プリプレグシート固定装置とプリプレグシート固定方法及び多層プリント配線基板の製造方法
【課題】未硬化のプリプレグシートに孔を形成し、孔に導電性ペーストを充填し、銅箔等と一体化してなる多層プリント配線基板において、プリプレグシートの面積を大きくした場合、プリプレグシートを吸着ステージに吸着させる場合に、皺が発生する場合がある。
【解決手段】未硬化の複合プリプレグシート１０に孔２１を形成し、これを吸着ステージ１４の上に吸着する際に、複合プリプレグシート１０の４辺の複数個所を吸着治具１１を用いて固定し、複合プリプレグシート１０の一部を積極的に下側に凸の形状とし、複合プリプレグシート１０の下に凸の頂点に対応する吸着ステージ１４を局所的に真空引きしておき、まず最初に複合プリプレグシート１０の凸の頂点と、吸着ステージ１４の一部を真空吸着させた後、更に複合プリプレグシート１０を吸着ステージ１４に接するようにさせると同時に、吸着ステージ１４の独立した吸着ゾーン１５も真空引きする。
【解決手段】未硬化の複合プリプレグシート１０に孔２１を形成し、これを吸着ステージ１４の上に吸着する際に、複合プリプレグシート１０の４辺の複数個所を吸着治具１１を用いて固定し、複合プリプレグシート１０の一部を積極的に下側に凸の形状とし、複合プリプレグシート１０の下に凸の頂点に対応する吸着ステージ１４を局所的に真空引きしておき、まず最初に複合プリプレグシート１０の凸の頂点と、吸着ステージ１４の一部を真空吸着させた後、更に複合プリプレグシート１０を吸着ステージ１４に接するようにさせると同時に、吸着ステージ１４の独立した吸着ゾーン１５も真空引きする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、携帯電話等の部品実装用のプリント配線基板として使われるＩＶＨ（インナービアホール、ＩＶＨは層間接続を意味する）を有する多層プリント配線基板の製造に用いるプリプレグシート固定装置とプリプレグシート固定方法及び多層プリント配線基板の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、携帯電話を始めとする電子機器の高性能化、小型化の要求に伴い、ＩＶＨ（インナービアホール）を有する多層プリント配線基板が広く使われている。こうしたものとして、例えば松下電器産業株式会社の登録商標である“ＡＬＩＶＨ”として、特許文献１を始めとした一連の多層プリント配線基板が提案されている。このようなＩＶＨを有する多層プリント配線基板は、アラミド不織布やガラス織布を未硬化の樹脂で固めたプリプレグシートに所定の孔（この孔がＩＶＨとなる）を形成し、この孔に導電性ペーストを充填（ビアペースト充填と呼ぶ）した後、銅箔と共に積層（あるいは多層に積層）するものである。こうした導電性ペーストを用いたＩＶＨ（インナービアホール）を使用する多層プリント配線基板は、製品設計の自由度が高いため、携帯電話を始めとする電子機器で広く使われている。
【０００３】
こうした多層プリント配線基板においてコストダウンを行うには、基板のワークサイズの拡大（つまりプリプレグシートの大判化）が有効である。しかしプリプレグシートを構成する樹脂は未硬化であり、プリプレグシートの厚み自体が１００〜２００μｍと極めて薄いため、プリプレグシートの面積を大きくした（大判化した）場合、プリプレグシートの取り扱いが難しくなる。例えば、真空吸着ステージに大判化したプリプレグシートを真空吸着させる場合、前記プリプレグシートの表面に皺が発生する場合がある。そして真空吸着ステージの上に吸着したプリプレグシートに発生した皺は、その後工程（例えば、図６等で後述するビアペースト充填工程）で、製品の歩留まりに影響を与える可能性がある。
【０００４】
次にプリプレグシートを吸着ステージに吸着する際に、発生しやすい皺について、図７を用いて説明する。図７は、従来のプリプレグシートを吸着ステージに吸着する様子を示す斜視図である。図７において、プリプレグシート１の周辺部を、吸着治具２で固定している。通気材３は通気性を有する部材（例えば紙や布）である。吸着ステージ４の上には、焼結金属等からなる多孔質板５を固定している。そして矢印６に示すように、吸着ステージ４の上に、通気材３を介して、プリプレグシート１を真空吸着する。なおプリプレグシート１には、ＩＶＨ（インナービアホール）となる孔７を多数形成している。ここでプリプレグシート１の面積が小さい場合（例えば３００×３００ｍｍ、４００×４００ｍｍ程度）は、特に課題は発生しない。しかしプリプレグシート１の面積が大きくなったり（例えば６００×６００ｍｍ、７００×７００ｍｍ等）、その厚みが薄くなったりするほど、プリプレグシート１を吸着ステージに真空吸着させる際に皺が発生しやすくなることが考えられる。
【０００５】
図８は、プリプレグシートが大面積化した時の課題について説明する斜視図及び断面図である。図８（Ａ）は、大面積化（あるいは大判化）したプリプレグシートを吸着ステージ上に吸着した場合に発生する皺について説明する斜視図である。図８（Ａ）において、吸着ステージ４の表面には、プリプレグシート１を真空吸着によって固定している。８は、プリプレグシート１に発生した皺である。図８（Ｂ）は、図８（Ａ）の任意の位置における断面図である。図８（Ｂ）において、吸着ステージ４は、一つの真空室から構成されており、矢印６ａに示すように真空引きする（真空ポンプ等は図示していない）。そして矢印６ｂ、６ｃに示すような空気の流れ（あるいは負圧）によって、プリプレグシート１を、通気材３の上に吸着している（なお多孔質板５は図示していない）。ここでプリプレグシート１には、ＩＶＨとなる数十個〜数万個の孔７を形成している。そしてこの孔７を介して真空（負圧）が漏れる。そしてこの孔７を介して真空が漏れる分、プリプレグシート１の吸着力は低くなり、皺８が発生しやすくなる。
【０００６】
更にプリプレグシート１と、吸着ステージ４と（あるいは通気材３と）を、複数個所で接触させて、吸着させた場合、皺８が発生しやすくなる。このような接触ムラは、プリプレグシート１の面積が大きくなるほど、発生しやすくなる。また通気材３の厚みバラツキ等も皺８の発生原因になることがある。更に多層プリント配線基板を薄層化するためには、プリプレグシート１の薄層化が必須となるが、プリプレグシート１の厚みが薄くなった場合も、プリプレグシートの曲がりやすさ（あるいはスティフネス）が低下する結果、皺８の発生原因になる可能性もある。
【０００７】
このように例えば３００×３００ｍｍのような、比較的小面積のプリプレグシート１の場合、皺８が発生しにくくとも、その大きさが４００×４００ｍｍ、５００×５００ｍｍと大判化するほど、皺８が発生する可能性が増加する。そして吸着ステージ４上に吸着したプリプレグシート１の表面に皺８が発生した場合、次工程（例えば、導電性ペーストの充填工程であるビアペースト充填工程）において、プリプレグシート１にダメージを与えたり、孔７の位置関係にズレを発生させたりする可能性が考えられる。
【特許文献１】特許第３２０７６６３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
従来のプリプレグシート１に孔７を形成し、ここに導電性ペーストを充填し、これをＩＶＨ（インナービアホール）として多層積層する多層プリント配線基板において、プリプレグシート１の面積が増加するにつれて、プリプレグシート１を吸着ステージ４に吸着する工程において、前記プリプレグシート１に皺８が発生しやすいという課題が発生することがあった。
【０００９】
本発明は、前記従来の課題を解決するもので、大面積のプリプレグシートを吸着ステージに吸着させる際に、前記プリプレグシートに皺を発生させることなく、プリプレグシートを吸着ステージに吸着させられるプリプレグシート固定装置とプリプレグシートの固定方法及び多層プリント配線基板の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
前記従来の課題を解決するために、本発明は、プリプレグシートを、真空吸着する吸着ステージと、前記プリプレグシートの４辺を複数個所で掴んで、前記吸着ステージの上に前記プリプレグシートを移動させる移動部と、からなるプリプレグシート固定装置を用い、前記吸着ステージに時間差をつけながら独立して真空吸着する、複数個の独立した真空吸着部を有している孔開きプリプレグシート固定装置である。
【００１１】
このような構成によって、インナービアとなる孔を多数個形成した大判のプリプレグシートであっても、皺を発生させることなく吸着ステージに吸着、固定することができる。
【００１２】
その結果、前記孔に導電性のビアペーストを充填しこれをインナービアとして、銅板等と共に多層に積層する場合においても、前記インナービアとなる孔の位置ズレの発生や、プリプレグシートへのダメージの発生を防止できるため、多層プリント配線基板の高精度化、高歩留まり化を実現できる。
【発明の効果】
【００１３】
以上のように本発明によれば、プリプレグシートの大判化が可能であり、多層プリント配線基板の大面積化に伴う低コスト化を実現できる。その結果、プリプレグシートに形成した孔に導電性ペーストを充填し、これをＩＶＨ（インナービアホール）とする多層プリント配線基板の低コスト化、さらにはこうした多層プリント配線基板を用いた携帯電話等の電子機器の低コスト化を実現する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
なお本発明の実施の形態に示された一連の図面は模式図であり、各位置関係を寸法的に正しく示したものではない。
【００１５】
（実施の形態）
以下、本発明の実施の形態における熱伝導基板について、図面を参照しながら説明する。
【００１６】
図１は、実施の形態におけるプリプレグシートの吸着方法について説明する斜視図である。図１において、１０は複合プリプレグシート、１１は吸着治具、１２は矢印、１３は通気材（例えば紙や布）、１４は吸着ステージ、１５は吸着ゾーンである。なお複合プリプレグシート１０は、後述する図２で詳しく説明する。吸着治具１１は、複合プリプレグシート１０を真空吸着や機械的に、保持する治具である。ここで吸着治具１１は、複合プリプレグシート１０の４辺に形成した吸着代（きゅうちゃくしろ）で、複合プリプレグシート１０の４辺を複数個所で掴んで固定する。なお吸着代は、周辺部から１５ｍｍ以下、望ましくは１０ｍｍ以下が望ましい。吸着代を１５ｍｍより幅広にした場合、それだけ複合プリプレグシート１０の多層基板に加工できる面積（つまり、インナービアホールとなる孔を形成できる領域）が狭くなる。また複合プリプレグシート１０の周辺部に皺を発生させてしまう可能性がある。
【００１７】
なお吸着治具１１として、ゴムや樹脂を用いた吸着パッド（真空吸着でシートを吸着するパッド）を使うことで、複合プリプレグシート１０にダメージを与えない。なお治具等で複合プリプレグシート１０を機械的に挟んだり、つかんだりしても良い。この時もつかみ代（あるいは挟み代）は、複合プリプレグシート１０の周辺部（周辺から１５ｍｍ以下、望ましくは１０ｍｍ以下）とする。なお吸着治具１１は、モーター等で駆動する移動部に固定されているが、図１では移動部は図示していない。
【００１８】
また吸着ステージ１４は、図３や図４で後述するように、独立して真空吸着できる、複数個の独立した真空吸着部（図１の吸着ゾーン１５ａ〜１５ｄに相当）から構成されている。そしてこの真空吸着部は、後述する図５で説明するように、シーケンサ等を使うことで、時間差をつけながら独立して真空吸着できる。
【００１９】
そして図１に示すように、少なくとも複合プリプレグシート１０の４辺以上を、吸着治具１１で複数個所固定し、複合プリプレグシート１０の中央部を、自重で下に凸の形状とする。そして矢印１２に示すように、通気材１３や複合プリプレグシート１０を、吸着ステージ１４の上に吸着させる。なお通気材１３は、複合プリプレグシート１０を吸着させる前に、吸着ステージ１４の上に吸着させておくことが望ましい。ここで４辺を複数個所で、その周辺部から１５ｍｍ以下で掴むことで、安定して複合プリプレグシート１０の中央部を下に凸とできる。
【００２０】
本実施の形態において、下に凸となる部分は、複合プリプレグシート１０の中央部に拘る必要は無い。本実施の形態では、複合プリプレグシート１０の一部を、積極的に下に凸とすることで、皺無しに複合プリプレグシート１０を吸着ステージ１４に吸着させようというものであり、例えば下に凸となる位置は、複合プリプレグシート１０の形状（正方形、長方形等）に応じて最適化できる。また複合プリプレグシート１０の吸着治具１１による掴み方や、掴み位置を工夫することで、複合プリプレグシート１０の中央部をその再現性よく、自重で下に凸の形状にできる。そして吸着ゾーン１５ａ〜１５ｄの真空引きのシーケンスを調整することで、皺の発生を抑制できる。
【００２１】
また下に凸となる位置に相当する吸着ゾーン１５の位置から、真空吸着（詳細については、図５で説明する）を開始することで、皺の発生を防止できる。
【００２２】
ここで吸着ステージ１４は、複数個の独立した吸着ゾーン１５ａ〜１５ｄから形成されている。そして吸着ゾーン１５ａ〜１５ｄは、互いに独立して真空吸着を行うことができる。そして吸着ゾーン１５ａ〜１５ｄは、シーケンスによって時間差をつけながら真空吸着するように調整している。なお吸着ゾーン１５ａ〜１５ｄの数は、２以上（更に望ましくは３以上）である。吸着ゾーン１５の個数が１だけの場合、図８（Ａ）、（Ｂ）に示したように、複合プリプレグシート１０の面積が大きくなった場合、複合プリプレグシート１０に吸着ムラや皺が発生する可能性がある。なお複合プリプレグシート１０の面積の増加に伴い、吸着ゾーン１５ａ〜１５ｄの数を２以上に増やすことが有効である。
【００２３】
図２（Ａ）〜（Ｃ）は、複合プリプレグシートについて説明する断面図及び斜視図である。図２（Ａ）は複合プリプレグシートに孔を形成する様子を説明する断面図である。図２（Ａ）において、１６は保護フィルム、１７ａ、１７ｂは繊維、１８は樹脂、１９はレーザー装置、２０はレーザー光である。ここでプリプレグシートは、繊維１７ａ、１７ｂに未硬化状態の樹脂１８を含浸させたものである。そしてプリプレグシートの両面を保護フィルム１６で保護したものが、複合プリプレグシート１０となる。なお繊維１７ａ、１７ｂの違いは、繊維の向きの違いである（ＸＹの面方向に編んだ場合）。なお繊維１７ａ、１７ｂは織布であっても、不織布であっても良い。また繊維１７ａ、１７ｂとして、アラミド繊維やガラス繊維等を、その用途に応じて選択する。またこれら繊維１７ａ、１７ｂを固定する樹脂１８としては、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂を用いることが、コストや信頼性の面から望ましい。
【００２４】
図２（Ｂ）は、複合プリプレグシートに孔を形成した後の断面図である。このように孔２１を形成した複合プリプレグシート１０を、図１に示すようにして、吸着ステージ１４の上に吸着することになる（図１では、孔２１は図示していない）。そして、この孔２１の中にインナービアとなる導電性ペーストを充填することになる（詳細については、図６で説明する）。ここで吸着ステージ１４の上に固定する前の、複合プリプレグシート１０は、その面積が大きくなるほど、図２（Ｃ）に示すように皺２２が発生しやすくなる。これは複合プリプレグシート１０が、熱膨張係数の異なる部材の積層体からなるためである。更に複合プリプレグシート１０に、１シート当たり数万〜数十万個の孔２１を形成した場合、更に皺２２が発生しやすくなる。これは孔２１の粗密（あるいはその分布）が場所によって大きく異なる場合があるためである。また複合プリプレグシート１０の面積が大きくなったり、その厚みが薄くなったりすると更に皺２２が発生しやすくなる。
【００２５】
本実施の形態においては、図１に示すように、複合プリプレグシート１０を、自重でその中央部を下に凸になるように積極的に垂れ下げることで、皺２２を発生させることなく吸着ステージ１５に吸着させる。次に図３（Ａ）〜（Ｂ）、図４（Ａ）〜（Ｃ）を用いて、このように皺２２が発生しやすく、取り扱いにくい複合プリプレグシート１０を、如何に皺２２を発生させることなく、吸着ステージ１４の上に安定して真空吸着させるかについて様子を説明する。
【００２６】
図３（Ａ）〜（Ｂ）は、複合プリプレグシートを吸着ステージの上に真空吸着させる様子を説明する断面図である。図３（Ａ）〜（Ｂ）において、２３は点線であり、吸着ゾーン１５等の省略を意味する。また２４は吸着部、２５は吸着済み部である。
【００２７】
まず図３（Ａ）に示すようにして、複合プリプレグシート１０を、その中央部が下に凸になるように、吸着治具１１を用いて保持する。なお吸着治具１１は、複合プリプレグシート１０の周辺部の４辺を複数個所で固定することが望ましい（なお図１では、複合プリプレグシート１０の４辺を複数個所で掴んでいるが、図３、図４ではそこまで細かく図示していない）。ここで例えば、図３（Ａ）に示すように、積極的に４辺を複数個所で保持（あるいは固定）することで、複合プリプレグシート１０の中央部を下に凸状（これは三次元的な球面を含んでいる）とする。なおこの下に凸の寸法は（あるいは複合プリプレグシート１０の周辺部からみた凸の山の高さ）は、一例として、複合プリプレグシート１０が５００ｍｍ×５００ｍｍの面積の場合、５ｍｍ以上２００ｍｍ以下（望ましくは１００ｍｍ以下、更に望ましくは５０ｍｍ以下）が望ましい。凸の高さを５ｍｍ以下にしようとするには、複合プリプレグシート１０を強く引っ張る必要があり、複合プリプレグシート１０の寸法に影響を与える可能性がある。また２００ｍｍ以上とした場合、かえって皺２２が発生する可能性がある。また６００×６００ｍｍの場合、６ｍｍ以上３００ｍｍ以下（望ましくは１５０ｍｍ以下、更に望ましくは７０ｍｍ以下）が望ましい。このように複合プリプレグシート１０の面積に応じて、凸部の高さの範囲を制御することが望ましい。このようにすることで、異なる複合プリプレグシート１０であっても、再現性良く取り扱うことができる。
【００２８】
なお図３（Ａ）における吸着部２４は、図１に記載した独立して真空吸着可能な吸着ゾーン１５ａ〜１５ｄの断面に相当する。図３（Ａ）において、互いに独立した、複数の真空吸着部からなる吸着ステージ１４の中央部（Ｖａｑ１）だけを選択的に吸着部２４として、矢印１２ｂに示すように真空引きしている。矢印１２ｂは、通気材１３を介して、空気が吸着されることを意味し、この部分を複合プリプレグシート１０の、下に凸になった頂点部分と重なるようにする。そして矢印１２ａで示すように、複合プリプレグシート１０を、吸着ステージ１４に近づける。そして複合プリプレグシート１０の下に凸となった部分の頂点を、吸着ステージ１４に接するようにすることで、複合プリプレグシート１０の一部を選択的に吸着ステージ１４に吸着する。こうして図３（Ｂ）に示す状態とする。
【００２９】
図３（Ｂ）において、吸着済み部２５は、複合プリプレグシート１０が吸着ステージ１４に選択的に吸着されている部分に相当する。こうして複合プリプレグシート１０の一番下に垂れ下がった部分を、最初に吸着部２４で選択的に吸着することで、皺２２が発生しない。その後、徐々に（例えば図４（Ａ）〜（Ｃ）に示すように）複合プリプレグシート１０を下に移動させると共に、複合プリプレグシート１０と吸着ステージ１４の接触面積を広げると同時に、吸着ステージ１４における吸着部２４の面積を広げる。
【００３０】
図４（Ａ）〜（Ｃ）は、複合プリプレグシートを吸着ステージの上に吸着する様子を説明する断面図である。図４（Ａ）に示すように、更に複合プリプレグシート１０を下ろす。同時に吸着部２４の面積を広げる（例えば、Ｖａｑ１から、Ｖａｑ１＋Ｖａｑ２へ）。こうして複合プリプレグシート１０に皺２２を形成することなく、徐々に吸着ステージ１４の上に吸着させる。
【００３１】
図４（Ｂ）は、更に複合プリプレグシート１０の吸着済み部２５の面積を広げた（例えば、Ｖａｑ１＋Ｖａｑ２から、Ｖａｑ１＋Ｖａｑ２＋Ｖａｑ３へ）状態を示す断面図である。図４（Ｂ）において、吸着ステージ１４の吸着部２４は更に広がっている。そして最後に図４（Ｃ）に示すように、複合プリプレグシート１０の幅方向を全て、吸着ステージ１４の上に、矢印１２ｄに示すように固定する（例えば、Ｖａｑ１＋Ｖａｑ２＋・・・・＋Ｖａｑ（ｎ））。その後、複合プリプレグシート１０の４辺を複数個所で固定していた吸着治具１１を、矢印１２ｃに示すように取り外す。こうすることで、複合プリプレグシート１０の自重も活かしながら、複合プリプレグシート１０全体を、吸着ステージ１４の表面に皺２２を発生させることなく、吸着できる。
【００３２】
このようにして、複合プリプレグシート１０を、徐々に（最初から皺２２が発生しないように吸着させ、その状態で吸着面積を広げるようにすることで）吸着ステージ１４の上に、皺２２が発生しないように（あるいは伸ばすように）して真空吸着させる。
【００３３】
図５は、吸着ステージの真空引きの手順を説明する図であり、例えば図１における吸着ステージ１４の真空引きのシーケンスに相当する。図５において、２６は真空ＯＮ（つまり真空引きを行っている）となっている期間を、２７ａ、２７ｂは補助線を示す。そしてＸ軸は工程順番（複合プリプレグシートの下降開始→シートのステージ接触→真空吸着完了→次工程開始（ビアペースト充填工程開始）→次工程完了（ビアペースト充填工程完了）を示す。なお次工程（ビアペースト充填工程）については、図６で後述する。図５においてＹ軸は、経過時間（吸着開始→吸着完了）を示す。また図中において、Ｖａｑ１とは、複合プリプレグシート１０を一番最初に吸着させる真空吸着部である。そしてＶａｑ２、Ｖａｑ３、・・・と、順次真空吸着させている。そしてＶａｑ（ｎ−１）、Ｖａｑ（ｎ）となる。またＶａｑ（ｎ）は、吸着ステージ１４の一番最後に真空引きする部分に相当する。なおここでｎは２以上である。ｎを２以上とすることで、吸着ステージ１４における複合プリプレグシート１０の皺２２の発生を防止できる。また図５における補助線２７ｂは、例えばＶａｑ１→Ｖａｑ２→Ｖａｑ３と、真空引きのタイミングを少しずつずらしている（あるいは時間差をつけて遅らせている）ことを示している。
【００３４】
図６は、吸着ステージの上に真空吸着させた複合プリプレグシートの孔に導電性ペーストを充填する様子を説明する断面図及び斜視図であり、ビアペースト充填工程とも呼ばれる。図６（Ａ）において、吸着ステージ１４（図示していない）の上に、通気材１３を介して、複合プリプレグシート１０を皺２２を発生させることなく真空吸着している。図６（Ａ）において、２８はスキージ、２９ａ、２９ｂは導電性ペーストである。スキージ２８を、矢印１２ａの方向に動かしながら、導電性ペースト２９ａを孔２１に埋め込む。ここで孔２１は、矢印１２ｂで示すように真空引きしている。こうして孔２１の内部に、導電性ペースト２９ｂを充填する。図６（Ｂ）は、複合プリプレグシート１０の孔２１に導電性ペースト２９ｂを充填した状態を示す斜視図である。一方、従来の吸着方法では、例えば図８に示したように吸着ステージ４の表面に、プリプレグシート１を皺８を有する状態で吸着しているため図６（Ａ）に示すような導電性ペースト２９ａの充填工程において、皺８がプリプレグシート１に発生しやすく、皺８の上をスキージ２８が通過することで、プリプレグシート１にダメージや寸法変化を与える可能性がある。
【００３５】
なお実施の形態で提案するプリプレグ固定装置や、プリプレグシート固定方法において、取り扱う部材はプリプレグシート１単体でも良い。このように本実施の形態を用いることで、プリプレグシート１は保護フィルム１６無しの状態でも皺２２の防止効果が得られる。更に多数の孔２１に密度差を有するような皺２２が発生しやすくなったプリプレグシート１（更には複合プリプレグシート１０）に対しても、皺２２の発生防止効果が高い。
【００３６】
以上のようにして、プリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）を真空吸着する吸着ステージ１４と、前記プリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）の４辺を複数個所で掴んで、前記吸着ステージ１４の上に前記プリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）を移動させる移動部と、からなるプリプレグシート固定装置を用い、前記吸着ステージ１４に時間差をつけながら独立して真空吸着する、複数個の吸着ゾーン１５（あるいは真空吸着部）を有しているプリプレグシート固定装置を提案することによって、大判化すると取り扱いが難しく（真空吸着時に皺２２が発生しやすい）、更に孔２１を形成することで真空吸着時に皺２２が発生しやすくなり、更にプリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）の一面以上に保護フィルム１６を形成することで発生しやすい皺が、更に真空吸着時に皺２２となりやすい複合プリプレグシート１０であっても、皺２２の発生を防止しながら吸着ステージ１４の上に吸着できるため、複合プリプレグシート１０の大判化が可能であり、多層プリント配線基板の低コスト化を実現すると共に、その歩留まりを高められる。
【００３７】
更にプリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）を真空吸着する吸着ステージ１４と、前記プリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）の４辺を複数個所で掴んで、前記吸着ステージ１４の上に前記孔２１が形成されたプリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）を移動させる移動部と、からなるプリプレグシート固定装置を用い、前記吸着ステージ１４に時間差をつけながら独立して真空吸着できる複数個の吸着ゾーン１５（あるいは真空吸着部）を有しているプリプレグシート固定装置の、前記吸着ステージ１４上にセットした通気材１３の上に、プリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）を移動させ、複数の吸着ゾーン１５（あるいは真空吸着部）の上に、前記孔２１が形成されたプリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）の一部を接触させた後、吸着ステージ１４の複数個の独立した真空吸着部（あるいは複数個の吸着ゾーン１５）を順次真空吸着するプリプレグシート固定方法を用いることによって、大判化すると取り扱いが難しく（真空吸着時に皺２２が発生しやすい）、更に孔２１を形成することで真空吸着時に皺２２が発生しやすくなり、更にプリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）の一面以上に保護フィルム１６を形成することで発生しやすい皺が、更に真空吸着時に皺２２となりやすい複合プリプレグシート１０であっても、皺２２の発生を防止しながら吸着ステージ１４の上に吸着できるため、複合プリプレグシート１０の大判化が可能であり、多層プリント配線基板の低コスト化を実現すると共に、その歩留まりを高められる。
【００３８】
プリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）を真空吸着する吸着ステージ１４と、前記プリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）の４辺を複数個所で掴んで、前記吸着ステージ１４の上に前記プリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）を移動させる移動部と、からなるプリプレグシート固定装置を用い、前記吸着ステージ１４に時間差をつけながら独立して真空吸着する、複数個の独立して真空引きできる吸着ゾーン１５（あるいは真空吸着部）を有しているプリプレグシート固定装置の、前記吸着ステージ１４上にセットした通気材１３の上に、プリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）を移動させ、前記吸着ステージ１４（あるいは真空吸着部）の上に、前記プリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）の一部を接触させた後、吸着ステージ１４の複数個の吸着ゾーン１５（あるいは真空吸着部）を順次真空吸着するプリプレグシートの固定方法を用いることによって、大判化すると取り扱いが難しく（真空吸着時に皺２２が発生しやすい）、更に孔２１を形成することで真空吸着時に皺２２が発生しやすくなり、更にプリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）の一面以上に保護フィルム１６を形成することで発生しやすい皺が、更に真空吸着時に皺２２となりやすい複合プリプレグシート１０であっても、皺２２の発生を防止しながら吸着ステージ１４の上に吸着できるため、複合プリプレグシート１０の大判化が可能であり、多層プリント配線基板の低コスト化を実現すると共に、その歩留まりを高められる。
【００３９】
少なくとも、プリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）を真空吸着する吸着ステージ１４と、前記プリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）の４辺を複数個所で掴んで前記吸着ステージ１４の上に前記プリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）を移動させる移動部と、からなるプリプレグシート固定装置を用い、前記吸着ステージ１４に時間差をつけながら独立して真空吸着する、複数個の独立して真空引きできる吸着ゾーン１５（あるいは真空吸着部）を有しているプリプレグシート固定装置の、前記吸着ステージ１４上にセットした通気材１３の上に、プリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）を移動させ、前記吸着ゾーン１５（あるいは真空吸着部）の上に、前記プリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）の一部を接触させた後、吸着ステージ１４の複数個の吸着ゾーン１５（あるいは真空吸着部）を順次真空吸着した後、前記プリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）の前記孔２１に、導電性ペースト２９ａ、２９ｂを充填する工程を含む多層プリント配線基板の製造方法によって、大判化すると取り扱いが難しく（真空吸着時に皺２２が発生しやすい）プリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）であっても、皺２２の発生を防止しながら吸着ステージ１４の上に吸着できるため、複合プリプレグシート１０の大判化が可能であり、多層プリント配線基板の低コスト化を実現すると共に、その歩留まりを高められる。
【産業上の利用可能性】
【００４０】
以上のように、本発明にかかるプリプレグシート固定装置とプリプレグシート固定方法及び多層プリント配線基板の製造方法を用いることで、携帯電話を始めとする各種機器に用いる多層プリント配線基板をコストダウンでき、機器の低コスト化を実現する。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】実施の形態におけるプリプレグシートの吸着方法について説明する斜視図
【図２】（Ａ）、（Ｂ）は複合プリプレグシートについて説明する断面図、（Ｃ）は斜視図
【図３】（Ａ）、（Ｂ）は複合プリプレグシートを吸着ステージの上に真空吸着させる様子を説明する模式図
【図４】（Ａ）〜（Ｃ）はそれぞれ複合プリプレグシートを吸着ステージの上に吸着する様子を説明する模式図
【図５】吸着ステージの真空引きの手順を説明する図
【図６】（Ａ）は吸着ステージの上に真空吸着させた複合プリプレグシートの孔に導電性ペーストを充填する様子を説明する断面図、（Ｂ）は同斜視図
【図７】従来のプリプレグシートを吸着ステージに吸着する様子を示す斜視図
【図８】（Ａ）はプリプレグシートが大面積化した時の課題について説明する斜視図、（Ｂ）は同断面図
【符号の説明】
【００４２】
１０ 複合プリプレグシート
１１ 吸着治具
１２ 矢印
１３ 通気材
１４ 吸着ステージ
１５ 吸着ゾーン
１６ 保護フィルム
１７ 繊維
１８ 樹脂
１９ レーザー装置
２０ レーザー光
２１ 孔
２２ 皺
２３ 点線
２４ 吸着部
２５ 吸着済み部
２６ 真空ＯＮ
２７ 補助線
２８ スキージ
２９ 導電性ペースト
【技術分野】
【０００１】
本発明は、携帯電話等の部品実装用のプリント配線基板として使われるＩＶＨ（インナービアホール、ＩＶＨは層間接続を意味する）を有する多層プリント配線基板の製造に用いるプリプレグシート固定装置とプリプレグシート固定方法及び多層プリント配線基板の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、携帯電話を始めとする電子機器の高性能化、小型化の要求に伴い、ＩＶＨ（インナービアホール）を有する多層プリント配線基板が広く使われている。こうしたものとして、例えば松下電器産業株式会社の登録商標である“ＡＬＩＶＨ”として、特許文献１を始めとした一連の多層プリント配線基板が提案されている。このようなＩＶＨを有する多層プリント配線基板は、アラミド不織布やガラス織布を未硬化の樹脂で固めたプリプレグシートに所定の孔（この孔がＩＶＨとなる）を形成し、この孔に導電性ペーストを充填（ビアペースト充填と呼ぶ）した後、銅箔と共に積層（あるいは多層に積層）するものである。こうした導電性ペーストを用いたＩＶＨ（インナービアホール）を使用する多層プリント配線基板は、製品設計の自由度が高いため、携帯電話を始めとする電子機器で広く使われている。
【０００３】
こうした多層プリント配線基板においてコストダウンを行うには、基板のワークサイズの拡大（つまりプリプレグシートの大判化）が有効である。しかしプリプレグシートを構成する樹脂は未硬化であり、プリプレグシートの厚み自体が１００〜２００μｍと極めて薄いため、プリプレグシートの面積を大きくした（大判化した）場合、プリプレグシートの取り扱いが難しくなる。例えば、真空吸着ステージに大判化したプリプレグシートを真空吸着させる場合、前記プリプレグシートの表面に皺が発生する場合がある。そして真空吸着ステージの上に吸着したプリプレグシートに発生した皺は、その後工程（例えば、図６等で後述するビアペースト充填工程）で、製品の歩留まりに影響を与える可能性がある。
【０００４】
次にプリプレグシートを吸着ステージに吸着する際に、発生しやすい皺について、図７を用いて説明する。図７は、従来のプリプレグシートを吸着ステージに吸着する様子を示す斜視図である。図７において、プリプレグシート１の周辺部を、吸着治具２で固定している。通気材３は通気性を有する部材（例えば紙や布）である。吸着ステージ４の上には、焼結金属等からなる多孔質板５を固定している。そして矢印６に示すように、吸着ステージ４の上に、通気材３を介して、プリプレグシート１を真空吸着する。なおプリプレグシート１には、ＩＶＨ（インナービアホール）となる孔７を多数形成している。ここでプリプレグシート１の面積が小さい場合（例えば３００×３００ｍｍ、４００×４００ｍｍ程度）は、特に課題は発生しない。しかしプリプレグシート１の面積が大きくなったり（例えば６００×６００ｍｍ、７００×７００ｍｍ等）、その厚みが薄くなったりするほど、プリプレグシート１を吸着ステージに真空吸着させる際に皺が発生しやすくなることが考えられる。
【０００５】
図８は、プリプレグシートが大面積化した時の課題について説明する斜視図及び断面図である。図８（Ａ）は、大面積化（あるいは大判化）したプリプレグシートを吸着ステージ上に吸着した場合に発生する皺について説明する斜視図である。図８（Ａ）において、吸着ステージ４の表面には、プリプレグシート１を真空吸着によって固定している。８は、プリプレグシート１に発生した皺である。図８（Ｂ）は、図８（Ａ）の任意の位置における断面図である。図８（Ｂ）において、吸着ステージ４は、一つの真空室から構成されており、矢印６ａに示すように真空引きする（真空ポンプ等は図示していない）。そして矢印６ｂ、６ｃに示すような空気の流れ（あるいは負圧）によって、プリプレグシート１を、通気材３の上に吸着している（なお多孔質板５は図示していない）。ここでプリプレグシート１には、ＩＶＨとなる数十個〜数万個の孔７を形成している。そしてこの孔７を介して真空（負圧）が漏れる。そしてこの孔７を介して真空が漏れる分、プリプレグシート１の吸着力は低くなり、皺８が発生しやすくなる。
【０００６】
更にプリプレグシート１と、吸着ステージ４と（あるいは通気材３と）を、複数個所で接触させて、吸着させた場合、皺８が発生しやすくなる。このような接触ムラは、プリプレグシート１の面積が大きくなるほど、発生しやすくなる。また通気材３の厚みバラツキ等も皺８の発生原因になることがある。更に多層プリント配線基板を薄層化するためには、プリプレグシート１の薄層化が必須となるが、プリプレグシート１の厚みが薄くなった場合も、プリプレグシートの曲がりやすさ（あるいはスティフネス）が低下する結果、皺８の発生原因になる可能性もある。
【０００７】
このように例えば３００×３００ｍｍのような、比較的小面積のプリプレグシート１の場合、皺８が発生しにくくとも、その大きさが４００×４００ｍｍ、５００×５００ｍｍと大判化するほど、皺８が発生する可能性が増加する。そして吸着ステージ４上に吸着したプリプレグシート１の表面に皺８が発生した場合、次工程（例えば、導電性ペーストの充填工程であるビアペースト充填工程）において、プリプレグシート１にダメージを与えたり、孔７の位置関係にズレを発生させたりする可能性が考えられる。
【特許文献１】特許第３２０７６６３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
従来のプリプレグシート１に孔７を形成し、ここに導電性ペーストを充填し、これをＩＶＨ（インナービアホール）として多層積層する多層プリント配線基板において、プリプレグシート１の面積が増加するにつれて、プリプレグシート１を吸着ステージ４に吸着する工程において、前記プリプレグシート１に皺８が発生しやすいという課題が発生することがあった。
【０００９】
本発明は、前記従来の課題を解決するもので、大面積のプリプレグシートを吸着ステージに吸着させる際に、前記プリプレグシートに皺を発生させることなく、プリプレグシートを吸着ステージに吸着させられるプリプレグシート固定装置とプリプレグシートの固定方法及び多層プリント配線基板の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
前記従来の課題を解決するために、本発明は、プリプレグシートを、真空吸着する吸着ステージと、前記プリプレグシートの４辺を複数個所で掴んで、前記吸着ステージの上に前記プリプレグシートを移動させる移動部と、からなるプリプレグシート固定装置を用い、前記吸着ステージに時間差をつけながら独立して真空吸着する、複数個の独立した真空吸着部を有している孔開きプリプレグシート固定装置である。
【００１１】
このような構成によって、インナービアとなる孔を多数個形成した大判のプリプレグシートであっても、皺を発生させることなく吸着ステージに吸着、固定することができる。
【００１２】
その結果、前記孔に導電性のビアペーストを充填しこれをインナービアとして、銅板等と共に多層に積層する場合においても、前記インナービアとなる孔の位置ズレの発生や、プリプレグシートへのダメージの発生を防止できるため、多層プリント配線基板の高精度化、高歩留まり化を実現できる。
【発明の効果】
【００１３】
以上のように本発明によれば、プリプレグシートの大判化が可能であり、多層プリント配線基板の大面積化に伴う低コスト化を実現できる。その結果、プリプレグシートに形成した孔に導電性ペーストを充填し、これをＩＶＨ（インナービアホール）とする多層プリント配線基板の低コスト化、さらにはこうした多層プリント配線基板を用いた携帯電話等の電子機器の低コスト化を実現する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
なお本発明の実施の形態に示された一連の図面は模式図であり、各位置関係を寸法的に正しく示したものではない。
【００１５】
（実施の形態）
以下、本発明の実施の形態における熱伝導基板について、図面を参照しながら説明する。
【００１６】
図１は、実施の形態におけるプリプレグシートの吸着方法について説明する斜視図である。図１において、１０は複合プリプレグシート、１１は吸着治具、１２は矢印、１３は通気材（例えば紙や布）、１４は吸着ステージ、１５は吸着ゾーンである。なお複合プリプレグシート１０は、後述する図２で詳しく説明する。吸着治具１１は、複合プリプレグシート１０を真空吸着や機械的に、保持する治具である。ここで吸着治具１１は、複合プリプレグシート１０の４辺に形成した吸着代（きゅうちゃくしろ）で、複合プリプレグシート１０の４辺を複数個所で掴んで固定する。なお吸着代は、周辺部から１５ｍｍ以下、望ましくは１０ｍｍ以下が望ましい。吸着代を１５ｍｍより幅広にした場合、それだけ複合プリプレグシート１０の多層基板に加工できる面積（つまり、インナービアホールとなる孔を形成できる領域）が狭くなる。また複合プリプレグシート１０の周辺部に皺を発生させてしまう可能性がある。
【００１７】
なお吸着治具１１として、ゴムや樹脂を用いた吸着パッド（真空吸着でシートを吸着するパッド）を使うことで、複合プリプレグシート１０にダメージを与えない。なお治具等で複合プリプレグシート１０を機械的に挟んだり、つかんだりしても良い。この時もつかみ代（あるいは挟み代）は、複合プリプレグシート１０の周辺部（周辺から１５ｍｍ以下、望ましくは１０ｍｍ以下）とする。なお吸着治具１１は、モーター等で駆動する移動部に固定されているが、図１では移動部は図示していない。
【００１８】
また吸着ステージ１４は、図３や図４で後述するように、独立して真空吸着できる、複数個の独立した真空吸着部（図１の吸着ゾーン１５ａ〜１５ｄに相当）から構成されている。そしてこの真空吸着部は、後述する図５で説明するように、シーケンサ等を使うことで、時間差をつけながら独立して真空吸着できる。
【００１９】
そして図１に示すように、少なくとも複合プリプレグシート１０の４辺以上を、吸着治具１１で複数個所固定し、複合プリプレグシート１０の中央部を、自重で下に凸の形状とする。そして矢印１２に示すように、通気材１３や複合プリプレグシート１０を、吸着ステージ１４の上に吸着させる。なお通気材１３は、複合プリプレグシート１０を吸着させる前に、吸着ステージ１４の上に吸着させておくことが望ましい。ここで４辺を複数個所で、その周辺部から１５ｍｍ以下で掴むことで、安定して複合プリプレグシート１０の中央部を下に凸とできる。
【００２０】
本実施の形態において、下に凸となる部分は、複合プリプレグシート１０の中央部に拘る必要は無い。本実施の形態では、複合プリプレグシート１０の一部を、積極的に下に凸とすることで、皺無しに複合プリプレグシート１０を吸着ステージ１４に吸着させようというものであり、例えば下に凸となる位置は、複合プリプレグシート１０の形状（正方形、長方形等）に応じて最適化できる。また複合プリプレグシート１０の吸着治具１１による掴み方や、掴み位置を工夫することで、複合プリプレグシート１０の中央部をその再現性よく、自重で下に凸の形状にできる。そして吸着ゾーン１５ａ〜１５ｄの真空引きのシーケンスを調整することで、皺の発生を抑制できる。
【００２１】
また下に凸となる位置に相当する吸着ゾーン１５の位置から、真空吸着（詳細については、図５で説明する）を開始することで、皺の発生を防止できる。
【００２２】
ここで吸着ステージ１４は、複数個の独立した吸着ゾーン１５ａ〜１５ｄから形成されている。そして吸着ゾーン１５ａ〜１５ｄは、互いに独立して真空吸着を行うことができる。そして吸着ゾーン１５ａ〜１５ｄは、シーケンスによって時間差をつけながら真空吸着するように調整している。なお吸着ゾーン１５ａ〜１５ｄの数は、２以上（更に望ましくは３以上）である。吸着ゾーン１５の個数が１だけの場合、図８（Ａ）、（Ｂ）に示したように、複合プリプレグシート１０の面積が大きくなった場合、複合プリプレグシート１０に吸着ムラや皺が発生する可能性がある。なお複合プリプレグシート１０の面積の増加に伴い、吸着ゾーン１５ａ〜１５ｄの数を２以上に増やすことが有効である。
【００２３】
図２（Ａ）〜（Ｃ）は、複合プリプレグシートについて説明する断面図及び斜視図である。図２（Ａ）は複合プリプレグシートに孔を形成する様子を説明する断面図である。図２（Ａ）において、１６は保護フィルム、１７ａ、１７ｂは繊維、１８は樹脂、１９はレーザー装置、２０はレーザー光である。ここでプリプレグシートは、繊維１７ａ、１７ｂに未硬化状態の樹脂１８を含浸させたものである。そしてプリプレグシートの両面を保護フィルム１６で保護したものが、複合プリプレグシート１０となる。なお繊維１７ａ、１７ｂの違いは、繊維の向きの違いである（ＸＹの面方向に編んだ場合）。なお繊維１７ａ、１７ｂは織布であっても、不織布であっても良い。また繊維１７ａ、１７ｂとして、アラミド繊維やガラス繊維等を、その用途に応じて選択する。またこれら繊維１７ａ、１７ｂを固定する樹脂１８としては、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂を用いることが、コストや信頼性の面から望ましい。
【００２４】
図２（Ｂ）は、複合プリプレグシートに孔を形成した後の断面図である。このように孔２１を形成した複合プリプレグシート１０を、図１に示すようにして、吸着ステージ１４の上に吸着することになる（図１では、孔２１は図示していない）。そして、この孔２１の中にインナービアとなる導電性ペーストを充填することになる（詳細については、図６で説明する）。ここで吸着ステージ１４の上に固定する前の、複合プリプレグシート１０は、その面積が大きくなるほど、図２（Ｃ）に示すように皺２２が発生しやすくなる。これは複合プリプレグシート１０が、熱膨張係数の異なる部材の積層体からなるためである。更に複合プリプレグシート１０に、１シート当たり数万〜数十万個の孔２１を形成した場合、更に皺２２が発生しやすくなる。これは孔２１の粗密（あるいはその分布）が場所によって大きく異なる場合があるためである。また複合プリプレグシート１０の面積が大きくなったり、その厚みが薄くなったりすると更に皺２２が発生しやすくなる。
【００２５】
本実施の形態においては、図１に示すように、複合プリプレグシート１０を、自重でその中央部を下に凸になるように積極的に垂れ下げることで、皺２２を発生させることなく吸着ステージ１５に吸着させる。次に図３（Ａ）〜（Ｂ）、図４（Ａ）〜（Ｃ）を用いて、このように皺２２が発生しやすく、取り扱いにくい複合プリプレグシート１０を、如何に皺２２を発生させることなく、吸着ステージ１４の上に安定して真空吸着させるかについて様子を説明する。
【００２６】
図３（Ａ）〜（Ｂ）は、複合プリプレグシートを吸着ステージの上に真空吸着させる様子を説明する断面図である。図３（Ａ）〜（Ｂ）において、２３は点線であり、吸着ゾーン１５等の省略を意味する。また２４は吸着部、２５は吸着済み部である。
【００２７】
まず図３（Ａ）に示すようにして、複合プリプレグシート１０を、その中央部が下に凸になるように、吸着治具１１を用いて保持する。なお吸着治具１１は、複合プリプレグシート１０の周辺部の４辺を複数個所で固定することが望ましい（なお図１では、複合プリプレグシート１０の４辺を複数個所で掴んでいるが、図３、図４ではそこまで細かく図示していない）。ここで例えば、図３（Ａ）に示すように、積極的に４辺を複数個所で保持（あるいは固定）することで、複合プリプレグシート１０の中央部を下に凸状（これは三次元的な球面を含んでいる）とする。なおこの下に凸の寸法は（あるいは複合プリプレグシート１０の周辺部からみた凸の山の高さ）は、一例として、複合プリプレグシート１０が５００ｍｍ×５００ｍｍの面積の場合、５ｍｍ以上２００ｍｍ以下（望ましくは１００ｍｍ以下、更に望ましくは５０ｍｍ以下）が望ましい。凸の高さを５ｍｍ以下にしようとするには、複合プリプレグシート１０を強く引っ張る必要があり、複合プリプレグシート１０の寸法に影響を与える可能性がある。また２００ｍｍ以上とした場合、かえって皺２２が発生する可能性がある。また６００×６００ｍｍの場合、６ｍｍ以上３００ｍｍ以下（望ましくは１５０ｍｍ以下、更に望ましくは７０ｍｍ以下）が望ましい。このように複合プリプレグシート１０の面積に応じて、凸部の高さの範囲を制御することが望ましい。このようにすることで、異なる複合プリプレグシート１０であっても、再現性良く取り扱うことができる。
【００２８】
なお図３（Ａ）における吸着部２４は、図１に記載した独立して真空吸着可能な吸着ゾーン１５ａ〜１５ｄの断面に相当する。図３（Ａ）において、互いに独立した、複数の真空吸着部からなる吸着ステージ１４の中央部（Ｖａｑ１）だけを選択的に吸着部２４として、矢印１２ｂに示すように真空引きしている。矢印１２ｂは、通気材１３を介して、空気が吸着されることを意味し、この部分を複合プリプレグシート１０の、下に凸になった頂点部分と重なるようにする。そして矢印１２ａで示すように、複合プリプレグシート１０を、吸着ステージ１４に近づける。そして複合プリプレグシート１０の下に凸となった部分の頂点を、吸着ステージ１４に接するようにすることで、複合プリプレグシート１０の一部を選択的に吸着ステージ１４に吸着する。こうして図３（Ｂ）に示す状態とする。
【００２９】
図３（Ｂ）において、吸着済み部２５は、複合プリプレグシート１０が吸着ステージ１４に選択的に吸着されている部分に相当する。こうして複合プリプレグシート１０の一番下に垂れ下がった部分を、最初に吸着部２４で選択的に吸着することで、皺２２が発生しない。その後、徐々に（例えば図４（Ａ）〜（Ｃ）に示すように）複合プリプレグシート１０を下に移動させると共に、複合プリプレグシート１０と吸着ステージ１４の接触面積を広げると同時に、吸着ステージ１４における吸着部２４の面積を広げる。
【００３０】
図４（Ａ）〜（Ｃ）は、複合プリプレグシートを吸着ステージの上に吸着する様子を説明する断面図である。図４（Ａ）に示すように、更に複合プリプレグシート１０を下ろす。同時に吸着部２４の面積を広げる（例えば、Ｖａｑ１から、Ｖａｑ１＋Ｖａｑ２へ）。こうして複合プリプレグシート１０に皺２２を形成することなく、徐々に吸着ステージ１４の上に吸着させる。
【００３１】
図４（Ｂ）は、更に複合プリプレグシート１０の吸着済み部２５の面積を広げた（例えば、Ｖａｑ１＋Ｖａｑ２から、Ｖａｑ１＋Ｖａｑ２＋Ｖａｑ３へ）状態を示す断面図である。図４（Ｂ）において、吸着ステージ１４の吸着部２４は更に広がっている。そして最後に図４（Ｃ）に示すように、複合プリプレグシート１０の幅方向を全て、吸着ステージ１４の上に、矢印１２ｄに示すように固定する（例えば、Ｖａｑ１＋Ｖａｑ２＋・・・・＋Ｖａｑ（ｎ））。その後、複合プリプレグシート１０の４辺を複数個所で固定していた吸着治具１１を、矢印１２ｃに示すように取り外す。こうすることで、複合プリプレグシート１０の自重も活かしながら、複合プリプレグシート１０全体を、吸着ステージ１４の表面に皺２２を発生させることなく、吸着できる。
【００３２】
このようにして、複合プリプレグシート１０を、徐々に（最初から皺２２が発生しないように吸着させ、その状態で吸着面積を広げるようにすることで）吸着ステージ１４の上に、皺２２が発生しないように（あるいは伸ばすように）して真空吸着させる。
【００３３】
図５は、吸着ステージの真空引きの手順を説明する図であり、例えば図１における吸着ステージ１４の真空引きのシーケンスに相当する。図５において、２６は真空ＯＮ（つまり真空引きを行っている）となっている期間を、２７ａ、２７ｂは補助線を示す。そしてＸ軸は工程順番（複合プリプレグシートの下降開始→シートのステージ接触→真空吸着完了→次工程開始（ビアペースト充填工程開始）→次工程完了（ビアペースト充填工程完了）を示す。なお次工程（ビアペースト充填工程）については、図６で後述する。図５においてＹ軸は、経過時間（吸着開始→吸着完了）を示す。また図中において、Ｖａｑ１とは、複合プリプレグシート１０を一番最初に吸着させる真空吸着部である。そしてＶａｑ２、Ｖａｑ３、・・・と、順次真空吸着させている。そしてＶａｑ（ｎ−１）、Ｖａｑ（ｎ）となる。またＶａｑ（ｎ）は、吸着ステージ１４の一番最後に真空引きする部分に相当する。なおここでｎは２以上である。ｎを２以上とすることで、吸着ステージ１４における複合プリプレグシート１０の皺２２の発生を防止できる。また図５における補助線２７ｂは、例えばＶａｑ１→Ｖａｑ２→Ｖａｑ３と、真空引きのタイミングを少しずつずらしている（あるいは時間差をつけて遅らせている）ことを示している。
【００３４】
図６は、吸着ステージの上に真空吸着させた複合プリプレグシートの孔に導電性ペーストを充填する様子を説明する断面図及び斜視図であり、ビアペースト充填工程とも呼ばれる。図６（Ａ）において、吸着ステージ１４（図示していない）の上に、通気材１３を介して、複合プリプレグシート１０を皺２２を発生させることなく真空吸着している。図６（Ａ）において、２８はスキージ、２９ａ、２９ｂは導電性ペーストである。スキージ２８を、矢印１２ａの方向に動かしながら、導電性ペースト２９ａを孔２１に埋め込む。ここで孔２１は、矢印１２ｂで示すように真空引きしている。こうして孔２１の内部に、導電性ペースト２９ｂを充填する。図６（Ｂ）は、複合プリプレグシート１０の孔２１に導電性ペースト２９ｂを充填した状態を示す斜視図である。一方、従来の吸着方法では、例えば図８に示したように吸着ステージ４の表面に、プリプレグシート１を皺８を有する状態で吸着しているため図６（Ａ）に示すような導電性ペースト２９ａの充填工程において、皺８がプリプレグシート１に発生しやすく、皺８の上をスキージ２８が通過することで、プリプレグシート１にダメージや寸法変化を与える可能性がある。
【００３５】
なお実施の形態で提案するプリプレグ固定装置や、プリプレグシート固定方法において、取り扱う部材はプリプレグシート１単体でも良い。このように本実施の形態を用いることで、プリプレグシート１は保護フィルム１６無しの状態でも皺２２の防止効果が得られる。更に多数の孔２１に密度差を有するような皺２２が発生しやすくなったプリプレグシート１（更には複合プリプレグシート１０）に対しても、皺２２の発生防止効果が高い。
【００３６】
以上のようにして、プリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）を真空吸着する吸着ステージ１４と、前記プリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）の４辺を複数個所で掴んで、前記吸着ステージ１４の上に前記プリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）を移動させる移動部と、からなるプリプレグシート固定装置を用い、前記吸着ステージ１４に時間差をつけながら独立して真空吸着する、複数個の吸着ゾーン１５（あるいは真空吸着部）を有しているプリプレグシート固定装置を提案することによって、大判化すると取り扱いが難しく（真空吸着時に皺２２が発生しやすい）、更に孔２１を形成することで真空吸着時に皺２２が発生しやすくなり、更にプリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）の一面以上に保護フィルム１６を形成することで発生しやすい皺が、更に真空吸着時に皺２２となりやすい複合プリプレグシート１０であっても、皺２２の発生を防止しながら吸着ステージ１４の上に吸着できるため、複合プリプレグシート１０の大判化が可能であり、多層プリント配線基板の低コスト化を実現すると共に、その歩留まりを高められる。
【００３７】
更にプリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）を真空吸着する吸着ステージ１４と、前記プリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）の４辺を複数個所で掴んで、前記吸着ステージ１４の上に前記孔２１が形成されたプリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）を移動させる移動部と、からなるプリプレグシート固定装置を用い、前記吸着ステージ１４に時間差をつけながら独立して真空吸着できる複数個の吸着ゾーン１５（あるいは真空吸着部）を有しているプリプレグシート固定装置の、前記吸着ステージ１４上にセットした通気材１３の上に、プリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）を移動させ、複数の吸着ゾーン１５（あるいは真空吸着部）の上に、前記孔２１が形成されたプリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）の一部を接触させた後、吸着ステージ１４の複数個の独立した真空吸着部（あるいは複数個の吸着ゾーン１５）を順次真空吸着するプリプレグシート固定方法を用いることによって、大判化すると取り扱いが難しく（真空吸着時に皺２２が発生しやすい）、更に孔２１を形成することで真空吸着時に皺２２が発生しやすくなり、更にプリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）の一面以上に保護フィルム１６を形成することで発生しやすい皺が、更に真空吸着時に皺２２となりやすい複合プリプレグシート１０であっても、皺２２の発生を防止しながら吸着ステージ１４の上に吸着できるため、複合プリプレグシート１０の大判化が可能であり、多層プリント配線基板の低コスト化を実現すると共に、その歩留まりを高められる。
【００３８】
プリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）を真空吸着する吸着ステージ１４と、前記プリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）の４辺を複数個所で掴んで、前記吸着ステージ１４の上に前記プリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）を移動させる移動部と、からなるプリプレグシート固定装置を用い、前記吸着ステージ１４に時間差をつけながら独立して真空吸着する、複数個の独立して真空引きできる吸着ゾーン１５（あるいは真空吸着部）を有しているプリプレグシート固定装置の、前記吸着ステージ１４上にセットした通気材１３の上に、プリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）を移動させ、前記吸着ステージ１４（あるいは真空吸着部）の上に、前記プリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）の一部を接触させた後、吸着ステージ１４の複数個の吸着ゾーン１５（あるいは真空吸着部）を順次真空吸着するプリプレグシートの固定方法を用いることによって、大判化すると取り扱いが難しく（真空吸着時に皺２２が発生しやすい）、更に孔２１を形成することで真空吸着時に皺２２が発生しやすくなり、更にプリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）の一面以上に保護フィルム１６を形成することで発生しやすい皺が、更に真空吸着時に皺２２となりやすい複合プリプレグシート１０であっても、皺２２の発生を防止しながら吸着ステージ１４の上に吸着できるため、複合プリプレグシート１０の大判化が可能であり、多層プリント配線基板の低コスト化を実現すると共に、その歩留まりを高められる。
【００３９】
少なくとも、プリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）を真空吸着する吸着ステージ１４と、前記プリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）の４辺を複数個所で掴んで前記吸着ステージ１４の上に前記プリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）を移動させる移動部と、からなるプリプレグシート固定装置を用い、前記吸着ステージ１４に時間差をつけながら独立して真空吸着する、複数個の独立して真空引きできる吸着ゾーン１５（あるいは真空吸着部）を有しているプリプレグシート固定装置の、前記吸着ステージ１４上にセットした通気材１３の上に、プリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）を移動させ、前記吸着ゾーン１５（あるいは真空吸着部）の上に、前記プリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）の一部を接触させた後、吸着ステージ１４の複数個の吸着ゾーン１５（あるいは真空吸着部）を順次真空吸着した後、前記プリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）の前記孔２１に、導電性ペースト２９ａ、２９ｂを充填する工程を含む多層プリント配線基板の製造方法によって、大判化すると取り扱いが難しく（真空吸着時に皺２２が発生しやすい）プリプレグシート１（あるいは複合プリプレグシート１０）であっても、皺２２の発生を防止しながら吸着ステージ１４の上に吸着できるため、複合プリプレグシート１０の大判化が可能であり、多層プリント配線基板の低コスト化を実現すると共に、その歩留まりを高められる。
【産業上の利用可能性】
【００４０】
以上のように、本発明にかかるプリプレグシート固定装置とプリプレグシート固定方法及び多層プリント配線基板の製造方法を用いることで、携帯電話を始めとする各種機器に用いる多層プリント配線基板をコストダウンでき、機器の低コスト化を実現する。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】実施の形態におけるプリプレグシートの吸着方法について説明する斜視図
【図２】（Ａ）、（Ｂ）は複合プリプレグシートについて説明する断面図、（Ｃ）は斜視図
【図３】（Ａ）、（Ｂ）は複合プリプレグシートを吸着ステージの上に真空吸着させる様子を説明する模式図
【図４】（Ａ）〜（Ｃ）はそれぞれ複合プリプレグシートを吸着ステージの上に吸着する様子を説明する模式図
【図５】吸着ステージの真空引きの手順を説明する図
【図６】（Ａ）は吸着ステージの上に真空吸着させた複合プリプレグシートの孔に導電性ペーストを充填する様子を説明する断面図、（Ｂ）は同斜視図
【図７】従来のプリプレグシートを吸着ステージに吸着する様子を示す斜視図
【図８】（Ａ）はプリプレグシートが大面積化した時の課題について説明する斜視図、（Ｂ）は同断面図
【符号の説明】
【００４２】
１０ 複合プリプレグシート
１１ 吸着治具
１２ 矢印
１３ 通気材
１４ 吸着ステージ
１５ 吸着ゾーン
１６ 保護フィルム
１７ 繊維
１８ 樹脂
１９ レーザー装置
２０ レーザー光
２１ 孔
２２ 皺
２３ 点線
２４ 吸着部
２５ 吸着済み部
２６ 真空ＯＮ
２７ 補助線
２８ スキージ
２９ 導電性ペースト
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プリプレグシートを真空吸着する吸着ステージと、
前記プリプレグシートの４辺を複数個所で掴んで、前記吸着ステージの上に前記プリプレグシートを移動させる移動部と、
からなるプリプレグシート固定装置であって、
前記吸着ステージが、時間差をつけながら独立して真空吸着する複数個の独立した真空吸着部を有しているプリプレグシート固定装置。
【請求項２】
プリプレグシートを真空吸着する吸着ステージと、
前記プリプレグシートの４辺を複数個所で掴んで、前記吸着ステージの上に前記プリプレグシートを移動させる移動部と、
からなるプリプレグシート固定装置であって、
前記吸着ステージが、時間差をつけながら独立して真空吸着する複数個の独立した真空吸着部を有しており、
前記吸着ステージ上にセットした通気材の上に、前記移動部によって前記プリプレグシートを移動させ、
前記真空吸着部の第１の真空吸着部の上に、前記プリプレグシートの自重で形成された凸部を真空吸着させた後、吸着ステージの第２以降の真空吸着部を用いて真空吸着するプリプレグシート固定方法。
【請求項３】
孔の形成されたプリプレグシートを真空吸着する吸着ステージと、
前記プリプレグシートの４辺を複数個所で掴んで、前記吸着ステージの上に前記プリプレグシートを移動させる移動部と、
からなるプリプレグシート固定装置を用い、
前記吸着ステージに時間差をつけながら独立して真空吸着する、複数個の独立した真空吸着部を有しているプリプレグシート固定装置の、
前記吸着ステージ上にセットした通気材の上に、プリプレグシートを移動させ、
前記真空吸着部の上に、前記孔開きプリプレグシートの一部を接触させた後、前記吸着ステージの独立した真空吸着部を順次真空吸着するプリプレグシート固定方法。
【請求項４】
少なくとも、
プリプレグシートを真空吸着する吸着ステージと、
前記プリプレグシートの４辺を複数個所で掴んで、前記吸着ステージの上に前記プリプレグシートを移動させる移動部と、
からなるプリプレグシート固定装置を用い、
前記吸着ステージに時間差をつけながら独立して真空吸着する複数個の独立した真空吸着部を有しているプリプレグシート固定装置の、
前記吸着ステージ上にセットした通気材の上に、プリプレグシートを移動させ、
前記真空吸着部の上に、前記プリプレグシートの一部を接触させた後、前記独立した真空吸着部を順次真空吸着した後、
前記プリプレグシートの前記孔に、導電性ペーストを充填する工程を、
含む多層プリント配線基板の製造方法。
【請求項１】
プリプレグシートを真空吸着する吸着ステージと、
前記プリプレグシートの４辺を複数個所で掴んで、前記吸着ステージの上に前記プリプレグシートを移動させる移動部と、
からなるプリプレグシート固定装置であって、
前記吸着ステージが、時間差をつけながら独立して真空吸着する複数個の独立した真空吸着部を有しているプリプレグシート固定装置。
【請求項２】
プリプレグシートを真空吸着する吸着ステージと、
前記プリプレグシートの４辺を複数個所で掴んで、前記吸着ステージの上に前記プリプレグシートを移動させる移動部と、
からなるプリプレグシート固定装置であって、
前記吸着ステージが、時間差をつけながら独立して真空吸着する複数個の独立した真空吸着部を有しており、
前記吸着ステージ上にセットした通気材の上に、前記移動部によって前記プリプレグシートを移動させ、
前記真空吸着部の第１の真空吸着部の上に、前記プリプレグシートの自重で形成された凸部を真空吸着させた後、吸着ステージの第２以降の真空吸着部を用いて真空吸着するプリプレグシート固定方法。
【請求項３】
孔の形成されたプリプレグシートを真空吸着する吸着ステージと、
前記プリプレグシートの４辺を複数個所で掴んで、前記吸着ステージの上に前記プリプレグシートを移動させる移動部と、
からなるプリプレグシート固定装置を用い、
前記吸着ステージに時間差をつけながら独立して真空吸着する、複数個の独立した真空吸着部を有しているプリプレグシート固定装置の、
前記吸着ステージ上にセットした通気材の上に、プリプレグシートを移動させ、
前記真空吸着部の上に、前記孔開きプリプレグシートの一部を接触させた後、前記吸着ステージの独立した真空吸着部を順次真空吸着するプリプレグシート固定方法。
【請求項４】
少なくとも、
プリプレグシートを真空吸着する吸着ステージと、
前記プリプレグシートの４辺を複数個所で掴んで、前記吸着ステージの上に前記プリプレグシートを移動させる移動部と、
からなるプリプレグシート固定装置を用い、
前記吸着ステージに時間差をつけながら独立して真空吸着する複数個の独立した真空吸着部を有しているプリプレグシート固定装置の、
前記吸着ステージ上にセットした通気材の上に、プリプレグシートを移動させ、
前記真空吸着部の上に、前記プリプレグシートの一部を接触させた後、前記独立した真空吸着部を順次真空吸着した後、
前記プリプレグシートの前記孔に、導電性ペーストを充填する工程を、
含む多層プリント配線基板の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【公開番号】特開２００８−５３５７３（Ｐ２００８−５３５７３Ａ）
【公開日】平成２０年３月６日（２００８．３．６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−２３００６４（Ｐ２００６−２３００６４）
【出願日】平成１８年８月２８日（２００６．８．２８）
【出願人】（０００００５８２１）松下電器産業株式会社 (73,050)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年３月６日（２００８．３．６）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年８月２８日（２００６．８．２８）
【出願人】（０００００５８２１）松下電器産業株式会社 (73,050)
【Ｆターム（参考）】
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