光学材料用樹脂組成物、光学材料用樹脂フィルム、及びこれらを用いた光導波路
【課題】透明性、硬化性、及び耐熱性に優れた光学材料用樹脂組成物、該光学材料用樹脂組成物を用いた光学材料用樹脂フィルム、並びにこれらを用いた透明性、信頼性、及び耐熱性に優れた光導波路を提供すること。
【解決手段】（Ａ）特定の（メタ）アクリル基を繰り返し単位として有し、かつ、側鎖にウレタン結合を介して結合させたエチレン性不飽和基を有する繰り返し単位及び／又は側鎖にアミド結合を介して結合させたエチレン性不飽和基を有する繰り返し単位を含有するアクリルポリマー及び／又はメタクリルポリマー、（Ｂ）重合性化合物、並びに（Ｃ）重合開始剤を含む光学材料用樹脂組成物、該光学材料用樹脂組成物を用いた光学材料用樹脂フィルム、並びにこれらを用いた光導波路である。
【解決手段】（Ａ）特定の（メタ）アクリル基を繰り返し単位として有し、かつ、側鎖にウレタン結合を介して結合させたエチレン性不飽和基を有する繰り返し単位及び／又は側鎖にアミド結合を介して結合させたエチレン性不飽和基を有する繰り返し単位を含有するアクリルポリマー及び／又はメタクリルポリマー、（Ｂ）重合性化合物、並びに（Ｃ）重合開始剤を含む光学材料用樹脂組成物、該光学材料用樹脂組成物を用いた光学材料用樹脂フィルム、並びにこれらを用いた光導波路である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学材料用樹脂組成物、光学材料用樹脂フィルム、及びこれらを用いた光導波路に関し、特に、透明性、硬化性、及び耐熱性に優れた光学材料用樹脂組成物、該樹脂組成物を含む光導波路形成用樹脂組成物、該光学材料用樹脂組成物を用いた光学材料用樹脂フィルム、及びこれらを用いた透明性、信頼性、及び耐熱性に優れた光導波路に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子素子間や配線基板間の高速・高密度信号伝送において、従来の電気配線による伝送では、信号の相互干渉や減衰が障壁となり、高速・高密度化の限界が見え始めている。これを打ち破るため電子素子間や配線基板間を光で接続する技術、いわゆる光インタコネクションが検討されている。光の伝送路として加工の容易さ、低コスト、配線の自由度が高く、かつ高密度化が可能な点からポリマー光導波路が注目を集めている。
ポリマー光導波路の形態として、光電気混載基板への適用を想定したガラスエポキシ樹脂基板上に作製するタイプや、ボード同士の接続を想定した硬い支持基板を持たないフレキシブルタイプが好適と考えられる。
【０００３】
ポリマー光導波路には、適用される機器の使用環境や部品実装などの観点から、透明性（低光伝搬損失）と共に耐熱性も要求されるが、このような光導波路材として、（メタ）アクリル重合体（例えば、特許文献１〜３参照）が知られている。
しかしながら、特許文献１〜３に記載の（メタ）アクリル重合体は波長８５０ｎｍにおいて透明性を有するものの、信頼性の評価、例えば、高温高湿放置試験や温度サイクル試験後の光伝搬損失などの具体的な試験結果に関する記述はなく、明らかではない。同様に、耐熱性の評価、例えば、はんだリフロー試験後の光伝搬損失などの具体的な試験結果に関する記述もなく、明らかではない。
【０００４】
【特許文献１】特開昭６３−８１３０１号公報
【特許文献２】特開平０６−２５８５３７号公報
【特許文献３】特開２００３−１９５０７９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、前記の課題を解決するためになされたもので、透明性、硬化性、及び耐熱性に優れた光学材料用樹脂組成物、該光学材料用樹脂組成物を用いた光学材料用樹脂フィルム、並びにこれらを用いた透明性、信頼性、及び耐熱性に優れた光導波路を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、（Ａ）特定の繰り返し単位を有する（メタ）アクリルポリマー、（Ｂ）重合性化合物、及び（Ｃ）重合開始剤を含む光学材料用樹脂組成物、又は該光学材料用樹脂組成物を用いた光学材料用樹脂フィルムを用いて光導波路を製造することにより、上記問題を解決することができることを見出した。
すなわち、本発明は、（Ａ）少なくとも下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有し、かつ、下記一般式（２）で表される側鎖にウレタン結合を介して結合させたエチレン性不飽和基を有する繰り返し単位及び／又は下記一般式（３）で表される側鎖にアミド結合を介して結合させたエチレン性不飽和基を有する繰り返し単位を含有する（メタ）アクリルポリマー、（Ｂ）重合性化合物、並びに（Ｃ）重合開始剤を含む光学材料用樹脂組成物
【０００７】
【化１】
【０００８】
（式中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を示す。Ｒ2は炭素数１〜２０の有機基を示す。）
【０００９】
【化２】
【００１０】
（式中、Ｒ3及びＲ4はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜２０の有機基を示す。Ｘ1及びＸ2はそれぞれ独立に単結合又は炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。）
【００１１】
【化３】
【００１２】
（式中、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜２０の有機基を示す。Ｘ3及びＸ4はそれぞれ独立に単結合又は炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。）、該光学材料用樹脂組成物を用いた光学材料用樹脂フィルム、下部クラッド層、コア部、及び上部クラッド層の少なくとも１つを該光学材料用樹脂組成物、又は該光学材料用樹脂フィルムを用いて形成した光導波路を提供するものである。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の光学材料用樹脂組成物、及び該光学材料用樹脂組成物を用いた光学材料用樹脂フィルムは、透明性、硬化性、及び耐熱性に優れており、これらを用いて製造した光導波路は透明性、信頼性、及び耐熱性に優れる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明の光学材料用樹脂組成物は、（Ａ）特定の繰り返し単位を有する（メタ）アクリルポリマー、（Ｂ）重合性化合物、及び（Ｃ）重合開始剤を含み、活性光線の照射によって、又は加熱によって硬化する樹脂組成物であることが好ましい。
【００１５】
以下、本発明に用いられる（Ａ）成分について説明する。
本発明の（Ａ）成分における（メタ）アクリルポリマーとは、アクリル酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、及びこれらの誘導体を単量体とし、これを重合してなるポリマーをいう。該（メタ）アクリルポリマーは、上記単量体の単独重合体であってもよいし、また、これらのモノマーの２種以上を重合させた共重合体であってもよい。さらには、本発明の効果を阻害しない範囲で、上記のモノマーと、上記以外のモノマーとを含む共重合体であってもよい。また、複数の（メタ）アクリルポリマーの混合物であってもよい。
本発明の（Ａ）成分は、少なくとも下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有する。
【００１６】
【化４】
【００１７】
式中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ2は炭素数１〜２０の有機基を示す。炭素数１〜２０の有機基としては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、カルボニル基、エステル基、カルバモイル基などの１価の有機基が挙げられ、それらは、さらに、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、カルボニル基、ホルミル基、エステル基、カルバモイル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、シリル基、シリロキシ基などで置換されていてもよい。
【００１８】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーにおいて、一般式（１）で表される繰り返し単位の原料となる化合物としては、特に制限はなく、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチルヘプチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、テトラデシル（メタ）アクリレート、ペンタデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベヘニル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレートなどの脂肪族（メタ）アクリル酸エステル；シクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、シクロペンチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレートなどの脂環式（メタ）アクリル酸エステル；フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ｏ−ビフェニル（メタ）アクリレート、１−ナフチル（メタ）アクリレート、２−ナフチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ｐ−クミルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、１−ナフトキシエチル（メタ）アクリレート、２−ナフトキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレートなどの芳香族（メタ）アクリル酸エステル；２−テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−Ｎ−カルバゾールなどの複素環式（メタ）アクリル酸エステル、これらのカプロラクトン変性体などが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートなどの脂肪族（メタ）アクリル酸エステル；上記脂環式（メタ）アクリル酸エステル；上記芳香族（メタ）アクリル酸エステル；上記複素環式（メタ）アクリル酸エステルであることが好ましい。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００１９】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーにおいて、一般式（１）で表される繰り返し単位の含有率は２０〜９９モル％であることが好ましい。２０モル％以上であると、得られる硬化物が脆くなることがなく、９９モル％以下であると、硬化性、得られる硬化物の強度、及び耐熱性が十分である。以上の観点から、一般式（１）で表される繰り返し単位の含有率は２５〜９０モル％がさらに好ましく、３０〜８０モル％であることが特に好ましい。
【００２０】
また、（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーは、下記一般式（２）で表される側鎖にウレタン結合を介して結合させたエチレン性不飽和基を有する繰り返し単位、及び下記一般式（３）で表される側鎖にアミド結合を介して結合させたエチレン性不飽和基を有する繰り返し単位の少なくとも一方を有することを特徴とする。すなわち、一般式（２）で表される繰り返し単位と一般式（３）で表される繰り返し単位のいずれか一方を有するか又は両者を有する。
【００２１】
【化５】
【００２２】
式中、Ｒ3及びＲ4はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜２０の有機基を示し、Ｘ1及びＸ2はそれぞれ独立に単結合又は炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。
【００２３】
【化６】
【００２４】
式中、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜２０の有機基を示し、Ｘ3及びＸ4はそれぞれ独立に単結合又は炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。
なお、一般式（３）で表わされる繰り返し単位は、アミド結合を介してエチレン性不飽和基が結合されていることを要するため、アミド基と結合する有機基Ｘ4は、炭素を介して結合するものに限られる。
【００２５】
一般式（２）及び（３）における有機基（Ｒ3〜Ｒ6）としては、前述のＲ2の説明において示した炭素数１〜２０の有機基と同様である。
【００２６】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーにおいて、一般式（２）で表される側鎖にウレタン結合を介して結合させたエチレン性不飽和基を有する繰り返し単位の導入方法としては、特に制限はなく、例えば、エチレン性不飽和イソシアネートなどを共重合させた後に、エチレン性不飽和アルコール、エチレン性不飽和フェノールなどを付加反応させる方法などが挙げられる。
【００２７】
エチレン性不飽和イソシアネートとしては、特に制限はなく、例えば、Ｎ−（メタ）アクリロイルイソシアネート、（メタ）アクリロイルオキシメチルイソシアネート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート、２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシエチルイソシアネートなどが挙げられる。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００２８】
エチレン性不飽和アルコールとしては、特に制限はなく、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００２９】
エチレン性不飽和フェノールとしては、特に制限はなく、例えば、ｏ−ビニルフェノール、ｍ−ビニルフェノール、ｐ−ビニルフェノール、ｏ−ヒドロキシフェニル（メタ）アクリレート、ｍ−ヒドロキシフェニル（メタ）アクリレート、ｐ−ヒドロキシフェニル（メタ）アクリレート、ｏ−ヒドロキシベンジル（メタ）アクリレート、ｍ−ヒドロキシベンジル（メタ）アクリレート、ｐ−ヒドロキシベンジル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００３０】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーにおいて、一般式（２）で表される側鎖にウレタン結合を介して結合させたエチレン性不飽和基を有する繰り返し単位を含有する場合、その含有率は１〜８０モル％であることが好ましい。１モル％以上であると、硬化性及び得られる硬化物の強度が十分で、８０モル％以下であると、得られる硬化物が脆くなることがない。以上の観点から、一般式（２）で表される繰り返し単位の含有率は、３〜６０モル％がさらに好ましく、５〜４０モル％であることが特に好ましい。
【００３１】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーにおいて、一般式（３）で表される側鎖にアミド結合を介して結合させたエチレン性不飽和基を有する繰り返し単位の導入方法としては、特に制限はなく、例えば、前記エチレン性不飽和イソシアネートなどを共重合させた後に、エチレン性不飽和カルボン酸などを付加反応させる方法などが挙げられる。
【００３２】
エチレン性不飽和カルボン酸としては、特に制限はなく、例えば、（（メタ）アクリル酸、クロトン酸、ケイ皮酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）スクシネート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）フタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）テレフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）テトラヒドロフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）ヘキサヒドロフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）ヘキサヒドロイソフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）ヘキサヒドロテレフタレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、ｏ−ビニル安息香酸、ｍ−ビニル安息香酸、ｐ−ビニル安息香酸などが挙げられる。
これらの中でも、透明性、耐熱性、及び反応性の観点から、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）ヘキサヒドロフタレートであることが好ましい。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００３３】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーにおいて、一般式（３）で表される側鎖にアミド結合を介して結合させたエチレン性不飽和基を有する繰り返し単位を有する場合、その含有率は１〜８０モル％であることが好ましい。１モル％以上であると、硬化性及び得られる硬化物の強度が十分で、８０モル％以下であると、得られる硬化物が脆くなることがない。以上の観点から、一般式（３）で表される繰り返し単位の含有率は、３〜６０モル％がさらに好ましく、５〜４０モル％であることが特に好ましい。
【００３４】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーは、耐熱性の観点から、必要に応じてさらに下記一般式（４）で表されるマレイミド骨格を有する構造単位を有していてもよい。
【００３５】
【化７】
【００３６】
式中、Ｒ7は水素原子又は炭素数１〜２０の有機基を示す。なお、Ｒ7における有機基としては、前述のＲ2の説明において示した炭素数１〜２０の有機基と同様である。
【００３７】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーにおいて、一般式（４）で表されるマレイミド骨格を有する繰り返し単位の原料となる化合物としては、特に制限はなく、例えば、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−プロピルマレイミド、Ｎ−イソプロピルマレイミド、Ｎ−２，２−ジメチルプロピルマレイミド、Ｎ−ブチルマレイミド、Ｎ−イソブチルマレイミド、Ｎ−ｓｅｃ-ブチルマレイミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルマレイミド、Ｎ−２−メチル−２−ブチルマレイミド、Ｎ−ペンチルマレイミド、Ｎ−２−ペンチルマレイミド、Ｎ−３−ペンチルマレイミド、Ｎ−ヘキシルマレイミド、Ｎ−２−ヘキシルマレイミド、Ｎ−３−ヘキシルマレイミド、Ｎ−２−エチルヘキシルマレイミド、Ｎ−ヘプチルマレイミド、Ｎ−オクチルマレイミド、Ｎ−ノニルマレイミド、Ｎ−デシルマレイミドなどのアルキルマレイミド；Ｎ−シクロペンチルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−シクロヘプチルマレイミド、Ｎ−シクロオクチルマレイミド、Ｎ−２−メチルシクロヘキシルマレイミド、Ｎ−２−エチルシクロヘキシルマレイミド、Ｎ−２−クロロシクロヘキシルマレイミドなどのシクロアルキルマレイミド；Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−２−メチルフェニルマレイミド、Ｎ−２−エチルフェニルマレイミド、Ｎ−２−クロロフェニルマレイミドなどのアリールマレイミドなどが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−プロピルマレイミド、Ｎ−イソプロピルマレイミド、Ｎ−ブチルマレイミド、Ｎ−イソブチルマレイミド、Ｎ−ｓｅｃ-ブチルマレイミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルマレイミドなどのアルキルマレイミド；上記シクロアルキルマレイミド；上記アリールマレイミドを用いることが好ましく、Ｎ−シクロペンチルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−２−メチルシクロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミドであることがさらに好ましい。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００３８】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーにおいて、一般式（４）で表されるマレイミド骨格を有する繰り返し単位を有する場合、その含有率は１〜７０モル％であることが好ましい。１モル％以上であると、マレイミド骨格に由来する耐熱性が得られ、７０モル％以下であると、透明性が十分で、得られる硬化物が脆くなることがない。以上の観点から、一般式（４）で表される繰り返し単位の含有率は、３〜６０モル％がさらに好ましく、５〜５０モル％であることが特に好ましい。
【００３９】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーは、アルカリ性現像液による現像性の観点から、必要に応じて下記一般式（５）で表される構造単位を有していてもよい。
【００４０】
【化８】
【００４１】
式中、Ｒ8及びＲ9はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜２０の有機基を示し、Ｘ5は単結合又は炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。
【００４２】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーにおいて、一般式（５）で表される繰り返し単位の導入方法としては、特に制限はなく、例えば、エチレン性不飽和カルボン酸などのカルボキシル基を保護した化合物を共重合させた後に、一般式（２）及び／又は（３）で表される側鎖にエチレン性不飽和基を有する繰り返し単位を導入し、次いで、カルボキシル基の保護基を脱保護する方法などが挙げられる。
該エチレン性不飽和カルボン酸としては、特に制限はなく、例えば、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、ケイ皮酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）スクシネート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）フタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）テレフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）テトラヒドロフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）ヘキサヒドロフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）ヘキサヒドロイソフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）ヘキサヒドロテレフタレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、３−ビニル安息香酸、４−ビニル安息香酸などが挙げられる。
【００４３】
これらの中でも、透明性及びアルカリ性現像液による現像性の観点から（メタ）アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）スクシネート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）テトラヒドロフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）ヘキサヒドロフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）ヘキサヒドロイソフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）ヘキサヒドロテレフタレートであることが好ましい。
【００４４】
また、前記カルボキシル基の保護基としては、特に制限はなく、例えば、ｔ−ブチル基、シリル基などが挙げられる。
また、無水マレイン酸、無水シトラコン酸、無水イタコン酸を原料として用いて、共重合し、一般式（２）及び／又は（３）で表される側鎖にエチレン性不飽和基を有する繰り返し単位を導入後にメタノール、エタノール、プロパノールなどの適当なアルコールによって開環し、一般式（５）で表される構造単位に変換してもよい。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００４５】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーにおいて、一般式（５）で表される繰り返し単位を有する場合、その含有率は３〜６０モル％であることが好ましい。３モル％以上であると、アルカリ性現像液による現像が容易であり、一方、６０モル％以下であると、耐現像液性（現像により除去されずにパターンとなる部分が、現像液によって侵されない性質）が良好である。以上の観点から、一般式（５）で表される繰り返し単位の含有率は、５〜５０モル％がさらに好ましく、７〜４０モル％であることが特に好ましい。
【００４６】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーは、必要に応じてさらに一般式（１）〜（５）で表される繰り返し単位以外の繰り返し単位を有していてもよい。
このような繰り返し単位の原料となるエチレン性不飽和基を有する化合物としては、特に制限はなく、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、β−メチルスチレン、３−メチルスチレン、４−メチルスチレン、α，２−ジメチルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、２，５−ジメチルスチレン、（メタ）アクリロニトリル、ビニルシクロヘキシルエーテル、ビニルフェニルエーテル、ビニルベンジルエーテル、酢酸ビニル、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾール、ビニルピリジン、塩化ビニル、塩化ビニリデンなどが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点からスチレン、α−メチルスチレン、β−メチルスチレン、３−メチルスチレン、４−メチルスチレン、α，２−ジメチルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、２，５−ジメチルスチレン、（メタ）アクリロニトリル、酢酸ビニル、Ｎ−ビニルカルバゾールであることが好ましい。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００４７】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーは、その合成方法に特に制限はなく、例えば、一般式（１）〜（３）で表される繰り返し単位の原料となる化合物、必要に応じてさらに一般式（４）及び（５）で表される繰り返し単位の原料となる化合物、及び一般式（１）〜（５）で表される繰り返し単位以外の繰り返し単位の原料となる化合物と、適切な熱ラジカル重合開始剤を用いて、加熱しながら共重合させることにより得ることができる。このとき、必要に応じて有機溶剤を反応溶媒として用いることができる。また、必要に応じて適切な連鎖移動剤などと組み合わせて用いることもできる。
【００４８】
熱ラジカル重合開始剤としては、特に制限はなく、例えば、メチルエチルケトンパーオキシド、シクロヘキサノンパーオキシド、メチルシクロヘキサノンパーオキシドなどのケトンパーオキシド；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−２−メチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ヘキシルパーオキシ）シクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ヘキシルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンなどのパーオキシケタール；ｐ−メンタンヒドロパーオキシドなどのヒドロパーオキシド；α、α’−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ジイソプロピルベンゼン、ジクミルパーオキシド、ｔ−ブチルクミルパーオキシド、ジ−ｔ−ブチルパーオキシドなどのジアルキルパーオキシド；オクタノイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、ステアリルパーオキシド、ベンゾイルパーオキシドなどのジアシルパーオキシド；ビス（４−ｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート、ジ−２−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−３−メトキシブチルパーオキシカーボネートなどのパーオキシカーボネート；ｔ−ブチルパーオキシピバレート、ｔ−ヘキシルパーオキシピバレート、１，１，３，３−テトラメチルブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、２，５−ジメチル−２，５−ビス（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ヘキシルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシイソブチレート、ｔ−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシラウリレート、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキシルモノカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ｔ−ヘキシルパーオキシベンゾエート、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ベンゾイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ブチルパーオキシアセテートなどのパーオキシエステル；２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２’−ジメチルバレロニトリル）などのアゾ化合物が挙げられる。
【００４９】
反応溶媒として用いる有機溶剤としては、（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーを溶解しえるものであれば、特に制限はないが、例えば、トルエン、キシレン、メシチレン、クメン、ｐ−シメンなどの芳香族炭化水素；ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ジブチルエーテルなどの鎖状エーテル；テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサンなどの環状エーテル；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンなどのケトン；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、γ−ブチロラクトンなどのエステル；エチレンカーボネート、プロピレンカーボネートなどの炭酸エステル；エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテルなどの多価アルコールアルキルエーテル；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどの多価アルコールアルキルエーテルアセテート；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミドなどが挙げられる。
これらの有機溶剤は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００５０】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーの重量平均分子量は、１，０００〜３，０００，０００であることが好ましい。１，０００以上であると、分子量が大きいため樹脂組成物とした場合の硬化物の強度が十分で、３，０００，０００以下であると、現像液に対する溶解性や（Ｂ）重合性化合物との相溶性が良好である。以上の観点から、（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーの重量平均分子量は、３，０００〜２，０００，０００とすることがさらに好ましく、５，０００〜１，０００，０００であることが特に好ましい。
なお、本発明における重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定し、標準ポリスチレン換算した値である。
【００５１】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーは、一般式（５）で表される繰り返し単位を有する場合、アルカリ性現像液により現像可能となるように酸価を規定することができる。例えば、現像液としてアルカリ性水溶液を用いる場合、酸価が２０〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましい。２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であると、現像が容易であり、一方、３００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であると、耐現像液性が低下することがない。以上の観点から、酸価は３０〜２５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがさらに好ましく、４０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが特に好ましい。
現像液としてアルカリ性水溶液と１種以上の有機溶剤からなるアルカリ性水系現像液を用いる場合は、酸価が１０〜２６０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましい。酸価が１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であると、現像が容易で、２６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であると、耐現像液性が低下することがない。以上の観点から、酸価は２０〜２５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがさらに好ましく、３０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが特に好ましい。
【００５２】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーの配合量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量に対して、１０〜８５質量％であることが好ましい。１０質量％以上であると、光学材料用樹脂組成物の硬化物の強度や可撓性が十分で、８５質量％以下であると、硬化時に（Ｂ）成分によって絡め込まれて容易に硬化し、耐現像液性が不足することがない。以上の観点から、（メタ）アクリルポリマーの配合量は、２０〜８０質量％であることがさらに好ましく、２５〜７５質量％であることが特に好ましい。
【００５３】
以下、本発明に用いられる（Ｂ）成分について説明する。
（Ｂ）成分の重合性化合物としては、特に制限はなく、例えば、（メタ）アクリレート、ビニルエーテル、ビニルエステル、ビニルアミド、アリール化ビニル、ビニルピリジン、ハロゲン化ビニル、ハロゲン化ビニリデンなどのエチレン性不飽和基などの重合性置換基を有する化合物が挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、（メタ）アクリレートやアリール化ビニルが好適に挙げられる。
（メタ）アクリレートとしては、単官能のもの、２官能のもの又は３官能以上の多官能のもののいずれも用いることができる。
【００５４】
単官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチルヘプチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、テトラデシル（メタ）アクリレート、ペンタデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベヘニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、モノ（２-（メタ）アクリロイルオキシエチル）スクシネートなどの脂肪族（メタ）アクリレート；シクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、シクロペンチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、モノ（２-（メタ）アクリロイルオキシエチル）テトラヒドロフタレート、モノ（２-（メタ）アクリロイルオキシエチル）ヘキサヒドロフタレートなどの脂環式（メタ）アクリレート；フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ｏ−ビフェニル（メタ）アクリレート、１−ナフチル（メタ）アクリレート、２−ナフチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ｐ−クミルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、１−ナフトキシエチル（メタ）アクリレート、２−ナフトキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（ｏ−フェニルフェノキシ）プロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（１−ナフトキシ）プロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（２−ナフトキシ）プロピル（メタ）アクリレートなどの芳香族（メタ）アクリレート；２−テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−Ｎ−カルバゾールなどの複素環式（メタ）アクリレート、これらのカプロラクトン変性体などが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、上記脂環式（メタ）アクリレート；上記芳香族（メタ）アクリレート；上記複素環式（メタ）アクリレートであることが好ましい。
【００５５】
２官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、３−メチル−１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート、エトキシ化２−メチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレートなどの脂肪族（メタ）アクリレート；シクロヘキサンジメタノール（メタ）アクリレート、エトキシ化シクロヘキサンジメタノール（メタ）アクリレート、プロポキシ化シクロヘキサンジメタノール（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化シクロヘキサンジメタノール（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート、エトキシ化トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート、エトキシ化水添ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化水添ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化水添ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシ化水添ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化水添ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化水添ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレートなどの脂環式（メタ）アクリレート；エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡＦジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールＡＦジ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化ビスフェノールＡＦジ（メタ）アクリレート、エトキシ化フルオレン型ジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化フルオレン型ジ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化フルオレン型ジ（メタ）アクリレートなどの芳香族（メタ）アクリレート；エトキシ化イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレートなどの複素環式（メタ）アクリレート；これらのカプロラクトン変性体；ネオペンチルグリコール型エポキシ（メタ）アクリレートなどの脂肪族（メタ）アクリレート；シクロヘキサンジメタノール型エポキシ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡ型エポキシ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＦ型エポキシ（メタ）アクリレートなどの脂環式（メタ）アクリレート；レゾルシノール型エポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦ型エポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡＦ型エポキシ（メタ）アクリレート、フルオレン型エポキシ（メタ）アクリレートなどの芳香族エポキシ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、上記脂環式（メタ）アクリレート；上記芳香族（メタ）アクリレート；上記複素環式（メタ）アクリレート；上記脂環式エポキシ（メタ）アクリレート；上記芳香族エポキシ（メタ）アクリレートであることが好ましい。
【００５６】
３官能以上の多官能（メタ）アクリレートとして、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどの脂肪族（メタ）アクリレート；エトキシ化イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレートなどの複素環式（メタ）アクリレート；これらのカプロラクトン変性体；フェノールノボラック型エポキシ（メタ）アクリレート、クレゾールノボラック型エポキシ（メタ）アクリレートなどの芳香族エポキシ（メタ）アクリレートが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、複素環式（メタ）アクリレート；芳香族エポキシ（メタ）アクリレートであることが好ましい。
これらの化合物は、単独又は２種類以上組み合わせて用いることができ、さらにその他の重合性化合物と組み合わせて用いることもできる。
【００５７】
前記（メタ）アクリレート以外に好ましい（Ｂ）成分の重合性化合物として、（Ａ）成分の（メタ）アクリル共重合体との相溶性の観点から、分子内に環状エーテル基を有する化合物も挙げられる。
環状エーテル基として、特に制限はないが、例えば、エポキシ基、オキセタニル基などが挙げられる。
【００５８】
分子内にエポキシ基を有する化合物としては、特に制限はなく、例えば、ヒドロキノン型エポキシ樹脂、レゾルシノール型エポキシ樹脂、カテコール型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、テトラブロモビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＤ型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂などの２官能フェノールグリシジルエーテル型；水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、水添２，２’−ビフェノール型エポキシ樹脂、水添４，４’−ビフェノール型エポキシ樹脂などの水添２官能フェノールグリシジルエーテル型；フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン−フェノール型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン−クレゾール型エポキシ樹脂、テトラフェニロールエタン型エポキシ樹脂などの３官能以上の多官能フェノールグリシジルエーテル型；ポリエチレングリコール型エポキシ樹脂、ポリプロピレングリコール型エポキシ樹脂、ネオペンチルグリコール型エポキシ樹脂、１，６−ヘキサンジオール型エポキシ樹脂などの２官能脂肪族アルコールグリシジルエーテル型；シクロヘキサンジオール型エポキシ樹脂、シクロヘキサンジメタノール型エポキシ樹脂、トリシクロデカンジメタノール型エポキシ樹脂などの２官能脂環式アルコールグリシジルエーテル型；トリメチロールプロパン型エポキシ樹脂、ソルビトール型エポキシ樹脂、グリセリン型エポキシ樹脂などの３官能以上の多官能脂肪族アルコールグリシジルエーテル型；フタル酸ジグリシジルエステルなどの２官能芳香族グリシジルエステル；テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステルなどの２官能脂環式グリシジルエステル；Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジグリシジルトリフルオロメチルアニリンなどの２官能芳香族グリシジルアミン；Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−４，４−ジアミノジフェニルメタン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−グリシジルアミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ，ｏ−トリグリシジル−ｐ−アミノフェノールなどの３官能以上の多官能芳香族グリシジルアミン；アリサイクリックジエポキシアセタール、アリサイクリックジエポキシアジペート、アリサイクリックジエポキシカルボキシレート、ビニルシクロヘキセンジオキシドなどの２官能脂環式エポキシ樹脂；２，２−ビス（ヒドロキシメチル）−１−ブタノールの１，２−エポキシ−４−（２−オキシラニル）シクロヘキサン付加体などの３官能以上の多官能脂環式エポキシ樹脂；トリグリシジルイソシアヌレートなどの３官能以上の多官能複素環式エポキシ樹脂；オルガノポリシロキサン型エポキシ樹脂などのケイ素含有２官能又は３官能以上の多官能エポキシ樹脂などが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、ヒドロキノン型エポキシ樹脂、レゾルシノール型エポキシ樹脂、カテコール型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＤ型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂などの２官能フェノールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；上記各種の水添２官能フェノールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；上記各種の多官能フェノールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；上記各種の２官能脂環式アルコールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；上記２官能芳香族グリシジルエステル；上記２官能脂環式グリシジルエステル；上記２官能脂環式エポキシ樹脂；上記３官能以上の多官能脂環式エポキシ樹脂；上記３官能以上の多官能複素環式エポキシ樹脂；上記ケイ素含有２官能又は３官能以上の多官能エポキシ樹脂であることが好ましい。
【００５９】
分子内にオキセタニル基を有する化合物としては、特に制限はなく、例えば、ヒドロキノン型オキセタン樹脂、レゾルシノール型オキセタン樹脂、カテコール型オキセタン樹脂、ビスフェノールＡ型オキセタン樹脂、テトラブロモビスフェノールＡ型オキセタン樹脂、ビスフェノールＦ型オキセタン樹脂、ビスフェノールＡＦ型オキセタン樹脂、ビスフェノールＡＤ型オキセタン樹脂、ビフェニル型オキセタン樹脂、ナフタレン型オキセタン樹脂、フルオレン型オキセタン樹脂などの２官能フェノールオキセタニルエーテル型；水添ビスフェノールＡ型オキセタン樹脂、水添ビスフェノールＦ型オキセタン樹脂、水添２，２’−ビフェノール型オキセタン樹脂、水添４，４’−ビフェノール型オキセタン樹脂などの水添２官能フェノールオキセタニルエーテル型；フェノールノボラック型オキセタン樹脂、クレゾールノボラック型オキセタン樹脂、ジシクロペンタジエン−フェノール型オキセタン樹脂、ジシクロペンタジエン−クレゾール型オキセタン樹脂、テトラフェニロールエタン型オキセタン樹脂などの３官能以上の多官能フェノールオキセタニルエーテル型；ポリエチレングリコール型オキセタン樹脂、ポリプロピレングリコール型オキセタン樹脂、ネオペンチルグリコール型オキセタン樹脂、１，６−ヘキサンジオール型オキセタン樹脂などの２官能脂肪族アルコールオキセタニルエーテル型；シクロヘキサンジオール型オキセタン樹脂、シクロヘキサンジメタノール型オキセタン樹脂、トリシクロデカンジメタノール型オキセタン樹脂などの２官能脂環式アルコールオキセタニルエーテル型；トリメチロールプロパン型オキセタン樹脂、ソルビトール型オキセタン樹脂、グリセリン型オキセタン樹脂などの３官能以上の多官能脂肪族アルコールオキセタニルエーテル型；フタル酸ジオキセタニルエステルなどの２官能芳香族オキセタニルエステル；テトラヒドロフタル酸ジオキセタニルエステル、ヘキサヒドロフタル酸ジオキセタニルエステルなどの２官能脂環式オキセタニルエステル；Ｎ，Ｎ−ジオキセタニルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジオキセタニルトリフルオロメチルアニリンなどの２官能芳香族オキセタニルアミン；Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラオキセタニル−４，４−ジアミノジフェニルメタン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−オキセタニルアミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ，ｏ−トリグリシジル−ｐ−アミノフェノールなどの３官能以上の多官能芳香族オキセタニルアミン；トリオキセタニルイソシアヌレートなどの３官能以上の多官能複素環式オキセタン樹脂；オルガノポリシロキサン型オキセタニル樹脂などのケイ素含有２官能又は３官能以上の多官能オキセタン樹脂などが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、ヒドロキノン型オキセタン樹脂、レゾルシノール型オキセタン樹脂、カテコール型オキセタン樹脂、ビスフェノールＡ型オキセタン樹脂、ビスフェノールＦ型オキセタン樹脂、ビスフェノールＡＦ型オキセタン樹脂、ビスフェノールＡＤ型オキセタン樹脂、ビフェニル型オキセタン樹脂、ナフタレン型オキセタン樹脂、フルオレン型オキセタン樹脂などの２官能フェノールオキセタニルエーテル型オキセタン樹脂；上記各種の水添２官能フェノールオキセタニルエーテル型オキセタン樹脂；上記各種の多官能フェノールオキセタニルエーテル型オキセタン樹脂；上記各種の２官能脂環式アルコールオキセタニルエーテル型オキセタン樹脂；上記２官能芳香族オキセタニルエステル；上記２官能脂環式オキセタニルエステル；上記３官能以上の多官能複素環式オキセタン樹脂；上記ケイ素含有２官能又は３官能以上の多官能オキセタン樹脂であることが好ましい。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができ、さらにその他の重合性化合物と組み合わせて用いることもできる。
【００６０】
（Ｂ）成分の重合性化合物の配合量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量に対して、１５〜９０質量％であることが好ましい。１５質量％以上であると、（Ａ）成分の（メタ）アクリル共重合体を絡みこんで硬化することが容易で、耐現像液性が不足することがない。一方、９０質量％以下であると、硬化フィルムのフィルム強度や可撓性が十分である。以上の観点から、（Ｂ）成分の配合量は２０〜８０質量％であることがさらに好ましく、２５〜７５質量％であることが特に好ましい。
【００６１】
以下、本発明に用いられる（Ｃ）成分について説明する。
（Ｃ）成分の重合開始剤としては、加熱又は紫外線、可視光線などの活性光線の照射によって重合を開始させるものであれば特に制限はないが、例えば、（Ｂ）成分の重合性化合物としてエチレン性不飽和基を有する化合物を用いる場合には、熱ラジカル重合開始剤、光ラジカル重合開始剤などが挙げられ、（Ｂ）成分の重合性化合物として分子内に環状エーテル基を有する化合物を用いる場合には、熱カチオン重合開始剤、光カチオン重合開始剤などが挙げられる。
【００６２】
熱ラジカル重合開始剤としては、特に制限はなく、前述の（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーを合成する際に用いられる熱ラジカル重合開始剤と同様のものを用いることができる。
それらの中で、硬化性、透明性、及び耐熱性の観点から、ジアシルパーオキシド、パーオキシエステル、及びアゾ化合物であることが好ましい。
【００６３】
光ラジカル重合開始剤としては、特に制限はなく、例えば、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オンなどのベンゾインケタール；１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−１−｛４［４−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオニル）ベンジル］フェニル｝−２−メチルプロパン−１−オンなどのα−ヒドロキシケトン；フェニルグリオキシル酸メチル、フェニルグリオキシル酸エチル、オキシフェニル酢酸２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル、オキシフェニル酢酸２−（２−オキソ−２−フェニルアセトキシエトキシ）エチルなどのグリオキシエステル；２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリン−４−イルフェニル）−ブタン−１−オン、２−ジメチルアミノ−２−（４−メチルベンジル）−１−（４−モルフォリン−４−イルフェニル）−ブタン−１−オン、１，２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−（４−モルフォリン）−２−イルプロパン−１−オンなどのα−アミノケトン；１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ），２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］，１−（Ｏ−アセチルオキシム）などのオキシムエステル；ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキシド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシドなどのホスフィンオキシド；２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体などの２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体；ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ’−テトラエチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４’−ジメチルアミノベンゾフェノンなどのベンゾフェノン化合物；２−エチルアントラキノン、フェナントレンキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラキノン、２，３−ベンズアントラキノン、２−フェニルアントラキノン、２，３−ジフェニルアントラキノン、１−クロロアントラキノン、２−メチルアントラキノン、１，４−ナフトキノン、９，１０−フェナントラキノン、２−メチル−１，４−ナフトキノン、２，３−ジメチルアントラキノンなどのキノン化合物；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテルなどのベンゾインエーテル；ベンゾイン、メチルベンゾイン、エチルベンゾインなどのベンゾイン化合物；ベンジルジメチルケタールなどのベンジル化合物；９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９、９’−アクリジニルヘプタン）などのアクリジン化合物：Ｎ−フェニルグリシン、クマリンなどが挙げられる。
また、前記２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体において、２つのトリアリールイミダゾール部位のアリール基の置換基は、同一で対称な化合物を与えてもよく、相違して非対称な化合物を与えてもよい。
これらの中で、硬化性及び透明性の観点から、上記α−ヒドロキシケトン；上記グリオキシエステル；上記オキシムエステル；上記ホスフィンオキシドであることが好ましい。
以上の熱及び光ラジカル重合開始剤は、単独で又は２種類以上組み合わせて用いることができる。さらに、適切な増感剤と組み合わせて用いることもできる。
【００６４】
熱カチオン重合開始剤としては、特に制限はなく、例えば、ｐ−アルコキシフェニルベンジルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネートなどのベンジルスルホニウム塩；ベンジル−ｐ−シアノピリジニウムヘキサフルオロアンチモネート、１−ナフチルメチル−ｏ−シアノピリジニウムヘキサフルオロアンチモネート、シンナミル−ｏ−シアノピリジニウムヘキサフルオロアンチモネートなどのピリジニウム塩；ベンジルジメチルフェニルアンモニウムヘキサフルオロアンチモネートなどのベンジルアンモニウム塩などが挙げられる。
これらの中でも、硬化性、透明性、及び耐熱性の観点から、上記ベンジルスルホニウム塩であることが好ましい。
【００６５】
光カチオン重合開始剤として、特に制限はないが、例えばｐ−メトキシベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェートなどのアリールジアゾニウム塩、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネートなどのジアリールヨードニウム塩；トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニル−４−チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニル−４−チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニル−４−チオフェノキシフェニルスルホニウムペンタフルオロヒドロキシアンチモネートなどのトリアリールスルホニウム塩；トリフェニルセレノニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルセレノニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルセレノニウムヘキサフルオロアンチモネートなどのトリアリールセレノニウム塩；ジメチルフェナシルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジエチルフェナシルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネートなどのジアルキルフェナシルスルホニウム塩；４−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、４−ヒドロキシフェニルベンジルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネートなどのジアルキル−４−ヒドロキシ塩；α−ヒドロキシメチルベンゾインスルホン酸エステル、Ｎ−ヒドロキシイミドスルホネート、α−スルホニロキシケトン、β−スルホニロキシケトンなどのスルホン酸エステルなどが挙げられる。
これらの中でも、硬化性、透明性、及び耐熱性の観点から、上記トリアリールスルホニウム塩であることが好ましい。
これらの熱及び光カチオン重合開始剤は、単独で又は２種類以上組み合わせて用いることができる。さらに、適切な増感剤と組み合わせて用いることもできる。
【００６６】
（Ｃ）成分の重合開始剤の配合量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部であることが好ましい。０．０１質量部以上であると、硬化が十分であり、１０質量部以下であると、十分な光透過性が得られる。以上の観点から、（Ｃ）成分の配合量は０．０５〜７質量部であることがさらに好ましく、０．１〜５質量部であることが特に好ましい。
【００６７】
また、必要に応じて本発明の光学材料用樹脂組成物中には、酸化防止剤、黄変防止剤、紫外線吸収剤、可視光吸収剤、着色剤、可塑剤、安定剤、充填剤などのいわゆる添加剤を本発明の効果に悪影響を与えない範囲で添加してもよい。
【００６８】
本発明の（Ａ）（メタ）アクリルポリマー、（Ｂ）重合性化合物、及び（Ｃ）重合開始剤からなる光学材料用樹脂組成物を重合、硬化してなる硬化フィルムの温度２５℃における波長８３０ｎｍでの屈折率は１．４００〜１．７００であることが好ましい。該屈折率が１．４００〜１．７００であると、通常の光学樹脂との屈折率が大きく異ならないため、光学材料としての汎用性が損なわれることがない。以上の観点から、屈折率は１．４２５〜１．６７５以下であることがさらに好ましく、１．４５０〜１．６５０であることが特に好ましい。
【００６９】
また、本発明の（Ａ）（メタ）アクリルポリマー、（Ｂ）重合性化合物、及び（Ｃ）重合開始剤からなる光学材料用樹脂組成物を重合、硬化してなる厚み５０μｍの硬化フィルムの波長４００ｎｍでの透過率は８０％以上であることが好ましい。該透過率が８０％以上であると、光の透過量が十分である。以上の観点から、該透過率は８５％以上であることがさらに好ましい。なお、透過率の上限については特に制限されない。
【００７０】
本発明の光学材料用樹脂組成物は、好適な有機溶剤を用いて希釈してもよい。ここで用いる有機溶剤として、該樹脂組成物を溶解しえるものであれば特に制限はなく、前述の（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーを溶解し得る反応溶媒として用いる有機溶剤と同様のものを用いることができる。
これらの有機溶剤は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。
また、固形分濃度は、通常１０〜８０質量％であることが好ましい。
【００７１】
光学材料用樹脂組成物を調合する際は、撹拌により混合することが好ましい。撹拌方法には特に制限はないが、撹拌効率の観点からプロペラを用いた撹拌が好ましい。撹拌する際のプロペラの回転速度には特に制限はないが、１０〜１，０００ｒｐｍであることが好ましい。１０ｒｐｍ以上であると、各成分が十分に混合され、１，０００ｒｐｍ以下であると、プロペラの回転による気泡の巻き込みが少なくなる。以上の観点から、プロペラの回転速度は５０〜８００ｒｐｍであることがさらに好ましく、１００〜５００ｒｐｍであることが特に好ましい。
また、撹拌時間には特に制限はないが、１〜２４時間であることが好ましい。撹拌時間が１時間以上であると、各成分が十分に混合され、２４時間以下であると、調合時間を短縮することができ、生産性が向上する。
【００７２】
調合した光学材料用樹脂組成物は、孔径５０μｍ以下のフィルタを用いて濾過するのが好ましい。孔径５０μｍ以下のフィルタを用いることで、大きな異物などが除去されて塗布時にはじきなどを生じることがなく、また、光の散乱が抑制されて透明性が損なわれることがない。以上の観点から、孔径３０μｍ以下のフィルタを用いて濾過するのがさらに好ましく、孔径１０μｍ以下のフィルタを用いて濾過するのが特に好ましい。
【００７３】
調合した光学材料用樹脂組成物は、減圧下で脱泡することが好ましい。脱泡方法には特に制限はなく、例えば、真空ポンプとベルジャー、真空装置付き脱泡装置を用いる方法が挙げられる。減圧時の圧力には特に制限はないが、樹脂組成物に含まれる低沸点成分が沸騰しない圧力が好ましい。また、減圧脱泡時間には特に制限はないが、３〜６０分であることが好ましい。３分以上であると、樹脂組成物内に溶解した気泡を取り除くことができ、６０分以下であると、樹脂組成物に含まれる脱泡時間を短縮することができ、生産性が向上する。
【００７４】
本発明の光学材料用樹脂組成物は、透明性及び耐熱性に優れており、光導波路形成用樹脂組成物として好適である。
【００７５】
以下、本発明の光学材料用樹脂フィルムについて説明する。
本発明の光学材料用樹脂フィルムは、前記光学材料用樹脂組成物を用いてなり、前記（Ａ）〜（Ｃ）成分を含有する光学材料用樹脂組成物を好適な支持フィルムに塗布することにより容易に製造することができる。また、前記光学材料用樹脂組成物が前記有機溶剤で希釈されている場合、樹脂組成物を支持フィルムに塗布し、有機溶剤を除去することにより製造することができる。
【００７６】
支持フィルムとしては、特に制限はなく、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル；ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン；ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルフィド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリスルホン、液晶ポリマーなどが挙げられる。これらの中で、柔軟性及び強靭性の観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリスルホンであることが好ましい。
なお、樹脂層との剥離性向上の観点から、シリコーン系化合物、含フッ素化合物などにより離型処理が施されたフィルムを必要に応じて用いてもよい。
【００７７】
支持フィルムの厚みは、目的とする柔軟性により適宜変えてよいが、３〜２５０μｍであることが好ましい。３μｍ以上であると、フィルム強度が十分であり、２５０μｍ以下であると、十分な柔軟性が得られる。以上の観点から、支持フィルムの厚みは、５〜２００μｍであることがさらに好ましく、７〜１５０μｍであることが特に好ましい。
【００７８】
支持フィルム上に光学材料用樹脂組成物を塗布して製造した光学材料用樹脂フィルムは、必要に応じて保護フィルムを樹脂層上に貼り付け、支持フィルム、樹脂層、及び保護フィルムからなる３層構造としてもよい。
【００７９】
保護フィルムとしては、特に制限はなく、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル；ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィンなどが挙げられる。これらの中で、柔軟性及び強靭性の観点から、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル；ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィンであることが好ましい。なお、樹脂層との剥離性向上の観点から、シリコーン系化合物、含フッ素化合物などにより離型処理が施されたフィルムを必要に応じて用いてもよい。
【００８０】
保護フィルムの厚みは、目的とする柔軟性により適宜変えてよいが、１０〜２５０μｍであることが好ましい。１０μｍ以上であると、フィルム強度が十分であり、２５０μｍ以下であると、十分な柔軟性が得られる。以上の観点から、保護フィルムの厚みは１５〜２００μｍであることがさらに好ましく、２０〜１５０μｍであることが特に好ましい。
【００８１】
本発明の光学材料用樹脂フィルムの樹脂層の厚みについても、特に限定されず、乾燥後の厚みで、通常は５〜５００μｍであることが好ましい。５μｍ以上であると、厚みが十分であるため樹脂フィルム又は樹脂フィルムの硬化物の強度が十分であり、一方、５００μｍ以下であると、乾燥が十分に行えるため樹脂フィルム中の残留溶剤量が増えることなく、樹脂フィルムの硬化物を加熱したときに発泡することがない。
【００８２】
このようにして得られた光学材料用樹脂フィルムは、例えばロール状に巻き取ることによって容易に保存することができる。また、ロール状のフィルムを好適なサイズに切り出して、シート状にして保存することもできる。
【００８３】
本発明の光学材料用樹脂フィルムは、透明性及び耐熱性に優れており、光導波路形成用樹脂フィルムとして好適である。
【００８４】
以下、本発明の光学材料用樹脂フィルムを最も好適な用途である光導波路形成用樹脂フィルムとして用いた場合の適用例について説明する。
光導波路形成用樹脂フィルムも、前記光学材料用樹脂フィルムと同様の方法によって製造することができる。
なお、コア部形成用樹脂フィルムの製造過程で用いる支持フィルムとしては、コアパターン形成に用いる露光用活性光線が透過するものであれば特に制限はなく、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル；ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン；ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルフィド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリスルホン、液晶ポリマーなどが挙げられる。
これらの中で、露光用活性光線の透過率、柔軟性、及び強靭性の観点から、上記ポリエステル；上記ポリオレフィンであることが好ましい。さらに、露光用活性光線の透過率向上及びコアパターンの側壁荒れ低減の観点から、高透明タイプな支持フィルムを用いることがさらに好ましい。このような高透明タイプな支持フィルムとして、東洋紡績株式会社製コスモシャインＡ１５１７、コスモシャインＡ４１００が挙げられる。
なお、樹脂層との剥離性向上の観点から、シリコーン系化合物、含フッ素化合物などにより離型処理が施されたフィルムを必要に応じて用いてもよい。
【００８５】
コア部形成用樹脂フィルムの支持フィルムの厚みは、５〜５０μｍであることが好ましい。５μｍ以上であると、支持体としての強度が十分であり、５０μｍ以下であると、コアパターン形成時にフォトマスクとコア部形成用樹脂層のギャップが大きくならず、パターン解像度が良好である。以上の観点から、支持フィルムの厚みは１０〜４０μｍであることがさらに好ましく、１５〜３０μｍであることが特に好ましい。
【００８６】
以下、本発明の光導波路について説明する。
図１の（ａ）に光導波路の断面図を示す。光導波路１は基材５上に形成され、高屈折率であるコア部形成用樹脂組成物からなるコア部２、並びに低屈折率であるクラッド層形成用樹脂組成物からなる下部クラッド層４及び上部クラッド層３で構成されている。
本発明の光導波路形成用組成物及び光導波路形成用樹脂フィルムは、光導波路１の下部クラッド層４、コア部２、及び上部クラッド層３のうち、少なくとも１つに用いることが好ましい。
【００８７】
光導波路形成用樹脂フィルムを用いることによって、各層の平坦性、クラッドとコアの層間密着性、及び光導波路コアパターン形成時の解像度（細線又は狭線間対応性）をより向上させることができ、平坦性に優れ、線幅や線間の小さい微細パターンの形成が可能となる。
【００８８】
光導波路１において、基材５としては、特に制限はなく、例えば、ガラスエポキシ樹脂基板、セラミック基板、ガラス基板、シリコン基板、プラスチック基板、金属基板、樹脂層付き基板、金属層付き基板、プラスチックフィルム、樹脂層付きプラスチックフィルム、金属層付きプラスチックフィルムなどが挙げられる。
【００８９】
光導波路１は、基材５として柔軟性及び強靭性のある基材、例えば前記光導波路形成用樹脂フィルムの支持フィルムを基材として用いた場合、フレキシブル光導波路としてもよく、このとき基材５を光導波路１の保護フィルムとして機能させてもよい。保護フィルム５を配置することにより、保護フィルム５の柔軟性及び強靭性を光導波路１に付与することが可能となる。さらに、光導波路１が汚れや傷を受けなくなるため、取り扱いやすさが向上する。
以上の観点から、図１の（ｂ）のように上部クラッド層３の外側に保護フィルムとして基材５が配置されていたり、図１の（ｃ）のように下部クラッド層４及び上部クラッド層３の両方の外側に保護フィルムとして基材５が配置されていたりしてもよい。
なお、光導波路１に柔軟性や強靭性が十分に備わっているならば、図１の（ｄ）のように、保護フィルム５が配置されていなくてもよい。
【００９０】
下部クラッド層４の厚みは、特に制限はないが、２〜２００μｍであることが好ましい。２μｍ以上であると、伝搬光をコア内部に閉じ込めるのが容易となり、２００μｍ以下であると、光導波路１全体の厚みが大きすぎることがない。なお、下部クラッド層４の厚みとは、コア部２と下部クラッド層４との境界から下部クラッド層４の下面までの値である。
下部クラッド層形成用樹脂フィルムの厚みについては特に制限はなく、硬化後の下部クラッド層４の厚みが上記の範囲となるように厚みが調整される。
【００９１】
コア部２の高さは、特に制限はないが、１０〜１５０μｍであることが好ましい。コア部の高さが１０μｍ以上であると、光導波路形成後の受発光素子又は光ファイバとの結合において位置合わせトレランスが小さくなることがなく、１５０μｍ以下であると、光導波路形成後の受発光素子又は光ファイバとの結合において、結合効率が小さくなることがない。以上の観点から、コア部の高さは、１５〜１３０μｍであることがさらに好ましく、２０〜１２０μｍであることが特に好ましい。なお、コア部形成用樹脂フィルムの厚みについては特に制限はないが、硬化後のコア部の高さが上記の範囲となるように厚みが調整される。
【００９２】
上部クラッド層３の厚みは、コア部２を埋め込むことができる範囲であれば、特に制限はないが、乾燥後の厚みで、１２〜５００μｍであることが好ましい。上部クラッド層３の厚みとして、最初に形成される下部クラッド層４の厚みと同一であっても異なってもよいが、コア部２を埋め込むという観点から、下部クラッド層４の厚みよりも厚くすることが好ましい。なお、上部クラッド層３の厚みとは、コア部２と下部クラッド層４との境界から上部クラッド層３の上面までの値である。
【００９３】
本発明の光導波路において、光伝搬損失は０．３ｄＢ／ｃｍ以下であることが好ましい。０．３ｄＢ／ｃｍ以下であると、光の損失が小さくなり、伝送信号の強度が十分である。以上の観点から、該光伝搬損失は０．２ｄＢ／ｃｍ以下であることがさらに好ましい。
【００９４】
本発明の光導波路において、温度８５℃、湿度８５％の高温高湿放置試験を１０００時間実施後の光伝搬損失が、０．３ｄＢ／ｃｍ以下であることが好ましい。０．３ｄＢ／ｃｍ以下であると、光の損失が小さくなり、伝送信号の強度が十分である。以上の観点から、該光伝搬損失は０．２ｄＢ／ｃｍ以下であることがさらに好ましい。
なお、温度８５℃、湿度８５％の高温高湿放置試験とはＪＰＣＡ規格（ＪＰＣＡ−ＰＥ０２−０５−０１Ｓ）に準じた条件で実施する高温高湿放置試験のことを意味する。
【００９５】
本発明の光導波路において、温度−５５℃と１２５℃の間の温度サイクル試験を１０００サイクル実施後の光伝搬損失が、０．３ｄＢ／ｃｍ以下であることが好ましい。０．３ｄＢ／ｃｍ以下であると、光の損失が小さくなり、伝送信号の強度が十分である。以上の観点から、該光伝搬損失は０．２ｄＢ／ｃｍ以下であることがさらに好ましい。
なお、温度−５５℃と１２５℃の間の温度サイクル試験とはＪＰＣＡ規格（ＪＰＣＡ−ＰＥ０２−０５−０１Ｓ）に準じた条件で実施する温度サイクル試験のことを意味する。
【００９６】
本発明の光導波路において、最高温度２６５℃のリフロー試験を３回実施後の光伝搬損失は、０．３ｄＢ／ｃｍ以下であることが好ましい。０．３ｄＢ／ｃｍ以下であると、光の損失が小さくなり、伝送信号の強度が十分であれば同時に、リフロープロセスによる部品実装が行えるために、適用範囲が広くなる。以上の観点から、該光伝搬損失は０．２ｄＢ／ｃｍ以下であることがさらに好ましい。
なお、最高温度２６５℃のリフロー試験とはＪＥＤＥＣ規格（ＪＥＤＥＣ ＪＥＳＤ２２Ａ１１３Ｅ）に準じた条件で実施する鉛フリーはんだリフロー試験のことを意味する。
【００９７】
本発明の光導波路は、透明性、信頼性、及び耐熱性に優れており、光モジュールの光伝送路として用いてもよい。光モジュールの形態として、例えば、光導波路の両端に光ファイバを接続した光ファイバ付き光導波路、光導波路の両端にコネクタを接続したコネクタ付き光導波路、光導波路とプリント配線板と複合化した光電気複合基板、光導波路と光信号と電気信号を相互に変換する光／電気変換素子を組み合わせた光電気変換モジュール、光導波路と波長分割フィルタを組み合わせた波長合分波器などが挙げられる。
なお、光電気複合基板において、複合化するプリント配線板として、特に制限はないが、例えば、ガラスエポキシ基板、セラミック基板などのリジッド基板、ポリイミド基板、ポリエチレンテレフタレート基板などのフレキシブル基板などが挙げられる。
【００９８】
以下、本発明の光導波路形成用樹脂組成物及び／又は光導波路形成用樹脂組成物を用いて光導波路１を形成するための製造方法について説明する。
本発明の光導波路１を製造する方法として、特に制限はなく、例えば、光導波路形成用樹脂組成物及び／又は光導波路形成用樹脂フィルムを用いて、基材上に光導波路形成用樹脂層を形成して製造する方法などが挙げられる。
【００９９】
本発明に用いられる基材としては、特に制限はなく、ガラスエポキシ樹脂基板、セラミック基板、ガラス基板、シリコン基板、プラスチック基板、金属基板、樹脂層付き基板、金属層付き基板、プラスチックフィルム、樹脂層付きプラスチックフィルム、金属層付きプラスチックフィルムなどが挙げられる。
【０１００】
光導波路形成用樹脂層を形成する方法として、特に制限はなく、例えば、光導波路形成用樹脂組成物を用いて、スピンコート法、ディップコート法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、カーテンコート法、グラビアコート法、スクリーンコート法、インクジェットコート法などにより塗布する方法などが挙げられる。
光導波路形成用感光性組成物が、好適な有機溶剤で希釈されている場合、必要に応じて樹脂層を形成後に、乾燥する工程を入れてもよい。乾燥方法として、例えば、加熱乾燥、減圧乾燥などが挙げられる。また、必要に応じてこれらを併用してもよい。
【０１０１】
光導波路形成用樹脂層を形成するその他の方法として、光導波路形成用樹脂組成物を用いた光導波路形成用樹脂フィルムを用いて、積層法により形成する方法が挙げられる。
これらの中で、平坦性に優れ、線幅や線間の小さい微細パターンを有する光導波路が形成能という観点から、光導波路形成用樹脂フィルムを用いて積層法により製造する方法が好ましい。
【０１０２】
以下、光導波路形成用樹脂フィルムを下部クラッド層、コア部、及び上部クラッド層に用いて光導波路１を形成するための製造方法について説明するが、本発明はこれに何ら制限されるものではない。
まず、第１の工程として下部クラッド層形成用樹脂フィルムを基材５上に積層する。第１の工程における積層方法として、特に制限はないが、例えば、ロールラミネータ又は平板型ラミネータを用いて加熱しながら圧着することにより積層する方法などが挙げられる。なお、本発明における平板型ラミネータとは、積層材料を一対の平板の間に挟み、平板を加圧することにより圧着させるラミネータのことを指し、例えば、真空加圧式ラミネータを好適に用いることができる。ここでの加熱温度は、２０〜１３０℃であることが好ましく、圧着圧力は、０．１〜１．０ＭＰａであることが好ましいが、これらの条件には特に制限はない。下部クラッド層形成用樹脂フィルムに保護フィルムが存在する場合、保護フィルムを除去した後に積層する。
【０１０３】
真空加圧式ラミネータを用いて積層する場合、ロールラミネータを用いて、あらかじめ下部クラッド層形成用樹脂フィルムを基材５上に仮貼りしておいてもよい。ここで、密着性及び追従性向上の観点から、圧着しながら仮貼りすることが好ましく、圧着する際、ヒートロールを有するラミネータを用いて加熱しながら行っても良い。ラミネート温度は、２０〜１３０℃であることが好ましい。２０℃以上であれば下部クラッド層形成用樹脂フィルムと基材５との密着性が向上し、１３０℃以下であれば樹脂層がロールラミネート時に流動しすぎることがなく、必要とする膜厚が得られる。以上の観点から、４０〜１００℃であることがさらに好ましい。圧力は０．２〜０．９ＭＰａであることが好ましく、ラミネート速度は０．１〜３ｍ／ｍｉｎであることが好ましいが、これらの条件には特に制限はない。
【０１０４】
基材５上に積層された下部クラッド層形成用樹脂層を光及び／又は熱により硬化し、下部クラッド層４を形成する。なお、下部クラッド層形成用樹脂フィルムの支持フィルムの除去は、硬化前及び硬化後のどちらで行ってもよい。
下部クラッド層形成用樹脂層を光により硬化する際の活性光線の照射量は、０．１〜５Ｊ／ｃｍ2とすることが好ましいが、この条件には特に制限はない。また、活性光線が基材を透過する場合、効率的に硬化させるために、両面から同時に活性光線を照射可能な両面露光機を使用することができる。また、加熱をしながら活性光線を照射してもよい。なお、光硬化後の処理として、必要に応じて５０〜２００℃の加熱処理を行ってもよい。
下部クラッド層形成用樹脂層を熱により硬化する際の加熱温度は、５０〜２００℃とすることが好ましいが、この条件には特に制限はない。
【０１０５】
下部クラッド層形成用樹脂フィルムの支持フィルムを、光導波路１の保護フィルム５として機能させる場合、下部クラッド層形成用樹脂フィルムを積層することなく、光及び／又は熱により前記と同様な条件で硬化し、下部クラッド層４を形成してもよい。
なお、下部クラッド層形成用樹脂フィルムの保護フィルムは、硬化前に除去しても、硬化後に除去してもよい。
【０１０６】
第２の工程として、第１の工程と同様な方法で、下部クラッド層４上にコア部形成用樹脂フィルムを積層する。ここで、コア部形成用樹脂層は下部クラッド層形成用樹脂層より高屈折率であるように設計され、活性光線によりコアパターンを形成し得る感光性樹脂組成物からなることが好ましい。
【０１０７】
第３の工程として、コア部２（コアパターン）を露光する。コア部２を露光する方法として、特に制限はないが、例えば、アートワークと呼ばれるネガマスクパターンを通して活性光線を画像状に照射する方法、レーザ直接描画を用いてフォトマスクを通さずに直接活性光線を画像上に照射する方法などが挙げられる。
活性光線の光源として、例えば、超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、水銀蒸気アークランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、カーボンアークランプなどの紫外線を有効に放射する光源が挙げられる。また、他にも写真用フラッド電球、太陽ランプなどの可視光線を有効に放射する光源が挙げられる。
【０１０８】
コア部２を露光する際の活性光線の照射量は、０．０１〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましい。０．０１Ｊ／ｃｍ2以上であると、硬化反応が十分に進行し、現像によりコア部２が流失することがない。一方、１０Ｊ／ｃｍ2以下であると、露光量過多によりコア部２が太ることがなく、微細なパターンが形成でき好適である。以上の観点から、活性光線の照射量は、０．０３〜５Ｊ／ｃｍ2であることがさらに好ましく、０．０５〜３Ｊ／ｃｍ2であることが特に好ましい。
コア部２の露光は、コア部形成用樹脂フィルムの支持フィルムを介して行っても、支持フィルムを除去してから行ってもよい。
【０１０９】
また、露光後に、コア部２の解像度及び密着性向上の観点から、必要に応じて露光後加熱を行ってもよい。紫外線照射から露光後加熱までの時間は、１０分以内であることが好ましいが、この条件には特に制限はない。露光後加熱温度は４０〜１６０℃であることが好ましく、時間は３０秒〜１０分であることが好ましいが、これらの条件には特に制限はない。
【０１１０】
第４の工程として、コア部形成用樹脂フィルムの支持フィルムを介して露光した場合、これを除去し、コア部形成用樹脂層の組成に適した現像液を用いて現像する。
現像方法として、特に制限はないが、例えば、スプレー法、ディップ法、パドル法、スピン法、ブラッシング法、スクラッピング法などが挙げられる。また、必要に応じてこれらの現像方法を併用してもよい。
現像液として、特に制限はないが、例えば、有機溶剤、有機溶剤と水からなる準水系現像液などの有機溶剤系現像液；アルカリ性水溶液、アルカリ性水溶液と１種類以上の有機溶剤からなるアルカリ性準水系現像液などのアルカリ性現像液などが挙げられる。
また、現像温度は、コア部形成用樹脂層の現像性に合わせて調節される。
【０１１１】
有機溶剤としては、特に制限はなく、例えば、トルエン、キシレン、メシチレン、クメン、ｐ−シメンなどの芳香族炭化水素；ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ジブチルエーテルなどの鎖状エーテル；テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサンなどの環状エーテル；メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコールなどのアルコール；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンなどのケトン；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトンなどのエステル；エチレンカーボネート、プロピレンカーボネートなどの炭酸エステル；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテルなどの多価アルコールアルキルエーテル；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどの多価アルコールアルキルエーテルアセテート；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミドなどが挙げられる。
これらの有機溶剤は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。また、有機溶剤中には、表面活性剤、消泡剤などを混入させてもよい。
【０１１２】
準水系現像液として、１種類以上の有機溶剤と水からなるものであれば特に制限はない。
有機溶剤の濃度は、通常、２〜９０質量％であることが好ましい。また、準水系現像液中には、界面活性剤、消泡剤などを少量混入させてもよい。
【０１１３】
アルカリ性水溶液の塩基として、特に制限はないが、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物；炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩；炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムなどのアルカリ金属重炭酸塩；リン酸カリウム、リン酸ナトリウムなどのアルカリ金属リン酸塩；ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウムなどのアルカリ金属ピロリン酸塩；四ホウ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどのナトリウム塩；炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウムなどのアンモニウム塩；水酸化テトラメチルアンモニウム、トリエタノールアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、２−アミノ−２−ヒドロキシメチル−１，３−プロパンジオール、１，３−ジアミノプロパノール−２−モルホリンなどの有機塩基などが挙げられる。
これらの塩基は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。
現像に用いるアルカリ性水溶液のｐＨは９〜１４であることが好ましく、ｐＨ１０〜１３であることがさらに好ましい。また、アルカリ性水溶液中には、表面活性剤、消泡剤などを混入させてもよい。
【０１１４】
アルカリ性準水系現像液として、アルカリ性水溶液と１種類以上の前記有機溶剤からなるものであれば特に制限はない。アルカリ性準水系現像液のｐＨは、現像が十分にできる範囲でできるだけ小さくすることが好ましく、ｐＨ８〜１３であることが好ましく、ｐＨ９〜１２であることがさらに好ましい。
有機溶剤の濃度は、通常、２〜９０質量％であることが好ましい。また、アルカリ性準水系現像液中には、界面活性剤、消泡剤などを少量混入させてもよい。
【０１１５】
現像後の処理として、必要に応じて前記有機溶剤、前記有機溶剤と水からなる準水系洗浄液、又は水を用いて洗浄してもよい。
洗浄方法として、特に制限はないが、例えば、スプレー法、ディップ法、パドル法、スピン法、ブラッシング法、スクラッピング法などが挙げられる。また、必要に応じてこれらの洗浄方法を併用してもよい。
前記有機溶剤は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。準水系洗浄液において、有機溶剤の濃度は通常、２〜９０質量％とすることが好ましい。また、洗浄温度はコア部形成用樹脂層の現像性に合わせて調節される。
【０１１６】
現像又は洗浄後の処理として、コア部２の硬化性及び密着性向上の観点から、必要に応じて露光及び／又は加熱を行ってもよい。加熱温度は４０〜２００℃であることが好ましく、活性光線の照射量は、０．０１〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましいが、これらの条件には特に制限はない。
【０１１７】
第５の工程として、第１及び第２の工程と同様の方法で、下部クラッド層４及びコア部２上に上部クラッド層形成用樹脂フィルムを積層する。ここで、上部クラッド層形成用樹脂層は、コア部形成用樹脂層よりも低屈折率になるように設計されている。また、上部クラッド形成用樹脂層の厚みは、コア部２の高さより大きくすることが好ましい。
【０１１８】
次いで、第１の工程と同様な方法で上部クラッド層形成用樹脂層を光及び／又は熱により硬化し、上部クラッド層３を形成する。
上部クラッド層形成用樹脂層を光により硬化する際の活性光線の照射量は、０．１〜３０Ｊ／ｃｍ2とすることが好ましいが、この条件には特に制限はない。また、活性光線が基材を透過する場合、効率的に硬化させるために、両面から同時に活性光線を照射可能な両面露光機を使用することができる。また、必要に応じて加熱をしながら活性光線を照射してもよく、光硬化後の処理として加熱処理を行ってもよい。活性光線照射中及び／又は照射後の加熱温度は５０〜２００℃であることが好ましいが、これらの条件には特に制限はない。
上部クラッド層形成用樹脂層を熱により硬化する際の加熱温度は、５０〜２００℃とすることが好ましいが、この条件には特に制限はない。
なお、上部クラッド層形成用樹脂フィルムの支持フィルムの除去が必要な場合、硬化前に除去しても、硬化後に除去してもよい。
以上の工程で、光導波路１を作製することができる。
【実施例】
【０１１９】
以下、本発明の実施例をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら制限されるものではない。
【０１２０】
製造例１
［（メタ）アクリルポリマーＡ−１の作製］
撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下ろうと及び温度計を備えたフラスコに、メチルエチルケトン８３質量部を秤量し、窒素ガスを導入しながら撹拌を行った。液温を５５℃に上昇させ、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド２０質量部、ジシクロペンタニルメタクリレート４４質量部、メチルメタクリレート４２質量部、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート３２質量部、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）１質量部、及びメチルエチルケトン５６質量部の混合物を３時間かけて滴下後、５５℃で５時間撹拌し、さらに８０℃で２時間撹拌を続けて、室温まで冷却した。
続いて、液温を５０℃に上昇させ、メタクリル酸１８質量部、ジブチルスズジラウリレート０．０７質量部、及びメチルエチルケトン１８質量部の混合物を３０分かけて滴下後、５０℃で３時間撹拌を続けて、（メタ）アクリルポリマーＡ−１溶液（固形分５０質量％）を得た。
【０１２１】
［重量平均分子量の測定］
Ａ−１の重量平均分子量（標準ポリスチレン換算）をＧＰＣ（東ソー株式会社製ＳＤ−８０２２／ＤＰ−８０２０／ＲＩ−８０２０）を用いて測定した結果、６２，０００であった。なお、カラムは日立化成工業株式会社製Ｇｅｌｐａｃｋ ＧＬ−Ａ１５０−Ｓ／ＧＬ−Ａ１６０−Ｓを使用した。
【０１２２】
製造例２
［（メタ）アクリルポリマーＡ−２の作製］
撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下ろうと及び温度計を備えたフラスコに、メチルエチルケトン８３質量部を秤量し、窒素ガスを導入しながら撹拌を行った。液温を５５℃に上昇させ、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド２０質量部、ベンジルメタクリレート８２質量部、メチルメタクリレート１７質量部、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート１９質量部、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）１質量部、及びメチルエチルケトン５６質量部の混合物を３時間かけて滴下後、５５℃で５時間撹拌し、さらに８０℃で２時間撹拌を続けて、室温まで冷却した。
続いて、液温を５０℃に上昇させ、メタクリル酸１１質量部、ジブチルスズジラウリレート０．０７質量部、及びメチルエチルケトン１１質量部の混合物を３０分かけて滴下後、５０℃で３時間撹拌を続けて、（メタ）アクリルポリマーＡ−２溶液（固形分５０質量％）を得た。
製造例１と同様な方法で、重量平均分子量を測定した結果、５６，０００であった。
【０１２３】
製造例３
［（メタ）アクリルポリマーＡ−３の作製］
撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下ろうと及び温度計を備えたフラスコに、メチルエチルケトン８３質量部を秤量し、窒素ガスを導入しながら撹拌を行った。液温を５５℃に上昇させ、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド２０質量部、ベンジルメタクリレート８２質量部、メチルメタクリレート１７質量部、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート１９質量部、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）１質量部、及びメチルエチルケトン５６質量部の混合物を３時間かけて滴下後、５５℃で５時間撹拌し、さらに８０℃で２時間撹拌を続けて、室温まで冷却した。
続いて、液温を５０℃に上昇させ、メタクリル酸５質量部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート８質量部、ジブチルスズジラウリレート０．０７質量部、及びメチルエチルケトン１３質量部の混合物を３０分かけて滴下後、５０℃で３時間撹拌を続けて、（メタ）アクリルポリマーＡ−３溶液（固形分５０質量％）を得た。
製造例１と同様な方法で、重量平均分子量を測定した結果、５４，０００であった。
【０１２４】
製造例４
［（メタ）アクリルポリマーＡ−４の作製］
撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下ろうと及び温度計を備えたフラスコに、メチルエチルケトン８３質量部を秤量し、窒素ガスを導入しながら撹拌を行った。液温を５５℃に上昇させ、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド２０質量部、ジシクロペンタニルメタクリレート４４質量部、メチルメタクリレート４２質量部、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート３２質量部、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）１質量部、及びメチルエチルケトン５６質量部の混合物を３時間かけて滴下後、５５℃で５時間撹拌し、さらに８０℃で２時間撹拌を続けて、室温まで冷却した。
続いて、液温を５０℃に上昇させ、メタクリル酸９質量部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート１３質量部、ジブチルスズジラウリレート０．０７質量部、及びメチルエチルケトン２２質量部の混合物を３０分かけて滴下後、５０℃で３時間撹拌を続けて、（メタ）アクリルポリマーＡ−４溶液（固形分５０質量％）を得た。
製造例１と同様な方法で、重量平均分子量を測定した結果、６５，０００であった。
【０１２５】
製造例５
［（メタ）アクリルポリマーＡ−５の作製］
撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下ろうと及び温度計を備えたフラスコに、メチルエチルケトン８３質量部を秤量し、窒素ガスを導入しながら撹拌を行った。液温を５５℃に上昇させ、シクロヘキシルメタクリレート２０質量部、ベンジルメタクリレート８２質量部、メチルメタクリレート１７質量部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート１９質量部、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）１質量部、及びメチルエチルケトン５６質量部の混合物を３時間かけて滴下後、５５℃で５時間撹拌し、さらに８０℃で２時間撹拌を続けて、（メタ）アクリルポリマーＡ−５溶液（固形分５０質量％）を得た。
製造例１と同様な方法で、重量平均分子量を測定した結果、６１，０００であった。
【０１２６】
製造例６
［（メタ）アクリルポリマーＡ−６の作製］
撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下ろうと及び温度計を備えたフラスコに、メチルエチルケトン８３質量部を秤量し、窒素ガスを導入しながら撹拌を行った。液温を５５℃に上昇させ、シクロヘキシルメタクリレート２０質量部、ジシクロペンタニルメタクリレート４４質量部、メチルメタクリレート４２質量部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート３２質量部、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）１質量部、及びメチルエチルケトン５６質量部の混合物を３時間かけて滴下後、５５℃で５時間撹拌し、さらに８０℃で２時間撹拌を続けて、（メタ）アクリルポリマーＡ−６溶液（固形分５０質量％）を得た。
製造例１と同様な方法で、重量平均分子量を測定した結果、６７，０００であった。
【０１２７】
実施例１
［コア部形成用樹脂ワニスＣＯＶ−１の調合］
（Ａ）（メタ）アクリルポリマーとして、前記Ａ−１溶液（固形分５０質量％）１２０質量部（固形分６０質量部）、（Ｂ）重合性化合物として、エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート（新中村化学工業株式会社製Ａ−ＢＰＥ−６）２０質量部、ｐ−クミルフェノキシエチルアクリレート（新中村化学工業株式会社製Ａ−ＣＭＰ−１Ｅ）２０質量部及び（Ｃ）重合開始剤として、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製イルガキュア２９５９）１質量部、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製イルガキュア８１９）１質量部を広口のポリ瓶に秤量し、撹拌機を用いて、温度２５℃、回転数４００ｒｐｍの条件で、６時間撹拌して、コア部形成用樹脂ワニスを調合した。その後、孔径２μｍのポリフロンフィルタ（アドバンテック東洋株式会社製ＰＦ０２０）及び孔径０．５μｍのメンブレンフィルタ（アドバンテック東洋株式会社製Ｊ０５０Ａ）を用いて、温度２５℃、圧力０．４ＭＰａの条件で加圧濾過した。続いて、真空ポンプ及びベルジャーを用いて減圧度２００ｍｍＨｇの条件で１５分間減圧脱泡し、コア部形成用樹脂ワニスＣＯＶ−１を得た。
【０１２８】
［コア部形成用樹脂フィルムＣＯＦ−１の作製］
上記コア部形成用樹脂ワニスＣＯＶ−１を、ＰＥＴフィルム（東洋紡績株式会社製Ａ１５１７、厚み１６μｍ）の非処理面上に塗工機（株式会社ヒラノテクシード製マルチコーターＴＭ−ＭＣ）を用いて塗布し、８０℃で１０分及び１００℃で１０分乾燥し、次いで保護フィルムとして離型ＰＥＴフィルム（帝人デュポンフィルム株式会社製Ａ３１、厚み２５μｍ）を貼付け、コア部形成用樹脂フィルムＣＯＦ−１を得た。このとき樹脂層の厚みは、塗工機のギャップを調節することで任意に調整可能であるが、本実施例では硬化後の膜厚が、５０μｍとなるように調節した。
【０１２９】
［クラッド層形成用樹脂ワニスＣＬＶ−１の調合］
（Ａ）主鎖にマレイミド骨格を含む（メタ）アクリルポリマーとして、前記Ａ−１溶液（固形分５０質量％）１２０質量部（固形分６０質量部）、（Ｂ）重合性化合物として、エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート（新中村化学工業株式会社製Ａ−ＢＰＥ−６）２０質量部、エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート（新中村化学工業株式会社製Ａ−９３００）２０質量部、エトキシ化シクロヘキサンジメタノールジアクリレート（新中村化学工業株式会社製Ａ−ＣＨＤ−４Ｅ）２０質量部及び（Ｃ）重合開始剤として、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製イルガキュア２９５９）１質量部、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製イルガキュア８１９）１質量部を広口のポリ瓶に秤量し、撹拌機を用いて、温度２５℃、回転数４００ｒｐｍの条件で、６時間撹拌して、コア部形成用樹脂ワニスを調合した。その後、孔径２μｍのポリフロンフィルタ（アドバンテック東洋株式会社製ＰＦ０２０）及び孔径０．５μｍのメンブレンフィルタ（アドバンテック東洋株式会社製Ｊ０５０Ａ）を用いて、温度２５℃、圧力０．４ＭＰａの条件で加圧濾過した。続いて、真空ポンプ及びベルジャーを用いて減圧度２００ｍｍＨｇの条件で１５分間減圧脱泡し、クラッド層形成用樹脂ワニスＣＬＶ−１を得た。
【０１３０】
［クラッド層形成用樹脂フィルムＣＬＦ−１の作製］
上記クラッド層形成用樹脂ワニスＣＬＶ−１を、ＰＥＴフィルム（東洋紡績株式会社製Ａ４１００、厚み５０μｍ）の非処理面上に、コア層形成用樹脂フィルムと同様な方法で塗布乾燥し、クラッド層形成用樹脂フィルムＣＬＦ−１を得た。このとき樹脂層の厚みは、塗工機のギャップを調節することで任意に調整可能であるが、本実施例では硬化後の膜厚が、下部クラッド層形成用樹脂フィルムでは２５μｍ、上部クラッド形成用樹脂フィルムでは７５μｍ、並びに屈折率及び透過率測定用硬化フィルムでは５０μｍとなるように調節した。
【０１３１】
［屈折率及び透過率測定用硬化フィルムの作製］
前記コア部形成用樹脂フィルムＣＯＦ−１及びクラッド層形成用樹脂フィルムＣＬＦ−１に、紫外線露光機（大日本スクリーン株式会社製ＭＡＰ−１２００−Ｌ）を用い、紫外線（波長３６５ｎｍ）を２０００ｍＪ／ｃｍ2照射した。続いて、保護フィルム（Ａ３１）を除去し、１３０℃で１時間乾燥を行った後、支持フィルム（Ａ１５１７又はＡ４１００）を除去して厚み５０μｍの硬化フィルムを得た。
【０１３２】
［屈折率の測定］
得られた硬化フィルムの温度２５℃における波長８３０ｎｍでの屈折率をプリズムカプラ（ＳＡＩＲＯＮ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ社製、ＳＰＡ−４０００）を用いて測定した。
【０１３３】
［透過率の測定］
得られた硬化フィルムの温度２５℃における波長４００ｎｍでの透過率を分光光度計（株式会社日立製作所製Ｕ−３４１０ Ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）を用いて測定した。以下の基準で評価した。
○：８０％以上
×：８０％未満
【０１３４】
［光導波路の作製］
ロールラミネータ（日立化成テクノプラント株式会社製ＨＬＭ−１５００）を用い、保護フィルム（Ａ３１）を除去した下部クラッド層形成用樹脂フィルムＣＬＦ−１を、ガラスエポキシ樹脂基板（日立化成工業株式会社製Ｅ−６７９ＦＢ）上に、圧力０．４ＭＰａ、温度８０℃、速度０．４ｍ／ｍｉｎの条件で積層した。さらに、真空加圧式ラミネータ（株式会社名機製作所製ＭＶＬＰ−５００／６００）を用い、圧力０．４ＭＰａ、温度８０℃及び加圧時間３０秒の条件で圧着した。
次に、紫外線露光機（大日本スクリーン株式会社製ＭＡＰ−１２００−Ｌ）を用い、紫外線（波長３６５ｎｍ）を２０００ｍＪ／ｃｍ2照射後、支持フィルム（Ａ４１００）を除去することによって、下部クラッド層４を形成した。
【０１３５】
続いて、前記ロールラミネータを用い、保護フィルム（Ａ３１）を除去したコア部形成用樹脂フィルムＣＯＦ−１を、下部クラッド層４上に、圧力０．４ＭＰａ、温度８０℃、速度０．４ｍ／ｍｉｎの条件で積層した。さらに、上記真空加圧式ラミネータを用い、圧力０．４ＭＰａ、温度８０℃及び加圧時間３０秒の条件で圧着した。
次いで、幅５０μｍのネガ型フォトマスクを介し、上記紫外線露光機で紫外線（波長３６５ｎｍ）を５００ｍＪ／ｃｍ2照射し、次いで８０℃で５分間露光後加熱を行った。支持フィルム（Ａ１５１７）を除去し、現像液（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート／Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド＝８０／２０質量比）を用い、コア部２を現像した後、プロピレングリコールモノメチルエーテル、次いでイソプロパノールを用いて洗浄し、１００℃で１時間加熱乾燥した。
【０１３６】
次に、前記真空加圧式ラミネータを用い、保護フィルム（Ａ３１）を除去した上部クラッド層形成用樹脂フィルムＣＬＦ−１を、コア部２及び下部クラッド層４上に、圧力０．４ＭＰａ、温度８０℃及び加圧時間３０秒の条件で積層した。紫外線（波長３６５ｎｍ）を２０００ｍＪ／ｃｍ2照射し、支持フィルム（Ａ４１００）を除去した後、１３０℃で１時間加熱処理することによって、上部クラッド層３を形成し、図１（ａ）に示す光導波路１を得た。その後、ダイシングソー（株式会社ディスコ製ＤＡＤ−３４１）を用いて導波路長１０ｃｍの光導波路を切り出した。
【０１３７】
実施例２〜５及び比較例１
表１に示す配合比に従ってコア部形成用感光性樹脂ワニスＣＯＶ−２〜４を調合した。同様に、表２に示す配合比に従ってクラッド層形成用感光性樹脂ワニスＣＬＶ−２〜４を調合した。実施例１と同様な方法で、コア部形成用感光性樹脂フィルムＣＯＦ−２〜４及びクラッド層形成用感光性樹脂フィルムＣＬＦ−２〜４を作製した。これらの硬化フィルムの屈折率及び透過率を測定した結果を表１及び表２に示す。
続いて、これらの光導波路形成用樹脂フィルムを用いて、実施例１と同様な方法で、光導波路を作製した。光導波路の作製に用いたコア部形成用樹脂フィルム及びクラッド層形成用樹脂フィルムの組合せを表３に示す。
【０１３８】
【表１】
【０１３９】
＊１：製造例１で作製した（メタ）アクリルポリマー溶液
＊２：製造例２で作製した（メタ）アクリルポリマー溶液
＊３：製造例３で作製した（メタ）アクリルポリマー溶液
＊４：製造例５で作製した（メタ）アクリルポリマー溶液
＊５：エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート（新中村化学工業株式会社製）
＊６：ｐ−クミルフェノキシエチルアクリレート（新中村化学工業株式会社製）
＊７：１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）
＊８：ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）
＊９：波長８３０ｎｍ、２５℃、フィルム厚み５０μｍの条件で測定
＊１０：○…８０％以上、×…８０％未満、波長４００ｎｍ、２５℃、フィルム厚み５０μｍの条件で測定
【０１４０】
【表２】
【０１４１】
＊１：製造例１で作製した（メタ）アクリルポリマー溶液
＊１１：製造例４で作製した（メタ）アクリルポリマー溶液
＊１２：製造例６で作製した（メタ）アクリルポリマー溶液
＊１３：エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート（新中村化学工業株式会社製）
＊１４：エトキシ化シクロヘキサンジメタノールジアクリレート（新中村化学工業株式会社製）
＊１５：水添ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート（新中村化学工業株式会社製）
＊７：１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）
＊８：ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）
＊９：波長８３０ｎｍ、２５℃、フィルム厚み５０μｍの条件で測定
＊１０：○…８０％以上、×…８０％未満、波長４００ｎｍ、２５℃、フィルム厚み５０μｍの条件で測定
【０１４２】
【表３】
【０１４３】
［光伝搬損失の測定］
実施例１〜５及び比較例１で得られた光導波路（導波路長１０ｃｍ）の光伝搬損失を、光源に波長８５０ｎｍの光を中心波長とするＶＣＳＥＬ（ＥＸＦＯ社製ＦＬＳ−３００−０１−ＶＣＬ）、受光センサ（株式会社アドバンテスト製Ｑ８２２１４）、入射ファイバ（ＧＩ−５０／１２５マルチモードファイバ、ＮＡ＝０．２０）及び出射ファイバ（ＳＩ−１１４／１２５、ＮＡ＝０．２２）を用いて、カットバック法（測定導波路長１０、５、３、２ｃｍ）により測定し、以下の基準で評価した。。
○：０．３ｄＢ／ｃｍ以下
×：０．３ｄＢ／ｃｍより大きい
【０１４４】
［高温高湿放置試験］
実施例１〜５及び比較例１で得られた光導波路（導波路長１０ｃｍ）を、高温高湿試験機（エスペック株式会社製ＰＬ−２ＫＴ）を用いて、ＪＰＣＡ規格（ＪＰＣＡ−ＰＥ０２−０５−０１Ｓ）に準じた条件で温度８５℃、湿度８５％の高温高湿放置試験を１０００時間実施した。
高温高湿放置試験実施後の光導波路の光伝搬損失を、前記と同様の光源、受光素子、入射ファイバ及び出射ファイバを用いて測定し、以下の基準で評価した。。
○：０．３ｄＢ／ｃｍ以下
×：０．３ｄＢ／ｃｍより大きい
【０１４５】
［温度サイクル試験］
実施例１〜５及び比較例１で得られた光導波路（導波路長１０ｃｍ）を、温度サイクル試験機（楠本化成株式会社製ＥＴＡＣ ＷＩＮＴＥＣＨ ＮＴ１０１０）を用いて、ＪＰＣＡ規格（ＪＰＣＡ−ＰＥ０２−０５−０１Ｓ）に準じた条件で温度−５５℃と１２５℃の間の温度サイクル試験を１０００サイクル実施した。詳細な温度サイクル試験条件を表４に示す。
【０１４６】
【表４】
【０１４７】
温度サイクル試験実施後の光導波路の光伝搬損失を前記と同様の光源、受光素子、入射ファイバ及び出射ファイバを用いて測定し、以下の基準で評価した。
○：０．３ｄＢ／ｃｍ以下
×：０．３ｄＢ／ｃｍより大きい
【０１４８】
［リフロー試験］
実施例１〜５及び比較例１で得られた光導波路（導波路長１０ｃｍ）を、リフロー試験機（古河電気工業株式会社製サラマンダＸＮＡ−６４５ＰＣ）を用いて、ＩＰＣ／ＪＥＤＥＣ Ｊ−ＳＴＤ−０２０Ｂに準じた条件で最高温度２６５℃のリフロー試験を３回実施した。詳細なリフロー条件を表５、リフロー炉内の温度プロファイルを図２に示す。
【０１４９】
【表５】
【０１５０】
リフロー試験実施後の光導波路の光伝搬損失を前記と同様の光源、受光素子、入射ファイバ及び出射ファイバを用いて測定し、以下の基準で評価した。
○：０．３ｄＢ／ｃｍ以下
×：０．３ｄＢ／ｃｍより大きい
以上の光伝搬損失の測定結果を表６に示す。
【０１５１】
【表６】
【０１５２】
＊１６：○…０．３ｄＢ／ｃｍ以下、×…０．３ｄＢ／ｃｍより大きい
【０１５３】
表１、表２及び表６から、本発明の光学材料用樹脂組成物は、透明性及び耐熱性に優れており、これらを用いて製造した光導波路は透明性、信頼性、及び耐熱性に優れていることがわかる。一方、本発明に属さない光学材料用樹脂組成物を用いて製造した光導波路は、信頼性及び耐熱性に劣っていることがわかる。
【産業上の利用可能性】
【０１５４】
本発明の光学材料用樹脂組成物及び該光学材料用樹脂組成物を用いた光学材料用樹脂フィルムは、透明性及び耐熱性に極めて優れている。従って、これらの光学材料用樹脂組成物又は光学材料用樹脂フィルムを用いて製造した光導波路は透明性、信頼性、及び耐熱性に優れる。
【図面の簡単な説明】
【０１５５】
【図１】本発明の光導波路の形態を説明する断面図である。
【図２】本発明で実施したリフロー試験におけるリフロー炉内の温度プロファイルを示すグラフである。
【符号の説明】
【０１５６】
１ 光導波路
２ コア部
３ 上部クラッド層
４ 下部クラッド層
５ 基材
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学材料用樹脂組成物、光学材料用樹脂フィルム、及びこれらを用いた光導波路に関し、特に、透明性、硬化性、及び耐熱性に優れた光学材料用樹脂組成物、該樹脂組成物を含む光導波路形成用樹脂組成物、該光学材料用樹脂組成物を用いた光学材料用樹脂フィルム、及びこれらを用いた透明性、信頼性、及び耐熱性に優れた光導波路に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子素子間や配線基板間の高速・高密度信号伝送において、従来の電気配線による伝送では、信号の相互干渉や減衰が障壁となり、高速・高密度化の限界が見え始めている。これを打ち破るため電子素子間や配線基板間を光で接続する技術、いわゆる光インタコネクションが検討されている。光の伝送路として加工の容易さ、低コスト、配線の自由度が高く、かつ高密度化が可能な点からポリマー光導波路が注目を集めている。
ポリマー光導波路の形態として、光電気混載基板への適用を想定したガラスエポキシ樹脂基板上に作製するタイプや、ボード同士の接続を想定した硬い支持基板を持たないフレキシブルタイプが好適と考えられる。
【０００３】
ポリマー光導波路には、適用される機器の使用環境や部品実装などの観点から、透明性（低光伝搬損失）と共に耐熱性も要求されるが、このような光導波路材として、（メタ）アクリル重合体（例えば、特許文献１〜３参照）が知られている。
しかしながら、特許文献１〜３に記載の（メタ）アクリル重合体は波長８５０ｎｍにおいて透明性を有するものの、信頼性の評価、例えば、高温高湿放置試験や温度サイクル試験後の光伝搬損失などの具体的な試験結果に関する記述はなく、明らかではない。同様に、耐熱性の評価、例えば、はんだリフロー試験後の光伝搬損失などの具体的な試験結果に関する記述もなく、明らかではない。
【０００４】
【特許文献１】特開昭６３−８１３０１号公報
【特許文献２】特開平０６−２５８５３７号公報
【特許文献３】特開２００３−１９５０７９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、前記の課題を解決するためになされたもので、透明性、硬化性、及び耐熱性に優れた光学材料用樹脂組成物、該光学材料用樹脂組成物を用いた光学材料用樹脂フィルム、並びにこれらを用いた透明性、信頼性、及び耐熱性に優れた光導波路を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、（Ａ）特定の繰り返し単位を有する（メタ）アクリルポリマー、（Ｂ）重合性化合物、及び（Ｃ）重合開始剤を含む光学材料用樹脂組成物、又は該光学材料用樹脂組成物を用いた光学材料用樹脂フィルムを用いて光導波路を製造することにより、上記問題を解決することができることを見出した。
すなわち、本発明は、（Ａ）少なくとも下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有し、かつ、下記一般式（２）で表される側鎖にウレタン結合を介して結合させたエチレン性不飽和基を有する繰り返し単位及び／又は下記一般式（３）で表される側鎖にアミド結合を介して結合させたエチレン性不飽和基を有する繰り返し単位を含有する（メタ）アクリルポリマー、（Ｂ）重合性化合物、並びに（Ｃ）重合開始剤を含む光学材料用樹脂組成物
【０００７】
【化１】
【０００８】
（式中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を示す。Ｒ2は炭素数１〜２０の有機基を示す。）
【０００９】
【化２】
【００１０】
（式中、Ｒ3及びＲ4はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜２０の有機基を示す。Ｘ1及びＸ2はそれぞれ独立に単結合又は炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。）
【００１１】
【化３】
【００１２】
（式中、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜２０の有機基を示す。Ｘ3及びＸ4はそれぞれ独立に単結合又は炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。）、該光学材料用樹脂組成物を用いた光学材料用樹脂フィルム、下部クラッド層、コア部、及び上部クラッド層の少なくとも１つを該光学材料用樹脂組成物、又は該光学材料用樹脂フィルムを用いて形成した光導波路を提供するものである。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の光学材料用樹脂組成物、及び該光学材料用樹脂組成物を用いた光学材料用樹脂フィルムは、透明性、硬化性、及び耐熱性に優れており、これらを用いて製造した光導波路は透明性、信頼性、及び耐熱性に優れる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明の光学材料用樹脂組成物は、（Ａ）特定の繰り返し単位を有する（メタ）アクリルポリマー、（Ｂ）重合性化合物、及び（Ｃ）重合開始剤を含み、活性光線の照射によって、又は加熱によって硬化する樹脂組成物であることが好ましい。
【００１５】
以下、本発明に用いられる（Ａ）成分について説明する。
本発明の（Ａ）成分における（メタ）アクリルポリマーとは、アクリル酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、及びこれらの誘導体を単量体とし、これを重合してなるポリマーをいう。該（メタ）アクリルポリマーは、上記単量体の単独重合体であってもよいし、また、これらのモノマーの２種以上を重合させた共重合体であってもよい。さらには、本発明の効果を阻害しない範囲で、上記のモノマーと、上記以外のモノマーとを含む共重合体であってもよい。また、複数の（メタ）アクリルポリマーの混合物であってもよい。
本発明の（Ａ）成分は、少なくとも下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有する。
【００１６】
【化４】
【００１７】
式中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ2は炭素数１〜２０の有機基を示す。炭素数１〜２０の有機基としては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、カルボニル基、エステル基、カルバモイル基などの１価の有機基が挙げられ、それらは、さらに、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、カルボニル基、ホルミル基、エステル基、カルバモイル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、シリル基、シリロキシ基などで置換されていてもよい。
【００１８】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーにおいて、一般式（１）で表される繰り返し単位の原料となる化合物としては、特に制限はなく、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチルヘプチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、テトラデシル（メタ）アクリレート、ペンタデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベヘニル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレートなどの脂肪族（メタ）アクリル酸エステル；シクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、シクロペンチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレートなどの脂環式（メタ）アクリル酸エステル；フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ｏ−ビフェニル（メタ）アクリレート、１−ナフチル（メタ）アクリレート、２−ナフチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ｐ−クミルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、１−ナフトキシエチル（メタ）アクリレート、２−ナフトキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレートなどの芳香族（メタ）アクリル酸エステル；２−テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−Ｎ−カルバゾールなどの複素環式（メタ）アクリル酸エステル、これらのカプロラクトン変性体などが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートなどの脂肪族（メタ）アクリル酸エステル；上記脂環式（メタ）アクリル酸エステル；上記芳香族（メタ）アクリル酸エステル；上記複素環式（メタ）アクリル酸エステルであることが好ましい。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００１９】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーにおいて、一般式（１）で表される繰り返し単位の含有率は２０〜９９モル％であることが好ましい。２０モル％以上であると、得られる硬化物が脆くなることがなく、９９モル％以下であると、硬化性、得られる硬化物の強度、及び耐熱性が十分である。以上の観点から、一般式（１）で表される繰り返し単位の含有率は２５〜９０モル％がさらに好ましく、３０〜８０モル％であることが特に好ましい。
【００２０】
また、（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーは、下記一般式（２）で表される側鎖にウレタン結合を介して結合させたエチレン性不飽和基を有する繰り返し単位、及び下記一般式（３）で表される側鎖にアミド結合を介して結合させたエチレン性不飽和基を有する繰り返し単位の少なくとも一方を有することを特徴とする。すなわち、一般式（２）で表される繰り返し単位と一般式（３）で表される繰り返し単位のいずれか一方を有するか又は両者を有する。
【００２１】
【化５】
【００２２】
式中、Ｒ3及びＲ4はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜２０の有機基を示し、Ｘ1及びＸ2はそれぞれ独立に単結合又は炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。
【００２３】
【化６】
【００２４】
式中、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜２０の有機基を示し、Ｘ3及びＸ4はそれぞれ独立に単結合又は炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。
なお、一般式（３）で表わされる繰り返し単位は、アミド結合を介してエチレン性不飽和基が結合されていることを要するため、アミド基と結合する有機基Ｘ4は、炭素を介して結合するものに限られる。
【００２５】
一般式（２）及び（３）における有機基（Ｒ3〜Ｒ6）としては、前述のＲ2の説明において示した炭素数１〜２０の有機基と同様である。
【００２６】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーにおいて、一般式（２）で表される側鎖にウレタン結合を介して結合させたエチレン性不飽和基を有する繰り返し単位の導入方法としては、特に制限はなく、例えば、エチレン性不飽和イソシアネートなどを共重合させた後に、エチレン性不飽和アルコール、エチレン性不飽和フェノールなどを付加反応させる方法などが挙げられる。
【００２７】
エチレン性不飽和イソシアネートとしては、特に制限はなく、例えば、Ｎ−（メタ）アクリロイルイソシアネート、（メタ）アクリロイルオキシメチルイソシアネート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート、２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシエチルイソシアネートなどが挙げられる。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００２８】
エチレン性不飽和アルコールとしては、特に制限はなく、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００２９】
エチレン性不飽和フェノールとしては、特に制限はなく、例えば、ｏ−ビニルフェノール、ｍ−ビニルフェノール、ｐ−ビニルフェノール、ｏ−ヒドロキシフェニル（メタ）アクリレート、ｍ−ヒドロキシフェニル（メタ）アクリレート、ｐ−ヒドロキシフェニル（メタ）アクリレート、ｏ−ヒドロキシベンジル（メタ）アクリレート、ｍ−ヒドロキシベンジル（メタ）アクリレート、ｐ−ヒドロキシベンジル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００３０】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーにおいて、一般式（２）で表される側鎖にウレタン結合を介して結合させたエチレン性不飽和基を有する繰り返し単位を含有する場合、その含有率は１〜８０モル％であることが好ましい。１モル％以上であると、硬化性及び得られる硬化物の強度が十分で、８０モル％以下であると、得られる硬化物が脆くなることがない。以上の観点から、一般式（２）で表される繰り返し単位の含有率は、３〜６０モル％がさらに好ましく、５〜４０モル％であることが特に好ましい。
【００３１】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーにおいて、一般式（３）で表される側鎖にアミド結合を介して結合させたエチレン性不飽和基を有する繰り返し単位の導入方法としては、特に制限はなく、例えば、前記エチレン性不飽和イソシアネートなどを共重合させた後に、エチレン性不飽和カルボン酸などを付加反応させる方法などが挙げられる。
【００３２】
エチレン性不飽和カルボン酸としては、特に制限はなく、例えば、（（メタ）アクリル酸、クロトン酸、ケイ皮酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）スクシネート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）フタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）テレフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）テトラヒドロフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）ヘキサヒドロフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）ヘキサヒドロイソフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）ヘキサヒドロテレフタレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、ｏ−ビニル安息香酸、ｍ−ビニル安息香酸、ｐ−ビニル安息香酸などが挙げられる。
これらの中でも、透明性、耐熱性、及び反応性の観点から、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）ヘキサヒドロフタレートであることが好ましい。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００３３】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーにおいて、一般式（３）で表される側鎖にアミド結合を介して結合させたエチレン性不飽和基を有する繰り返し単位を有する場合、その含有率は１〜８０モル％であることが好ましい。１モル％以上であると、硬化性及び得られる硬化物の強度が十分で、８０モル％以下であると、得られる硬化物が脆くなることがない。以上の観点から、一般式（３）で表される繰り返し単位の含有率は、３〜６０モル％がさらに好ましく、５〜４０モル％であることが特に好ましい。
【００３４】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーは、耐熱性の観点から、必要に応じてさらに下記一般式（４）で表されるマレイミド骨格を有する構造単位を有していてもよい。
【００３５】
【化７】
【００３６】
式中、Ｒ7は水素原子又は炭素数１〜２０の有機基を示す。なお、Ｒ7における有機基としては、前述のＲ2の説明において示した炭素数１〜２０の有機基と同様である。
【００３７】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーにおいて、一般式（４）で表されるマレイミド骨格を有する繰り返し単位の原料となる化合物としては、特に制限はなく、例えば、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−プロピルマレイミド、Ｎ−イソプロピルマレイミド、Ｎ−２，２−ジメチルプロピルマレイミド、Ｎ−ブチルマレイミド、Ｎ−イソブチルマレイミド、Ｎ−ｓｅｃ-ブチルマレイミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルマレイミド、Ｎ−２−メチル−２−ブチルマレイミド、Ｎ−ペンチルマレイミド、Ｎ−２−ペンチルマレイミド、Ｎ−３−ペンチルマレイミド、Ｎ−ヘキシルマレイミド、Ｎ−２−ヘキシルマレイミド、Ｎ−３−ヘキシルマレイミド、Ｎ−２−エチルヘキシルマレイミド、Ｎ−ヘプチルマレイミド、Ｎ−オクチルマレイミド、Ｎ−ノニルマレイミド、Ｎ−デシルマレイミドなどのアルキルマレイミド；Ｎ−シクロペンチルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−シクロヘプチルマレイミド、Ｎ−シクロオクチルマレイミド、Ｎ−２−メチルシクロヘキシルマレイミド、Ｎ−２−エチルシクロヘキシルマレイミド、Ｎ−２−クロロシクロヘキシルマレイミドなどのシクロアルキルマレイミド；Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−２−メチルフェニルマレイミド、Ｎ−２−エチルフェニルマレイミド、Ｎ−２−クロロフェニルマレイミドなどのアリールマレイミドなどが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−プロピルマレイミド、Ｎ−イソプロピルマレイミド、Ｎ−ブチルマレイミド、Ｎ−イソブチルマレイミド、Ｎ−ｓｅｃ-ブチルマレイミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルマレイミドなどのアルキルマレイミド；上記シクロアルキルマレイミド；上記アリールマレイミドを用いることが好ましく、Ｎ−シクロペンチルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−２−メチルシクロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミドであることがさらに好ましい。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００３８】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーにおいて、一般式（４）で表されるマレイミド骨格を有する繰り返し単位を有する場合、その含有率は１〜７０モル％であることが好ましい。１モル％以上であると、マレイミド骨格に由来する耐熱性が得られ、７０モル％以下であると、透明性が十分で、得られる硬化物が脆くなることがない。以上の観点から、一般式（４）で表される繰り返し単位の含有率は、３〜６０モル％がさらに好ましく、５〜５０モル％であることが特に好ましい。
【００３９】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーは、アルカリ性現像液による現像性の観点から、必要に応じて下記一般式（５）で表される構造単位を有していてもよい。
【００４０】
【化８】
【００４１】
式中、Ｒ8及びＲ9はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜２０の有機基を示し、Ｘ5は単結合又は炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。
【００４２】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーにおいて、一般式（５）で表される繰り返し単位の導入方法としては、特に制限はなく、例えば、エチレン性不飽和カルボン酸などのカルボキシル基を保護した化合物を共重合させた後に、一般式（２）及び／又は（３）で表される側鎖にエチレン性不飽和基を有する繰り返し単位を導入し、次いで、カルボキシル基の保護基を脱保護する方法などが挙げられる。
該エチレン性不飽和カルボン酸としては、特に制限はなく、例えば、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、ケイ皮酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）スクシネート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）フタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）テレフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）テトラヒドロフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）ヘキサヒドロフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）ヘキサヒドロイソフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）ヘキサヒドロテレフタレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、３−ビニル安息香酸、４−ビニル安息香酸などが挙げられる。
【００４３】
これらの中でも、透明性及びアルカリ性現像液による現像性の観点から（メタ）アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）スクシネート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）テトラヒドロフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）ヘキサヒドロフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）ヘキサヒドロイソフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）ヘキサヒドロテレフタレートであることが好ましい。
【００４４】
また、前記カルボキシル基の保護基としては、特に制限はなく、例えば、ｔ−ブチル基、シリル基などが挙げられる。
また、無水マレイン酸、無水シトラコン酸、無水イタコン酸を原料として用いて、共重合し、一般式（２）及び／又は（３）で表される側鎖にエチレン性不飽和基を有する繰り返し単位を導入後にメタノール、エタノール、プロパノールなどの適当なアルコールによって開環し、一般式（５）で表される構造単位に変換してもよい。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００４５】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーにおいて、一般式（５）で表される繰り返し単位を有する場合、その含有率は３〜６０モル％であることが好ましい。３モル％以上であると、アルカリ性現像液による現像が容易であり、一方、６０モル％以下であると、耐現像液性（現像により除去されずにパターンとなる部分が、現像液によって侵されない性質）が良好である。以上の観点から、一般式（５）で表される繰り返し単位の含有率は、５〜５０モル％がさらに好ましく、７〜４０モル％であることが特に好ましい。
【００４６】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーは、必要に応じてさらに一般式（１）〜（５）で表される繰り返し単位以外の繰り返し単位を有していてもよい。
このような繰り返し単位の原料となるエチレン性不飽和基を有する化合物としては、特に制限はなく、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、β−メチルスチレン、３−メチルスチレン、４−メチルスチレン、α，２−ジメチルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、２，５−ジメチルスチレン、（メタ）アクリロニトリル、ビニルシクロヘキシルエーテル、ビニルフェニルエーテル、ビニルベンジルエーテル、酢酸ビニル、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾール、ビニルピリジン、塩化ビニル、塩化ビニリデンなどが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点からスチレン、α−メチルスチレン、β−メチルスチレン、３−メチルスチレン、４−メチルスチレン、α，２−ジメチルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、２，５−ジメチルスチレン、（メタ）アクリロニトリル、酢酸ビニル、Ｎ−ビニルカルバゾールであることが好ましい。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００４７】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーは、その合成方法に特に制限はなく、例えば、一般式（１）〜（３）で表される繰り返し単位の原料となる化合物、必要に応じてさらに一般式（４）及び（５）で表される繰り返し単位の原料となる化合物、及び一般式（１）〜（５）で表される繰り返し単位以外の繰り返し単位の原料となる化合物と、適切な熱ラジカル重合開始剤を用いて、加熱しながら共重合させることにより得ることができる。このとき、必要に応じて有機溶剤を反応溶媒として用いることができる。また、必要に応じて適切な連鎖移動剤などと組み合わせて用いることもできる。
【００４８】
熱ラジカル重合開始剤としては、特に制限はなく、例えば、メチルエチルケトンパーオキシド、シクロヘキサノンパーオキシド、メチルシクロヘキサノンパーオキシドなどのケトンパーオキシド；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−２−メチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ヘキシルパーオキシ）シクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ヘキシルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンなどのパーオキシケタール；ｐ−メンタンヒドロパーオキシドなどのヒドロパーオキシド；α、α’−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ジイソプロピルベンゼン、ジクミルパーオキシド、ｔ−ブチルクミルパーオキシド、ジ−ｔ−ブチルパーオキシドなどのジアルキルパーオキシド；オクタノイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、ステアリルパーオキシド、ベンゾイルパーオキシドなどのジアシルパーオキシド；ビス（４−ｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート、ジ−２−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−３−メトキシブチルパーオキシカーボネートなどのパーオキシカーボネート；ｔ−ブチルパーオキシピバレート、ｔ−ヘキシルパーオキシピバレート、１，１，３，３−テトラメチルブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、２，５−ジメチル−２，５−ビス（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ヘキシルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシイソブチレート、ｔ−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシラウリレート、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキシルモノカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ｔ−ヘキシルパーオキシベンゾエート、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ベンゾイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ブチルパーオキシアセテートなどのパーオキシエステル；２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２’−ジメチルバレロニトリル）などのアゾ化合物が挙げられる。
【００４９】
反応溶媒として用いる有機溶剤としては、（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーを溶解しえるものであれば、特に制限はないが、例えば、トルエン、キシレン、メシチレン、クメン、ｐ−シメンなどの芳香族炭化水素；ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ジブチルエーテルなどの鎖状エーテル；テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサンなどの環状エーテル；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンなどのケトン；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、γ−ブチロラクトンなどのエステル；エチレンカーボネート、プロピレンカーボネートなどの炭酸エステル；エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテルなどの多価アルコールアルキルエーテル；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどの多価アルコールアルキルエーテルアセテート；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミドなどが挙げられる。
これらの有機溶剤は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００５０】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーの重量平均分子量は、１，０００〜３，０００，０００であることが好ましい。１，０００以上であると、分子量が大きいため樹脂組成物とした場合の硬化物の強度が十分で、３，０００，０００以下であると、現像液に対する溶解性や（Ｂ）重合性化合物との相溶性が良好である。以上の観点から、（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーの重量平均分子量は、３，０００〜２，０００，０００とすることがさらに好ましく、５，０００〜１，０００，０００であることが特に好ましい。
なお、本発明における重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定し、標準ポリスチレン換算した値である。
【００５１】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーは、一般式（５）で表される繰り返し単位を有する場合、アルカリ性現像液により現像可能となるように酸価を規定することができる。例えば、現像液としてアルカリ性水溶液を用いる場合、酸価が２０〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましい。２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であると、現像が容易であり、一方、３００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であると、耐現像液性が低下することがない。以上の観点から、酸価は３０〜２５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがさらに好ましく、４０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが特に好ましい。
現像液としてアルカリ性水溶液と１種以上の有機溶剤からなるアルカリ性水系現像液を用いる場合は、酸価が１０〜２６０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましい。酸価が１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であると、現像が容易で、２６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であると、耐現像液性が低下することがない。以上の観点から、酸価は２０〜２５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがさらに好ましく、３０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが特に好ましい。
【００５２】
（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーの配合量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量に対して、１０〜８５質量％であることが好ましい。１０質量％以上であると、光学材料用樹脂組成物の硬化物の強度や可撓性が十分で、８５質量％以下であると、硬化時に（Ｂ）成分によって絡め込まれて容易に硬化し、耐現像液性が不足することがない。以上の観点から、（メタ）アクリルポリマーの配合量は、２０〜８０質量％であることがさらに好ましく、２５〜７５質量％であることが特に好ましい。
【００５３】
以下、本発明に用いられる（Ｂ）成分について説明する。
（Ｂ）成分の重合性化合物としては、特に制限はなく、例えば、（メタ）アクリレート、ビニルエーテル、ビニルエステル、ビニルアミド、アリール化ビニル、ビニルピリジン、ハロゲン化ビニル、ハロゲン化ビニリデンなどのエチレン性不飽和基などの重合性置換基を有する化合物が挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、（メタ）アクリレートやアリール化ビニルが好適に挙げられる。
（メタ）アクリレートとしては、単官能のもの、２官能のもの又は３官能以上の多官能のもののいずれも用いることができる。
【００５４】
単官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチルヘプチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、テトラデシル（メタ）アクリレート、ペンタデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベヘニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、モノ（２-（メタ）アクリロイルオキシエチル）スクシネートなどの脂肪族（メタ）アクリレート；シクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、シクロペンチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、モノ（２-（メタ）アクリロイルオキシエチル）テトラヒドロフタレート、モノ（２-（メタ）アクリロイルオキシエチル）ヘキサヒドロフタレートなどの脂環式（メタ）アクリレート；フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ｏ−ビフェニル（メタ）アクリレート、１−ナフチル（メタ）アクリレート、２−ナフチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ｐ−クミルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、１−ナフトキシエチル（メタ）アクリレート、２−ナフトキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（ｏ−フェニルフェノキシ）プロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（１−ナフトキシ）プロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（２−ナフトキシ）プロピル（メタ）アクリレートなどの芳香族（メタ）アクリレート；２−テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−Ｎ−カルバゾールなどの複素環式（メタ）アクリレート、これらのカプロラクトン変性体などが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、上記脂環式（メタ）アクリレート；上記芳香族（メタ）アクリレート；上記複素環式（メタ）アクリレートであることが好ましい。
【００５５】
２官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、３−メチル−１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート、エトキシ化２−メチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレートなどの脂肪族（メタ）アクリレート；シクロヘキサンジメタノール（メタ）アクリレート、エトキシ化シクロヘキサンジメタノール（メタ）アクリレート、プロポキシ化シクロヘキサンジメタノール（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化シクロヘキサンジメタノール（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート、エトキシ化トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート、エトキシ化水添ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化水添ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化水添ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシ化水添ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化水添ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化水添ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレートなどの脂環式（メタ）アクリレート；エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡＦジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールＡＦジ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化ビスフェノールＡＦジ（メタ）アクリレート、エトキシ化フルオレン型ジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化フルオレン型ジ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化フルオレン型ジ（メタ）アクリレートなどの芳香族（メタ）アクリレート；エトキシ化イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレートなどの複素環式（メタ）アクリレート；これらのカプロラクトン変性体；ネオペンチルグリコール型エポキシ（メタ）アクリレートなどの脂肪族（メタ）アクリレート；シクロヘキサンジメタノール型エポキシ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡ型エポキシ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＦ型エポキシ（メタ）アクリレートなどの脂環式（メタ）アクリレート；レゾルシノール型エポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦ型エポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡＦ型エポキシ（メタ）アクリレート、フルオレン型エポキシ（メタ）アクリレートなどの芳香族エポキシ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、上記脂環式（メタ）アクリレート；上記芳香族（メタ）アクリレート；上記複素環式（メタ）アクリレート；上記脂環式エポキシ（メタ）アクリレート；上記芳香族エポキシ（メタ）アクリレートであることが好ましい。
【００５６】
３官能以上の多官能（メタ）アクリレートとして、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどの脂肪族（メタ）アクリレート；エトキシ化イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレートなどの複素環式（メタ）アクリレート；これらのカプロラクトン変性体；フェノールノボラック型エポキシ（メタ）アクリレート、クレゾールノボラック型エポキシ（メタ）アクリレートなどの芳香族エポキシ（メタ）アクリレートが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、複素環式（メタ）アクリレート；芳香族エポキシ（メタ）アクリレートであることが好ましい。
これらの化合物は、単独又は２種類以上組み合わせて用いることができ、さらにその他の重合性化合物と組み合わせて用いることもできる。
【００５７】
前記（メタ）アクリレート以外に好ましい（Ｂ）成分の重合性化合物として、（Ａ）成分の（メタ）アクリル共重合体との相溶性の観点から、分子内に環状エーテル基を有する化合物も挙げられる。
環状エーテル基として、特に制限はないが、例えば、エポキシ基、オキセタニル基などが挙げられる。
【００５８】
分子内にエポキシ基を有する化合物としては、特に制限はなく、例えば、ヒドロキノン型エポキシ樹脂、レゾルシノール型エポキシ樹脂、カテコール型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、テトラブロモビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＤ型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂などの２官能フェノールグリシジルエーテル型；水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、水添２，２’−ビフェノール型エポキシ樹脂、水添４，４’−ビフェノール型エポキシ樹脂などの水添２官能フェノールグリシジルエーテル型；フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン−フェノール型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン−クレゾール型エポキシ樹脂、テトラフェニロールエタン型エポキシ樹脂などの３官能以上の多官能フェノールグリシジルエーテル型；ポリエチレングリコール型エポキシ樹脂、ポリプロピレングリコール型エポキシ樹脂、ネオペンチルグリコール型エポキシ樹脂、１，６−ヘキサンジオール型エポキシ樹脂などの２官能脂肪族アルコールグリシジルエーテル型；シクロヘキサンジオール型エポキシ樹脂、シクロヘキサンジメタノール型エポキシ樹脂、トリシクロデカンジメタノール型エポキシ樹脂などの２官能脂環式アルコールグリシジルエーテル型；トリメチロールプロパン型エポキシ樹脂、ソルビトール型エポキシ樹脂、グリセリン型エポキシ樹脂などの３官能以上の多官能脂肪族アルコールグリシジルエーテル型；フタル酸ジグリシジルエステルなどの２官能芳香族グリシジルエステル；テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステルなどの２官能脂環式グリシジルエステル；Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジグリシジルトリフルオロメチルアニリンなどの２官能芳香族グリシジルアミン；Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−４，４−ジアミノジフェニルメタン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−グリシジルアミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ，ｏ−トリグリシジル−ｐ−アミノフェノールなどの３官能以上の多官能芳香族グリシジルアミン；アリサイクリックジエポキシアセタール、アリサイクリックジエポキシアジペート、アリサイクリックジエポキシカルボキシレート、ビニルシクロヘキセンジオキシドなどの２官能脂環式エポキシ樹脂；２，２−ビス（ヒドロキシメチル）−１−ブタノールの１，２−エポキシ−４−（２−オキシラニル）シクロヘキサン付加体などの３官能以上の多官能脂環式エポキシ樹脂；トリグリシジルイソシアヌレートなどの３官能以上の多官能複素環式エポキシ樹脂；オルガノポリシロキサン型エポキシ樹脂などのケイ素含有２官能又は３官能以上の多官能エポキシ樹脂などが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、ヒドロキノン型エポキシ樹脂、レゾルシノール型エポキシ樹脂、カテコール型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＤ型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂などの２官能フェノールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；上記各種の水添２官能フェノールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；上記各種の多官能フェノールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；上記各種の２官能脂環式アルコールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；上記２官能芳香族グリシジルエステル；上記２官能脂環式グリシジルエステル；上記２官能脂環式エポキシ樹脂；上記３官能以上の多官能脂環式エポキシ樹脂；上記３官能以上の多官能複素環式エポキシ樹脂；上記ケイ素含有２官能又は３官能以上の多官能エポキシ樹脂であることが好ましい。
【００５９】
分子内にオキセタニル基を有する化合物としては、特に制限はなく、例えば、ヒドロキノン型オキセタン樹脂、レゾルシノール型オキセタン樹脂、カテコール型オキセタン樹脂、ビスフェノールＡ型オキセタン樹脂、テトラブロモビスフェノールＡ型オキセタン樹脂、ビスフェノールＦ型オキセタン樹脂、ビスフェノールＡＦ型オキセタン樹脂、ビスフェノールＡＤ型オキセタン樹脂、ビフェニル型オキセタン樹脂、ナフタレン型オキセタン樹脂、フルオレン型オキセタン樹脂などの２官能フェノールオキセタニルエーテル型；水添ビスフェノールＡ型オキセタン樹脂、水添ビスフェノールＦ型オキセタン樹脂、水添２，２’−ビフェノール型オキセタン樹脂、水添４，４’−ビフェノール型オキセタン樹脂などの水添２官能フェノールオキセタニルエーテル型；フェノールノボラック型オキセタン樹脂、クレゾールノボラック型オキセタン樹脂、ジシクロペンタジエン−フェノール型オキセタン樹脂、ジシクロペンタジエン−クレゾール型オキセタン樹脂、テトラフェニロールエタン型オキセタン樹脂などの３官能以上の多官能フェノールオキセタニルエーテル型；ポリエチレングリコール型オキセタン樹脂、ポリプロピレングリコール型オキセタン樹脂、ネオペンチルグリコール型オキセタン樹脂、１，６−ヘキサンジオール型オキセタン樹脂などの２官能脂肪族アルコールオキセタニルエーテル型；シクロヘキサンジオール型オキセタン樹脂、シクロヘキサンジメタノール型オキセタン樹脂、トリシクロデカンジメタノール型オキセタン樹脂などの２官能脂環式アルコールオキセタニルエーテル型；トリメチロールプロパン型オキセタン樹脂、ソルビトール型オキセタン樹脂、グリセリン型オキセタン樹脂などの３官能以上の多官能脂肪族アルコールオキセタニルエーテル型；フタル酸ジオキセタニルエステルなどの２官能芳香族オキセタニルエステル；テトラヒドロフタル酸ジオキセタニルエステル、ヘキサヒドロフタル酸ジオキセタニルエステルなどの２官能脂環式オキセタニルエステル；Ｎ，Ｎ−ジオキセタニルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジオキセタニルトリフルオロメチルアニリンなどの２官能芳香族オキセタニルアミン；Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラオキセタニル−４，４−ジアミノジフェニルメタン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−オキセタニルアミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ，ｏ−トリグリシジル−ｐ−アミノフェノールなどの３官能以上の多官能芳香族オキセタニルアミン；トリオキセタニルイソシアヌレートなどの３官能以上の多官能複素環式オキセタン樹脂；オルガノポリシロキサン型オキセタニル樹脂などのケイ素含有２官能又は３官能以上の多官能オキセタン樹脂などが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、ヒドロキノン型オキセタン樹脂、レゾルシノール型オキセタン樹脂、カテコール型オキセタン樹脂、ビスフェノールＡ型オキセタン樹脂、ビスフェノールＦ型オキセタン樹脂、ビスフェノールＡＦ型オキセタン樹脂、ビスフェノールＡＤ型オキセタン樹脂、ビフェニル型オキセタン樹脂、ナフタレン型オキセタン樹脂、フルオレン型オキセタン樹脂などの２官能フェノールオキセタニルエーテル型オキセタン樹脂；上記各種の水添２官能フェノールオキセタニルエーテル型オキセタン樹脂；上記各種の多官能フェノールオキセタニルエーテル型オキセタン樹脂；上記各種の２官能脂環式アルコールオキセタニルエーテル型オキセタン樹脂；上記２官能芳香族オキセタニルエステル；上記２官能脂環式オキセタニルエステル；上記３官能以上の多官能複素環式オキセタン樹脂；上記ケイ素含有２官能又は３官能以上の多官能オキセタン樹脂であることが好ましい。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができ、さらにその他の重合性化合物と組み合わせて用いることもできる。
【００６０】
（Ｂ）成分の重合性化合物の配合量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量に対して、１５〜９０質量％であることが好ましい。１５質量％以上であると、（Ａ）成分の（メタ）アクリル共重合体を絡みこんで硬化することが容易で、耐現像液性が不足することがない。一方、９０質量％以下であると、硬化フィルムのフィルム強度や可撓性が十分である。以上の観点から、（Ｂ）成分の配合量は２０〜８０質量％であることがさらに好ましく、２５〜７５質量％であることが特に好ましい。
【００６１】
以下、本発明に用いられる（Ｃ）成分について説明する。
（Ｃ）成分の重合開始剤としては、加熱又は紫外線、可視光線などの活性光線の照射によって重合を開始させるものであれば特に制限はないが、例えば、（Ｂ）成分の重合性化合物としてエチレン性不飽和基を有する化合物を用いる場合には、熱ラジカル重合開始剤、光ラジカル重合開始剤などが挙げられ、（Ｂ）成分の重合性化合物として分子内に環状エーテル基を有する化合物を用いる場合には、熱カチオン重合開始剤、光カチオン重合開始剤などが挙げられる。
【００６２】
熱ラジカル重合開始剤としては、特に制限はなく、前述の（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーを合成する際に用いられる熱ラジカル重合開始剤と同様のものを用いることができる。
それらの中で、硬化性、透明性、及び耐熱性の観点から、ジアシルパーオキシド、パーオキシエステル、及びアゾ化合物であることが好ましい。
【００６３】
光ラジカル重合開始剤としては、特に制限はなく、例えば、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オンなどのベンゾインケタール；１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−１−｛４［４−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオニル）ベンジル］フェニル｝−２−メチルプロパン−１−オンなどのα−ヒドロキシケトン；フェニルグリオキシル酸メチル、フェニルグリオキシル酸エチル、オキシフェニル酢酸２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル、オキシフェニル酢酸２−（２−オキソ−２−フェニルアセトキシエトキシ）エチルなどのグリオキシエステル；２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリン−４−イルフェニル）−ブタン−１−オン、２−ジメチルアミノ−２−（４−メチルベンジル）−１−（４−モルフォリン−４−イルフェニル）−ブタン−１−オン、１，２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−（４−モルフォリン）−２−イルプロパン−１−オンなどのα−アミノケトン；１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ），２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］，１−（Ｏ−アセチルオキシム）などのオキシムエステル；ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキシド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシドなどのホスフィンオキシド；２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体などの２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体；ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ’−テトラエチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４’−ジメチルアミノベンゾフェノンなどのベンゾフェノン化合物；２−エチルアントラキノン、フェナントレンキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラキノン、２，３−ベンズアントラキノン、２−フェニルアントラキノン、２，３−ジフェニルアントラキノン、１−クロロアントラキノン、２−メチルアントラキノン、１，４−ナフトキノン、９，１０−フェナントラキノン、２−メチル−１，４−ナフトキノン、２，３−ジメチルアントラキノンなどのキノン化合物；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテルなどのベンゾインエーテル；ベンゾイン、メチルベンゾイン、エチルベンゾインなどのベンゾイン化合物；ベンジルジメチルケタールなどのベンジル化合物；９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９、９’−アクリジニルヘプタン）などのアクリジン化合物：Ｎ−フェニルグリシン、クマリンなどが挙げられる。
また、前記２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体において、２つのトリアリールイミダゾール部位のアリール基の置換基は、同一で対称な化合物を与えてもよく、相違して非対称な化合物を与えてもよい。
これらの中で、硬化性及び透明性の観点から、上記α−ヒドロキシケトン；上記グリオキシエステル；上記オキシムエステル；上記ホスフィンオキシドであることが好ましい。
以上の熱及び光ラジカル重合開始剤は、単独で又は２種類以上組み合わせて用いることができる。さらに、適切な増感剤と組み合わせて用いることもできる。
【００６４】
熱カチオン重合開始剤としては、特に制限はなく、例えば、ｐ−アルコキシフェニルベンジルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネートなどのベンジルスルホニウム塩；ベンジル−ｐ−シアノピリジニウムヘキサフルオロアンチモネート、１−ナフチルメチル−ｏ−シアノピリジニウムヘキサフルオロアンチモネート、シンナミル−ｏ−シアノピリジニウムヘキサフルオロアンチモネートなどのピリジニウム塩；ベンジルジメチルフェニルアンモニウムヘキサフルオロアンチモネートなどのベンジルアンモニウム塩などが挙げられる。
これらの中でも、硬化性、透明性、及び耐熱性の観点から、上記ベンジルスルホニウム塩であることが好ましい。
【００６５】
光カチオン重合開始剤として、特に制限はないが、例えばｐ−メトキシベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェートなどのアリールジアゾニウム塩、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネートなどのジアリールヨードニウム塩；トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニル−４−チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニル−４−チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニル−４−チオフェノキシフェニルスルホニウムペンタフルオロヒドロキシアンチモネートなどのトリアリールスルホニウム塩；トリフェニルセレノニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルセレノニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルセレノニウムヘキサフルオロアンチモネートなどのトリアリールセレノニウム塩；ジメチルフェナシルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジエチルフェナシルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネートなどのジアルキルフェナシルスルホニウム塩；４−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、４−ヒドロキシフェニルベンジルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネートなどのジアルキル−４−ヒドロキシ塩；α−ヒドロキシメチルベンゾインスルホン酸エステル、Ｎ−ヒドロキシイミドスルホネート、α−スルホニロキシケトン、β−スルホニロキシケトンなどのスルホン酸エステルなどが挙げられる。
これらの中でも、硬化性、透明性、及び耐熱性の観点から、上記トリアリールスルホニウム塩であることが好ましい。
これらの熱及び光カチオン重合開始剤は、単独で又は２種類以上組み合わせて用いることができる。さらに、適切な増感剤と組み合わせて用いることもできる。
【００６６】
（Ｃ）成分の重合開始剤の配合量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部であることが好ましい。０．０１質量部以上であると、硬化が十分であり、１０質量部以下であると、十分な光透過性が得られる。以上の観点から、（Ｃ）成分の配合量は０．０５〜７質量部であることがさらに好ましく、０．１〜５質量部であることが特に好ましい。
【００６７】
また、必要に応じて本発明の光学材料用樹脂組成物中には、酸化防止剤、黄変防止剤、紫外線吸収剤、可視光吸収剤、着色剤、可塑剤、安定剤、充填剤などのいわゆる添加剤を本発明の効果に悪影響を与えない範囲で添加してもよい。
【００６８】
本発明の（Ａ）（メタ）アクリルポリマー、（Ｂ）重合性化合物、及び（Ｃ）重合開始剤からなる光学材料用樹脂組成物を重合、硬化してなる硬化フィルムの温度２５℃における波長８３０ｎｍでの屈折率は１．４００〜１．７００であることが好ましい。該屈折率が１．４００〜１．７００であると、通常の光学樹脂との屈折率が大きく異ならないため、光学材料としての汎用性が損なわれることがない。以上の観点から、屈折率は１．４２５〜１．６７５以下であることがさらに好ましく、１．４５０〜１．６５０であることが特に好ましい。
【００６９】
また、本発明の（Ａ）（メタ）アクリルポリマー、（Ｂ）重合性化合物、及び（Ｃ）重合開始剤からなる光学材料用樹脂組成物を重合、硬化してなる厚み５０μｍの硬化フィルムの波長４００ｎｍでの透過率は８０％以上であることが好ましい。該透過率が８０％以上であると、光の透過量が十分である。以上の観点から、該透過率は８５％以上であることがさらに好ましい。なお、透過率の上限については特に制限されない。
【００７０】
本発明の光学材料用樹脂組成物は、好適な有機溶剤を用いて希釈してもよい。ここで用いる有機溶剤として、該樹脂組成物を溶解しえるものであれば特に制限はなく、前述の（Ａ）成分の（メタ）アクリルポリマーを溶解し得る反応溶媒として用いる有機溶剤と同様のものを用いることができる。
これらの有機溶剤は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。
また、固形分濃度は、通常１０〜８０質量％であることが好ましい。
【００７１】
光学材料用樹脂組成物を調合する際は、撹拌により混合することが好ましい。撹拌方法には特に制限はないが、撹拌効率の観点からプロペラを用いた撹拌が好ましい。撹拌する際のプロペラの回転速度には特に制限はないが、１０〜１，０００ｒｐｍであることが好ましい。１０ｒｐｍ以上であると、各成分が十分に混合され、１，０００ｒｐｍ以下であると、プロペラの回転による気泡の巻き込みが少なくなる。以上の観点から、プロペラの回転速度は５０〜８００ｒｐｍであることがさらに好ましく、１００〜５００ｒｐｍであることが特に好ましい。
また、撹拌時間には特に制限はないが、１〜２４時間であることが好ましい。撹拌時間が１時間以上であると、各成分が十分に混合され、２４時間以下であると、調合時間を短縮することができ、生産性が向上する。
【００７２】
調合した光学材料用樹脂組成物は、孔径５０μｍ以下のフィルタを用いて濾過するのが好ましい。孔径５０μｍ以下のフィルタを用いることで、大きな異物などが除去されて塗布時にはじきなどを生じることがなく、また、光の散乱が抑制されて透明性が損なわれることがない。以上の観点から、孔径３０μｍ以下のフィルタを用いて濾過するのがさらに好ましく、孔径１０μｍ以下のフィルタを用いて濾過するのが特に好ましい。
【００７３】
調合した光学材料用樹脂組成物は、減圧下で脱泡することが好ましい。脱泡方法には特に制限はなく、例えば、真空ポンプとベルジャー、真空装置付き脱泡装置を用いる方法が挙げられる。減圧時の圧力には特に制限はないが、樹脂組成物に含まれる低沸点成分が沸騰しない圧力が好ましい。また、減圧脱泡時間には特に制限はないが、３〜６０分であることが好ましい。３分以上であると、樹脂組成物内に溶解した気泡を取り除くことができ、６０分以下であると、樹脂組成物に含まれる脱泡時間を短縮することができ、生産性が向上する。
【００７４】
本発明の光学材料用樹脂組成物は、透明性及び耐熱性に優れており、光導波路形成用樹脂組成物として好適である。
【００７５】
以下、本発明の光学材料用樹脂フィルムについて説明する。
本発明の光学材料用樹脂フィルムは、前記光学材料用樹脂組成物を用いてなり、前記（Ａ）〜（Ｃ）成分を含有する光学材料用樹脂組成物を好適な支持フィルムに塗布することにより容易に製造することができる。また、前記光学材料用樹脂組成物が前記有機溶剤で希釈されている場合、樹脂組成物を支持フィルムに塗布し、有機溶剤を除去することにより製造することができる。
【００７６】
支持フィルムとしては、特に制限はなく、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル；ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン；ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルフィド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリスルホン、液晶ポリマーなどが挙げられる。これらの中で、柔軟性及び強靭性の観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリスルホンであることが好ましい。
なお、樹脂層との剥離性向上の観点から、シリコーン系化合物、含フッ素化合物などにより離型処理が施されたフィルムを必要に応じて用いてもよい。
【００７７】
支持フィルムの厚みは、目的とする柔軟性により適宜変えてよいが、３〜２５０μｍであることが好ましい。３μｍ以上であると、フィルム強度が十分であり、２５０μｍ以下であると、十分な柔軟性が得られる。以上の観点から、支持フィルムの厚みは、５〜２００μｍであることがさらに好ましく、７〜１５０μｍであることが特に好ましい。
【００７８】
支持フィルム上に光学材料用樹脂組成物を塗布して製造した光学材料用樹脂フィルムは、必要に応じて保護フィルムを樹脂層上に貼り付け、支持フィルム、樹脂層、及び保護フィルムからなる３層構造としてもよい。
【００７９】
保護フィルムとしては、特に制限はなく、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル；ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィンなどが挙げられる。これらの中で、柔軟性及び強靭性の観点から、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル；ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィンであることが好ましい。なお、樹脂層との剥離性向上の観点から、シリコーン系化合物、含フッ素化合物などにより離型処理が施されたフィルムを必要に応じて用いてもよい。
【００８０】
保護フィルムの厚みは、目的とする柔軟性により適宜変えてよいが、１０〜２５０μｍであることが好ましい。１０μｍ以上であると、フィルム強度が十分であり、２５０μｍ以下であると、十分な柔軟性が得られる。以上の観点から、保護フィルムの厚みは１５〜２００μｍであることがさらに好ましく、２０〜１５０μｍであることが特に好ましい。
【００８１】
本発明の光学材料用樹脂フィルムの樹脂層の厚みについても、特に限定されず、乾燥後の厚みで、通常は５〜５００μｍであることが好ましい。５μｍ以上であると、厚みが十分であるため樹脂フィルム又は樹脂フィルムの硬化物の強度が十分であり、一方、５００μｍ以下であると、乾燥が十分に行えるため樹脂フィルム中の残留溶剤量が増えることなく、樹脂フィルムの硬化物を加熱したときに発泡することがない。
【００８２】
このようにして得られた光学材料用樹脂フィルムは、例えばロール状に巻き取ることによって容易に保存することができる。また、ロール状のフィルムを好適なサイズに切り出して、シート状にして保存することもできる。
【００８３】
本発明の光学材料用樹脂フィルムは、透明性及び耐熱性に優れており、光導波路形成用樹脂フィルムとして好適である。
【００８４】
以下、本発明の光学材料用樹脂フィルムを最も好適な用途である光導波路形成用樹脂フィルムとして用いた場合の適用例について説明する。
光導波路形成用樹脂フィルムも、前記光学材料用樹脂フィルムと同様の方法によって製造することができる。
なお、コア部形成用樹脂フィルムの製造過程で用いる支持フィルムとしては、コアパターン形成に用いる露光用活性光線が透過するものであれば特に制限はなく、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル；ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン；ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルフィド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリスルホン、液晶ポリマーなどが挙げられる。
これらの中で、露光用活性光線の透過率、柔軟性、及び強靭性の観点から、上記ポリエステル；上記ポリオレフィンであることが好ましい。さらに、露光用活性光線の透過率向上及びコアパターンの側壁荒れ低減の観点から、高透明タイプな支持フィルムを用いることがさらに好ましい。このような高透明タイプな支持フィルムとして、東洋紡績株式会社製コスモシャインＡ１５１７、コスモシャインＡ４１００が挙げられる。
なお、樹脂層との剥離性向上の観点から、シリコーン系化合物、含フッ素化合物などにより離型処理が施されたフィルムを必要に応じて用いてもよい。
【００８５】
コア部形成用樹脂フィルムの支持フィルムの厚みは、５〜５０μｍであることが好ましい。５μｍ以上であると、支持体としての強度が十分であり、５０μｍ以下であると、コアパターン形成時にフォトマスクとコア部形成用樹脂層のギャップが大きくならず、パターン解像度が良好である。以上の観点から、支持フィルムの厚みは１０〜４０μｍであることがさらに好ましく、１５〜３０μｍであることが特に好ましい。
【００８６】
以下、本発明の光導波路について説明する。
図１の（ａ）に光導波路の断面図を示す。光導波路１は基材５上に形成され、高屈折率であるコア部形成用樹脂組成物からなるコア部２、並びに低屈折率であるクラッド層形成用樹脂組成物からなる下部クラッド層４及び上部クラッド層３で構成されている。
本発明の光導波路形成用組成物及び光導波路形成用樹脂フィルムは、光導波路１の下部クラッド層４、コア部２、及び上部クラッド層３のうち、少なくとも１つに用いることが好ましい。
【００８７】
光導波路形成用樹脂フィルムを用いることによって、各層の平坦性、クラッドとコアの層間密着性、及び光導波路コアパターン形成時の解像度（細線又は狭線間対応性）をより向上させることができ、平坦性に優れ、線幅や線間の小さい微細パターンの形成が可能となる。
【００８８】
光導波路１において、基材５としては、特に制限はなく、例えば、ガラスエポキシ樹脂基板、セラミック基板、ガラス基板、シリコン基板、プラスチック基板、金属基板、樹脂層付き基板、金属層付き基板、プラスチックフィルム、樹脂層付きプラスチックフィルム、金属層付きプラスチックフィルムなどが挙げられる。
【００８９】
光導波路１は、基材５として柔軟性及び強靭性のある基材、例えば前記光導波路形成用樹脂フィルムの支持フィルムを基材として用いた場合、フレキシブル光導波路としてもよく、このとき基材５を光導波路１の保護フィルムとして機能させてもよい。保護フィルム５を配置することにより、保護フィルム５の柔軟性及び強靭性を光導波路１に付与することが可能となる。さらに、光導波路１が汚れや傷を受けなくなるため、取り扱いやすさが向上する。
以上の観点から、図１の（ｂ）のように上部クラッド層３の外側に保護フィルムとして基材５が配置されていたり、図１の（ｃ）のように下部クラッド層４及び上部クラッド層３の両方の外側に保護フィルムとして基材５が配置されていたりしてもよい。
なお、光導波路１に柔軟性や強靭性が十分に備わっているならば、図１の（ｄ）のように、保護フィルム５が配置されていなくてもよい。
【００９０】
下部クラッド層４の厚みは、特に制限はないが、２〜２００μｍであることが好ましい。２μｍ以上であると、伝搬光をコア内部に閉じ込めるのが容易となり、２００μｍ以下であると、光導波路１全体の厚みが大きすぎることがない。なお、下部クラッド層４の厚みとは、コア部２と下部クラッド層４との境界から下部クラッド層４の下面までの値である。
下部クラッド層形成用樹脂フィルムの厚みについては特に制限はなく、硬化後の下部クラッド層４の厚みが上記の範囲となるように厚みが調整される。
【００９１】
コア部２の高さは、特に制限はないが、１０〜１５０μｍであることが好ましい。コア部の高さが１０μｍ以上であると、光導波路形成後の受発光素子又は光ファイバとの結合において位置合わせトレランスが小さくなることがなく、１５０μｍ以下であると、光導波路形成後の受発光素子又は光ファイバとの結合において、結合効率が小さくなることがない。以上の観点から、コア部の高さは、１５〜１３０μｍであることがさらに好ましく、２０〜１２０μｍであることが特に好ましい。なお、コア部形成用樹脂フィルムの厚みについては特に制限はないが、硬化後のコア部の高さが上記の範囲となるように厚みが調整される。
【００９２】
上部クラッド層３の厚みは、コア部２を埋め込むことができる範囲であれば、特に制限はないが、乾燥後の厚みで、１２〜５００μｍであることが好ましい。上部クラッド層３の厚みとして、最初に形成される下部クラッド層４の厚みと同一であっても異なってもよいが、コア部２を埋め込むという観点から、下部クラッド層４の厚みよりも厚くすることが好ましい。なお、上部クラッド層３の厚みとは、コア部２と下部クラッド層４との境界から上部クラッド層３の上面までの値である。
【００９３】
本発明の光導波路において、光伝搬損失は０．３ｄＢ／ｃｍ以下であることが好ましい。０．３ｄＢ／ｃｍ以下であると、光の損失が小さくなり、伝送信号の強度が十分である。以上の観点から、該光伝搬損失は０．２ｄＢ／ｃｍ以下であることがさらに好ましい。
【００９４】
本発明の光導波路において、温度８５℃、湿度８５％の高温高湿放置試験を１０００時間実施後の光伝搬損失が、０．３ｄＢ／ｃｍ以下であることが好ましい。０．３ｄＢ／ｃｍ以下であると、光の損失が小さくなり、伝送信号の強度が十分である。以上の観点から、該光伝搬損失は０．２ｄＢ／ｃｍ以下であることがさらに好ましい。
なお、温度８５℃、湿度８５％の高温高湿放置試験とはＪＰＣＡ規格（ＪＰＣＡ−ＰＥ０２−０５−０１Ｓ）に準じた条件で実施する高温高湿放置試験のことを意味する。
【００９５】
本発明の光導波路において、温度−５５℃と１２５℃の間の温度サイクル試験を１０００サイクル実施後の光伝搬損失が、０．３ｄＢ／ｃｍ以下であることが好ましい。０．３ｄＢ／ｃｍ以下であると、光の損失が小さくなり、伝送信号の強度が十分である。以上の観点から、該光伝搬損失は０．２ｄＢ／ｃｍ以下であることがさらに好ましい。
なお、温度−５５℃と１２５℃の間の温度サイクル試験とはＪＰＣＡ規格（ＪＰＣＡ−ＰＥ０２−０５−０１Ｓ）に準じた条件で実施する温度サイクル試験のことを意味する。
【００９６】
本発明の光導波路において、最高温度２６５℃のリフロー試験を３回実施後の光伝搬損失は、０．３ｄＢ／ｃｍ以下であることが好ましい。０．３ｄＢ／ｃｍ以下であると、光の損失が小さくなり、伝送信号の強度が十分であれば同時に、リフロープロセスによる部品実装が行えるために、適用範囲が広くなる。以上の観点から、該光伝搬損失は０．２ｄＢ／ｃｍ以下であることがさらに好ましい。
なお、最高温度２６５℃のリフロー試験とはＪＥＤＥＣ規格（ＪＥＤＥＣ ＪＥＳＤ２２Ａ１１３Ｅ）に準じた条件で実施する鉛フリーはんだリフロー試験のことを意味する。
【００９７】
本発明の光導波路は、透明性、信頼性、及び耐熱性に優れており、光モジュールの光伝送路として用いてもよい。光モジュールの形態として、例えば、光導波路の両端に光ファイバを接続した光ファイバ付き光導波路、光導波路の両端にコネクタを接続したコネクタ付き光導波路、光導波路とプリント配線板と複合化した光電気複合基板、光導波路と光信号と電気信号を相互に変換する光／電気変換素子を組み合わせた光電気変換モジュール、光導波路と波長分割フィルタを組み合わせた波長合分波器などが挙げられる。
なお、光電気複合基板において、複合化するプリント配線板として、特に制限はないが、例えば、ガラスエポキシ基板、セラミック基板などのリジッド基板、ポリイミド基板、ポリエチレンテレフタレート基板などのフレキシブル基板などが挙げられる。
【００９８】
以下、本発明の光導波路形成用樹脂組成物及び／又は光導波路形成用樹脂組成物を用いて光導波路１を形成するための製造方法について説明する。
本発明の光導波路１を製造する方法として、特に制限はなく、例えば、光導波路形成用樹脂組成物及び／又は光導波路形成用樹脂フィルムを用いて、基材上に光導波路形成用樹脂層を形成して製造する方法などが挙げられる。
【００９９】
本発明に用いられる基材としては、特に制限はなく、ガラスエポキシ樹脂基板、セラミック基板、ガラス基板、シリコン基板、プラスチック基板、金属基板、樹脂層付き基板、金属層付き基板、プラスチックフィルム、樹脂層付きプラスチックフィルム、金属層付きプラスチックフィルムなどが挙げられる。
【０１００】
光導波路形成用樹脂層を形成する方法として、特に制限はなく、例えば、光導波路形成用樹脂組成物を用いて、スピンコート法、ディップコート法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、カーテンコート法、グラビアコート法、スクリーンコート法、インクジェットコート法などにより塗布する方法などが挙げられる。
光導波路形成用感光性組成物が、好適な有機溶剤で希釈されている場合、必要に応じて樹脂層を形成後に、乾燥する工程を入れてもよい。乾燥方法として、例えば、加熱乾燥、減圧乾燥などが挙げられる。また、必要に応じてこれらを併用してもよい。
【０１０１】
光導波路形成用樹脂層を形成するその他の方法として、光導波路形成用樹脂組成物を用いた光導波路形成用樹脂フィルムを用いて、積層法により形成する方法が挙げられる。
これらの中で、平坦性に優れ、線幅や線間の小さい微細パターンを有する光導波路が形成能という観点から、光導波路形成用樹脂フィルムを用いて積層法により製造する方法が好ましい。
【０１０２】
以下、光導波路形成用樹脂フィルムを下部クラッド層、コア部、及び上部クラッド層に用いて光導波路１を形成するための製造方法について説明するが、本発明はこれに何ら制限されるものではない。
まず、第１の工程として下部クラッド層形成用樹脂フィルムを基材５上に積層する。第１の工程における積層方法として、特に制限はないが、例えば、ロールラミネータ又は平板型ラミネータを用いて加熱しながら圧着することにより積層する方法などが挙げられる。なお、本発明における平板型ラミネータとは、積層材料を一対の平板の間に挟み、平板を加圧することにより圧着させるラミネータのことを指し、例えば、真空加圧式ラミネータを好適に用いることができる。ここでの加熱温度は、２０〜１３０℃であることが好ましく、圧着圧力は、０．１〜１．０ＭＰａであることが好ましいが、これらの条件には特に制限はない。下部クラッド層形成用樹脂フィルムに保護フィルムが存在する場合、保護フィルムを除去した後に積層する。
【０１０３】
真空加圧式ラミネータを用いて積層する場合、ロールラミネータを用いて、あらかじめ下部クラッド層形成用樹脂フィルムを基材５上に仮貼りしておいてもよい。ここで、密着性及び追従性向上の観点から、圧着しながら仮貼りすることが好ましく、圧着する際、ヒートロールを有するラミネータを用いて加熱しながら行っても良い。ラミネート温度は、２０〜１３０℃であることが好ましい。２０℃以上であれば下部クラッド層形成用樹脂フィルムと基材５との密着性が向上し、１３０℃以下であれば樹脂層がロールラミネート時に流動しすぎることがなく、必要とする膜厚が得られる。以上の観点から、４０〜１００℃であることがさらに好ましい。圧力は０．２〜０．９ＭＰａであることが好ましく、ラミネート速度は０．１〜３ｍ／ｍｉｎであることが好ましいが、これらの条件には特に制限はない。
【０１０４】
基材５上に積層された下部クラッド層形成用樹脂層を光及び／又は熱により硬化し、下部クラッド層４を形成する。なお、下部クラッド層形成用樹脂フィルムの支持フィルムの除去は、硬化前及び硬化後のどちらで行ってもよい。
下部クラッド層形成用樹脂層を光により硬化する際の活性光線の照射量は、０．１〜５Ｊ／ｃｍ2とすることが好ましいが、この条件には特に制限はない。また、活性光線が基材を透過する場合、効率的に硬化させるために、両面から同時に活性光線を照射可能な両面露光機を使用することができる。また、加熱をしながら活性光線を照射してもよい。なお、光硬化後の処理として、必要に応じて５０〜２００℃の加熱処理を行ってもよい。
下部クラッド層形成用樹脂層を熱により硬化する際の加熱温度は、５０〜２００℃とすることが好ましいが、この条件には特に制限はない。
【０１０５】
下部クラッド層形成用樹脂フィルムの支持フィルムを、光導波路１の保護フィルム５として機能させる場合、下部クラッド層形成用樹脂フィルムを積層することなく、光及び／又は熱により前記と同様な条件で硬化し、下部クラッド層４を形成してもよい。
なお、下部クラッド層形成用樹脂フィルムの保護フィルムは、硬化前に除去しても、硬化後に除去してもよい。
【０１０６】
第２の工程として、第１の工程と同様な方法で、下部クラッド層４上にコア部形成用樹脂フィルムを積層する。ここで、コア部形成用樹脂層は下部クラッド層形成用樹脂層より高屈折率であるように設計され、活性光線によりコアパターンを形成し得る感光性樹脂組成物からなることが好ましい。
【０１０７】
第３の工程として、コア部２（コアパターン）を露光する。コア部２を露光する方法として、特に制限はないが、例えば、アートワークと呼ばれるネガマスクパターンを通して活性光線を画像状に照射する方法、レーザ直接描画を用いてフォトマスクを通さずに直接活性光線を画像上に照射する方法などが挙げられる。
活性光線の光源として、例えば、超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、水銀蒸気アークランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、カーボンアークランプなどの紫外線を有効に放射する光源が挙げられる。また、他にも写真用フラッド電球、太陽ランプなどの可視光線を有効に放射する光源が挙げられる。
【０１０８】
コア部２を露光する際の活性光線の照射量は、０．０１〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましい。０．０１Ｊ／ｃｍ2以上であると、硬化反応が十分に進行し、現像によりコア部２が流失することがない。一方、１０Ｊ／ｃｍ2以下であると、露光量過多によりコア部２が太ることがなく、微細なパターンが形成でき好適である。以上の観点から、活性光線の照射量は、０．０３〜５Ｊ／ｃｍ2であることがさらに好ましく、０．０５〜３Ｊ／ｃｍ2であることが特に好ましい。
コア部２の露光は、コア部形成用樹脂フィルムの支持フィルムを介して行っても、支持フィルムを除去してから行ってもよい。
【０１０９】
また、露光後に、コア部２の解像度及び密着性向上の観点から、必要に応じて露光後加熱を行ってもよい。紫外線照射から露光後加熱までの時間は、１０分以内であることが好ましいが、この条件には特に制限はない。露光後加熱温度は４０〜１６０℃であることが好ましく、時間は３０秒〜１０分であることが好ましいが、これらの条件には特に制限はない。
【０１１０】
第４の工程として、コア部形成用樹脂フィルムの支持フィルムを介して露光した場合、これを除去し、コア部形成用樹脂層の組成に適した現像液を用いて現像する。
現像方法として、特に制限はないが、例えば、スプレー法、ディップ法、パドル法、スピン法、ブラッシング法、スクラッピング法などが挙げられる。また、必要に応じてこれらの現像方法を併用してもよい。
現像液として、特に制限はないが、例えば、有機溶剤、有機溶剤と水からなる準水系現像液などの有機溶剤系現像液；アルカリ性水溶液、アルカリ性水溶液と１種類以上の有機溶剤からなるアルカリ性準水系現像液などのアルカリ性現像液などが挙げられる。
また、現像温度は、コア部形成用樹脂層の現像性に合わせて調節される。
【０１１１】
有機溶剤としては、特に制限はなく、例えば、トルエン、キシレン、メシチレン、クメン、ｐ−シメンなどの芳香族炭化水素；ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ジブチルエーテルなどの鎖状エーテル；テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサンなどの環状エーテル；メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコールなどのアルコール；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンなどのケトン；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトンなどのエステル；エチレンカーボネート、プロピレンカーボネートなどの炭酸エステル；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテルなどの多価アルコールアルキルエーテル；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどの多価アルコールアルキルエーテルアセテート；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミドなどが挙げられる。
これらの有機溶剤は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。また、有機溶剤中には、表面活性剤、消泡剤などを混入させてもよい。
【０１１２】
準水系現像液として、１種類以上の有機溶剤と水からなるものであれば特に制限はない。
有機溶剤の濃度は、通常、２〜９０質量％であることが好ましい。また、準水系現像液中には、界面活性剤、消泡剤などを少量混入させてもよい。
【０１１３】
アルカリ性水溶液の塩基として、特に制限はないが、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物；炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩；炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムなどのアルカリ金属重炭酸塩；リン酸カリウム、リン酸ナトリウムなどのアルカリ金属リン酸塩；ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウムなどのアルカリ金属ピロリン酸塩；四ホウ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどのナトリウム塩；炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウムなどのアンモニウム塩；水酸化テトラメチルアンモニウム、トリエタノールアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、２−アミノ−２−ヒドロキシメチル−１，３−プロパンジオール、１，３−ジアミノプロパノール−２−モルホリンなどの有機塩基などが挙げられる。
これらの塩基は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。
現像に用いるアルカリ性水溶液のｐＨは９〜１４であることが好ましく、ｐＨ１０〜１３であることがさらに好ましい。また、アルカリ性水溶液中には、表面活性剤、消泡剤などを混入させてもよい。
【０１１４】
アルカリ性準水系現像液として、アルカリ性水溶液と１種類以上の前記有機溶剤からなるものであれば特に制限はない。アルカリ性準水系現像液のｐＨは、現像が十分にできる範囲でできるだけ小さくすることが好ましく、ｐＨ８〜１３であることが好ましく、ｐＨ９〜１２であることがさらに好ましい。
有機溶剤の濃度は、通常、２〜９０質量％であることが好ましい。また、アルカリ性準水系現像液中には、界面活性剤、消泡剤などを少量混入させてもよい。
【０１１５】
現像後の処理として、必要に応じて前記有機溶剤、前記有機溶剤と水からなる準水系洗浄液、又は水を用いて洗浄してもよい。
洗浄方法として、特に制限はないが、例えば、スプレー法、ディップ法、パドル法、スピン法、ブラッシング法、スクラッピング法などが挙げられる。また、必要に応じてこれらの洗浄方法を併用してもよい。
前記有機溶剤は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。準水系洗浄液において、有機溶剤の濃度は通常、２〜９０質量％とすることが好ましい。また、洗浄温度はコア部形成用樹脂層の現像性に合わせて調節される。
【０１１６】
現像又は洗浄後の処理として、コア部２の硬化性及び密着性向上の観点から、必要に応じて露光及び／又は加熱を行ってもよい。加熱温度は４０〜２００℃であることが好ましく、活性光線の照射量は、０．０１〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましいが、これらの条件には特に制限はない。
【０１１７】
第５の工程として、第１及び第２の工程と同様の方法で、下部クラッド層４及びコア部２上に上部クラッド層形成用樹脂フィルムを積層する。ここで、上部クラッド層形成用樹脂層は、コア部形成用樹脂層よりも低屈折率になるように設計されている。また、上部クラッド形成用樹脂層の厚みは、コア部２の高さより大きくすることが好ましい。
【０１１８】
次いで、第１の工程と同様な方法で上部クラッド層形成用樹脂層を光及び／又は熱により硬化し、上部クラッド層３を形成する。
上部クラッド層形成用樹脂層を光により硬化する際の活性光線の照射量は、０．１〜３０Ｊ／ｃｍ2とすることが好ましいが、この条件には特に制限はない。また、活性光線が基材を透過する場合、効率的に硬化させるために、両面から同時に活性光線を照射可能な両面露光機を使用することができる。また、必要に応じて加熱をしながら活性光線を照射してもよく、光硬化後の処理として加熱処理を行ってもよい。活性光線照射中及び／又は照射後の加熱温度は５０〜２００℃であることが好ましいが、これらの条件には特に制限はない。
上部クラッド層形成用樹脂層を熱により硬化する際の加熱温度は、５０〜２００℃とすることが好ましいが、この条件には特に制限はない。
なお、上部クラッド層形成用樹脂フィルムの支持フィルムの除去が必要な場合、硬化前に除去しても、硬化後に除去してもよい。
以上の工程で、光導波路１を作製することができる。
【実施例】
【０１１９】
以下、本発明の実施例をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら制限されるものではない。
【０１２０】
製造例１
［（メタ）アクリルポリマーＡ−１の作製］
撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下ろうと及び温度計を備えたフラスコに、メチルエチルケトン８３質量部を秤量し、窒素ガスを導入しながら撹拌を行った。液温を５５℃に上昇させ、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド２０質量部、ジシクロペンタニルメタクリレート４４質量部、メチルメタクリレート４２質量部、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート３２質量部、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）１質量部、及びメチルエチルケトン５６質量部の混合物を３時間かけて滴下後、５５℃で５時間撹拌し、さらに８０℃で２時間撹拌を続けて、室温まで冷却した。
続いて、液温を５０℃に上昇させ、メタクリル酸１８質量部、ジブチルスズジラウリレート０．０７質量部、及びメチルエチルケトン１８質量部の混合物を３０分かけて滴下後、５０℃で３時間撹拌を続けて、（メタ）アクリルポリマーＡ−１溶液（固形分５０質量％）を得た。
【０１２１】
［重量平均分子量の測定］
Ａ−１の重量平均分子量（標準ポリスチレン換算）をＧＰＣ（東ソー株式会社製ＳＤ−８０２２／ＤＰ−８０２０／ＲＩ−８０２０）を用いて測定した結果、６２，０００であった。なお、カラムは日立化成工業株式会社製Ｇｅｌｐａｃｋ ＧＬ−Ａ１５０−Ｓ／ＧＬ−Ａ１６０−Ｓを使用した。
【０１２２】
製造例２
［（メタ）アクリルポリマーＡ−２の作製］
撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下ろうと及び温度計を備えたフラスコに、メチルエチルケトン８３質量部を秤量し、窒素ガスを導入しながら撹拌を行った。液温を５５℃に上昇させ、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド２０質量部、ベンジルメタクリレート８２質量部、メチルメタクリレート１７質量部、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート１９質量部、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）１質量部、及びメチルエチルケトン５６質量部の混合物を３時間かけて滴下後、５５℃で５時間撹拌し、さらに８０℃で２時間撹拌を続けて、室温まで冷却した。
続いて、液温を５０℃に上昇させ、メタクリル酸１１質量部、ジブチルスズジラウリレート０．０７質量部、及びメチルエチルケトン１１質量部の混合物を３０分かけて滴下後、５０℃で３時間撹拌を続けて、（メタ）アクリルポリマーＡ−２溶液（固形分５０質量％）を得た。
製造例１と同様な方法で、重量平均分子量を測定した結果、５６，０００であった。
【０１２３】
製造例３
［（メタ）アクリルポリマーＡ−３の作製］
撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下ろうと及び温度計を備えたフラスコに、メチルエチルケトン８３質量部を秤量し、窒素ガスを導入しながら撹拌を行った。液温を５５℃に上昇させ、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド２０質量部、ベンジルメタクリレート８２質量部、メチルメタクリレート１７質量部、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート１９質量部、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）１質量部、及びメチルエチルケトン５６質量部の混合物を３時間かけて滴下後、５５℃で５時間撹拌し、さらに８０℃で２時間撹拌を続けて、室温まで冷却した。
続いて、液温を５０℃に上昇させ、メタクリル酸５質量部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート８質量部、ジブチルスズジラウリレート０．０７質量部、及びメチルエチルケトン１３質量部の混合物を３０分かけて滴下後、５０℃で３時間撹拌を続けて、（メタ）アクリルポリマーＡ−３溶液（固形分５０質量％）を得た。
製造例１と同様な方法で、重量平均分子量を測定した結果、５４，０００であった。
【０１２４】
製造例４
［（メタ）アクリルポリマーＡ−４の作製］
撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下ろうと及び温度計を備えたフラスコに、メチルエチルケトン８３質量部を秤量し、窒素ガスを導入しながら撹拌を行った。液温を５５℃に上昇させ、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド２０質量部、ジシクロペンタニルメタクリレート４４質量部、メチルメタクリレート４２質量部、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート３２質量部、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）１質量部、及びメチルエチルケトン５６質量部の混合物を３時間かけて滴下後、５５℃で５時間撹拌し、さらに８０℃で２時間撹拌を続けて、室温まで冷却した。
続いて、液温を５０℃に上昇させ、メタクリル酸９質量部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート１３質量部、ジブチルスズジラウリレート０．０７質量部、及びメチルエチルケトン２２質量部の混合物を３０分かけて滴下後、５０℃で３時間撹拌を続けて、（メタ）アクリルポリマーＡ−４溶液（固形分５０質量％）を得た。
製造例１と同様な方法で、重量平均分子量を測定した結果、６５，０００であった。
【０１２５】
製造例５
［（メタ）アクリルポリマーＡ−５の作製］
撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下ろうと及び温度計を備えたフラスコに、メチルエチルケトン８３質量部を秤量し、窒素ガスを導入しながら撹拌を行った。液温を５５℃に上昇させ、シクロヘキシルメタクリレート２０質量部、ベンジルメタクリレート８２質量部、メチルメタクリレート１７質量部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート１９質量部、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）１質量部、及びメチルエチルケトン５６質量部の混合物を３時間かけて滴下後、５５℃で５時間撹拌し、さらに８０℃で２時間撹拌を続けて、（メタ）アクリルポリマーＡ−５溶液（固形分５０質量％）を得た。
製造例１と同様な方法で、重量平均分子量を測定した結果、６１，０００であった。
【０１２６】
製造例６
［（メタ）アクリルポリマーＡ−６の作製］
撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下ろうと及び温度計を備えたフラスコに、メチルエチルケトン８３質量部を秤量し、窒素ガスを導入しながら撹拌を行った。液温を５５℃に上昇させ、シクロヘキシルメタクリレート２０質量部、ジシクロペンタニルメタクリレート４４質量部、メチルメタクリレート４２質量部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート３２質量部、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）１質量部、及びメチルエチルケトン５６質量部の混合物を３時間かけて滴下後、５５℃で５時間撹拌し、さらに８０℃で２時間撹拌を続けて、（メタ）アクリルポリマーＡ−６溶液（固形分５０質量％）を得た。
製造例１と同様な方法で、重量平均分子量を測定した結果、６７，０００であった。
【０１２７】
実施例１
［コア部形成用樹脂ワニスＣＯＶ−１の調合］
（Ａ）（メタ）アクリルポリマーとして、前記Ａ−１溶液（固形分５０質量％）１２０質量部（固形分６０質量部）、（Ｂ）重合性化合物として、エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート（新中村化学工業株式会社製Ａ−ＢＰＥ−６）２０質量部、ｐ−クミルフェノキシエチルアクリレート（新中村化学工業株式会社製Ａ−ＣＭＰ−１Ｅ）２０質量部及び（Ｃ）重合開始剤として、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製イルガキュア２９５９）１質量部、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製イルガキュア８１９）１質量部を広口のポリ瓶に秤量し、撹拌機を用いて、温度２５℃、回転数４００ｒｐｍの条件で、６時間撹拌して、コア部形成用樹脂ワニスを調合した。その後、孔径２μｍのポリフロンフィルタ（アドバンテック東洋株式会社製ＰＦ０２０）及び孔径０．５μｍのメンブレンフィルタ（アドバンテック東洋株式会社製Ｊ０５０Ａ）を用いて、温度２５℃、圧力０．４ＭＰａの条件で加圧濾過した。続いて、真空ポンプ及びベルジャーを用いて減圧度２００ｍｍＨｇの条件で１５分間減圧脱泡し、コア部形成用樹脂ワニスＣＯＶ−１を得た。
【０１２８】
［コア部形成用樹脂フィルムＣＯＦ−１の作製］
上記コア部形成用樹脂ワニスＣＯＶ−１を、ＰＥＴフィルム（東洋紡績株式会社製Ａ１５１７、厚み１６μｍ）の非処理面上に塗工機（株式会社ヒラノテクシード製マルチコーターＴＭ−ＭＣ）を用いて塗布し、８０℃で１０分及び１００℃で１０分乾燥し、次いで保護フィルムとして離型ＰＥＴフィルム（帝人デュポンフィルム株式会社製Ａ３１、厚み２５μｍ）を貼付け、コア部形成用樹脂フィルムＣＯＦ−１を得た。このとき樹脂層の厚みは、塗工機のギャップを調節することで任意に調整可能であるが、本実施例では硬化後の膜厚が、５０μｍとなるように調節した。
【０１２９】
［クラッド層形成用樹脂ワニスＣＬＶ−１の調合］
（Ａ）主鎖にマレイミド骨格を含む（メタ）アクリルポリマーとして、前記Ａ−１溶液（固形分５０質量％）１２０質量部（固形分６０質量部）、（Ｂ）重合性化合物として、エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート（新中村化学工業株式会社製Ａ−ＢＰＥ−６）２０質量部、エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート（新中村化学工業株式会社製Ａ−９３００）２０質量部、エトキシ化シクロヘキサンジメタノールジアクリレート（新中村化学工業株式会社製Ａ−ＣＨＤ−４Ｅ）２０質量部及び（Ｃ）重合開始剤として、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製イルガキュア２９５９）１質量部、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製イルガキュア８１９）１質量部を広口のポリ瓶に秤量し、撹拌機を用いて、温度２５℃、回転数４００ｒｐｍの条件で、６時間撹拌して、コア部形成用樹脂ワニスを調合した。その後、孔径２μｍのポリフロンフィルタ（アドバンテック東洋株式会社製ＰＦ０２０）及び孔径０．５μｍのメンブレンフィルタ（アドバンテック東洋株式会社製Ｊ０５０Ａ）を用いて、温度２５℃、圧力０．４ＭＰａの条件で加圧濾過した。続いて、真空ポンプ及びベルジャーを用いて減圧度２００ｍｍＨｇの条件で１５分間減圧脱泡し、クラッド層形成用樹脂ワニスＣＬＶ−１を得た。
【０１３０】
［クラッド層形成用樹脂フィルムＣＬＦ−１の作製］
上記クラッド層形成用樹脂ワニスＣＬＶ−１を、ＰＥＴフィルム（東洋紡績株式会社製Ａ４１００、厚み５０μｍ）の非処理面上に、コア層形成用樹脂フィルムと同様な方法で塗布乾燥し、クラッド層形成用樹脂フィルムＣＬＦ−１を得た。このとき樹脂層の厚みは、塗工機のギャップを調節することで任意に調整可能であるが、本実施例では硬化後の膜厚が、下部クラッド層形成用樹脂フィルムでは２５μｍ、上部クラッド形成用樹脂フィルムでは７５μｍ、並びに屈折率及び透過率測定用硬化フィルムでは５０μｍとなるように調節した。
【０１３１】
［屈折率及び透過率測定用硬化フィルムの作製］
前記コア部形成用樹脂フィルムＣＯＦ−１及びクラッド層形成用樹脂フィルムＣＬＦ−１に、紫外線露光機（大日本スクリーン株式会社製ＭＡＰ−１２００−Ｌ）を用い、紫外線（波長３６５ｎｍ）を２０００ｍＪ／ｃｍ2照射した。続いて、保護フィルム（Ａ３１）を除去し、１３０℃で１時間乾燥を行った後、支持フィルム（Ａ１５１７又はＡ４１００）を除去して厚み５０μｍの硬化フィルムを得た。
【０１３２】
［屈折率の測定］
得られた硬化フィルムの温度２５℃における波長８３０ｎｍでの屈折率をプリズムカプラ（ＳＡＩＲＯＮ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ社製、ＳＰＡ−４０００）を用いて測定した。
【０１３３】
［透過率の測定］
得られた硬化フィルムの温度２５℃における波長４００ｎｍでの透過率を分光光度計（株式会社日立製作所製Ｕ−３４１０ Ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）を用いて測定した。以下の基準で評価した。
○：８０％以上
×：８０％未満
【０１３４】
［光導波路の作製］
ロールラミネータ（日立化成テクノプラント株式会社製ＨＬＭ−１５００）を用い、保護フィルム（Ａ３１）を除去した下部クラッド層形成用樹脂フィルムＣＬＦ−１を、ガラスエポキシ樹脂基板（日立化成工業株式会社製Ｅ−６７９ＦＢ）上に、圧力０．４ＭＰａ、温度８０℃、速度０．４ｍ／ｍｉｎの条件で積層した。さらに、真空加圧式ラミネータ（株式会社名機製作所製ＭＶＬＰ−５００／６００）を用い、圧力０．４ＭＰａ、温度８０℃及び加圧時間３０秒の条件で圧着した。
次に、紫外線露光機（大日本スクリーン株式会社製ＭＡＰ−１２００−Ｌ）を用い、紫外線（波長３６５ｎｍ）を２０００ｍＪ／ｃｍ2照射後、支持フィルム（Ａ４１００）を除去することによって、下部クラッド層４を形成した。
【０１３５】
続いて、前記ロールラミネータを用い、保護フィルム（Ａ３１）を除去したコア部形成用樹脂フィルムＣＯＦ−１を、下部クラッド層４上に、圧力０．４ＭＰａ、温度８０℃、速度０．４ｍ／ｍｉｎの条件で積層した。さらに、上記真空加圧式ラミネータを用い、圧力０．４ＭＰａ、温度８０℃及び加圧時間３０秒の条件で圧着した。
次いで、幅５０μｍのネガ型フォトマスクを介し、上記紫外線露光機で紫外線（波長３６５ｎｍ）を５００ｍＪ／ｃｍ2照射し、次いで８０℃で５分間露光後加熱を行った。支持フィルム（Ａ１５１７）を除去し、現像液（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート／Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド＝８０／２０質量比）を用い、コア部２を現像した後、プロピレングリコールモノメチルエーテル、次いでイソプロパノールを用いて洗浄し、１００℃で１時間加熱乾燥した。
【０１３６】
次に、前記真空加圧式ラミネータを用い、保護フィルム（Ａ３１）を除去した上部クラッド層形成用樹脂フィルムＣＬＦ−１を、コア部２及び下部クラッド層４上に、圧力０．４ＭＰａ、温度８０℃及び加圧時間３０秒の条件で積層した。紫外線（波長３６５ｎｍ）を２０００ｍＪ／ｃｍ2照射し、支持フィルム（Ａ４１００）を除去した後、１３０℃で１時間加熱処理することによって、上部クラッド層３を形成し、図１（ａ）に示す光導波路１を得た。その後、ダイシングソー（株式会社ディスコ製ＤＡＤ−３４１）を用いて導波路長１０ｃｍの光導波路を切り出した。
【０１３７】
実施例２〜５及び比較例１
表１に示す配合比に従ってコア部形成用感光性樹脂ワニスＣＯＶ−２〜４を調合した。同様に、表２に示す配合比に従ってクラッド層形成用感光性樹脂ワニスＣＬＶ−２〜４を調合した。実施例１と同様な方法で、コア部形成用感光性樹脂フィルムＣＯＦ−２〜４及びクラッド層形成用感光性樹脂フィルムＣＬＦ−２〜４を作製した。これらの硬化フィルムの屈折率及び透過率を測定した結果を表１及び表２に示す。
続いて、これらの光導波路形成用樹脂フィルムを用いて、実施例１と同様な方法で、光導波路を作製した。光導波路の作製に用いたコア部形成用樹脂フィルム及びクラッド層形成用樹脂フィルムの組合せを表３に示す。
【０１３８】
【表１】
【０１３９】
＊１：製造例１で作製した（メタ）アクリルポリマー溶液
＊２：製造例２で作製した（メタ）アクリルポリマー溶液
＊３：製造例３で作製した（メタ）アクリルポリマー溶液
＊４：製造例５で作製した（メタ）アクリルポリマー溶液
＊５：エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート（新中村化学工業株式会社製）
＊６：ｐ−クミルフェノキシエチルアクリレート（新中村化学工業株式会社製）
＊７：１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）
＊８：ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）
＊９：波長８３０ｎｍ、２５℃、フィルム厚み５０μｍの条件で測定
＊１０：○…８０％以上、×…８０％未満、波長４００ｎｍ、２５℃、フィルム厚み５０μｍの条件で測定
【０１４０】
【表２】
【０１４１】
＊１：製造例１で作製した（メタ）アクリルポリマー溶液
＊１１：製造例４で作製した（メタ）アクリルポリマー溶液
＊１２：製造例６で作製した（メタ）アクリルポリマー溶液
＊１３：エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート（新中村化学工業株式会社製）
＊１４：エトキシ化シクロヘキサンジメタノールジアクリレート（新中村化学工業株式会社製）
＊１５：水添ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート（新中村化学工業株式会社製）
＊７：１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）
＊８：ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）
＊９：波長８３０ｎｍ、２５℃、フィルム厚み５０μｍの条件で測定
＊１０：○…８０％以上、×…８０％未満、波長４００ｎｍ、２５℃、フィルム厚み５０μｍの条件で測定
【０１４２】
【表３】
【０１４３】
［光伝搬損失の測定］
実施例１〜５及び比較例１で得られた光導波路（導波路長１０ｃｍ）の光伝搬損失を、光源に波長８５０ｎｍの光を中心波長とするＶＣＳＥＬ（ＥＸＦＯ社製ＦＬＳ−３００−０１−ＶＣＬ）、受光センサ（株式会社アドバンテスト製Ｑ８２２１４）、入射ファイバ（ＧＩ−５０／１２５マルチモードファイバ、ＮＡ＝０．２０）及び出射ファイバ（ＳＩ−１１４／１２５、ＮＡ＝０．２２）を用いて、カットバック法（測定導波路長１０、５、３、２ｃｍ）により測定し、以下の基準で評価した。。
○：０．３ｄＢ／ｃｍ以下
×：０．３ｄＢ／ｃｍより大きい
【０１４４】
［高温高湿放置試験］
実施例１〜５及び比較例１で得られた光導波路（導波路長１０ｃｍ）を、高温高湿試験機（エスペック株式会社製ＰＬ−２ＫＴ）を用いて、ＪＰＣＡ規格（ＪＰＣＡ−ＰＥ０２−０５−０１Ｓ）に準じた条件で温度８５℃、湿度８５％の高温高湿放置試験を１０００時間実施した。
高温高湿放置試験実施後の光導波路の光伝搬損失を、前記と同様の光源、受光素子、入射ファイバ及び出射ファイバを用いて測定し、以下の基準で評価した。。
○：０．３ｄＢ／ｃｍ以下
×：０．３ｄＢ／ｃｍより大きい
【０１４５】
［温度サイクル試験］
実施例１〜５及び比較例１で得られた光導波路（導波路長１０ｃｍ）を、温度サイクル試験機（楠本化成株式会社製ＥＴＡＣ ＷＩＮＴＥＣＨ ＮＴ１０１０）を用いて、ＪＰＣＡ規格（ＪＰＣＡ−ＰＥ０２−０５−０１Ｓ）に準じた条件で温度−５５℃と１２５℃の間の温度サイクル試験を１０００サイクル実施した。詳細な温度サイクル試験条件を表４に示す。
【０１４６】
【表４】
【０１４７】
温度サイクル試験実施後の光導波路の光伝搬損失を前記と同様の光源、受光素子、入射ファイバ及び出射ファイバを用いて測定し、以下の基準で評価した。
○：０．３ｄＢ／ｃｍ以下
×：０．３ｄＢ／ｃｍより大きい
【０１４８】
［リフロー試験］
実施例１〜５及び比較例１で得られた光導波路（導波路長１０ｃｍ）を、リフロー試験機（古河電気工業株式会社製サラマンダＸＮＡ−６４５ＰＣ）を用いて、ＩＰＣ／ＪＥＤＥＣ Ｊ−ＳＴＤ−０２０Ｂに準じた条件で最高温度２６５℃のリフロー試験を３回実施した。詳細なリフロー条件を表５、リフロー炉内の温度プロファイルを図２に示す。
【０１４９】
【表５】
【０１５０】
リフロー試験実施後の光導波路の光伝搬損失を前記と同様の光源、受光素子、入射ファイバ及び出射ファイバを用いて測定し、以下の基準で評価した。
○：０．３ｄＢ／ｃｍ以下
×：０．３ｄＢ／ｃｍより大きい
以上の光伝搬損失の測定結果を表６に示す。
【０１５１】
【表６】
【０１５２】
＊１６：○…０．３ｄＢ／ｃｍ以下、×…０．３ｄＢ／ｃｍより大きい
【０１５３】
表１、表２及び表６から、本発明の光学材料用樹脂組成物は、透明性及び耐熱性に優れており、これらを用いて製造した光導波路は透明性、信頼性、及び耐熱性に優れていることがわかる。一方、本発明に属さない光学材料用樹脂組成物を用いて製造した光導波路は、信頼性及び耐熱性に劣っていることがわかる。
【産業上の利用可能性】
【０１５４】
本発明の光学材料用樹脂組成物及び該光学材料用樹脂組成物を用いた光学材料用樹脂フィルムは、透明性及び耐熱性に極めて優れている。従って、これらの光学材料用樹脂組成物又は光学材料用樹脂フィルムを用いて製造した光導波路は透明性、信頼性、及び耐熱性に優れる。
【図面の簡単な説明】
【０１５５】
【図１】本発明の光導波路の形態を説明する断面図である。
【図２】本発明で実施したリフロー試験におけるリフロー炉内の温度プロファイルを示すグラフである。
【符号の説明】
【０１５６】
１ 光導波路
２ コア部
３ 上部クラッド層
４ 下部クラッド層
５ 基材
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）少なくとも下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有し、かつ、下記一般式（２）で表される側鎖にウレタン結合を介して結合させたエチレン性不飽和基を有する繰り返し単位及び／又は下記一般式（３）で表される側鎖にアミド結合を介して結合させたエチレン性不飽和基を有する繰り返し単位を含有する（メタ）アクリルポリマー、（Ｂ）重合性化合物、並びに（Ｃ）重合開始剤を含む光学材料用樹脂組成物。
【化１】
（式中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を示す。Ｒ2は炭素数１〜２０の有機基を示す。）
【化２】
（式中、Ｒ3及びＲ4はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜２０の有機基を示す。Ｘ1及びＸ2はそれぞれ独立に単結合又は炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。）
【化３】
（式中、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜２０の有機基を示す。Ｘ3及びＸ4はそれぞれ独立に単結合又は炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。）
【請求項２】
（Ａ）（メタ）アクリルポリマーが、さらに下記一般式（４）で表されるマレイミド骨格を有する繰り返し単位を含む請求項１に記載の光学材料用樹脂組成物。
【化４】
（式中、Ｒ7は水素原子又は炭素数１〜２０の有機基を示す。）
【請求項３】
（Ａ）（メタ）アクリルポリマーが、さらに下記一般式（５）で表される繰り返し単位を有する請求項１又は２に記載の光学材料用樹脂組成物。
【化５】
（式中、Ｒ8及びＲ9はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜２０の有機基を示す。Ｘ5は単結合又は炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。）
【請求項４】
（Ｂ）重合性化合物が、その分子中にエチレン性不飽和基を有する化合物を含む請求項１〜３のいずれかに記載の光学材料用樹脂組成物。
【請求項５】
（Ａ）（メタ）アクリルポリマーの配合量が（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量に対して１０〜８５質量％であり、（Ｂ）重合性化合物の配合量が（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量に対して１５〜９０質量％であり、（Ｃ）重合開始剤の配合量が（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部である請求項１〜４のいずれかに記載の光学材料用樹脂組成物。
【請求項６】
前記光学材料用樹脂組成物を重合、硬化してなる硬化フィルムの、温度２５℃における波長８３０ｎｍでの屈折率が、１．４００〜１．７００である請求項１〜５のいずれかに記載の光学材料用樹脂組成物。
【請求項７】
前記光学材料用樹脂組成物を重合、硬化してなる厚み５０μｍの硬化フィルムの、温度２５℃における波長４００ｎｍでの透過率が、８０％以上である請求項１〜６のいずれかに記載の光学材料用樹脂組成物。
【請求項８】
光導波路形成用である請求項１〜７のいずれかに記載の光学材料用樹脂組成物。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載の光学材料用樹脂組成物を用いた光学材料用樹脂フィルム。
【請求項１０】
下部クラッド層、コア部、及び上部クラッド層の少なくとも１つを請求項８に記載の光導波路形成用樹脂組成物を用いて形成した光導波路。
【請求項１１】
下部クラッド層、コア部、及び上部クラッド層の少なくとも１つを請求項９に記載の光学材料用樹脂フィルムを用いて形成した光導波路。
【請求項１２】
光伝搬損失が、０．３ｄＢ／ｃｍ以下である請求項１０又は１１に記載の光導波路。
【請求項１３】
温度８５℃、湿度８５％の高温高湿放置試験を１０００時間実施後の光伝搬損失が、０．３ｄＢ／ｃｍ以下である請求項１０〜１２のいずれかに記載の光導波路。
【請求項１４】
温度−５５℃と１２５℃の間の温度サイクル試験を１０００サイクル実施後の光伝搬損失が、０．３ｄＢ／ｃｍ以下である請求項１０〜１３のいずれかに記載の光導波路。
【請求項１５】
最高温度２６５℃のリフロー試験を３回実施後の光伝搬損失が、０．３ｄＢ／ｃｍ以下である請求項１０〜１４のいずれかに記載の光導波路。
【請求項１】
（Ａ）少なくとも下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有し、かつ、下記一般式（２）で表される側鎖にウレタン結合を介して結合させたエチレン性不飽和基を有する繰り返し単位及び／又は下記一般式（３）で表される側鎖にアミド結合を介して結合させたエチレン性不飽和基を有する繰り返し単位を含有する（メタ）アクリルポリマー、（Ｂ）重合性化合物、並びに（Ｃ）重合開始剤を含む光学材料用樹脂組成物。
【化１】
（式中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を示す。Ｒ2は炭素数１〜２０の有機基を示す。）
【化２】
（式中、Ｒ3及びＲ4はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜２０の有機基を示す。Ｘ1及びＸ2はそれぞれ独立に単結合又は炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。）
【化３】
（式中、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜２０の有機基を示す。Ｘ3及びＸ4はそれぞれ独立に単結合又は炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。）
【請求項２】
（Ａ）（メタ）アクリルポリマーが、さらに下記一般式（４）で表されるマレイミド骨格を有する繰り返し単位を含む請求項１に記載の光学材料用樹脂組成物。
【化４】
（式中、Ｒ7は水素原子又は炭素数１〜２０の有機基を示す。）
【請求項３】
（Ａ）（メタ）アクリルポリマーが、さらに下記一般式（５）で表される繰り返し単位を有する請求項１又は２に記載の光学材料用樹脂組成物。
【化５】
（式中、Ｒ8及びＲ9はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜２０の有機基を示す。Ｘ5は単結合又は炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。）
【請求項４】
（Ｂ）重合性化合物が、その分子中にエチレン性不飽和基を有する化合物を含む請求項１〜３のいずれかに記載の光学材料用樹脂組成物。
【請求項５】
（Ａ）（メタ）アクリルポリマーの配合量が（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量に対して１０〜８５質量％であり、（Ｂ）重合性化合物の配合量が（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量に対して１５〜９０質量％であり、（Ｃ）重合開始剤の配合量が（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部である請求項１〜４のいずれかに記載の光学材料用樹脂組成物。
【請求項６】
前記光学材料用樹脂組成物を重合、硬化してなる硬化フィルムの、温度２５℃における波長８３０ｎｍでの屈折率が、１．４００〜１．７００である請求項１〜５のいずれかに記載の光学材料用樹脂組成物。
【請求項７】
前記光学材料用樹脂組成物を重合、硬化してなる厚み５０μｍの硬化フィルムの、温度２５℃における波長４００ｎｍでの透過率が、８０％以上である請求項１〜６のいずれかに記載の光学材料用樹脂組成物。
【請求項８】
光導波路形成用である請求項１〜７のいずれかに記載の光学材料用樹脂組成物。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載の光学材料用樹脂組成物を用いた光学材料用樹脂フィルム。
【請求項１０】
下部クラッド層、コア部、及び上部クラッド層の少なくとも１つを請求項８に記載の光導波路形成用樹脂組成物を用いて形成した光導波路。
【請求項１１】
下部クラッド層、コア部、及び上部クラッド層の少なくとも１つを請求項９に記載の光学材料用樹脂フィルムを用いて形成した光導波路。
【請求項１２】
光伝搬損失が、０．３ｄＢ／ｃｍ以下である請求項１０又は１１に記載の光導波路。
【請求項１３】
温度８５℃、湿度８５％の高温高湿放置試験を１０００時間実施後の光伝搬損失が、０．３ｄＢ／ｃｍ以下である請求項１０〜１２のいずれかに記載の光導波路。
【請求項１４】
温度−５５℃と１２５℃の間の温度サイクル試験を１０００サイクル実施後の光伝搬損失が、０．３ｄＢ／ｃｍ以下である請求項１０〜１３のいずれかに記載の光導波路。
【請求項１５】
最高温度２６５℃のリフロー試験を３回実施後の光伝搬損失が、０．３ｄＢ／ｃｍ以下である請求項１０〜１４のいずれかに記載の光導波路。
【図１】
【図２】
【図２】
【公開番号】特開２００９−１７５２４４（Ｐ２００９−１７５２４４Ａ）
【公開日】平成２１年８月６日（２００９．８．６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−１１４８２（Ｐ２００８−１１４８２）
【出願日】平成２０年１月２２日（２００８．１．２２）
【出願人】（０００００４４５５）日立化成工業株式会社 (4,649)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年８月６日（２００９．８．６）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年１月２２日（２００８．１．２２）
【出願人】（０００００４４５５）日立化成工業株式会社 (4,649)
【Ｆターム（参考）】
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