説明

フレキシブル基板の製造方法

【課題】メッキ不良の発生を抑制できるフレキシブル基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係るフレキシブル基板の製造方法は、第1のフレキシブル基板10aの後端面と第2のフレキシブル基板10bの先端面とを当接させた状態で、導電性接着層20aを設けることにより、導電性接着層20aを介して、第1のフレキシブル基板10aに形成された配線パターン12,16と、第2のフレキシブル基板10bに形成された配線パターン12,16とを電気的に接続する工程と、第1のフレキシブル基板10a及び第2のフレキシブル基板10bを、電極ローラを有するローラ群で移動させつつ電解メッキ槽に浸漬させ、電極ローラから配線パターン12,16に電圧を印加することにより、配線パターン12,14,16上に電解メッキ層を形成する工程とを具備する。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、電解メッキが行われた配線パターンを有するフレキシブル基板の製造方法に関する。特に本発明は、メッキ不良の発生を抑制できるフレキシブル基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
フレキシブル基板に形成された配線パターンの表面に、メッキ層が形成される場合がある。メッキ層を電解メッキで形成する場合、テープ状のフレキシブル基板を複数のローラで移動させつつ電解メッキ層に順次浸漬することにより、フレキシブル基板の配線パターン全てに電解メッキ層を連続して形成する。複数のローラの一部は電極ローラになっており、この電極ローラが配線パターンの一部に接触することにより、配線パターンにメッキ用の電圧が印加される(例えば特許文献1参照)。
【0003】
本方法において生産効率を上げるためには、先行するフレキシブル基板の後端と後続のフレキシブル基板の先端を繋ぐことにより、連続して処理できるフレキシブル基板を長くすることが有効である。
【0004】
図5(A)は、先行するフレキシブル基板110aの後端と後続のフレキシブル基板110bの先端を接続する方法を説明するための平面概略図であり、図5(B)は図5(A)のA−A´断面図である。本図に示す方法は、まずフレキシブル基板110aの後端面とフレキシブル基板110bの先端面を互いに当接させる。この状態において、フレキシブル基板110aに形成されたメッキリード配線112aの端面と、フレキシブル基板110bに形成されたメッキリード配線112aの端面が互いに接触し、導通する。なお、フレキシブル基板110a,110bには、メッキリード配線112a,112bと配線領域に形成された配線パターン114を接続する配線116が形成されているが、フレキシブル基板110a,110bの配線116の端面も互いに接触し、導通する。
【0005】
次いで、フレキシブル基板110aの後端部上からフレキシブル基板110bの先端部上にかけて、絶縁性テープ120を接着させ、フレキシブル基板110aの後端とフレキシブル基板110bの先端を繋ぐ。次いで絶縁性テープ120のうちメッキリード配線112a,112b上に位置する部分を除去する。これは、絶縁性テープ120がメッキリード配線112a,112b上に位置した状態では、電極ローラとメッキリード配線112a,112bの間に絶縁性テープ120が位置するタイミングが発生し、電極ローラからメッキリード配線112a,112bに電圧が印加されなくなってしまう為である。
【0006】
【特許文献1】特開平9−104997号公報(図1)
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
図5に示したフレキシブル基板の接続方法では、先行するフレキシブル基板の配線パターンと後続のフレキシブル基板の配線パターンは、配線パターンの端面で電気的に接続している。このため、フレキシブル基板相互間での配線パターンの接続が不安定になり、メッキ不良が発生する可能性がある。
【0008】
本発明は上記のような事情を考慮してなされたものであり、その目的は、電解メッキが行われた配線パターンを有するフレキシブル基板において、メッキ不良の発生を抑制できるフレキシブル基板の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0009】
上記課題を解決するため、本発明に係るフレキシブル基板の製造方法は、テープ状のフレキシブル基板上に形成された配線パターンにメッキ層を形成するフレキシブル基板の製造方法であって、
上面に配線パターンが形成されている第1のフレキシブル基板の後端面と、上面に配線パターンが形成されている第2のフレキシブル基板の先端面とを当接させた状態で、前記第1のフレキシブル基板の後端部上から、前記第2のフレキシブル基板の先端部上にかけて導電性接着層を設けることにより、該導電性接着層を介して、前記第1のフレキシブル基板上に形成された配線パターンと、前記第2のフレキシブル基板上に形成された配線パターンとを電気的に接続し、かつ前記第1のフレキシブル基板と前記第2のフレキシブル基板を繋ぐ工程と、
前記第1のフレキシブル基板及び前記第2のフレキシブル基板を、電極ローラを有するローラ群で移動させつつ電解メッキ槽に浸漬させ、前記電極ローラから前記配線パターンに電圧を印加することにより、前記配線パターン上に電解メッキ層を形成する工程とを具備する。
【0010】
このフレキシブル基板の製造方法によれば、前記第1のフレキシブル基板の配線パターンの上面と、前記第2のフレキシブル基板の配線パターンの上面は、前記導電性接着層を介して互いに導通する。従って、前記第1のフレキシブル基板と前記第2のフレキシブル基板の接合部分の導通が安定し、その結果、メッキ不良の発生を抑制できる。
【0011】
前記導電性接着層上に形成された導電シートを具備してもよい。この場合、前記導電シートは、前記配線パターンと略同一の材料により形成されているのが好ましい。このようにすると、電解メッキ液に不要な元素が混入して電解メッキ液の品質が劣化することを抑制できる。
【0012】
また前記導電シートを具備し、かつ前記第1のフレキシブル基板及び前記第2のフレキシブル基板それぞれは、前記配線パターンに電気的に接続していて該配線パターンより太い配線であり、前記第1のフレキシブル基板及び前記第2のフレキシブル基板の長手方向に延伸するメッキリード配線を具備する場合、前記導電性接着層及び前記導電シートは、前記メッキリード配線上にも設けられていてもよい。
【発明を実施するための最良の形態】
【0013】
以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。図1は、第1の実施形態に係るフレキシブル基板の製造方法に用いられる電解メッキ装置の構成を説明するための断面図である。本図に示す電解メッキ装置は、フレキシブル基板10の配線パターンに電解メッキ層を形成する装置である。テープ状のフレキシブル基板10は、複数のローラ30及び2つの電極ローラ32によって一方向に移動する。フレキシブル基板10は、移動中にメッキ槽40内に保持されている電解メッキ液44に浸漬する。
【0014】
電解メッキ液44内には電極板42が位置している。フレキシブル基板10の配線パターンには、電極ローラ32によって所定の電圧が印加されている。このため、電解メッキ液44に浸漬している間に、配線パターン及び電極板42の一方がカソードして機能し、かつ他方がアノードとして機能する。その結果、配線パターンの表面に電解メッキ層が形成される。なお、図1に示す例において、電極ローラ32は電解メッキ液44の内部に配置されているが、電解メッキ液44の外部に配置されていても良い。
【0015】
本実施形態において、連続して処理できるフレキシブル基板10を長くして生産効率を上げることを目的として、複数のフレキシブル基板を予め繋いでいる。具体的には、図2に示すように、先行するフレキシブル基板10aの後端と後続のフレキシブル基板10bの先端が予め繋がれている。
【0016】
図2(A)は、フレキシブル基板10aの後端とフレキシブル基板10bの先端を繋ぐ方法を説明するための平面図であり、図2(B)は図2(A)のA−A´断面図である。本図に示す例において、フレキシブル基板10a,10bそれぞれには、半導体チップが実装される領域に位置する配線パターン14が複数形成されている。配線パターン14は、接続用配線16を介してメッキリード配線12に接続されている。メッキリード配線12は、配線パターン14及び接続用配線16より太い。メッキリード配線12の一部は、フレキシブル基板10a,10bの長手方向に延伸している。メッキリード配線12及び接続用配線16は、電極ローラ32から印加された電圧を各配線パターン14に伝達する為に設けられている。
【0017】
まず、フレキシブル基板10aの後端面とフレキシブル基板10bの先端面を、互いに当接して接続部分10cを形成する。接続部分10cにおいて、フレキシブル基板10aが有するメッキリード配線12の端面とフレキシブル基板10bが有するメッキリード配線12の端面は互いに接触し、またフレキシブル基板10aが有する接続用配線16の端面とフレキシブル基板10bが有する接続用配線16の端面は互いに接触する。このため、フレキシブル基板10a,10bそれぞれの配線パターンは、メッキリード配線12及び接続用配線16の端面それぞれで互いに導通する。
【0018】
次いで、接続部分10cを、耐熱性の導電性接着テープ20によって補強する。導電性接着テープ20は、絶縁性のシート状の基材20bに導電性接着層20aを設けたものである。導電性接着層20aは、接着材内に複数の導電性フィラー(図示せず)を分散させたものであり、これら導電性フィラーが互いに接触することにより、厚さ方向及び面方向それぞれの導電性を確保する。
【0019】
導電性接着テープ20は、フレキシブル基板10aの後端部上からフレキシブル基板10bの先端部上にかけて設けられる。導電性接着層20aは、フレキシブル基板10aの後端部に位置する接続用配線16aの上面、およびフレキシブル基板10bの先端部に位置する接続用配線16bの上面それぞれに接着している。このため、接続用配線16a,16bは、導電性接着層20aを介してそれぞれの上面で互いに導通する。この導通部分による導通は、上記したメッキリード配線12及び接続用配線16の端面による導通より安定している。
【0020】
次いで、導電性接着テープ20のうちメッキリード配線12上に位置する部分を除去する。これは、導電性接着テープ20の基材20bが絶縁性であるため、導電性接着テープ20がメッキリード配線12上に位置した状態では、電極ローラ32とメッキリード配線12の間に導電性接着テープ20が位置するタイミングが発生し、このタイミングにおいて電極ローラ32からメッキリード配線12に電圧が印加されなくなってしまう為である。2つある電極ローラ32のうちいずれか一方からメッキリード配線12に電圧が印加されない場合、配線パターン14に印加される電圧が不安定になり、メッキ不良が生じてしまう。
【0021】
このように、本発明の第1の実施形態によれば、フレキシブル基板10a,10bの配線パターンに電解メッキ層を形成する前に、フレキシブル基板10aの後端面とフレキシブル基板10bの先端面を互いに当接させて接続部分10cを形成し、接続部分10cを導電性接着テープ20で補強している。フレキシブル基板10aの後端部に位置する接続用配線16aの上面、およびフレキシブル基板10bの先端部に位置する接続用配線16bの上面それぞれは、導電性接着テープ20の導電性接着層20aを介して互いに導通する。この導通部分による導通は、メッキリード配線12及び接続用配線16の端面による導通より安定する。従って、配線パターンのメッキ不良の発生を抑制できる。
【0022】
図3(A)は、本発明の第2の実施形態に係るフレキシブル基板の製造方法のうち、フレキシブル基板10a,10bの接続構造を説明するための平面図である。本実施形態に係るフレキシブル基板の製造方法は、メッキリード配線12上に位置する導電性接着テープ20のうち、接続部分10cの近傍に位置する端面近傍部20dを残している点を除いて、第1の実施形態と同様である。以下、第1の実施形態と同様の構成については同一の符号を付し、説明を省略する。
【0023】
本実施形態において、フレキシブル基板10aのメッキリード配線12の上面は、端面近傍部20dの導電性接着層20aを介して、フレキシブル基板10bのメッキリード配線12の上面と導通する。なお、後述するように、端面近傍部20dの長さLは、電極ローラ32の外周面のうちフレキシブル基板10a,10bに当接する部分の長さ未満である。
【0024】
図3(B)は、電極ローラ32とフレキシブル基板10a,10bの接続部分10cが当接している状態を示す概略図である。電極ローラ32の半径をr、電極ローラ32のうちフレキシブル基板10a,10bが当接している部分の角度をθ(単位:ラジアン)とした場合、電極ローラ32の外周面のうちフレキシブル基板10a,10bに当接する部分の長さはrθになる。導電性接着テープ20の端面近傍部20dの長さLをrθ未満にすると、電極ローラ32とメッキリード配線12の間に導電性接着テープ20の端面近傍部20dが位置しても、メッキリード配線12と電極ローラ32は互いに接触する。このため、フレキシブル基板10a,10bのいずれの部分が電極ローラ32と接触している場合においても、電極ローラ32からメッキリード配線12に電圧が印加される。
【0025】
以上、本実施形態によれば、第1の実施形態と同様の効果を得ることができる。また、フレキシブル基板10aのメッキリード配線12の上面は、端面近傍部20dの導電性接着層20aを介して、フレキシブル基板10bのメッキリード配線12の上面と導通するため、配線パターンのメッキ不良の発生をさらに抑制できる。
【0026】
図4(A)は、本発明の第3の実施形態に係るフレキシブル基板の製造方法のうち、フレキシブル基板10a,10bの接続構造を説明するための平面図であり、図4(B)は図4(A)のA−A´断面図である。本実施形態に係るフレキシブル基板の製造方法は、メッキリード配線12上に位置する導電性接着テープ20のシート状の基材20bが導電性である点、及びメッキリード配線12上に位置する導電性接着テープ20が除去されていない点を除いて、第1の実施形態と同様である。以下、第1の実施形態と同様の構成については同一の符号を付し、説明を省略する。基材20bは、例えば金属箔であり、フレキシブル基板10a,10bの配線パターンと同一の材料により形成されるのが好ましい。このようにすると、電解メッキ液44に不要な元素が混入して電解メッキ液44の品質が劣化することを抑制できる。
【0027】
本実施形態によれば、第1の実施形態と同様の効果を得ることができる。また、電極ローラ32とメッキリード配線12の間に導電性接着テープ20が位置していても、導電性接着テープの基材20b及び導電性接着層20aを介して電極ローラ32とメッキリード配線12が導通する。さらに、フレキシブル基板10aのメッキリード配線12の上面は、導電性接着テープ20を介して、フレキシブル基板10bのメッキリード配線12の上面と導通する。従って、配線パターンのメッキ不良の発生をさらに抑制できる。
【0028】
尚、本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の主旨を逸脱しない範囲内で種々変更して実施することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【0029】
【図1】第1の実施形態に係るフレキシブル基板の製造方法に用いられる電解メッキ装置の構成を説明するための断面図。
【図2】(A)はフレキシブル基板10aの後端とフレキシブル基板10bの先端を繋ぐ方法を説明するための平面図、(B)は図2(A)のA−A´断面図。
【図3】(A)は第2の実施形態に係るフレキシブル基板の製造方法のうち、フレキシブル基板10a,10bの接続構造を説明するための平面図、(B)は電極ローラ32とフレキシブル基板10a,10bの接続部分10cが当接している状態を示す概略図。
【図4】(A)は第3の実施形態に係るフレキシブル基板の製造方法のうち、フレキシブル基板10a,10bの接続構造を説明するための平面図、(B)は図4(A)のA−A´断面図。
【図5】フレキシブル基板110aの後端とフレキシブル基板110bの先端を接続する従来の方法を説明するための平面概略図。
【符号の説明】
【0030】
10,10a,10b,110a,110b…フレキシブル基板、10c…接続部分、12,112a,112b…メッキリード配線、14,114…配線パターン、16,16a,16b,116…接続用配線、20…導電性接着テープ、20a…導電性接着層、20b…基材、20d…端面近傍部、30…ローラ、32…電極ローラ、40…メッキ槽、42…電極板、44…電解メッキ液、120…絶縁性テープ

【特許請求の範囲】
【請求項1】
テープ状のフレキシブル基板上に形成された配線パターンにメッキ層を形成するフレキシブル基板の製造方法であって、
上面に配線パターンが形成されている第1のフレキシブル基板の後端面と、上面に配線パターンが形成されている第2のフレキシブル基板の先端面とを当接させた状態で、前記第1のフレキシブル基板の後端部上から、前記第2のフレキシブル基板の先端部上にかけて導電性接着層を設けることにより、該導電性接着層を介して、前記第1のフレキシブル基板上に形成された配線パターンと、前記第2のフレキシブル基板上に形成された配線パターンとを電気的に接続し、かつ前記第1のフレキシブル基板と前記第2のフレキシブル基板を繋ぐ工程と、
前記第1のフレキシブル基板及び前記第2のフレキシブル基板を、電極ローラを有するローラ群で移動させつつ電解メッキ槽に浸漬させ、前記電極ローラから前記配線パターンに電圧を印加することにより、前記配線パターン上に電解メッキ層を形成する工程と、
を具備するフレキシブル基板の製造方法。
【請求項2】
前記導電性接着層上に形成された導電シートを具備する請求項1に記載のフレキシブル基板の製造方法。
【請求項3】
前記導電シートは、前記配線パターンと略同一の材料により形成されている請求項2に記載のフレキシブル基板の製造方法。
【請求項4】
前記第1のフレキシブル基板及び前記第2のフレキシブル基板それぞれは、前記配線パターンに電気的に接続していて該配線パターンより太い配線であり、前記第1のフレキシブル基板及び前記第2のフレキシブル基板の長手方向に延伸するメッキリード配線を具備し、
前記導電性接着層及び前記導電シートは、前記メッキリード配線上にも設けられている請求項2又は3に記載のフレキシブル基板の製造方法。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【公開番号】特開2008−231528(P2008−231528A)
【公開日】平成20年10月2日(2008.10.2)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2007−74649(P2007−74649)
【出願日】平成19年3月22日(2007.3.22)
【出願人】(000002369)セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Fターム(参考)】