レジスト回収装置
【課題】第１に、レジストの回収効率が向上し、アルカリ溶液のライフ寿命が長くなり、清掃作業も簡単容易化され、第２に、消泡剤の添加が不要化されて、回路基板の不良発生が防止され、第３に、目詰まりが防止され、メッシュ密度を密に可能であり、第４に、装置が小型化される、レジスト回収装置を提案する。
【解決手段】このレジスト回収装置１１は、回路基板の製造工程で使用され、感光性のレジストＡとアルカリ溶液Ｂの混合体Ｄから、レジストＡを分離，回収する。そして、プレ脱液部１３，レジスト濃縮部１４，レジスト回収部１５，泡回収部３０等を有している。プレ脱液部１３は、まず、混合体Ｄからアルカリ溶液Ｂを分離，回収し、レジスト濃縮部１４は、次に、レジストＡを濃縮して、アルカリ溶液Ｂを分離，回収し、レジスト回収部１５は、最後に、レジストＡを捕集，回収して、アルカリ溶液Ｂを分離，回収する。
【解決手段】このレジスト回収装置１１は、回路基板の製造工程で使用され、感光性のレジストＡとアルカリ溶液Ｂの混合体Ｄから、レジストＡを分離，回収する。そして、プレ脱液部１３，レジスト濃縮部１４，レジスト回収部１５，泡回収部３０等を有している。プレ脱液部１３は、まず、混合体Ｄからアルカリ溶液Ｂを分離，回収し、レジスト濃縮部１４は、次に、レジストＡを濃縮して、アルカリ溶液Ｂを分離，回収し、レジスト回収部１５は、最後に、レジストＡを捕集，回収して、アルカリ溶液Ｂを分離，回収する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レジスト回収装置に関する。すなわち、回路基板の製造工程おいて、現像機や剥離機に付設され、現像液や剥離液等のアルカリ溶液と感光性のレジストとを、混合体から分離，回収する、レジスト回収装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
《技術的背景》
電子機器の高性能化，高機能化，小型軽量化に伴い、プリント配線基板等の回路基板も、高精度化，ファイン化，極薄化，多様化が進み、形成される回路の高密度化，微細化が著しい。
そして、このような回路基板の製造工程では、銅張り積層板たる基板材の外表面に、感光性のレジストを膜状に塗布又は張り付けてから、→回路のネガフィルムを当てて、露光した後、→回路形成部分以外のレジストを、現象により溶解除去し、→回路形成部分以外の銅箔を、エッチングにより溶解除去してから、→回路形成部分のレジストを、剥膜除去することにより、→基板材の外表面に、銅箔にて回路が形成され、→もって、回路基板が製造されている。
【０００３】
《従来技術》
図４は、この種従来例の説明に供し、正断面説明図である。同図にも示したように、上述した現像工程や剥膜工程では、現像機１や剥離機２が用いられており、回路形成部分以外のレジストＡや、硬化して残っていた回路形成部分のレジストＡが、→現像液や剥離液等のアルカリ溶液Ｂを、噴射することにより、→基板材Ｃの外表面から、溶解除去，剥膜除去される。
→そして、このように現像機１や剥離機２にて使用されたアルカリ溶液Ｂと、感光膜として用いられた後に除去された小さな破片状のレジストＡとは、→混じり合った混合体Ｄとなって、流下する。
→そこで、このような混合体Ｄを、現像機１や剥離機２から、付設されたレジスト回収装置３に供給して、アルカリ溶液ＢとレジストＡを分離し、→現像液や剥離液等のアルカリ溶液Ｂは、現像機１や剥離機２に循環供給されて再使用され、レジストＡは廃棄されている。
【０００４】
そして、この種のレジスト回収装置３としては、図４に示したフィルター４式や網目ドラム式のものが、代表的に使用されていた。
すなわち、この種従来例のレジスト回収装置２では、混合体Ｄを、現像機１や剥離機２のチャンバー５の下部の液槽６から、→ポンプ７や配管８を介して、フィルター４や網目ドラムに供給し、→もって、フィルター４や網目ドラムを通過することにより、濾過，分離する。→そして、回収された現像液や剥離液等のアルカリ溶液Ｂは、配管８を介して、現像機１や剥離機２のスプレーノズル９に供給して、噴射，再使用し、フィルター４や網目ドラムを通過しなかったレジストＡは、捕集，回収，廃棄していた。
図中１０は、現像機１や剥離機２において、基板材Ｃを搬送するローラーコンベヤである。
【０００５】
《先行技術文献情報》
このような従来例としては、例えば、次の特許文献１の従来技術欄に示されたものが、挙げられる。
【特許文献１】特開２００４−３２５５０２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、このような従来例のレジスト回収装置３については、次の問題が指摘されていた。
《第１の問題点》
第１に、レジストＡとアルカリ溶液Ｂとの分離，回収が不確実であり、レジストＡの回収効率が悪く、アルカリ溶液Ｂの消耗が激しい、という問題が指摘されていた。
すなわち、回路基板は、高精度化，ファイン化，極薄化が進み、形成される回路の高密度化，微細化が著しい。→もって、このような回路形成部分や回路形成部分以外から除去されたレジストＡも、微細化が著しい。
→そこで、従来のフィルター４式や網目ドラム式のレジスト回収装置３では、混合体Ｄ中からレジストＡを濾過，分離，捕集，回収することが、最近ますます容易でなく、不確実化，困難化する傾向にある。
【０００７】
→従って、レジスト回収装置３を経て回収された現像液や剥離液等のアルカリ溶液Ｂ中には、レジストＡが多量に混入しやすい状態にある。→そこで、このようなアルカリ溶液Ｂは、現像機１や剥離機２に循環供給して再使用を繰り返すと、→本来機能である基板材ＣからのレジストＡの溶解除去，剥膜除去機能が、次第に低下してしまうことになる。
→もって、現像機１の現像液や剥離機２の剥離液等のアルカリ溶液Ｂは、ライフ寿命が短く、新鮮液の補充頻度や新鮮液への交換頻度が高くなり、その分、コスト負担も大きくなっていた。例えば、１週間に１回程度の交換が必要とされていた。
又、現像機１や剥離機２にレジストＡが混入したアルカリ溶液Ｂを、循環供給して繰り返し使用していると、→レジストＡが白濁化，クリーム状化，のり状化して、→液槽６内壁に沈澱，付着してしまい、配管８その他の目詰まりの原因ともなる。→そこで、その清掃や除去作業が行われているが、非常に面倒であり手間や時間を要していた。
【０００８】
《第２の問題点》
第２に、現像液や剥離液等のアルカリ溶液Ｂには、従来より消泡剤が添加されているが、この消泡剤は、基板材Ｃの回路形成に悪影響を及ぼし、回路基板の不良原因となる、という問題が指摘されていた。
すなわち、現像機や剥離機では、スプレーノズル９から基板材Ｃに対し、現像液や剥離液等のアルカリ溶液Ｂが噴射される。→そこで、基板材Ｃ付近では、噴射に伴いアルカリ溶液Ｂの泡が発生するが、→この泡が、混合体Ｄと共にレジスト回収装置３のフィルター４や網目ドラムに、流れ込むと、→この泡にて、レジストＡが液面に浮いてしまい、→レジストＡの分離，回収が不確化し、レジストＡの回収効率が低下してしまう。
→そこでその対策として、従来は、予めアルカリ溶液Ｂに消泡剤、例えばエマルジョンタイプのエーテル型油質の消泡剤が、添加されていた。
→しかしながら、このように添加された消泡剤が、基板材Ｃの処理に悪影響を及ぼし、現像不良，エッチング不良，剥離不良が生じ易くなり、→製造される回路基板に、不良品が発生していた。
【０００９】
《第３の問題点》
第３に、レジスト回収装置３のフィルター４や網目ドラムについて、目詰まりが発生し易く、もって、フィルター４や網目ドラムの交換頻度やメインテナンス頻度が高く、コストがかさむという問題が指摘されていた。
すなわち、前記第１の問題への対応策、つまり微細化が進むレジストＡの濾過，分離，回収を確実化し、レジストＡの回収効率を向上させる対応策としては、→レジスト回収装置３について、目がより密なフィルター４や網目ドラムを、採用することが必要となる。→しかしながらその結果、フィルター４や網目ドラムに、レジストＡが捕集，蓄積されて、詰まり易かった。
因に、従来のレジスト回収装置３では、網目について、１インチ（２５．４ｍｍ）当たりの網目数で２０メッシュ程度が限界とされており、微細なレジストＡ回収にとって十分ではないと共に、目詰まりも多発していた。
【００１０】
《第４の問題点》
第４に、レジスト回収装置３が大型化してしまい、据付スペースを取ると共に、コスト高となる、という問題も指摘されていた。
すなわち、従来のレジスト回収装置３では、現像機１や剥離機２から供給された混合体Ｄを、→フィルター４や網目ドラムにて、一度に濾過，分離して、→レジストＡを捕集しアルカリ溶液Ｂを回収していた。
つまり、供給された多量の混合体Ｄを、→１回の処理で一挙に濾過，分離していたので、→どうしても、レジスト回収装置３が大型化してしまっていた。
【００１１】
《本発明について》
本発明のレジスト回収装置は、このような実情に鑑み、上記従来例の課題を解決すべく、なされたものである。
そして、本発明は、第１に、レジストの回収効率が向上し、第２に、消泡剤の添加が不要化され、第３に、目詰まりが防止され、第４に、装置が小型化される、レジスト回収装置を提案すること、を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
《請求項について》
このような課題を解決する本発明の技術的手段は、次のとおりである。まず、請求項１については次のとおり。
請求項１のレジスト回収装置は、回路基板の製造工程において使用され、供給された噴射後のアルカリ溶液と除去された感光性のレジストとの混合体から、該レジストを回収する。そして、液槽，プレ脱液部，レジスト濃縮部，レジスト回収部を有している。
該プレ脱液部は、該混合体から該アルカリ溶液を分離して、該液槽へと回収させる。該レジスト濃縮部は、該プレ脱液部から供給された該混合体について、該レジストを濃縮すると共に、該アルカリ溶液を分離して該液槽へと回収させる。該レジスト回収部は、該レジスト濃縮部から供給された該混合体について、該レジストを捕集，回収すると共に、該アルカリ溶液を該液槽へと分離，回収させること、を特徴とする。
請求項２については次のとおり。請求項２のレジスト回収装置では、請求項１において、該プレ脱液部は、脱液ネットを備えている。そして、供給された該混合体は、まず該脱液ネット上を流れることにより、かなりの該アルカリ溶液が、分離，落下されて該液槽へと回収される。
該レジスト濃縮部は、該液槽中に立設された略逆円錐状の捕集ネットを備えている。そして、該プレ脱液部の脱液ネット上から供給された該混合体は、該捕集ネット内で下方に向け吸引，流下されることにより、かなりの該アルカリ溶液が、該捕集ネット外に流出し下方に向け吸引，流下されて該液槽へと吸引，回収されると共に、該レジストが、該捕集ネット内下部に向け順次濃縮されて行く。
該レジスト回収部は、濾過ネットを備えている。そして、該レジスト濃縮部の捕集ネット内下部から供給され濃縮された該レジストを含んだ該混合体は、該レジストが、該濾過ネットにて捕集，回収されると共に、該アルカリ溶液が、該液槽へと回収されること、を特徴とする。
【００１３】
請求項３については次のとおり。請求項３のレジスト回収装置は、請求項２において、回路基板の製造工程の現像機に付設され、該アルカリ溶液が現像液よりなること、を特徴とする。
請求項４については次のとおり。請求項４のレジスト回収装置は、請求項２において、回路基板の製造工程の剥離機に付設され、該アルカリ溶液が剥離液よりなること、を特徴とする。
請求項５については次のとおり。請求項５のレジスト回収装置は、請求項３又は４において、更に、泡回収ボックス，液化ノズル，消泡ネットを備えた、泡回収部が配設されている。
そして該泡回収ボックスは、該レジスト濃縮部上に間隔を存して配設され、下面が開放されており、該混合体上部の該アルカリ溶液の泡を吸引する。該液化ノズルは、該泡回収ボックスから供給された該泡を、該消泡ネットへと噴射する。該消泡ネットは、噴射された該泡を液化し該アルカリ溶液に戻して、該液槽へ回収させること、を特徴とする。
【００１４】
請求項６については次のとおり。請求項６のレジスト回収装置では、請求項３又は４において、該プレ脱液部は、下降傾斜して配設された該脱液ネットと、該脱液ネット下に上下間隔を存して配設された多孔プレートと、該多孔プレート上に立設された各突起と、を備えた構造よりなる。
そして、該脱液ネット下に落下した該アルカリ溶液は、該多孔プレートと該突起にてバウンド，浮沈運動され、もって該脱液ネットを下から揺らすと共に、該多孔プレート上から該液槽へと落下，回収されること、を特徴とする。
請求項７については次のとおり。請求項７のレジスト回収装置は、請求項３又は４において、該レジスト濃縮部の捕集ネットの外側に、間隔を存して多孔カバーが周設されている。そして、該液槽内の該アルカリ溶液は、該多孔カバー内に流入すると共に、該捕集ネットの外面に沿って下方に向け吸引，流下され、もって該液槽へと吸引，回収されること、を特徴とする。
請求項８については次のとおり。請求項８のレジスト回収装置は、請求項５又は７において、該混合体，該アルカリ溶液，又は該泡を吸引するポンプは、間欠駆動タイプよりなること、を特徴とする。
【００１５】
《作用等》
本発明のレジスト回収装置は、このような手段よりなるので、次のようになる。
（１）回路基板の製造工程において、現像機や剥離機で噴射使用された現像液や剥離液等のアルカリ溶液と、感光膜として用いられ基板材から除去された小さな破片状の感光性レジストとの混合体は、付設されたレジスト回収装置に供給される。
（２）そして混合体は、まず、プレ脱液部の脱液ネット上を流れることにより、かなりの量のアルカリ溶液が、分離，落下されて液槽に回収される。
その際、脱液ネット下に落下したアルカリ溶液が、突起付きの多孔プレートにてバウンド，浮沈運動して、脱液ネットを下から揺らすので、脱液ネットは、常時リフレッシュされ、混合体中のレジストによる目詰まりが防止される。
【００１６】
（３）次に混合体は、レジスト濃縮部の捕集ネットに供給され、略逆円錐状の捕集ネット内を、下方に吸引，流下される。もって、かなりの量のアルカリ溶液が、捕集ネット外に流出して下方に吸引，流下されて液槽へと吸引，回収され、レジストが、捕集ネット下部に向け順次集められ，濃縮されて行く。
（４）捕集ネットの外側には、多孔カバーが周設されており、液槽内のアルカリ溶液が、多孔カバーを介し、捕集ネット外面に沿って下方に吸引，流下され、もって捕集ネット内から流出したアルカリ溶液と共に、液槽へと吸引，回収される。
このようにして、捕集ネット内外には、同方向，同圧の流れが形成されるので、混合体中のレジストによる捕集ネットの目詰まりが防止される。
（５）さて、濃縮されたレジストを含んだ混合体は、それから、捕集ネット下部からレジスト回収部に供給され、レジストが濾過ネットにて捕集，回収されると共に、アルカリ溶液が液槽へと回収される。
（６）なお、混合体やアルカリ溶液を吸引するポンプについて、間欠駆動タイプを採用すると、捕集ネットや濾過ネットが、混合体中のレジストにて目詰まりすることが、より確実に防止される。
【００１７】
（７）ところで、現像機又は剥離機における噴射に伴い、レジスト回収装置に供給された混合体は、アルカリ溶液の多量の泡を伴っている。
そこで、レジスト回収装置には、泡回収部が配設されている。そして泡は、泡回収ボックスに吸引されて、液化ノズルから消泡ネットへと噴射され、もって液化されアルカリ溶液に戻されて、液槽に回収される。なお、泡を吸引するポンプについて、間欠駆動タイプを採用すると、泡の液化が助長される。
このようにして泡、つまり混合体の液面にレジストを浮かせて、レジストの分離，回収を不確実化させる泡は、解消される。そしてこれは、基板材の処理に悪影響を及ぼす消泡剤を使用することなく、実現される。
（８）このレジスト回収装置では、このようにして、レジストとアルカリ溶液とが、確実に分離，回収される。
（９）又、プレ脱液部で、予めかなりの量のアルカリ溶液を分離，回収するので、その分だけ、レジスト濃縮部に供給される混合体の量が削減され、更に、レジスト濃縮部でもアルカリ溶液を分離，回収するので、その分だけ、レジスト回収部に供給される混合体の量が削減される。もって、レジスト濃縮部やレジスト回収部が小型化され、レジスト回収装置も小型化される。
（１０）さてそこで、本発明のレジスト回収装置は、次の効果を発揮する。
【発明の効果】
【００１８】
《第１の効果》
第１に、レジスト回収効率が向上し、アルカリ溶液のライフ寿命が長くなり、清掃作業も簡単容易化される。
すなわち、本発明のレジスト回収装置では、混合体について、まずプレ脱液部において、レジストの少ない下部側から現像液や剥離液等のアルカリ溶液を分離，回収してから、次にレジスト濃縮部において、レジストを濃縮すると共に、更にアルカリ溶液を分離，回収し、最後にレジスト回収部において、濃縮されたレジストを捕集，回収すると共に、アルカリ溶液を分離，回収する。
このようにして、レジストとアルカリ溶液がスムーズかつ確実に分離，回収される。最近の微細化されたレジストでも、確実に分離，回収される。又、泡が解消されることや、目詰まりが防止される面からも、このような分離，回収の確実化が促進される。
そこで、フィルター式や網目ドラム式の前述したこの種従来例のレジスト回収装置のように、回収されたアルカリ溶液中に多量のレジストが混入してしまうことは、回避される。回収されたアルカリ溶液は、何回も現像機や剥離機に供給して、再使用，循環利用可能である。
もって、この種従来例に比べ、レジストの回収効率が大幅に向上し、アルカリ溶液の消耗が１／３程度に削減されて、アルカリ溶液のライフ寿命が長くなり、その補充頻度や交換頻度が低下し、コスト負担が軽減される。例えば、２〜３週間に１回程度の交換で済むようになる。
又、循環使用されるアルカリ溶液中に混入していたレジストが、現像機や剥離機内において、白濁化，クリーム状化，のり状化して沈澱，付着することも減少し、面倒で手間や時間がかかる清掃除去作業の回数も、大幅に削減される。
【００１９】
《第２の効果》
第２に、消泡剤の添加が不要化され、もって製造される回路基板の不良発生が防止される。
すなわち、本発明のレジスト回収装置では、泡回収部により、アルカリ溶液の泡を解消させるシステムを採用してなる。前述したこの種従来例のように、予め現像液や剥離液等のアルカリ溶液に、消泡剤を添加しておくシステムではないので、消泡剤による現像不良，エッチング不良，剥離不良等の発生の虞はなく、消泡剤による基板材の処理に対する悪影響は発生しない。もって、製造される回路基板について、消泡剤に起因した不良品発生は回避される。
【００２０】
《第３の効果》
第３に、目詰まりが防止され、メッシュ密度をより密にすることも可能である。すなわち、本発明のレジスト回収装置では、プレ脱液部における脱液ネットの揺れによるリフレッシュや、レジスト濃縮部における捕集ネット内外の同方向，同圧流れの形成や、間欠駆動タイプのポンプの採用等により、脱液ネット，捕集ネット，濾過ネットについて、目詰まりが阻止される。
そこで、前述したこの種従来例のレジスト回収装置に比し、ネット等の交換頻度が大幅に減少し、メインテナンスの頻度も少なく、コスト面に優れている。
又、最近の回路の微細化に伴い、レジストも微細化傾向が顕著であるが、このように目詰まりが防止されるので、２００メッシュ程度の網目のネットも採用可能となった。脱液ネット，捕集ネット，濾過ネット等について、微細レジストへの対応に優れた、１インチ（２５．４ｍｍ）当たりの網目数で２００メッシュ程度のものを、採用できるようになった。そこで、２０メッシュ程度が限界とされていた前述したこの種従来例のレジスト回収装置に比し、この面からもレジスト回収効率が向上する。
【００２１】
《第４の効果》
第４に、装置が小型化される。すなわち、本発明のレジスト回収装置では、プレ脱液部，レジスト濃縮部，レジスト回収部の順に、順次段階的に、現像液や剥離液等のアルカリ溶液が分離，回収されて行く。
そこで、レジストとアルカリ溶液とを、一度に濾過，分離，回収する方式よりなり、もって装置が大型化していた前述したこの種従来例のレジスト回収装置に比し、装置が小型化される。もって、据付スペースを取らないと共に、価格も半分程度になる等、コスト面にも優れている。
このように、この種従来例に存した課題がすべて解決される等、本発明の発揮する効果は、顕著にして大なるものがある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
《図面について》
以下、本発明のレジスト回収装置を、図面に示した発明を実施するための最良の形態に基づいて、詳細に説明する。
図１，図２，図３は、本発明の実施の形態の説明図に供する。そして図１は、正断面説明図、図２は、要部の側断面説明図、図３は、全体の側断面説明図である。
図５は、基板（基板材）の模式化した平面説明図である。
【００２３】
《回路基板Ｅについて》
このレジスト回収装置１１は、回路基板Ｅの製造工程で使用される。そこでまず、図５を参照しつつ、回路基板Ｅの概略について説明しておく。
回路基板Ｅは、ＡＶ機器，パソコン，携帯電話，デジカメ，その他各種の電子機器において、電気的接続用に用いられており、部品間を接続するための回路Ｆパターンを、絶縁層の外表面や内部に形成してなる。
そして回路基板Ｅは、片面基板と両面基板とに分けられる他、多層基板（含、最近のビルドアップ法のもの）、その他各種のものがあり、硬質のリジット系基板とフィルム状のフレキシブル系基板にも分けられる。
又、このような回路基板Ｅの一環として、ＩＣ，ＬＳＩ素子，受動部品，駆動部品，コンデンサー等々の半導体部品が、回路Ｆと一体的に組み込まれたモジュール基板（半導体一体型のパッケージ基板）や、ガラスベースに回路Ｆと共に半導体部品が埋め込まれたガラス基板、つまりプラズマディスプレイＰＤＰ用のガラス基板や液晶ＬＣＤ用のガラス基板、更にはＣＳＰ，ＰＢＧＡ等も出現している。勿論、本明細書において回路基板Ｅとは、従来よりのプリント配線基板の外、このようなものも広く包含する。
そして回路基板Ｅは、電子機器の高性能化，高機能化，小型軽量化に伴い、高精度化，ファイン化，そして極薄化，フレキシブル化，更には多層化，多様化等が進み、外表面（表面や裏面の一方又は双方）に形成される回路Ｆ、更には内部に形成される回路Ｆの高密度化，微細化が著しい。
回路基板Ｅ例えばプリント配線基板は、製造に際しての１枚の縦横のカットサイズが、例えば５００ｍｍ×５００ｍｍ程度よりなる。肉厚は、絶縁層（コア材）部分が、従来の１．６ｍｍから１．０ｍｍ〜６０μｍ程度、昨今では５０μｍから１０μｍ前後まで、極薄化されている。回路Ｆ部分（銅箔部分）の肉厚も、７５μｍ〜３５μｍ、昨今では１６μｍ〜１０μｍ前後まで、極薄化されている。多層基板の場合でも、全体の肉厚が１．０ｍｍ〜０．４ｍｍ程度まで、極薄化されつつある。回路Ｆ幅や回路Ｆ間スペースも、３０μｍ〜１５μｍ程度、昨今では１０μｍ前後と微細化傾向にある。
回路基板Ｅは、概略このようになっている。
【００２４】
《回路基板Ｅの製造方法の１例について》
次に、このレジスト回収装置１１が使用される、回路基板Ｅの製造方法について、図５，図１等を参照して説明する。まず、第１例の製造方法について述べる。この製造方法において、回路基板Ｅ例えばプリント配線基板は、次のステップを辿って製造される。
最初に、ガラスクロス製，セラミックス製や，フィルム状のポリイミド製，その他の樹脂製の絶縁層（コア材）の外表面に、銅箔が熱プレス等により張り付けられた、銅張り積層板たる基板材Ｃが準備される。
そして、このように準備された基板材Ｃについて、張り付けられた銅箔表面を粗化する表面粗化処理（ソフトエッチング）が行われた後、短尺のワークサイズの各葉に切断される。表面粗化処理は、従来は機械研磨によって行われていたが、最近は処理液の噴射によって行われることが多い。
そして多くの場合、スルホール用の孔あけ加工が、レーザ等を使用して実施される。スルホールは、基板材Ｃ（回路基板Ｅ）の両外表面間の微細な貫通孔よりなり、１枚について、極小径のものが数百個以上形成され、その径は、０．５ｍｍ〜０．２ｍｍ程度以下のものが多くなっている。そしてスルホールは、両外表面の回路Ｆ（銅箔）間や多層基板の回路Ｆ（銅箔）間の導通接続用や、回路Ｆに実装される半導体部品の取付け用として使用される。
なお最近は、孔あけ加工を要するスルホールに代えて、小突起状・略円錐台状の接点たるバンプを形成し、もって多層基板等について、このバンプにより、スルホールと同様の機能を実現する技術も開発されている。バンプは、回路Ｆに準じ、現像工程，エッチング工程，剥膜工程を辿って製造される。
【００２５】
さてしかる後、基板材Ｃの銅箔の外表面に、感光性のレジストＡが、膜状に塗布又は張り付けられる。レジストＡのドライフィルムが、圧着されることも多い。それから、回路Ｆのネガフィルムつまり予め回路Ｆ設計された回路Ｆ写真を当てて、露光することにより、外表面のレジストＡは、露光されて硬化した回路Ｆ形成部分（保護膜部分）を残し、その他の不要部分が、処理液たる現像液つまりアルカリ溶液Ｂの噴射により、溶解除去される。
それから、このような基板材Ｃの銅箔は、レジストＡが硬化して被覆された回路Ｆ形成部分（保護膜部分）を残し、現像によりレジストＡが溶解除去されて露出した不要部分が、処理液たるエッチング液（塩化第二銅，塩化第二鉄，その他の腐食液）の噴射により、溶解除去・エッチングされる。それから、残っていた回路Ｆ形成部分のレジストＡが、処理液たる剥離液つまりアルカリ溶液Ｂの噴射により剥膜除去され、もって、残った回路Ｆ形成部分の銅箔にて、基板材Ｃの外表面に、所定導体パターンの回路Ｆが形成され、回路基板Ｅが製造される。
なお、上述した現像工程，エッチング工程，剥膜工程には、それぞれ後処理用に、又は剥膜工程の後にまとめて後処理用に、水洗液，中和剤液，その他の洗浄液を噴射する洗浄工程が付設されている。洗浄工程では、基板材Ｃの外表面（含むスルホール内等）に付着していた現像液，エッチング液，剥離液等の処理液が、洗浄，除去される。更に、洗浄工程の後には、乾燥工程が付設されている。すなわち、洗浄工程で洗浄された基板材Ｃの外表面（含むスルホール内等）には、水洗液その他の洗浄液や，それらの水分が付着しているので、酸化防止等のためこれらを除去すべく、事後直ちに乾燥工程において乾燥処理される。
第１例の製造方法は、このようなウェットプロセス法よりなる。第１例の製造方法は、このようになっている。
【００２６】
《回路基板Ｅの製造方法の他の例について》
次に、第２例の製造方法について述べる。回路基板Ｅ例えばプリント配線基板の製造方法としては、上述した第１例のウェットプロセス法が代表的であるが、第２例のセミアディティブ法も多用されつつある。
セミアディティブ法では、まず、予めスルホールが形成された基板材Ｃの外表面に、無電解銅メッキが施される。→それから、この無電解銅メッキに、感光性のレジストＡを膜状に塗布又は張り付けた後、→回路Ｆフィルムである回路Ｆ写真を当て、露光する。→そしてレジストＡは、露光されて硬化した部分を残し、他の部分つまり回路Ｆ形成部分が、処理液たる現像液つまりアルカリ溶液Ｂの噴射により溶解除去される。
しかる後、→回路Ｆ形成部分、つまり現像によりレジストＡが溶解除去されたメッキパターン部分、つまり無電解銅メッキが露出した部分に対し、電解銅メッキが施されて、→回路Ｆが形成される。→なお、残っていた回路Ｆ形成部分以外の硬化したレジストＡは、処理液たる剥離液つまりアルカリ溶液Ｂの噴射により剥膜除去され、→露出した無電解銅メッキが、処理液たるエッチング液の噴射によりクイックエッチングされて、融解除去される。→なお、各工程の後処理用として、前述した所に準じ、洗浄液による洗浄工程や、乾燥工程が付設される。
第２例のセミアディティブ法では、このようにして、電解銅メッキにて回路Ｆが形成され、もって回路基板Ｅが製造される。第２例の製造方法は、このようになっている。
ところで、プリント配線基板その他の回路基板Ｅの製造方法は、最近ますます多様化しつつあり、上述した第１例，第２例以外にも、その他各種の方法が開発，使用されている。本発明は勿論、このような各種の回路基板Ｅの製造方法にも、適用される。
回路基板Ｅの製造方法は、このようになっている。
【００２７】
《レジスト回収装置１１の概要について》
以下、本発明のレジスト回収装置１１について、図１，図２，図３を参照して、説明する。
まず前提として、前述したように、回路基板Ｅの製造工程中、現像工程や剥膜工程では、搬送される基板材Ｃに対し、現像液や剥離液等のアルカリ溶液Ｂが噴射されて、基板材Ｃの外表面から、感光性のレジストＡが除去される。
すなわち、図１中に示したように、現像機１や剥離機２のチャンバー５内では、ローラーコンベヤ１０等のコンベヤにて水平搬送される基板材Ｃに対し、上下に対向配設された各スプレーノズル９から、例えば３％程度の苛性ソーダを含有したアルカリ性の薬液、つまり現像液又は剥離液よりなるアルカリ溶液Ｂが、噴射される。
もって、基板材Ｃの外表面の感光性のレジストＡが除去される。つまり、現像機１では、回路Ｆ形成部分以外のレジストＡが溶解除去され、剥離機２では、回路Ｆ形成部分のレジストＡが、剥膜除去される。
【００２８】
レジスト回収装置１１は、回路基板Ｅの製造工程において、このような現像工程や剥膜工程の付帯工程として、現像機１や剥離機２にそれぞれ付設使用される。
現像工程の場合は、現像機１から、噴射使用後のアルカリ溶液Ｂである現像液と、除去されたレジストＡとの混合体Ｄが、付設されたレジスト回収装置１１に供給される。剥膜工程の場合は、剥離機２から、噴射使用後のアルカリ溶液Ｂである剥離液と、除去されたレジストＡとの混合体Ｄが、付設されたレジスト回収装置１１に供給される。
レジスト回収装置１１は、このように供給されたアルカリ溶液Ｂと感光性のレジストＡとの混合体Ｄから、レジストＡを分離，回収する。そして、液槽１２，プレ脱液部１３，レジスト濃縮部１４，レジスト回収部１５，泡回収部３０等、を有してなる。
レジスト回収装置１１は、概略このようになっている。以下、その詳細について説明する。
【００２９】
《プレ脱液部１３について》
まず、図２等を参照して、プレ脱液部１３について説明する。レジスト回収装置１１のプレ脱液部１３は、脱液ネット１６を備えており、供給された混合体Ｄは、まず脱液ネット１６上を流れることにより、かなりの量のアルカリ溶液Ｂが、分離，落下されて、液槽１２へと回収される。
すなわちプレ脱液部１３は、下降傾斜して配設された脱液ネット１６と、脱液ネット１６下に上下間隔を存して配設された多孔プレート１７と、多孔プレート１７上に多数立設された突起１８と、を備えた構造よりなる。
そして脱液ネット１６下に流下，落下したアルカリ溶液Ｂは、多孔プレート１７と突起１８にて反転，バウンド，浮沈運動され、もって脱液ネット１６を下から揺らすと共に、多孔プレート１７上から液槽１２へと落下，回収される。
【００３０】
このようなプレ脱液部１３について、更に詳述する。まず混合体Ｄは、図１に示したように、現像機１や剥離機２のチャンバー５内の若干傾斜した仕切床１９上に、落下した後、その傾斜に沿って流れる。そして、排出口２０から供給管２１を介し、受入口２２を経由してレジスト回収装置１１へと、流し込まれる。
そして、このようにレジスト回収装置１１に供給された混合体Ｄは、まず、液槽１２の液面上に上下間隔を存して配設されたプレ脱液部１３の脱液ネット１６上を流れる。
図２に示したように、脱液ネット１６は、微細なネット孔が密に多数形成されると共に、略長板ネット状をなしており、ネット孔の径は、微細化したレジストＡでも通過不能な網目寸法に設定されており、例えば、数１０μｍ〜数μｍ程度、２００メッシュ程度に設定されている。そして、このような脱液ネット１６が、長手方向に若干下降傾斜して配設されている。
混合体Ｄは、このような脱液ネット１６上を、受入口２２下の上流側から下流側へと、その傾斜に沿って流れる。もって、混合体Ｄに混入されていたアルカリ溶液Ｂのかなりの部分が、脱液ネット１６のネット孔にて濾過，分離されて、下位の多孔プレート１７を介し、下方の液槽１２に向けて落下して行く。
【００３１】
次に、プレ脱液部１３の多孔プレート１７は、脱液ネット１６下に上下間隔を存しつつ、平行に並んで配設されており、回収孔が多数形成されている。
多孔プレート１７としては、例えばパンチングプレートが使用され、多数の小さな回収孔（孔径は、脱液ネット１６のネット孔よりは遥かに大）を備えると共に、上位の脱液ネット１６と見合った寸法の長板状をなし、見合った傾斜角度で配設，固定されている。
そして、このような多孔プレート１７上には、リキッドカットバーとして機能する突起１８が多数、立設，固定されている。突起１８は、前後（上下流方向）に相互間隔を存しつつ配設され、その高さ寸法が、脱液ネット１６と多孔プレート１７間の上下間隔の例えば半分程度に設定されている。
そこで、前述により脱液ネット１６にて混合体Ｄから分離，落下されたアルカリ溶液Ｂは、下位の多孔プレート１７の回収孔を経由して、下方の液槽１２に向けて落下するが、かなりの部分が途中で、多孔プレート１７の回収孔以外の表面部分にて、反転され，跳ね返される。
そしてアルカリ溶液Ｂは、バウンド，浮沈運動しつつ多孔プレート１７上を流れる。又、このアルカリ溶液Ｂのバウンド，浮沈運動は、プレート１７上に立設された各突起１８の流れ止め機能にて、大きく助長される。
もって、このようなバウンド，浮沈運動により、上位の脱液ネット１６が上下に揺らされるので、脱液ネット１６上を流れる混合体Ｄ中のレジストＡが、脱液ネット１６上に沈殿，付着することが阻止される。つまり、脱液ネット１６の目詰まりが防止される。
プレ脱液部１１は、このようになっている。
【００３２】
《レジスト濃縮部１４について》
次に、図２，図３を参照して、レジスト濃縮部１４について説明する。レジスト回収装置１１のレジスト濃縮部１４は、プレ脱液部１３から供給された混合体Ｄについて、レジストＡを濃縮すると共に、アルカリ溶液Ｂを分離して液槽１２へと回収させる。
すなわち、レジスト濃縮部１４は、液槽１２中に立設された略逆円錐状の捕集ネット２３を備えており、プレ脱液部１３の脱液ネット１６上から供給された混合体Ｄは、捕集ネット２３内を下方に向け吸引，流下される。
もって混合体Ｄは、かなりのアルカリ溶液Ｂが、捕集ネット２３外に流出し、下方に向け吸引，流下されて、液槽１２へと吸引，回収されるので、レジストＡが、捕集ネット２３内の下部に向けて、順次濃縮されて行く。
又、レジスト濃縮部１４の捕集ネット２３の外側には、間隔を存して多孔カバー２４が、周設されている。そこで、液槽１２内のアルカリ溶液Ｂが、多孔カバー２４内に流入すると共に、捕集ネット２３の外面に沿って下方に向け吸引，流下され、もって液槽１２へと吸引，回収される。
【００３３】
このようなレジスト濃縮部１４について、更に詳述する。液槽１２の中央部には、捕集ネット２３と多孔カバー２４とが、同心状に立設されている。
すなわち、捕集ネット２３は、上面が開放されると共に下方ほど小径となった、漏斗状，略逆円錐状をなすと共に、微細なネット孔が密に多数形成されている。ネット孔の径は、微細化したレジストＡも通過不能な網目寸法に設定されており、例えば、数１０μｍ〜数μｍ程度、２００メッシュ程度に設定されている。
そして、このような捕集ネット２３の外側に、左右間隔を存して例えば円筒状の多孔カバー２４が立設されており、多孔カバー２４は、多数の小さな孔（孔径は、捕集ネット２３のネット孔よりは遥かに大）を備えている。
捕集ネット２３の上部は、液槽１２の液面上に突出すると共に、プレ脱液部１３の脱液ネット１６下流側より、一段低く配されており、捕集ネット２３の下部は、液槽１２下に連通して垂下付設された下ボックス部２５内に、至っている。多孔カバー２４の上部は、捕集ネット２３と共に液槽１２の液面上に突出し、下部は、液槽１２底面に固定されている。
【００３４】
そこで、プレ脱液部１３の脱液ネット１６下流からの混合体Ｄは、捕集ネット２３上に供給された後、捕集ネット２３内部を下へと流下する。
そして混合体Ｄは、捕集ネット２３内部を自然流下すると共に、捕集ネット２３下端に接続された配管２６のポンプ２７にて、吸引，流下される。混合体Ｄ中のレジストＡも、液面に浮上することなく、下方に向けて吸引，流下される。
そして混合体Ｄは、下方ほど径小となって捕集ネット２３内部を、このように吸引，流下されるので、混入されていたかなりの量のアルカリ溶液Ｂが、徐々に捕集ネット２３外へと流出して行く。
そこで混合体Ｄは、下方ほど径小となった捕集ネット２３下部に向け、残ったレジストＡが次第に濃縮されて行く。そして混合体Ｄは、捕集ネット２３下端に接続された配管２６，ポンプ２７を介し、レジスト回収部１５へと供給される。
【００３５】
これに対し、捕集ネット２３外では、次のようになる。すなわち、液槽１２内のアルカリ溶液Ｂが、多孔カバー２４の孔を介し流入して、捕集ネット２３の外面に至ると共に、下ボックス部２５に接続された配管２６のポンプ２８にて吸引される。もって、前述により捕集ネット２３外へと流出してきたアルカリ溶液Ｂと共に、多孔カバー２４と捕集ネット２３の間を、下方に向けて吸引，流下される。
そして、このようなアルカリ溶液Ｂは、配管２６，ポンプ２８を介し、液槽１２へと循環，供給される。
ところで、ポンプ２７を介しレジスト回収部１５へと供給される混合体Ｄと、ポンプ２８を介し液槽１２へと供給されるアルカリ溶液Ｂとを比較すると、前者は、濃いレジストＡ，比較的大きな破片のレジストＡが混入しているのに対し、後者は、極めて薄いレジストＡ，ミクロ的に小さなレジストＡしか混入されていないと、表現することもできる。
なお、配管２６に介装されたポンプ２７，２８は、間欠駆動タイプよりなり、吸引駆動と停止とが、明確に順次繰り返されるタイプよりなる。
【００３６】
《レジスト回収部１５について》
次に、図３を参照して、レジスト回収部１５について説明する。レジスト回収装置１１のレジスト回収部１５は、レジスト濃縮部１４から供給された混合体Ｄから、レジストＡを捕集すると共に、アルカリ溶液Ｂを液槽１２へと分離，回収させる。
すなわちレジスト回収部１５は、槽状をなし濾過ネット２９を備えており、レジスト濃縮部１４の捕集ネット２３下部から配管２６やポンプ２７を介して供給され濃縮されたレジストＡを含んだ混合体Ｄは、大部分のレジストＡが濾過ネット２９にて捕集，回収される。
そして、濾過ネット２９にて濾過された後のアルカリ溶液Ｂ、つまり混合体Ｄから大部分のレジストＡが除去されて得られたアルカリ溶液Ｂが、配管２６を経由して、液槽１２へと供給される。
レジスト回収部１５は、このようになっている。
【００３７】
《液槽１２について》
次に、液槽１２について説明する。図１等に示したように、レジスト回収装置１１の回収室Ｈの下部が、液槽１２となっており、レジスト回収装置１１そして回収室Ｈは、現像機１や剥離機２に隣接配設されている。
そして液槽１２は、図２，図３に示したように、上位のプレ脱液部１３からアルカリ溶液Ｂが落下，回収，貯留される。又、下ボックス部２５からのアルカリ溶液Ｂが、配管２６やポンプ２８を介して、供給，回収，貯留される。更に、レジスト回収部１５からもアルカリ溶液Ｂが、配管２６やポンプ２７を介して、供給，回収，貯留される。又、泡回収部３０の消泡ネット３１からも、アルカリ溶液Ｂが、落下，回収，貯留される。
これと共に、図１に示したように、貯留されたアルカリ溶液Ｂは、配管２６やポンプ３２を介し、現像機１や剥離機２へと再使用のため循環供給されて、そのスプレーノズル９から噴射された後、レジストＡと共に混合体Ｄとなって、レジスト回収装置１１のプレ脱液部１３に供給される。
液槽１２は、このようになっている。
【００３８】
《泡回収部３０について》
次に、図２，図３を参照して、泡回収部３０について説明する。レジスト回収装置１１には、更に、泡回収ボックス３３，液化ノズル３４，消泡ネット３１を備えた、泡回収部３０が配設されている。
そして泡回収ボックス３３は、レジスト濃縮部１４上に間隔を存して配設され、下面が開放されており、混合体Ｄ上部のアルカリ溶液Ｂの泡Ｇを吸引する。
液化ノズル３４は、該泡回収ボックス３３から供給された泡Ｇを、消泡ネット３１へと噴射する。消泡ネット３１は、噴射された泡Ｇを液化し、アルカリ溶液Ｂに戻して、液槽１２へ回収させる。
【００３９】
このような泡回収部３０について、更に詳述する。レジスト回収装置１１の回収室Ｈの中央上部、つまり液槽１２の中央部上には、泡回収部３０の泡回収ボックス３３が配設されている。
この泡回収ボックス３３は、下面が開放された例えば円筒箱状をなし、開放された下面が、上下間隔を存し下位の捕集ネット２３の上面開口に、対向位置している。
又、回収ボックス３３の外側には、泡回収壁３５が周設形成されている。泡回収壁３５は、例えば円筒状をなし、回収室２９の天井から液槽１２内まで垂下設されており、プレ脱液部１３の脱液ネット１６上に横から臨んで、大きな開口３６が形成されている。
【００４０】
そこで、プレ脱液部１３の脱液ネット１６上から供給された混合体Ｄ上部の泡Ｇは、開口３６，泡回収ボックス３３を経由し、泡回収ボックス３３頂端に接続された配管２６のポンプ３７にて吸引され、もって液化ノズル３４に供給される。
そして泡Ｇは、液化ノズル３４から消泡ネット３１に噴射される。消泡ネット３１は、多数のネット孔が密に多数形成されると共に、液槽１２の液面上に上下間隔を存して配設されている。
そこで消泡ネット３１に噴射された泡Ｇは、圧射とネット孔の凹凸により、潰され破壊されて液化し、元のアルカリ溶液Ｂとなって、液槽１２に落下，回収，貯留される。このようにして回収されたアルカリ溶液Ｂも、前述により貯留されていたアルカリ溶液Ｂと共に、再使用される。
泡回収部３０は、このようになっている。
【００４１】
《作用等について》
本発明のレジスト回収装置１１は、以上説明したように構成されている。そこで、以下のようになる。
（１）回路基板Ｅの製造工程において、噴射使用後のアルカリ溶液Ｂと基板材Ｃから除去された感光膜つまりレジストＡとの混合体Ｄは、レジスト回収装置１１に供給される（図１を参照）。
すなわち、現像工程の現像機１で噴射使用された現像液又は剥離工程の剥離機２で噴射使用された剥離液、つまりアルカリ溶液Ｂと、基板材Ｃの外表面から除去された微少破片状の感光性のレジストＡとが、混じり合った混合体Ｄは、→現像機１又は剥離機２から、それぞれに付設されたレジスト回収装置１１に、供給される。
【００４２】
（２）供給された混合体Ｄは、上部上を泡Ｇが覆うと共に、比重の軽いレジストＡが上部ほど多く浮遊し、下部ほど少ない状態となっている。→そこで混合体Ｄは、まず、レジスト回収装置１１の下降傾斜したプレ脱液部１３の脱液ネット１６上を流れることにより、→混合体Ｄの下部から、かなりの量のアルカリ溶液Ｂが、濾過，分離，落下されて、液槽１２へと回収される（図２を参照）。
その際、プレ脱液部１３は、脱液ネット１６下に突起１８付きの多孔プレート１７を備えた構造よりなるので、→脱液ネット１６下に流下，落下したアルカリ溶液Ｂは、多孔プレート１７による反転と突起１８による下部の流れ止めにより、跳ね返り，バウンドして、波立ち，浮沈運動し、→もって、脱液ネット１６を下から上下に揺らすと共に、→多孔プレート１７上から液槽１２へと落下，回収される。
このように脱液ネット１６は、常時下から揺らされてリフレッシュされるので、→その上を流れる混合体Ｄ中のレジストＡにて、目詰まりすることが防止される。
【００４３】
（３）さて、このレジスト回収装置１１において、プレ脱液部１６でかなりの量のアルカリ溶液Ｂが分離された混合体Ｄは、次に、プレ脱液部１３からレジスト濃縮部１４に供給され、もって、レジストＡが濃縮されると共に、アルカリ溶液Ｂが分離されて液槽１２へと回収される（図２，図３を参照）。
すなわち、プレ脱液部１３の脱液ネット１６上からレジスト濃縮部１４に供給された混合体Ｄは、→液槽１２中に立設されたレジスト濃縮部１４の略逆円錐状の捕集ネット２３内を、下方に向け吸引，流下される。
→もって、混合体Ｄ中から、かなりの量のアルカリ溶液Ｂが、捕集ネット２３にて濾過，分離され、捕集ネット２３外に流出して、→下方に向け吸引，流下され、もって配管２６やポンプ２８を介し、液槽１２へと吸引，回収される。→そこで、混合体Ｄ中のレジストＡが、捕集ネット２３の内面、それから下部に向け順次引き込まれ，集められ，濃縮されて行く。
【００４４】
（４）又、このようなレジスト濃縮部１４の略逆円錐状の捕集ネット２３の外側には、円筒状の多孔カバー２４が周設されている。
→そこで、液槽１２内のアルカリ溶液Ｂが、多孔カバー２４内に流入した後、→捕集ネット２３の外面に沿って下方に向け吸引，流下され、→もって、上述により捕集ネット２３内から外に流出，流下してきたアルカリ溶液Ｂと共に、液槽１２へと配管２６やポンプ２８を介し吸引，回収される（図２，図３を参照）。（なお、このように配管２６やポンプ２８を経由して回収されるアルカリ溶液Ｂ中には、若干混入していた泡Ｇが潰され破壊された後の空気も、併存している。）
このようにして、レジスト濃縮部１４の捕集ネット２３の内外には、同方向かつ同圧の流れが形成される。→つまり、捕集ネット２３の内部では、濃縮されたレジストＡを含んだ混合体Ｄが、下方に吸引，流下される流れが形成され、外部では、アルカリ溶液Ｂが下方に吸引，流下される流れが形成される。→そこで、混合体Ｄ中のレジストＡにて、捕集ネット２３が目詰まりすることが防止される。
【００４５】
（５）さて、濃縮されたレジストＡを含んだ混合体Ｄは、それから、レジスト濃縮部１４の捕集ネット２３下部から、→配管２６やポンプ２７を介し、レジスト回収部１５に供給される。（なお、このように配管２６やポンプ２７を経由して供給される混合体Ｄ中には、若干混入していた泡Ｇが潰され破壊された後の空気も、併存している。）
→そして、レジスト回収部１５に供給された混合体Ｄは、大部分のレジストＡが、濾過ネット２９にて濾過，捕集，回収されると共に、→アルカリ溶液Ｂが、配管２６を介し液槽１２へと回収される（図３を参照）。
【００４６】
（６）なお、目詰まり防止に関しては、混合体Ｄやアルカリ溶液Ｂを吸引するポンプ２７，２８について、間欠駆動タイプを採用することにより、より確実に実現される（図３を参照）。
すなわち、間欠駆動タイプのポンプ２７，２８を採用して、→混合体Ｄを、レジスト回収部１５に向け間欠的に吸引することにより、又、アルカリ溶液Ｂを、液槽１２に向け間欠的に吸引することにより、→レジスト濃縮部１４の捕集ネット２３やレジスト回収部１５の濾過ネット２９が、吸引波動，吸引衝撃を受け、→もって、混合体Ｄ中のレジストＡにて目詰まりすることが、より確実に防止される。
【００４７】
（７）ところで、現像機１又は剥離機２において、現像液や剥離液として噴射使用されたアルカリ溶液Ｂは、アルカリ性で苛性ソーダ等を含有した薬液よりなると共に、加温されている。そこで噴射に伴い、多量の気泡つまり泡Ｇが生じているので、→現像機１又は剥離機２からレジスト回収装置１１に供給された混合体Ｄも、アルカリ溶液Ｂの多量の泡Ｇを伴っている（図１を参照）。
→そこで、このレジスト回収装置１１には、泡回収部３０が配設されている（図２，図３を参照）。→そして、アルカリ溶液Ｂの泡Ｇは、気泡なので混合体Ｄ上部上に位置しており、→レジスト濃縮部１４上において、泡回収部３０の泡回収ボックス３３にて吸引された後、→配管２６やポンプ３７を介し、液化ノズル３４に供給され、→液化ノズル３４から消泡ネット３１へと噴射され，吹き付けられる。→もって、消泡ネット３１上にて、泡Ｇが潰され破壊されて液化され、アルカリ溶液Ｂに戻されて、→液槽１２に落下，回収される。
なお、泡Ｇを吸引するポンプ３７について、間欠駆動タイプを採用することによっても、泡Ｇの潰し，液化が助長される。又、混合体Ｄ中に混入されてレジスト濃縮部１４に流入した泡Ｇは、捕集ネット２３を通過する際に潰され破壊されて、アルカリ溶液Ｂに戻されると共に、空気となってアルカリ溶液Ｂや混合体Ｄ中に併存する。
→このようなプロセスにより、→混合体Ｄの液面にレジストＡを浮かせてしまう泡Ｇ、もってレジストＡの分離，回収を不確実化させてしまう泡Ｇが、解消，消滅せしめられる。→そしてこれは、基板材Ｃの処理に悪影響を及ぼす虞のある消泡剤を使用することなく、実現される。
【００４８】
（８）さて、このレジスト回収装置１１は、このようなプレ脱液部１３，レジスト濃縮部１４，泡回収部３０等を採用してなる。
→そこで、レジストＡとアルカリ溶液Ｂとが、確実に分離，回収され、→もって、レジストＡの回収効率が向上し、アルカリ溶液Ｂのライフ寿命が長くなり、→アルカリ溶液Ｂが、現像機１や剥離機２において、繰り返し循環再使用可能となる（図１を参照）。
【００４９】
（９）又、プレ脱液部１３で、予め、かなりの量のアルカリ溶液Ｂを、混合体Ｄ中から分離，回収してしまうので、→事後その分だけ、レジスト濃縮部１４に運んで供給する混合体Ｄの量が、削減される。
→これに加え、レジスト濃縮部１４でも、かなりの量のアルカリ溶液Ｂを、混合体Ｄ中から分離，回収するので、→更にその分だけ、レジスト回収部１５に運び供給することが必要な混合体Ｄの量が、削減される。
→そこで、レジスト濃縮部１４やレジスト回収部１５が、小型化でき、→レジスト回収装置１１も、全体的に小型化される。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】本発明に係るレジスト回収装置について、発明を実施するための最良の形態の説明に供し、正断面説明図である。
【図２】同発明を実施するための最良の形態の説明に供し、要部の側断面説明図である。
【図３】同発明を実施するための最良の形態の説明に供し、全体の側断面説明図である。
【図４】この種従来例の説明に供し、正断面説明図である。
【図５】基板（基板材）の模式化した平面説明図である。
【符号の説明】
【００５１】
１ 現像機
２ 剥離機
３ レジスト回収装置（従来例）
４ フィルター
５ チャンバー
６ 液槽（従来例）
７ ポンプ（従来例）
８ 配管（従来例）
９ スプレーノズル
１０ ローラーコンベヤ
１１ レジスト回収装置（本発明）
１２ 液槽（本発明）
１３ プレ脱液部
１４ レジスト濃縮部
１５ レジスト回収部
１６ 脱液ネット
１７ 多孔プレート
１８ 突起
１９ 仕切床
２０ 排出口
２１ 供給管
２２ 受入口
２３ 捕集ネット
２４ 多孔カバー
２５ 下ボックス部
２６ 配管（本発明）
２７ ポンプ（本発明）
２８ ポンプ（本発明）
２９ 濾過ネット
３０ 泡回収部
３１ 消泡ネット
３２ ポンプ（本発明）
３３ 泡回収ボックス
３４ 液化ノズル
３５ 泡回収壁
３６ 開口
３７ ポンプ（本発明）
Ａ レジスト
Ｂ アルカリ溶液
Ｃ 基板材
Ｄ 混合体
Ｅ 回路基板
Ｆ 回路
Ｇ 泡
Ｈ 回収室
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レジスト回収装置に関する。すなわち、回路基板の製造工程おいて、現像機や剥離機に付設され、現像液や剥離液等のアルカリ溶液と感光性のレジストとを、混合体から分離，回収する、レジスト回収装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
《技術的背景》
電子機器の高性能化，高機能化，小型軽量化に伴い、プリント配線基板等の回路基板も、高精度化，ファイン化，極薄化，多様化が進み、形成される回路の高密度化，微細化が著しい。
そして、このような回路基板の製造工程では、銅張り積層板たる基板材の外表面に、感光性のレジストを膜状に塗布又は張り付けてから、→回路のネガフィルムを当てて、露光した後、→回路形成部分以外のレジストを、現象により溶解除去し、→回路形成部分以外の銅箔を、エッチングにより溶解除去してから、→回路形成部分のレジストを、剥膜除去することにより、→基板材の外表面に、銅箔にて回路が形成され、→もって、回路基板が製造されている。
【０００３】
《従来技術》
図４は、この種従来例の説明に供し、正断面説明図である。同図にも示したように、上述した現像工程や剥膜工程では、現像機１や剥離機２が用いられており、回路形成部分以外のレジストＡや、硬化して残っていた回路形成部分のレジストＡが、→現像液や剥離液等のアルカリ溶液Ｂを、噴射することにより、→基板材Ｃの外表面から、溶解除去，剥膜除去される。
→そして、このように現像機１や剥離機２にて使用されたアルカリ溶液Ｂと、感光膜として用いられた後に除去された小さな破片状のレジストＡとは、→混じり合った混合体Ｄとなって、流下する。
→そこで、このような混合体Ｄを、現像機１や剥離機２から、付設されたレジスト回収装置３に供給して、アルカリ溶液ＢとレジストＡを分離し、→現像液や剥離液等のアルカリ溶液Ｂは、現像機１や剥離機２に循環供給されて再使用され、レジストＡは廃棄されている。
【０００４】
そして、この種のレジスト回収装置３としては、図４に示したフィルター４式や網目ドラム式のものが、代表的に使用されていた。
すなわち、この種従来例のレジスト回収装置２では、混合体Ｄを、現像機１や剥離機２のチャンバー５の下部の液槽６から、→ポンプ７や配管８を介して、フィルター４や網目ドラムに供給し、→もって、フィルター４や網目ドラムを通過することにより、濾過，分離する。→そして、回収された現像液や剥離液等のアルカリ溶液Ｂは、配管８を介して、現像機１や剥離機２のスプレーノズル９に供給して、噴射，再使用し、フィルター４や網目ドラムを通過しなかったレジストＡは、捕集，回収，廃棄していた。
図中１０は、現像機１や剥離機２において、基板材Ｃを搬送するローラーコンベヤである。
【０００５】
《先行技術文献情報》
このような従来例としては、例えば、次の特許文献１の従来技術欄に示されたものが、挙げられる。
【特許文献１】特開２００４−３２５５０２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、このような従来例のレジスト回収装置３については、次の問題が指摘されていた。
《第１の問題点》
第１に、レジストＡとアルカリ溶液Ｂとの分離，回収が不確実であり、レジストＡの回収効率が悪く、アルカリ溶液Ｂの消耗が激しい、という問題が指摘されていた。
すなわち、回路基板は、高精度化，ファイン化，極薄化が進み、形成される回路の高密度化，微細化が著しい。→もって、このような回路形成部分や回路形成部分以外から除去されたレジストＡも、微細化が著しい。
→そこで、従来のフィルター４式や網目ドラム式のレジスト回収装置３では、混合体Ｄ中からレジストＡを濾過，分離，捕集，回収することが、最近ますます容易でなく、不確実化，困難化する傾向にある。
【０００７】
→従って、レジスト回収装置３を経て回収された現像液や剥離液等のアルカリ溶液Ｂ中には、レジストＡが多量に混入しやすい状態にある。→そこで、このようなアルカリ溶液Ｂは、現像機１や剥離機２に循環供給して再使用を繰り返すと、→本来機能である基板材ＣからのレジストＡの溶解除去，剥膜除去機能が、次第に低下してしまうことになる。
→もって、現像機１の現像液や剥離機２の剥離液等のアルカリ溶液Ｂは、ライフ寿命が短く、新鮮液の補充頻度や新鮮液への交換頻度が高くなり、その分、コスト負担も大きくなっていた。例えば、１週間に１回程度の交換が必要とされていた。
又、現像機１や剥離機２にレジストＡが混入したアルカリ溶液Ｂを、循環供給して繰り返し使用していると、→レジストＡが白濁化，クリーム状化，のり状化して、→液槽６内壁に沈澱，付着してしまい、配管８その他の目詰まりの原因ともなる。→そこで、その清掃や除去作業が行われているが、非常に面倒であり手間や時間を要していた。
【０００８】
《第２の問題点》
第２に、現像液や剥離液等のアルカリ溶液Ｂには、従来より消泡剤が添加されているが、この消泡剤は、基板材Ｃの回路形成に悪影響を及ぼし、回路基板の不良原因となる、という問題が指摘されていた。
すなわち、現像機や剥離機では、スプレーノズル９から基板材Ｃに対し、現像液や剥離液等のアルカリ溶液Ｂが噴射される。→そこで、基板材Ｃ付近では、噴射に伴いアルカリ溶液Ｂの泡が発生するが、→この泡が、混合体Ｄと共にレジスト回収装置３のフィルター４や網目ドラムに、流れ込むと、→この泡にて、レジストＡが液面に浮いてしまい、→レジストＡの分離，回収が不確化し、レジストＡの回収効率が低下してしまう。
→そこでその対策として、従来は、予めアルカリ溶液Ｂに消泡剤、例えばエマルジョンタイプのエーテル型油質の消泡剤が、添加されていた。
→しかしながら、このように添加された消泡剤が、基板材Ｃの処理に悪影響を及ぼし、現像不良，エッチング不良，剥離不良が生じ易くなり、→製造される回路基板に、不良品が発生していた。
【０００９】
《第３の問題点》
第３に、レジスト回収装置３のフィルター４や網目ドラムについて、目詰まりが発生し易く、もって、フィルター４や網目ドラムの交換頻度やメインテナンス頻度が高く、コストがかさむという問題が指摘されていた。
すなわち、前記第１の問題への対応策、つまり微細化が進むレジストＡの濾過，分離，回収を確実化し、レジストＡの回収効率を向上させる対応策としては、→レジスト回収装置３について、目がより密なフィルター４や網目ドラムを、採用することが必要となる。→しかしながらその結果、フィルター４や網目ドラムに、レジストＡが捕集，蓄積されて、詰まり易かった。
因に、従来のレジスト回収装置３では、網目について、１インチ（２５．４ｍｍ）当たりの網目数で２０メッシュ程度が限界とされており、微細なレジストＡ回収にとって十分ではないと共に、目詰まりも多発していた。
【００１０】
《第４の問題点》
第４に、レジスト回収装置３が大型化してしまい、据付スペースを取ると共に、コスト高となる、という問題も指摘されていた。
すなわち、従来のレジスト回収装置３では、現像機１や剥離機２から供給された混合体Ｄを、→フィルター４や網目ドラムにて、一度に濾過，分離して、→レジストＡを捕集しアルカリ溶液Ｂを回収していた。
つまり、供給された多量の混合体Ｄを、→１回の処理で一挙に濾過，分離していたので、→どうしても、レジスト回収装置３が大型化してしまっていた。
【００１１】
《本発明について》
本発明のレジスト回収装置は、このような実情に鑑み、上記従来例の課題を解決すべく、なされたものである。
そして、本発明は、第１に、レジストの回収効率が向上し、第２に、消泡剤の添加が不要化され、第３に、目詰まりが防止され、第４に、装置が小型化される、レジスト回収装置を提案すること、を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
《請求項について》
このような課題を解決する本発明の技術的手段は、次のとおりである。まず、請求項１については次のとおり。
請求項１のレジスト回収装置は、回路基板の製造工程において使用され、供給された噴射後のアルカリ溶液と除去された感光性のレジストとの混合体から、該レジストを回収する。そして、液槽，プレ脱液部，レジスト濃縮部，レジスト回収部を有している。
該プレ脱液部は、該混合体から該アルカリ溶液を分離して、該液槽へと回収させる。該レジスト濃縮部は、該プレ脱液部から供給された該混合体について、該レジストを濃縮すると共に、該アルカリ溶液を分離して該液槽へと回収させる。該レジスト回収部は、該レジスト濃縮部から供給された該混合体について、該レジストを捕集，回収すると共に、該アルカリ溶液を該液槽へと分離，回収させること、を特徴とする。
請求項２については次のとおり。請求項２のレジスト回収装置では、請求項１において、該プレ脱液部は、脱液ネットを備えている。そして、供給された該混合体は、まず該脱液ネット上を流れることにより、かなりの該アルカリ溶液が、分離，落下されて該液槽へと回収される。
該レジスト濃縮部は、該液槽中に立設された略逆円錐状の捕集ネットを備えている。そして、該プレ脱液部の脱液ネット上から供給された該混合体は、該捕集ネット内で下方に向け吸引，流下されることにより、かなりの該アルカリ溶液が、該捕集ネット外に流出し下方に向け吸引，流下されて該液槽へと吸引，回収されると共に、該レジストが、該捕集ネット内下部に向け順次濃縮されて行く。
該レジスト回収部は、濾過ネットを備えている。そして、該レジスト濃縮部の捕集ネット内下部から供給され濃縮された該レジストを含んだ該混合体は、該レジストが、該濾過ネットにて捕集，回収されると共に、該アルカリ溶液が、該液槽へと回収されること、を特徴とする。
【００１３】
請求項３については次のとおり。請求項３のレジスト回収装置は、請求項２において、回路基板の製造工程の現像機に付設され、該アルカリ溶液が現像液よりなること、を特徴とする。
請求項４については次のとおり。請求項４のレジスト回収装置は、請求項２において、回路基板の製造工程の剥離機に付設され、該アルカリ溶液が剥離液よりなること、を特徴とする。
請求項５については次のとおり。請求項５のレジスト回収装置は、請求項３又は４において、更に、泡回収ボックス，液化ノズル，消泡ネットを備えた、泡回収部が配設されている。
そして該泡回収ボックスは、該レジスト濃縮部上に間隔を存して配設され、下面が開放されており、該混合体上部の該アルカリ溶液の泡を吸引する。該液化ノズルは、該泡回収ボックスから供給された該泡を、該消泡ネットへと噴射する。該消泡ネットは、噴射された該泡を液化し該アルカリ溶液に戻して、該液槽へ回収させること、を特徴とする。
【００１４】
請求項６については次のとおり。請求項６のレジスト回収装置では、請求項３又は４において、該プレ脱液部は、下降傾斜して配設された該脱液ネットと、該脱液ネット下に上下間隔を存して配設された多孔プレートと、該多孔プレート上に立設された各突起と、を備えた構造よりなる。
そして、該脱液ネット下に落下した該アルカリ溶液は、該多孔プレートと該突起にてバウンド，浮沈運動され、もって該脱液ネットを下から揺らすと共に、該多孔プレート上から該液槽へと落下，回収されること、を特徴とする。
請求項７については次のとおり。請求項７のレジスト回収装置は、請求項３又は４において、該レジスト濃縮部の捕集ネットの外側に、間隔を存して多孔カバーが周設されている。そして、該液槽内の該アルカリ溶液は、該多孔カバー内に流入すると共に、該捕集ネットの外面に沿って下方に向け吸引，流下され、もって該液槽へと吸引，回収されること、を特徴とする。
請求項８については次のとおり。請求項８のレジスト回収装置は、請求項５又は７において、該混合体，該アルカリ溶液，又は該泡を吸引するポンプは、間欠駆動タイプよりなること、を特徴とする。
【００１５】
《作用等》
本発明のレジスト回収装置は、このような手段よりなるので、次のようになる。
（１）回路基板の製造工程において、現像機や剥離機で噴射使用された現像液や剥離液等のアルカリ溶液と、感光膜として用いられ基板材から除去された小さな破片状の感光性レジストとの混合体は、付設されたレジスト回収装置に供給される。
（２）そして混合体は、まず、プレ脱液部の脱液ネット上を流れることにより、かなりの量のアルカリ溶液が、分離，落下されて液槽に回収される。
その際、脱液ネット下に落下したアルカリ溶液が、突起付きの多孔プレートにてバウンド，浮沈運動して、脱液ネットを下から揺らすので、脱液ネットは、常時リフレッシュされ、混合体中のレジストによる目詰まりが防止される。
【００１６】
（３）次に混合体は、レジスト濃縮部の捕集ネットに供給され、略逆円錐状の捕集ネット内を、下方に吸引，流下される。もって、かなりの量のアルカリ溶液が、捕集ネット外に流出して下方に吸引，流下されて液槽へと吸引，回収され、レジストが、捕集ネット下部に向け順次集められ，濃縮されて行く。
（４）捕集ネットの外側には、多孔カバーが周設されており、液槽内のアルカリ溶液が、多孔カバーを介し、捕集ネット外面に沿って下方に吸引，流下され、もって捕集ネット内から流出したアルカリ溶液と共に、液槽へと吸引，回収される。
このようにして、捕集ネット内外には、同方向，同圧の流れが形成されるので、混合体中のレジストによる捕集ネットの目詰まりが防止される。
（５）さて、濃縮されたレジストを含んだ混合体は、それから、捕集ネット下部からレジスト回収部に供給され、レジストが濾過ネットにて捕集，回収されると共に、アルカリ溶液が液槽へと回収される。
（６）なお、混合体やアルカリ溶液を吸引するポンプについて、間欠駆動タイプを採用すると、捕集ネットや濾過ネットが、混合体中のレジストにて目詰まりすることが、より確実に防止される。
【００１７】
（７）ところで、現像機又は剥離機における噴射に伴い、レジスト回収装置に供給された混合体は、アルカリ溶液の多量の泡を伴っている。
そこで、レジスト回収装置には、泡回収部が配設されている。そして泡は、泡回収ボックスに吸引されて、液化ノズルから消泡ネットへと噴射され、もって液化されアルカリ溶液に戻されて、液槽に回収される。なお、泡を吸引するポンプについて、間欠駆動タイプを採用すると、泡の液化が助長される。
このようにして泡、つまり混合体の液面にレジストを浮かせて、レジストの分離，回収を不確実化させる泡は、解消される。そしてこれは、基板材の処理に悪影響を及ぼす消泡剤を使用することなく、実現される。
（８）このレジスト回収装置では、このようにして、レジストとアルカリ溶液とが、確実に分離，回収される。
（９）又、プレ脱液部で、予めかなりの量のアルカリ溶液を分離，回収するので、その分だけ、レジスト濃縮部に供給される混合体の量が削減され、更に、レジスト濃縮部でもアルカリ溶液を分離，回収するので、その分だけ、レジスト回収部に供給される混合体の量が削減される。もって、レジスト濃縮部やレジスト回収部が小型化され、レジスト回収装置も小型化される。
（１０）さてそこで、本発明のレジスト回収装置は、次の効果を発揮する。
【発明の効果】
【００１８】
《第１の効果》
第１に、レジスト回収効率が向上し、アルカリ溶液のライフ寿命が長くなり、清掃作業も簡単容易化される。
すなわち、本発明のレジスト回収装置では、混合体について、まずプレ脱液部において、レジストの少ない下部側から現像液や剥離液等のアルカリ溶液を分離，回収してから、次にレジスト濃縮部において、レジストを濃縮すると共に、更にアルカリ溶液を分離，回収し、最後にレジスト回収部において、濃縮されたレジストを捕集，回収すると共に、アルカリ溶液を分離，回収する。
このようにして、レジストとアルカリ溶液がスムーズかつ確実に分離，回収される。最近の微細化されたレジストでも、確実に分離，回収される。又、泡が解消されることや、目詰まりが防止される面からも、このような分離，回収の確実化が促進される。
そこで、フィルター式や網目ドラム式の前述したこの種従来例のレジスト回収装置のように、回収されたアルカリ溶液中に多量のレジストが混入してしまうことは、回避される。回収されたアルカリ溶液は、何回も現像機や剥離機に供給して、再使用，循環利用可能である。
もって、この種従来例に比べ、レジストの回収効率が大幅に向上し、アルカリ溶液の消耗が１／３程度に削減されて、アルカリ溶液のライフ寿命が長くなり、その補充頻度や交換頻度が低下し、コスト負担が軽減される。例えば、２〜３週間に１回程度の交換で済むようになる。
又、循環使用されるアルカリ溶液中に混入していたレジストが、現像機や剥離機内において、白濁化，クリーム状化，のり状化して沈澱，付着することも減少し、面倒で手間や時間がかかる清掃除去作業の回数も、大幅に削減される。
【００１９】
《第２の効果》
第２に、消泡剤の添加が不要化され、もって製造される回路基板の不良発生が防止される。
すなわち、本発明のレジスト回収装置では、泡回収部により、アルカリ溶液の泡を解消させるシステムを採用してなる。前述したこの種従来例のように、予め現像液や剥離液等のアルカリ溶液に、消泡剤を添加しておくシステムではないので、消泡剤による現像不良，エッチング不良，剥離不良等の発生の虞はなく、消泡剤による基板材の処理に対する悪影響は発生しない。もって、製造される回路基板について、消泡剤に起因した不良品発生は回避される。
【００２０】
《第３の効果》
第３に、目詰まりが防止され、メッシュ密度をより密にすることも可能である。すなわち、本発明のレジスト回収装置では、プレ脱液部における脱液ネットの揺れによるリフレッシュや、レジスト濃縮部における捕集ネット内外の同方向，同圧流れの形成や、間欠駆動タイプのポンプの採用等により、脱液ネット，捕集ネット，濾過ネットについて、目詰まりが阻止される。
そこで、前述したこの種従来例のレジスト回収装置に比し、ネット等の交換頻度が大幅に減少し、メインテナンスの頻度も少なく、コスト面に優れている。
又、最近の回路の微細化に伴い、レジストも微細化傾向が顕著であるが、このように目詰まりが防止されるので、２００メッシュ程度の網目のネットも採用可能となった。脱液ネット，捕集ネット，濾過ネット等について、微細レジストへの対応に優れた、１インチ（２５．４ｍｍ）当たりの網目数で２００メッシュ程度のものを、採用できるようになった。そこで、２０メッシュ程度が限界とされていた前述したこの種従来例のレジスト回収装置に比し、この面からもレジスト回収効率が向上する。
【００２１】
《第４の効果》
第４に、装置が小型化される。すなわち、本発明のレジスト回収装置では、プレ脱液部，レジスト濃縮部，レジスト回収部の順に、順次段階的に、現像液や剥離液等のアルカリ溶液が分離，回収されて行く。
そこで、レジストとアルカリ溶液とを、一度に濾過，分離，回収する方式よりなり、もって装置が大型化していた前述したこの種従来例のレジスト回収装置に比し、装置が小型化される。もって、据付スペースを取らないと共に、価格も半分程度になる等、コスト面にも優れている。
このように、この種従来例に存した課題がすべて解決される等、本発明の発揮する効果は、顕著にして大なるものがある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
《図面について》
以下、本発明のレジスト回収装置を、図面に示した発明を実施するための最良の形態に基づいて、詳細に説明する。
図１，図２，図３は、本発明の実施の形態の説明図に供する。そして図１は、正断面説明図、図２は、要部の側断面説明図、図３は、全体の側断面説明図である。
図５は、基板（基板材）の模式化した平面説明図である。
【００２３】
《回路基板Ｅについて》
このレジスト回収装置１１は、回路基板Ｅの製造工程で使用される。そこでまず、図５を参照しつつ、回路基板Ｅの概略について説明しておく。
回路基板Ｅは、ＡＶ機器，パソコン，携帯電話，デジカメ，その他各種の電子機器において、電気的接続用に用いられており、部品間を接続するための回路Ｆパターンを、絶縁層の外表面や内部に形成してなる。
そして回路基板Ｅは、片面基板と両面基板とに分けられる他、多層基板（含、最近のビルドアップ法のもの）、その他各種のものがあり、硬質のリジット系基板とフィルム状のフレキシブル系基板にも分けられる。
又、このような回路基板Ｅの一環として、ＩＣ，ＬＳＩ素子，受動部品，駆動部品，コンデンサー等々の半導体部品が、回路Ｆと一体的に組み込まれたモジュール基板（半導体一体型のパッケージ基板）や、ガラスベースに回路Ｆと共に半導体部品が埋め込まれたガラス基板、つまりプラズマディスプレイＰＤＰ用のガラス基板や液晶ＬＣＤ用のガラス基板、更にはＣＳＰ，ＰＢＧＡ等も出現している。勿論、本明細書において回路基板Ｅとは、従来よりのプリント配線基板の外、このようなものも広く包含する。
そして回路基板Ｅは、電子機器の高性能化，高機能化，小型軽量化に伴い、高精度化，ファイン化，そして極薄化，フレキシブル化，更には多層化，多様化等が進み、外表面（表面や裏面の一方又は双方）に形成される回路Ｆ、更には内部に形成される回路Ｆの高密度化，微細化が著しい。
回路基板Ｅ例えばプリント配線基板は、製造に際しての１枚の縦横のカットサイズが、例えば５００ｍｍ×５００ｍｍ程度よりなる。肉厚は、絶縁層（コア材）部分が、従来の１．６ｍｍから１．０ｍｍ〜６０μｍ程度、昨今では５０μｍから１０μｍ前後まで、極薄化されている。回路Ｆ部分（銅箔部分）の肉厚も、７５μｍ〜３５μｍ、昨今では１６μｍ〜１０μｍ前後まで、極薄化されている。多層基板の場合でも、全体の肉厚が１．０ｍｍ〜０．４ｍｍ程度まで、極薄化されつつある。回路Ｆ幅や回路Ｆ間スペースも、３０μｍ〜１５μｍ程度、昨今では１０μｍ前後と微細化傾向にある。
回路基板Ｅは、概略このようになっている。
【００２４】
《回路基板Ｅの製造方法の１例について》
次に、このレジスト回収装置１１が使用される、回路基板Ｅの製造方法について、図５，図１等を参照して説明する。まず、第１例の製造方法について述べる。この製造方法において、回路基板Ｅ例えばプリント配線基板は、次のステップを辿って製造される。
最初に、ガラスクロス製，セラミックス製や，フィルム状のポリイミド製，その他の樹脂製の絶縁層（コア材）の外表面に、銅箔が熱プレス等により張り付けられた、銅張り積層板たる基板材Ｃが準備される。
そして、このように準備された基板材Ｃについて、張り付けられた銅箔表面を粗化する表面粗化処理（ソフトエッチング）が行われた後、短尺のワークサイズの各葉に切断される。表面粗化処理は、従来は機械研磨によって行われていたが、最近は処理液の噴射によって行われることが多い。
そして多くの場合、スルホール用の孔あけ加工が、レーザ等を使用して実施される。スルホールは、基板材Ｃ（回路基板Ｅ）の両外表面間の微細な貫通孔よりなり、１枚について、極小径のものが数百個以上形成され、その径は、０．５ｍｍ〜０．２ｍｍ程度以下のものが多くなっている。そしてスルホールは、両外表面の回路Ｆ（銅箔）間や多層基板の回路Ｆ（銅箔）間の導通接続用や、回路Ｆに実装される半導体部品の取付け用として使用される。
なお最近は、孔あけ加工を要するスルホールに代えて、小突起状・略円錐台状の接点たるバンプを形成し、もって多層基板等について、このバンプにより、スルホールと同様の機能を実現する技術も開発されている。バンプは、回路Ｆに準じ、現像工程，エッチング工程，剥膜工程を辿って製造される。
【００２５】
さてしかる後、基板材Ｃの銅箔の外表面に、感光性のレジストＡが、膜状に塗布又は張り付けられる。レジストＡのドライフィルムが、圧着されることも多い。それから、回路Ｆのネガフィルムつまり予め回路Ｆ設計された回路Ｆ写真を当てて、露光することにより、外表面のレジストＡは、露光されて硬化した回路Ｆ形成部分（保護膜部分）を残し、その他の不要部分が、処理液たる現像液つまりアルカリ溶液Ｂの噴射により、溶解除去される。
それから、このような基板材Ｃの銅箔は、レジストＡが硬化して被覆された回路Ｆ形成部分（保護膜部分）を残し、現像によりレジストＡが溶解除去されて露出した不要部分が、処理液たるエッチング液（塩化第二銅，塩化第二鉄，その他の腐食液）の噴射により、溶解除去・エッチングされる。それから、残っていた回路Ｆ形成部分のレジストＡが、処理液たる剥離液つまりアルカリ溶液Ｂの噴射により剥膜除去され、もって、残った回路Ｆ形成部分の銅箔にて、基板材Ｃの外表面に、所定導体パターンの回路Ｆが形成され、回路基板Ｅが製造される。
なお、上述した現像工程，エッチング工程，剥膜工程には、それぞれ後処理用に、又は剥膜工程の後にまとめて後処理用に、水洗液，中和剤液，その他の洗浄液を噴射する洗浄工程が付設されている。洗浄工程では、基板材Ｃの外表面（含むスルホール内等）に付着していた現像液，エッチング液，剥離液等の処理液が、洗浄，除去される。更に、洗浄工程の後には、乾燥工程が付設されている。すなわち、洗浄工程で洗浄された基板材Ｃの外表面（含むスルホール内等）には、水洗液その他の洗浄液や，それらの水分が付着しているので、酸化防止等のためこれらを除去すべく、事後直ちに乾燥工程において乾燥処理される。
第１例の製造方法は、このようなウェットプロセス法よりなる。第１例の製造方法は、このようになっている。
【００２６】
《回路基板Ｅの製造方法の他の例について》
次に、第２例の製造方法について述べる。回路基板Ｅ例えばプリント配線基板の製造方法としては、上述した第１例のウェットプロセス法が代表的であるが、第２例のセミアディティブ法も多用されつつある。
セミアディティブ法では、まず、予めスルホールが形成された基板材Ｃの外表面に、無電解銅メッキが施される。→それから、この無電解銅メッキに、感光性のレジストＡを膜状に塗布又は張り付けた後、→回路Ｆフィルムである回路Ｆ写真を当て、露光する。→そしてレジストＡは、露光されて硬化した部分を残し、他の部分つまり回路Ｆ形成部分が、処理液たる現像液つまりアルカリ溶液Ｂの噴射により溶解除去される。
しかる後、→回路Ｆ形成部分、つまり現像によりレジストＡが溶解除去されたメッキパターン部分、つまり無電解銅メッキが露出した部分に対し、電解銅メッキが施されて、→回路Ｆが形成される。→なお、残っていた回路Ｆ形成部分以外の硬化したレジストＡは、処理液たる剥離液つまりアルカリ溶液Ｂの噴射により剥膜除去され、→露出した無電解銅メッキが、処理液たるエッチング液の噴射によりクイックエッチングされて、融解除去される。→なお、各工程の後処理用として、前述した所に準じ、洗浄液による洗浄工程や、乾燥工程が付設される。
第２例のセミアディティブ法では、このようにして、電解銅メッキにて回路Ｆが形成され、もって回路基板Ｅが製造される。第２例の製造方法は、このようになっている。
ところで、プリント配線基板その他の回路基板Ｅの製造方法は、最近ますます多様化しつつあり、上述した第１例，第２例以外にも、その他各種の方法が開発，使用されている。本発明は勿論、このような各種の回路基板Ｅの製造方法にも、適用される。
回路基板Ｅの製造方法は、このようになっている。
【００２７】
《レジスト回収装置１１の概要について》
以下、本発明のレジスト回収装置１１について、図１，図２，図３を参照して、説明する。
まず前提として、前述したように、回路基板Ｅの製造工程中、現像工程や剥膜工程では、搬送される基板材Ｃに対し、現像液や剥離液等のアルカリ溶液Ｂが噴射されて、基板材Ｃの外表面から、感光性のレジストＡが除去される。
すなわち、図１中に示したように、現像機１や剥離機２のチャンバー５内では、ローラーコンベヤ１０等のコンベヤにて水平搬送される基板材Ｃに対し、上下に対向配設された各スプレーノズル９から、例えば３％程度の苛性ソーダを含有したアルカリ性の薬液、つまり現像液又は剥離液よりなるアルカリ溶液Ｂが、噴射される。
もって、基板材Ｃの外表面の感光性のレジストＡが除去される。つまり、現像機１では、回路Ｆ形成部分以外のレジストＡが溶解除去され、剥離機２では、回路Ｆ形成部分のレジストＡが、剥膜除去される。
【００２８】
レジスト回収装置１１は、回路基板Ｅの製造工程において、このような現像工程や剥膜工程の付帯工程として、現像機１や剥離機２にそれぞれ付設使用される。
現像工程の場合は、現像機１から、噴射使用後のアルカリ溶液Ｂである現像液と、除去されたレジストＡとの混合体Ｄが、付設されたレジスト回収装置１１に供給される。剥膜工程の場合は、剥離機２から、噴射使用後のアルカリ溶液Ｂである剥離液と、除去されたレジストＡとの混合体Ｄが、付設されたレジスト回収装置１１に供給される。
レジスト回収装置１１は、このように供給されたアルカリ溶液Ｂと感光性のレジストＡとの混合体Ｄから、レジストＡを分離，回収する。そして、液槽１２，プレ脱液部１３，レジスト濃縮部１４，レジスト回収部１５，泡回収部３０等、を有してなる。
レジスト回収装置１１は、概略このようになっている。以下、その詳細について説明する。
【００２９】
《プレ脱液部１３について》
まず、図２等を参照して、プレ脱液部１３について説明する。レジスト回収装置１１のプレ脱液部１３は、脱液ネット１６を備えており、供給された混合体Ｄは、まず脱液ネット１６上を流れることにより、かなりの量のアルカリ溶液Ｂが、分離，落下されて、液槽１２へと回収される。
すなわちプレ脱液部１３は、下降傾斜して配設された脱液ネット１６と、脱液ネット１６下に上下間隔を存して配設された多孔プレート１７と、多孔プレート１７上に多数立設された突起１８と、を備えた構造よりなる。
そして脱液ネット１６下に流下，落下したアルカリ溶液Ｂは、多孔プレート１７と突起１８にて反転，バウンド，浮沈運動され、もって脱液ネット１６を下から揺らすと共に、多孔プレート１７上から液槽１２へと落下，回収される。
【００３０】
このようなプレ脱液部１３について、更に詳述する。まず混合体Ｄは、図１に示したように、現像機１や剥離機２のチャンバー５内の若干傾斜した仕切床１９上に、落下した後、その傾斜に沿って流れる。そして、排出口２０から供給管２１を介し、受入口２２を経由してレジスト回収装置１１へと、流し込まれる。
そして、このようにレジスト回収装置１１に供給された混合体Ｄは、まず、液槽１２の液面上に上下間隔を存して配設されたプレ脱液部１３の脱液ネット１６上を流れる。
図２に示したように、脱液ネット１６は、微細なネット孔が密に多数形成されると共に、略長板ネット状をなしており、ネット孔の径は、微細化したレジストＡでも通過不能な網目寸法に設定されており、例えば、数１０μｍ〜数μｍ程度、２００メッシュ程度に設定されている。そして、このような脱液ネット１６が、長手方向に若干下降傾斜して配設されている。
混合体Ｄは、このような脱液ネット１６上を、受入口２２下の上流側から下流側へと、その傾斜に沿って流れる。もって、混合体Ｄに混入されていたアルカリ溶液Ｂのかなりの部分が、脱液ネット１６のネット孔にて濾過，分離されて、下位の多孔プレート１７を介し、下方の液槽１２に向けて落下して行く。
【００３１】
次に、プレ脱液部１３の多孔プレート１７は、脱液ネット１６下に上下間隔を存しつつ、平行に並んで配設されており、回収孔が多数形成されている。
多孔プレート１７としては、例えばパンチングプレートが使用され、多数の小さな回収孔（孔径は、脱液ネット１６のネット孔よりは遥かに大）を備えると共に、上位の脱液ネット１６と見合った寸法の長板状をなし、見合った傾斜角度で配設，固定されている。
そして、このような多孔プレート１７上には、リキッドカットバーとして機能する突起１８が多数、立設，固定されている。突起１８は、前後（上下流方向）に相互間隔を存しつつ配設され、その高さ寸法が、脱液ネット１６と多孔プレート１７間の上下間隔の例えば半分程度に設定されている。
そこで、前述により脱液ネット１６にて混合体Ｄから分離，落下されたアルカリ溶液Ｂは、下位の多孔プレート１７の回収孔を経由して、下方の液槽１２に向けて落下するが、かなりの部分が途中で、多孔プレート１７の回収孔以外の表面部分にて、反転され，跳ね返される。
そしてアルカリ溶液Ｂは、バウンド，浮沈運動しつつ多孔プレート１７上を流れる。又、このアルカリ溶液Ｂのバウンド，浮沈運動は、プレート１７上に立設された各突起１８の流れ止め機能にて、大きく助長される。
もって、このようなバウンド，浮沈運動により、上位の脱液ネット１６が上下に揺らされるので、脱液ネット１６上を流れる混合体Ｄ中のレジストＡが、脱液ネット１６上に沈殿，付着することが阻止される。つまり、脱液ネット１６の目詰まりが防止される。
プレ脱液部１１は、このようになっている。
【００３２】
《レジスト濃縮部１４について》
次に、図２，図３を参照して、レジスト濃縮部１４について説明する。レジスト回収装置１１のレジスト濃縮部１４は、プレ脱液部１３から供給された混合体Ｄについて、レジストＡを濃縮すると共に、アルカリ溶液Ｂを分離して液槽１２へと回収させる。
すなわち、レジスト濃縮部１４は、液槽１２中に立設された略逆円錐状の捕集ネット２３を備えており、プレ脱液部１３の脱液ネット１６上から供給された混合体Ｄは、捕集ネット２３内を下方に向け吸引，流下される。
もって混合体Ｄは、かなりのアルカリ溶液Ｂが、捕集ネット２３外に流出し、下方に向け吸引，流下されて、液槽１２へと吸引，回収されるので、レジストＡが、捕集ネット２３内の下部に向けて、順次濃縮されて行く。
又、レジスト濃縮部１４の捕集ネット２３の外側には、間隔を存して多孔カバー２４が、周設されている。そこで、液槽１２内のアルカリ溶液Ｂが、多孔カバー２４内に流入すると共に、捕集ネット２３の外面に沿って下方に向け吸引，流下され、もって液槽１２へと吸引，回収される。
【００３３】
このようなレジスト濃縮部１４について、更に詳述する。液槽１２の中央部には、捕集ネット２３と多孔カバー２４とが、同心状に立設されている。
すなわち、捕集ネット２３は、上面が開放されると共に下方ほど小径となった、漏斗状，略逆円錐状をなすと共に、微細なネット孔が密に多数形成されている。ネット孔の径は、微細化したレジストＡも通過不能な網目寸法に設定されており、例えば、数１０μｍ〜数μｍ程度、２００メッシュ程度に設定されている。
そして、このような捕集ネット２３の外側に、左右間隔を存して例えば円筒状の多孔カバー２４が立設されており、多孔カバー２４は、多数の小さな孔（孔径は、捕集ネット２３のネット孔よりは遥かに大）を備えている。
捕集ネット２３の上部は、液槽１２の液面上に突出すると共に、プレ脱液部１３の脱液ネット１６下流側より、一段低く配されており、捕集ネット２３の下部は、液槽１２下に連通して垂下付設された下ボックス部２５内に、至っている。多孔カバー２４の上部は、捕集ネット２３と共に液槽１２の液面上に突出し、下部は、液槽１２底面に固定されている。
【００３４】
そこで、プレ脱液部１３の脱液ネット１６下流からの混合体Ｄは、捕集ネット２３上に供給された後、捕集ネット２３内部を下へと流下する。
そして混合体Ｄは、捕集ネット２３内部を自然流下すると共に、捕集ネット２３下端に接続された配管２６のポンプ２７にて、吸引，流下される。混合体Ｄ中のレジストＡも、液面に浮上することなく、下方に向けて吸引，流下される。
そして混合体Ｄは、下方ほど径小となって捕集ネット２３内部を、このように吸引，流下されるので、混入されていたかなりの量のアルカリ溶液Ｂが、徐々に捕集ネット２３外へと流出して行く。
そこで混合体Ｄは、下方ほど径小となった捕集ネット２３下部に向け、残ったレジストＡが次第に濃縮されて行く。そして混合体Ｄは、捕集ネット２３下端に接続された配管２６，ポンプ２７を介し、レジスト回収部１５へと供給される。
【００３５】
これに対し、捕集ネット２３外では、次のようになる。すなわち、液槽１２内のアルカリ溶液Ｂが、多孔カバー２４の孔を介し流入して、捕集ネット２３の外面に至ると共に、下ボックス部２５に接続された配管２６のポンプ２８にて吸引される。もって、前述により捕集ネット２３外へと流出してきたアルカリ溶液Ｂと共に、多孔カバー２４と捕集ネット２３の間を、下方に向けて吸引，流下される。
そして、このようなアルカリ溶液Ｂは、配管２６，ポンプ２８を介し、液槽１２へと循環，供給される。
ところで、ポンプ２７を介しレジスト回収部１５へと供給される混合体Ｄと、ポンプ２８を介し液槽１２へと供給されるアルカリ溶液Ｂとを比較すると、前者は、濃いレジストＡ，比較的大きな破片のレジストＡが混入しているのに対し、後者は、極めて薄いレジストＡ，ミクロ的に小さなレジストＡしか混入されていないと、表現することもできる。
なお、配管２６に介装されたポンプ２７，２８は、間欠駆動タイプよりなり、吸引駆動と停止とが、明確に順次繰り返されるタイプよりなる。
【００３６】
《レジスト回収部１５について》
次に、図３を参照して、レジスト回収部１５について説明する。レジスト回収装置１１のレジスト回収部１５は、レジスト濃縮部１４から供給された混合体Ｄから、レジストＡを捕集すると共に、アルカリ溶液Ｂを液槽１２へと分離，回収させる。
すなわちレジスト回収部１５は、槽状をなし濾過ネット２９を備えており、レジスト濃縮部１４の捕集ネット２３下部から配管２６やポンプ２７を介して供給され濃縮されたレジストＡを含んだ混合体Ｄは、大部分のレジストＡが濾過ネット２９にて捕集，回収される。
そして、濾過ネット２９にて濾過された後のアルカリ溶液Ｂ、つまり混合体Ｄから大部分のレジストＡが除去されて得られたアルカリ溶液Ｂが、配管２６を経由して、液槽１２へと供給される。
レジスト回収部１５は、このようになっている。
【００３７】
《液槽１２について》
次に、液槽１２について説明する。図１等に示したように、レジスト回収装置１１の回収室Ｈの下部が、液槽１２となっており、レジスト回収装置１１そして回収室Ｈは、現像機１や剥離機２に隣接配設されている。
そして液槽１２は、図２，図３に示したように、上位のプレ脱液部１３からアルカリ溶液Ｂが落下，回収，貯留される。又、下ボックス部２５からのアルカリ溶液Ｂが、配管２６やポンプ２８を介して、供給，回収，貯留される。更に、レジスト回収部１５からもアルカリ溶液Ｂが、配管２６やポンプ２７を介して、供給，回収，貯留される。又、泡回収部３０の消泡ネット３１からも、アルカリ溶液Ｂが、落下，回収，貯留される。
これと共に、図１に示したように、貯留されたアルカリ溶液Ｂは、配管２６やポンプ３２を介し、現像機１や剥離機２へと再使用のため循環供給されて、そのスプレーノズル９から噴射された後、レジストＡと共に混合体Ｄとなって、レジスト回収装置１１のプレ脱液部１３に供給される。
液槽１２は、このようになっている。
【００３８】
《泡回収部３０について》
次に、図２，図３を参照して、泡回収部３０について説明する。レジスト回収装置１１には、更に、泡回収ボックス３３，液化ノズル３４，消泡ネット３１を備えた、泡回収部３０が配設されている。
そして泡回収ボックス３３は、レジスト濃縮部１４上に間隔を存して配設され、下面が開放されており、混合体Ｄ上部のアルカリ溶液Ｂの泡Ｇを吸引する。
液化ノズル３４は、該泡回収ボックス３３から供給された泡Ｇを、消泡ネット３１へと噴射する。消泡ネット３１は、噴射された泡Ｇを液化し、アルカリ溶液Ｂに戻して、液槽１２へ回収させる。
【００３９】
このような泡回収部３０について、更に詳述する。レジスト回収装置１１の回収室Ｈの中央上部、つまり液槽１２の中央部上には、泡回収部３０の泡回収ボックス３３が配設されている。
この泡回収ボックス３３は、下面が開放された例えば円筒箱状をなし、開放された下面が、上下間隔を存し下位の捕集ネット２３の上面開口に、対向位置している。
又、回収ボックス３３の外側には、泡回収壁３５が周設形成されている。泡回収壁３５は、例えば円筒状をなし、回収室２９の天井から液槽１２内まで垂下設されており、プレ脱液部１３の脱液ネット１６上に横から臨んで、大きな開口３６が形成されている。
【００４０】
そこで、プレ脱液部１３の脱液ネット１６上から供給された混合体Ｄ上部の泡Ｇは、開口３６，泡回収ボックス３３を経由し、泡回収ボックス３３頂端に接続された配管２６のポンプ３７にて吸引され、もって液化ノズル３４に供給される。
そして泡Ｇは、液化ノズル３４から消泡ネット３１に噴射される。消泡ネット３１は、多数のネット孔が密に多数形成されると共に、液槽１２の液面上に上下間隔を存して配設されている。
そこで消泡ネット３１に噴射された泡Ｇは、圧射とネット孔の凹凸により、潰され破壊されて液化し、元のアルカリ溶液Ｂとなって、液槽１２に落下，回収，貯留される。このようにして回収されたアルカリ溶液Ｂも、前述により貯留されていたアルカリ溶液Ｂと共に、再使用される。
泡回収部３０は、このようになっている。
【００４１】
《作用等について》
本発明のレジスト回収装置１１は、以上説明したように構成されている。そこで、以下のようになる。
（１）回路基板Ｅの製造工程において、噴射使用後のアルカリ溶液Ｂと基板材Ｃから除去された感光膜つまりレジストＡとの混合体Ｄは、レジスト回収装置１１に供給される（図１を参照）。
すなわち、現像工程の現像機１で噴射使用された現像液又は剥離工程の剥離機２で噴射使用された剥離液、つまりアルカリ溶液Ｂと、基板材Ｃの外表面から除去された微少破片状の感光性のレジストＡとが、混じり合った混合体Ｄは、→現像機１又は剥離機２から、それぞれに付設されたレジスト回収装置１１に、供給される。
【００４２】
（２）供給された混合体Ｄは、上部上を泡Ｇが覆うと共に、比重の軽いレジストＡが上部ほど多く浮遊し、下部ほど少ない状態となっている。→そこで混合体Ｄは、まず、レジスト回収装置１１の下降傾斜したプレ脱液部１３の脱液ネット１６上を流れることにより、→混合体Ｄの下部から、かなりの量のアルカリ溶液Ｂが、濾過，分離，落下されて、液槽１２へと回収される（図２を参照）。
その際、プレ脱液部１３は、脱液ネット１６下に突起１８付きの多孔プレート１７を備えた構造よりなるので、→脱液ネット１６下に流下，落下したアルカリ溶液Ｂは、多孔プレート１７による反転と突起１８による下部の流れ止めにより、跳ね返り，バウンドして、波立ち，浮沈運動し、→もって、脱液ネット１６を下から上下に揺らすと共に、→多孔プレート１７上から液槽１２へと落下，回収される。
このように脱液ネット１６は、常時下から揺らされてリフレッシュされるので、→その上を流れる混合体Ｄ中のレジストＡにて、目詰まりすることが防止される。
【００４３】
（３）さて、このレジスト回収装置１１において、プレ脱液部１６でかなりの量のアルカリ溶液Ｂが分離された混合体Ｄは、次に、プレ脱液部１３からレジスト濃縮部１４に供給され、もって、レジストＡが濃縮されると共に、アルカリ溶液Ｂが分離されて液槽１２へと回収される（図２，図３を参照）。
すなわち、プレ脱液部１３の脱液ネット１６上からレジスト濃縮部１４に供給された混合体Ｄは、→液槽１２中に立設されたレジスト濃縮部１４の略逆円錐状の捕集ネット２３内を、下方に向け吸引，流下される。
→もって、混合体Ｄ中から、かなりの量のアルカリ溶液Ｂが、捕集ネット２３にて濾過，分離され、捕集ネット２３外に流出して、→下方に向け吸引，流下され、もって配管２６やポンプ２８を介し、液槽１２へと吸引，回収される。→そこで、混合体Ｄ中のレジストＡが、捕集ネット２３の内面、それから下部に向け順次引き込まれ，集められ，濃縮されて行く。
【００４４】
（４）又、このようなレジスト濃縮部１４の略逆円錐状の捕集ネット２３の外側には、円筒状の多孔カバー２４が周設されている。
→そこで、液槽１２内のアルカリ溶液Ｂが、多孔カバー２４内に流入した後、→捕集ネット２３の外面に沿って下方に向け吸引，流下され、→もって、上述により捕集ネット２３内から外に流出，流下してきたアルカリ溶液Ｂと共に、液槽１２へと配管２６やポンプ２８を介し吸引，回収される（図２，図３を参照）。（なお、このように配管２６やポンプ２８を経由して回収されるアルカリ溶液Ｂ中には、若干混入していた泡Ｇが潰され破壊された後の空気も、併存している。）
このようにして、レジスト濃縮部１４の捕集ネット２３の内外には、同方向かつ同圧の流れが形成される。→つまり、捕集ネット２３の内部では、濃縮されたレジストＡを含んだ混合体Ｄが、下方に吸引，流下される流れが形成され、外部では、アルカリ溶液Ｂが下方に吸引，流下される流れが形成される。→そこで、混合体Ｄ中のレジストＡにて、捕集ネット２３が目詰まりすることが防止される。
【００４５】
（５）さて、濃縮されたレジストＡを含んだ混合体Ｄは、それから、レジスト濃縮部１４の捕集ネット２３下部から、→配管２６やポンプ２７を介し、レジスト回収部１５に供給される。（なお、このように配管２６やポンプ２７を経由して供給される混合体Ｄ中には、若干混入していた泡Ｇが潰され破壊された後の空気も、併存している。）
→そして、レジスト回収部１５に供給された混合体Ｄは、大部分のレジストＡが、濾過ネット２９にて濾過，捕集，回収されると共に、→アルカリ溶液Ｂが、配管２６を介し液槽１２へと回収される（図３を参照）。
【００４６】
（６）なお、目詰まり防止に関しては、混合体Ｄやアルカリ溶液Ｂを吸引するポンプ２７，２８について、間欠駆動タイプを採用することにより、より確実に実現される（図３を参照）。
すなわち、間欠駆動タイプのポンプ２７，２８を採用して、→混合体Ｄを、レジスト回収部１５に向け間欠的に吸引することにより、又、アルカリ溶液Ｂを、液槽１２に向け間欠的に吸引することにより、→レジスト濃縮部１４の捕集ネット２３やレジスト回収部１５の濾過ネット２９が、吸引波動，吸引衝撃を受け、→もって、混合体Ｄ中のレジストＡにて目詰まりすることが、より確実に防止される。
【００４７】
（７）ところで、現像機１又は剥離機２において、現像液や剥離液として噴射使用されたアルカリ溶液Ｂは、アルカリ性で苛性ソーダ等を含有した薬液よりなると共に、加温されている。そこで噴射に伴い、多量の気泡つまり泡Ｇが生じているので、→現像機１又は剥離機２からレジスト回収装置１１に供給された混合体Ｄも、アルカリ溶液Ｂの多量の泡Ｇを伴っている（図１を参照）。
→そこで、このレジスト回収装置１１には、泡回収部３０が配設されている（図２，図３を参照）。→そして、アルカリ溶液Ｂの泡Ｇは、気泡なので混合体Ｄ上部上に位置しており、→レジスト濃縮部１４上において、泡回収部３０の泡回収ボックス３３にて吸引された後、→配管２６やポンプ３７を介し、液化ノズル３４に供給され、→液化ノズル３４から消泡ネット３１へと噴射され，吹き付けられる。→もって、消泡ネット３１上にて、泡Ｇが潰され破壊されて液化され、アルカリ溶液Ｂに戻されて、→液槽１２に落下，回収される。
なお、泡Ｇを吸引するポンプ３７について、間欠駆動タイプを採用することによっても、泡Ｇの潰し，液化が助長される。又、混合体Ｄ中に混入されてレジスト濃縮部１４に流入した泡Ｇは、捕集ネット２３を通過する際に潰され破壊されて、アルカリ溶液Ｂに戻されると共に、空気となってアルカリ溶液Ｂや混合体Ｄ中に併存する。
→このようなプロセスにより、→混合体Ｄの液面にレジストＡを浮かせてしまう泡Ｇ、もってレジストＡの分離，回収を不確実化させてしまう泡Ｇが、解消，消滅せしめられる。→そしてこれは、基板材Ｃの処理に悪影響を及ぼす虞のある消泡剤を使用することなく、実現される。
【００４８】
（８）さて、このレジスト回収装置１１は、このようなプレ脱液部１３，レジスト濃縮部１４，泡回収部３０等を採用してなる。
→そこで、レジストＡとアルカリ溶液Ｂとが、確実に分離，回収され、→もって、レジストＡの回収効率が向上し、アルカリ溶液Ｂのライフ寿命が長くなり、→アルカリ溶液Ｂが、現像機１や剥離機２において、繰り返し循環再使用可能となる（図１を参照）。
【００４９】
（９）又、プレ脱液部１３で、予め、かなりの量のアルカリ溶液Ｂを、混合体Ｄ中から分離，回収してしまうので、→事後その分だけ、レジスト濃縮部１４に運んで供給する混合体Ｄの量が、削減される。
→これに加え、レジスト濃縮部１４でも、かなりの量のアルカリ溶液Ｂを、混合体Ｄ中から分離，回収するので、→更にその分だけ、レジスト回収部１５に運び供給することが必要な混合体Ｄの量が、削減される。
→そこで、レジスト濃縮部１４やレジスト回収部１５が、小型化でき、→レジスト回収装置１１も、全体的に小型化される。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】本発明に係るレジスト回収装置について、発明を実施するための最良の形態の説明に供し、正断面説明図である。
【図２】同発明を実施するための最良の形態の説明に供し、要部の側断面説明図である。
【図３】同発明を実施するための最良の形態の説明に供し、全体の側断面説明図である。
【図４】この種従来例の説明に供し、正断面説明図である。
【図５】基板（基板材）の模式化した平面説明図である。
【符号の説明】
【００５１】
１ 現像機
２ 剥離機
３ レジスト回収装置（従来例）
４ フィルター
５ チャンバー
６ 液槽（従来例）
７ ポンプ（従来例）
８ 配管（従来例）
９ スプレーノズル
１０ ローラーコンベヤ
１１ レジスト回収装置（本発明）
１２ 液槽（本発明）
１３ プレ脱液部
１４ レジスト濃縮部
１５ レジスト回収部
１６ 脱液ネット
１７ 多孔プレート
１８ 突起
１９ 仕切床
２０ 排出口
２１ 供給管
２２ 受入口
２３ 捕集ネット
２４ 多孔カバー
２５ 下ボックス部
２６ 配管（本発明）
２７ ポンプ（本発明）
２８ ポンプ（本発明）
２９ 濾過ネット
３０ 泡回収部
３１ 消泡ネット
３２ ポンプ（本発明）
３３ 泡回収ボックス
３４ 液化ノズル
３５ 泡回収壁
３６ 開口
３７ ポンプ（本発明）
Ａ レジスト
Ｂ アルカリ溶液
Ｃ 基板材
Ｄ 混合体
Ｅ 回路基板
Ｆ 回路
Ｇ 泡
Ｈ 回収室
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回路基板の製造工程において使用され、供給された噴射後のアルカリ溶液と除去された感光性のレジストとの混合体から、該レジストを回収するレジスト回収装置であって、液槽，プレ脱液部，レジスト濃縮部，レジスト回収部を有しており、
該プレ脱液部は、該混合体から該アルカリ溶液を分離して、該液槽へと回収させ、
該レジスト濃縮部は、該プレ脱液部から供給された該混合体について、該レジストを濃縮すると共に、該アルカリ溶液を分離して該液槽へと回収させ、
該レジスト回収部は、該レジスト濃縮部から供給された該混合体について、該レジストを捕集，回収すると共に、該アルカリ溶液を該液槽へと分離，回収させること、を特徴とするレジスト回収装置。
【請求項２】
請求項１に記載したレジスト回収装置において、該プレ脱液部は、脱液ネットを備えており、供給された該混合体は、まず該脱液ネット上を流れることにより、かなりの該アルカリ溶液が、分離，落下されて該液槽へと回収され、
該レジスト濃縮部は、該液槽中に立設された略逆円錐状の捕集ネットを備えており、該プレ脱液部の脱液ネット上から供給された該混合体は、該捕集ネット内で下方に向け吸引，流下されることにより、かなりの該アルカリ溶液が、該捕集ネット外に流出し下方に向け吸引，流下されて該液槽へと吸引，回収されると共に、該レジストが、該捕集ネット内下部に向け順次濃縮され、
該レジスト回収部は、濾過ネットを備えており、該レジスト濃縮部の捕集ネット内下部から供給され濃縮された該レジストを含んだ該混合体は、該レジストが、該濾過ネットにて捕集，回収されると共に、該アルカリ溶液が、該液槽へと回収されること、を特徴とするレジスト回収装置。
【請求項３】
請求項２に記載したレジスト回収装置であって、回路基板の製造工程の現像機に付設され、該アルカリ溶液は現像液よりなること、を特徴とするレジスト回収装置。
【請求項４】
請求項２に記載したレジスト回収装置であって、回路基板の製造工程の剥離機に付設され、該アルカリ溶液は剥離液よりなること、を特徴とするレジスト回収装置。
【請求項５】
請求項３又は４に記載したレジスト回収装置において、更に、泡回収ボックス，液化ノズル，消泡ネットを備えた、泡回収部が配設されており、
該泡回収ボックスは、該レジスト濃縮部上に間隔を存して配設され、下面が開放されており、該混合体上部の該アルカリ溶液の泡を吸引し、
該液化ノズルは、該泡回収ボックスから供給された該泡を該消泡ネットへと噴射し、
該消泡ネットは、噴射された該泡を液化し該アルカリ溶液に戻して、該液槽へ回収させること、を特徴とするレジスト回収装置。
【請求項６】
請求項３又は４に記載したレジスト回収装置において、該プレ脱液部は、下降傾斜して配設された該脱液ネットと、該脱液ネット下に上下間隔を存して配設された多孔プレートと、該多孔プレート上に立設された各突起と、を備えた構造よりなり、
該脱液ネット下に落下した該アルカリ溶液は、該多孔プレートと該突起にてバウンド，浮沈運動され、もって該脱液ネットを下から揺らすと共に、該多孔プレート上から該液槽へと落下，回収されること、を特徴とするレジスト回収装置。
【請求項７】
請求項３又は４に記載したレジスト回収装置において、該レジスト濃縮部の捕集ネットの外側に、間隔を存して多孔カバーが周設されており、
該液槽内の該アルカリ溶液は、該多孔カバー内に流入すると共に、該捕集ネットの外面に沿って下方に向け吸引，流下され、もって該液槽へと吸引，回収されること、を特徴とするレジスト回収装置。
【請求項８】
請求項５又は７に記載したレジスト回収装置において、該混合体，該アルカリ溶液，又は該泡を吸引するポンプは、間欠駆動タイプよりなること、を特徴とするレジスト回収装置。
【請求項１】
回路基板の製造工程において使用され、供給された噴射後のアルカリ溶液と除去された感光性のレジストとの混合体から、該レジストを回収するレジスト回収装置であって、液槽，プレ脱液部，レジスト濃縮部，レジスト回収部を有しており、
該プレ脱液部は、該混合体から該アルカリ溶液を分離して、該液槽へと回収させ、
該レジスト濃縮部は、該プレ脱液部から供給された該混合体について、該レジストを濃縮すると共に、該アルカリ溶液を分離して該液槽へと回収させ、
該レジスト回収部は、該レジスト濃縮部から供給された該混合体について、該レジストを捕集，回収すると共に、該アルカリ溶液を該液槽へと分離，回収させること、を特徴とするレジスト回収装置。
【請求項２】
請求項１に記載したレジスト回収装置において、該プレ脱液部は、脱液ネットを備えており、供給された該混合体は、まず該脱液ネット上を流れることにより、かなりの該アルカリ溶液が、分離，落下されて該液槽へと回収され、
該レジスト濃縮部は、該液槽中に立設された略逆円錐状の捕集ネットを備えており、該プレ脱液部の脱液ネット上から供給された該混合体は、該捕集ネット内で下方に向け吸引，流下されることにより、かなりの該アルカリ溶液が、該捕集ネット外に流出し下方に向け吸引，流下されて該液槽へと吸引，回収されると共に、該レジストが、該捕集ネット内下部に向け順次濃縮され、
該レジスト回収部は、濾過ネットを備えており、該レジスト濃縮部の捕集ネット内下部から供給され濃縮された該レジストを含んだ該混合体は、該レジストが、該濾過ネットにて捕集，回収されると共に、該アルカリ溶液が、該液槽へと回収されること、を特徴とするレジスト回収装置。
【請求項３】
請求項２に記載したレジスト回収装置であって、回路基板の製造工程の現像機に付設され、該アルカリ溶液は現像液よりなること、を特徴とするレジスト回収装置。
【請求項４】
請求項２に記載したレジスト回収装置であって、回路基板の製造工程の剥離機に付設され、該アルカリ溶液は剥離液よりなること、を特徴とするレジスト回収装置。
【請求項５】
請求項３又は４に記載したレジスト回収装置において、更に、泡回収ボックス，液化ノズル，消泡ネットを備えた、泡回収部が配設されており、
該泡回収ボックスは、該レジスト濃縮部上に間隔を存して配設され、下面が開放されており、該混合体上部の該アルカリ溶液の泡を吸引し、
該液化ノズルは、該泡回収ボックスから供給された該泡を該消泡ネットへと噴射し、
該消泡ネットは、噴射された該泡を液化し該アルカリ溶液に戻して、該液槽へ回収させること、を特徴とするレジスト回収装置。
【請求項６】
請求項３又は４に記載したレジスト回収装置において、該プレ脱液部は、下降傾斜して配設された該脱液ネットと、該脱液ネット下に上下間隔を存して配設された多孔プレートと、該多孔プレート上に立設された各突起と、を備えた構造よりなり、
該脱液ネット下に落下した該アルカリ溶液は、該多孔プレートと該突起にてバウンド，浮沈運動され、もって該脱液ネットを下から揺らすと共に、該多孔プレート上から該液槽へと落下，回収されること、を特徴とするレジスト回収装置。
【請求項７】
請求項３又は４に記載したレジスト回収装置において、該レジスト濃縮部の捕集ネットの外側に、間隔を存して多孔カバーが周設されており、
該液槽内の該アルカリ溶液は、該多孔カバー内に流入すると共に、該捕集ネットの外面に沿って下方に向け吸引，流下され、もって該液槽へと吸引，回収されること、を特徴とするレジスト回収装置。
【請求項８】
請求項５又は７に記載したレジスト回収装置において、該混合体，該アルカリ溶液，又は該泡を吸引するポンプは、間欠駆動タイプよりなること、を特徴とするレジスト回収装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２００６−３００９９４（Ｐ２００６−３００９９４Ａ）
【公開日】平成１８年１１月２日（２００６．１１．２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−１１８１２０（Ｐ２００５−１１８１２０）
【出願日】平成１７年４月１５日（２００５．４．１５）
【出願人】（０００２２０２４０）東京化工機株式会社 (22)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年１１月２日（２００６．１１．２）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年４月１５日（２００５．４．１５）
【出願人】（０００２２０２４０）東京化工機株式会社 (22)
【Ｆターム（参考）】
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