組成物に対して、該ガラス粉末が０．５〜２０重量％の量で含まれることを特徴とするアルミニウム含有感光性組成物。
【００１６】
［４］前記［１］〜［３］の何れかに記載のアルミニウム含有感光性組成物であって、該組成物に対して、前記金属粉末（Ａ）が２０〜７０重量％の量で含まれることを特徴とするアルミニウム含有感光性組成物。
【００１７】
［５］２５℃、ずり速度１０ｓ-1における粘度が、１０００〜５００００ｃＰであることを特徴とする前記［１］〜［４］の何れかに記載のアルミニウム含有感光性組成物。
【００１８】
［６］前記［１］〜［５］の何れかに記載のアルミニウム含有感光性組成物を用いて、フォトリソグラフィー法によりパターン形成することを特徴とする電極の製造方法。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、ガラス基板に対して薄膜で密着強度が高く、抵抗値が低く、高精細なパターンを形成可能な、安価なアルミニウム含有感光性組成物が提供される。また、本発明によれば、前記アルミニウム含有感光性組成物を用いた電極の製造方法が提供される。
【００２０】
本発明に係るアルミニウム含有感光性組成物は、ＦＰＤなどのディスプレイパネルの部材、電子部品の高度実装材料の部材および太陽電池の部材の製造に好適に使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】図１は、交流型ＰＤＰの断面形状を示す模式図である。
【図２】図２は、一般的なＦＥＤの断面形状を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明に係るアルミニウム含有感光性組成物（以下、単に「感光性組成物」ともいう。）および電極の製造方法について、詳細に説明する。なお、以下の説明では、前記感光性組成物を用いて形成される露光前の層を「感光性樹脂層」、該感光性樹脂層を露光・現像して得られたパターンや焼成後のパターンを総称して単に「パターン」ともいう。
【００２３】
〔感光性組成物〕
本発明に係る感光性組成物は、無機粒子と感光性樹脂とを含有する。本発明において、前記「無機粒子」は、金属粉末（Ａ）と任意成分であるガラス粉末（Ｂ）や他の金属粉末とから構成される。また、前記「感光性樹脂」は、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）、光重合開始剤（Ｅ）、溶剤（Ｆ）および任意成分である添加剤から構成される。
【００２４】
《金属粉末（Ａ）》
金属粉末（Ａ）は、アルミニウム粉末およびアルミニウム合金粉末から選択される少なくとも１種の金属粉末である。本発明においては銀などの高価な貴金属ではなく安価なアルミニウムの金属粉末を主に用いるため、安価なパターンを形成することができる。
【００２５】
上記アルミニウム合金粉末としては、例えば、Ａｌ−Ｃｕ系合金粉末、Ａｌ−Ｍｇ系合金粉末、Ａｌ−Ｓｎ系合金粉末、Ａｌ−Ｃｕ−Ｓｉ系合金粉末、Ａｌ−Ｓｉ系合金粉末、Ａｌ−Ｓｉ−Ｍｇ系合金粉末、Ａｌ−Ｍｎ系合金粉末、Ａｌ−Ｍｇ−Ｍｎ系合金粉末、Ａｌ−Ｚｎ−Ｍｇ系合金粉末、Ａｌ−Ｚｎ−Ｍｇ−Ｃｕ系合金粉末、Ａｌ−Ｓｉ−Ｃｕ−Ｍｇ系合金粉末、Ａｌ−Ｃｕ−Ｎｉ−Ｍｇ系合金粉末、Ａｌ−Ｓｉ−Ｃｕ−Ｎｉ−Ｍｇ系合金粉末が挙げられる。
【００２６】
金属粉末（Ａ）の平均粒子径は、５０重量％平均粒子径（Ｄ５０）が１．０〜２０．０μｍであり、３．０〜１０．０μｍであることが好ましい。金属粉末（Ａ）の平均粒子径が前記範囲にあると、露光工程における露光光が感光性樹脂層の底部まで充分到達し、高精細なパターンを得ることができる。なお、本発明において、平均粒子径はレーザー回折法によって測定される値である。また、金属粉末（Ａ）の形状は特に限定されないが、球状、不定形またはフレーク状であることが好ましい。
【００２７】
本発明において、感光性組成物に対して、金属粉末（Ａ）は２０〜７０重量％の量で含まれることが好ましく、２５〜６５重量％の量で含まれることがより好ましく、３０〜６０重量％の量で含まれることがさらに好ましい。金属粉末（Ａ）の含有量が前記範囲にあると、焼成工程において金属粉末（Ａ）の酸化を防止することができ、低抵抗かつ高精細なパターンを製造できる。また、前記パターンは基板との密着性にも優れる。
【００２８】
また、本発明においては、金属粉末（Ａ）とともに、本発明の目的を損なわない範囲で他の金属粉末（例えば、Ｋ、Ｎａ、Ｌｉ、Ｐｔ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｚｎ、Ｗ、Ｍｏ、およびこれらの化合物（ただし、ガラス粉末（Ｂ）で例示される酸化物
を除く。））を用いてもよい。例えば、前記他の金属粉末は、金属粉末（Ａ）１００重量部に対して、２５重量部以下の量で用いることができる。
【００２９】
《ガラス粉末（Ｂ）》
本発明で好ましく用いられるガラス粉末（Ｂ）は、感光性組成物により形成されるパターンの用途（ＦＰＤの部材、電子部品の高度実装材料の部材など）に応じて適宜選択することができる。
【００３０】
ガラス粉末（Ｂ）の好適な具体例としては、
１．酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素の混合物（ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）、
２．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素の混合物（ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）、
３．酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウムの混合物
（ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系）、
４．酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素の混合物
（ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）、
５．酸化ビスマス、酸化ホウ素、酸化ケイ素の混合物
（Ｂｉ2Ｏ3−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）、
６．酸化亜鉛、酸化リン、酸化ケイ素の混合物（ＺｎＯ−Ｐ2Ｏ5−ＳｉＯ2系）、
７．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化カリウムの混合物（ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−Ｋ2Ｏ系）、
８．酸化リン、酸化ホウ素、酸化アルミニウムの混合物
（Ｐ2Ｏ5−Ｂ2Ｏ3−Ａｌ2Ｏ3系）、
９．酸化亜鉛、酸化リン、酸化ケイ素、酸化アルミニウムの混合物
（ＺｎＯ−Ｐ2Ｏ5−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系）、
１０．酸化亜鉛、酸化リン、酸化チタンの混合物（ＺｎＯ−Ｐ2Ｏ5−ＴｉＯ2系）、
１１．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化カリウムの混合物
（ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ｋ2Ｏ系）、
１２．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化カリウム、酸化カルシウムの混合物
（ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ｋ2Ｏ−ＣａＯ系）、
１３．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化カリウム、酸化カルシウム、酸化アルミニウムの混合物（ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ｋ2Ｏ−ＣａＯ−Ａｌ2Ｏ3系）、
１４．酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウムの混合物
（Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系）、
１５．酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化ナトリウムの混合物
（Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ｎａ2Ｏ系）、
が挙げられる。これらの中では、環境に配慮した無鉛ガラス粉末が特に好ましい。
【００３１】
ガラス粉末（Ｂ）の平均粒子径は、形成しようとするパターンの形状を考慮して適宜選択されるが、好ましくは５０重量％平均粒子径（Ｄ５０）が０．２〜４．０μｍ、最大粒子径Ｄmaxが３０μｍ以下であり、より好ましくはＤ５０が０．５〜３．８μｍ、Ｄmaxが２５μｍ以下である。また、１０重量％平均粒子径（Ｄ１０）が０．０５〜０．５μｍ、９０重量％平均粒子径（Ｄ９０）が１０〜２０μｍであることが好ましい。ガラス粉末（Ｂ）の平均粒子径が前記範囲にあると、露光光が塗膜の底部まで充分到達し、高精細なパターンを得ることができる。
【００３２】
なお、本発明において、５０重量％平均粒子径（Ｄ５０）、最大粒子径Ｄmax、１０重
量％平均粒子径（Ｄ１０）および９０重量％平均粒子径（Ｄ９０）は、レーザー回折法によって測定される値である。
【００３３】
また、ガラス粉末（Ｂ）は、軟化点が好ましくは３００〜７００℃、より好ましくは３５０〜７００℃、さらに好ましくは４００〜６２０℃の範囲にある。このような軟化点を
有するガラス粉末は、例えばＦＰＤなどのディスプレイパネルを構成する電極を形成する場合に好適である。なお、本発明において、ガラス粉末（Ｂ）の軟化点は、ＤＳＣ測定により、後述する実施例での測定条件下で測定される場合の値である。
【００３４】
ガラス粉末（Ｂ）の軟化点が上記範囲を下回ると、パターンの焼成工程において、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）などの有機物質が完全に分解除去されない段階でガラス粉末が溶融することがある。このため、形成される電極中に有機物質の一部が残留し、結果として電極が着色されてその光透過率が低下する傾向がある。一方、ガラス粉末（Ｂ）の軟化点が上記範囲を上回ると、その軟化点以上の高温でパターンを焼成する必要があるために、ガラス基板に歪みなどが発生しやすい。
【００３５】
本発明において、感光性組成物に対して、軟化点が上記範囲にあるガラス粉末（Ｂ）は０．５〜２０重量％の量で含まれることが好ましく、１．０〜１８重量％の量で含まれることがより好ましく、２．０〜１５重量％の量で含まれることがさらに好ましい。
【００３６】
また、ガラス粉末（Ｂ）の含有量は、金属粉末（Ａ）およびガラス粉末（Ｂ）の含有量の合計１００重量％に対して、好ましくは１０〜３０重量％、より好ましくは１０〜２５重量％、さらに好ましくは１０〜２０重量％である。ガラス粉末（Ｂ）の含有量が前記範囲にあると、焼成工程において金属粉末（Ａ）の酸化を防止することができ、低抵抗なパターンを製造できる。また、前記パターンは基板との密着性にも優れる。
【００３７】
《アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）》
アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）は、アルカリ可溶性であれば特に限定されない。本発明において「アルカリ可溶性」とは、目的とする現像処理が可能な程度に、アルカリ性の現像液に溶解する性質をいう。
【００３８】
アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）としては、以下のアルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）と（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）との共重合体が好ましい。
【００３９】
≪アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）≫
アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）としては、例えば、（メタ）アクリル酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ケイ皮酸、コハク酸モノ（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）、２−メタクリロイロキシエチルフタル酸、２−アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレートなどのカルボキシル基含有モノマー類；
２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、（α−ヒドロキシメチル）アクリレートなどの水酸基含有モノマー類；
ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレンなどのフェノール性水酸基含有モノマー類などの、アルカリ可溶性官能基と不飽和結合とを有するモノマーが挙げられる。
【００４０】
これらの中では、（メタ）アクリル酸、２−メタクリロイロキシエチルフタル酸、２−アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートが好ましい。また、これらのモノマー（Ｃ１）は１
種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００４１】
アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）を共重合することにより、樹脂にアルカリ可溶性を付与することができる。アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）由来の構成単位の含有量は、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）の全構成単位中、通常は５〜９０重量％、好ましくは１０〜８０重量％、特に好ましくは１５〜７０重量％である。
【００４２】
≪（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）≫
（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）としては、アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）と共重合可能な（メタ）アクリル酸誘導体であれば特に限定されないが、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、トリチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボロニル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートなどの、アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）以外の（メタ）アクリレート類が挙げられる。これらのモノマー（Ｃ２）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００４３】
また、本発明では、（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）の代わりに、あるいは（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）とともに、例えば、スチレン、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレートなどから得られるポリマーの一方の鎖末端に、（メタ）アクリロイル基、アリル基、ビニル基などの重合性不飽和基を有するマクロモノマーなどを用いてもよい。
【００４４】
≪ラジカル重合開始剤≫
上記共重合の際、ラジカル重合開始剤を用いることが好ましい。ラジカル重合開始剤としては、ビニル単量体の重合に用いられる重合開始剤を用いることができる。前記重合開始剤としては、例えば、２，２'−アゾビスイソブチロニトリル、２，２'−アゾビス（２−メチルブチルニトリル）、２，２'−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、
１，１'−アゾビス（１−シクロヘキサンカルボニトリル）、ジメチルー２，２'−アゾビスイソブチレート、４，４'−アゾビス（４−シアノバレリック酸）などのアゾ化合物；
ｔ−ブチルパーオキシビバレート、ｔ−ブチルパーオキシ２−エチルヘキサノエート、クミルパーオキシ２−エチルヘキサノエートなどのパーオキシエステル類の有機過酸化物が挙げられる。ラジカル重合開始剤は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００４５】
上記ラジカル重合開始剤の使用量は、上記共重合に使用する全モノマー（マクロモノマーを含む。以下同じ。）１００重量部に対して、通常は０．１〜１０重量部程度である。
【００４６】
≪連鎖移動剤≫
上記共重合の際、連鎖移動剤を用いてもよい。連鎖移動剤としては、例えば、α−メチルスチレンダイマー、ｔ−ドデシルメルカプタン、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオン酸）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）、１，４−ビス（３−メルカプトブチリルオキシ）ブタンが挙げられる。
【００４７】
上記連鎖移動剤の使用量は、上記共重合に使用する全モノマー１００重量部に対して、通常は０．１〜１０重量部程度である。
【００４８】
≪アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）の物性≫
アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）の重量平均分子量（以下「Ｍｗ」ともいう。）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（以下「ＧＰＣ」ともいう。）により測定したポリスチレン換算値で、好ましくは５０００〜１０００００、より好ましくは１００００〜８００００である。Ｍｗは、上述のモノマー（Ｃ１）および（Ｃ２）の共重合割合、組成、連鎖移動剤、重合温度などの条件を適宜選択することにより制御することができる。Ｍｗが前記範囲よりも低いと、現像後の膜荒れが発生しやすくなる。また、Ｍｗが前記範囲を超えると、現像液に対する未露光部の感光性樹脂層の溶解性が低下し、解像度が低下する場合がある。
【００４９】
アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）のガラス転移温度（Ｔｇ）は、好ましくは０〜１２０℃、より好ましくは１０〜１００℃である。ガラス転移温度が前記範囲よりも低いと、塗膜にタックを生じやすく、ハンドリングが困難となる傾向にある。また、ガラス転移温度が前記範囲を超えると、感光性樹脂層とガラス基板などの支持体との密着性が悪くなり、後述する転写フィルムを用いる場合には、良好に該樹脂層を転写できないことがある。なお、ガラス転移温度は、アルカリ可溶性官能基含有モノマー（Ｃ１）、（メタ）アクリル酸誘導体（Ｃ２）の量を変更することによって適宜調節することがでる。
【００５０】
アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）の酸価は、好ましくは２０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇ、より好ましくは３０〜１６０ｍｇＫＯＨ／ｇである。酸価が前記範囲よりも低いと、感光性樹脂層の未露光部をアルカリ現像液で除去しにくく、高精細なパターン形成が困難となる傾向にある。また、酸価が前記範囲を超えると、露光光によって硬化した部分もアルカリ現像液に浸食されやすくなり、高精細なパターン形成が困難となる傾向にある。
【００５１】
本発明に係る感光性ペースト組成物において、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）の含有量は、感光性樹脂１００重量％に対して、好ましくは２０〜８０重量％、より好ましくは５０〜７０重量％である。アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）の含有量が前記範囲にあると、感光性ペースト組成物における上記無機粒子の分散性、およびパターンの現像性に優れる。
【００５２】
《多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）》
多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）としては、例えば、アリル化シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート、２，５−ヘキサンジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メタ）アクリレート、メトキシ化シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリグリセロールジ（メタ）アクリレートなどのジ（メタ）アクリレート類；
ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン（エチレンオキサイド変性）トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン（プロピレンオキサイド変性）トリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ベンジルメルカプタントリ（メタ）アクリレートなどの３官能以上の（メタ）アクリレート類；
上記化合物中の芳香環の水素原子のうち、１〜５個を塩素または臭素原子に置換したモノマーが挙げられる。これらの中では、ジ（メタ）アクリレート類が好ましい。多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００５３】
本発明に係る感光性ペースト組成物において、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）の含有量は、露光光に対する感度の点から、感光性樹脂１００重量％に対して、好ましくは１０重量％以上、より好ましくは１５〜６０重量％の範囲にある。多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）の含有量が前記範囲を超えると、例えば焼成後のパターンの形状が劣化することがある。
【００５４】
なお、本発明に係る目的を損なわない範囲で、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）とともに、スチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、塩素化スチレン、臭素化スチレン、α−メチルスチレン、塩素化α−メチルスチレン、臭素化α−メチルスチレン、クロロメチルスチレン、ヒドロキシメチルスチレン、カルボシキメチルスチレン、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン、ビニルカルバゾール、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、１−ビニル−２−ピロリドンなどを用いてもよい。
【００５５】
《光重合開始剤（Ｅ）》
光重合開始剤（Ｅ）としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニル−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、４−アジドベンザルアセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、１−クロロ−４−プロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、メチレンアントロン、ジベンゾスベロン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサノン、ミヒラーケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１，２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２，２'−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、カ
ンファーキノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−３−エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシムなどのカルボニル化合物；
ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイドなどのアシルフォスフィンオキサイド系化合物；
ベンジルジメチルケタノール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、Ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、四臭素化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイン、および、エオシンやメチレンブルーなどの光還元性の色素とアスコルビン酸やトリエタノールアミンなどの還元剤との組み合せが挙げられる。これらの光重合開始剤は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００５６】
また、上記光重合開始剤とともに、感光性樹脂層の露光感度を向上させるために、増感
剤を用いてよい。前記増感剤としては、例えば、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、１−クロロ−４−プロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，３−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミニベンザル）シクロヘキサノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）−４−メチルシクロヘキサノン、ミヒラーケトン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）−ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジメチルアミノ）カルコン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）カルコン、ｐ−ジメチルアミノシンナミリデンインダノン、ｐ−ジメチルアミノベンジリデンインダノン、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニルビニレン）−イソナフトチアゾール、１，３−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）アセトン、１，３−カルボニル−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）アセトン、３，３−カルボニル−ビス（７−ジエチルアミノクマリン）、Ｎ−フェニル−Ｎ−エチルエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、Ｎ−トリルジエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、ジエチルアミノ安息香酸イソアミル、３−フェニル−５−ベンゾイルチオテトラゾール、１−フェニル−５−エトキシカルボニルチオテトラゾールが挙げられる。前記増感剤は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。なお、前記増感剤の中には光重合開始剤としても作用するものがある。
【００５７】
本発明に係る感光性組成物において、光重合開始剤（Ｅ）（増感剤も用いる場合は、光重合開始剤と増感剤との合計）の含有量は、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）１００重量部に対して、好ましくは１〜５０重量部、より好ましくは２〜４０重量部である。光重合開始剤（Ｅ）の含有量が前記範囲を超えると、例えば焼成後のパターンの形状が劣化することがある。
【００５８】
《溶剤（Ｆ）》
溶剤（Ｆ）は、ジヒドロターピネオールおよびテキサノールから選択される少なくとも１種の溶剤である。このような特定の溶剤を用いることにより、（１）高粘度のポリマー溶液を作製可能となり、（２）硬化により得られる重合体の分子量が揃い、現像特性が安定となる。一方、ジヒドロターピネオールの水素添加前のターピネオールを用いると、高粘度溶液を得ることができるが、ターピネオール構造に由来する分子量調整剤効果のため、硬化により得られる重合体の分子量がロットにより揃わず、現像特性が安定しない。
【００５９】
本発明において、感光性組成物に対して、溶剤（Ｆ）は１０〜５０重量％の量で含まれることが好ましく、１５〜５０重量％の量で含まれることがより好ましく、２０〜５０重量％の量で含まれることがさらに好ましい。
【００６０】
《添加剤》
本発明に係る感光性組成物は、紫外線吸収剤、重合禁止剤、酸化防止剤、密着助剤、溶解促進剤、増感助剤、可塑剤、増粘剤、分散剤、無機粒子および感光性樹脂の沈降防止剤、レベリング剤などの添加剤を含んでいてもよい。
【００６１】
≪紫外線吸収剤≫
本発明に係る感光性組成物には、紫外線吸収剤を添加してもよい。紫外線吸収効果の高い化合物を添加することによって、高アスペクト比、高精細、高解像度のパターンが得られる。紫外線吸収剤としては、有機系染料および無機顔料を用いることができ、中でも３５０〜４５０ｎｍの波長範囲で高い紫外線吸収係数を有する有機系染料および無機顔料が好ましく用いられる。
【００６２】
具体的には、アゾ系染料、アミノケトン系染料、キサンテン系染料、キノリン系染料、アミノケトン系染料、アントラキノン系染料、ベンゾフェノン系染料、ジフェニルシアノ
アクリレート系染料、トリアジン系染料、ｐ−アミノ安息香酸系染料などの有機系染料；酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウムなどの無機顔料が挙げられる。
【００６３】
上記無機顔料は、ガラス粉末（Ｂ）１００重量部に対して、好ましくは０．００１〜５重量部、より好ましくは０．０１〜１重量部の範囲となる量で添加することができる。無機顔料の添加量が前記範囲未満では紫外線吸収剤の添加効果が減少し、前記範囲を超えると紫外線吸収剤の効果が大きく、感光性樹脂層の底部まで光が届かなくなり、パターンを形成できなくなることや成膜強度が保てないことがある。
【００６４】
≪重合禁止剤≫
本発明に係る感光性組成物には、保存時の熱安定性を向上させるために、重合禁止剤を添加してもよい。重合禁止剤としては、例えば、ヒドロキノン、ヒドロキノンのモノエステル化物、Ｎ−ニトロソジフェニルアミン、フェノチアジン、ｐ−ｔ−ブチルカテコール、Ｎ−フェニルナフチルアミン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−メチルフェノール、クロラニール、ピロガロールが挙げられる。重合禁止剤は、前記組成物中に、好ましくは０．００１〜１重量％の範囲となる量で添加することができる。
【００６５】
≪酸化防止剤≫
本発明に係る感光性組成物には、保存時における感光性樹脂の酸化を防止するために、酸化防止剤を添加してもよい。酸化防止剤としては、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ−４−エチルフェノール、２，２−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２−メチレン−ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル−４−ヒドロキシ−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、ビス［３，３−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアシッド］グリコールエステル、ジラウリルチオジプロピオナート、トリフェニルホスファイトが挙げられる。酸化防止剤は、前記組成物中に、好ましくは０．００１〜１重量％の範囲となる量で添加することができる。
【００６６】
≪密着助剤≫
本発明に係る感光性組成物には、感光性樹脂層とガラス基板などの支持体との密着性を向上させるために、密着助剤を添加してもよい。密着助剤としては、シラン化合物が好適に用いられる。
【００６７】
シラン化合物の具体例としては、ｎ−プロピルジメチルメトキシシラン、ｎ−ブチルジメチルメトキシシラン、ｎ−デシルジメチルメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジメチルメトキシシラン、ｎ−イコサンジメチルメトキシシラン、ｎ−プロピルジエチルメトキシシラン、ｎ−ブチルジエチルメトキシシラン、ｎ−デシルジエチルメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジエチルメトキシシラン、ｎ−イコサンジエチルメトキシシラン、
ｎ−ブチルジプロピルメトキシシラン、ｎ−デシルジプロピルメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジプロピルメトキシシラン、ｎ−イコサンジプロピルメトキシシラン、ｎ−プロピルジメチルエトキシシラン、ｎ−ブチルジメチルエトキシシラン、ｎ−デシルジメチルエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジメチルエトキシシラン、ｎ−イコサンジメチルエトキシシラン、ｎ−プロピルジエチルエトキシシラン、ｎ−ブチルジエチルエトキシシラン、ｎ−デシルジエチルエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジエチルエトキシシラン、
ｎ−イコサンジエチルエトキシシラン、ｎ−ブチルジプロピルエトキシシラン、ｎ−デシルジプロピルエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジプロピルエトキシシラン、ｎ−イコサンジプロピルエトキシシラン、ｎ−プロピルジメチルプロポキシシラン、ｎ−ブチルジメチルプロポキシシラン、ｎ−デシルジメチルプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジメ
チルプロポキシシラン、ｎ−イコサンジメチルプロポキシシラン、ｎ−プロピルジエチルプロポキシシラン、ｎ−ブチルジエチルプロポキシシラン、ｎ−デシルジエチルプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジエチルプロポキシシラン、ｎ−イコサンジエチルプロポキシシラン、ｎ−ブチルジプロピルプロポキシシラン、ｎ−デシルジプロピルプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジプロピルプロポキシシラン、ｎ−イコサンジプロピルプロポキシシラン、ｎ−プロピルメチルジメトキシシラン、ｎ−ブチルメチルジメトキシシラン、
ｎ−デシルメチルジメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルメチルジメトキシシラン、ｎ−イコサンメチルジメトキシシラン、ｎ−プロピルエチルジメトキシシラン、ｎ−ブチルエチルジメトキシシラン、ｎ−デシルエチルジメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルエチルジメトキシシラン、ｎ−イコサンエチルジメトキシシラン、ｎ−ブチルプロピルジメトキシシラン、ｎ−デシルプロピルジメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルプロピルジメトキシシラン、ｎ−イコサンプロピルジメトキシシラン、ｎ−プロピルメチルジエトキシシラン、
ｎ−ブチルメチルジエトキシシラン、ｎ−デシルメチルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルメチルジエトキシシラン、ｎ−イコサンメチルジエトキシシラン、ｎ−プロピルエチルジエトキシシラン、ｎ−ブチルエチルジエトキシシラン、ｎ−デシルエチルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルエチルジエトキシシラン、ｎ−イコサンエチルジエトキシシラン、ｎ−ブチルプロピルジエトキシシラン、ｎ−デシルプロピルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルプロピルジエトキシシラン、ｎ−イコサンプロピルジエトキシシラン、
ｎ−プロピルメチルジプロポキシシラン、ｎ−ブチルメチルジプロポキシシラン、ｎ−デシルメチルジプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルメチルジプロポキシシラン、ｎ−イコサンメチルジプロポキシシラン、ｎ−プロピルエチルジプロポキシシラン、ｎ−ブチルエチルジプロポキシシラン、ｎ−デシルエチルジプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルエチルジプロポキシシラン、ｎ−イコサンエチルジプロポキシシラン、ｎ−ブチルプロピルジプロポキシシラン、ｎ−デシルプロピルジプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルプロピルジプロポキシシラン、ｎ−イコサンプロピルジプロポキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｎ−デシルトリメトキシシラン、
ｎ−ヘキサデシルトリメトキシシラン、ｎ−イコサントリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ｎ−ブチルトリエトキシシラン、ｎ−デシルトリエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリエトキシシラン、ｎ−イコサントリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリプロポキシシラン、ｎ−ブチルトリプロポキシシラン、ｎ−デシルトリプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリプロポキシシラン、ｎ−イコサントリプロポキシシラン、
ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチリデン）−３−（トリエトキシシリル）−１−プロパンアミン、Ｎ，Ｎ'−ビス−［３−（トリメトキシシリル）プロピル］
エチレンジアミンが挙げられる。これらは１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００６８】
密着助剤は、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）１００重量部に対して、好ましくは０．０５〜１５重量部、より好ましくは０．１〜１０重量部の範囲となる量で添加することができる。
【００６９】
≪溶解促進剤≫
本発明に係る感光性組成物は、後述する現像液への充分な溶解性を発現させる目的で、溶解促進剤を含有することが好ましい。溶解促進剤としては、界面活性剤が好ましく用いられる。前記界面活性剤としては、例えば、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性
剤、ノニオン系界面活性剤、脂肪酸が挙げられる。
【００７０】
上記フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、ＢＭ ＣＨＩＭＩＥ社製「ＢＭ−１０００」、「ＢＭ−１１００」；大日本インキ化学工業（株）製「メガファックＦ１４２Ｄ」、「同Ｆ１７２」、「同Ｆ１７３」、「同Ｆ１８３」；住友スリーエム（株）製「フロラードＦＣ−１３５」、「同ＦＣ−１７０Ｃ」、「同ＦＣ−４３０」、「同ＦＣ−４３１」；旭硝子（株）製「サーフロンＳ−１１２」、「同Ｓ−１１３」、「同Ｓ−１３１」、「同Ｓ−１４１」、「同Ｓ−１４５」、「同Ｓ−３８２」、「同ＳＣ−１０１」、「同ＳＣ−１０２」、「同ＳＣ−１０３」、「同ＳＣ−１０４」、「同ＳＣ−１０５」、「同ＳＣ−１０６」が挙げられる。
【００７１】
上記シリコーン系界面活性剤の市販品としては、例えば、東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製「ＳＨ−２８ＰＡ」、「ＳＨ−１９０」、「ＳＨ−１９３」、「ＳＺ−６０３２」、「ＳＦ−８４２８」、「ＤＣ−５７」、「ＤＣ−１９０」；信越化学工業（株）製「ＫＰ３４１」；新秋田化成（株）製「エフトップＥＦ３０１」、「同ＥＦ３０３」、「同ＥＦ３５２」が挙げられる。
【００７２】
上記ノニオン系界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテルなどのポリオキシエチレンアルキルエーテル類；ポリオキシエチレンジスチレン化フェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルなどのポリオキシアルキレンアリールエーテル類；ポリオキシエチレンジラウレート、ポリオキシエチレンジステアレートなどのポリオキシエチレンジアルキルエステル類が挙げられる。
【００７３】
上記ノニオン系界面活性剤の市販品としては、例えば、花王（株）製「エマルゲンＡ−６０」、「Ａ−９０」、「Ａ−５５０」、「Ｂ−６６」、「ＰＰ−９９」；共栄社化学（株）製「（メタ）アクリル酸系共重合体ポリフローＮｏ．５７」、「同Ｎｏ．９０」が挙げられる。
【００７４】
上記脂肪酸としては、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ぺラルゴン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、パルミトイル酸、マルガリン酸、ステアリン酸、オレイン酸、バクセン酸、リノール酸、リノレン酸、ノナデカン酸、アラキジン酸、アラキドン酸、ベヘン酸、リグノセレン酸、ネルボン酸、セロチン酸、モンタン酸、メリシン酸が挙げられる。
【００７５】
上記界面活性剤の中では、現像時に感光性樹脂層の未露光部の除去が容易であることから、ノニオン系界面活性剤が好ましく、ポリオキシアルキレンアリールエーテル類がより好ましく、特に下記式（１）で表される化合物が好ましい。
【００７６】
【化１】
【００７７】
上記式（１）中、Ｒ1は炭素数１〜５のアルキル基、好ましくはメチル基であり、ｐは１
〜５の整数であり、ｓは１〜５の整数、好ましくは２であり、ｔは１〜１００の整数、好ましくは１０〜２０の整数である。
【００７８】
本発明に係る感光性組成物において、上記溶解促進剤の含有量は、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）１００重量部に対して、好ましくは０．００１〜２０重量部、より好ましくは０．０１〜１５重量部、特に好ましくは０．１〜１０重量部である。溶解促進剤の含有量が前記範囲にあることにより、現像液への溶解性に優れた組成物が得られる。
【００７９】
＜感光性組成物の調製＞
本発明に係る感光性組成物は、必須成分として金属粉末（Ａ）、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）、光重合開始剤（Ｅ）および溶剤（Ｆ）、任意成分としてガラス粉末（Ｂ）などの上述の各種成分を所定の組成比となるように調合した後、３本ロールや混練機で均質に混合分散して調製される。
【００８０】
本発明に係る感光性組成物の２５℃、ずり速度１０ｓ-1における粘度は、１０００〜５００００ｃＰ（センチ・ポイズ）であることが好ましく、２０００〜３００００ｃＰであることがより好ましい。粘度が前記範囲にある感光性組成物は、量産性に優れる。粘度は、上記無機粒子、増粘剤、有機溶剤、可塑剤および沈殿防止剤などの添加量によって適宜調整することができる。
【００８１】
〔電極の製造方法〕
本発明に係る電極の製造方法は、上記感光性組成物を用いて、フォトリソグラフィー法によりパターン形成することを特徴とする。前記製造方法は、上記感光性組成物からなる感光性樹脂層を基板上に形成する工程（感光性樹脂層形成工程）、該樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程（露光工程）、該樹脂層を現像処理してパターンを形成する工程（現像工程）、および該パターンを焼成処理する工程（焼成工程）を含むことが好ましい。
【００８２】
本発明に係る電極の製造方法は、ＦＰＤなどの電極の製造に好ましく適用される。特に、上記各工程を有する本発明に係る電極の製造方法は、ＰＤＰを製造する際に好ましく採用することができる。
【００８３】
また、上記各工程を有するパターン形成方法により、電極に限らず、ディスプレイパネルの部材、電子部品の回路パターンおよび太陽電池の配線パターンなどを形成することができる。
【００８４】
＜感光性樹脂層形成工程＞
本工程では、上記感光性組成物からなる感光性樹脂層を基板上に形成する。感光性樹脂層の形成方法としては、例えば、（i）上記感光性組成物を基板上に塗布して塗膜を形成
し、該塗膜を乾燥させて形成する方法、（ii）上記感光性組成物を支持フィルム上に塗布して塗膜を形成し、該塗膜を乾燥させて得られる感光性樹脂層を有する転写フィルムを用いて、基板上に該樹脂層を転写する方法が挙げられる。
【００８５】
（i）上記感光性組成物を基板上に塗布する方法としては、膜厚が大きく（例えば２０
μｍ以上）、かつ均一性に優れた塗膜を効率よく形成することができる方法であれば特に限定されない。例えば、ナイフコータによる塗布方法、ロールコータによる塗布方法、ドクターブレードによる塗布方法、カーテンコータによる塗布方法、ダイコータによる塗布方法、ワイヤーコータによる塗布方法、スクリーン印刷装置によるスクリーン印刷法が挙げられる。
【００８６】
塗膜の乾燥条件は、乾燥後における溶剤の残存割合が２重量％以内となるように適宜調整すればよく、例えば、乾燥温度が５０〜１５０℃、乾燥時間が０．５〜６０分程度である。
【００８７】
上記のようにして形成された感光性樹脂層の厚みは、通常は３〜３００μｍ、好ましくは５〜２００μｍである。なお、上記組成物の塗布をｎ回繰り返すことで、ｎ層（ｎは２以上の整数を示す。）の感光性樹脂層を有する積層体を形成してもよい。
【００８８】
（ii）上記感光性樹脂層を有する転写フィルムを用いた転写工程の一例を以下に示す。基板の表面に感光性樹脂層の表面が当接するように転写フィルムを重ね合わせ、該転写フィルムを加熱ローラなどにより熱圧着した後、該樹脂層から支持フィルムを剥離除去する。これにより、基板の表面に感光性樹脂層が転写されて密着した状態となる。
【００８９】
上記支持フィルムは、耐熱性および耐溶剤性を有するとともに可撓性を有する樹脂フィルムであることが好ましい。支持フィルムを形成する樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリフロロエチレンなどの含フッ素樹脂、ナイロン、セルロースが挙げられる。
【００９０】
転写条件としては、例えば、加熱ローラの表面温度が１０〜２００℃、加熱ローラによるロール圧が０．５〜１０ｋｇ／ｃｍ2、加熱ローラの移動速度が０．１〜１０ｍ／分で
ある。また、上記基板は予熱されていてもよく、その予熱温度は、例えば４０〜１４０℃である。
【００９１】
本発明で用いられる基板としては、例えば、ガラス、セラミック、シリコン、ポリカーボネート、ポリエステル、芳香族アミド、ポリアミドイミド、ポリイミドなどの絶縁性材料からなる板状部材が挙げられる。これらの中では、耐熱性を有するガラス基板を用いることが好ましい。
【００９２】
＜露光工程＞
上記感光性樹脂層形成工程により基板上に感光性樹脂層を形成した後、露光装置を用いて露光を行う。具体的には、感光性樹脂層の表面に、露光用マスクを介して、紫外線などの露光光を選択的に照射して、該樹脂層にパターンの潜像を形成する。
【００９３】
露光は通常のフォトリソグラフィーで行われるように、フォトマスクを用いてマスク露光する方法を採用することができる。前記フォトマスクの露光パターンは、目的によって異なるが、例えば１０〜５００μｍ幅のストライプまたは格子である。
【００９４】
また、フォトマスクを用いずに、赤色や青色の可視光レーザー、Ａｒイオンレーザーなどで直接描画する方法を用いてもよい。
【００９５】
露光装置としては、平行光露光機、散乱光露光機、ステッパー露光機、プロキシミティ露光機などを用いることができる。また、大面積の露光を行う場合は、ガラス基板などの基板上に感光性樹脂層を形成した後に、該基板を搬送しながら露光を行うことによって、小さな露光面積の露光機で、大きな面積を露光することができる。
【００９６】
露光光としては、例えば、可視光線、近紫外線、紫外線、電子線、Ｘ線、レーザー光が挙げられるが、これらの中では紫外線が好ましく、その光源としては、例えば、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプが挙げられる。これらの中では超高圧水銀灯が好適である。
【００９７】
露光条件は、塗布厚みによって異なるが、１〜１００ｍＷ／ｃｍ2出力の超高圧水銀灯
を用いて０．０５〜１分間露光を行うことが好ましい。この場合、波長フィルターを用いて光の波長領域を狭くすることによって、光の散乱を抑制し、パターン形成性を向上させることができる。具体的には、ｉ線（３６５ｎｍ）の光をカットするフィルター、あるいは、ｉ線およびｈ線（４０５ｎｍ）の光をカットするフィルターを用いて、パターン形成性を向上させることができる。
【００９８】
＜現像工程＞
上記露光後、露光部分と非露光部分との現像液に対する溶解度差を利用して、感光性樹脂層を現像して該樹脂層のパターンを形成する。現像方法（例えば、浸漬法、揺動法、シャワー法、スプレー法、パドル法、ブラシ法など）および現像処理条件（例えば、現像液の種類・組成・濃度、現像時間、現像温度など）などは、感光性樹脂層の種類に応じて適宜選択、設定すればよい。
【００９９】
現像工程で用いられる現像液としては、感光性樹脂層中の感光性樹脂を溶解可能な有機溶媒が使用できる。また、前記有機溶媒にその溶解力が失われない範囲で水を添加してもよい。感光性樹脂層中にカルボキシル基などの酸性基を持つ化合物が存在する場合、アルカリ水溶液で現像できる。
【０１００】
本発明においては、感光性樹脂層に上記無機粒子が含まれているが、上記無機粒子はアルカリ可溶性樹脂（Ｃ）により均一に分散されている。このため、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）を現像液で溶解させて洗浄することにより、上記無機粒子も同時に除去される。
【０１０１】
上記アルカリ水溶液としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸二水素カリウム、リン酸二水素ナトリウム、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ホウ酸リチウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、アンモニア水溶液、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシド、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンが挙げられる。
【０１０２】
上記アルカリ水溶液のアルカリ濃度は、通常は０．０１〜１０重量％、より好ましくは０．１〜５重量％である。アルカリ濃度が低すぎると、可溶部が除去されないことがある。また、アルカリ濃度が高すぎると、パターン部を剥離させ、また非可溶部を腐食するおそれがある。
【０１０３】
また、現像時の現像温度は、２０〜５０℃で行うことが工程管理上好ましい。
【０１０４】
上記アルカリ水溶液には、上述のノニオン系界面活性剤などの添加剤が含有されていてもよい。なお、アルカリ現像液による現像処理がなされた後は、通常は水洗処理が施される。
【０１０５】
＜焼成工程＞
上記現像後の感光性樹脂層残留部（該樹脂層のパターン）に含まれる有機物質を焼失させるために、焼成炉にて該樹脂層のパターンを焼成処理する。
【０１０６】
焼成雰囲気は、感光性組成物や基板の種類によって異なるが、空気、オゾン、窒素、水素などの雰囲気中で焼成する。焼成炉としては、バッチ式の焼成炉やベルト式の連続型焼成炉を用いることができる。
【０１０７】
焼成処理条件は、パターン中の有機物質が焼失されることが必要であるため、通常は焼成温度が３００〜１０００℃、焼成時間が１０〜９０分間である。例えば、ガラス基板上にパターン形成する場合は、３５０〜６００℃の温度で１０〜６０分間保持して焼成を行うことが好ましい。
【０１０８】
＜加熱工程＞
上記感光性樹脂層形成、露光、現像、焼成の各工程中に、乾燥または予備反応の目的で、５０〜３００℃の加熱工程を導入してもよい。
【実施例】
【０１０９】
以下、実施例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は、これらの実施例により何ら限定されるものではない。なお、実施例および比較例における「部」および「％」は、特に断りのない限り、それぞれ「重量部」および「重量％」を示す。
【０１１０】
まず、物性の測定方法および評価方法について説明する。
【０１１１】
〔重量平均分子量（Ｍｗ）および重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）（以下「Ｍｗ／Ｍｎ」ともいう。）の測定方法〕
ＭｗおよびＭｗ／Ｍｎは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）（東ソー（株）製「ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ」）により測定したポリスチレン換算の値である。なお、ＧＰＣ測定は、ＧＰＣカラムとして東ソー（株）製「ＴＳＫｇｕａｒｄｃｏｌｕｍｎ ＳｕｐｅｒＨＺＭ−Ｍ」を用い、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）溶媒、測定温度４０℃の条件で行った。
【０１１２】
〔粘度の測定方法〕
感光性組成物の粘度は、東機産業（株）製の「ＶＩＳＣＯＭＡＴＥ ＶＭ−１５０III
ＴＶ−３３型粘度計コーンプレートタイプ、測定レンジＵ（フルスケールトルク：５７
４９．６１μＮ・ｍ）、ロータ名称：３°×Ｒ１２」により、２５℃、ずり速度１０ｓ-1において測定した値である。
【０１１３】
〔ガラス粉末（Ｂ）の軟化点の測定方法〕
ガラス粉末（Ｂ）を試料ホルダーに封入し、示差走査熱量計（ＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製 ２９２０ＮＤＳＣ）を用い、窒素雰囲気下に１０℃／分で３０℃から７００℃まで昇温して、得られた吸熱ピークトップの温度をガラス粉末（Ｂ）の軟化点とした。
【０１１４】
〔体積抵抗の測定方法〕
体積抵抗（μΩ・ｃｍ）は、感光性組成物をガラス基板（１５０ｍｍ×１５０ｍｍ×１．８ｍｍ）上に塗布・焼成して膜厚１０μｍの塗膜を形成して、これをＮＰＳ社製の「Ｒｅｓｉｓｔｉｖｉｔｙ Ｐｒｏｃｃｅｓｓｏｒ ＭｏｄｅｌΣ−５」により測定した値である。
【０１１５】
〔現像後および焼成後のパターンの評価方法〕
現像後および焼成後の試験片を切断して、パターン切断面を走査型電子顕微鏡（日立製作所製「Ｓ４３００」）で観察してパターンの幅および高さを計測し、それぞれを下記基準で評価した。なお、所望の規格は、パターンの幅が５０μｍ、高さが１０μｍ、間隔が１００μｍである。
Ａ：所望の規格のもの。
Ｂ：所望の規格±３μｍ以内のもの。
Ｃ：所望の規格±３μｍを超えて±５μｍ以内のもの。
Ｄ：所望の規格±５μｍを超えるもの。
【０１１６】
〔焼成後のパターンの密着性の評価方法〕
焼成後の試験片に対して、パターンと支持体であるガラス基板との密着性評価を、以下のようにして行った。なお、所望の規格は、パターンの幅が５０μｍ、高さが１０μｍ、間隔が１００μｍである。
【０１１７】
セロテープ（登録商標）（ニチバン社製）を支持体表面（パターン形成面）に加熱ローラにより熱圧着した。圧着条件は、加熱ローラの表面温度を２３℃、ロール圧を４ｋｇ／ｃｍ2、加熱ローラの移動速度を０．５ｍ／分とした。これにより、支持体表面（パター
ン形成面）にセロテープ（登録商標）が転写されて密着した状態となった。このセロテープ（登録商標）を支持体より剥離することで、パターンと支持体との密着性評価を行った。
○：パターン剥がれなし。
×：パターン剥がれあり。
【０１１８】
〔合成例１〕
２−ヒドロキシエチルメタクリレート１５ｇ、メタクリル酸１５ｇ、ｎ−ブチルメタクリレート４０ｇ、２−エチルヘキシルメタクリレート３０ｇ、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）１ｇ、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）（堺化学工業（株）製）１ｇを攪拌機付きオートクレーブに仕込み、窒素雰囲気下において、ジヒドロターピネオール１５０ｇ中で均一になるまで攪拌した。
【０１１９】
次いで、上記単量体を８０℃で４時間重合させ、さらに１００℃で１時間重合させた後、室温まで冷却してアルカリ可溶性樹脂（１）を得た。このアルカリ可溶性樹脂（１）の重合率は９８％であり、アルカリ可溶性樹脂（１）の重量平均分子量は２００００（Ｍｗ／Ｍｎ＝２）であった。
【０１２０】
〔合成例２〕
合成例１において、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）に代えてトリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）（堺化学工業（株）製）１ｇを使用したこと以外は合成例１と同様にして、アルカリ可溶性樹脂（２）を得た。このアルカリ可溶性樹脂（２）の重合率は９８％であり、アルカリ可溶性樹脂（２）の重量平均分子量は２２０００（Ｍｗ／Ｍｎ＝２）であった。
【０１２１】
〔合成例３〕
合成例１において、ジヒドロターピネオールに代えてテキサノールを使用したこと以外は合成例１と同様にして、アルカリ可溶性樹脂（３）を得た。このアルカリ可溶性樹脂（３）の重合率は９９％であり、アルカリ可溶性樹脂（３）の重量平均分子量は２５０００（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．５）であった。
【０１２２】
〔合成例４〕
合成例３において、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）に代えてジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）（堺化学工業（株）製）１ｇを使用したこと以外は合成例３と同様にして、アルカリ可溶性樹脂（４）を得た。このアルカリ可溶性樹脂（４）の重合率は９９％であり、アルカリ可溶性樹脂（４）の重量平均分子量は３００００（Ｍｗ／Ｍｎ＝３）であった。
【０１２３】
〔合成例５〕
合成例１において、ジヒドロターピネオールに代えてプロピレングリコールモノエチルエーテル１５０ｇを使用したこと以外は合成例１と同様にして、アルカリ可溶性樹脂（５）を得た。このアルカリ可溶性樹脂（５）の重合率は９９％であり、アルカリ可溶性樹脂（５）の重量平均分子量は２００００（Ｍｗ／Ｍｎ＝２）であった。
【０１２４】
〔調製例１〕
アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）としてアルカリ可溶性樹脂（Ｃ１）２０％、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）としてデカンジオールジアクリレート１０％、光重合開始剤（Ｅ）として２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパン−１−オン２％、増感剤として２，４−ジエチルチオキサントン０．５％、酸化防止剤として２，６−ジｔ−ブチル−４−メチルフェノール２％、溶剤（Ｆ）としてジヒドロターピネオール６５．５％となる割合で各成分を混合して、感光性樹脂（１）を調製した。
【０１２５】
〔調製例２〜５〕
調製例１において、表３に示す組成および割合で各成分を混合したこと以外は調製例１と同様にして、感光性樹脂（２）〜（５）を調製した。
【０１２６】
［実施例１］
金属粉末（Ａ）として表１に示すアルミニウム粉末（Ａ１）２０ｇ、ガラス粉末（Ｂ）として表２に示すガラス粉末（Ｂ１）５ｇ、感光性樹脂として表３に示す感光性樹脂（１）７５ｇを混練機で混練して、感光性組成物を調製した。
【０１２７】
上記感光性組成物を３２５メッシュのスクリーンを用いてガラス基板（１５０ｍｍ×１５０ｍｍ×１．８ｍｍ）上に１００ｍｍ角の大きさに印刷し、１００℃で２０分間保持・乾燥して感光性樹脂層を形成した。前記感光性樹脂層の膜厚は１０μｍ±１μｍの範囲にあった。
【０１２８】
次に、ネガ型クロムマスク（パターン幅５０μｍ、パターン間隔１００μｍ）を用いて、２５ｍＷ／ｃｍ2出力の超高圧水銀灯により、上記感光性樹脂層を上面から紫外線露光
した。露光量は１００ｍＪ／ｃｍ2であった。
【０１２９】
次に、２３℃に保持した炭酸ナトリウムの０．５％水溶液を露光後の感光性樹脂層にシャワーで６０秒間かけることにより、該樹脂層を現像した。その後、シャワースプレーを用いて水洗浄した。これにより、光硬化していない非露光部分を除去してガラス基板上に格子状のパターンを形成した。この現像後のパターンを上記評価方法により評価した。結果を表４に示す。
【０１３０】
次に、得られたパターンを５８０℃で３０分間焼成して電極パターンを形成した。この焼成後の電極パターンを上記評価方法により評価した。結果を表４に示す。
【０１３１】
［実施例２〜１２］
実施例１において、表４に示す組成の感光性組成物を調製したこと以外は実施例１と同様にして、ガラス基板上に感光性樹脂層、パターンおよび電極パターンを形成した。得られたパターンおよび電極パターンを上記評価方法により評価した。結果を表４に示す。
【０１３２】
［実施例１３］
金属粉末（Ａ）として表１に示すアルミニウム粉末（Ａ１）２７ｇ、ガラス粉末（Ｂ）として表２に示すガラス粉末（Ｂ１）３ｇ、感光性樹脂として表３に示す感光性樹脂（１
）７０ｇを混練機で混練して、感光性組成物を調製した。
【０１３３】
支持フィルムとして、予め離型処理したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（幅２００ｍｍ、長さ３０ｍ、厚さ５０μｍ）を２枚用意し、一方の支持フィルムの上に、上記感光性組成物をロールコーターにより塗布して塗膜を形成し、形成された塗膜を１２０℃で２０分間乾燥して溶媒を除去することにより、厚さ１０μｍの感光性樹脂層を形成した。
【０１３４】
次に、もう一方の支持フィルムを上記感光性樹脂層と貼り合せて、加熱ローラにより熱圧着した。圧着条件は、加熱ローラの表面温度を９０℃、ロール圧を４ｋｇ／ｃｍ2、加
熱ローラの移動速度を０．５ｍ／分とした。このようにして、膜厚１０μｍの感光性樹脂層を有する転写フィルムを作製した。
【０１３５】
次に、上記転写フィルムから一方の支持フィルムを剥離して、ガラス基板（１５０×１５０×１．８ｍｍ）の表面に上記感光性樹脂層を重ね合わせ、残りの支持フィルムを剥離した後、感光性樹脂層を加熱ローラにより熱圧着した。圧着条件は、加熱ローラの表面温度を９０℃、ロール圧を４ｋｇ／ｃｍ2、加熱ローラの移動速度を０．５ｍ／分とした。
これにより、ガラス基板の表面に感光性樹脂層が転写されて密着した状態となった。転写された感光性樹脂層の膜厚を測定したところ、１０μｍ±１μｍの範囲にあった。
【０１３６】
次に、ネガ型クロムマスク（パターン幅５０μｍ、パターン間隔１００μｍ）を用いて、２５ｍＷ／ｃｍ2出力の超高圧水銀灯により、上記感光性樹脂層を上面から紫外線露光
した。露光量は５０ｍＪ／ｃｍ2であった。
【０１３７】
次に、２３℃に保持した炭酸ナトリウムの０．５％水溶液を露光後の感光性樹脂層にシャワーで６０秒間かけることにより、該樹脂層を現像した。その後、シャワースプレーを用いて水洗浄した。これにより、光硬化していない非露光部分を除去してガラス基板上に格子状のパターンを形成した。この現像後のパターンを上記評価方法により評価した。結果を表４に示す。
【０１３８】
次に、得られたパターンを５８０℃で３０分間焼成して電極パターンを形成した。この焼成後の電極パターンを上記評価方法により評価した。結果を表４に示す。
【０１３９】
［比較例１〜３］
実施例１において、表４に示す組成の感光性ペーストを調製したこと以外は実施例１と同様にして、ガラス基板上に感光性樹脂層、パターンおよび電極パターンを形成した。得られたパターンおよび電極パターンを上記評価方法により評価した。結果を表４に示す。
【０１４０】
【表１】
【０１４１】
【表２】
【０１４２】
【表３】
【０１４３】
【表４】
【符号の説明】
【０１４４】
１０１・・・ガラス基板
１０２・・・ガラス基板
１０３・・・背面隔壁
１０４・・・透明電極
１０５・・・バス電極
１０６・・・アドレス電極
１０７・・・蛍光体
１０８・・・誘電体層
１０９・・・誘電体層
１１０・・・保護層
１１１・・・前面隔壁
２０１・・・ガラス基板
２０２・・・ガラス基板
２０３・・・絶縁層
２０４・・・透明電極
２０５・・・エミッタ
２０６・・・カソード電極
２０７・・・蛍光体
２０８・・・ゲート
２０９・・・スペーサ
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルミニウム粉末およびアルミニウム合金粉末から選択される少なくとも１種の金属粉末（Ａ）、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）、光重合開始剤（Ｅ）、ならびにジヒドロターピネオールおよびテキサノールから選択される少なくとも１種の溶剤（Ｆ）を含有し、
該金属粉末（Ａ）の５０重量％平均粒子径（Ｄ５０）が１．０〜２０．０μｍであることを特徴とするアルミニウム含有感光性組成物。
【請求項２】
さらにガラス粉末（Ｂ）を含有し、
該ガラス粉末（Ｂ）の５０重量％平均粒子径（Ｄ５０）が０．２〜４．０μｍであり、
最大粒子径Ｄmaxが３０μｍ以下である
ことを特徴とする請求項１に記載のアルミニウム含有感光性組成物。
【請求項３】
請求項２に記載のアルミニウム含有感光性組成物であって、
前記ガラス粉末（Ｂ）が、軟化点が３００〜７００℃であるガラス粉末であり、
該組成物に対して、該ガラス粉末が０．５〜２０重量％の量で含まれる
ことを特徴とするアルミニウム含有感光性組成物。
【請求項４】
請求項１〜３の何れかに記載のアルミニウム含有感光性組成物であって、該組成物に対して、前記金属粉末（Ａ）が２０〜７０重量％の量で含まれることを特徴とするアルミニウム含有感光性組成物。
【請求項５】
２５℃、ずり速度１０ｓ-1における粘度が、１０００〜５００００ｃＰであることを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載のアルミニウム含有感光性組成物。
【請求項６】
請求項１〜５の何れかに記載のアルミニウム含有感光性組成物を用いて、フォトリソグラフィー法によりパターン形成することを特徴とする電極の製造方法。
【請求項１】
アルミニウム粉末およびアルミニウム合金粉末から選択される少なくとも１種の金属粉末（Ａ）、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）、多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）、光重合開始剤（Ｅ）、ならびにジヒドロターピネオールおよびテキサノールから選択される少なくとも１種の溶剤（Ｆ）を含有し、
該金属粉末（Ａ）の５０重量％平均粒子径（Ｄ５０）が１．０〜２０．０μｍであることを特徴とするアルミニウム含有感光性組成物。
【請求項２】
さらにガラス粉末（Ｂ）を含有し、
該ガラス粉末（Ｂ）の５０重量％平均粒子径（Ｄ５０）が０．２〜４．０μｍであり、
最大粒子径Ｄmaxが３０μｍ以下である
ことを特徴とする請求項１に記載のアルミニウム含有感光性組成物。
【請求項３】
請求項２に記載のアルミニウム含有感光性組成物であって、
前記ガラス粉末（Ｂ）が、軟化点が３００〜７００℃であるガラス粉末であり、
該組成物に対して、該ガラス粉末が０．５〜２０重量％の量で含まれる
ことを特徴とするアルミニウム含有感光性組成物。
【請求項４】
請求項１〜３の何れかに記載のアルミニウム含有感光性組成物であって、該組成物に対して、前記金属粉末（Ａ）が２０〜７０重量％の量で含まれることを特徴とするアルミニウム含有感光性組成物。
【請求項５】
２５℃、ずり速度１０ｓ-1における粘度が、１０００〜５００００ｃＰであることを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載のアルミニウム含有感光性組成物。
【請求項６】
請求項１〜５の何れかに記載のアルミニウム含有感光性組成物を用いて、フォトリソグラフィー法によりパターン形成することを特徴とする電極の製造方法。
【図１】
【図２】
【図２】
【公開番号】特開２０１０−１８１４７５（Ｐ２０１０−１８１４７５Ａ）
【公開日】平成２２年８月１９日（２０１０．８．１９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２２７３８（Ｐ２００９−２２７３８）
【出願日】平成２１年２月３日（２００９．２．３）
【出願人】（０００００４１７８）ＪＳＲ株式会社 (3,320)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年８月１９日（２０１０．８．１９）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年２月３日（２００９．２．３）
【出願人】（０００００４１７８）ＪＳＲ株式会社 (3,320)
【Ｆターム（参考）】
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