説明

レンズ付き光ファイバ及びその製造方法

【課題】従来のレンズ付き光ファイバでは、OEICといった電子部品と光部品が融合したハイブリッド光学素子等の光学デバイスに対して十分な結合効率が得られていない。
【解決手段】本発明では、シングルモード型の第1の光ファイバ1の端部に、シングルモード型で、且つ、コアに屈折率分布を有する第2の光ファイバ2又はマルチモード型で2乗形屈折率分布を有し固有モードフィールド直径が第1の光ファイバのモードフィールド直径と等しい第2の光ファイバが接続され、第2の光ファイバの先端側には、屈折率分布に応じて形成された凹面部3に、反射防止膜4を介して、高屈折率のレンズ素材が充填され、端面が研磨加工されてレンズ6が構成されたレンズ付き光ファイバを提案するものである。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、光学デバイスと光ファイバを高効率で接続するための、レンズ付き光ファイバ及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【0002】
ガリウム砒素をベースとした半導体導波路や、シリコン基板をベースとしたシリコン細線導波路上に、スイッチや波長変換、位相変調などの機能を有したOEIC(Optical
Electrical Integrated Circuit)といった電子部品と光部品が融合したハイブリッド光学素子などの光学デバイスの研究が進んでいる。
【0003】
これらの光学デバイスの多くは、導波路コアと基板の屈折率差から、シングルモード条件では、1μm以下のコア中を伝搬している場合が多く、そのビームの直径すなわちモードフィールド直径(Mode Field Diameter;MFD)(以下、MFDと記載する。)は1μm以下になる。一方、光ファイバの多くは、石英のクラッドに、ゲルマニウム酸化物のドーパントが分散したコアを有し、コア径は10μmになり、そのMFDも10μm程度になる。従って、これらを高効率に接続するためには、ビームのスポットサイズを一致させる必要があり、光ファイバと光学デバイスの間に適切なレンズを配置し、調芯の後、固定する必要があった。また、変換する倍率が高いため、屈折率の高い材料で、レンズを構成する必要があった。
【0004】
このようにレンズを介して光ファイバと光学デバイスを結合する方法では、3体を精密に調芯固定する必要があり、半導体の集積回路上で構成された微小な光学デバイスを大きな筐体を用いて、強固に固定することになり、設計意図を害することとなる上、レンズに用いるガラス材料は、屈折率に制約があり、十分な結合特性も得られないため、現実のデバイスには用いられてこなかった。
【0005】
これらの課題を解決するために、例えば特許文献1〜特許文献3に示されるように、光ファイバの先端部にレンズを形成したレンズ付き光ファイバが従来から各種提案されているが、従来のレンズ付き光ファイバでは、前述の光学デバイスに対して、十分な結合効率を得ることができなかった。
【0006】
例えば図6は従来の石英系のレンズ付き光ファイバaと、光学デバイスbのシリコン細線導波路cとの結合を模式的に示すもので、1550nmのビームに対する石英系のレンズ付き光ファイバのスポット径はφ3.3μmであるのに対して、シリコン細線導波路のMFDは、φ0.5μmであり、概ね、ビーム全体の3%程度の結合で、15dBの結合損失となっていた。
【0007】
一方、レンズ付き光ファイバの製造に関し、シングルモード光ファイバを、凸型のレンズに加工する方法では、石英素材の屈折率が制約となって、集光に十分な屈折角が得られにくく、集光特性には限界がある。またシングルモード光ファイバにエッチングにより直接凹面を形成し、凹面に高屈折率の厚膜を形成する方法では、コアの屈折率分布が一定のため、ドーパントの濃度によりエッチング速度の異なるエッチング液を用いることによる選択的エッチングを行っても、集光に適した凹面形状が得られにくく、その調整が必要となり、再現性良く製造することが困難であった。
【0008】
また、従来のレンズ付き光ファイバに用いられた2乗屈折率分布をもつ光ファイバの利用を考慮した場合、この光ファイバでは、その屈折率分布によって、周期的にビーム径が変化するため、その長さを厳密に加工する必要があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0009】
【特許文献1】特開2003−294958号公報
【特許文献2】特開2004−177826号公報
【特許文献3】特開2006−276169号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0010】
本発明が解決しようとする課題は、従来のレンズ付き光ファイバでは、上述した光学デバイスに対して十分な結合効率が得られない点である。
【課題を解決するための手段】
【0011】
本発明は上述した課題を解決するために、まず、請求項1では、シングルモード型の第1の光ファイバの端部に、シングルモード型で、且つ、コアに屈折率分布を有する第2の光ファイバが接続され、第2の光ファイバの先端側には、屈折率分布に応じて形成された凹面部に、反射防止膜を介して、高屈折率のレンズ素材が充填され、端面が研磨加工されてレンズが構成されたレンズ付き光ファイバを提案する。
【0012】
また本発明では、次に、シングルモード型の第1の光ファイバの端部に、固有MFDが第1の光ファイバのMFDと等しく2乗形の屈折率分布を有するマルチモード光ファイバから成る第2の光ファイバが接続され、第2の光ファイバの先端側には、屈折率分布に応じて形成された凹面部に、反射防止膜を介して、高屈折率のレンズ素材が充填され、端面が研磨加工されてレンズが構成されたレンズ付き光ファイバを提案する。ここで、固有MFDとは2乗形屈折率分布を有する二乗形マルチモード光ファイバ中をビーム径が変化しないで伝搬するMFDを指し、その大きさ2Wは、光ファイバのコアの最大屈折率をn、波長をλ、コア半径をa、 比屈折率差をΔとしたとき、 2{λa/nπ(2Δ)1/2}1/2 の式で表される。言い換えれば、当該式で与えられるMFDをもつ光ビームが入射したときには、入射ビームはその直径が保たれたままで当該二乗形マルチモード光ファイバ中を伝搬することができる。
【0013】
そして本発明では、上記の構成において、第2の光ファイバの端面は、平面の他、凸面又は凹面に研磨加工されているレンズ付き光ファイバを提案する。
【0014】
また本発明では、次に、シングルモード型の第1の光ファイバの端部に、シングルモード型で、且つ、コアに屈折率分布を有する第2の光ファイバを融着接続する工程と、屈折率の分布に対応するドーパントの濃度によりエッチング速度の異なるエッチング液を用いた選択的エッチングにより第2の光ファイバの端部に凹面部を形成する工程と、第2の光ファイバの凹面部に反射防止膜を介して高屈折率のレンズ素材を充填し、端面に厚膜を形成する工程と、第2の光ファイバの端面に形成された高屈折率の厚膜を研磨して所望の光学特性のレンズを構成する工程とから成るレンズ付き光ファイバの製造方法を提案する。
【0015】
また本発明では、次に、シングルモード型の第1の光ファイバの端部に、2乗形屈折率分布をもち、且つ、第1の光ファイバのMFDと同じ固有MFDをもつ二乗形マルチモードファイバから成る第2の光ファイバを融着接続する工程と、屈折率の分布に対応するドーパントの濃度によりエッチング速度の異なるエッチング液を用いた選択的エッチングにより第2の光ファイバの端部に凹面部を形成する工程と、第2の光ファイバの凹面部に反射防止膜を介して高屈折率のレンズ素材を充填し、端面に厚膜を形成する工程と、第2の光ファイバの端面に形成された高屈折率の厚膜を研磨して所望の光学特性のレンズを構成する工程とから成るレンズ付き光ファイバの製造方法を提案する。
【発明の効果】
【0016】
本発明のレンズ付き光ファイバにおいて、シングルモード型の第1の光ファイバの端部に融着接続した第2の光ファイバは、コアに屈折率分布を有しているので、ドーパントの濃度によりエッチング速度の異なるエッチング液を用いて選択的エッチングを行うことにより、半球状の凹面部を得ることができる。従って、この凹面部に反射防止膜を介して、高屈折率のレンズ素材を充填し、端面を平面や凸面又は凹面に研磨加工をすることにより、集光に適したレンズを再現性良く製作することができる。
【0017】
第2の光ファイバは、シングルモード型で、且つ、コアに屈折率分布を有する光ファイバ、またはマルチモードのグレーデッドインデックス型で、その固有MFDが第1のシングルモード光ファイバのMFDと等しい光ファイバを用いているので、それを伝搬するビームの周期的挙動が解消され、長さの調整が不要であるため、生産性が向上する。さらに第2のファイバとしてシングルモードファイバを用いるよりもコア径を大きくできるので先端部に形成するレンズの直径が大きくできるため、レンズの周辺部分を避けて光ビームを透過させることができる。その結果、集光時の収差を低減できる効果が生じる。
【図面の簡単な説明】
【0018】
【図1】本発明のレンズ付き光ファイバの第1の実施の形態の構成及び製作工程を示す説明図である。
【図2】本発明のレンズ付き光ファイバの第2の実施の形態の構成及び製作工程を示す説明図である。
【図3】本発明のレンズ付き光ファイバにおける第2の光ファイバの端部における光強度分布と位相分布を示す模式図である。
【図4】解析例における集光位置での光の正規化強度(実線)及び相対位相(破線)を示す説明図である。
【図5】本発明のレンズ付き光ファイバと、シリコン細線導波路との結合状態を示す模式図である。
【図6】従来の石英系のレンズ付き光ファイバと、シリコン細線導波路との結合状態を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【0019】
図1、図2は、本発明のレンズ付き光ファイバの第1、第2の実施の形態の構成及び製作工程を示す説明図であり、夫々後述する実施例1、実施例2の光ファイバの寸法に対応させたものである。
これらの図において符号1はシングルモード型の第1の光ファイバであり、符号1a,1bは、夫々クラッド、コアを示している。図の(a)に示すように、第1の光ファイバ1の端部に、屈折率分布、即ち2乗屈折率分布を有する第2の光ファイバ2を融着接続して、適宜長さで切断する。
【0020】
次いで第2の光ファイバ2の端部に対して、屈折率の分布に対応するドーパントの濃度によりエッチング速度の異なるエッチング液を用いた選択的エッチングを行って、図の(b)に示すように第2の光ファイバ2の端部に凹面部3を形成する。
【0021】
次いで第2の光ファイバ2の凹面部3に反射防止膜4を形成した後、高屈折率のレンズ素材を充填し、端面に厚膜5を形成する。
【0022】
次いで第2の光ファイバ2の端面に形成された高屈折率の厚膜を、光学特性を確認しながら研磨加工して、図の(c)に示すように所望の光学特性のレンズ6を、再現性良く構成することができる。レンズとしての動作は、第2の光ファイバの端部における光強度分布と位相分布を示す図3に示すとおりである。
【0023】
光ファイバ2の端面を平面に研磨加工すれば、いわゆる平凸(プラノコンベックス)型のレンズ6が構成され、図5に示すように光学デバイス7のシリコン細線導波路8とは、例えばレンズ6を構成する素材と程近い屈折率を有する接着剤を用いて容易に調芯固定することができる。尚、光ファイバ2の端面は、場合によっては、端面を凸面や凹面に研磨加工することも可能である。
【0024】
こうして本発明のレンズ付き光ファイバを用いることにより、光学デバイス7との結合のパッケージを小型化することができ、また調芯に用いる装置も、2体調芯であるから、3体調芯のための装置と比較して、構成を非常に単純化することができ、調芯固定の時間も短縮できることから、生産性の向上も期待できる。
【実施例1】
【0025】
次に本発明の1実施例を説明する。
1.第1の光ファイバ1としてはコーニング社製のSMF-28(クラッド直径:125μm、コア直径:8.4μm)を用い、第2の光ファイバ2としては、コア2bとクラッド2aの比屈折率差が、1%で、クラッド直径:125μm、コア直径:7.5μmの2乗屈折率分布を有するシングルモード型の光ファイバを用いた。
2.図1の(a)に示されるように第1の光ファイバ1の端部に第2の光ファイバ2を融着接続し、10mmの長さに切断した。その先端部を、エッチング液として、25℃で、9%濃度のフッ化水素酸水溶液に浸し、選択的エッチングを30分実施した。
3.この選択的エッチングによって、(b)に示されるように、周辺部が円錐状で、中心部が曲率半径7μmの半球状の凹面部3が形成された。
4.次いで高周波スパッタ装置により、シリコンとシリコン酸化膜層により、1/4波長膜を形成し、反射防止膜4とした。
5.続いて、高周波スパッタ装置によって、アモルファスシリコンの厚膜5を約20μm形成した。
6.次いで、この端部をフェルールに仮固定し、研磨加工によって光学特性を確認しながら研磨を行った。これによって、1550nmの波長で、0.8μmのスポット直径を得ることができた。この際の、厚膜5の厚さは、凹面部3の中心から10μm程度であった。こうして、このレンズ付き光ファイバに、コア幅0.5μm、コア高さ0.5μmのシリコン細線導波路を接続したところ、約50%の結合効率を得ることができた。
【実施例2】
【0026】
1.第1の光ファイバ1には、実施例1と同様にコーニング社製のSMF-28を用い、第2の光ファイバ2としては、コアとクラッドの比屈折率差が、1%で、クラッド直径:125μm、コア直径:22.7μmの2乗屈折率分布を有するグレーデッドインデックス型光ファイバを用いた。この第2の光ファイバ2は、1550nmでの基本モードのビーム直径が10.4μmとなり、基本モードがシングルモードと同じモードフィールド径で伝搬するものである。
2.図2の(a)に示されるように第1の光ファイバ1の端部に第2の光ファイバ2を融着接続し、10mmの長さに切断した。その先端部を、エッチング液として、25℃で、9%濃度のフッ化水素酸水溶液に浸し、選択的エッチングを30分実施した。
3.この選択的エッチングによって、(b)に示されるように、周辺部が円錐状で、中心部が曲率半径10μmの半球状の凹面部3が形成された。
4.次いで高周波スパッタ装置により、シリコンとシリコン酸化膜層により、1/4波長膜を形成し、反射防止膜4とした。
5.続いて、高周波スパッタ装置によって、アモルファスシリコンの厚膜5を約20μm形成した。
6.次いで、この端部をフェルールに仮固定し、研磨加工によって光学特性を確認しながら研磨を行った。これによって、1550nmの波長で、0.8μmのスポット直径を得ることができた。この際の、厚膜5の厚さは、凹面部3の中心から10μm程度であった。こうして、このレンズ付き光ファイバに、コア幅0.5μm、コア高さ0.5μmのシリコン細線導波路を接続したところ、約50%の結合効率を得ることができた。
【実施例3】
【0027】
解析例として、レンズの形状を次式で示される非球面形状と仮定し、2次元時間領域差分(FDTD)法により解析した結果、曲率半径R=6μm、円錐定数k=−0.16の時、図4に示されるように集光位置での界分布が求められ、ビーム直径として0.56μmが得られる。
Z=(r2/R) / [1+{1−(1+k)r2/R2}1/2]
ここで、Zは光ファイバ軸方向距離、rは光ファイバ軸からの半径方向距離、Rは光ファイバ軸の曲率、kは円錐定数である。
【産業上の利用可能性】
【0028】
本発明のレンズ付き光ファイバは、発光素子、受光素子や導波路素子、フィルタやスイッチなどの光学デバイスに接続し、光通信や光制御、光記録やセンサーなどに利用可能で、その際、第2の光ファイバの端面に構成された高屈折率平凸レンズ(又は凸レンズ、凸凹レンズ)により、光学デバイスと高効率に結合することができる。
【符号の説明】
【0029】
1 第1の光ファイバ
1a クラッド
1b コア
2 第2の光ファイバ
2a クラッド
2b コア
3 凹面部
4 反射防止膜
5 厚膜
6 レンズ
7 光学デバイス
8 シリコン細線導波路

【特許請求の範囲】
【請求項1】
シングルモード型の第1の光ファイバの端部に、シングルモード型で、且つ、コアに屈折率分布を有する第2の光ファイバが接続され、第2の光ファイバの先端側には、屈折率分布に応じて形成された凹面部に、反射防止膜を介して、高屈折率のレンズ素材が充填され、端面が研磨加工されてレンズが構成されたレンズ付き光ファイバ。
【請求項2】
シングルモード型の第1の光ファイバの端部に、固有モードフィールド直径が第1の光ファイバのモードフィールド直径と等しく2乗形の屈折率分布を有するマルチモード型の第2の光ファイバが接続され、第2の光ファイバの先端側には、屈折率分布に応じて形成された凹面部に、反射防止膜を介して、高屈折率のレンズ素材が充填され、端面が研磨加工されてレンズが構成されたレンズ付き光ファイバ。
【請求項3】
第2の光ファイバの端面は平面に研磨加工されている請求項1又は2に記載のレンズ付き光ファイバ。
【請求項4】
第2の光ファイバの端面は凸面又は凹面に研磨加工されている請求項1又は2に記載のレンズ付き光ファイバ。
【請求項5】
シングルモード型の第1の光ファイバの端部に、シングルモード型で、且つ、コアに屈折率分布を有する第2の光ファイバを融着接続する工程と、屈折率の分布に対応するドーパントの濃度によりエッチング速度の異なるエッチング液を用いた選択的エッチングにより第2の光ファイバの端部に凹面部を形成する工程と、第2の光ファイバの凹面部に反射防止膜を介して高屈折率のレンズ素材を充填し、端面に厚膜を形成する工程と、第2の光ファイバの端面に形成された高屈折率の厚膜を研磨して所望の光学特性のレンズを構成する工程とから成るレンズ付き光ファイバの製造方法。
【請求項6】
シングルモード型の第1の光ファイバの端部に、固有モードフィールド直径が第1の光ファイバのモードフィールド直径と等しく2乗形の屈折率分布を有するマルチモード型の第2の光ファイバを融着接続する工程と、屈折率の分布に対応するドーパントの濃度によりエッチング速度の異なるエッチング液を用いた選択的エッチングにより第2の光ファイバの端部に凹面部を形成する工程と、第2の光ファイバの凹面部に反射防止膜を介して高屈折率のレンズ素材を充填し、端面に厚膜を形成する工程と、第2の光ファイバの端面に形成された高屈折率の厚膜を研磨して所望の光学特性のレンズを構成する工程とから成るレンズ付き光ファイバの製造方法。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【公開番号】特開2010−224420(P2010−224420A)
【公開日】平成22年10月7日(2010.10.7)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2009−74033(P2009−74033)
【出願日】平成21年3月25日(2009.3.25)
【出願人】(000138200)株式会社モリテックス (120)
【出願人】(304036743)国立大学法人宇都宮大学 (209)
【Fターム(参考)】