説明

信号増幅方法及び信号増幅装置、並びに異物検査方法

【課題】入力信号に対する応答速度を保ったまま、強度の変化が大きい信号を1つの増幅手段で増幅する。
【解決手段】アンプ12は、抵抗R1と共に帰還増幅回路を構成する。基準電圧発生回路14、クランプ回路15、オフセット回路16、反転ゲイン回路17、電界効果トランジスタ(FET)18及び抵抗R2は、帰還増幅回路の利得を制御する利得制御回路を構成する。クランプ回路15は、信号増幅装置10の入力電圧を、基準電圧発生回路14が発生した基準電圧でクランプする。オフセット回路16は、クランプ回路15の出力電圧をマイナス側へオフセットする。反転ゲイン回路17は、オフセット回路16の出力電圧の極性を反転させて増幅する。電界効果トランジスタ18は、反転ゲイン回路17の出力電圧を制御電圧として動作し、電源V2から抵抗R2を介して帰還増幅回路の帰還ループに電流を加える。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、信号を増幅する信号増幅方法及び信号増幅装置、並びにそれらを用いた異物検査方法に係り、特に強度の変化が大きい信号を増幅するのに好適な信号増幅方法及び信号増幅装置、並びにそれらを用いた異物検査方法に関する。
【背景技術】
【0002】
例えば、液晶ディスプレイ装置用のガラス基板や、ウェーハ基板、ディスク基板、マスク基板等の異物検査では、検査光を基板へ照射し、検査光が基板の表面又は裏面の異物により散乱された散乱光を受光し、散乱光の検出信号を処理して基板の表面又は裏面の異物を検出している。このような異物検査においては、サブミクロンから数十ミクロンの大きさの粒子を検出する必要があり、検出する粒子の大きさに応じて検出信号の強度が著しく変化する。このように強度が大きく変化する検出信号では、検出信号を処理する前に、信号の強度が小さいときはSN比を高くして雑音と分離するために高い利得で増幅し、信号の強度が大きいときはダイナミックレンジを大きく取るために低い利得で増幅することが望まれる。
【0003】
従来、このような増幅を行う手段として、ログアンプがあった。また、特許文献1には、小信号用の大きな利得を有するアンプと大信号用の小さな利得を有するアンプとを用意し、2つのアンプを切り替えることにより、増幅装置のダイナミックレンジを広くする技術が開示されている。
【特許文献1】特開2003−133957号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
従来のログアンプは、入力信号に対する応答速度が低下するため、異物検査において微小粒子により発生する瞬間的なスパイク信号等を増幅するには適さなかった。一方、特許文献1に記載の技術は、小信号用と大信号用の2つのアンプが必要であり、構成が複雑であった。また、2つのアンプを切り替えた時に信号の繋ぎ目を滑らかにするため、特別な処理が必要であった。
【0005】
本発明の課題は、入力信号に対する応答速度を保ったまま、強度の変化が大きい信号を1つの増幅手段で増幅することである。また、本発明の課題は、検出信号を強度に応じて適切に増幅し、異物を精度良く検出することである。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明の信号増幅方法は、入力信号の強度に応じて増幅手段の利得を制御し、入力信号の強度が小さいときは増幅手段の利得を大きくし、入力信号の強度が大きいときは増幅手段の利得を小さくするものである。また、本発明の信号増幅装置は、信号を増幅する増幅手段と、入力信号の強度が小さいときは増幅手段の利得を大きくし、入力信号の強度が大きいときは増幅手段の利得を小さくする利得制御手段とを備えたものである。
【0007】
入力信号の強度に応じて増幅手段の利得を制御することにより、信号の強度が小さいときは大きな利得で増幅を行い、信号の強度が大きいときは小さな利得で増幅を行う。1つの増幅手段により、入力信号に対する応答速度を保ったまま、強度の小さな信号から強度の大きな信号まで増幅することができ、信号の繋ぎ目も発生しない。
【0008】
さらに、本発明の信号増幅方法は、帰還ループを有する増幅手段を用いて信号を増幅し、入力電圧を基準電圧でクランプしてオフセットした後、反転増幅して得た制御電圧でスイッチング素子を動作させて帰還ループに電流を加え、かつ、制御電圧の大きさに応じて帰還ループに加える電流を変化させるものである。また、本発明の信号増幅装置は、増幅手段が帰還ループを有し、利得制御手段が、入力電圧を基準電圧でクランプするクランプ回路と、クランプ回路の出力電圧をオフセットするオフセット回路と、オフセット回路の出力電圧の極性を反転させて増幅する反転増幅回路と、反転増幅回路の出力電圧で動作して帰還ループに電流を加え、かつ、反転増幅回路の出力電圧の大きさに応じて帰還ループに加える電流を変化させるスイッチング素子とを備えたものである。スイッチング素子としては、例えば、電界効果トランジスタ(FET)を用いる。
【0009】
入力電圧を基準電圧でクランプしてオフセットした後、反転増幅して得られる制御電圧は、入力電圧が基準電圧より小さい場合に最大となり、入力電圧が基準電圧より大きくなるに従って小さくなり、入力電圧がさらに大きくなると零になる。この制御電圧の大きさに応じて帰還ループに加える電流を変化させることにより、増幅手段の利得は、入力電圧が基準電圧より小さい場合に最大となり、入力電圧が基準電圧より大きくなるに従って小さくなり、入力電圧がさらに大きくなると一定となる。
【0010】
ここで、制御電圧の減少が始まる入力電圧の大きさは、基準電圧の大きさで決定される。また、制御電圧の最大値は、オフセット電圧の大きさで決定される。さらに、入力電圧の増加に対する制御電圧の減少の割合は、反転増幅する際の増幅率の大きさで決定される。
【0011】
本発明の異物検査方法は、検査光を基板へ照射し、検査光が基板の表面又は裏面の異物により散乱された散乱光を受光し、散乱光の検出信号を処理して基板の表面又は裏面の異物を検出する異物検査方法であって、検出信号を処理する前に、上記のいずれかの信号増幅方法又は信号増幅装置を用いて検出信号を増幅するものである。
【発明の効果】
【0012】
本発明の信号増幅方法及び信号増幅装置によれば、入力信号の強度に応じて増幅手段の利得を制御することにより、入力信号に対する応答速度を保ったまま、強度の変化が大きい信号を1つの増幅手段で増幅することができる。
【0013】
また、本発明の信号増幅方法及び信号増幅装置によれば、入力電圧を基準電圧でクランプしてオフセットした後、反転増幅して得た制御電圧の大きさに応じて帰還ループに加える電流を変化させることにより、増幅手段の利得の制御が始まる入力電圧の大きさを、基準電圧により調整することができる。また、増幅手段の利得の最大値を、オフセット電圧により調整することができる。さらに、入力電圧の増加に対する増幅手段の利得の減少の割合を、反転増幅する際の増幅率により調整することができる。
【0014】
本発明の異物検査方法によれば、信号の強度が小さいときは高い利得で増幅してSN比を高くし、信号の強度が大きいときは低い利得で増幅してダイナミックレンジを大きく取ることができるので、検出信号を強度に応じて適切に増幅し、異物を精度良く検出することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0015】
図1は、本発明の一実施の形態による信号増幅装置の構成図である。信号増幅装置10は、反転バッファ回路11,13、アンプ12、基準電圧発生回路14、クランプ回路15、オフセット回路16、反転ゲイン回路17、電界効果トランジスタ(FET)18、及び抵抗R1,R2を含んで構成されている。
【0016】
信号増幅装置10の入力信号は、反転バッファ回路11により極性が反転された後、アンプ12へ入力される。アンプ12は、抵抗R1と共に帰還増幅回路を構成する。この帰還増幅回路は、抵抗R1による帰還ループを有し、アンプ12の出力を帰還ループで入力側へ帰還することにより、信号の増幅を行う。アンプ12の出力は、反転バッファ回路13により再び極性が反転された後、出力される。
【0017】
基準電圧発生回路14、クランプ回路15、オフセット回路16、反転ゲイン回路17、電界効果トランジスタ(FET)18及び抵抗R2は、帰還増幅回路の利得を制御する利得制御回路を構成する。基準電圧発生回路14は、所定の大きさの基準電圧を発生する。クランプ回路15は、信号増幅装置10の入力電圧を、基準電圧発生回路14が発生した基準電圧でクランプする。オフセット回路16は、クランプ回路15の出力電圧をマイナス側へオフセットする。反転ゲイン回路17は、オフセット回路16の出力電圧の極性を反転させて増幅する。
【0018】
入力電圧が基準電圧より小さい場合について、図2(a)は入力電圧を示す図、図2(b)はクランプ回路の出力電圧を示す図、図2(c)は反転ゲイン回路の出力電圧を示す図である。図2(a)に示すように、入力電圧が基準電圧Vrより小さい場合、図2(b)に示すように、クランプ回路15から基準電圧Vrが出力される。そして、図2(c)に示すように、反転ゲイン回路17から、オフセット後の電圧の極性を反転させて増幅した電圧Voが出力される。
【0019】
一方、入力電圧が基準電圧より大きい場合について、図3(a)は入力電圧を示す図、図3(b)はクランプ回路の出力電圧を示す図、図3(c)は反転ゲイン回路の出力電圧を示す図である。図3(a)に示すように、入力電圧が基準電圧Vrより大きい場合、図3(b)に示すように、入力電圧が基準電圧Vrより大きい間、クランプ回路15から入力電圧が出力される。そして、図3(c)に示すように、入力電圧が基準電圧Vrより大きい間、反転ゲイン回路17の出力電圧が電圧Voより小さくなる。
【0020】
このように、反転ゲイン回路17の出力電圧は、入力電圧が基準電圧より小さい場合に最大となり、入力電圧が基準電圧より大きくなるに従って小さくなり、入力電圧がさらに大きくなると零になる。
【0021】
図1の電界効果トランジスタ18は、反転ゲイン回路17の出力電圧を制御電圧として動作し、電源V2から抵抗R2を介して帰還増幅回路の帰還ループに電流を加える。このとき、電界効果トランジスタ18により帰還ループに加えられる電流は、制御電圧の大きさに応じて変化し、これにより帰還増幅回路の利得が変化する。
【0022】
即ち、電界効果トランジスタ18により帰還ループに加えられる電流は、入力電圧が基準電圧より小さい場合に最大となり、入力電圧が基準電圧より大きくなるに従って小さくなり、入力電圧がさらに大きくなると零になる。従って、帰還増幅回路の利得は、入力電圧が基準電圧より小さい場合に最大となり、入力電圧が基準電圧より大きくなるに従って小さくなり、入力電圧がさらに大きくなると一定となる。図4は、本発明の一実施の形態による信号増幅装置の入出力特性を示す図である。
【0023】
なお、図1において、制御電圧の減少が始まる入力電圧の大きさは、基準電圧発生回路14が発生する基準電圧の大きさで決定される。従って、帰還増幅回路の利得の制御が始まる入力電圧の大きさを、基準電圧発生回路14の基準電圧により調整することができる。
【0024】
また、制御電圧の最大値は、オフセット回路16のオフセット電圧の大きさで決定される。従って、帰還増幅回路の利得の最大値を、オフセット回路16のオフセット電圧により調整することができる。
【0025】
さらに、入力電圧の増加に対する制御電圧の減少の割合は、反転ゲイン回路17の増幅率の大きさで決定される。従って、入力電圧の増加に対する帰還増幅回路の利得の減少の割合を、反転ゲイン回路17の増幅率により調整することができる。
【0026】
以上説明した実施の形態によれば、入力信号の強度に応じて帰還増幅回路の利得を制御することにより、入力信号に対する応答速度を保ったまま、強度の変化が大きい信号を1つの帰還増幅回路で増幅することができる。
【0027】
また、入力電圧を基準電圧でクランプしてオフセットした後、反転増幅して得た制御電圧の大きさに応じて帰還ループに加える電流を変化させることにより、帰還増幅回路の利得の制御が始まる入力電圧の大きさを、基準電圧により調整することができる。また、帰還増幅回路の利得の最大値を、オフセット電圧により調整することができる。さらに、入力電圧の増加に対する帰還増幅回路の利得の減少の割合を、反転増幅する際の増幅率により調整することができる。
【0028】
図5は、本発明の一実施の形態による異物検査装置の概略構成を示す図である。異物検査装置は、投光系、受光系、信号増幅装置10、アナログ・ディジタル変換器20、信号処理装置30、メモリ40、及び制御装置50を含んで構成されている。
【0029】
なお、本実施の形態は、ガラス基板1の表面の異物検査を行う異物検査装置の例であり、ガラス基板1の裏面の異物検査を同時に行う場合は、投光系、受光系、信号増幅装置10、アナログ・ディジタル変換器20、信号処理装置30及びメモリ40がもう1組設けられる。
【0030】
投光系は、レーザー光源2、ポリゴンミラー3、及びレンズ4を含んで構成されている。レーザー光源2は、検査光となるレーザー光を発生する。レーザー光源2から発生されたレーザー光は、ポリゴンミラー3で反射された後、レンズ4を介してガラス基板1の表面へ斜めに照射される。このとき、ポリゴンミラー3を回転することにより、投光系から照射された検査光がガラス基板1の表面を走査し、ガラス基板1の表面全体の検査が行われる。
【0031】
なお、検査光をポリゴンミラー3で反射させる代わりに、ガラス基板1をXY方向へ移動させることにより、検査光によるガラス基板1の表面の走査を行ってもよい。
【0032】
ガラス基板1の表面に異物がある場合、ガラス基板1へ照射された検査光の一部が異物により散乱され、散乱光が発生する。受光系は、集光レンズ5、結像レンズ6、及び検出器7を含んで構成されている。集光レンズ5は、ガラス基板1の表面からの散乱光を集光し、結像レンズ6は、集光レンズ5で集光した散乱光を検出器7の受光面に結像させる。検出器7は、例えば光電子倍増管(フォトマルチプライヤー)で構成され、受光面で受光した散乱光の強度に応じた検出信号を信号増幅回路10へ出力する。
【0033】
信号増幅回路10は、図1に示した構成であり、検出信号を増幅してアナログ・ディジタル変換器20へ出力する。アナログ・ディジタル変換器20は、信号増幅回路10により増幅された検出信号をディジタル信号に変換して、信号処理回路30へ出力する。信号処理回路30は、制御装置50の制御により、アナログ・ディジタル変換器20から入力したディジタル信号をディジタルデータとしてメモリ40に記憶し、メモリ40に記憶したディジタルデータを処理して、ガラス基板1の表面の異物を検出する。
【0034】
図5に示した実施の形態によれば、信号増幅装置10を用いて検出信号を増幅することにより、信号の強度が小さいときは高い利得で増幅してSN比を高くし、信号の強度が大きいときは低い利得で増幅してダイナミックレンジを大きく取ることができるので、検出信号を強度に応じて適切に増幅し、異物を精度良く検出することができる。
【0035】
なお、本実施の形態では、ガラス基板を例にしたが、ウェーハ、ディスク基板、マスク基板等の異物検査に用いてもよい。
【図面の簡単な説明】
【0036】
【図1】本発明の一実施の形態による信号増幅装置の構成図である。
【図2】入力電圧が基準電圧より小さい場合について、図2(a)は入力電圧を示す図、図2(b)はクランプ回路の出力電圧を示す図、図2(c)は反転ゲイン回路の出力電圧を示す図である。
【図3】入力電圧が基準電圧より大きい場合について、図3(a)は入力電圧を示す図、図3(b)はクランプ回路の出力電圧を示す図、図3(c)は反転ゲイン回路の出力電圧を示す図である。
【図4】本発明の一実施の形態による信号増幅装置の入出力特性を示す図である。
【図5】本発明の一実施の形態による異物検査装置の概略構成を示す図である。
【符号の説明】
【0037】
1 ガラス基板
2 レーザー光源
3 ポリゴンミラー
4 レンズ
5 集光レンズ
6 結像レンズ
7 検出器
10 信号増幅装置
11,13 反転バッファ回路
12 アンプ
14 基準電圧発生回路
15 クランプ回路
16 オフセット回路
17 反転ゲイン回路
18 電界効果トランジスタ(FET)
20 アナログ・ディジタル変換器
30 信号処理装置
40 メモリ
50 制御装置

【特許請求の範囲】
【請求項1】
入力信号の強度に応じて増幅手段の利得を制御し、
入力信号の強度が小さいときは増幅手段の利得を大きくし、入力信号の強度が大きいときは増幅手段の利得を小さくすることを特徴とする信号増幅方法。
【請求項2】
帰還ループを有する増幅手段を用いて信号を増幅し、
入力電圧を基準電圧でクランプしてオフセットした後、反転増幅して得た制御電圧でスイッチング素子を動作させて帰還ループに電流を加え、かつ、制御電圧の大きさに応じて帰還ループに加える電流を変化させることを特徴とする請求項1に記載の信号増幅方法。
【請求項3】
信号を増幅する増幅手段と、
入力信号の強度が小さいときは前記増幅手段の利得を大きくし、入力信号の強度が大きいときは前記増幅手段の利得を小さくする利得制御手段とを備えたことを特徴とする信号増幅装置。
【請求項4】
前記増幅手段は帰還ループを有し、
前記利得制御手段は、
入力電圧を基準電圧でクランプするクランプ回路と、
前記クランプ回路の出力電圧をオフセットするオフセット回路と、
前記オフセット回路の出力電圧の極性を反転させて増幅する反転増幅回路と、
前記反転増幅回路の出力電圧で動作して前記帰還ループに電流を加え、かつ、前記反転増幅回路の出力電圧の大きさに応じて前記帰還ループに加える電流を変化させるスイッチング素子とを備えたことを特徴とする請求項3に記載の信号増幅装置。
【請求項5】
検査光を基板へ照射し、検査光が基板の表面又は裏面の異物により散乱された散乱光を受光し、散乱光の検出信号を処理して基板の表面又は裏面の異物を検出する異物検査方法であって、
検出信号を処理する前に、請求項1又は請求項2に記載の信号増幅方法を用いて検出信号を増幅することを特徴とする異物検査方法。
【請求項6】
検査光を基板へ照射し、検査光が基板の表面又は裏面の異物により散乱された散乱光を受光し、散乱光の検出信号を処理して基板の表面又は裏面の異物を検出する異物検査方法であって、
検出信号を処理する前に、請求項3又は請求項4に記載の信号増幅装置を用いて検出信号を増幅することを特徴とする異物検査方法。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【公開番号】特開2006−33003(P2006−33003A)
【公開日】平成18年2月2日(2006.2.2)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2004−204131(P2004−204131)
【出願日】平成16年7月12日(2004.7.12)
【出願人】(000233480)日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社 (34)
【Fターム(参考)】