医薬組成物
【課題】 糖尿病などの予防・治療に有用な、医薬組成物を提供する。
【解決手段】 下式の化合物、またはその薬理的に許容しうる塩を含有する医薬組成物。
（式中、環Ａ及び環Ｂは、置換されていてもよい、単環不飽和ヘテロ環、二環縮合不飽和ヘテロ環、またはベンゼン環、Ｘは炭素または窒素、Ｙは−（ＣＨ２）ｎ−（ｎは１または２）、Ｚは5−チオ−β−D−グルコピラノシル、4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−グルコピラノシル、β−D−ガラクトピラノシル、4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−ガラクトピラノシル等であり、ただし、環Ａが置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環のとき、ＹはＸを含む環に結合し、Ｚは5−チオ−β−D−グルコピラノシル等であり、環Ａと環Ｂが置換されていてもよいベンゼンのとき、Ｚは5−チオ−β−D−グルコピラノシルである。）
【解決手段】 下式の化合物、またはその薬理的に許容しうる塩を含有する医薬組成物。
（式中、環Ａ及び環Ｂは、置換されていてもよい、単環不飽和ヘテロ環、二環縮合不飽和ヘテロ環、またはベンゼン環、Ｘは炭素または窒素、Ｙは−（ＣＨ２）ｎ−（ｎは１または２）、Ｚは5−チオ−β−D−グルコピラノシル、4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−グルコピラノシル、β−D−ガラクトピラノシル、4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−ガラクトピラノシル等であり、ただし、環Ａが置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環のとき、ＹはＸを含む環に結合し、Ｚは5−チオ−β−D−グルコピラノシル等であり、環Ａと環Ｂが置換されていてもよいベンゼンのとき、Ｚは5−チオ−β−D−グルコピラノシルである。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、医薬組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
糖尿病の治療においては食事療法および運動療法が必須であるが、これだけで充分なコントロールが得られないときは、必要に応じてインスリンまたは経口糖尿病薬が使用される。現在、糖尿病治療薬としては、ビグアナイド系化合物、スルホニルウレア系化合物、インスリン抵抗性改善薬およびα−グルコシダーゼ阻害薬が用いられている。しかしながら、ビグアナイド系化合物には乳酸アシドーシス、スルホニルウレア系化合物には重篤な低血糖、インスリン抵抗性改善薬には浮腫および心不全、α−グルコシダーゼ阻害薬には腹部膨満および下痢などの副作用があり、このような問題点のない新しい糖尿病治療薬の開発が望まれている。
【０００３】
近年、糖尿病の進展に、糖尿病の病態そのものである高血糖自身が関与する、というグルコース・トキシシティー・セオリー（Glucose toxicity theory）が提唱されている。慢性的な高血糖が、インスリン分泌を低下させると共に、インスリン感受性を低下させ、これがさらなる血糖値の上昇を引き起こすという悪循環を生むとするものである（非特許文献１、非特許文献２参照）。本理論によれば、高血糖を是正することは、様々な合併症を抑制するのみならず、前述の悪循環を断ち切ることで、糖尿病の効率的な治療にもつながることになる。
【０００４】
高血糖を是正するための一つの方法としては、血中の過剰な糖を尿中に直接排泄させるやり方が考えられる。例えば、腎臓の近位尿細管に存在するナトリウム依存性グルコース輸送担体（ＳＧＬＴ）を阻害することで、腎臓での糖再吸収を阻害し、糖の尿中排泄を促進して血糖を降下させることができる。事実、ＳＧＬＴ阻害作用を有するフロリジンを、糖尿病モデル動物に持続的に皮下投与して高血糖を是正し、血糖値を長期間正常に保つことによって、インスリン分泌およびインスリン抵抗性が改善することが確認されている（非特許文献３、非特許文献４、非特許文献５等）。
【０００５】
また、糖尿病モデル動物にＳＧＬＴ阻害薬を長期間処置することにより、該モデル動物の腎臓への悪影響や血漿中電解質の異常を全く引き起こすことなく、インスリン分泌応答およびインスリン感受性を改善し、かつ糖尿病性腎症や神経障害の発症・進展を抑制することが報告されている（非特許文献６、非特許文献７、非特許文献８等）。
【０００６】
以上のことから、ＳＧＬＴ阻害薬は糖尿病患者において血糖値を低下させることによって、インスリン分泌およびインスリン抵抗性を改善し、かつ糖尿病及び糖尿病合併症の発症進展を抑制することが期待される。
【０００７】
特許文献１には、下記構造を有するアリールＯ−またはＮ−チオグルコピラノシドが記載されている。
【０００８】
【化１】
【０００９】
（式中、ＹはＯまたはＮである）
特許文献２には、下記構造を有するヘテロシクリル フルオログリコシド誘導体が記載されている。
【００１０】
【化２】
【００１１】
特許文献３には、 下記構造を有するアリール フルオログリコシドが記載されている。
【００１２】
【化３】
【００１３】
これら化合物は、ＳＧＬＴ阻害作用を有することが記載されている。
【００１４】
さらに特許文献４には、下記構造を有するアリールＣ−グリコシドが記載されている。
【００１５】
【化４】
この化合物は炎症性疾患、自己免疫疾患などの治療に有用であることが記載されている。下記構造を有するアリールＣ−グリコシド化合物が記載されている。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
“ハロゲン”または“ハロ”とは、塩素、臭素、フッ素およびヨウ素を指称し、塩素またはフッ素が好ましい。
【００３１】
“アルキル”とは、炭素数１〜１２の直鎖または分枝鎖の飽和炭化水素鎖の１価基を指称する。炭素数１〜６の直鎖または分枝鎖のアルキル基が好ましく、炭素数１〜４の直鎖または分枝鎖のアルキル基がより好ましい。たとえばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｔ−ブチル、イソブチル、これらの各種分枝鎖異性体等が挙げられる。さらにアルキルは、必要により、後述の置換基で、独立に１〜４置換されてもよい。
【００３２】
“アルキレン”とは、炭素数１〜１２の直鎖または分枝鎖の飽和炭化水素鎖の２価基を指称する。炭素数１〜６の直鎖または分枝鎖のアルキレン基が好ましく、炭素数１〜４の直鎖または分枝鎖のアルキレン基がより好ましい。たとえばメチレン、エチレン、プロピレン、トリメチレン等が挙げられる。必要に応じて後述の置換基で独立に１〜４置換されてもよい。
【００３３】
これらアルキレンが、ベンゼン環上、単環不飽和へテロ環上、または二環縮合不飽和へテロ環上の異なる炭素原子に結合するときは、結合している炭素原子と共に５〜７員の縮合された炭化水素環を形成しても良く、そして当該炭化水素環はさらに後述の置換基で独立に１〜４置換されていてもよい。
【００３４】
“アルケニル”とは、炭素数２〜１２で１つ以上の二重結合を有する直鎖または分枝鎖の炭化水素鎖の１価基を指称し、炭素数２〜６の直鎖または分枝鎖のアルケニル基が好ましく、炭素数２〜４の直鎖または分枝鎖のアルケニル基がより好ましい。たとえばビニル、２−プロペニル、３−ブテニル、２−ブテニル、４−ペンテニル、３−ペンテニル、２−ヘキセニル、３−ヘキセニル、２−ヘプテニ基、３−ヘプテニル、４−ヘプテニル、３−オクテニル、３−ノネニル、４−デセニル、３−ウンデセニル、４−ドデセニル、４，８，１２−テトラデカトリエニル等が挙げられる。アルケニルは必要により、後述の置換基で、独立に１〜４置換されてもよい。
【００３５】
“アルケニレン”とは、炭素数２〜１２で１つ以上の二重結合を有する直鎖または分枝鎖の炭化水素鎖の２価基を指称し、炭素数２〜６の直鎖または分枝鎖のアルケニレン基が好ましく、炭素数２〜４の直鎖または分枝鎖のアルケニレン基がより好ましい。たとえばビニレン、プロペニレン、ブタンジエニレン等があげられる。アルケニレンは必要により、後述の置換基で、独立に１〜４置換されてもよい。
【００３６】
アルケニレンが、ベンゼン環上、単環不飽和へテロ環上、または二環縮合不飽和へテロ環上の異なる炭素原子に結合するときは、結合している炭素原子と共に５〜７員の縮合された炭化水素環を形成しても良く、そして当該炭化水素環はさらに後述の置換基で独立に１〜４置換されていてもよい。
【００３７】
“アルキニル”とは、炭素数２〜１２で１つ以上の三重結合を有する直鎖または分枝鎖の炭化水素鎖の１価基を指称し、炭素数２〜６の直鎖または分枝鎖のアルキニル基が好ましく、炭素数２〜４の直鎖または分枝鎖のアルキニル基がより好ましい。たとえば２−プロピニル、３−ブチニル、２−ブチニル、４−ペンチニル、３−ペンチニル、２−ヘキシニル、３−ヘキシニル、２−ヘプチニル、３−ヘプチニル、４−ヘプチニル、３−オクチニル、３−ノニニル、４−デシニル、３−ウンデシニル、４−ドデシニル等が挙げられる。アルキニルは必要により、後述の置換基で、独立に１〜４置換されてもよい。
【００３８】
“シクロアルキル”とは、炭素数３〜１２の単環もしくは二環式飽和炭化水素環の１価基を指称し、炭素数３〜７の単環式飽和炭化水素基が好ましい。具体的には、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロデシル等が挙げられる。これらは必要により、後述の置換基で、独立に１〜４置換されてもよい。
【００３９】
“シクロアルケニル”とは、炭素数４〜１２で１つ以上の二重結合を有する単環もしくは二環式不飽和炭化水素環の１価基を指称し、炭素数４〜７の単環式不飽和炭化水素基が好ましい。具体的には、シクロペンテニル、シクロペンタジエニル、シクロヘキセニル等が挙げられる。これらは必要により、後述の置換基で、１〜４置換されてもよい。
【００４０】
“シクロアルキニル”とは、炭素数６〜１２で１つ以上の三重結合を有する単環もしくは二環式不飽和炭化水素環の１価基を指称し、炭素数６〜８の単環式不飽和炭化水素基が好ましい。具体的には、シクロオクチニル、シクロデシニル等が挙げられる。これらは必要により、後述の置換基ので、独立に１〜４置換されてもよい。
【００４１】
“アリール基”とは、炭素数６〜１０の単環または二環式芳香族炭化水素の１価基を指称する。具体的には、たとえばフェニル、ナフチル（１−ナフチル、２−ナフチルなど）が挙げられる。これらは必要により、後述の置換基で、独立に１〜４置換されてもよい。
【００４２】
“単環不飽和へテロ環”とは、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群より独立して選択されたヘテロ原子を１〜４個有する３〜１２員の単環の不飽和炭化水素環を意味し、好ましくは窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群より独立して選択されたヘテロ原子を１〜４個有する４〜７員の不飽和炭化水素環を意味する。具体的にはピリジン、ピリミジン、ピラジン、フラン、チオフェン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、オキサゾール、イソキサゾール、４，５−ジヒドロオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、チアジアゾール、テトラゾール等が挙げられる。必要により、後述の置換基で、独立に１〜４置換されてもよい。
【００４３】
“二環縮合不飽和へテロ環”とは、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群より独立して選択されたヘテロ原子を少なくとも１つ有し、二重結合もしくは三重結合を少なくとも１つ有する７〜１２員の二環の縮合炭化水素環を意味し、好ましくは窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群より独立して選択されたヘテロ原子を１〜４個有する８〜１０員の縮合炭化水素環を意味する。たとえばベンゾチオフェン、インドール、テトラヒドロベンゾチオフェン、ベンゾフラン、イソキノリン、チエノチオフェン、チエノピリジン、キノリン、インドリン、イソインドリン、ベンゾチアゾール、ベンゾオキサゾール、インダゾール、ジヒドロイソキノリン等があげられる。
【００４４】
“ヘテロシクリル”とは、上記“単環不飽和ヘテロ環”または“二環縮合不飽和ヘテロ環”の１価基あるいは“単環不飽和ヘテロ環”または“二環縮合不飽和ヘテロ環”を水素で飽和して生じるヘテロ環の１価基を指称する。必要により、後述の置換基で、独立に１〜４置換されてもよい。
【００４５】
“アルカノイル”とは、上記“アルキル”がカルボニルに結合して生成した基を指称する。
【００４６】
“アルコキシ”とは、上記“アルキル”が酸素原子に結合して生成した基を指称する。
【００４７】
上述の各基における置換基としては、たとえば、ハロゲン（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、ニトロ、シアノ、オキソ、ヒドロキシル、メルカプト、カルボキシル、スルホ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、アリール、ヘテロシクリル、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、シクロアルキニルオキシ、アリールオキシ、ヘテロシクリルオキシ、アルカノイル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、シクロアルキルカルボニル、シクロアルケニルカルボニル、シクロアルキニルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロシクリルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、シクロアルキルオキシカルボニル、シクロアルケニルオキシカルボニル、シクロアルキニルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ヘテロシクリルオキシカルボニル、アルカノイルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、シクロアルキルカルボニルオキシ、シクロアルケニルカルボニルオキシ、シクロアルキニルカルボニルオキシ、アリールカルボニルオキシ、ヘテロシクリルカルボニルオキシ、アルキルチオ、アルケニルチオ、アルキニルチオ、シクロアルキルチオ、シクロアルケニルチオ、シクロアルキニルチオ、アリールチオ、ヘテロシクリルチオ、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、モノ−もしくはジ−アルカノイルアミノ、モノ−もしくはジ−アルコキシカルボニルアミノ、モノ−もしくはジ−アリールカルボニルアミノ、アルキルスルフィニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アリールスルフイニルアミノ、アリールスルホニルアミノ、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、モノ−もしくはジ−アリールカルバモイル、アルキルスルフイニル、アルケニルスルフイニル、アルキニルスルフイニル、シクロアルキルスルフイニル、シクロアルケニルスルフイニル、シクロアルキニルスルフイニル、アリールスルフイニル、ヘテロシクリルスルフィニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、シクロアルキルスルホニル、シクロアルケニルスルホニル、シクロアルキニルスルホニル、アリールスルホニル、ヘテロシクリルスルホニルなどが挙げられる。上記各基はさらに所望により、適宜これら置換基で置換されていてもよい。
【００４８】
さらに、ハロアルキル、ハロ低級アルキル、ハロアルコキシ、ハロ低級アルコキシ、ハロフェニル、ハロへテロシクリルなる用語は、それぞれ、１つ以上のハロゲンで置換された、アルキル、低級アルキル、アルコキシ、低級アルコキシ、フェニルまたはヘテロシクリルを指称する。好ましくは１〜７のハロゲンで置換されたアルキル、低級アルキル、アルコキシ、低級アルコキシ、フェニルまたはヘテロシクリルであり、より好ましくは１〜５のハロゲンで置換されたアルキル、低級アルキル、アルコキシ、低級アルコキシ、フェニルまたはヘテロシクリルである。さらに、ハロピリジル、ハロチエニルなる用語は、それぞれ、１つ以上のハロゲン（フッ素や塩素など）で置換された、ピリジル、またはチエニルを指称する。具体的には、CHF2、CF3、CHF2O、CF3O、CF3CH2、CF3CH2O、FCH2CH2O、ClCH2CH2O、FC6H4、ClC6H4、BrC6H4、IC6H4、FC5H3N、ClC5H3N、BrC5H3N、FC4H2S、ClC4H2S、およびBrC4H2Sが挙げられる。
【００４９】
ヒドロキシアルキル、ヒドロキシ低級アルキル、ヒドロキシアルコキシ、ヒドロキシ低級アルコキシ、ヒドロキシフェニルなる用語は、それぞれ、１つ以上のヒドロキシで置換されたアルキル、低級アルキル、アルコキシ、低級アルコキシ、またはフェニルを指称する。好ましくは１〜４のヒドロキシで置換されたアルキル、低級アルキル、アルコキシ、低級アルコキシ、またはフェニルであり、より好ましくは１〜２のヒドロキシで置換されたアルキル、低級アルキル、アルコキシ、低級アルコキシ、またはフェニルである。さらに、アルコキシアルキル、低級アルコキシアルキル、アルコキシ低級アルキル、低級アルコキシ低級アルキル、アルコキシアルコキシ、低級アルコキシアルコキシ、アルコキシ低級アルコキシ、低級アルコキシ低級アルコキシ、アルコキシフェニル、低級アルコキシフェニルなる用語は、それぞれ、１つ以上のアルコキシまたは低級アルコキシで置換されたアルキル、低級アルキル、アルコキシ、低級アルコキシ、またはフェニルを指称する。好ましくは１〜４のアルコキシで置換されたアルキル、低級アルキル、アルコキシ、低級アルコキシ、またはフェニルであり、より好ましくは１〜２のアルコキシで置換されたアルキル、低級アルキル、アルコキシ、低級アルコキシ、またはフェニルである。
【００５０】
同様に、“シアノフェニル”は１つ以上のシアノ基で置換されたフェニル基を指称する。
【００５１】
“アリールアルキル”および“アリールアルコキシ”とは、単独で使用されても、あるいは他に置換の一部で使用される場合においても、アリールを置換として有する、アルキルまたはアルコキシを指称する。
【００５２】
本明細書中の一般式の定義において「低級」なる用語は、特に断らない限り、炭素数が１乃至６の直鎖又は分枝鎖の炭素鎖を意味する。より好ましくは、炭素数１から４の直鎖又は分岐鎖の炭素鎖を意味する。
【００５３】
本発明の有効成分において、好ましい態様としては、環Ａが置換されていてもよい単環不飽和へテロ環であり、Ｚが
【００５４】
【化９】
【００５５】
である。
【００５６】
他の好ましい態様としては、置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環が、ハロゲン、ニトロ、シアノ、オキソ、ヒドロキシル、メルカプト、カルボキシル、スルホ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、アリール、ヘテロシクリル、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、シクロアルキニルオキシ、アリールオキシ、ヘテロシクリルオキシ、アルカノイル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、シクロアルキルカルボニル、シクロアルケニルカルボニル、シクロアルキニルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロシクリルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、シクロアルキルオキシカルボニル、シクロアルケニルオキシカルボニル、シクロアルキニルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ヘテロシクリルオキシカルボニル、アルカノイルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、シクロアルキルカルボニルオキシ、シクロアルケニルカルボニルオキシ、シクロアルキニルカルボニルオキシ、アリールカルボニルオキシ、ヘテロシクリルカルボニルオキシ、アルキルチオ、アルケニルチオ、アルキニルチオ、シクロアルキルチオ、シクロアルケニルチオ、シクロアルキニルチオ、アリールチオ、ヘテロシクリルチオ、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、モノ−もしくはジ−アルカノイルアミノ、モノ−もしくはジ−アルコキシカルボニルアミノ、モノ−もしくはジ−アリールカルボニルアミノ、アルキルスルフィニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アリールスルフイニルアミノ、アリールスルホニルアミノ、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、モノーもしくはジーアリールカルバモイル、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、アルキルスルフイニル、アルケニルスルフイニル、アルキニルスルフイニル、シクロアルキルスルフイニル、シクロアルケニルスルフイニル、シクロアルキニルスルフイニル、アリールスルフイニル、ヘテロシクリルスルフィニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、シクロアルキルスルホニル、シクロアルケニルスルホニル、シクロアルキニルスルホニル、アリールスルホニル、およびヘテロシクリルスルホニルなどから選ばれる１〜５の置換基（ここにおいて該置換基はさらに上記置換基から選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい）で置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環であり、
置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環が、ハロゲン、ニトロ、シアノ、オキソ、ヒドロキシル、メルカプト、カルボキシル、スルホ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、アリール、ヘテロシクリル、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、シクロアルキニルオキシ、アリールオキシ、ヘテロシクリルオキシ、アルカノイル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、シクロアルキルカルボニル、シクロアルケニルカルボニル、シクロアルキニルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロシクリルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、シクロアルキルオキシカルボニル、シクロアルケニルオキシカルボニル、シクロアルキニルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ヘテロシクリルオキシカルボニル、アルカノイルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、シクロアルキルカルボニルオキシ、シクロアルケニルカルボニルオキシ、シクロアルキニルカルボニルオキシ、アリールカルボニルオキシ、ヘテロシクリルカルボニルオキシ、アルキルチオ、アルケニルチオ、アルキニルチオ、シクロアルキルチオ、シクロアルケニルチオ、シクロアルキニルチオ、アリールチオ、ヘテロシクリルチオ、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、モノ−もしくはジ−アルカノイルアミノ、モノ−もしくはジ−アルコキシカルボニルアミノ、モノ−もしくはジ−アリールカルボニルアミノ、アルキルスルフィニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アリールスルフイニルアミノ、アリールスルホニルアミノ、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、モノ−もしくはジ−アリールカルバモイル、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、アルキルスルフイニル、アルケニルスルフイニル、アルキニルスルフイニル、シクロアルキルスルフイニル、シクロアルケニルスルフイニル、シクロアルキニルスルフイニル、アリールスルフイニル、ヘテロシクリルスルフィニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、シクロアルキルスルホニル、シクロアルケニルスルホニル、シクロアルキニルスルホニル、アリールスルホニル、およびヘテロシクリルスルホニルなどから選ばれる１〜５の置換基（ここにおいて該置換基はさらに上記置換基から選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい）で置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環であり、
置換されていてもよいベンゼン環が、ハロゲン、ニトロ、シアノ、ヒドロキシル、メルカプト、カルボキシル、スルホ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、アリール、ヘテロシクリル、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、シクロアルキニルオキシ、アリールオキシ、ヘテロシクリルオキシ、アルカノイル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、シクロアルキルカルボニル、シクロアルケニルカルボニル、シクロアルキニルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロシクリルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、シクロアルキルオキシカルボニル、シクロアルケニルオキシカルボニル、シクロアルキニルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ヘテロシクリルオキシカルボニル、アルカノイルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、シクロアルキルカルボニルオキシ、シクロアルケニルカルボニルオキシ、シクロアルキニルカルボニルオキシ、アリールカルボニルオキシ、ヘテロシクリルカルボニルオキシ、アルキルチオ、アルケニルチオ、アルキニルチオ、シクロアルキルチオ、シクロアルケニルチオ、シクロアルキニルチオ、アリールチオ、ヘテロシクリルチオ、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、モノ−もしくはジ−アルカノイルアミノ、モノ−もしくはジ−アルコキシカルボニルアミノ、モノ−もしくはジ−アリールカルボニルアミノ、アルキルスルフィニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アリールスルフイニルアミノ、アリールスルホニルアミノ、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、モノ−もしくはジ−アリールカルバモイル、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、アルキルスルフイニル、アルケニルスルフイニル、アルキニルスルフイニル、シクロアルキルスルフイニル、シクロアルケニルスルフイニル、シクロアルキニルスルフイニル、アリールスルフイニル、ヘテロシクリルスルフィニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、シクロアルキルスルホニル、シクロアルケニルスルホニル、シクロアルキニルスルホニル、アリールスルホニル、ヘテロシクリルスルホニル、アルキレン、アルキレンオキシ、アルキレンジオキシ、およびアルケニレンなどから選ばれる１〜５の置換基（ここにおいて該置換基はさらに上記置換基から選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい）で置換されていてもよいベンゼン環である。
【００５７】
“置換されていてもよいベンゼン環”には、アルキレンで置換されたベンゼン環、すなわち、アルキレンが結合している炭素原子と共に縮環した炭化水素環を形成しているベンゼン環、および、アルケニレンで置換されたベンゼン環、すなわち、結合している炭素原子と共に縮環した炭化水素環（例えばベンゼン環など）を形成しているベンゼン環も包含される。
【００５８】
置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環として好ましくは、ハロゲン、ヒドロキシル、アルコキシ、アルキル、ハロアルキル、ハロアルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アルコキシアルコキシ、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキルオキシ、アリール、アリールオキシ、アリールアルコキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、アルカノイル、アルキルスルホニルアミノ、アリールスルホニルアミノ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、ヘテロシクリルおよびオキソから選ばれた１〜３の置換基で置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環があげられる。
【００５９】
置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環として好ましくは、ハロゲン、ヒドロキシル、アルコキシ、アルキル、ハロアルキル、ハロアルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アルコキシアルコキシ、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキルオキシ、アリール、アリールオキシ、アリールアルコキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、アルカノイル、アルキルスルホニルアミノ、アリールスルホニルアミノ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、ヘテロシクリルおよびオキソから選ばれた１〜３の置換基で置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環があげられる。
【００６０】
また、置換されていてもよいベンゼン環として好ましくは、ハロゲン、ヒドロキシル、アルコキシ、アルキル、ハロアルキル、ハロアルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アルコキシアルコキシ、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキルオキシ、アリール、アリールオキシ、アリールアルコキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、アルカノイル、アルキルスルホニルアミノ、アリールスルホニルアミノ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、ヘテロシクリル、アルキレン、アルキレンオキシ、アルキレンジオキシおよびアルケニレンから選ばれた１〜３の置換基で置換されていてもよいベンゼン環があげられる。
【００６１】
他の好ましい態様においては、置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環が、ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリルおよびオキソから独立して選ばれる１−３の置換基で置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環であり、
置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環が、ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルカノイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリルおよびオキソから独立して選ばれる１−３の置換基で置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環であり、
置換されていてもよいベンゼン環が、ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、アルキレンおよびアルケニレンから独立して選ばれる１−３の置換基で置換されていてもよいベンゼン環であり、
ここにおいて、これらベンゼン環上、単環不飽和ヘテロ環上、または二環縮合不飽和ヘテロ環上の置換は、さらに、ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルボキシ、アルコキシカルボニル、フェニル、アルキレンオキシ、アルキレンジオキシ、オキソ、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイルから独立して選ばれる１−３の置換基で置換されていてもよい。
【００６２】
好ましい態様としては、置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環が、ハロゲン、シアノ、アルキル、アルコキシ、アルカノイル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、カルボキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、フェニル、ヘテロシクリル、およびオキソから独立して選ばれる１−３の置換基で置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環であり；
置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環が、ハロゲン、シアノ、アルキル、アルコキシ、アルカノイル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、カルボキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、フェニル、ヘテロシクリル、およびオキソから独立して選ばれる１−３の置換基で置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環であり；
置換されていてもよいベンゼン環が、ハロゲン、シアノ、アルキル、アルコキシ、アルカノイル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、カルボキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、フェニル、ヘテロシクリル、アルキレンおよびアルケニレンから独立して選ばれる１−３の置換基で置換されていてもよいベンゼン環であり；
ここにおいて、これらベンゼン環上、単環不飽和ヘテロ環上、または二環不飽和ヘテロ環上の置換は、さらに、ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルカノイル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルボキシ、ヒドロキシ、フェニル、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイルから独立して選ばれる１−３の置換基で置換されていてもよい。
【００６３】
他の好ましい態様としては、
（１）環Ａが以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい単環不飽和へテロ環であり：
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、及びオキソ；
環Ｂが、それぞれ以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい、単環不飽和へテロ環、二環縮合不飽和へテロ環、またはベンゼン環：
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、アルキレン、及びアルケニレン；
ここにおいて、上記環Ａおよび環Ｂの置換基はさらに以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい：
ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルカノイル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルボキシル、ヒドロキシ、フェニル、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル；
（２）環Ａが以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよいベンゼン環：
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、アルキレン及びアルケニレン；
環Ｂが、それぞれ以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい、単環不飽和へテロ環または二環不飽和へテロ環であり：
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、アルキレン及びオキソ；
ここにおいて、上記の環Ａおよび環Ｂの置換基は、以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい：
ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルカノイル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルボキシル、ヒドロキシ、フェニル、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル；あるいは、
（３）環Ａが以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい二環不飽和へテロ環であり：
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、及びオキソ；
環Ｂが選ばれる１−３の置換基で置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環、二環縮合不飽和ヘテロ環またはベンゼン環：
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、アルキレンおよびオキソ；
ここにおいて、これら環Ａおよび環Ｂの置換はさらにハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルカノイル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルボキシ、ヒドロキシ、フェニル、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイルおよびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイルから独立して選ばれる１−３の置換基で置換されていてもよい；
である。
【００６４】
他の好ましい態様としては、
（１）環Ａが、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはオキソで置換されていてもよい単環不飽和へテロ環であり、環Ｂが、（a）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選ばれる基で置換されていてもよいベンゼン環であるか、（b）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選ばれる基で置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環であるか、あるいは（c）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選ばれる基で置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環であるか；
（２）環Ａが、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、フェニル、または低級アルケニレンで置換されていてもよいベンゼン環であり、 環Ｂが、（a）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；フェニル低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルバモイルまたはモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルで置換されていてもよいヘテロシクリルから選ばれる基で置換されていてもよい単環不飽和へテロ環、または（ｂ）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；フェニル低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選ばれる基で置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環であるか；あるいは
（３）環Ａが、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはオキソで置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環であり、 環Ｂが、（a）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選ばれる基で置換されていてもよいベンゼン環、（ｂ）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選ばれる基で置換されていてもよい単環不飽和へテロ環、あるいは（ｃ）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選ばれる基で置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環である。
【００６５】
より好ましい態様においては、Ｙが−ＣＨ２−であって、Ｘを１位として３位の位置で環Ａと結合している。
【００６６】
他の好ましい態様としては、
（１）環Ａが以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよいベンゼン環：
ハロゲン；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；フェニル；および低級アルキレン；
環Ｂが、それぞれ以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい、単環不飽和へテロ環または二環縮合不飽和へテロ環であり：
ハロゲン；ハロゲン、低級アルコキシまたはフェニルで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルで置換されていてもよいフェニル；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルで置換されていてもよいヘテロシクリル；およびオキソ；
（２）環Ａが以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい単環不飽和へテロ環：
ハロゲン；低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；およびオキソ；
環Ｂが、以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよいベンゼン環であり：
ハロゲン；ハロゲン、低級アルコキシまたはフェニルで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいフェニル；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいヘテロシクリル；および低級アルキレン；
（３）環Ａが以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい単環不飽和へテロ環：
ハロゲン；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；およびオキソ；
環Ｂが、それぞれ以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい、単環不飽和へテロ環または二環縮合不飽和へテロ環であり：
ハロゲン；ハロゲン、低級アルコキシまたはフェニルで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいフェニル；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいヘテロシクリル；およびオキソ；
（４）環Ａが以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環：
ハロゲン；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；およびオキソ；
環Ｂが、それぞれ以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい、ベンゼン環または単環不飽和へテロ環：
ハロゲン；ハロゲン、低級アルコキシまたはフェニルで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいフェニル；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいヘテロシクリル；および低級アルキレン；或いは、
（５）環Ａが以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい単環不飽和へテロ環：
ハロゲン；低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；およびオキソ；
環Ｂが、それぞれ以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい、単環不飽和へテロ環または二環縮合不飽和へテロ環：
ハロゲン；ハロゲン、低級アルコキシまたはフェニルで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいフェニル；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいヘテロシクリル；およびオキソ；
である。
【００６７】
好ましい単環不飽和ヘテロ環としては、窒素、酸素および硫黄から独立に選ばれるヘテロ原子を１または２含む５〜６員の不飽和ヘテロ環が挙げられる。具体的には、フラン、チオフェン、オキサゾール、イソオキサゾール、トリアゾール、テトラゾール、ピラゾール、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、ジヒドロイソオキサゾール、ジヒドロピリジン、およびチアゾールなどが好ましい。好ましい二環縮合不飽和ヘテロ環としては、窒素、酸素および硫黄から独自に選ばれるヘテロ原子を１〜４個含む９〜１０員の二環不飽和ヘテロ環があげられる。具体的には、インドリン、イソインドリン、ベンゾチアゾール、ベンゾオキサゾール、インドール、インダゾール、キノリン、イソキノリン、ベンゾチオフェン、ベンゾフラン、チエノチオフェン、またはジヒドロイソキノリンが好ましい。
【００６８】
さらにまた、本発明の有効成分において、好ましい化合物としては、環Ａが、
【００６９】
【化１０】
【００７０】
（式中、Ｒ1a、Ｒ2a、Ｒ3a、Ｒ1b、Ｒ2b、およびＲ3bは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、ヒドロキシル、アルコキシ、アルキル、ハロアルキル、ハロアルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アルコキシアルコキシ、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキルオキシ、フェニル、フェニルアルコキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルカノイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、またはフェニルスルホニルを表す。）
であり、環Ｂが、
【００７１】
【化１１】
【００７２】
（式中、Ｒ4aおよびＲ5aは、それぞれ独立して、水素；ハロゲン；ヒドロキシ；アルコキシ；アルキル；ハロアルキル；ハロアルコキシ；ヒドロキシアルキル；アルコキシアルキル；フェニルアルキル；アルコキシアルコキシ；ヒドロキシアルコキシ；アルケニル；アルキニル；シクロアルキル；シクロアルケニル；シクロアルキルオキシ；フェニルオキシ；フェニルアルコキシ；シアノ；ニトロ；アミノ；モノ−もしくはジ−アルキルアミノ；アルカノイルアミノ；カルボキシル；アルコキシカルボニル；カルバモイル；モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル；アルカノイル；アルキルスルホニルアミノ；フェニルスルホニルアミノ；アルキルスルフィニル；アルキルスルホニル；フェニルスルホニル；ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイルから選ばれる１−３の基で置換されていてもよいフェニル；またはハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、カルバモイルおよびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイルから選ばれる１−３の基で置換されていてもよいヘテロシクリルであるか、あるいはＲ4aおよびＲ5aは、互いに末端で結合してアルキレンを形成し；
Ｒ4b、Ｒ5b、Ｒ4cおよびＲ5cは、それぞれ独立して、水素；ハロゲン；ヒドロキシル；アルコキシ；アルキル；ハロアルキル；ハロアルコキシ；ヒドロキシアルキル；アルコキシアルキル；フェニルアルキル；アルコキシアルコキシ；ヒドロキシアルコキシ；アルケニル；アルキニル；シクロアルキル；シクロアルケニル；シクロアルキルオキシ；フェニルオキシ；フェニルアルコキシ；シアノ；ニトロ；アミノ；モノ−もしくはジ−アルキルアミノ；アルカノイルアミノ；カルボキシル；アルコキシカルボニル；カルバモイル；モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル；アルカノイル；アルキルスルホニルアミノ；フェニルスルホニルアミノ；アルキルスルフィニル；アルキルスルホニル；フェニルスルホニル；ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、およびモノ−もしくはジ−アルキルアミノから選ばれる１−３の基で置換されていてもよいフェニル；またはハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシおよびハロアルコキシから選ばれる１−３の基で置換されていてもよいヘテロシクリルを表す。）
であり、Ｚが
【００７３】
【化１２】
【００７４】
である。
【００７５】
本発明の有効成分においてより好ましくは、Ｒ1a、Ｒ2a、Ｒ3a、Ｒ1b、Ｒ2b、およびＲ3bが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはフェニルであり；
Ｒ4aおよびＲ5aが、それぞれ独立して、水素；ハロゲン；低級アルキル；ハロ低級アルキル；フェニル低級アルキル；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、メチレンジオキシ、エチレンオキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイルおよびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選ばれる１−３の基で置換されていてもよいフェニル；または、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選ばれる１−３の基で置換されていてもよいヘテロシクリルであるか、またはＲ4aおよびＲ5aが互いに末端で結合して低級アルキレンを形成し；
Ｒ4b、Ｒ5b、Ｒ4cおよびＲ5cが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシまたはハロ低級アルコキシである。
【００７６】
本発明の有効成分においてさらに好ましくは、環Ａが、
環Ａが、
【００７７】
【化１３】
【００７８】
であり、Ｒ1aがハロゲン、低級アルキル、または低級アルコキシであり、Ｒ2aおよびＲ3aが水素であり；環Ｂが、
【００７９】
【化１４】
【００８０】
であり、
Ｒ4aが、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、メチレンジオキシ、エチレンオキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選ばれる１−３の基で置換されていてもよいフェニル；またはハロゲン、シアノ、低級アルキル、低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選ばれる１−３の基で置換されていてもよいヘテロシクリルであり、
Ｒ5aが水素であるか、
またはＲ4aおよびＲ5aが互いに末端で結合してアルキレンを形成している化合物である。
【００８１】
本発明の有効成分においてさらにより好ましい化合物としては、Ｒ1aがハロゲン、または低級アルキルであり、Ｒ4aが、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選ばれる１−３の基で置換されていてもよいフェニル；または、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、低級アルコキシ、カルバモイルおよびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選ばれる１−３の基で置換されていてもよいヘテロシクリルであり、Ｒ5aが、水素である。
【００８２】
より好ましくは、Ｒ4aが、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；または、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシまたはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいヘテロシクリルである。
【００８３】
さらに好ましくは、Ｒ4aが、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されたフェニル；または、ハロゲン、シアノ、低級アルキルまたは低級アルコキシで置換されたヘテロシクリルである。
【００８４】
さらにより好ましくは、ヘテロシクリルが、窒素、酸素および硫黄から選ばれるヘテロ原子を１〜２個含有する５〜６員のヘテロシクリルであるか、窒素、酸素および硫黄から選ばれるヘテロ原子を１〜４個含有する９〜１０員のヘテロシクリルである。具体例としては、チエニル、ピリジル、ピリミジル、ピラジニル、ピラゾリル、チアゾリル、キノリル、テトラゾリル、およびオキサゾリルが挙げられる。
【００８５】
とりわけ好ましくは、Ｒ4aが、ハロゲンまたはシアノで置換されたフェニル；または、ハロゲンで置換されたピリジルである。
【００８６】
本発明の他の好ましい態様としては、環Ａが
【００８７】
【化１５】
【００８８】
であり、Ｒ1aが、ハロゲン、低級アルキル、または低級アルコキシであり、Ｒ2aおよびＲ3aが水素であり；環Ｂが
【００８９】
【化１６】
【００９０】
であり、Ｒ4bおよびＲ5bがそれぞれ独立して、水素、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシである。
【００９１】
さらに他の好ましい態様としては、環Ａが、
【００９２】
【化１７】
【００９３】
であり、R6が水素、ハロゲンまたはアルキルであり、環Ｂが
【００９４】
【化１８】
【００９５】
であり、R7aとR7bは、互いに独立して、水素、ハロゲン、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキルチオ、ヒドロキシ、フェニル、ハロフェニル、シアノフェニル、ピリジル、ハロピリジル、チエニル、またはハロチエニルであるか、あるいはR7aとR7bは、結合している炭素原子と共に縮合ベンゼン環、縮合フラン環または縮合ジヒドロフラン環を形成し、ＹがCH2である。
【００９６】
より好ましい態様としては、R6がハロゲンであり、Ｚが
【００９７】
【化１９】
【００９８】
であり、R7aとR7bが独立して水素、ハロゲン、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキルチオ、フェニル、ハロフェニル、シアノフェニル、ピリジル、またはハロピリジルであるか、あるいはR7aとR7bが結合する炭素原子と共に縮合ベンゼン環、縮合フラン環、縮合ジヒドロフラン環を形成する。
【００９９】
さらに好ましい態様としては、R7aとR7bが独立して水素、ハロゲン、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、またはアルキルチオであるか、あるいはR7aとR7bが結合する炭素原子と共に縮合フラン環、または縮合ジヒドロフラン環を形成する。
【０１００】
さらに好ましい他の態様としては、R7aとR7bが独立して水素、ハロゲン、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、またはハロアルコキシであるか、あるいはR7aとR7bが結合する炭素原子と共に縮合フラン環、または縮合ジヒドロフラン環を形成する。
【０１０１】
他の好ましい態様としては、R6がフッ素、塩素または臭素であり、より好ましくはフッ素または塩素である。
【０１０２】
さらに、好ましい他の態様としては、R6がハロゲンであり、環Ｂが
【０１０３】
【化２０】
【０１０４】
であり、R7aがハロゲン、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、またはアルキルチオである。
【０１０５】
より好ましくは、R7aがハロゲン（塩素、臭素、ヨウ素など）、アルキル（メチル、エチルなど）、シクロアルキル（シクロプロピルなど）、ハロアルキル（ジフルオロメチル、トリフルオロメチルなど）、アルコキシ（メトキシ、エトキシなど）またはハロアルコキシ（クロロエトキシ、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシなど）である。さらに好ましくは、R7aがハロゲン、アルキル、シクロアルキル、またはアルコキシである。
【０１０６】
他の好ましい態様としては、環Ｂが
【０１０７】
【化２１】
【０１０８】
である。
【０１０９】
さらに好ましくは、R6がハロゲンであり、R7aがハロゲン（特にフッ素、塩素）またはアルキル（特にメチルまたはエチル）である。
【０１１０】
さらに他の好ましい態様としては、環Ｂが
【０１１１】
【化２２】
（式中、
【０１１２】
【化２３】
【０１１３】
は単結合または二重結合を示す）
であり、R6 がハロゲンである。
【０１１４】
他の好ましい態様としては、環Ａがインドール、クロロインドール、またはクロロベンゼン、環Ｂがエチルフェニル、エトキシフェニル、ベンゾ[b]チオフェン−2−イル、または5−フェニル−2−チエニル、Ｙが−CH2−、及びＺが5−チオ−β−Ｄ−グルコピラノシル、4−フルオロ−4−デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシル、4−フルオロ−4−デオキシ−β−Ｄ−ガラクトピラノシル、または6−フルオロ−6−デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシルである。
【０１１５】
本発明の医薬組成物において、好ましい有効成分としては、
3−（4−エチルフェニルメチル）−1−（5−チオ−β−D−グルコピラノシル）インドール、4−クロロ−3−（4−エチルフェニルメチル）−1−（5−チオ−β−D−グルコピラノシル）インドール、4−クロロ−3−（4−エチルフェニルメチル）−1−（4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−グルコピラノシル）インドール、4−クロロ−3−（4−エトキシフェニルメチル）−1−（5−チオ−β−D−グルコピラノシル）インドール、3−（ベンゾ[b]チオフェン−2−イルメチル）−4−クロロ−1−（4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−ガラクトピラノシル）ベンゼン、4−クロロ−3−（5−フェニル−2−チエニルメチル）−1−（6−フルオロ−6−デオキシ−β−D−グルコピラノシル）ベンゼン、または4−クロロ−3−（5−フェニル−2−チエニルメチル）−1−（4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−グルコピラノシル）ベンゼン、またはその薬理的に許容しうる塩である。
【０１１６】
本発明の有効成分（Ｉ）は、ナトリウム依存性グルコース輸送担体の阻害活性を有し、優れた血糖降下作用を示す。このため、本発明の医薬組成物は血糖降下剤として有用である。また本発明の医薬組成物は、糖尿病、糖尿病合併症（糖尿病性網膜症、糖尿病性神経障害、糖尿病性腎症など）、遅延創傷治癒、インスリン抵抗性、高血糖症、高インスリン血症、高脂肪酸血症、高グリセロール血症、高脂血症、肥満症、高トリグリセリド血症、Ｘ症候群、メタボリック症候群、アテローム硬化症、過血糖あるいは高血圧症などの予防または治療剤として好適に使用することができる。とりわけ、糖尿病（１型または２型糖尿病など）、糖尿病合併症（たとえば糖尿病性網膜症、糖尿病性神経障害、糖尿病性腎症）、または肥満症の予防または治療剤として、あるいは過血糖（特に食後の過血糖）の予防または治療剤として好適に使用することができる。
【０１１７】
本発明の有効成分（Ａ）は、遊離の形でもまたその薬理的に許容しうる塩の形でも本発明の目的に用いることができる。薬理的に許容しうる塩としては、たとえばリチウム、ナトリウムまたはカリウムなどのアルカリ金属塩；カルシウムまたはマグネシウムなどのアルカリ土類金属塩；並びに亜鉛またはアルミニウムとの塩；および有機塩基たとえばアンモニウム、コリン、ジエタノールアミン、リジン、エチレンジアミン、tert−ブチルアミン、tert−オクチルアミン、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン、Ｎ−メチルグルコサミン、トリエタノールアミンおよびデヒドロアビエチルアミンとの塩；塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硫酸、硝酸、リン酸などの無機酸との塩；あるいはギ酸、酢酸、プロピオン酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、フマール酸、マレイン酸、乳酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸などの有機酸との塩；またはアスパラギン酸、グルタミン酸などの酸性アミノ酸との塩等が挙げられる。
【０１１８】
また、有効成分（Ａ）の薬理的に許容しうる塩とは、その分子内塩、溶媒和物あるいは水和物等をいずれも含む。
【０１１９】
本発明の有効成分である化合物（Ａ）およびその薬理的に許容しうる塩は、経口的にも非経口的にも投与することができ、経口もしくは非経口投与に通常用いられる医薬担体を用いて、適当な製剤とすることができる。かかる医薬担体としては、例えば、結合剤（シロップ、アラビアゴム、ゼラチン、ソルビット、トラガント、ポリビニルピロリドン等）、賦形剤（乳糖、砂糖、コーンスターチ、リン酸カリウム、ソルビット、グリシン等）、潤滑剤（ステアリン酸マグネシウム、タルク、ポリエチレングリコール、シリカ等）、崩壊剤（バレイショデンプン等）および湿潤剤（ラウリル硫酸ナトリウム等）等をあげることができる。また、これら医薬製剤は、経口投与する場合には、錠剤、顆粒剤、カプセル剤、散剤の如き固形製剤であってもよく、溶液、懸濁液、乳液の如き液体製剤であってもよい。一方、非経口投与する場合には、例えば、注射用蒸留水、生理的食塩水、ブドウ糖水溶液等を用いて注射剤や点滴剤として、あるいは坐剤等とすることができる。
【０１２０】
本発明の有効成分（Ａ）、その薬理的に許容し得る塩の投与量は、投与方法、患者の年令、体重、状態或いは疾患の種類・程度によっても異なるが、通常、１日当り約０.１〜５０ｍｇ/ｋｇ、とりわけ約０.１〜３０ｍｇ/ｋｇ程度とするのが好ましい。
【０１２１】
本発明の有効成分（Ａ）は、ＳＧＬＴ阻害作用を有し、これにより尿中への糖の排泄を促進し、血糖降下作用を奏する。インスリン非依存型糖尿病モデル動物に、本発明の有効成分を４週間連続投与したところ、血糖値の改善が見られた。
【０１２２】
また、本発明の有効成分である化合物は、毒性が低いという特徴も有する。
【０１２３】
本発明の有効成分は、以下の方法により製造することができる。
製法Ｉ
【０１２４】
【化２４】
【０１２５】
（式中、OR8は保護されたヒドロキシであり、Phはフェニルであり、他の記号は前記と同一意味を有する。）
工程I−1：
式（I−1）で示される化合物は、式（Ｂ）で示される化合物とベンズアルデヒドジメチルアセタールを適当な溶媒（テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジクロロメタンなど）中、酸（塩酸、硫酸、ｐ−トシル酸、四フッ化ホウ酸など）の存在下に縮合することにより製造することができる。
工程I−2:
式（I−2）で示される化合物は、化合物（I−1）のヒドロキシを保護することにより製造することができる。ヒドロキシの保護基としては、慣用の保護基を用いることができ、例えばベンジル基、アセチル基、トリメチルシリル基などのアルキルシリル基が挙げられる。あるいは、ヒドロキシの保護基は隣接するヒドロキシとともにアセタールやシリルアセタールを形成していてもよい。ヒドロキシの保護は慣用の方法により実施することができる（"Protecting Groups in Organic Synthesis", John Wiley & Sons参照）。
工程I−3：
式（I−3）で示される化合物は、式（Ｉ−２）で示される化合物を適当な溶媒中（例えば、メタノール、エタノール、水など）、酸（例えば、塩酸、酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸など）で加水分解することにより製造することができる。
工程I−4:
式（I−4）で示される化合物は、式（I−3）で示される化合物のヒドロキシを、工程I−2と同様にして保護することにより製造することができる。
工程I−5:
式（I−5）で示される化合物は、式（I−4）で示される化合物を、適当な溶媒（ジクロロメタン、クロロホルム、テトラヒドロフランなど）中、フッ化剤（例えば、（ジエチルアミノ）スルファー トリフルオリド）で処理することにより、製造することができる。
工程I−6:
式（A−1）で示される化合物は、式（I−5）で示される化合物を脱保護に付すことにより製造することができる。
【０１２６】
脱保護は、除去される保護基の種類に応じ、還元、加水分解、酸処理、フッ化物処理などの常法により実施することができる。
【０１２７】
還元の場合には、例えば、適当な溶媒中（メタノール、エタノールなど）、水素雰囲気下、触媒（パラジウム−炭素、白金など）を用いて処理すればよい。
【０１２８】
加水分解の場合には、適当な溶媒中（例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、メタノール、エタノール、水など）、塩基（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドなど）で処理すればよい。
【０１２９】
酸処理の場合は、適当な溶媒中（例えば、メタノール、エタノールなど）、酸（例えば、塩酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸など）で処理すればよい。
【０１３０】
フッ化物処理の場合には、適当な溶媒中（メタノール、エタノール、アセトニトリル、テトラヒドロフランなど）、フッ化物（フッ化水素、フッ化水素−ピリジン、フッ化テトラブチルアンモニウム等）で処理すればよい。
製法II:
【０１３１】
【化２５】
【０１３２】
（式中、Trはトリチル（すなわちトリフェニルメチル）であり、他の記号は前記と同一意味を有する。）
工程II−1:
式（II−1）で示される化合物は、式（B）で示される化合物と塩化トリチルを、塩基（ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンなど）の存在下、適当な溶媒（ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、ジクロロメタンなど）中、冷却下から加熱下で反応させることにより製造することができる。
工程II−2:
式（II−2）で示される化合物は、式（II−1）で示される化合物のヒドロキシを保護することにより製造することができる。保護は工程I−2と同様にして実施することができる。
工程II−3:
式（II−3）で示される化合物は、式（II−2）で示される化合物を、適当な溶媒（テトラヒドロフラン、メタノール、エタノール、水など）中、酸（酢酸、ギ酸、塩酸など）で処理することにより、製造することができる。
工程II−4:
式（II−4）で示される化合物は、式（II−3）で示される化合物をフッ化剤で処理することにより製造することができる。この工程は工程I−5と同様にして実施することができる。
工程II−5:
式（A−2）で示される化合物は、式（II−4）で示される化合物を脱保護に付すことにより製造することができる。脱保護は、工程I−6と同様にして実施することができる。
製法III:
【０１３３】
【化２６】
【０１３４】
（式中、R9 は臭素またはヨウ素、他の記号は前記と同一意味を有する。）
工程III−1:
式（III−1）で示される化合物は、式（C）で示される化合物を、適当な溶媒（テトラヒドロフランなど）中、冷却下、アルキルリチウム（メチルリチウム、n−ブチルリチウム、t−ブチルリチウムなど）で処理した後、式（D）で示される化合物と反応させることにより製造することができる。
工程III−2:
式（III−2）で示される化合物は、式（III−1）で示される化合物を、三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯塩などのルイス酸またはトリフルオロ酢酸などの存在下、適当な溶媒中（例えば、アセトニトリル、ジクロロメタンなど）で、冷却下から室温でシラン化合物（例えば、トリエチルシラン、トリイソプロピルシランなどのトリアルキルシラン類）で処理することにより、製造することができる。
工程III−3:
式（A−3）で示される化合物は、式（III−2）で示される化合物を脱保護に付すことにより製造することができる。脱保護は工程I−6と同様にして実施することができる。
製法IV:
【０１３５】
【化２７】
【０１３６】
（式中、記号は前記と同一意味を有する。）
工程IV−1：
式（IV−1）で示される化合物は、式（Ｅ）で示される化合物と式（Ｆ）で示される化合物（例えば、2,3,4,6−テトラ−O−ベンジル−D−ガラクトピラノシル クロリド）を、適当な溶媒中（テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミドなど）、塩基（水素化ナトリウム、水酸化カリウムなど）の存在下、冷却下から加熱下に縮合させることにより製造することができる。
工程IV−2:
式（A−4）で示される化合物は、式（IV−1）で示される化合物を脱保護に付すことにより製造することができる。脱保護は工程I−6と同様にして実施することができる。
製法V:
【０１３７】
【化２８】
【０１３８】
（式中、記号は前記と同一意味を有する。）
工程V−1:
式（V−1）で示される化合物は、式（C）で示される化合物をアルキルリチウムで処理したのち、式（G）で示される化合物と反応させることにより製造することができる。この工程は工程III−1と同様にして製造することができる。
工程V−2:
式（V−2）で示される化合物は、式（V−1）で示される化合物を還元することにより製造することができる。還元は工程III−2と同様にして実施することができる。
工程V−3:
式（A−5）で示される化合物は、式（V−2）で示される化合物を脱保護に付すことにより製造することができる。脱保護は工程I−6と同様にして実施することができる。
製法VI:
【０１３９】
【化２９】
【０１４０】
（式中、記号は前記と同一意味を有する。）
工程VI−1:
式（VI−1）で示される化合物は、式（A−3）または（A−4）で示される化合物とベンズアルデヒドジメチルアセタールを縮合させることにより製造することができる。縮合は工程I−1と同様にして実施することができる。
工程VI−2:
式（VI−2）で示される化合物は、式（VI−1）で示される化合物のヒドロキシを保護することにより製造することができる。保護は工程I−2と同様にして実施することができる。
工程VI−3:
式（VI−3）で示される化合物は、式（VI−2）で示される化合物を酸で加水分解することにより製造することができる。加水分解は工程I−3と同様にして実施することができる。
工程VI−4:
式（VI−4）で示される化合物は、式（VI−3）で示される化合物のヒドロキシを保護することにより製造することができる。保護は工程I−2と同様にして実施することができる。
工程VI−5:
式（VI−5）で示される化合物は、式（VI−4）で示される化合物をフッ化剤で処理することにより製造することができる。この工程は工程I−5と同様にして実施することができる。
工程VI−6:
式（A−6）で示される化合物は、式（VI−5）で示される化合物を脱保護に付すことにより製造することができる。脱保護は工程I−6と同様にして実施することができる。
製法VII:
【０１４１】
【化３０】
【０１４２】
（式中、記号は前記と同一意味を有する。）
工程VII−1:
式（VII−1）で示される化合物は、式（C）で示される化合物をリチオ化し、リチオ化された化合物をCuIで処理した後、得られた化合物を式（H）で示される化合物と反応させることにより製造することができる。
【０１４３】
リチオ化は、適当な溶媒中（テトラヒドロフランなど）、冷却下に、アルキルリチウム（メチルリチウム、n−ブチルリチウム、t−ブチルリチウムなど）で処理することにより製造することができる。
【０１４４】
ＣｕＩによる処理は、適当な溶媒中（テトラヒドロフランなど）、冷却下、リチオ化された化合物とＣｕＩを反応させることにより実施することができる。
【０１４５】
得られた化合物と式（Ｈ）の化合物の反応は、適当な溶媒中（テトラヒドロフランなど）冷却下から室温で実施することができる。
工程VII−2:
式（VII−2）で示される化合物は、式（VII−1）で示される化合物を還元することにより製造することができる。還元は工程III−2と同様にして実施することができる。
工程VII−3:
式（A−7）で示される化合物は、式（VII−2）で示される化合物を脱保護に付すことにより製造することができる。脱保護は工程I−6と同様にして実施することができる。
製法VIII:
【０１４６】
【化３１】
【０１４７】
（式中、記号は前記と同一意味を有する。）
工程VIII−1:
式（VIII−1）で示される化合物は、式（E）で示される化合物と式（I）で示される化合物（Tetrahedron Lett., 2001, 42, 1197−1200参照）を縮合することにより製造することができる。縮合は工程IV−1と同様にして実施することができる。
工程VIII−2:
式（A−8）で示される化合物は、式(VIII-1)で示される化合物を脱保護に付すことにより製造することができる。脱保護は工程I−6と同様にして実施することができる。
【０１４８】
式（A）で示される化合物のうち、環Ａが
【０１４９】
【化３２】
【０１５０】
（ここでR6は前記と同一意味を有する）
であり、環Ｂが
【０１５１】
【化３３】
【０１５２】
（ここでR7aとR7bは前記と同一意味を有する。）
であり、ＹがCH2である化合物は、以下の方法により製造することができる。
製法IX:
【０１５３】
【化３４】
【０１５４】
（式中、Arは
【０１５５】
【化３５】
【０１５６】
であり、R6、R7、R7bおよびR8は前記と同一意味を有する。）
工程IX−1:
式（IX−1）で示される化合物は、式（J）で示される化合物と式（K）（すなわち5−チオ−Ｄ−グルコース）を適当な溶媒中（例えば、メタノール、エタノールなど）、触媒（例えば、塩化アンモニウム、酢酸など）の存在もしくは非存在下に縮合させることにより製造することができる。
工程IX−2:
式（IX−2）で示される化合物は、式（IX−1）で示される化合物のヒドロキシを保護することにより製造することができる。保護は工程I−2と同様にして実施することができる。
工程IX−3:
式（IX−3）で示される化合物は、式（IX−2）で示される化合物を適当な溶媒中（例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジクロロメタンなど）、室温又は冷却下に酸化剤（2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノ−1,4−ベンゾキノンなど）で処理することにより、製造することができる。
工程IX−4:
式（IX−4）で示される化合物は、式（IX−3）で示される化合物とAr−COCl（ただし、記号は前記と同一意味を有する）で示される化合物を縮合することにより製造することができる。
【０１５７】
縮合は、適当な溶媒中（例えば、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素）、ルイス酸（例えば、塩化アルミニウム、三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯塩など）の存在下に、冷却下から加熱下（例えば、−３０℃〜６０℃）で実施することができる。
工程IX−5:
式（IX−5）で示される化合物は、式（IX−4）で示される化合物を還元することにより製造することができる。
還元は、適当な溶媒中（例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル類、メタノール、エタノールなどのアルコール類など）、還元剤（例えば、水素化ホウ素ナトリウム（塩化セリウムの存在下または非存在下に使用）、水素化トリアセトキシホウ素ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム、水素化ジイソブチルアルミニウムなど）で、冷却下から室温（例えば、−３０℃〜２５℃）で処理することにより実施することができる。
工程IX−6:
式（IX−6）で示される化合物は、式（IX−5）で示される化合物を還元することにより製造することができる。
【０１５８】
還元は、適当な溶媒中（アセトニトリル、ジクロロメタンなど）、酸（トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸などの有機酸、三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯体、四塩化チタンなどのルイス酸）の存在下、冷却下から室温（例えば、−３０℃〜２５℃）でシラン試薬（トリエチルシラン、トリイソプロピルシランなど）で処理することにより、実施できる。
工程IX−7:
式（A−9）で示される化合物は、式（IX−6）で示される化合物を脱保護に付すことにより製造することができる脱保護は工程I−6と同様にして実施することができる。
製法X:
【０１５９】
【化３６】
【０１６０】
（式中、記号は前記と同一意味を有する。）
工程X−1:
式（X−1）で示される化合物は、式（XII−7）（後記製法XIIに記載）で示される化合物とベンズアルデヒドジメチルアセタールを縮合させることにより製造することができる。縮合は工程I−1と同様にして実施することができる。
工程X−2:
式（X−2）で示される化合物は式（X−1）で示される化合物のヒドロキシを保護することにより製造することができる。保護は工程I−2と同様にして実施することができる。
工程X−3:
式（X−3）で示される化合物は、式（X−2）で示される化合物を酸で加水分解することにより製造することができる。加水分解は工程I−3と同様にして実施することができる。
工程X−4:
式（X−4）で示される化合物は、式（X−3）で示される化合物のヒドロキシを保護することにより製造することができる。保護は工程I−2と同様にして実施することができる。
工程X−5:
式（X−5）で示される化合物は、式（X−4）で示される化合物をフッ化剤で処理することにより製造することができる。この工程は工程I−5と同様にして実施することができる。
工程X−6:
式（A−10）で示される化合物は、式（X−5）で示される化合物を脱保護に付すことにより製造することができる。脱保護は工程I−6と同様にして実施することができる。
製法XI:
【０１６１】
【化３７】
【０１６２】
（式中、Ar1はフェニルまたはチエニル、R11は臭素またはヨウ素、Ar2はフェニル、ハロフェニル、シアノフェニル、ピリジル、ハロピリジル、チエニル、またはハロチエニル、R12はシクロアルキル、R10 は
【０１６３】
【化３８】
【０１６４】
ここでOR8は保護されたヒドロキシであり、R6とＺは前記と同一意味を有する。）
工程XI−1:
式（XI−1）で示される化合物は、式（L）で示される化合物と、Ar2B（OH）2またはR12B（OH）2（ただし、記号は前記と同一意味を有する。）をカップリングすることにより製造することができる。
【０１６５】
カップリング反応は、適当な溶媒中（例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、水、またはそれらの混合溶媒など）、パラジウム触媒（例えば、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、酢酸パラジウムなど）と塩基（例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなど）の存在下、室温から加熱下（例えば、25〜150℃）に実施することができる。
工程XI−2:
式（A−11）で示される化合物は、式（XI−1）で示される化合物を脱保護に付すことにより製造することができる。脱保護は工程I−6と同様にして実施することができる。
製法XII:
【０１６６】
【化３９】
【０１６７】
（式中、記号は前記と同一意味を有する。）
工程XII−1:
式（XII−1）で示される化合物は、式（M）で示される化合物と式（N）で示されるＤ−ガラクトースを縮合させることにより製造することができる。縮合は工程IX−1と同様にして実施することができる。
工程XII−2:
式（XII−2）で示される化合物は、式（XII−1）で示される化合物のヒドロキシを保護することにより製造することができる。保護は工程I−2と同様にして実施することができる。
工程XII−3:
式（XII−3）で示される化合物は、式（XII−2）で示される化合物を酸化することにより製造することができる。酸化は工程IX−3と同様にして実施することができる。
工程XII−4:
式（XII−4）で示される化合物は、式（XII−3）で示される化合物とAr−COCl（記号は前記と同一意味を有する）を縮合することにより製造することができる。縮合は工程IX−4と同様にして実施することができる。
工程XII−5:
式（XII−5）で示される化合物は、式（XII−4）で示される化合物を還元することにより製造することができる。還元は工程IX−5と同様にして実施することができる。
工程XII−6:
式（XII−6）で示される化合物は、式（XII−5）で示される化合物を還元することにより製造することができる。還元は工程IX−6と同様にして実施することができる。
工程XII−7:
式（XII−7）で示される化合物は、式（XII−6）で示される化合物を脱保護に付すことにより製造することができる。脱保護は工程I−6と同様にして実施することができる。
【０１６８】
式（B）の化合物、式（Ｃ）の化合物、および式（Ｅ）の化合物はWO 2004/080990パンフレットまたはWO 2005/012326パンフレットに記載されている。
【０１６９】
式（J）の化合物は、以下のようにして製造することができる。
製法XIII:
【０１７０】
【化４０】
【０１７１】
（式中、R13はアルキルであり、他の記号は前記と同一意味を有する。）
まず、式（O）で示される化合物を、適当な溶媒中（メタノール、エタノール、トルエンなど）、酸（たとえば、塩化亜鉛、塩酸、ポリリン酸、トリフルオロ酢酸など）の存在下、加熱して環化することにより、式（XIII−1）で示される化合物を製造する。
【０１７２】
次に、式（XIII−1）で示される化合物を適当な溶媒中（例えば、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、水など）、室温又は加熱下、塩基（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化リチウムなど）で加水分解することにより、式（XIII−2）で示される化合物を製造する。
【０１７３】
さらに、式（XIII−2）で示される化合物を、適当な溶媒中（例えば、キノリンなど）、触媒（例えば、銅）の存在下に脱炭酸して、式（XIII−3）で示される化合物を製造する。
【０１７４】
そして、式（XIII−3）で示される化合物を、適当な溶媒中（例えば、テトラヒドロフラン、ジクロロメタンなど）、室温または加熱下、酸（例えば、トリフルオロ酢酸、三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯塩）の存在下、還元剤（例えば、トリエチルシラン、水素化ホウ素亜鉛）で処理することにより、式（J）で示される化合物を製造することができる。
【０１７５】
式（O）で示される化合物は、式（P）
【０１７６】
【化４１】
【０１７７】
（ただし、記号は前記と同一意味を有する）
で示される化合物と、適当な溶媒中（アセトニトリル、メタノール、エタノール、水）、室温又は加熱下に、酸（塩酸、酢酸など）の存在下、CH3COCO2R13（ただし、R13は前記と同一意味を有する）と反応させることにより製造するか、あるいは、式（Q）
【０１７８】
【化４２】
【０１７９】
（ただし、記号は前記と同一意味を有する）
で示される化合物を、適当な溶媒中（水、メタノール、エタノール）、室温又は冷却下、酸（例えば、塩酸など）の存在下に亜硝酸ナトリウムで処理して、対応するジアゾニウム塩化合物を製した後、適当な溶媒中（例えば、メタノール、エタノール、水）、室温又は冷却下に、塩基（酢酸ナトリウム、水酸化カリウムなど）の存在下でCH3COCH(CH3)CO2R13（ただし、R13は前記と同一意味を有する）と反応させることにより製造することができる。
【０１８０】
式（G）で示される化合物は、以下のようにして製造することができる。
製法XIV:
【０１８１】
【化４３】
【０１８２】
（式中、Meはメチルであり、他の記号は前記と同一意味を有する。）
式（XIV−1）の化合物は、工程I−5と同様にして、式（R）の化合物をフッ化剤で処理して製造する。
【０１８３】
式（XIV−2）の化合物は、式（XIV−1）の化合物を脱アルキル化反応に付すことにより製造する。脱アルキル化は、加熱下、硫酸と酢酸の混合物中で実施する。
【０１８４】
式（G）の化合物は、式（XIV−2）の化合物を、適当な溶媒中（ジクロロメタンなど）、冷却下から室温で、酸化剤（酢酸−ジメチルスルホキシドなど）により酸化して製造する。
【０１８５】
式（R）の化合物は、例えば、テトラへドロン・レターズ（Tetrahedron Lett.）, 2000, 41, 5547−5551に記載の方法など、慣用の方法で製造することができる。
【０１８６】
この他の原料化合物は、商業上入手しうるか、あるいは当業者にとって慣用の方法によって容易に製造される。
製造例１：3−（4−エチルフェニルメチル）−1−（5−チオ−β−Ｄ−グルコピラノシル）インドール
（1）ペンタ−Ｏ−アセチル−５−チオ−Ｄ−グルコピラノース（813 mg）をエタノール（20 ml）に懸濁し、そこにナトリウムメトキシド（28％メタノール溶液、２滴）を加えた。この混合物をアルゴン雰囲気下室温で１時間攪拌し、得られた溶液にインドリン（238 mg）を加え、一晩還流した。さらに酢酸（２滴）を加え、７時間還流した。室温に冷却後、溶媒を減圧下留去し、粗体の1−（5−チオ−β−Ｄ−グルコピラノシル）インドリンを得た。この化合物は精製することなく次の工程に用いた。
【０１８７】
（2）上記化合物をクロロホルム（20 ml）に溶解し、無水酢酸（1.51 ml）、ピリジン（1.29 ml）及び４−ジメチルアミノピリジン（24 mg）を加えた。室温で２．５日間攪拌した後、有機溶媒を減圧下留去し、残渣を酢酸エチルに溶解した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４：１）で精製し、さらにメタノールから再結晶して、1−（2,3,4,6−テトラ−Ｏ−アセチル−5−チオ−β−Ｄ−グルコピラノシル）インドリン（321 mg）を得た。融点：163−165℃. APCI−Mass m/Z 466（M+H）。
【０１８８】
（3）上記化合物（310 mg）を1,4−ジオキサン（10 ml）に溶解し、そこに2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノ−1,4−ベンゾキノン（159 mg）と水（3滴）を加えた。室温で２時間攪拌後、飽和重曹水を加え、酢酸エチルで抽出した。洗浄、乾燥後 溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝2：1）で精製して、1−（2,3,4,6−テトラ−O−アセチル−5−チオ−β−D−グルコピラノシル）インドール（308 mg）を得た。APCI−Mass m/Z 481（M+NH4）。
【０１８９】
（4） 上記化合物（305 mg）と塩化4−エチルベンゾイル（166 mg）のジクロロメタン（15 ml）溶液に，塩化アルミニウム（439 mg）を0℃で加えた。同温で30分攪拌後、室温で５時間攪拌した。混合物を氷水に注ぎ、１Ｎ塩酸（10 ml）を加え、クロロホルムで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン／酢酸エチル ＝ 3：1−2：1）で精製して、4−エチルフェニル 1−（2,3,4,6−テトラ−O−アセチル−5−チオ−β−D−グルコピラノシル）インドール−3−イル ケトン（354 mg）を得た。 APCI−Mass m/Z 596（M+H）。
【０１９０】
（5） 上記化合物（347 mg）のエタノール（5 ml）−テトラヒドロフラン（10 ml）溶液に塩化セリウム（III）５水和物（648 mg）と水素化ホウ素ナトリウム（66 mg）を0℃で加えた。同温で2時間攪拌後、0.5Ｎ塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去して、4−エチルフェニル 1−（2,3,4,6−テトラ−O−アセチル−5−チオ−β−D−グルコピラノシル）インドール−3−イル メタノール（387 mg）を得た。この化合物は精製せずに次の工程に用いた。
【０１９１】
（6）上記化合物をアセトニトリル（10 ml）−ジクロロメタン（5 ml）に溶解し、アルゴン雰囲気下−10℃でトリエチルシラン（0.46 ml）と三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯塩（0.37 ml）を加えた。同温で１時間攪拌後、飽和重曹水を加え、有機溶媒を減圧留去した。酢酸エチル（25 ml）で抽出し、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝4：1）で精製して、3−（4−エチルフェニルメチル）−1−（2,3,4,6−テトラ−O−アセチル−5−チオ−β−D−グルコピラノシル）インドール（290 mg）を得た。APCI−Mass m/Z 599（M+NH4）。
【０１９２】
（7）上記化合物（281 mg）をメタノール（5 ml）−テトラヒドロフラン（5 ml）に溶解し、そこにナトリウムメトキシド（28%メタノール溶液、2滴）を加えた。アルゴン雰囲気下、室温で２時間攪拌後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：クロロホルム／メタノール＝19：1）で精製して3−（4−エチルフェニルメチル）−1−（5−チオ−β−D−グルコピラノシル）インドール（190 mg）を得た。APCI−Mass m/Z 414（M+H）。
【０１９３】
製造例2：4−クロロ−3−（4−エチルフェニルメチル）−1−（5−チオ−β−D−グルコピラノシル）インドール
（1）ペンタ−O−アセチル−5−チオ−D−グルコピラノース（1323 mg）をエタノール（30 ml）に懸濁し、ナトリウムメトキシド（28%メタノール溶液、2滴）を加えた。混合物をアルゴン雰囲気下室温で１時間攪拌し、得られた溶液に4−クロロインドリン（500 mg）と塩化アンモニウム（174 mg）を加え、22時間還流した。室温に冷却後、溶媒を留去して、粗体の4−クロロ−1−（5−チオ−β−D−グルコピラノシル）インドリンを得た。この化合物は精製せずに次の工程に用いた。
【０１９４】
（2）上記化合物をクロロホルム（20 ml）に溶解し、無水酢酸（2.45 ml）、ピリジン（2.10 ml）及び4−（ジメチルアミノ）ピリジン（40 mg）を加えた。室温で一晩攪拌後、溶媒を減圧下留去した。残渣を酢酸エチルに溶解し、洗浄、乾燥後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン／酢酸エチル ＝ 3：1）で精製して、4−クロロ−1−（2,3,4,6−テトラ−O−アセチル−5−チオ−β−D−グルコピラノシル）インドリン（1157 mg）を得た。 APCI−Mass m/Z 500/502（M+H）。
【０１９５】
（3）上記化合物を製造例 1−（3）と同様に処理することにより、4−クロロ−1−（2,3,4,6−テトラ−O−アセチル−5−チオ−β−D−グルコピラノシル）インドールを得た。 APCI−Mass m/Z 515/517 （M+NH4）。
【０１９６】
（4）上記化合物と塩化4−エチルベンゾイルを製造例1−（4）,（5）,（6）及び（7）と同様に処理することにより、4−クロロ−3−（4−エチルフェニルメチル）−1−（5−チオ−β−D−グルコピラノシル）インドールを得た。APCI−Mass m/Z 448/450（M+H）。
【０１９７】
製造例3：4−クロロ−3−（4−エチルフェニルメチル）−1−（4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−グルコピラノシル）インドール
（1）4−クロロインドリン（1.00 g）及びD−ガラクトース（1.94 g）の水（3.0 ml）−エタノール（20 ml）懸濁液を、アルゴン雰囲気下29時間還流した。溶媒を減圧下留去して、粗体の4−クロロ−1−（β−D−ガラクトピラノシル）インドリンを得た。この化合物は精製せずに次の工程に用いた。
【０１９８】
（2）上記化合物をクロロホルム（20 ml）に懸濁し、そこに無水酢酸（4.92 ml）、ピリジン（4.21 ml）及び4−（ジメチルアミノ）ピリジン（80 mg）を加えた。室温で1.5時間攪拌後、溶媒を減圧下留去した。残渣を酢酸エチルに溶解し、洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝90：10−60：40）で精製して、4−クロロ−1−（2,3,4,6−テトラ−O−アセチル−β−D−ガラクトピラノシル）インドリン（2.34 g）を得た。APCI−Mass m/Z 484/486 （M+H）。
【０１９９】
（3）上記化合物を製造例 1−（3）と同様に処理して、4−クロロ−1−（2,3,4,6−テトラ−O−アセチル−β−D−ガラクトピラノシル）インドールを得た。APCI−Mass m/Z 499/501 （M+NH4）。
【０２００】
（4）上記化合物及び塩化4−エチルベンゾイルを製造例1−（4）,（5）,（6）及び（7）と同様に処理することにより、4−クロロ−3−（4−エチルフェニルメチル）−1−（β−D−ガラクトピラノシル）インドールを得た。APCI−Mass m/Z 432/434（M+H）。
【０２０１】
（5）上記化合物（6.80 g）をクロロホルム（300 ml）に懸濁し、そこにベンズアルデヒドジメチルアセタール（3.54 ml）及びp−トルエンスルホン酸１水和物（0.15 g）を加えた。室温で40分攪拌後、溶媒を減圧留去した。残渣を酢酸エチルに溶解し、洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：クロロホルム／メタノール＝100：0−90：10）で精製して、4−クロロ−3−（4−エチルフェニルメチル）−1−（4,6−O−ベンジリデン−β−D−ガラクトピラノシル）インドール（7.12 g）を得た。APCI−Mass m/Z 520/522（M+H）。
【０２０２】
（6）上記化合物（7.12 g）をクロロホルム（300 ml）に懸濁し、そこにピリジン（6.64 ml）及び塩化ベンゾイル（4.77 ml）を0℃で加えた。室温に昇温し、３日間攪拌した。混合物を酢酸エチルで希釈し、洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去して、粗体の4−クロロ−3−（4−エチルフェニルメチル）−1−（2,3−ジ−O−ベンゾイル−4,6−O−ベンジリデン−β−D−ガラクトピラノシル）インドールを得た。この化合物は精製せずに次の工程に用いた。
【０２０３】
（7）上記化合物の酢酸（240 ml）−水（30 ml）溶液を70℃で一晩攪拌した。溶媒を減圧留去し、残渣を酢酸エチルに溶解した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：クロロホルム／酢酸エチル ＝ 100：0−95：5）で精製して、4−クロロ−3−（4−エチルフェニルメチル）−1−（2,3−ジ−O−ベンゾイル−β−D−ガラクトピラノシル）インドール（7.06 g）を得た。APCI−Mass m/Z 657/659 （M+NH4）。
【０２０４】
（8）上記化合物（7.06 g）を2,4,6−トリメチルピリジン（70 ml）に懸濁し、そこに塩化ベンゾイル（1.54 ml）を−40℃で加えた。混合物を0℃に昇温し、一晩攪拌した。２Ｎ塩酸を用いて反応混合物のpHを5に合わせ、酢酸エチル−テトラヒドロフランで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン／酢酸エチル ＝ 90：10−50：50）で精製し、さらにエタノールから再結晶して、4−クロロ−3−（4−エチルフェニルメチル）−1−（2,3,6−トリ−O−ベンゾイル−β−D−ガラクトピラノシル）インドール（5.17 g）を得た。融点：192−193℃. APCI−Mass m/Z 761/763（M+NH4）。
【０２０５】
（9）上記化合物（700 mg）をジクロロメタン（70 ml）に溶かし、そこに（ジエチルアミノ）スルファー トリフルオリド（1.24 ml）をアルゴン雰囲気下、0℃で加えた。室温で２４時間攪拌後、冷水を加え、クロロホルムで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：クロロホルム／酢酸エチル ＝ 100：0−95：5）で精製し、さらにジイソプロピルエーテルから再結晶して、4−クロロ−3−（4−エチルフェニルメチル）−1−（2,3,6−トリ−O−ベンゾイル−4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−グルコピラノシル）インドール（452 mg）を得た。融点：137−138℃. APCI−Mass m/Z 746/748（M+H）。
【０２０６】
（10）上記化合物を製造例1−（7）と同様に処理することにより、4−クロロ−3−（4−エチルフェニルメチル）−1−（4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−グルコピラノシル）インドールを得た。 APCI−Mass m/Z 434/436 （M+H）。
【０２０７】
製造例4：4−クロロ−3−（4−エトキシフェニルメチル）−1−（5−チオ−β−D−グルコピラノシル）インドール
製造例2−（3） で得られた4−クロロ−1−（2,3,4,6−テトラ−O−アセチル−5−チオ−β−D−グルコピラノシル）インドール及び 塩化4−エトキシベンゾイルを製造例1−（4）,（5）,（6）及び（7）と同様に処理して、題記化合物を得た。APCI−Mass m/Z 464/466（M+H）。
【０２０８】
製造例5：3−（ベンゾ［ｂ］チオフェン−2−イルメチル）−4−クロロ−1−（4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−ガラクトピラノシル）ベンゼン
（1） 1−（ベンゾ［ｂ］チオフェン−2−イルメチル）−5−ブロモ−2−クロロベンゼン（1.00 g）をテトラヒドロフラン（8 ml）−トルエン（16 ml）に溶解し、アルゴン雰囲気下、−78℃に冷却した。そこへn−ブチルリチウム（1.59Ｍヘキサン溶液、1.86 ml）を滴下し、混合物を同温で30分攪拌した。2,3,4,6−テトラキス−O−トリメチルシリル−D−グルコノ−1,5−ラクトン（US 6,515,117参照；1.26 g）のトルエン（10 ml）溶液を滴下し、さらに同温で1.5時間攪拌した。メタンスルホン酸（0.58 ml）のメタノール（20 ml）溶液を加え、室温で一晩攪拌した。氷冷下、飽和重曹水を加え、酢酸エチルで抽出した。洗浄、乾燥後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：クロロホルム／メタノール＝10：0−9：1）で精製して，3−（ベンゾ［ｂ］チオフェン−2−イルメチル）−4−クロロ−1−（1−α−メトキシ−β−D−グルコピラノシル）ベンゼン（875 mg）を得た。
【０２０９】
（2）上記化合物（1.91 g）及びトリエチルシラン（2.03 ml）のジクロロメタン（80 ml）溶液を、アルゴン雰囲気下、−78℃に冷却し、三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯塩（1.61 ml）を加えた。0℃に昇温し、同温で３時間攪拌した。反応混合物に飽和重曹水を加え、クロロホルムで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：クロロホルム／メタノール＝10:0−9:1）で精製し，酢酸エチル−ジエチルエーテルから再結晶して、3−（ベンゾ［ｂ］チオフェン−2−イルメチル）−4−クロロ−1−（β−D−グルコピラノシル）ベンゼン（1.29 g）を得た。融点：153−154℃. APCI−Mass m/Z 438/440 （M+NH4）。
【０２１０】
（3） 上記 化合物 を製造例3−（5）,（6）,（7）及び（8）と同様に処理することにより、3−（ベンゾ［ｂ］チオフェン−2−イルメチル）−4−クロロ−1−（2,3,6−トリ−O−ベンゾイル−β−D−グルコピラノシル）ベンゼンを得た。融点：215−217℃. APCI−Mass m/Z 750/752 （M+NH4）。
【０２１１】
（4）上記化合物（796 mg）及び4−ジメチルアミノピリジン（780 mg）のジクロロメタン（50 ml）溶液を、アルゴン雰囲気下、0℃に冷却し、（ジエチルアミノ）スルファー トリフルオリド（0.63 ml）を加えた。混合物を室温に昇温し、同温で19時間攪拌した。そこへ氷冷下冷水を加え、クロロホルムで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝4:1−2:1）で精製し，酢酸エチル-ヘキサンから再結晶して、3−（ベンゾ［ｂ］チオフェン−2−イルメチル）−4−クロロ−1−（2,3,6−トリ−O−ベンゾイル−4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−ガラクトピラノシル）ベンゼン（305 mg）を得た。融点：204−207℃. APCI−Mass m/Z 752/754 （M+NH4）。
【０２１２】
（5）上記化合物を製造例1−（7）と同様に処理することにより、3−（ベンゾ［ｂ］チオフェン−2−イルメチル）−4−クロロ−1−（4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−ガラクトピラノシル）ベンゼンを得た。APCI−Mass m/Z 440/442（M+NH4）。
【０２１３】
製造例6：4−クロロ−3−（5−フェニル−2−チエニルメチル）−1−（6−フルオロ−6−デオキシ−β−D−グルコピラノシル）ベンゼン
（1）5−ブロモ−2−クロロ−1−（5−フェニル−2−チエニルメチル）ベンゼンを製造例5−（1）及び（2）と同様に処理することにより、4−クロロ−3−（5−フェニル−2−チエニルメチル）−1−（β−D−グルコピラノシル）ベンゼンを得た。APCI−Mass m/Z 464/466 （M+NH4）。
【０２１４】
（2）上記化合物（1.00 g）をN,N−ジメチルホルムアミド（10 ml）に溶解し、そこに塩化トリチル（686 mg）、4−ジメチルアミノピリジン（14 mg）及びトリエチルアミン（0.47 ml）を加えた。室温で6日間攪拌後、酢酸エチルで希釈した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：クロロホルム／メタノール＝100：1−19：1）で精製して、4−クロロ−3−（5−フェニル−2−チエニルメチル）−1−（6−O−トリチル−β−D−グルコピラノシル）ベンゼン（870 mg）を得た。ESI−Mass m/Z 711/713 （M+Na）。
【０２１５】
（3） 上記化合物を製造例1−（2）と同様に処理することにより、4−クロロ−3−（5−フェニル−2−チエニルメチル）−1−（2,3,4−トリ−O−アセチル−6−O−トリチル−β−D−グルコピラノシル）ベンゼンを得た。ESI−Mass m/Z 837/839 （M+Na）
（4）上記化合物（1.45 g）のギ酸（10 ml）−ジエチルエーテル（5 ml）溶液を室温で3.5時間攪拌し、水で希釈した。酢酸エチルで抽出後、洗浄、乾燥し、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝4：1−1：1）で精製して，4−クロロ−3−（5−フェニル−2−チエニルメチル）−1−（2,3,4−トリ−O−アセチル−β−D−グルコピラノシル）ベンゼン（689 mg）を得た。融点：166−168℃. APCI−Mass m/Z 590/592 （M+NH4）。
【０２１６】
（5）上記化合物を製造例5−（4）及び1−（7）と同様に処理することにより、4−クロロ−3− （5−フェニル−2−チエニルメチル）−1−（6−フルオロ−6−デオキシ−β−D−グルコピラノシル）ベンゼンを得た。APCI−Mass m/Z 466/468 （M+NH4）。
【０２１７】
製造例7：4−クロロ−3−（5−フェニル−2−チエニルメチル）−1−（4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−グルコピラノシル）ベンゼン
（1） 5−ブロモ−2−クロロ−1−（5−フェニル−2−チエニルメチル）ベンゼン（397 mg）をテトラヒドロフラン（10 ml）に溶解し、アルゴン雰囲気下、−78℃に冷却した。そこへn−ブチルリチウム（1.56Ｍヘキサン溶液、0.70 ml）を滴下し、同温で20分攪拌した。2,3,6−トリ−O−ベンジル−4−フルオロ−4−デオキシ−D−グルコノ−1,5−ラクトン（496 mg）のテトラヒドロフラン（5 ml）溶液を滴下し、さらに同温で1.5時間攪拌した。ついで飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、室温に昇温した。混合物を水で希釈し、酢酸エチルで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去して、粗体の4−クロロ−3−（5−フェニル−2−チエニルメチル）−1−（1−ヒドロキシ−2,3,6−トリ− O−ベンジル−4−フルオロ−4−デオキシ−D−グルコピラノシル）ベンゼンを得た。この化合物は精製せずに次の工程に用いた。
【０２１８】
（2）上記 化合物のジクロロメタン（10 ml）溶液をアルゴン雰囲気下、−78℃に冷却し、そこにトリイソプロピルシラン（0.68 ml）及び三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯塩（0.42 ml）を加えた。−78℃で１時間攪拌後、0℃に昇温し、同温で１時間攪拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン／酢酸エチル ＝ 19：1−9：1）で精製して、4−クロロ−3−（5−フェニル−2−チエニルメチル）−1−（2,3,6−トリ−O−ベンジル−4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−グルコピラノシル）ベンゼン（226 mg）を得た。APCI−Mass m/Z 736/738 （M+NH4）。
【０２１９】
（3）ヨウ化ナトリウム（550 mg）のアセトニトリル（5 ml）溶液に、アルゴン雰囲気下、0℃で、塩化トリメチルシリル（0.47 ml）を加え、同温で20分攪拌した。そこへ上記化合物（220 mg）のアセトニトリル（5 ml）を加え、0℃で１時間、ついで室温で2.5時間攪拌した。10％チオ硫酸ナトリウム水溶液を0℃で加え、酢酸エチルで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：クロロホルム／メタノール＝30：1）で精製して，4−クロロ−3−（5−フェニル−2−チエニルメチル）−1−（4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−グルコピラノシル）ベンゼン （123 mg）を得た。APCI−Mass m/Z 466/468 （M+NH4）
製造例８−３６
上記製造例のいずれかと同様にして、表１記載の化合物を製造した。
【０２２０】
【表１】
【０２２１】
【表２】
【０２２２】
【表３】
【０２２３】
【表４】
【０２２４】
【表５】
【０２２５】
【表６】
（表中、Meはメチル、MeOはメトキシ、Etはエチル、EtOはエトキシをあらわし、"5−チオ−β−D−グルコピラノシル"、"4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−グルコピラノシル"、"β−D−ガラクトピラノシル"、"4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−ガラクトピラノシル"及び"6−フルオロ−6−デオキシ−β−D−グルコピラノシル"は、それぞれ、下式の構造を示す：
【０２２６】
【化４４】
【０２２７】
参考例1: 4−クロロインドリン
4−クロロインドール（3.15 g）及びトリエチルシラン（8.30 ml）のトリフルオロ酢酸（32 ml）溶液を50℃で30分攪拌し、溶媒を減圧下留去した。残渣を飽和重曹水で塩基性とし、酢酸エチルで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝100：0−80：20）で精製して、題記化合物を得た（2.89 g）。APCI−Mass m/Z 154/156 （M+H）。
【０２２８】
参考例2：1−（ベンゾ[b]チオフェン−2−イルメチル）−5−ブロモ−2−クロロベンゼン
（1）5−ブロモ−2−クロロ安息香酸（10.0 g）をジクロロメタン（80 ml）に懸濁し、そこへN,O−ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩（4.56 g）、1−[3−（ジメチルアミノ）プロピル]−3−エチルカルボジイミド塩酸塩（8.96 g）、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール（6.31 g）及びトリエチルアミン（8.88 ml）を加えた。室温で64時間攪拌後、10％塩酸を0℃で加え、クロロホルムで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去し、粗体の5−ブロモ−2−クロロ−N−メトキシ−N−メチルベンズアミドを得た。この化合物は精製せずに次の工程に用いた。
【０２２９】
（2）上記化合物の テトラヒドロフラン（200 ml）溶液をアルゴン雰囲気下−78℃に冷却し、そこへ水素化ジイソブチルアルミニウム（1.0Ｍトルエン溶液、64 ml）を加えた。混合物を−78℃で３０分、ついで0℃で４０分攪拌した。10％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝19：1）で精製して、5−ブロモ−2−クロロベンズアルデヒド（8.90 g）を得た。
【０２３０】
（3）チアナフタレン（5.18 g）のテトラヒドロフラン（60 ml）溶液にアルゴン雰囲気下、−78℃でn−ブチルリチウム（2.44Ｍヘキサン溶液、15.8 ml）を滴下し、−78℃で30分、ついで0℃で30分攪拌した。−78℃に冷却後、上記化合物（8.90 g）のテトラヒドロフラン（60 ml）溶液を加え、同温で1.5時間攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加え酢酸エチルで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝15：1）で精製して、ベンゾ[b]チオフェン−2−イル 5−ブロモ−2−クロロフェニル メタノール（12.25 g）を得た。
【０２３１】
（4）上記化合物（12.25 g）のジクロロメタン（300 ml）溶液を0℃に冷却し、トリエチルシラン（12.17 ml）及び 三フッ化ホウ素・ジエチル エーテル錯塩（6.58 ml）を加えた。同温で２時間攪拌後、飽和重曹水を加え、クロロホルムで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン）で精製して、1−（ベンゾ[b]チオフェン−2−イルメチル）−5−ブロモ−2−クロロベンゼン（9.30 g）を得た。1H−NMR（CDCl3）δ4.30 （s, 2H）, 7.02 （d, J＝0.9 Hz, 1H）, 7.23−7.36 （m, 4H）, 7.43 （m, 1H）, 7.65−7.69 （m, 1H）, 7.73−7.77 （m, 1H）。
【０２３２】
参考例3：5−ブロモ−2−クロロ−1−（5−フェニル−2−チエニルメチル）ベンゼン
（1）5−ブロモ−2−クロロ安息香酸（55.95 g）をジクロロメタン（500 ml）に懸濁し、塩化オキサリル（25 ml）及びN,N−ジメチルホルムアミド（5滴）を加えた。室温で一晩攪拌後、テトラヒドロフラン（50 ml）を加え、さらに同温で１時間攪拌した。反応混合物を減圧下で濃縮して、塩化5−ブロモ−2−クロロベンゾイルを得た。この化合物と2−フェニルチオフェン（34.63 g）をジクロロメタン（1000 ml）に溶解し、塩化アルミニウム（31.70 g）を0℃で加えた。混合物を0℃で30分、ついで室温で18時間攪拌した。反応混合物を氷水に注ぎ、クロロホルムで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をヘキサン中で粉末化して5−ブロモ−2−クロロフェニル 5−フェニル−2−チエニル ケトン（50.22 g）を得た。融点：132−134℃. APCI−Mass m/Z 377/379 （M+H）。
【０２３３】
（2）上記化合物（50.00 g）及びトリエチルシラン（63.44 ml）のジクロロメタン（300 ml）−アセトニトリル（300 ml）懸濁液に、三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯塩（50.18 ml）を0℃で加えた。室温で３時間攪拌後、重曹水を加え、クロロホルムで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。活性炭処理後、メタノールから結晶化して、5−ブロモ−2−クロロ−1−（5−フェニル−2−チエニルメチル）ベンゼン（42.92 g）を得た。 融点：80−81℃。
【０２３４】
参考例４：2,3,6−トリ−O−ベンジル−4−フルオロ−4−デオキシ−D−グルコノ−1,5−ラクトン
（1）メチル2,3,6−トリ−O−ベンジル−β−D−ガラクトピラノシド（サカガミら、テトラへドロン・レターズ，2000, 41, 5547−5551参照；16.99 g）をジクロロメタン（172 ml）に溶解し、（ジエチルアミノ）スルファー・トリフルオリド（9.71 ml）を0℃で加えた。混合物を0℃で２時間、ついで室温で５時間攪拌した。混合物を0℃に冷却し、飽和重曹水を加えた。有機相を乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝100：0−90：10）で精製して、メチル 2,3,6−トリ−O−ベンジル−4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−グルコピラノシド（5.86 g）を得た。APCI−Mass m/Z 484 （M+NH4）。
【０２３５】
（2）上記化合物（5.39 g）と3Ｍ硫酸（10 ml）−酢酸（50 ml）の混合物を90℃で5時間攪拌した。室温に冷却後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝4：1）で精製して、2,3,6−トリ−O−ベンジル−4−フルオロ−4−デオキシ−D−グルコース（2.39 g）を得た。APCI−Mass m/Z 470（M+NH4）。
【０２３６】
（3）上記化合物（2.76 g）をジメチルスルホキシド（16 ml）に溶解し、ついでアルゴン雰囲気下、0℃で無水酢酸（11 ml）を加えた。混合物を室温で一晩攪拌した後、0℃で氷水を加え、酸エチルで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝19：1−9：1）で精製して、2,3,6−トリ−O−ベンジル−4−フルオロ−4−デオキシ−D−グルコノ−1,5−ラクトン（2.08 g）を得た。APCI−Mass m/Z 468（M+NH4）。
【０２３７】
試験例
１．ヒトＳＧＬＴ２阻害作用確認試験
（１）試験化合物
前記製造例記載化合物を用いた。
（２）試験方法
24穴プレートに、ヒトSGLT2安定発現CHOK1細胞を40×104個／穴で播種した。10％ウシ胎児血清、50 IU/mlペニシリン、50μg/mlストレプトマイシン、400μg/mlゲネチシンを含むHam's F−12培地中で、37℃、5％CO2存在下2日間培養した後、メチル−α−D−グルコピラノシド（α−MG）取り込み実験に供した。培地を除去し、緩衝液（137 mM塩化ナトリウム、5 mM塩化カリウム、1 mM塩化カルシウム、1 mM塩化マグネシウム、50 mM 2−[4−（2−ヒドロキシエチル）−1−ピペラジニル]エタンスルホン酸、20 mMトリス（ヒドロキシメチル）アミノメタンを含む緩衝液、pH 7.4）で1回洗浄後、試験化合物を含む緩衝液を1穴あたり250μl加えた。試験化合物は、ジメチルスルフォキシド（DMSO）に溶解し、緩衝液に添加した（DMSOの終濃度0.5％）。また、対照用として、DMSOのみを含む緩衝液を、SGLT非特異的な取り込み量測定用として、SGLT阻害物質フロリジン（終濃度100μM）を含む緩衝液を、それぞれ同様に調製し、同じく1穴あたり250μlずつ添加した。37℃で10分間静置後、α−MGと（U−14C）−α−MG（α−MGの終濃度0.5 mM）を含む緩衝液を、1穴あたり50μlずつ加え、さらに37℃で2時間静置した。次に、細胞に添加した緩衝液を全て除去し、氷冷したリン酸緩衝液を1穴あたり400μlずつ加え、直ちに除去した。この洗浄操作を、さらに2回繰り返し行った。その後、0.3 N NaOHを1穴あたり300μlずつ加え、細胞を可溶化し、可溶化液中の放射活性を液体シンチレーションカウンターで測定した。結果は、蛋白濃度で補正した。対照の取り込みからSGLT非特異的な取り込みを差し引いた値を100％とし、各試験化合物がそれを50％阻害する濃度（IC50値）を、プロビット法（ロジスティックモデル）によって求めた。
（３）結果
結果は下表のとおりである。
【０２３８】
【表７】
２．尿糖排泄促進作用確認試験
（１）被験化合物
前記製造例記載化合物を用いた。
（２）実験方法
6週齢の雄性SDラットを2日間代謝ケージで予備飼育後、実験に用いた。被験化合物（30 mg/kg）は、0.2％Tween80を含む0.2％カルボキシメチルセルロース（CMC）溶液に懸濁し、10 ml/kg宛経口投与した。対照群には、溶媒（0.2％Tween80を含む0.2％CMC溶液）のみを経口投与した。1群あたりの匹数は3匹とした。投与直後から代謝ケージにて24時間尿を採集し、グルコース脱水素酵素法にて、尿中のグルコース濃度を測定した。尿量と尿中グルコース濃度から、1日あたりの尿糖排泄量を算出した。
（３）結果
結果は下表のとおりである。なお、１日あたりの尿糖排泄量（ｍｇ）は、下式で定義されるＡまたはＢで表した。
【０２３９】
Ａ≧２４００＞Ｂ≧２０００（ｍｇ）
【０２４０】
【表８】
【産業上の利用可能性】
【０２４１】
本発明の有効成分である式（Ａ）で示される化合物、その薬理的に許容しうる塩、または、SGLT阻害作用を有し、血糖降下作用を奏する。このため、本発明の医薬組成物は、血糖降下剤として、あるいは、糖尿病、糖尿病合併症（糖尿病性腎症、糖尿病性網膜症、糖尿病性神経症など）、肥満症、過血糖等の予防・治療剤として有用である。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、医薬組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
糖尿病の治療においては食事療法および運動療法が必須であるが、これだけで充分なコントロールが得られないときは、必要に応じてインスリンまたは経口糖尿病薬が使用される。現在、糖尿病治療薬としては、ビグアナイド系化合物、スルホニルウレア系化合物、インスリン抵抗性改善薬およびα−グルコシダーゼ阻害薬が用いられている。しかしながら、ビグアナイド系化合物には乳酸アシドーシス、スルホニルウレア系化合物には重篤な低血糖、インスリン抵抗性改善薬には浮腫および心不全、α−グルコシダーゼ阻害薬には腹部膨満および下痢などの副作用があり、このような問題点のない新しい糖尿病治療薬の開発が望まれている。
【０００３】
近年、糖尿病の進展に、糖尿病の病態そのものである高血糖自身が関与する、というグルコース・トキシシティー・セオリー（Glucose toxicity theory）が提唱されている。慢性的な高血糖が、インスリン分泌を低下させると共に、インスリン感受性を低下させ、これがさらなる血糖値の上昇を引き起こすという悪循環を生むとするものである（非特許文献１、非特許文献２参照）。本理論によれば、高血糖を是正することは、様々な合併症を抑制するのみならず、前述の悪循環を断ち切ることで、糖尿病の効率的な治療にもつながることになる。
【０００４】
高血糖を是正するための一つの方法としては、血中の過剰な糖を尿中に直接排泄させるやり方が考えられる。例えば、腎臓の近位尿細管に存在するナトリウム依存性グルコース輸送担体（ＳＧＬＴ）を阻害することで、腎臓での糖再吸収を阻害し、糖の尿中排泄を促進して血糖を降下させることができる。事実、ＳＧＬＴ阻害作用を有するフロリジンを、糖尿病モデル動物に持続的に皮下投与して高血糖を是正し、血糖値を長期間正常に保つことによって、インスリン分泌およびインスリン抵抗性が改善することが確認されている（非特許文献３、非特許文献４、非特許文献５等）。
【０００５】
また、糖尿病モデル動物にＳＧＬＴ阻害薬を長期間処置することにより、該モデル動物の腎臓への悪影響や血漿中電解質の異常を全く引き起こすことなく、インスリン分泌応答およびインスリン感受性を改善し、かつ糖尿病性腎症や神経障害の発症・進展を抑制することが報告されている（非特許文献６、非特許文献７、非特許文献８等）。
【０００６】
以上のことから、ＳＧＬＴ阻害薬は糖尿病患者において血糖値を低下させることによって、インスリン分泌およびインスリン抵抗性を改善し、かつ糖尿病及び糖尿病合併症の発症進展を抑制することが期待される。
【０００７】
特許文献１には、下記構造を有するアリールＯ−またはＮ−チオグルコピラノシドが記載されている。
【０００８】
【化１】
【０００９】
（式中、ＹはＯまたはＮである）
特許文献２には、下記構造を有するヘテロシクリル フルオログリコシド誘導体が記載されている。
【００１０】
【化２】
【００１１】
特許文献３には、 下記構造を有するアリール フルオログリコシドが記載されている。
【００１２】
【化３】
【００１３】
これら化合物は、ＳＧＬＴ阻害作用を有することが記載されている。
【００１４】
さらに特許文献４には、下記構造を有するアリールＣ−グリコシドが記載されている。
【００１５】
【化４】
この化合物は炎症性疾患、自己免疫疾患などの治療に有用であることが記載されている。下記構造を有するアリールＣ−グリコシド化合物が記載されている。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
“ハロゲン”または“ハロ”とは、塩素、臭素、フッ素およびヨウ素を指称し、塩素またはフッ素が好ましい。
【００３１】
“アルキル”とは、炭素数１〜１２の直鎖または分枝鎖の飽和炭化水素鎖の１価基を指称する。炭素数１〜６の直鎖または分枝鎖のアルキル基が好ましく、炭素数１〜４の直鎖または分枝鎖のアルキル基がより好ましい。たとえばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｔ−ブチル、イソブチル、これらの各種分枝鎖異性体等が挙げられる。さらにアルキルは、必要により、後述の置換基で、独立に１〜４置換されてもよい。
【００３２】
“アルキレン”とは、炭素数１〜１２の直鎖または分枝鎖の飽和炭化水素鎖の２価基を指称する。炭素数１〜６の直鎖または分枝鎖のアルキレン基が好ましく、炭素数１〜４の直鎖または分枝鎖のアルキレン基がより好ましい。たとえばメチレン、エチレン、プロピレン、トリメチレン等が挙げられる。必要に応じて後述の置換基で独立に１〜４置換されてもよい。
【００３３】
これらアルキレンが、ベンゼン環上、単環不飽和へテロ環上、または二環縮合不飽和へテロ環上の異なる炭素原子に結合するときは、結合している炭素原子と共に５〜７員の縮合された炭化水素環を形成しても良く、そして当該炭化水素環はさらに後述の置換基で独立に１〜４置換されていてもよい。
【００３４】
“アルケニル”とは、炭素数２〜１２で１つ以上の二重結合を有する直鎖または分枝鎖の炭化水素鎖の１価基を指称し、炭素数２〜６の直鎖または分枝鎖のアルケニル基が好ましく、炭素数２〜４の直鎖または分枝鎖のアルケニル基がより好ましい。たとえばビニル、２−プロペニル、３−ブテニル、２−ブテニル、４−ペンテニル、３−ペンテニル、２−ヘキセニル、３−ヘキセニル、２−ヘプテニ基、３−ヘプテニル、４−ヘプテニル、３−オクテニル、３−ノネニル、４−デセニル、３−ウンデセニル、４−ドデセニル、４，８，１２−テトラデカトリエニル等が挙げられる。アルケニルは必要により、後述の置換基で、独立に１〜４置換されてもよい。
【００３５】
“アルケニレン”とは、炭素数２〜１２で１つ以上の二重結合を有する直鎖または分枝鎖の炭化水素鎖の２価基を指称し、炭素数２〜６の直鎖または分枝鎖のアルケニレン基が好ましく、炭素数２〜４の直鎖または分枝鎖のアルケニレン基がより好ましい。たとえばビニレン、プロペニレン、ブタンジエニレン等があげられる。アルケニレンは必要により、後述の置換基で、独立に１〜４置換されてもよい。
【００３６】
アルケニレンが、ベンゼン環上、単環不飽和へテロ環上、または二環縮合不飽和へテロ環上の異なる炭素原子に結合するときは、結合している炭素原子と共に５〜７員の縮合された炭化水素環を形成しても良く、そして当該炭化水素環はさらに後述の置換基で独立に１〜４置換されていてもよい。
【００３７】
“アルキニル”とは、炭素数２〜１２で１つ以上の三重結合を有する直鎖または分枝鎖の炭化水素鎖の１価基を指称し、炭素数２〜６の直鎖または分枝鎖のアルキニル基が好ましく、炭素数２〜４の直鎖または分枝鎖のアルキニル基がより好ましい。たとえば２−プロピニル、３−ブチニル、２−ブチニル、４−ペンチニル、３−ペンチニル、２−ヘキシニル、３−ヘキシニル、２−ヘプチニル、３−ヘプチニル、４−ヘプチニル、３−オクチニル、３−ノニニル、４−デシニル、３−ウンデシニル、４−ドデシニル等が挙げられる。アルキニルは必要により、後述の置換基で、独立に１〜４置換されてもよい。
【００３８】
“シクロアルキル”とは、炭素数３〜１２の単環もしくは二環式飽和炭化水素環の１価基を指称し、炭素数３〜７の単環式飽和炭化水素基が好ましい。具体的には、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロデシル等が挙げられる。これらは必要により、後述の置換基で、独立に１〜４置換されてもよい。
【００３９】
“シクロアルケニル”とは、炭素数４〜１２で１つ以上の二重結合を有する単環もしくは二環式不飽和炭化水素環の１価基を指称し、炭素数４〜７の単環式不飽和炭化水素基が好ましい。具体的には、シクロペンテニル、シクロペンタジエニル、シクロヘキセニル等が挙げられる。これらは必要により、後述の置換基で、１〜４置換されてもよい。
【００４０】
“シクロアルキニル”とは、炭素数６〜１２で１つ以上の三重結合を有する単環もしくは二環式不飽和炭化水素環の１価基を指称し、炭素数６〜８の単環式不飽和炭化水素基が好ましい。具体的には、シクロオクチニル、シクロデシニル等が挙げられる。これらは必要により、後述の置換基ので、独立に１〜４置換されてもよい。
【００４１】
“アリール基”とは、炭素数６〜１０の単環または二環式芳香族炭化水素の１価基を指称する。具体的には、たとえばフェニル、ナフチル（１−ナフチル、２−ナフチルなど）が挙げられる。これらは必要により、後述の置換基で、独立に１〜４置換されてもよい。
【００４２】
“単環不飽和へテロ環”とは、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群より独立して選択されたヘテロ原子を１〜４個有する３〜１２員の単環の不飽和炭化水素環を意味し、好ましくは窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群より独立して選択されたヘテロ原子を１〜４個有する４〜７員の不飽和炭化水素環を意味する。具体的にはピリジン、ピリミジン、ピラジン、フラン、チオフェン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、オキサゾール、イソキサゾール、４，５−ジヒドロオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、チアジアゾール、テトラゾール等が挙げられる。必要により、後述の置換基で、独立に１〜４置換されてもよい。
【００４３】
“二環縮合不飽和へテロ環”とは、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群より独立して選択されたヘテロ原子を少なくとも１つ有し、二重結合もしくは三重結合を少なくとも１つ有する７〜１２員の二環の縮合炭化水素環を意味し、好ましくは窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群より独立して選択されたヘテロ原子を１〜４個有する８〜１０員の縮合炭化水素環を意味する。たとえばベンゾチオフェン、インドール、テトラヒドロベンゾチオフェン、ベンゾフラン、イソキノリン、チエノチオフェン、チエノピリジン、キノリン、インドリン、イソインドリン、ベンゾチアゾール、ベンゾオキサゾール、インダゾール、ジヒドロイソキノリン等があげられる。
【００４４】
“ヘテロシクリル”とは、上記“単環不飽和ヘテロ環”または“二環縮合不飽和ヘテロ環”の１価基あるいは“単環不飽和ヘテロ環”または“二環縮合不飽和ヘテロ環”を水素で飽和して生じるヘテロ環の１価基を指称する。必要により、後述の置換基で、独立に１〜４置換されてもよい。
【００４５】
“アルカノイル”とは、上記“アルキル”がカルボニルに結合して生成した基を指称する。
【００４６】
“アルコキシ”とは、上記“アルキル”が酸素原子に結合して生成した基を指称する。
【００４７】
上述の各基における置換基としては、たとえば、ハロゲン（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、ニトロ、シアノ、オキソ、ヒドロキシル、メルカプト、カルボキシル、スルホ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、アリール、ヘテロシクリル、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、シクロアルキニルオキシ、アリールオキシ、ヘテロシクリルオキシ、アルカノイル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、シクロアルキルカルボニル、シクロアルケニルカルボニル、シクロアルキニルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロシクリルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、シクロアルキルオキシカルボニル、シクロアルケニルオキシカルボニル、シクロアルキニルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ヘテロシクリルオキシカルボニル、アルカノイルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、シクロアルキルカルボニルオキシ、シクロアルケニルカルボニルオキシ、シクロアルキニルカルボニルオキシ、アリールカルボニルオキシ、ヘテロシクリルカルボニルオキシ、アルキルチオ、アルケニルチオ、アルキニルチオ、シクロアルキルチオ、シクロアルケニルチオ、シクロアルキニルチオ、アリールチオ、ヘテロシクリルチオ、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、モノ−もしくはジ−アルカノイルアミノ、モノ−もしくはジ−アルコキシカルボニルアミノ、モノ−もしくはジ−アリールカルボニルアミノ、アルキルスルフィニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アリールスルフイニルアミノ、アリールスルホニルアミノ、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、モノ−もしくはジ−アリールカルバモイル、アルキルスルフイニル、アルケニルスルフイニル、アルキニルスルフイニル、シクロアルキルスルフイニル、シクロアルケニルスルフイニル、シクロアルキニルスルフイニル、アリールスルフイニル、ヘテロシクリルスルフィニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、シクロアルキルスルホニル、シクロアルケニルスルホニル、シクロアルキニルスルホニル、アリールスルホニル、ヘテロシクリルスルホニルなどが挙げられる。上記各基はさらに所望により、適宜これら置換基で置換されていてもよい。
【００４８】
さらに、ハロアルキル、ハロ低級アルキル、ハロアルコキシ、ハロ低級アルコキシ、ハロフェニル、ハロへテロシクリルなる用語は、それぞれ、１つ以上のハロゲンで置換された、アルキル、低級アルキル、アルコキシ、低級アルコキシ、フェニルまたはヘテロシクリルを指称する。好ましくは１〜７のハロゲンで置換されたアルキル、低級アルキル、アルコキシ、低級アルコキシ、フェニルまたはヘテロシクリルであり、より好ましくは１〜５のハロゲンで置換されたアルキル、低級アルキル、アルコキシ、低級アルコキシ、フェニルまたはヘテロシクリルである。さらに、ハロピリジル、ハロチエニルなる用語は、それぞれ、１つ以上のハロゲン（フッ素や塩素など）で置換された、ピリジル、またはチエニルを指称する。具体的には、CHF2、CF3、CHF2O、CF3O、CF3CH2、CF3CH2O、FCH2CH2O、ClCH2CH2O、FC6H4、ClC6H4、BrC6H4、IC6H4、FC5H3N、ClC5H3N、BrC5H3N、FC4H2S、ClC4H2S、およびBrC4H2Sが挙げられる。
【００４９】
ヒドロキシアルキル、ヒドロキシ低級アルキル、ヒドロキシアルコキシ、ヒドロキシ低級アルコキシ、ヒドロキシフェニルなる用語は、それぞれ、１つ以上のヒドロキシで置換されたアルキル、低級アルキル、アルコキシ、低級アルコキシ、またはフェニルを指称する。好ましくは１〜４のヒドロキシで置換されたアルキル、低級アルキル、アルコキシ、低級アルコキシ、またはフェニルであり、より好ましくは１〜２のヒドロキシで置換されたアルキル、低級アルキル、アルコキシ、低級アルコキシ、またはフェニルである。さらに、アルコキシアルキル、低級アルコキシアルキル、アルコキシ低級アルキル、低級アルコキシ低級アルキル、アルコキシアルコキシ、低級アルコキシアルコキシ、アルコキシ低級アルコキシ、低級アルコキシ低級アルコキシ、アルコキシフェニル、低級アルコキシフェニルなる用語は、それぞれ、１つ以上のアルコキシまたは低級アルコキシで置換されたアルキル、低級アルキル、アルコキシ、低級アルコキシ、またはフェニルを指称する。好ましくは１〜４のアルコキシで置換されたアルキル、低級アルキル、アルコキシ、低級アルコキシ、またはフェニルであり、より好ましくは１〜２のアルコキシで置換されたアルキル、低級アルキル、アルコキシ、低級アルコキシ、またはフェニルである。
【００５０】
同様に、“シアノフェニル”は１つ以上のシアノ基で置換されたフェニル基を指称する。
【００５１】
“アリールアルキル”および“アリールアルコキシ”とは、単独で使用されても、あるいは他に置換の一部で使用される場合においても、アリールを置換として有する、アルキルまたはアルコキシを指称する。
【００５２】
本明細書中の一般式の定義において「低級」なる用語は、特に断らない限り、炭素数が１乃至６の直鎖又は分枝鎖の炭素鎖を意味する。より好ましくは、炭素数１から４の直鎖又は分岐鎖の炭素鎖を意味する。
【００５３】
本発明の有効成分において、好ましい態様としては、環Ａが置換されていてもよい単環不飽和へテロ環であり、Ｚが
【００５４】
【化９】
【００５５】
である。
【００５６】
他の好ましい態様としては、置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環が、ハロゲン、ニトロ、シアノ、オキソ、ヒドロキシル、メルカプト、カルボキシル、スルホ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、アリール、ヘテロシクリル、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、シクロアルキニルオキシ、アリールオキシ、ヘテロシクリルオキシ、アルカノイル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、シクロアルキルカルボニル、シクロアルケニルカルボニル、シクロアルキニルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロシクリルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、シクロアルキルオキシカルボニル、シクロアルケニルオキシカルボニル、シクロアルキニルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ヘテロシクリルオキシカルボニル、アルカノイルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、シクロアルキルカルボニルオキシ、シクロアルケニルカルボニルオキシ、シクロアルキニルカルボニルオキシ、アリールカルボニルオキシ、ヘテロシクリルカルボニルオキシ、アルキルチオ、アルケニルチオ、アルキニルチオ、シクロアルキルチオ、シクロアルケニルチオ、シクロアルキニルチオ、アリールチオ、ヘテロシクリルチオ、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、モノ−もしくはジ−アルカノイルアミノ、モノ−もしくはジ−アルコキシカルボニルアミノ、モノ−もしくはジ−アリールカルボニルアミノ、アルキルスルフィニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アリールスルフイニルアミノ、アリールスルホニルアミノ、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、モノーもしくはジーアリールカルバモイル、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、アルキルスルフイニル、アルケニルスルフイニル、アルキニルスルフイニル、シクロアルキルスルフイニル、シクロアルケニルスルフイニル、シクロアルキニルスルフイニル、アリールスルフイニル、ヘテロシクリルスルフィニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、シクロアルキルスルホニル、シクロアルケニルスルホニル、シクロアルキニルスルホニル、アリールスルホニル、およびヘテロシクリルスルホニルなどから選ばれる１〜５の置換基（ここにおいて該置換基はさらに上記置換基から選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい）で置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環であり、
置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環が、ハロゲン、ニトロ、シアノ、オキソ、ヒドロキシル、メルカプト、カルボキシル、スルホ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、アリール、ヘテロシクリル、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、シクロアルキニルオキシ、アリールオキシ、ヘテロシクリルオキシ、アルカノイル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、シクロアルキルカルボニル、シクロアルケニルカルボニル、シクロアルキニルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロシクリルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、シクロアルキルオキシカルボニル、シクロアルケニルオキシカルボニル、シクロアルキニルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ヘテロシクリルオキシカルボニル、アルカノイルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、シクロアルキルカルボニルオキシ、シクロアルケニルカルボニルオキシ、シクロアルキニルカルボニルオキシ、アリールカルボニルオキシ、ヘテロシクリルカルボニルオキシ、アルキルチオ、アルケニルチオ、アルキニルチオ、シクロアルキルチオ、シクロアルケニルチオ、シクロアルキニルチオ、アリールチオ、ヘテロシクリルチオ、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、モノ−もしくはジ−アルカノイルアミノ、モノ−もしくはジ−アルコキシカルボニルアミノ、モノ−もしくはジ−アリールカルボニルアミノ、アルキルスルフィニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アリールスルフイニルアミノ、アリールスルホニルアミノ、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、モノ−もしくはジ−アリールカルバモイル、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、アルキルスルフイニル、アルケニルスルフイニル、アルキニルスルフイニル、シクロアルキルスルフイニル、シクロアルケニルスルフイニル、シクロアルキニルスルフイニル、アリールスルフイニル、ヘテロシクリルスルフィニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、シクロアルキルスルホニル、シクロアルケニルスルホニル、シクロアルキニルスルホニル、アリールスルホニル、およびヘテロシクリルスルホニルなどから選ばれる１〜５の置換基（ここにおいて該置換基はさらに上記置換基から選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい）で置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環であり、
置換されていてもよいベンゼン環が、ハロゲン、ニトロ、シアノ、ヒドロキシル、メルカプト、カルボキシル、スルホ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、アリール、ヘテロシクリル、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、シクロアルキニルオキシ、アリールオキシ、ヘテロシクリルオキシ、アルカノイル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、シクロアルキルカルボニル、シクロアルケニルカルボニル、シクロアルキニルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロシクリルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、シクロアルキルオキシカルボニル、シクロアルケニルオキシカルボニル、シクロアルキニルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ヘテロシクリルオキシカルボニル、アルカノイルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、シクロアルキルカルボニルオキシ、シクロアルケニルカルボニルオキシ、シクロアルキニルカルボニルオキシ、アリールカルボニルオキシ、ヘテロシクリルカルボニルオキシ、アルキルチオ、アルケニルチオ、アルキニルチオ、シクロアルキルチオ、シクロアルケニルチオ、シクロアルキニルチオ、アリールチオ、ヘテロシクリルチオ、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、モノ−もしくはジ−アルカノイルアミノ、モノ−もしくはジ−アルコキシカルボニルアミノ、モノ−もしくはジ−アリールカルボニルアミノ、アルキルスルフィニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アリールスルフイニルアミノ、アリールスルホニルアミノ、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、モノ−もしくはジ−アリールカルバモイル、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、アルキルスルフイニル、アルケニルスルフイニル、アルキニルスルフイニル、シクロアルキルスルフイニル、シクロアルケニルスルフイニル、シクロアルキニルスルフイニル、アリールスルフイニル、ヘテロシクリルスルフィニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、シクロアルキルスルホニル、シクロアルケニルスルホニル、シクロアルキニルスルホニル、アリールスルホニル、ヘテロシクリルスルホニル、アルキレン、アルキレンオキシ、アルキレンジオキシ、およびアルケニレンなどから選ばれる１〜５の置換基（ここにおいて該置換基はさらに上記置換基から選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい）で置換されていてもよいベンゼン環である。
【００５７】
“置換されていてもよいベンゼン環”には、アルキレンで置換されたベンゼン環、すなわち、アルキレンが結合している炭素原子と共に縮環した炭化水素環を形成しているベンゼン環、および、アルケニレンで置換されたベンゼン環、すなわち、結合している炭素原子と共に縮環した炭化水素環（例えばベンゼン環など）を形成しているベンゼン環も包含される。
【００５８】
置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環として好ましくは、ハロゲン、ヒドロキシル、アルコキシ、アルキル、ハロアルキル、ハロアルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アルコキシアルコキシ、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキルオキシ、アリール、アリールオキシ、アリールアルコキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、アルカノイル、アルキルスルホニルアミノ、アリールスルホニルアミノ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、ヘテロシクリルおよびオキソから選ばれた１〜３の置換基で置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環があげられる。
【００５９】
置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環として好ましくは、ハロゲン、ヒドロキシル、アルコキシ、アルキル、ハロアルキル、ハロアルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アルコキシアルコキシ、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキルオキシ、アリール、アリールオキシ、アリールアルコキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、アルカノイル、アルキルスルホニルアミノ、アリールスルホニルアミノ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、ヘテロシクリルおよびオキソから選ばれた１〜３の置換基で置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環があげられる。
【００６０】
また、置換されていてもよいベンゼン環として好ましくは、ハロゲン、ヒドロキシル、アルコキシ、アルキル、ハロアルキル、ハロアルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アルコキシアルコキシ、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキルオキシ、アリール、アリールオキシ、アリールアルコキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、アルカノイル、アルキルスルホニルアミノ、アリールスルホニルアミノ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、ヘテロシクリル、アルキレン、アルキレンオキシ、アルキレンジオキシおよびアルケニレンから選ばれた１〜３の置換基で置換されていてもよいベンゼン環があげられる。
【００６１】
他の好ましい態様においては、置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環が、ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリルおよびオキソから独立して選ばれる１−３の置換基で置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環であり、
置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環が、ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルカノイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリルおよびオキソから独立して選ばれる１−３の置換基で置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環であり、
置換されていてもよいベンゼン環が、ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、アルキレンおよびアルケニレンから独立して選ばれる１−３の置換基で置換されていてもよいベンゼン環であり、
ここにおいて、これらベンゼン環上、単環不飽和ヘテロ環上、または二環縮合不飽和ヘテロ環上の置換は、さらに、ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルボキシ、アルコキシカルボニル、フェニル、アルキレンオキシ、アルキレンジオキシ、オキソ、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイルから独立して選ばれる１−３の置換基で置換されていてもよい。
【００６２】
好ましい態様としては、置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環が、ハロゲン、シアノ、アルキル、アルコキシ、アルカノイル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、カルボキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、フェニル、ヘテロシクリル、およびオキソから独立して選ばれる１−３の置換基で置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環であり；
置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環が、ハロゲン、シアノ、アルキル、アルコキシ、アルカノイル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、カルボキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、フェニル、ヘテロシクリル、およびオキソから独立して選ばれる１−３の置換基で置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環であり；
置換されていてもよいベンゼン環が、ハロゲン、シアノ、アルキル、アルコキシ、アルカノイル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、カルボキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、フェニル、ヘテロシクリル、アルキレンおよびアルケニレンから独立して選ばれる１−３の置換基で置換されていてもよいベンゼン環であり；
ここにおいて、これらベンゼン環上、単環不飽和ヘテロ環上、または二環不飽和ヘテロ環上の置換は、さらに、ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルカノイル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルボキシ、ヒドロキシ、フェニル、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイルから独立して選ばれる１−３の置換基で置換されていてもよい。
【００６３】
他の好ましい態様としては、
（１）環Ａが以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい単環不飽和へテロ環であり：
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、及びオキソ；
環Ｂが、それぞれ以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい、単環不飽和へテロ環、二環縮合不飽和へテロ環、またはベンゼン環：
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、アルキレン、及びアルケニレン；
ここにおいて、上記環Ａおよび環Ｂの置換基はさらに以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい：
ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルカノイル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルボキシル、ヒドロキシ、フェニル、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル；
（２）環Ａが以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよいベンゼン環：
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、アルキレン及びアルケニレン；
環Ｂが、それぞれ以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい、単環不飽和へテロ環または二環不飽和へテロ環であり：
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、アルキレン及びオキソ；
ここにおいて、上記の環Ａおよび環Ｂの置換基は、以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい：
ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルカノイル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルボキシル、ヒドロキシ、フェニル、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル；あるいは、
（３）環Ａが以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい二環不飽和へテロ環であり：
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、及びオキソ；
環Ｂが選ばれる１−３の置換基で置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環、二環縮合不飽和ヘテロ環またはベンゼン環：
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、アルキレンおよびオキソ；
ここにおいて、これら環Ａおよび環Ｂの置換はさらにハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルカノイル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルボキシ、ヒドロキシ、フェニル、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイルおよびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイルから独立して選ばれる１−３の置換基で置換されていてもよい；
である。
【００６４】
他の好ましい態様としては、
（１）環Ａが、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはオキソで置換されていてもよい単環不飽和へテロ環であり、環Ｂが、（a）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選ばれる基で置換されていてもよいベンゼン環であるか、（b）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選ばれる基で置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環であるか、あるいは（c）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選ばれる基で置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環であるか；
（２）環Ａが、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、フェニル、または低級アルケニレンで置換されていてもよいベンゼン環であり、 環Ｂが、（a）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；フェニル低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルバモイルまたはモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルで置換されていてもよいヘテロシクリルから選ばれる基で置換されていてもよい単環不飽和へテロ環、または（ｂ）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；フェニル低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選ばれる基で置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環であるか；あるいは
（３）環Ａが、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはオキソで置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環であり、 環Ｂが、（a）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選ばれる基で置換されていてもよいベンゼン環、（ｂ）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選ばれる基で置換されていてもよい単環不飽和へテロ環、あるいは（ｃ）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選ばれる基で置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環である。
【００６５】
より好ましい態様においては、Ｙが−ＣＨ２−であって、Ｘを１位として３位の位置で環Ａと結合している。
【００６６】
他の好ましい態様としては、
（１）環Ａが以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよいベンゼン環：
ハロゲン；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；フェニル；および低級アルキレン；
環Ｂが、それぞれ以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい、単環不飽和へテロ環または二環縮合不飽和へテロ環であり：
ハロゲン；ハロゲン、低級アルコキシまたはフェニルで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルで置換されていてもよいフェニル；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルで置換されていてもよいヘテロシクリル；およびオキソ；
（２）環Ａが以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい単環不飽和へテロ環：
ハロゲン；低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；およびオキソ；
環Ｂが、以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよいベンゼン環であり：
ハロゲン；ハロゲン、低級アルコキシまたはフェニルで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいフェニル；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいヘテロシクリル；および低級アルキレン；
（３）環Ａが以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい単環不飽和へテロ環：
ハロゲン；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；およびオキソ；
環Ｂが、それぞれ以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい、単環不飽和へテロ環または二環縮合不飽和へテロ環であり：
ハロゲン；ハロゲン、低級アルコキシまたはフェニルで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいフェニル；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいヘテロシクリル；およびオキソ；
（４）環Ａが以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環：
ハロゲン；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；およびオキソ；
環Ｂが、それぞれ以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい、ベンゼン環または単環不飽和へテロ環：
ハロゲン；ハロゲン、低級アルコキシまたはフェニルで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいフェニル；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいヘテロシクリル；および低級アルキレン；或いは、
（５）環Ａが以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい単環不飽和へテロ環：
ハロゲン；低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；およびオキソ；
環Ｂが、それぞれ以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい、単環不飽和へテロ環または二環縮合不飽和へテロ環：
ハロゲン；ハロゲン、低級アルコキシまたはフェニルで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいフェニル；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいヘテロシクリル；およびオキソ；
である。
【００６７】
好ましい単環不飽和ヘテロ環としては、窒素、酸素および硫黄から独立に選ばれるヘテロ原子を１または２含む５〜６員の不飽和ヘテロ環が挙げられる。具体的には、フラン、チオフェン、オキサゾール、イソオキサゾール、トリアゾール、テトラゾール、ピラゾール、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、ジヒドロイソオキサゾール、ジヒドロピリジン、およびチアゾールなどが好ましい。好ましい二環縮合不飽和ヘテロ環としては、窒素、酸素および硫黄から独自に選ばれるヘテロ原子を１〜４個含む９〜１０員の二環不飽和ヘテロ環があげられる。具体的には、インドリン、イソインドリン、ベンゾチアゾール、ベンゾオキサゾール、インドール、インダゾール、キノリン、イソキノリン、ベンゾチオフェン、ベンゾフラン、チエノチオフェン、またはジヒドロイソキノリンが好ましい。
【００６８】
さらにまた、本発明の有効成分において、好ましい化合物としては、環Ａが、
【００６９】
【化１０】
【００７０】
（式中、Ｒ1a、Ｒ2a、Ｒ3a、Ｒ1b、Ｒ2b、およびＲ3bは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、ヒドロキシル、アルコキシ、アルキル、ハロアルキル、ハロアルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アルコキシアルコキシ、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキルオキシ、フェニル、フェニルアルコキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルカノイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、またはフェニルスルホニルを表す。）
であり、環Ｂが、
【００７１】
【化１１】
【００７２】
（式中、Ｒ4aおよびＲ5aは、それぞれ独立して、水素；ハロゲン；ヒドロキシ；アルコキシ；アルキル；ハロアルキル；ハロアルコキシ；ヒドロキシアルキル；アルコキシアルキル；フェニルアルキル；アルコキシアルコキシ；ヒドロキシアルコキシ；アルケニル；アルキニル；シクロアルキル；シクロアルケニル；シクロアルキルオキシ；フェニルオキシ；フェニルアルコキシ；シアノ；ニトロ；アミノ；モノ−もしくはジ−アルキルアミノ；アルカノイルアミノ；カルボキシル；アルコキシカルボニル；カルバモイル；モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル；アルカノイル；アルキルスルホニルアミノ；フェニルスルホニルアミノ；アルキルスルフィニル；アルキルスルホニル；フェニルスルホニル；ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイルから選ばれる１−３の基で置換されていてもよいフェニル；またはハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、カルバモイルおよびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイルから選ばれる１−３の基で置換されていてもよいヘテロシクリルであるか、あるいはＲ4aおよびＲ5aは、互いに末端で結合してアルキレンを形成し；
Ｒ4b、Ｒ5b、Ｒ4cおよびＲ5cは、それぞれ独立して、水素；ハロゲン；ヒドロキシル；アルコキシ；アルキル；ハロアルキル；ハロアルコキシ；ヒドロキシアルキル；アルコキシアルキル；フェニルアルキル；アルコキシアルコキシ；ヒドロキシアルコキシ；アルケニル；アルキニル；シクロアルキル；シクロアルケニル；シクロアルキルオキシ；フェニルオキシ；フェニルアルコキシ；シアノ；ニトロ；アミノ；モノ−もしくはジ−アルキルアミノ；アルカノイルアミノ；カルボキシル；アルコキシカルボニル；カルバモイル；モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル；アルカノイル；アルキルスルホニルアミノ；フェニルスルホニルアミノ；アルキルスルフィニル；アルキルスルホニル；フェニルスルホニル；ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、およびモノ−もしくはジ−アルキルアミノから選ばれる１−３の基で置換されていてもよいフェニル；またはハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシおよびハロアルコキシから選ばれる１−３の基で置換されていてもよいヘテロシクリルを表す。）
であり、Ｚが
【００７３】
【化１２】
【００７４】
である。
【００７５】
本発明の有効成分においてより好ましくは、Ｒ1a、Ｒ2a、Ｒ3a、Ｒ1b、Ｒ2b、およびＲ3bが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはフェニルであり；
Ｒ4aおよびＲ5aが、それぞれ独立して、水素；ハロゲン；低級アルキル；ハロ低級アルキル；フェニル低級アルキル；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、メチレンジオキシ、エチレンオキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイルおよびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選ばれる１−３の基で置換されていてもよいフェニル；または、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選ばれる１−３の基で置換されていてもよいヘテロシクリルであるか、またはＲ4aおよびＲ5aが互いに末端で結合して低級アルキレンを形成し；
Ｒ4b、Ｒ5b、Ｒ4cおよびＲ5cが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシまたはハロ低級アルコキシである。
【００７６】
本発明の有効成分においてさらに好ましくは、環Ａが、
環Ａが、
【００７７】
【化１３】
【００７８】
であり、Ｒ1aがハロゲン、低級アルキル、または低級アルコキシであり、Ｒ2aおよびＲ3aが水素であり；環Ｂが、
【００７９】
【化１４】
【００８０】
であり、
Ｒ4aが、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、メチレンジオキシ、エチレンオキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選ばれる１−３の基で置換されていてもよいフェニル；またはハロゲン、シアノ、低級アルキル、低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選ばれる１−３の基で置換されていてもよいヘテロシクリルであり、
Ｒ5aが水素であるか、
またはＲ4aおよびＲ5aが互いに末端で結合してアルキレンを形成している化合物である。
【００８１】
本発明の有効成分においてさらにより好ましい化合物としては、Ｒ1aがハロゲン、または低級アルキルであり、Ｒ4aが、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選ばれる１−３の基で置換されていてもよいフェニル；または、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、低級アルコキシ、カルバモイルおよびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選ばれる１−３の基で置換されていてもよいヘテロシクリルであり、Ｒ5aが、水素である。
【００８２】
より好ましくは、Ｒ4aが、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；または、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシまたはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいヘテロシクリルである。
【００８３】
さらに好ましくは、Ｒ4aが、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されたフェニル；または、ハロゲン、シアノ、低級アルキルまたは低級アルコキシで置換されたヘテロシクリルである。
【００８４】
さらにより好ましくは、ヘテロシクリルが、窒素、酸素および硫黄から選ばれるヘテロ原子を１〜２個含有する５〜６員のヘテロシクリルであるか、窒素、酸素および硫黄から選ばれるヘテロ原子を１〜４個含有する９〜１０員のヘテロシクリルである。具体例としては、チエニル、ピリジル、ピリミジル、ピラジニル、ピラゾリル、チアゾリル、キノリル、テトラゾリル、およびオキサゾリルが挙げられる。
【００８５】
とりわけ好ましくは、Ｒ4aが、ハロゲンまたはシアノで置換されたフェニル；または、ハロゲンで置換されたピリジルである。
【００８６】
本発明の他の好ましい態様としては、環Ａが
【００８７】
【化１５】
【００８８】
であり、Ｒ1aが、ハロゲン、低級アルキル、または低級アルコキシであり、Ｒ2aおよびＲ3aが水素であり；環Ｂが
【００８９】
【化１６】
【００９０】
であり、Ｒ4bおよびＲ5bがそれぞれ独立して、水素、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシである。
【００９１】
さらに他の好ましい態様としては、環Ａが、
【００９２】
【化１７】
【００９３】
であり、R6が水素、ハロゲンまたはアルキルであり、環Ｂが
【００９４】
【化１８】
【００９５】
であり、R7aとR7bは、互いに独立して、水素、ハロゲン、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキルチオ、ヒドロキシ、フェニル、ハロフェニル、シアノフェニル、ピリジル、ハロピリジル、チエニル、またはハロチエニルであるか、あるいはR7aとR7bは、結合している炭素原子と共に縮合ベンゼン環、縮合フラン環または縮合ジヒドロフラン環を形成し、ＹがCH2である。
【００９６】
より好ましい態様としては、R6がハロゲンであり、Ｚが
【００９７】
【化１９】
【００９８】
であり、R7aとR7bが独立して水素、ハロゲン、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキルチオ、フェニル、ハロフェニル、シアノフェニル、ピリジル、またはハロピリジルであるか、あるいはR7aとR7bが結合する炭素原子と共に縮合ベンゼン環、縮合フラン環、縮合ジヒドロフラン環を形成する。
【００９９】
さらに好ましい態様としては、R7aとR7bが独立して水素、ハロゲン、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、またはアルキルチオであるか、あるいはR7aとR7bが結合する炭素原子と共に縮合フラン環、または縮合ジヒドロフラン環を形成する。
【０１００】
さらに好ましい他の態様としては、R7aとR7bが独立して水素、ハロゲン、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、またはハロアルコキシであるか、あるいはR7aとR7bが結合する炭素原子と共に縮合フラン環、または縮合ジヒドロフラン環を形成する。
【０１０１】
他の好ましい態様としては、R6がフッ素、塩素または臭素であり、より好ましくはフッ素または塩素である。
【０１０２】
さらに、好ましい他の態様としては、R6がハロゲンであり、環Ｂが
【０１０３】
【化２０】
【０１０４】
であり、R7aがハロゲン、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、またはアルキルチオである。
【０１０５】
より好ましくは、R7aがハロゲン（塩素、臭素、ヨウ素など）、アルキル（メチル、エチルなど）、シクロアルキル（シクロプロピルなど）、ハロアルキル（ジフルオロメチル、トリフルオロメチルなど）、アルコキシ（メトキシ、エトキシなど）またはハロアルコキシ（クロロエトキシ、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシなど）である。さらに好ましくは、R7aがハロゲン、アルキル、シクロアルキル、またはアルコキシである。
【０１０６】
他の好ましい態様としては、環Ｂが
【０１０７】
【化２１】
【０１０８】
である。
【０１０９】
さらに好ましくは、R6がハロゲンであり、R7aがハロゲン（特にフッ素、塩素）またはアルキル（特にメチルまたはエチル）である。
【０１１０】
さらに他の好ましい態様としては、環Ｂが
【０１１１】
【化２２】
（式中、
【０１１２】
【化２３】
【０１１３】
は単結合または二重結合を示す）
であり、R6 がハロゲンである。
【０１１４】
他の好ましい態様としては、環Ａがインドール、クロロインドール、またはクロロベンゼン、環Ｂがエチルフェニル、エトキシフェニル、ベンゾ[b]チオフェン−2−イル、または5−フェニル−2−チエニル、Ｙが−CH2−、及びＺが5−チオ−β−Ｄ−グルコピラノシル、4−フルオロ−4−デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシル、4−フルオロ−4−デオキシ−β−Ｄ−ガラクトピラノシル、または6−フルオロ−6−デオキシ−β−Ｄ−グルコピラノシルである。
【０１１５】
本発明の医薬組成物において、好ましい有効成分としては、
3−（4−エチルフェニルメチル）−1−（5−チオ−β−D−グルコピラノシル）インドール、4−クロロ−3−（4−エチルフェニルメチル）−1−（5−チオ−β−D−グルコピラノシル）インドール、4−クロロ−3−（4−エチルフェニルメチル）−1−（4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−グルコピラノシル）インドール、4−クロロ−3−（4−エトキシフェニルメチル）−1−（5−チオ−β−D−グルコピラノシル）インドール、3−（ベンゾ[b]チオフェン−2−イルメチル）−4−クロロ−1−（4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−ガラクトピラノシル）ベンゼン、4−クロロ−3−（5−フェニル−2−チエニルメチル）−1−（6−フルオロ−6−デオキシ−β−D−グルコピラノシル）ベンゼン、または4−クロロ−3−（5−フェニル−2−チエニルメチル）−1−（4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−グルコピラノシル）ベンゼン、またはその薬理的に許容しうる塩である。
【０１１６】
本発明の有効成分（Ｉ）は、ナトリウム依存性グルコース輸送担体の阻害活性を有し、優れた血糖降下作用を示す。このため、本発明の医薬組成物は血糖降下剤として有用である。また本発明の医薬組成物は、糖尿病、糖尿病合併症（糖尿病性網膜症、糖尿病性神経障害、糖尿病性腎症など）、遅延創傷治癒、インスリン抵抗性、高血糖症、高インスリン血症、高脂肪酸血症、高グリセロール血症、高脂血症、肥満症、高トリグリセリド血症、Ｘ症候群、メタボリック症候群、アテローム硬化症、過血糖あるいは高血圧症などの予防または治療剤として好適に使用することができる。とりわけ、糖尿病（１型または２型糖尿病など）、糖尿病合併症（たとえば糖尿病性網膜症、糖尿病性神経障害、糖尿病性腎症）、または肥満症の予防または治療剤として、あるいは過血糖（特に食後の過血糖）の予防または治療剤として好適に使用することができる。
【０１１７】
本発明の有効成分（Ａ）は、遊離の形でもまたその薬理的に許容しうる塩の形でも本発明の目的に用いることができる。薬理的に許容しうる塩としては、たとえばリチウム、ナトリウムまたはカリウムなどのアルカリ金属塩；カルシウムまたはマグネシウムなどのアルカリ土類金属塩；並びに亜鉛またはアルミニウムとの塩；および有機塩基たとえばアンモニウム、コリン、ジエタノールアミン、リジン、エチレンジアミン、tert−ブチルアミン、tert−オクチルアミン、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン、Ｎ−メチルグルコサミン、トリエタノールアミンおよびデヒドロアビエチルアミンとの塩；塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硫酸、硝酸、リン酸などの無機酸との塩；あるいはギ酸、酢酸、プロピオン酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、フマール酸、マレイン酸、乳酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸などの有機酸との塩；またはアスパラギン酸、グルタミン酸などの酸性アミノ酸との塩等が挙げられる。
【０１１８】
また、有効成分（Ａ）の薬理的に許容しうる塩とは、その分子内塩、溶媒和物あるいは水和物等をいずれも含む。
【０１１９】
本発明の有効成分である化合物（Ａ）およびその薬理的に許容しうる塩は、経口的にも非経口的にも投与することができ、経口もしくは非経口投与に通常用いられる医薬担体を用いて、適当な製剤とすることができる。かかる医薬担体としては、例えば、結合剤（シロップ、アラビアゴム、ゼラチン、ソルビット、トラガント、ポリビニルピロリドン等）、賦形剤（乳糖、砂糖、コーンスターチ、リン酸カリウム、ソルビット、グリシン等）、潤滑剤（ステアリン酸マグネシウム、タルク、ポリエチレングリコール、シリカ等）、崩壊剤（バレイショデンプン等）および湿潤剤（ラウリル硫酸ナトリウム等）等をあげることができる。また、これら医薬製剤は、経口投与する場合には、錠剤、顆粒剤、カプセル剤、散剤の如き固形製剤であってもよく、溶液、懸濁液、乳液の如き液体製剤であってもよい。一方、非経口投与する場合には、例えば、注射用蒸留水、生理的食塩水、ブドウ糖水溶液等を用いて注射剤や点滴剤として、あるいは坐剤等とすることができる。
【０１２０】
本発明の有効成分（Ａ）、その薬理的に許容し得る塩の投与量は、投与方法、患者の年令、体重、状態或いは疾患の種類・程度によっても異なるが、通常、１日当り約０.１〜５０ｍｇ/ｋｇ、とりわけ約０.１〜３０ｍｇ/ｋｇ程度とするのが好ましい。
【０１２１】
本発明の有効成分（Ａ）は、ＳＧＬＴ阻害作用を有し、これにより尿中への糖の排泄を促進し、血糖降下作用を奏する。インスリン非依存型糖尿病モデル動物に、本発明の有効成分を４週間連続投与したところ、血糖値の改善が見られた。
【０１２２】
また、本発明の有効成分である化合物は、毒性が低いという特徴も有する。
【０１２３】
本発明の有効成分は、以下の方法により製造することができる。
製法Ｉ
【０１２４】
【化２４】
【０１２５】
（式中、OR8は保護されたヒドロキシであり、Phはフェニルであり、他の記号は前記と同一意味を有する。）
工程I−1：
式（I−1）で示される化合物は、式（Ｂ）で示される化合物とベンズアルデヒドジメチルアセタールを適当な溶媒（テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジクロロメタンなど）中、酸（塩酸、硫酸、ｐ−トシル酸、四フッ化ホウ酸など）の存在下に縮合することにより製造することができる。
工程I−2:
式（I−2）で示される化合物は、化合物（I−1）のヒドロキシを保護することにより製造することができる。ヒドロキシの保護基としては、慣用の保護基を用いることができ、例えばベンジル基、アセチル基、トリメチルシリル基などのアルキルシリル基が挙げられる。あるいは、ヒドロキシの保護基は隣接するヒドロキシとともにアセタールやシリルアセタールを形成していてもよい。ヒドロキシの保護は慣用の方法により実施することができる（"Protecting Groups in Organic Synthesis", John Wiley & Sons参照）。
工程I−3：
式（I−3）で示される化合物は、式（Ｉ−２）で示される化合物を適当な溶媒中（例えば、メタノール、エタノール、水など）、酸（例えば、塩酸、酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸など）で加水分解することにより製造することができる。
工程I−4:
式（I−4）で示される化合物は、式（I−3）で示される化合物のヒドロキシを、工程I−2と同様にして保護することにより製造することができる。
工程I−5:
式（I−5）で示される化合物は、式（I−4）で示される化合物を、適当な溶媒（ジクロロメタン、クロロホルム、テトラヒドロフランなど）中、フッ化剤（例えば、（ジエチルアミノ）スルファー トリフルオリド）で処理することにより、製造することができる。
工程I−6:
式（A−1）で示される化合物は、式（I−5）で示される化合物を脱保護に付すことにより製造することができる。
【０１２６】
脱保護は、除去される保護基の種類に応じ、還元、加水分解、酸処理、フッ化物処理などの常法により実施することができる。
【０１２７】
還元の場合には、例えば、適当な溶媒中（メタノール、エタノールなど）、水素雰囲気下、触媒（パラジウム−炭素、白金など）を用いて処理すればよい。
【０１２８】
加水分解の場合には、適当な溶媒中（例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、メタノール、エタノール、水など）、塩基（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドなど）で処理すればよい。
【０１２９】
酸処理の場合は、適当な溶媒中（例えば、メタノール、エタノールなど）、酸（例えば、塩酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸など）で処理すればよい。
【０１３０】
フッ化物処理の場合には、適当な溶媒中（メタノール、エタノール、アセトニトリル、テトラヒドロフランなど）、フッ化物（フッ化水素、フッ化水素−ピリジン、フッ化テトラブチルアンモニウム等）で処理すればよい。
製法II:
【０１３１】
【化２５】
【０１３２】
（式中、Trはトリチル（すなわちトリフェニルメチル）であり、他の記号は前記と同一意味を有する。）
工程II−1:
式（II−1）で示される化合物は、式（B）で示される化合物と塩化トリチルを、塩基（ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンなど）の存在下、適当な溶媒（ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、ジクロロメタンなど）中、冷却下から加熱下で反応させることにより製造することができる。
工程II−2:
式（II−2）で示される化合物は、式（II−1）で示される化合物のヒドロキシを保護することにより製造することができる。保護は工程I−2と同様にして実施することができる。
工程II−3:
式（II−3）で示される化合物は、式（II−2）で示される化合物を、適当な溶媒（テトラヒドロフラン、メタノール、エタノール、水など）中、酸（酢酸、ギ酸、塩酸など）で処理することにより、製造することができる。
工程II−4:
式（II−4）で示される化合物は、式（II−3）で示される化合物をフッ化剤で処理することにより製造することができる。この工程は工程I−5と同様にして実施することができる。
工程II−5:
式（A−2）で示される化合物は、式（II−4）で示される化合物を脱保護に付すことにより製造することができる。脱保護は、工程I−6と同様にして実施することができる。
製法III:
【０１３３】
【化２６】
【０１３４】
（式中、R9 は臭素またはヨウ素、他の記号は前記と同一意味を有する。）
工程III−1:
式（III−1）で示される化合物は、式（C）で示される化合物を、適当な溶媒（テトラヒドロフランなど）中、冷却下、アルキルリチウム（メチルリチウム、n−ブチルリチウム、t−ブチルリチウムなど）で処理した後、式（D）で示される化合物と反応させることにより製造することができる。
工程III−2:
式（III−2）で示される化合物は、式（III−1）で示される化合物を、三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯塩などのルイス酸またはトリフルオロ酢酸などの存在下、適当な溶媒中（例えば、アセトニトリル、ジクロロメタンなど）で、冷却下から室温でシラン化合物（例えば、トリエチルシラン、トリイソプロピルシランなどのトリアルキルシラン類）で処理することにより、製造することができる。
工程III−3:
式（A−3）で示される化合物は、式（III−2）で示される化合物を脱保護に付すことにより製造することができる。脱保護は工程I−6と同様にして実施することができる。
製法IV:
【０１３５】
【化２７】
【０１３６】
（式中、記号は前記と同一意味を有する。）
工程IV−1：
式（IV−1）で示される化合物は、式（Ｅ）で示される化合物と式（Ｆ）で示される化合物（例えば、2,3,4,6−テトラ−O−ベンジル−D−ガラクトピラノシル クロリド）を、適当な溶媒中（テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミドなど）、塩基（水素化ナトリウム、水酸化カリウムなど）の存在下、冷却下から加熱下に縮合させることにより製造することができる。
工程IV−2:
式（A−4）で示される化合物は、式（IV−1）で示される化合物を脱保護に付すことにより製造することができる。脱保護は工程I−6と同様にして実施することができる。
製法V:
【０１３７】
【化２８】
【０１３８】
（式中、記号は前記と同一意味を有する。）
工程V−1:
式（V−1）で示される化合物は、式（C）で示される化合物をアルキルリチウムで処理したのち、式（G）で示される化合物と反応させることにより製造することができる。この工程は工程III−1と同様にして製造することができる。
工程V−2:
式（V−2）で示される化合物は、式（V−1）で示される化合物を還元することにより製造することができる。還元は工程III−2と同様にして実施することができる。
工程V−3:
式（A−5）で示される化合物は、式（V−2）で示される化合物を脱保護に付すことにより製造することができる。脱保護は工程I−6と同様にして実施することができる。
製法VI:
【０１３９】
【化２９】
【０１４０】
（式中、記号は前記と同一意味を有する。）
工程VI−1:
式（VI−1）で示される化合物は、式（A−3）または（A−4）で示される化合物とベンズアルデヒドジメチルアセタールを縮合させることにより製造することができる。縮合は工程I−1と同様にして実施することができる。
工程VI−2:
式（VI−2）で示される化合物は、式（VI−1）で示される化合物のヒドロキシを保護することにより製造することができる。保護は工程I−2と同様にして実施することができる。
工程VI−3:
式（VI−3）で示される化合物は、式（VI−2）で示される化合物を酸で加水分解することにより製造することができる。加水分解は工程I−3と同様にして実施することができる。
工程VI−4:
式（VI−4）で示される化合物は、式（VI−3）で示される化合物のヒドロキシを保護することにより製造することができる。保護は工程I−2と同様にして実施することができる。
工程VI−5:
式（VI−5）で示される化合物は、式（VI−4）で示される化合物をフッ化剤で処理することにより製造することができる。この工程は工程I−5と同様にして実施することができる。
工程VI−6:
式（A−6）で示される化合物は、式（VI−5）で示される化合物を脱保護に付すことにより製造することができる。脱保護は工程I−6と同様にして実施することができる。
製法VII:
【０１４１】
【化３０】
【０１４２】
（式中、記号は前記と同一意味を有する。）
工程VII−1:
式（VII−1）で示される化合物は、式（C）で示される化合物をリチオ化し、リチオ化された化合物をCuIで処理した後、得られた化合物を式（H）で示される化合物と反応させることにより製造することができる。
【０１４３】
リチオ化は、適当な溶媒中（テトラヒドロフランなど）、冷却下に、アルキルリチウム（メチルリチウム、n−ブチルリチウム、t−ブチルリチウムなど）で処理することにより製造することができる。
【０１４４】
ＣｕＩによる処理は、適当な溶媒中（テトラヒドロフランなど）、冷却下、リチオ化された化合物とＣｕＩを反応させることにより実施することができる。
【０１４５】
得られた化合物と式（Ｈ）の化合物の反応は、適当な溶媒中（テトラヒドロフランなど）冷却下から室温で実施することができる。
工程VII−2:
式（VII−2）で示される化合物は、式（VII−1）で示される化合物を還元することにより製造することができる。還元は工程III−2と同様にして実施することができる。
工程VII−3:
式（A−7）で示される化合物は、式（VII−2）で示される化合物を脱保護に付すことにより製造することができる。脱保護は工程I−6と同様にして実施することができる。
製法VIII:
【０１４６】
【化３１】
【０１４７】
（式中、記号は前記と同一意味を有する。）
工程VIII−1:
式（VIII−1）で示される化合物は、式（E）で示される化合物と式（I）で示される化合物（Tetrahedron Lett., 2001, 42, 1197−1200参照）を縮合することにより製造することができる。縮合は工程IV−1と同様にして実施することができる。
工程VIII−2:
式（A−8）で示される化合物は、式(VIII-1)で示される化合物を脱保護に付すことにより製造することができる。脱保護は工程I−6と同様にして実施することができる。
【０１４８】
式（A）で示される化合物のうち、環Ａが
【０１４９】
【化３２】
【０１５０】
（ここでR6は前記と同一意味を有する）
であり、環Ｂが
【０１５１】
【化３３】
【０１５２】
（ここでR7aとR7bは前記と同一意味を有する。）
であり、ＹがCH2である化合物は、以下の方法により製造することができる。
製法IX:
【０１５３】
【化３４】
【０１５４】
（式中、Arは
【０１５５】
【化３５】
【０１５６】
であり、R6、R7、R7bおよびR8は前記と同一意味を有する。）
工程IX−1:
式（IX−1）で示される化合物は、式（J）で示される化合物と式（K）（すなわち5−チオ−Ｄ−グルコース）を適当な溶媒中（例えば、メタノール、エタノールなど）、触媒（例えば、塩化アンモニウム、酢酸など）の存在もしくは非存在下に縮合させることにより製造することができる。
工程IX−2:
式（IX−2）で示される化合物は、式（IX−1）で示される化合物のヒドロキシを保護することにより製造することができる。保護は工程I−2と同様にして実施することができる。
工程IX−3:
式（IX−3）で示される化合物は、式（IX−2）で示される化合物を適当な溶媒中（例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジクロロメタンなど）、室温又は冷却下に酸化剤（2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノ−1,4−ベンゾキノンなど）で処理することにより、製造することができる。
工程IX−4:
式（IX−4）で示される化合物は、式（IX−3）で示される化合物とAr−COCl（ただし、記号は前記と同一意味を有する）で示される化合物を縮合することにより製造することができる。
【０１５７】
縮合は、適当な溶媒中（例えば、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素）、ルイス酸（例えば、塩化アルミニウム、三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯塩など）の存在下に、冷却下から加熱下（例えば、−３０℃〜６０℃）で実施することができる。
工程IX−5:
式（IX−5）で示される化合物は、式（IX−4）で示される化合物を還元することにより製造することができる。
還元は、適当な溶媒中（例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル類、メタノール、エタノールなどのアルコール類など）、還元剤（例えば、水素化ホウ素ナトリウム（塩化セリウムの存在下または非存在下に使用）、水素化トリアセトキシホウ素ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム、水素化ジイソブチルアルミニウムなど）で、冷却下から室温（例えば、−３０℃〜２５℃）で処理することにより実施することができる。
工程IX−6:
式（IX−6）で示される化合物は、式（IX−5）で示される化合物を還元することにより製造することができる。
【０１５８】
還元は、適当な溶媒中（アセトニトリル、ジクロロメタンなど）、酸（トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸などの有機酸、三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯体、四塩化チタンなどのルイス酸）の存在下、冷却下から室温（例えば、−３０℃〜２５℃）でシラン試薬（トリエチルシラン、トリイソプロピルシランなど）で処理することにより、実施できる。
工程IX−7:
式（A−9）で示される化合物は、式（IX−6）で示される化合物を脱保護に付すことにより製造することができる脱保護は工程I−6と同様にして実施することができる。
製法X:
【０１５９】
【化３６】
【０１６０】
（式中、記号は前記と同一意味を有する。）
工程X−1:
式（X−1）で示される化合物は、式（XII−7）（後記製法XIIに記載）で示される化合物とベンズアルデヒドジメチルアセタールを縮合させることにより製造することができる。縮合は工程I−1と同様にして実施することができる。
工程X−2:
式（X−2）で示される化合物は式（X−1）で示される化合物のヒドロキシを保護することにより製造することができる。保護は工程I−2と同様にして実施することができる。
工程X−3:
式（X−3）で示される化合物は、式（X−2）で示される化合物を酸で加水分解することにより製造することができる。加水分解は工程I−3と同様にして実施することができる。
工程X−4:
式（X−4）で示される化合物は、式（X−3）で示される化合物のヒドロキシを保護することにより製造することができる。保護は工程I−2と同様にして実施することができる。
工程X−5:
式（X−5）で示される化合物は、式（X−4）で示される化合物をフッ化剤で処理することにより製造することができる。この工程は工程I−5と同様にして実施することができる。
工程X−6:
式（A−10）で示される化合物は、式（X−5）で示される化合物を脱保護に付すことにより製造することができる。脱保護は工程I−6と同様にして実施することができる。
製法XI:
【０１６１】
【化３７】
【０１６２】
（式中、Ar1はフェニルまたはチエニル、R11は臭素またはヨウ素、Ar2はフェニル、ハロフェニル、シアノフェニル、ピリジル、ハロピリジル、チエニル、またはハロチエニル、R12はシクロアルキル、R10 は
【０１６３】
【化３８】
【０１６４】
ここでOR8は保護されたヒドロキシであり、R6とＺは前記と同一意味を有する。）
工程XI−1:
式（XI−1）で示される化合物は、式（L）で示される化合物と、Ar2B（OH）2またはR12B（OH）2（ただし、記号は前記と同一意味を有する。）をカップリングすることにより製造することができる。
【０１６５】
カップリング反応は、適当な溶媒中（例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、水、またはそれらの混合溶媒など）、パラジウム触媒（例えば、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、酢酸パラジウムなど）と塩基（例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなど）の存在下、室温から加熱下（例えば、25〜150℃）に実施することができる。
工程XI−2:
式（A−11）で示される化合物は、式（XI−1）で示される化合物を脱保護に付すことにより製造することができる。脱保護は工程I−6と同様にして実施することができる。
製法XII:
【０１６６】
【化３９】
【０１６７】
（式中、記号は前記と同一意味を有する。）
工程XII−1:
式（XII−1）で示される化合物は、式（M）で示される化合物と式（N）で示されるＤ−ガラクトースを縮合させることにより製造することができる。縮合は工程IX−1と同様にして実施することができる。
工程XII−2:
式（XII−2）で示される化合物は、式（XII−1）で示される化合物のヒドロキシを保護することにより製造することができる。保護は工程I−2と同様にして実施することができる。
工程XII−3:
式（XII−3）で示される化合物は、式（XII−2）で示される化合物を酸化することにより製造することができる。酸化は工程IX−3と同様にして実施することができる。
工程XII−4:
式（XII−4）で示される化合物は、式（XII−3）で示される化合物とAr−COCl（記号は前記と同一意味を有する）を縮合することにより製造することができる。縮合は工程IX−4と同様にして実施することができる。
工程XII−5:
式（XII−5）で示される化合物は、式（XII−4）で示される化合物を還元することにより製造することができる。還元は工程IX−5と同様にして実施することができる。
工程XII−6:
式（XII−6）で示される化合物は、式（XII−5）で示される化合物を還元することにより製造することができる。還元は工程IX−6と同様にして実施することができる。
工程XII−7:
式（XII−7）で示される化合物は、式（XII−6）で示される化合物を脱保護に付すことにより製造することができる。脱保護は工程I−6と同様にして実施することができる。
【０１６８】
式（B）の化合物、式（Ｃ）の化合物、および式（Ｅ）の化合物はWO 2004/080990パンフレットまたはWO 2005/012326パンフレットに記載されている。
【０１６９】
式（J）の化合物は、以下のようにして製造することができる。
製法XIII:
【０１７０】
【化４０】
【０１７１】
（式中、R13はアルキルであり、他の記号は前記と同一意味を有する。）
まず、式（O）で示される化合物を、適当な溶媒中（メタノール、エタノール、トルエンなど）、酸（たとえば、塩化亜鉛、塩酸、ポリリン酸、トリフルオロ酢酸など）の存在下、加熱して環化することにより、式（XIII−1）で示される化合物を製造する。
【０１７２】
次に、式（XIII−1）で示される化合物を適当な溶媒中（例えば、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、水など）、室温又は加熱下、塩基（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化リチウムなど）で加水分解することにより、式（XIII−2）で示される化合物を製造する。
【０１７３】
さらに、式（XIII−2）で示される化合物を、適当な溶媒中（例えば、キノリンなど）、触媒（例えば、銅）の存在下に脱炭酸して、式（XIII−3）で示される化合物を製造する。
【０１７４】
そして、式（XIII−3）で示される化合物を、適当な溶媒中（例えば、テトラヒドロフラン、ジクロロメタンなど）、室温または加熱下、酸（例えば、トリフルオロ酢酸、三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯塩）の存在下、還元剤（例えば、トリエチルシラン、水素化ホウ素亜鉛）で処理することにより、式（J）で示される化合物を製造することができる。
【０１７５】
式（O）で示される化合物は、式（P）
【０１７６】
【化４１】
【０１７７】
（ただし、記号は前記と同一意味を有する）
で示される化合物と、適当な溶媒中（アセトニトリル、メタノール、エタノール、水）、室温又は加熱下に、酸（塩酸、酢酸など）の存在下、CH3COCO2R13（ただし、R13は前記と同一意味を有する）と反応させることにより製造するか、あるいは、式（Q）
【０１７８】
【化４２】
【０１７９】
（ただし、記号は前記と同一意味を有する）
で示される化合物を、適当な溶媒中（水、メタノール、エタノール）、室温又は冷却下、酸（例えば、塩酸など）の存在下に亜硝酸ナトリウムで処理して、対応するジアゾニウム塩化合物を製した後、適当な溶媒中（例えば、メタノール、エタノール、水）、室温又は冷却下に、塩基（酢酸ナトリウム、水酸化カリウムなど）の存在下でCH3COCH(CH3)CO2R13（ただし、R13は前記と同一意味を有する）と反応させることにより製造することができる。
【０１８０】
式（G）で示される化合物は、以下のようにして製造することができる。
製法XIV:
【０１８１】
【化４３】
【０１８２】
（式中、Meはメチルであり、他の記号は前記と同一意味を有する。）
式（XIV−1）の化合物は、工程I−5と同様にして、式（R）の化合物をフッ化剤で処理して製造する。
【０１８３】
式（XIV−2）の化合物は、式（XIV−1）の化合物を脱アルキル化反応に付すことにより製造する。脱アルキル化は、加熱下、硫酸と酢酸の混合物中で実施する。
【０１８４】
式（G）の化合物は、式（XIV−2）の化合物を、適当な溶媒中（ジクロロメタンなど）、冷却下から室温で、酸化剤（酢酸−ジメチルスルホキシドなど）により酸化して製造する。
【０１８５】
式（R）の化合物は、例えば、テトラへドロン・レターズ（Tetrahedron Lett.）, 2000, 41, 5547−5551に記載の方法など、慣用の方法で製造することができる。
【０１８６】
この他の原料化合物は、商業上入手しうるか、あるいは当業者にとって慣用の方法によって容易に製造される。
製造例１：3−（4−エチルフェニルメチル）−1−（5−チオ−β−Ｄ−グルコピラノシル）インドール
（1）ペンタ−Ｏ−アセチル−５−チオ−Ｄ−グルコピラノース（813 mg）をエタノール（20 ml）に懸濁し、そこにナトリウムメトキシド（28％メタノール溶液、２滴）を加えた。この混合物をアルゴン雰囲気下室温で１時間攪拌し、得られた溶液にインドリン（238 mg）を加え、一晩還流した。さらに酢酸（２滴）を加え、７時間還流した。室温に冷却後、溶媒を減圧下留去し、粗体の1−（5−チオ−β−Ｄ−グルコピラノシル）インドリンを得た。この化合物は精製することなく次の工程に用いた。
【０１８７】
（2）上記化合物をクロロホルム（20 ml）に溶解し、無水酢酸（1.51 ml）、ピリジン（1.29 ml）及び４−ジメチルアミノピリジン（24 mg）を加えた。室温で２．５日間攪拌した後、有機溶媒を減圧下留去し、残渣を酢酸エチルに溶解した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４：１）で精製し、さらにメタノールから再結晶して、1−（2,3,4,6−テトラ−Ｏ−アセチル−5−チオ−β−Ｄ−グルコピラノシル）インドリン（321 mg）を得た。融点：163−165℃. APCI−Mass m/Z 466（M+H）。
【０１８８】
（3）上記化合物（310 mg）を1,4−ジオキサン（10 ml）に溶解し、そこに2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノ−1,4−ベンゾキノン（159 mg）と水（3滴）を加えた。室温で２時間攪拌後、飽和重曹水を加え、酢酸エチルで抽出した。洗浄、乾燥後 溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝2：1）で精製して、1−（2,3,4,6−テトラ−O−アセチル−5−チオ−β−D−グルコピラノシル）インドール（308 mg）を得た。APCI−Mass m/Z 481（M+NH4）。
【０１８９】
（4） 上記化合物（305 mg）と塩化4−エチルベンゾイル（166 mg）のジクロロメタン（15 ml）溶液に，塩化アルミニウム（439 mg）を0℃で加えた。同温で30分攪拌後、室温で５時間攪拌した。混合物を氷水に注ぎ、１Ｎ塩酸（10 ml）を加え、クロロホルムで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン／酢酸エチル ＝ 3：1−2：1）で精製して、4−エチルフェニル 1−（2,3,4,6−テトラ−O−アセチル−5−チオ−β−D−グルコピラノシル）インドール−3−イル ケトン（354 mg）を得た。 APCI−Mass m/Z 596（M+H）。
【０１９０】
（5） 上記化合物（347 mg）のエタノール（5 ml）−テトラヒドロフラン（10 ml）溶液に塩化セリウム（III）５水和物（648 mg）と水素化ホウ素ナトリウム（66 mg）を0℃で加えた。同温で2時間攪拌後、0.5Ｎ塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去して、4−エチルフェニル 1−（2,3,4,6−テトラ−O−アセチル−5−チオ−β−D−グルコピラノシル）インドール−3−イル メタノール（387 mg）を得た。この化合物は精製せずに次の工程に用いた。
【０１９１】
（6）上記化合物をアセトニトリル（10 ml）−ジクロロメタン（5 ml）に溶解し、アルゴン雰囲気下−10℃でトリエチルシラン（0.46 ml）と三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯塩（0.37 ml）を加えた。同温で１時間攪拌後、飽和重曹水を加え、有機溶媒を減圧留去した。酢酸エチル（25 ml）で抽出し、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝4：1）で精製して、3−（4−エチルフェニルメチル）−1−（2,3,4,6−テトラ−O−アセチル−5−チオ−β−D−グルコピラノシル）インドール（290 mg）を得た。APCI−Mass m/Z 599（M+NH4）。
【０１９２】
（7）上記化合物（281 mg）をメタノール（5 ml）−テトラヒドロフラン（5 ml）に溶解し、そこにナトリウムメトキシド（28%メタノール溶液、2滴）を加えた。アルゴン雰囲気下、室温で２時間攪拌後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：クロロホルム／メタノール＝19：1）で精製して3−（4−エチルフェニルメチル）−1−（5−チオ−β−D−グルコピラノシル）インドール（190 mg）を得た。APCI−Mass m/Z 414（M+H）。
【０１９３】
製造例2：4−クロロ−3−（4−エチルフェニルメチル）−1−（5−チオ−β−D−グルコピラノシル）インドール
（1）ペンタ−O−アセチル−5−チオ−D−グルコピラノース（1323 mg）をエタノール（30 ml）に懸濁し、ナトリウムメトキシド（28%メタノール溶液、2滴）を加えた。混合物をアルゴン雰囲気下室温で１時間攪拌し、得られた溶液に4−クロロインドリン（500 mg）と塩化アンモニウム（174 mg）を加え、22時間還流した。室温に冷却後、溶媒を留去して、粗体の4−クロロ−1−（5−チオ−β−D−グルコピラノシル）インドリンを得た。この化合物は精製せずに次の工程に用いた。
【０１９４】
（2）上記化合物をクロロホルム（20 ml）に溶解し、無水酢酸（2.45 ml）、ピリジン（2.10 ml）及び4−（ジメチルアミノ）ピリジン（40 mg）を加えた。室温で一晩攪拌後、溶媒を減圧下留去した。残渣を酢酸エチルに溶解し、洗浄、乾燥後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン／酢酸エチル ＝ 3：1）で精製して、4−クロロ−1−（2,3,4,6−テトラ−O−アセチル−5−チオ−β−D−グルコピラノシル）インドリン（1157 mg）を得た。 APCI−Mass m/Z 500/502（M+H）。
【０１９５】
（3）上記化合物を製造例 1−（3）と同様に処理することにより、4−クロロ−1−（2,3,4,6−テトラ−O−アセチル−5−チオ−β−D−グルコピラノシル）インドールを得た。 APCI−Mass m/Z 515/517 （M+NH4）。
【０１９６】
（4）上記化合物と塩化4−エチルベンゾイルを製造例1−（4）,（5）,（6）及び（7）と同様に処理することにより、4−クロロ−3−（4−エチルフェニルメチル）−1−（5−チオ−β−D−グルコピラノシル）インドールを得た。APCI−Mass m/Z 448/450（M+H）。
【０１９７】
製造例3：4−クロロ−3−（4−エチルフェニルメチル）−1−（4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−グルコピラノシル）インドール
（1）4−クロロインドリン（1.00 g）及びD−ガラクトース（1.94 g）の水（3.0 ml）−エタノール（20 ml）懸濁液を、アルゴン雰囲気下29時間還流した。溶媒を減圧下留去して、粗体の4−クロロ−1−（β−D−ガラクトピラノシル）インドリンを得た。この化合物は精製せずに次の工程に用いた。
【０１９８】
（2）上記化合物をクロロホルム（20 ml）に懸濁し、そこに無水酢酸（4.92 ml）、ピリジン（4.21 ml）及び4−（ジメチルアミノ）ピリジン（80 mg）を加えた。室温で1.5時間攪拌後、溶媒を減圧下留去した。残渣を酢酸エチルに溶解し、洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝90：10−60：40）で精製して、4−クロロ−1−（2,3,4,6−テトラ−O−アセチル−β−D−ガラクトピラノシル）インドリン（2.34 g）を得た。APCI−Mass m/Z 484/486 （M+H）。
【０１９９】
（3）上記化合物を製造例 1−（3）と同様に処理して、4−クロロ−1−（2,3,4,6−テトラ−O−アセチル−β−D−ガラクトピラノシル）インドールを得た。APCI−Mass m/Z 499/501 （M+NH4）。
【０２００】
（4）上記化合物及び塩化4−エチルベンゾイルを製造例1−（4）,（5）,（6）及び（7）と同様に処理することにより、4−クロロ−3−（4−エチルフェニルメチル）−1−（β−D−ガラクトピラノシル）インドールを得た。APCI−Mass m/Z 432/434（M+H）。
【０２０１】
（5）上記化合物（6.80 g）をクロロホルム（300 ml）に懸濁し、そこにベンズアルデヒドジメチルアセタール（3.54 ml）及びp−トルエンスルホン酸１水和物（0.15 g）を加えた。室温で40分攪拌後、溶媒を減圧留去した。残渣を酢酸エチルに溶解し、洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：クロロホルム／メタノール＝100：0−90：10）で精製して、4−クロロ−3−（4−エチルフェニルメチル）−1−（4,6−O−ベンジリデン−β−D−ガラクトピラノシル）インドール（7.12 g）を得た。APCI−Mass m/Z 520/522（M+H）。
【０２０２】
（6）上記化合物（7.12 g）をクロロホルム（300 ml）に懸濁し、そこにピリジン（6.64 ml）及び塩化ベンゾイル（4.77 ml）を0℃で加えた。室温に昇温し、３日間攪拌した。混合物を酢酸エチルで希釈し、洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去して、粗体の4−クロロ−3−（4−エチルフェニルメチル）−1−（2,3−ジ−O−ベンゾイル−4,6−O−ベンジリデン−β−D−ガラクトピラノシル）インドールを得た。この化合物は精製せずに次の工程に用いた。
【０２０３】
（7）上記化合物の酢酸（240 ml）−水（30 ml）溶液を70℃で一晩攪拌した。溶媒を減圧留去し、残渣を酢酸エチルに溶解した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：クロロホルム／酢酸エチル ＝ 100：0−95：5）で精製して、4−クロロ−3−（4−エチルフェニルメチル）−1−（2,3−ジ−O−ベンゾイル−β−D−ガラクトピラノシル）インドール（7.06 g）を得た。APCI−Mass m/Z 657/659 （M+NH4）。
【０２０４】
（8）上記化合物（7.06 g）を2,4,6−トリメチルピリジン（70 ml）に懸濁し、そこに塩化ベンゾイル（1.54 ml）を−40℃で加えた。混合物を0℃に昇温し、一晩攪拌した。２Ｎ塩酸を用いて反応混合物のpHを5に合わせ、酢酸エチル−テトラヒドロフランで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン／酢酸エチル ＝ 90：10−50：50）で精製し、さらにエタノールから再結晶して、4−クロロ−3−（4−エチルフェニルメチル）−1−（2,3,6−トリ−O−ベンゾイル−β−D−ガラクトピラノシル）インドール（5.17 g）を得た。融点：192−193℃. APCI−Mass m/Z 761/763（M+NH4）。
【０２０５】
（9）上記化合物（700 mg）をジクロロメタン（70 ml）に溶かし、そこに（ジエチルアミノ）スルファー トリフルオリド（1.24 ml）をアルゴン雰囲気下、0℃で加えた。室温で２４時間攪拌後、冷水を加え、クロロホルムで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：クロロホルム／酢酸エチル ＝ 100：0−95：5）で精製し、さらにジイソプロピルエーテルから再結晶して、4−クロロ−3−（4−エチルフェニルメチル）−1−（2,3,6−トリ−O−ベンゾイル−4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−グルコピラノシル）インドール（452 mg）を得た。融点：137−138℃. APCI−Mass m/Z 746/748（M+H）。
【０２０６】
（10）上記化合物を製造例1−（7）と同様に処理することにより、4−クロロ−3−（4−エチルフェニルメチル）−1−（4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−グルコピラノシル）インドールを得た。 APCI−Mass m/Z 434/436 （M+H）。
【０２０７】
製造例4：4−クロロ−3−（4−エトキシフェニルメチル）−1−（5−チオ−β−D−グルコピラノシル）インドール
製造例2−（3） で得られた4−クロロ−1−（2,3,4,6−テトラ−O−アセチル−5−チオ−β−D−グルコピラノシル）インドール及び 塩化4−エトキシベンゾイルを製造例1−（4）,（5）,（6）及び（7）と同様に処理して、題記化合物を得た。APCI−Mass m/Z 464/466（M+H）。
【０２０８】
製造例5：3−（ベンゾ［ｂ］チオフェン−2−イルメチル）−4−クロロ−1−（4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−ガラクトピラノシル）ベンゼン
（1） 1−（ベンゾ［ｂ］チオフェン−2−イルメチル）−5−ブロモ−2−クロロベンゼン（1.00 g）をテトラヒドロフラン（8 ml）−トルエン（16 ml）に溶解し、アルゴン雰囲気下、−78℃に冷却した。そこへn−ブチルリチウム（1.59Ｍヘキサン溶液、1.86 ml）を滴下し、混合物を同温で30分攪拌した。2,3,4,6−テトラキス−O−トリメチルシリル−D−グルコノ−1,5−ラクトン（US 6,515,117参照；1.26 g）のトルエン（10 ml）溶液を滴下し、さらに同温で1.5時間攪拌した。メタンスルホン酸（0.58 ml）のメタノール（20 ml）溶液を加え、室温で一晩攪拌した。氷冷下、飽和重曹水を加え、酢酸エチルで抽出した。洗浄、乾燥後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：クロロホルム／メタノール＝10：0−9：1）で精製して，3−（ベンゾ［ｂ］チオフェン−2−イルメチル）−4−クロロ−1−（1−α−メトキシ−β−D−グルコピラノシル）ベンゼン（875 mg）を得た。
【０２０９】
（2）上記化合物（1.91 g）及びトリエチルシラン（2.03 ml）のジクロロメタン（80 ml）溶液を、アルゴン雰囲気下、−78℃に冷却し、三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯塩（1.61 ml）を加えた。0℃に昇温し、同温で３時間攪拌した。反応混合物に飽和重曹水を加え、クロロホルムで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：クロロホルム／メタノール＝10:0−9:1）で精製し，酢酸エチル−ジエチルエーテルから再結晶して、3−（ベンゾ［ｂ］チオフェン−2−イルメチル）−4−クロロ−1−（β−D−グルコピラノシル）ベンゼン（1.29 g）を得た。融点：153−154℃. APCI−Mass m/Z 438/440 （M+NH4）。
【０２１０】
（3） 上記 化合物 を製造例3−（5）,（6）,（7）及び（8）と同様に処理することにより、3−（ベンゾ［ｂ］チオフェン−2−イルメチル）−4−クロロ−1−（2,3,6−トリ−O−ベンゾイル−β−D−グルコピラノシル）ベンゼンを得た。融点：215−217℃. APCI−Mass m/Z 750/752 （M+NH4）。
【０２１１】
（4）上記化合物（796 mg）及び4−ジメチルアミノピリジン（780 mg）のジクロロメタン（50 ml）溶液を、アルゴン雰囲気下、0℃に冷却し、（ジエチルアミノ）スルファー トリフルオリド（0.63 ml）を加えた。混合物を室温に昇温し、同温で19時間攪拌した。そこへ氷冷下冷水を加え、クロロホルムで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝4:1−2:1）で精製し，酢酸エチル-ヘキサンから再結晶して、3−（ベンゾ［ｂ］チオフェン−2−イルメチル）−4−クロロ−1−（2,3,6−トリ−O−ベンゾイル−4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−ガラクトピラノシル）ベンゼン（305 mg）を得た。融点：204−207℃. APCI−Mass m/Z 752/754 （M+NH4）。
【０２１２】
（5）上記化合物を製造例1−（7）と同様に処理することにより、3−（ベンゾ［ｂ］チオフェン−2−イルメチル）−4−クロロ−1−（4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−ガラクトピラノシル）ベンゼンを得た。APCI−Mass m/Z 440/442（M+NH4）。
【０２１３】
製造例6：4−クロロ−3−（5−フェニル−2−チエニルメチル）−1−（6−フルオロ−6−デオキシ−β−D−グルコピラノシル）ベンゼン
（1）5−ブロモ−2−クロロ−1−（5−フェニル−2−チエニルメチル）ベンゼンを製造例5−（1）及び（2）と同様に処理することにより、4−クロロ−3−（5−フェニル−2−チエニルメチル）−1−（β−D−グルコピラノシル）ベンゼンを得た。APCI−Mass m/Z 464/466 （M+NH4）。
【０２１４】
（2）上記化合物（1.00 g）をN,N−ジメチルホルムアミド（10 ml）に溶解し、そこに塩化トリチル（686 mg）、4−ジメチルアミノピリジン（14 mg）及びトリエチルアミン（0.47 ml）を加えた。室温で6日間攪拌後、酢酸エチルで希釈した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：クロロホルム／メタノール＝100：1−19：1）で精製して、4−クロロ−3−（5−フェニル−2−チエニルメチル）−1−（6−O−トリチル−β−D−グルコピラノシル）ベンゼン（870 mg）を得た。ESI−Mass m/Z 711/713 （M+Na）。
【０２１５】
（3） 上記化合物を製造例1−（2）と同様に処理することにより、4−クロロ−3−（5−フェニル−2−チエニルメチル）−1−（2,3,4−トリ−O−アセチル−6−O−トリチル−β−D−グルコピラノシル）ベンゼンを得た。ESI−Mass m/Z 837/839 （M+Na）
（4）上記化合物（1.45 g）のギ酸（10 ml）−ジエチルエーテル（5 ml）溶液を室温で3.5時間攪拌し、水で希釈した。酢酸エチルで抽出後、洗浄、乾燥し、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝4：1−1：1）で精製して，4−クロロ−3−（5−フェニル−2−チエニルメチル）−1−（2,3,4−トリ−O−アセチル−β−D−グルコピラノシル）ベンゼン（689 mg）を得た。融点：166−168℃. APCI−Mass m/Z 590/592 （M+NH4）。
【０２１６】
（5）上記化合物を製造例5−（4）及び1−（7）と同様に処理することにより、4−クロロ−3− （5−フェニル−2−チエニルメチル）−1−（6−フルオロ−6−デオキシ−β−D−グルコピラノシル）ベンゼンを得た。APCI−Mass m/Z 466/468 （M+NH4）。
【０２１７】
製造例7：4−クロロ−3−（5−フェニル−2−チエニルメチル）−1−（4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−グルコピラノシル）ベンゼン
（1） 5−ブロモ−2−クロロ−1−（5−フェニル−2−チエニルメチル）ベンゼン（397 mg）をテトラヒドロフラン（10 ml）に溶解し、アルゴン雰囲気下、−78℃に冷却した。そこへn−ブチルリチウム（1.56Ｍヘキサン溶液、0.70 ml）を滴下し、同温で20分攪拌した。2,3,6−トリ−O−ベンジル−4−フルオロ−4−デオキシ−D−グルコノ−1,5−ラクトン（496 mg）のテトラヒドロフラン（5 ml）溶液を滴下し、さらに同温で1.5時間攪拌した。ついで飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、室温に昇温した。混合物を水で希釈し、酢酸エチルで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去して、粗体の4−クロロ−3−（5−フェニル−2−チエニルメチル）−1−（1−ヒドロキシ−2,3,6−トリ− O−ベンジル−4−フルオロ−4−デオキシ−D−グルコピラノシル）ベンゼンを得た。この化合物は精製せずに次の工程に用いた。
【０２１８】
（2）上記 化合物のジクロロメタン（10 ml）溶液をアルゴン雰囲気下、−78℃に冷却し、そこにトリイソプロピルシラン（0.68 ml）及び三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯塩（0.42 ml）を加えた。−78℃で１時間攪拌後、0℃に昇温し、同温で１時間攪拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン／酢酸エチル ＝ 19：1−9：1）で精製して、4−クロロ−3−（5−フェニル−2−チエニルメチル）−1−（2,3,6−トリ−O−ベンジル−4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−グルコピラノシル）ベンゼン（226 mg）を得た。APCI−Mass m/Z 736/738 （M+NH4）。
【０２１９】
（3）ヨウ化ナトリウム（550 mg）のアセトニトリル（5 ml）溶液に、アルゴン雰囲気下、0℃で、塩化トリメチルシリル（0.47 ml）を加え、同温で20分攪拌した。そこへ上記化合物（220 mg）のアセトニトリル（5 ml）を加え、0℃で１時間、ついで室温で2.5時間攪拌した。10％チオ硫酸ナトリウム水溶液を0℃で加え、酢酸エチルで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：クロロホルム／メタノール＝30：1）で精製して，4−クロロ−3−（5−フェニル−2−チエニルメチル）−1−（4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−グルコピラノシル）ベンゼン （123 mg）を得た。APCI−Mass m/Z 466/468 （M+NH4）
製造例８−３６
上記製造例のいずれかと同様にして、表１記載の化合物を製造した。
【０２２０】
【表１】
【０２２１】
【表２】
【０２２２】
【表３】
【０２２３】
【表４】
【０２２４】
【表５】
【０２２５】
【表６】
（表中、Meはメチル、MeOはメトキシ、Etはエチル、EtOはエトキシをあらわし、"5−チオ−β−D−グルコピラノシル"、"4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−グルコピラノシル"、"β−D−ガラクトピラノシル"、"4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−ガラクトピラノシル"及び"6−フルオロ−6−デオキシ−β−D−グルコピラノシル"は、それぞれ、下式の構造を示す：
【０２２６】
【化４４】
【０２２７】
参考例1: 4−クロロインドリン
4−クロロインドール（3.15 g）及びトリエチルシラン（8.30 ml）のトリフルオロ酢酸（32 ml）溶液を50℃で30分攪拌し、溶媒を減圧下留去した。残渣を飽和重曹水で塩基性とし、酢酸エチルで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝100：0−80：20）で精製して、題記化合物を得た（2.89 g）。APCI−Mass m/Z 154/156 （M+H）。
【０２２８】
参考例2：1−（ベンゾ[b]チオフェン−2−イルメチル）−5−ブロモ−2−クロロベンゼン
（1）5−ブロモ−2−クロロ安息香酸（10.0 g）をジクロロメタン（80 ml）に懸濁し、そこへN,O−ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩（4.56 g）、1−[3−（ジメチルアミノ）プロピル]−3−エチルカルボジイミド塩酸塩（8.96 g）、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール（6.31 g）及びトリエチルアミン（8.88 ml）を加えた。室温で64時間攪拌後、10％塩酸を0℃で加え、クロロホルムで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去し、粗体の5−ブロモ−2−クロロ−N−メトキシ−N−メチルベンズアミドを得た。この化合物は精製せずに次の工程に用いた。
【０２２９】
（2）上記化合物の テトラヒドロフラン（200 ml）溶液をアルゴン雰囲気下−78℃に冷却し、そこへ水素化ジイソブチルアルミニウム（1.0Ｍトルエン溶液、64 ml）を加えた。混合物を−78℃で３０分、ついで0℃で４０分攪拌した。10％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝19：1）で精製して、5−ブロモ−2−クロロベンズアルデヒド（8.90 g）を得た。
【０２３０】
（3）チアナフタレン（5.18 g）のテトラヒドロフラン（60 ml）溶液にアルゴン雰囲気下、−78℃でn−ブチルリチウム（2.44Ｍヘキサン溶液、15.8 ml）を滴下し、−78℃で30分、ついで0℃で30分攪拌した。−78℃に冷却後、上記化合物（8.90 g）のテトラヒドロフラン（60 ml）溶液を加え、同温で1.5時間攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加え酢酸エチルで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝15：1）で精製して、ベンゾ[b]チオフェン−2−イル 5−ブロモ−2−クロロフェニル メタノール（12.25 g）を得た。
【０２３１】
（4）上記化合物（12.25 g）のジクロロメタン（300 ml）溶液を0℃に冷却し、トリエチルシラン（12.17 ml）及び 三フッ化ホウ素・ジエチル エーテル錯塩（6.58 ml）を加えた。同温で２時間攪拌後、飽和重曹水を加え、クロロホルムで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン）で精製して、1−（ベンゾ[b]チオフェン−2−イルメチル）−5−ブロモ−2−クロロベンゼン（9.30 g）を得た。1H−NMR（CDCl3）δ4.30 （s, 2H）, 7.02 （d, J＝0.9 Hz, 1H）, 7.23−7.36 （m, 4H）, 7.43 （m, 1H）, 7.65−7.69 （m, 1H）, 7.73−7.77 （m, 1H）。
【０２３２】
参考例3：5−ブロモ−2−クロロ−1−（5−フェニル−2−チエニルメチル）ベンゼン
（1）5−ブロモ−2−クロロ安息香酸（55.95 g）をジクロロメタン（500 ml）に懸濁し、塩化オキサリル（25 ml）及びN,N−ジメチルホルムアミド（5滴）を加えた。室温で一晩攪拌後、テトラヒドロフラン（50 ml）を加え、さらに同温で１時間攪拌した。反応混合物を減圧下で濃縮して、塩化5−ブロモ−2−クロロベンゾイルを得た。この化合物と2−フェニルチオフェン（34.63 g）をジクロロメタン（1000 ml）に溶解し、塩化アルミニウム（31.70 g）を0℃で加えた。混合物を0℃で30分、ついで室温で18時間攪拌した。反応混合物を氷水に注ぎ、クロロホルムで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をヘキサン中で粉末化して5−ブロモ−2−クロロフェニル 5−フェニル−2−チエニル ケトン（50.22 g）を得た。融点：132−134℃. APCI−Mass m/Z 377/379 （M+H）。
【０２３３】
（2）上記化合物（50.00 g）及びトリエチルシラン（63.44 ml）のジクロロメタン（300 ml）−アセトニトリル（300 ml）懸濁液に、三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯塩（50.18 ml）を0℃で加えた。室温で３時間攪拌後、重曹水を加え、クロロホルムで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。活性炭処理後、メタノールから結晶化して、5−ブロモ−2−クロロ−1−（5−フェニル−2−チエニルメチル）ベンゼン（42.92 g）を得た。 融点：80−81℃。
【０２３４】
参考例４：2,3,6−トリ−O−ベンジル−4−フルオロ−4−デオキシ−D−グルコノ−1,5−ラクトン
（1）メチル2,3,6−トリ−O−ベンジル−β−D−ガラクトピラノシド（サカガミら、テトラへドロン・レターズ，2000, 41, 5547−5551参照；16.99 g）をジクロロメタン（172 ml）に溶解し、（ジエチルアミノ）スルファー・トリフルオリド（9.71 ml）を0℃で加えた。混合物を0℃で２時間、ついで室温で５時間攪拌した。混合物を0℃に冷却し、飽和重曹水を加えた。有機相を乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝100：0−90：10）で精製して、メチル 2,3,6−トリ−O−ベンジル−4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−グルコピラノシド（5.86 g）を得た。APCI−Mass m/Z 484 （M+NH4）。
【０２３５】
（2）上記化合物（5.39 g）と3Ｍ硫酸（10 ml）−酢酸（50 ml）の混合物を90℃で5時間攪拌した。室温に冷却後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝4：1）で精製して、2,3,6−トリ−O−ベンジル−4−フルオロ−4−デオキシ−D−グルコース（2.39 g）を得た。APCI−Mass m/Z 470（M+NH4）。
【０２３６】
（3）上記化合物（2.76 g）をジメチルスルホキシド（16 ml）に溶解し、ついでアルゴン雰囲気下、0℃で無水酢酸（11 ml）を加えた。混合物を室温で一晩攪拌した後、0℃で氷水を加え、酸エチルで抽出した。洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝19：1−9：1）で精製して、2,3,6−トリ−O−ベンジル−4−フルオロ−4−デオキシ−D−グルコノ−1,5−ラクトン（2.08 g）を得た。APCI−Mass m/Z 468（M+NH4）。
【０２３７】
試験例
１．ヒトＳＧＬＴ２阻害作用確認試験
（１）試験化合物
前記製造例記載化合物を用いた。
（２）試験方法
24穴プレートに、ヒトSGLT2安定発現CHOK1細胞を40×104個／穴で播種した。10％ウシ胎児血清、50 IU/mlペニシリン、50μg/mlストレプトマイシン、400μg/mlゲネチシンを含むHam's F−12培地中で、37℃、5％CO2存在下2日間培養した後、メチル−α−D−グルコピラノシド（α−MG）取り込み実験に供した。培地を除去し、緩衝液（137 mM塩化ナトリウム、5 mM塩化カリウム、1 mM塩化カルシウム、1 mM塩化マグネシウム、50 mM 2−[4−（2−ヒドロキシエチル）−1−ピペラジニル]エタンスルホン酸、20 mMトリス（ヒドロキシメチル）アミノメタンを含む緩衝液、pH 7.4）で1回洗浄後、試験化合物を含む緩衝液を1穴あたり250μl加えた。試験化合物は、ジメチルスルフォキシド（DMSO）に溶解し、緩衝液に添加した（DMSOの終濃度0.5％）。また、対照用として、DMSOのみを含む緩衝液を、SGLT非特異的な取り込み量測定用として、SGLT阻害物質フロリジン（終濃度100μM）を含む緩衝液を、それぞれ同様に調製し、同じく1穴あたり250μlずつ添加した。37℃で10分間静置後、α−MGと（U−14C）−α−MG（α−MGの終濃度0.5 mM）を含む緩衝液を、1穴あたり50μlずつ加え、さらに37℃で2時間静置した。次に、細胞に添加した緩衝液を全て除去し、氷冷したリン酸緩衝液を1穴あたり400μlずつ加え、直ちに除去した。この洗浄操作を、さらに2回繰り返し行った。その後、0.3 N NaOHを1穴あたり300μlずつ加え、細胞を可溶化し、可溶化液中の放射活性を液体シンチレーションカウンターで測定した。結果は、蛋白濃度で補正した。対照の取り込みからSGLT非特異的な取り込みを差し引いた値を100％とし、各試験化合物がそれを50％阻害する濃度（IC50値）を、プロビット法（ロジスティックモデル）によって求めた。
（３）結果
結果は下表のとおりである。
【０２３８】
【表７】
２．尿糖排泄促進作用確認試験
（１）被験化合物
前記製造例記載化合物を用いた。
（２）実験方法
6週齢の雄性SDラットを2日間代謝ケージで予備飼育後、実験に用いた。被験化合物（30 mg/kg）は、0.2％Tween80を含む0.2％カルボキシメチルセルロース（CMC）溶液に懸濁し、10 ml/kg宛経口投与した。対照群には、溶媒（0.2％Tween80を含む0.2％CMC溶液）のみを経口投与した。1群あたりの匹数は3匹とした。投与直後から代謝ケージにて24時間尿を採集し、グルコース脱水素酵素法にて、尿中のグルコース濃度を測定した。尿量と尿中グルコース濃度から、1日あたりの尿糖排泄量を算出した。
（３）結果
結果は下表のとおりである。なお、１日あたりの尿糖排泄量（ｍｇ）は、下式で定義されるＡまたはＢで表した。
【０２３９】
Ａ≧２４００＞Ｂ≧２０００（ｍｇ）
【０２４０】
【表８】
【産業上の利用可能性】
【０２４１】
本発明の有効成分である式（Ａ）で示される化合物、その薬理的に許容しうる塩、または、SGLT阻害作用を有し、血糖降下作用を奏する。このため、本発明の医薬組成物は、血糖降下剤として、あるいは、糖尿病、糖尿病合併症（糖尿病性腎症、糖尿病性網膜症、糖尿病性神経症など）、肥満症、過血糖等の予防・治療剤として有用である。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ａ）：
（式中、環Ａ及び環Ｂは、それぞれ独立に、置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環、置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環、または置換されていてもよいベンゼン環、
Ｘは炭素または窒素、
Ｙは、−（ＣＨ２）ｎ−（ここで、ｎは１または２である）、
Ｚは、
であり、
ここにおいて、
（１）環Ａが置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環のとき、Ｙは当該二環縮合不飽和へテロ環のうちのＸを含む一方の環に結合し、Ｚは
であり；
（２）環Ａと環Ｂが置換されていてもよいベンゼン環であるとき、Ｚは
である。）
で示される化合物、またはその医薬的に許容しうる塩を有効成分としてなる医薬組成物。
【請求項２】
環Ａが置換されていてもよい単環不飽和へテロ環であり、Ｚが
である請求項１記載の医薬組成物。
【請求項３】
（１）環Ａが以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい単環不飽和へテロ環であり：
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、及びオキソ；
環Ｂが、それぞれ以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい、単環不飽和へテロ環、二環縮合不飽和へテロ環、またはベンゼン環：
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、アルキレン、及びアルケニレン；
ここにおいて、上記環Ａおよび環Ｂの置換基はさらに以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい：
ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルカノイル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルボキシル、ヒドロキシ、フェニル、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル；
（２）環Ａが以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよいベンゼン環：
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、アルキレン及びアルケニレン；
環Ｂが、それぞれ以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい、単環不飽和へテロ環または二環不飽和へテロ環であり：
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、アルキレン及びオキソ；
ここにおいて、上記の環Ａおよび環Ｂの置換基は、以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい：
ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルカノイル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルボキシル、ヒドロキシ、フェニル、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル；あるいは、
（３）環Ａが以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい二環不飽和へテロ環であり：
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、及びオキソ；
環Ｂが選ばれる１−３の置換基で置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環、二環縮合不飽和ヘテロ環またはベンゼン環：
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、アルキレンおよびオキソ；
ここにおいて、これら環Ａおよび環Ｂの置換はさらにハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルカノイル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルボキシ、ヒドロキシ、フェニル、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイルおよびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイルから独立して選ばれる１−３の置換基で置換されていてもよい；
である、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項４】
（１）環Ａが、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはオキソで置換されていてもよい単環不飽和へテロ環であり、環Ｂが、（a）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選ばれる基で置換されていてもよいベンゼン環であるか、（b）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選ばれる基で置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環であるか、あるいは（c）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選ばれる基で置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環であるか；
（２）環Ａが、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、フェニル、または低級アルケニレンで置換されていてもよいベンゼン環であり、 環Ｂが、（a）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；フェニル低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルバモイルまたはモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルで置換されていてもよいヘテロシクリルから選ばれる基で置換されていてもよい単環不飽和へテロ環、または（ｂ）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；フェニル低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選ばれる基で置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環であるか；あるいは
（３）環Ａが、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはオキソで置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環であり、 環Ｂが、（a）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選ばれる基で置換されていてもよいベンゼン環、（ｂ）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選ばれる基で置換されていてもよい単環不飽和へテロ環、あるいは（ｃ）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選ばれる基で置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環である、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項５】
Ｙが−ＣＨ２−であって、Ｘを１位として３位の位置で環Ａと結合している、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項６】
（１）環Ａが以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよいベンゼン環：
ハロゲン；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；フェニル；および低級アルキレン；
環Ｂが、それぞれ以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい、単環不飽和へテロ環または二環縮合不飽和へテロ環であり：
ハロゲン；ハロゲン、低級アルコキシまたはフェニルで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルで置換されていてもよいフェニル；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルで置換されていてもよいヘテロシクリル；およびオキソ；
（２）環Ａが以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい単環不飽和へテロ環：
ハロゲン；低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；およびオキソ；
環Ｂが、以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよいベンゼン環であり：
ハロゲン；ハロゲン、低級アルコキシまたはフェニルで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいフェニル；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいヘテロシクリル；および低級アルキレン；
（３）環Ａが以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい単環不飽和へテロ環：
ハロゲン；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；およびオキソ；
環Ｂが、それぞれ以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい、単環不飽和へテロ環または二環縮合不飽和へテロ環であり：
ハロゲン；ハロゲン、低級アルコキシまたはフェニルで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいフェニル；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいヘテロシクリル；およびオキソ；
（４）環Ａが以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環：
ハロゲン；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；およびオキソ；
環Ｂが、それぞれ以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい、ベンゼン環または単環不飽和へテロ環：
ハロゲン；ハロゲン、低級アルコキシまたはフェニルで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいフェニル；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいヘテロシクリル；および低級アルキレン；或いは、
（５）環Ａが以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい単環不飽和へテロ環：
ハロゲン；低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；およびオキソ；
環Ｂが、それぞれ以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい、単環不飽和へテロ環または二環縮合不飽和へテロ環：
ハロゲン；ハロゲン、低級アルコキシまたはフェニルで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいフェニル；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいヘテロシクリル；およびオキソ；
である、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項７】
環Ａが、
（式中、Ｒ1a、Ｒ2a、Ｒ3a、Ｒ1b、Ｒ2b、およびＲ3bは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、ヒドロキシル、アルコキシ、アルキル、ハロアルキル、ハロアルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アルコキシアルコキシ、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキルオキシ、フェニル、フェニルアルコキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルカノイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、またはフェニルスルホニルを表す。）
であり、環Ｂが、
（式中、Ｒ4aおよびＲ5aは、それぞれ独立して、水素；ハロゲン；ヒドロキシ；アルコキシ；アルキル；ハロアルキル；ハロアルコキシ；ヒドロキシアルキル；アルコキシアルキル；フェニルアルキル；アルコキシアルコキシ；ヒドロキシアルコキシ；アルケニル；アルキニル；シクロアルキル；シクロアルケニル；シクロアルキルオキシ；フェニルオキシ；フェニルアルコキシ；シアノ；ニトロ；アミノ；モノ−もしくはジ−アルキルアミノ；アルカノイルアミノ；カルボキシル；アルコキシカルボニル；カルバモイル；モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル；アルカノイル；アルキルスルホニルアミノ；フェニルスルホニルアミノ；アルキルスルフィニル；アルキルスルホニル；フェニルスルホニル；ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイルから選ばれる１−３の基で置換されていてもよいフェニル；またはハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、カルバモイルおよびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイルから選ばれる１−３の基で置換されていてもよいヘテロシクリルであるか、あるいはＲ4aおよびＲ5aは、互いに末端で結合してアルキレンを形成し；
Ｒ4b、Ｒ5b、Ｒ4cおよびＲ5cは、それぞれ独立して、水素；ハロゲン；ヒドロキシル；アルコキシ；アルキル；ハロアルキル；ハロアルコキシ；ヒドロキシアルキル；アルコキシアルキル；フェニルアルキル；アルコキシアルコキシ；ヒドロキシアルコキシ；アルケニル；アルキニル；シクロアルキル；シクロアルケニル；シクロアルキルオキシ；フェニルオキシ；フェニルアルコキシ；シアノ；ニトロ；アミノ；モノ−もしくはジ−アルキルアミノ；アルカノイルアミノ；カルボキシル；アルコキシカルボニル；カルバモイル；モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル；アルカノイル；アルキルスルホニルアミノ；フェニルスルホニルアミノ；アルキルスルフィニル；アルキルスルホニル；フェニルスルホニル；ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、およびモノ−もしくはジ−アルキルアミノから選ばれる１−３の基で置換されていてもよいフェニル；またはハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシおよびハロアルコキシから選ばれる１−３の基で置換されていてもよいヘテロシクリルを表す。）
であり、Ｚが
である、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項８】
Ｒ1a、Ｒ2a、Ｒ3a、Ｒ1b、Ｒ2b、およびＲ3bが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはフェニルであり；
Ｒ4aおよびＲ5aが、それぞれ独立して、水素；ハロゲン；低級アルキル；ハロ低級アルキル；フェニル低級アルキル；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、メチレンジオキシ、エチレンオキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイルおよびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選ばれる１−３の基で置換されていてもよいフェニル；または、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選ばれる１−３の基で置換されていてもよいヘテロシクリルであるか、またはＲ4aおよびＲ5aが互いに末端で結合して低級アルキレンを形成し；
Ｒ4b、Ｒ5b、Ｒ4cおよびＲ5cが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシまたはハロ低級アルコキシである、請求項７記載の医薬組成物。
【請求項９】
環Ａが、
であり、Ｒ1aがハロゲン、低級アルキル、または低級アルコキシであり、Ｒ2aおよびＲ3aが水素であり；環Ｂが、
であり、
Ｒ4aが、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、メチレンジオキシ、エチレンオキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選ばれる１−３の基で置換されていてもよいフェニル；またはハロゲン、シアノ、低級アルキル、低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選ばれる１−３の基で置換されていてもよいヘテロシクリルであり、
Ｒ5aが水素であるか、
またはＲ4aおよびＲ5aが互いに末端で結合してアルキレンを形成している、請求項８記載の医薬組成物。
【請求項１０】
Ｒ1aがハロゲン、または低級アルキルであり、Ｒ4aが、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選ばれる１−３の基で置換されていてもよいフェニル；または、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、低級アルコキシ、カルバモイルおよびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選ばれる１−３の基で置換されていてもよいヘテロシクリルであり、Ｒ5aが、水素である、請求項９記載の医薬組成物。
【請求項１１】
Ｒ4aが、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；または、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシまたはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいヘテロシクリルである、請求項１０記載の医薬組成物。
【請求項１２】
Ｒ4aが、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されたフェニル；または、ハロゲン、シアノ、低級アルキルまたは低級アルコキシで置換されたヘテロシクリルである、請求項１１記載の医薬組成物。
【請求項１３】
Ｒ4aが、ハロゲンまたはシアノで置換されたフェニル；または、ハロゲンで置換されたピリジルである、請求項１２記載の医薬組成物。
【請求項１４】
環Ａが、
であり、Ｒ1aが、ハロゲン、低級アルキル、または低級アルコキシであり、Ｒ2aおよびＲ3aが水素であり；環Ｂが
であり、Ｒ4bおよびＲ5bがそれぞれ独立して、水素、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシである、請求項７記載の医薬組成物。
【請求項１５】
環Ａが、
であり、R6が水素、ハロゲンまたはアルキルであり、環Ｂが
であり、R7aとR7bは、互いに独立して、水素、ハロゲン、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキルチオ、ヒドロキシ、フェニル、ハロフェニル、シアノフェニル、ピリジル、ハロピリジル、チエニル、またはハロチエニルであるか、あるいはR7aとR7bは、結合している炭素原子と共に縮合ベンゼン環、縮合フラン環または縮合ジヒドロフラン環を形成し、ＹがCH2である、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項１６】
R6がハロゲンであり、Ｚが
であり、R7aとR7bが独立して水素、ハロゲン、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキルチオ、フェニル、ハロフェニル、シアノフェニル、ピリジル、またはハロピリジルであるか、あるいはR7aとR7bが結合する炭素原子と共に縮合ベンゼン環、縮合フラン環、または縮合ジヒドロフラン環を形成する、請求項１５記載の医薬組成物。
【請求項１７】
R7aとR7bが独立して水素、ハロゲン、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、またはアルキルチオであるか、あるいはR7aとR7bが結合する炭素原子と共に、縮合フラン環、または縮合ジヒドロフラン環を形成する、請求項１６記載の医薬組成物。
【請求項１８】
R7aとR7bが独立して水素、ハロゲン、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、またはハロアルコキシであるか、あるいはR7aとR7bが結合する炭素原子と共に縮合フラン環、または縮合ジヒドロフラン環を形成する、請求項１７記載の医薬組成物。
【請求項１９】
R6がハロゲンであり、環Ｂが
であり、R7aがハロゲン、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、またはアルキルチオである、請求項１６記載の医薬組成物。
【請求項２０】
R7aがハロゲン、アルキル、シクロアルキル、またはアルコキシである、請求項１９記載の医薬組成物。
【請求項２１】
有効成分が、3−（4−エチルフェニルメチル）−1−（5−チオ−β−D−グルコピラノシル）インドール、4−クロロ−3−（4−エチルフェニルメチル）−1−（5−チオ−β−D−グルコピラノシル）インドール、4−クロロ−3−（4−エチルフェニルメチル）−1−（4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−グルコピラノシル）インドール、4−クロロ−3−（4−エトキシフェニルメチル）−1−（5−チオ−β−D−グルコピラノシル）インドール、3−（ベンゾ[b]チオフェン−2−イルメチル）−4−クロロ−1−（4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−ガラクトピラノシル）ベンゼン、4−クロロ−3−（5−フェニル−2−チエニルメチル）−1−（6−フルオロ−6−デオキシ−β−D−グルコピラノシル）ベンゼン、および4−クロロ−3−（5−フェニル−2−チエニルメチル）−1−（4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−グルコピラノシル）ベンゼンから選ばれる化合物、またはその薬理的に許容しうる塩である請求項１記載の医薬組成物。
【請求項２２】
血糖降下剤である、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項２３】
糖尿病、糖尿病合併症、遅延創傷治癒、インスリン抵抗性、高血糖症、高インスリン血症、高脂肪酸血症、高グリセロール血症、高脂血症、肥満症、高トリグリセリド血症、Ｘ症候群、メタボリック症候群、アテローム硬化症、過血糖あるいは高血圧症の予防または治療剤である、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項２４】
糖尿病、糖尿病合併症、または肥満症の予防または治療剤である請求項１記載の医薬組成物。
【請求項１】
式（Ａ）：
（式中、環Ａ及び環Ｂは、それぞれ独立に、置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環、置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環、または置換されていてもよいベンゼン環、
Ｘは炭素または窒素、
Ｙは、−（ＣＨ２）ｎ−（ここで、ｎは１または２である）、
Ｚは、
であり、
ここにおいて、
（１）環Ａが置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環のとき、Ｙは当該二環縮合不飽和へテロ環のうちのＸを含む一方の環に結合し、Ｚは
であり；
（２）環Ａと環Ｂが置換されていてもよいベンゼン環であるとき、Ｚは
である。）
で示される化合物、またはその医薬的に許容しうる塩を有効成分としてなる医薬組成物。
【請求項２】
環Ａが置換されていてもよい単環不飽和へテロ環であり、Ｚが
である請求項１記載の医薬組成物。
【請求項３】
（１）環Ａが以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい単環不飽和へテロ環であり：
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、及びオキソ；
環Ｂが、それぞれ以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい、単環不飽和へテロ環、二環縮合不飽和へテロ環、またはベンゼン環：
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、アルキレン、及びアルケニレン；
ここにおいて、上記環Ａおよび環Ｂの置換基はさらに以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい：
ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルカノイル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルボキシル、ヒドロキシ、フェニル、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル；
（２）環Ａが以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよいベンゼン環：
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、アルキレン及びアルケニレン；
環Ｂが、それぞれ以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい、単環不飽和へテロ環または二環不飽和へテロ環であり：
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、アルキレン及びオキソ；
ここにおいて、上記の環Ａおよび環Ｂの置換基は、以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい：
ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルカノイル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルボキシル、ヒドロキシ、フェニル、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル；あるいは、
（３）環Ａが以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい二環不飽和へテロ環であり：
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、及びオキソ；
環Ｂが選ばれる１−３の置換基で置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環、二環縮合不飽和ヘテロ環またはベンゼン環：
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アルカノイル、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、スルファモイル、モノ−もしくはジ−アルキルスルファモイル、カルボキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルスルホニルアミノ、フェニルスルホニル、ヘテロシクリル、アルキレンおよびオキソ；
ここにおいて、これら環Ａおよび環Ｂの置換はさらにハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルカノイル、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルボキシ、ヒドロキシ、フェニル、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイルおよびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイルから独立して選ばれる１−３の置換基で置換されていてもよい；
である、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項４】
（１）環Ａが、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはオキソで置換されていてもよい単環不飽和へテロ環であり、環Ｂが、（a）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選ばれる基で置換されていてもよいベンゼン環であるか、（b）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選ばれる基で置換されていてもよい単環不飽和ヘテロ環であるか、あるいは（c）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選ばれる基で置換されていてもよい二環縮合不飽和ヘテロ環であるか；
（２）環Ａが、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、フェニル、または低級アルケニレンで置換されていてもよいベンゼン環であり、 環Ｂが、（a）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；フェニル低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルバモイルまたはモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルで置換されていてもよいヘテロシクリルから選ばれる基で置換されていてもよい単環不飽和へテロ環、または（ｂ）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；フェニル低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選ばれる基で置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環であるか；あるいは
（３）環Ａが、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはオキソで置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環であり、 環Ｂが、（a）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選ばれる基で置換されていてもよいベンゼン環、（ｂ）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選ばれる基で置換されていてもよい単環不飽和へテロ環、あるいは（ｃ）ハロゲン；シアノ；低級アルキル；ハロ低級アルキル；低級アルコキシ；ハロ低級アルコキシ；モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；および、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいヘテロシクリルから選ばれる基で置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環である、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項５】
Ｙが−ＣＨ２−であって、Ｘを１位として３位の位置で環Ａと結合している、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項６】
（１）環Ａが以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよいベンゼン環：
ハロゲン；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；フェニル；および低級アルキレン；
環Ｂが、それぞれ以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい、単環不飽和へテロ環または二環縮合不飽和へテロ環であり：
ハロゲン；ハロゲン、低級アルコキシまたはフェニルで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルで置換されていてもよいフェニル；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルで置換されていてもよいヘテロシクリル；およびオキソ；
（２）環Ａが以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい単環不飽和へテロ環：
ハロゲン；低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；およびオキソ；
環Ｂが、以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよいベンゼン環であり：
ハロゲン；ハロゲン、低級アルコキシまたはフェニルで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいフェニル；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいヘテロシクリル；および低級アルキレン；
（３）環Ａが以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい単環不飽和へテロ環：
ハロゲン；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；およびオキソ；
環Ｂが、それぞれ以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい、単環不飽和へテロ環または二環縮合不飽和へテロ環であり：
ハロゲン；ハロゲン、低級アルコキシまたはフェニルで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいフェニル；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいヘテロシクリル；およびオキソ；
（４）環Ａが以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい二環縮合不飽和へテロ環：
ハロゲン；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；およびオキソ；
環Ｂが、それぞれ以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい、ベンゼン環または単環不飽和へテロ環：
ハロゲン；ハロゲン、低級アルコキシまたはフェニルで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいフェニル；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいヘテロシクリル；および低級アルキレン；或いは、
（５）環Ａが以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい単環不飽和へテロ環：
ハロゲン；低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；およびオキソ；
環Ｂが、それぞれ以下の群から選ばれる１−３の基で置換されていてもよい、単環不飽和へテロ環または二環縮合不飽和へテロ環：
ハロゲン；ハロゲン、低級アルコキシまたはフェニルで置換されていてもよい低級アルキル；ハロゲンまたは低級アルコキシで置換されていてもよい低級アルコキシ；シクロアルキル；シクロアルコキシ；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいフェニル；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいヘテロシクリル；およびオキソ；
である、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項７】
環Ａが、
（式中、Ｒ1a、Ｒ2a、Ｒ3a、Ｒ1b、Ｒ2b、およびＲ3bは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、ヒドロキシル、アルコキシ、アルキル、ハロアルキル、ハロアルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アルコキシアルコキシ、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキルオキシ、フェニル、フェニルアルコキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、アルカノイルアミノ、カルボキシル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル、アルカノイル、アルキルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、またはフェニルスルホニルを表す。）
であり、環Ｂが、
（式中、Ｒ4aおよびＲ5aは、それぞれ独立して、水素；ハロゲン；ヒドロキシ；アルコキシ；アルキル；ハロアルキル；ハロアルコキシ；ヒドロキシアルキル；アルコキシアルキル；フェニルアルキル；アルコキシアルコキシ；ヒドロキシアルコキシ；アルケニル；アルキニル；シクロアルキル；シクロアルケニル；シクロアルキルオキシ；フェニルオキシ；フェニルアルコキシ；シアノ；ニトロ；アミノ；モノ−もしくはジ−アルキルアミノ；アルカノイルアミノ；カルボキシル；アルコキシカルボニル；カルバモイル；モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル；アルカノイル；アルキルスルホニルアミノ；フェニルスルホニルアミノ；アルキルスルフィニル；アルキルスルホニル；フェニルスルホニル；ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、モノ−もしくはジ−アルキルアミノ、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイルから選ばれる１−３の基で置換されていてもよいフェニル；またはハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、カルバモイルおよびモノ−もしくはジ−アルキルカルバモイルから選ばれる１−３の基で置換されていてもよいヘテロシクリルであるか、あるいはＲ4aおよびＲ5aは、互いに末端で結合してアルキレンを形成し；
Ｒ4b、Ｒ5b、Ｒ4cおよびＲ5cは、それぞれ独立して、水素；ハロゲン；ヒドロキシル；アルコキシ；アルキル；ハロアルキル；ハロアルコキシ；ヒドロキシアルキル；アルコキシアルキル；フェニルアルキル；アルコキシアルコキシ；ヒドロキシアルコキシ；アルケニル；アルキニル；シクロアルキル；シクロアルケニル；シクロアルキルオキシ；フェニルオキシ；フェニルアルコキシ；シアノ；ニトロ；アミノ；モノ−もしくはジ−アルキルアミノ；アルカノイルアミノ；カルボキシル；アルコキシカルボニル；カルバモイル；モノ−もしくはジ−アルキルカルバモイル；アルカノイル；アルキルスルホニルアミノ；フェニルスルホニルアミノ；アルキルスルフィニル；アルキルスルホニル；フェニルスルホニル；ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキレンジオキシ、アルキレンオキシ、およびモノ−もしくはジ−アルキルアミノから選ばれる１−３の基で置換されていてもよいフェニル；またはハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシおよびハロアルコキシから選ばれる１−３の基で置換されていてもよいヘテロシクリルを表す。）
であり、Ｚが
である、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項８】
Ｒ1a、Ｒ2a、Ｒ3a、Ｒ1b、Ｒ2b、およびＲ3bが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはフェニルであり；
Ｒ4aおよびＲ5aが、それぞれ独立して、水素；ハロゲン；低級アルキル；ハロ低級アルキル；フェニル低級アルキル；ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、メチレンジオキシ、エチレンオキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイルおよびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選ばれる１−３の基で置換されていてもよいフェニル；または、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選ばれる１−３の基で置換されていてもよいヘテロシクリルであるか、またはＲ4aおよびＲ5aが互いに末端で結合して低級アルキレンを形成し；
Ｒ4b、Ｒ5b、Ｒ4cおよびＲ5cが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシまたはハロ低級アルコキシである、請求項７記載の医薬組成物。
【請求項９】
環Ａが、
であり、Ｒ1aがハロゲン、低級アルキル、または低級アルコキシであり、Ｒ2aおよびＲ3aが水素であり；環Ｂが、
であり、
Ｒ4aが、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、メチレンジオキシ、エチレンオキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選ばれる１−３の基で置換されていてもよいフェニル；またはハロゲン、シアノ、低級アルキル、低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選ばれる１−３の基で置換されていてもよいヘテロシクリルであり、
Ｒ5aが水素であるか、
またはＲ4aおよびＲ5aが互いに末端で結合してアルキレンを形成している、請求項８記載の医薬組成物。
【請求項１０】
Ｒ1aがハロゲン、または低級アルキルであり、Ｒ4aが、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、モノ−もしくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、およびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選ばれる１−３の基で置換されていてもよいフェニル；または、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、低級アルコキシ、カルバモイルおよびモノ−もしくはジ−低級アルキルカルバモイルから選ばれる１−３の基で置換されていてもよいヘテロシクリルであり、Ｒ5aが、水素である、請求項９記載の医薬組成物。
【請求項１１】
Ｒ4aが、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ低級アルコキシ、またはモノ−もしくはジ−低級アルキルアミノで置換されていてもよいフェニル；または、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシまたはハロ低級アルコキシで置換されていてもよいヘテロシクリルである、請求項１０記載の医薬組成物。
【請求項１２】
Ｒ4aが、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシで置換されたフェニル；または、ハロゲン、シアノ、低級アルキルまたは低級アルコキシで置換されたヘテロシクリルである、請求項１１記載の医薬組成物。
【請求項１３】
Ｒ4aが、ハロゲンまたはシアノで置換されたフェニル；または、ハロゲンで置換されたピリジルである、請求項１２記載の医薬組成物。
【請求項１４】
環Ａが、
であり、Ｒ1aが、ハロゲン、低級アルキル、または低級アルコキシであり、Ｒ2aおよびＲ3aが水素であり；環Ｂが
であり、Ｒ4bおよびＲ5bがそれぞれ独立して、水素、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ、またはハロ低級アルコキシである、請求項７記載の医薬組成物。
【請求項１５】
環Ａが、
であり、R6が水素、ハロゲンまたはアルキルであり、環Ｂが
であり、R7aとR7bは、互いに独立して、水素、ハロゲン、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキルチオ、ヒドロキシ、フェニル、ハロフェニル、シアノフェニル、ピリジル、ハロピリジル、チエニル、またはハロチエニルであるか、あるいはR7aとR7bは、結合している炭素原子と共に縮合ベンゼン環、縮合フラン環または縮合ジヒドロフラン環を形成し、ＹがCH2である、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項１６】
R6がハロゲンであり、Ｚが
であり、R7aとR7bが独立して水素、ハロゲン、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキルチオ、フェニル、ハロフェニル、シアノフェニル、ピリジル、またはハロピリジルであるか、あるいはR7aとR7bが結合する炭素原子と共に縮合ベンゼン環、縮合フラン環、または縮合ジヒドロフラン環を形成する、請求項１５記載の医薬組成物。
【請求項１７】
R7aとR7bが独立して水素、ハロゲン、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、またはアルキルチオであるか、あるいはR7aとR7bが結合する炭素原子と共に、縮合フラン環、または縮合ジヒドロフラン環を形成する、請求項１６記載の医薬組成物。
【請求項１８】
R7aとR7bが独立して水素、ハロゲン、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、またはハロアルコキシであるか、あるいはR7aとR7bが結合する炭素原子と共に縮合フラン環、または縮合ジヒドロフラン環を形成する、請求項１７記載の医薬組成物。
【請求項１９】
R6がハロゲンであり、環Ｂが
であり、R7aがハロゲン、アルキル、シクロアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、またはアルキルチオである、請求項１６記載の医薬組成物。
【請求項２０】
R7aがハロゲン、アルキル、シクロアルキル、またはアルコキシである、請求項１９記載の医薬組成物。
【請求項２１】
有効成分が、3−（4−エチルフェニルメチル）−1−（5−チオ−β−D−グルコピラノシル）インドール、4−クロロ−3−（4−エチルフェニルメチル）−1−（5−チオ−β−D−グルコピラノシル）インドール、4−クロロ−3−（4−エチルフェニルメチル）−1−（4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−グルコピラノシル）インドール、4−クロロ−3−（4−エトキシフェニルメチル）−1−（5−チオ−β−D−グルコピラノシル）インドール、3−（ベンゾ[b]チオフェン−2−イルメチル）−4−クロロ−1−（4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−ガラクトピラノシル）ベンゼン、4−クロロ−3−（5−フェニル−2−チエニルメチル）−1−（6−フルオロ−6−デオキシ−β−D−グルコピラノシル）ベンゼン、および4−クロロ−3−（5−フェニル−2−チエニルメチル）−1−（4−フルオロ−4−デオキシ−β−D−グルコピラノシル）ベンゼンから選ばれる化合物、またはその薬理的に許容しうる塩である請求項１記載の医薬組成物。
【請求項２２】
血糖降下剤である、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項２３】
糖尿病、糖尿病合併症、遅延創傷治癒、インスリン抵抗性、高血糖症、高インスリン血症、高脂肪酸血症、高グリセロール血症、高脂血症、肥満症、高トリグリセリド血症、Ｘ症候群、メタボリック症候群、アテローム硬化症、過血糖あるいは高血圧症の予防または治療剤である、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項２４】
糖尿病、糖尿病合併症、または肥満症の予防または治療剤である請求項１記載の医薬組成物。
【公開番号】特開２００９−１９６９８５（Ｐ２００９−１９６９８５Ａ）
【公開日】平成２１年９月３日（２００９．９．３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−１２６６１（Ｐ２００９−１２６６１）
【出願日】平成２１年１月２３日（２００９．１．２３）
【出願人】（０００００２９５６）田辺三菱製薬株式会社 (225)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年９月３日（２００９．９．３）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年１月２３日（２００９．１．２３）
【出願人】（０００００２９５６）田辺三菱製薬株式会社 (225)
【Ｆターム（参考）】
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