収差補正素子モジュール
【課題】低電圧であっても適正に球面収差を補正することが可能な収差補正素子モジュールを提供することを目的とする。
【解決手段】パッケージ２の二つの側面には光学ガラスによる入射窓３ａおよび出射窓３ｂを配置する。この一対の入出射窓の間に、主光軸がその略中心を通るように偏光ビームスプリッター４を配置する。偏光ビームスプリッター４をはさんでそれぞれの側に１／４波長板５ａおよび５ｂを配置し、圧電膜１１ａ、１１ｂ等を基板２５ａおよび２５ｂ上に設けた収差補正ミラー６ａおよび６ｂを配置する。入射窓３ａからＰ偏光で入射したビーム４０は、入射窓３ａと出射窓３ｂを通る間に二個の収差補正ミラー６ａおよび６ｂにより二回の収差補正を受ける。従って、一対の収差補正ミラーが同じ特性であれば、一個の収差補正ミラーに必要とされる変形量は従来の半分ですむので、制御電圧も従来の半分となる。
【解決手段】パッケージ２の二つの側面には光学ガラスによる入射窓３ａおよび出射窓３ｂを配置する。この一対の入出射窓の間に、主光軸がその略中心を通るように偏光ビームスプリッター４を配置する。偏光ビームスプリッター４をはさんでそれぞれの側に１／４波長板５ａおよび５ｂを配置し、圧電膜１１ａ、１１ｂ等を基板２５ａおよび２５ｂ上に設けた収差補正ミラー６ａおよび６ｂを配置する。入射窓３ａからＰ偏光で入射したビーム４０は、入射窓３ａと出射窓３ｂを通る間に二個の収差補正ミラー６ａおよび６ｂにより二回の収差補正を受ける。従って、一対の収差補正ミラーが同じ特性であれば、一個の収差補正ミラーに必要とされる変形量は従来の半分ですむので、制御電圧も従来の半分となる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学装置、特に光学ディスク装置の光学ピックアップにおける収差補正素子モジュールに関する。
【背景技術】
【０００２】
光学ディスク装置を用いた情報記録媒体として、コンパクトディスク（ＣＤ）やデジタルビデオディスク（ＤＶＤ）などがある。さらに、今日ではマルチメディア技術の急速な発展に合わせて、従来よりも波長の短い青色レーザーを用いたブルーレイ光学ディスク（ＢＤ）が開発され、読み取り、もしくは記録情報の大容量化を達成している。近年の光学ディスク装置は一台でこれら複数の光学ディスクのいずれにも対応できる構成になっている。このことは一方で光学ディスク装置の高密度実装を要求する。すなわち、従来と同じ光学ディスク装置の中に複数の光学ディスクに対応する光学系を配置する必要がある。さらに、それとは別に、パーソナルコンピュータ、特にノート型パーソナルコンピュータ用の光学ディスク装置に対しては、小型、薄型の必要性が年々高くなっており、部品の小型化や高密度実装、光学系の縮小化が大きな課題となっている。
【０００３】
ところで、ＢＤは二層のディスク面からなり、第一層と第二層のデータを記録再生する際に生じる球面収差を補正することが必要となる。したがって、パーソナルコンピュータに用いられるＢＤ光学ディスク装置の課題は小型の部品で球面収差補正を行うことであるといえる。この課題を解決することを目的として、従来、圧電素子の弾性変形を利用した薄膜ミラーを用いた球面収差補正素子が、例えば以下の特許文献に提案されている。
【特許文献１】特開２０００−１０５３０６号公報
【特許文献２】特開平１０−１２３４３８号公報
【特許文献３】特開平８−２１９６４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、ＢＤ光学ディスク装置の規格においては、波長の短い青色レーザーが用いられていることと、開口数（ＮＡ）が０．８５と従来に比べて大きいことから、光学ディスクにおける第一層と第二層のディスク厚の差によって発生する球面収差量は従来と比較して大きい。したがって、ミラーを変形させてその収差を補正しようとする場合、大きな曲率の変化が必要である。すなわち、圧電素子を用いたミラーの場合、大きな曲率の変化を与えようとする、一般に大きな電圧が必要である。ところが、圧電素子に加えうる電圧の最大値は主に圧電素子の膜厚に依存する絶縁性から来る制限がある。また、たとえば、光学ピックアップのような装置においては、システムで用いられる５Ｖ電源を流用することが望ましく、それ以上の電圧が必要な場合は新たに昇圧回路が必要でコストアップを招く恐れがある。以上のように、従来、５Ｖ程度の低電圧でＢＤにおける球面収差を補正できる圧電素子が望まれていた。
【０００５】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたもので、低電圧であっても適正に球面収差を補正することが可能な収差補正素子モジュールを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
以上の課題を解決するために、本発明の収差補正素子モジュールは、基板と、キャビティ部と、前記キャビティ部に対向して設けられた圧電体と、前記圧電体をはさむ一対の電極膜と、光学反射膜とからなる収差補正ミラーが二個で一対をなして設けられ、偏光ビームスプリッターの略中心を通って主光軸に垂直な副光軸に平行に、前記偏光ビームスプリ
ッターを挟んで前記一対の収差補正ミラーと一対の１／４波長板が配置されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によると、光学設計通りの精度のよい曲面をもったミラーを作製することができるので、光学収差、特に球面収差を高い精度で低減させることができ、光ピックアップとして用いた場合には、記録再生特性を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
本願の第１の発明は、基板と、キャビティ部と、前記キャビティ部に対向して設けられた圧電体と、前記圧電体をはさむ一対の電極膜と、光学反射膜とからなる収差補正ミラーが二個で一対をなして設けられ、偏光ビームスプリッターの略中心を通って主光軸に垂直な副光軸に平行に、前記偏光ビームスプリッターを挟んで前記一対の収差補正ミラーと一対の１／４波長板が配置されていることを特徴とする収差補正素子モジュールである。
【０００９】
二個の収差補正ミラーによって二回の収差補正が行われるので、従来の半分の電圧で収差補正を行うことができる。また、光路を偏向することがないので、既存の光路に挿入するだけでよいという簡便性がある。
【００１０】
本願の第２の発明は、前記収差補正ミラーと、前記偏光ビームスプリッターと、前記１／４波長板とがパッケージによって封止されることを特徴とする。パッケージ化されていることにより、ある決まった球面収差量を補正することができる独立した部品として取扱うことができる。また、それによって素子の取扱い時の機械的損傷などがなくなり、部品装填が容易であるという効果がある。
【００１１】
本願の第３の発明は、前記パッケージによる封止が不活性ガス、もしくは乾燥空気によってなされることを特徴とする。これにより、湿気や使用環境における気体が引き起す化学反応などによる圧電素子の劣化を防ぐことができ、部品としての寿命が長くなるという効果がある。
【００１２】
本願の第４の発明は、前記パッケージによる封止が絶縁油を充填してなされることを特徴とする。これにより、部品の長寿命化に加えて、充填する絶縁油の屈折率に応じて補正できる収差量が大きくなり、さらに低電圧化ができるという効果がある。
【００１３】
本願の第５の発明は、前記一対の収差補正ミラーのうち一方が球面、もしくは放物面であり、他方が４次以上の高次の非球面からなることを特徴とする。これにより、一方のミラーが球面収差を除去し、そのミラーがミラー自体の製造誤差等が理由で除去することができない４次以上の高次の項を他方のミラーが除去することができるという効果がある。
【００１４】
本願の第６の発明は、前記主光軸に沿って前記収差補正素子モジュールが複数配列されていることを特徴とする。複数個配置することにより、その個数に応じてさらに低電圧化することができるという効果がある。
【００１５】
本願の第７の発明は、前記一対の収差補正ミラーのそれぞれの基板と、前記一対の１／４波長板のそれぞれが接合され、前記キャビティ部が封止されていることを特徴とする。収差補正ミラーと１／４波長板をウェハーの状態で接合することができるので、工程が簡素になって、コストダウンを図ることができるという効果がある。
【００１６】
本願の第８の発明は、前記封止が不活性ガス、もしくは乾燥空気によってなされることを特徴とする。この封止によると、コストが安い上に、湿気や使用環境における気体が引
き起す化学反応などによる圧電素子の劣化を防ぐことができ、部品としての寿命が長くなるという効果がある。
【００１７】
本願の第９の発明は、前記封止が絶縁油を充填されてなされることを特徴とする。この封止によると、コストが安く、部品の長寿命であることに加えて、充填する絶縁油の屈折率に応じて補正できる収差量が大きくなり、さらに低電圧化ができるという効果がある。
【００１８】
（実施の形態）
以下、本発明の一実施の形態について説明する。
【００１９】
まず、光学ディスク装置における光学ピックアップの基本的な構成例を図４に示す。まずＰ偏光で光源から発せられたビームは偏光ビームスプリッター３１を透過し、本発明による収差補正素子モジュール１を透過し、１／４波長板３９を通過して、立上げプリズム３８で反射し、対物レンズ３７で集光されて光学ディスク３６でスポットを形成する。光学ディスク３６で反射したビームは再び対物レンズ３７を透過し、立上げプリズム３８で反射して、１／４波長板３９を透過してＳ偏光となり、収差補正素子モジュール１を透過し、偏光ビームスプリッター３１において分岐して、受光素子３３に達する。受光素子３３に入射した光は電気信号に変換される。
【００２０】
収差補正素子モジュール１における収差補正素子は、ドライバＩＣ３５から制御電圧を供給されることによりミラー面の曲率を変え、収差補正の動作を行う。ドライバＩＣ３５で得られた電気信号は演算装置３４によって演算され、球面収差量を算出し、収差補正素子モジュール１に与える制御電圧の値がフィードバックされる。
【００２１】
図５（ａ）および図５（ｂ）はそれぞれ、図４における対物レンズ３７、光学ディスク３６の拡大図と、収差補正素子モジュール１内の圧電膜の動作の様子を示す。光学ディスク３６は二層構成で、光学ディスク基板５０上に第一面５１、および第二面５２の二面に情報を持つことができる。ビーム４０は対物レンズ３７で集光し、光学ディスク表面５３で屈折して、第一面５１と第二面５２のいずれかの面に焦点を結ぶ構成となっている。
【００２２】
図５（ａ）は第二面５２を記録再生する場合を示しており、この場合はドライバＩＣ３５が持つ電源５４はオフの状態で、圧電膜２２は製造時の初期状態となっている。図５（ｂ）は第一面５１を記録再生する場合を示しており、この場合はドライバＩＣ３５が持つ電源５４はオンの状態で、圧電膜２２には圧電歪が発生して初期状態から変形している。この形態においては、圧電膜２２は初期において相対的に大きな曲率をもち、電界を与えた場合に相対的に小さな曲率に変形する。
【００２３】
次に、本発明に係る収差補正素子モジュールについて説明する。図１は本発明による収差補正素子モジュール１の断面を示した図である。図面左から右へ向かう方向をビーム４０の方向、すなわち主光軸とする。ビーム４０が通過するように、パッケージ２が配置され、パッケージ２の二つの側面には光学ガラスによる入射窓３ａおよび出射窓３ｂを配置する。この一対の入出射窓の間に、主光軸がその略中心を通るように偏光ビームスプリッター４を配置する。偏光ビームスプリッター４をはさんでそれぞれの側に１／４波長板５ａおよび５ｂを配置し、圧電膜１１ａ、１１ｂ等を基板２５ａおよび２５ｂ上に設けた収差補正ミラー６ａおよび６ｂを配置する。
【００２４】
入射窓３ａからＰ偏光で入射したビーム４０は偏光ビームスプリッター４により反射され、図面上方の１／４波長板５ａを通過し、収差補正ミラー６ａで反射し、再び１／４波長板５ａを透過してＳ偏光となり、偏光ビームスプリッター４を透過して、下方の１／４波長板５ｂを透過し、収差補正ミラー６ｂで反射し、再び１／４波長板５ｂを通過してＰ
偏光となり、偏光ビームスプリッター４で反射されて、出射窓３ｂを通して出射する。ビーム４０は入射窓３ａと出射窓３ｂを通る間に二個の収差補正ミラー６ａおよび６ｂにより二回の収差補正を受ける。従って、一対の収差補正ミラーが同じ特性であれば、一個の収差補正ミラーに必要とされる変形量は従来の半分ですむので、制御電圧も従来の半分となる。
【００２５】
図６（ａ）は収差補正ミラーを形成する基板を製膜時の配置において上から見た斜視図であり、図６（ｂ）は基板を下側から見た斜視図である。収差補正ミラーは下から順に、基板２５、下部電極膜２１ａ、圧電膜２２、上部電極膜２１ｂ、反射膜２６から構成される。基板２５の一部は円形のキャビティ２９を有する。６１、６２は電極パッドである。
【００２６】
図６（ｃ）はＡ−Ｂ断面図であり、キャビティ２９の内部を拡大して表している。キャビティ２９の内部は基板２５を除く反射膜２６、下部電極膜２１ａ、圧電膜２２、上部電極膜２１ｂだけから構成され、キャビティ２９以外の部分と比較して相対的に膜厚が非常に薄い薄膜となる。そのため、熱や圧電歪などによる応力により変形しやすい状態になっている。特に、製膜時に発生する内部応力によってキャビティ２９内部の膜は初期状態として、ある形状に変形している。
【００２７】
基板２５はＳｉによって形成され、厚みが２７８μｍである。基板２５の表層には、１μｍ厚の熱酸化Ｓｉ２３が形成されている。
【００２８】
その基板２５上に図面の下側から、Ｉｒ−Ｔｉ合金からなる厚み０．２μｍの下部電極膜２１ａ、ＰＺＴ（チタン酸ジルコン酸鉛）からなる厚み１μｍの圧電膜２２、Ｎｉからなる厚み０．６μｍの上部電極膜２１ｂがスパッタリングにより順に積層される。基板２５の下部の熱酸化Ｓｉ２３と、Ｓｉからなる基板２５をＲＩＥにより一部除去して、内径１ｍｍの円形キャビティ２９を形成した。作製後、キャビティ２９の内部は下に凸に変形し、中央部での曲率半径が約１８ｍｍであった。この収差補正素子に５Ｖの直流電圧を与えると、下方向へ変形し、曲率半径が６０ｍｍとなった。この収差補正ミラーを一対と、ＢＫ７を材質とする偏光ビームスプリッターおよび一対の１／４波長板を図１のように接着により配置し、ＢＫ７を材質とする一対の平面ガラスを入出射窓として、セラミックパッケージによりパッケージングし、収差補正素子モジュールを形成することにより２Ｖの制御電圧で、ブルーディスクにおける二層間の保護層厚みによる球面収差を補正することができた。
【００２９】
図６（ｃ）において、ビーム４０は反射膜２６によって反射される。一つの形態においては、光学系はこの初期状態において収差がなくなるように調整されている。次にこの状態から、光学ディスクの別の面で記録再生する場合は、光学ディスク保護層の厚みの差によって球面収差が発生するので、下部電極膜２１ａおよび上部電極膜２１ｂに電圧を与えることにより圧電膜２２に電界を与えると、圧電歪により曲率が減少するように変形し、球面収差が補正される。
【００３０】
次に、本発明に係る収差補正素子モジュールの別の実施の形態を図２に示す。図２はこの実施の形態に係る収差補正素子モジュール１の断面を示した図である。図面左から右へ向かう方向をビーム４０の方向、すなわち主光軸とする。ビーム４０が通過するように、パッケージ２が配置され、パッケージ２の二つの側面には光学ガラスによる入射窓３ａおよび出射窓３ｂを配置する。この一対の入出射窓の間に、主光軸がその略中心を通るように偏光ビームスプリッター４を配置する。この実施の形態においては、収差補正ミラー６ａ、６ｂは、基板２５ａおよび２５ｂ側に向かって球面形状をなし、ビーム４０は基板の下側から入射する。１／４波長板５ａ、５ｂはそれぞれ基板２５ａ、２５ｂと共に接合され、キャビティはそれぞれ１／４波長板５ａ、５ｂによって封止される。封止は真空封止
であってもよいし、不活性ガスや乾燥空気によるパッケージでもよい。また、絶縁油などの誘電性液体１５ａ、１５ｂを充填させて封止してもよい。誘電性液体を充填する場合は、不慮の放電を防ぐとともに、誘電率によってビームの光学的距離の増大により、ミラーの曲率を小さくすることができるので、さらに低電圧化できるという効果がある。
【００３１】
さらに、この収差補正素子モジュール１をビーム４０の方向に複数個配列する図３のような構成にすれば、さらにそれぞれの収差補正素子モジュール１における制御電圧を低下させることができるので、高い電圧を使うことによる昇圧器等によるコストアップや、放電などによる故障を防ぐことができるだけでなく、圧電素子の寿命を長くすることができるのでモジュール全体の品質を高めることができる。
【００３２】
一対の収差補正素子のうち第一の収差補正素子における収差補正素子ミラーの形状を、（式１）に示す球面となるよう設計する。
【００３３】
ｚ（ｒ）＝ ｃｒ2／（１＋（１−ｃ2ｒ2）０．５）……（式１）
他方、第二の収差補正素子における収差補正ミラーを式２に示す４次曲面となるよう設計する。
【００３４】
ｚ（ｒ）＝ ｃｒ4……（式２）
なお、（式１），（式２）において、ｚはミラー中心位置からの高さ、ｃは曲率に関係する係数、ｒは動径方向位置を意味する。
【００３５】
第一の収差補正ミラーは光学ディスクの厚みの差によって発生する球面収差を主に補正する機能をもつ。しかしながら、収差補正素子の製造誤差等により、４次以降の高次項の誤差が残存する。そのため、第一の収差補正素子が残す４次の収差を除去する機能を第二の収差補正素子に持たせている。
【００３６】
図７（ａ）は収差補正素子モジュールに用いる収差補正ミラーの基板上からの斜視図であり、図７（ｂ）は基板を下側から見た斜視図である。収差補正ミラーは下から順に、基板２５、反射膜２６、下部電極膜２１ａ、圧電膜２２、上部電極膜２１ｂから構成される。基板２５の一部は円形のキャビティ２９を有する。６１、６２は電極パッドである。
【００３７】
図７（ｃ）はＡ−Ｂ断面図であり、キャビティ２９の内部を拡大して表している。基板２５はＳｉによって形成され、厚みが２９８μｍである。基板２５の表層には、１μｍ厚の熱酸化Ｓｉ２３が形成されている。
【００３８】
その基板２５上に図面の下側から、ＴｉＯ2およびＴｎＯ2からなる誘電体多層膜による反射膜２６が厚み０．８μｍで蒸着により積層される。さらに、Ｉｒ−Ｔｉ合金からなる厚み０．１μｍの下部電極膜２１ａ、ＰＺＴ（チタン酸ジルコン酸鉛）からなる厚み２μｍの圧電膜２２、Ｔｉからなる厚み０．１μｍの上部電極膜２１ｂがスパッタリングにより順に積層される。
【００３９】
基板２５の下部の熱酸化Ｓｉ２３、Ｓｉからなる基板２５をＲＩＥにより一部除去して内径１ｍｍの円形キャビティ２９を形成した。作製後、キャビティ内部は上に凸に変形し、中央部での曲率半径が約３３ｍｍであった。この収差補正素子に５Ｖの直流電圧を与えると、下方向へ変形し、曲率半径が８０ｍｍとなった。この収差補正ミラーをＳｉウェハー上で形成し、収差補正ミラーの基板であるＳｉウェハーの裏側とウェハー状の１／４波長板をスクリーン印刷により接着した後、ダイシングして収差補正ミラーと１／４波長板が接合された部材を形成した。（図示しない）その部材一対と、ＢＫ７を材質とする偏光ビームスプリッターを図２のように接着により配置し、ＢＫ７を材質とする一対の平面ガ
ラスを入出射窓として、セラミックパッケージによりパッケージングし、収差補正素子モジュールを形成することにより３．５Ｖの制御電圧で、ブルーディスクにおける二層間の保護層厚みによる球面収差を補正することができた。
【００４０】
なお、上記の例は、好適な例を示したにすぎない。本発明を用いる限り、実用的ないかなる圧電膜、弾性体を用いてもダイナミックな球面収差を効果的に補正することができる。たとえば、圧電膜３としては、ＰＺＴ（チタン酸ジルコン酸鉛）をはじめ、水晶、ＬｉＮｂＯ3、ＬｉＴａＯ3、ＫＮｂＯ3、ＺｎＯ、ＡｌＮ、Ｐｂ（Ｚｒ，Ｔｉ）Ｏ3、ＰＶＤＦ（ポリフッ化ビニリデン）等を用いることができる。また、電極としてはＮｉ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ａｕ、Ｐｔ等を用いることができる。反射膜はＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＴｎＯ2などの酸化物を用いた誘電体多層膜の他、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕなど腐食性を考慮した貴金属、また、使うビーム波長の反射率に合わせたさまざまな選択が可能である。キャビティの形状は円形の例を示したが、軸対称な多角形であればいかなる形状でも本発明の効果が得られる。なお、本実施の形態では、光ピックアップについて説明したが、その他の光学装置などにも当然応用が可能である。
【産業上の利用可能性】
【００４１】
以上述べたように、本発明によれば、非常に小型で、省電力で、応答性にすぐれた、精度の高い球面収差補正を行うことができるので、ＣＤ／ＤＶＤドライブレコーダ、デコーダ、ＣＤ／ＤＶＤドライブなどに用いられる光学ピックアップ、特に、青色レーザーを用いた光学ピックアップや収差の補正が必要な光学装置に利用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明の実施の形態に係る収差補正素子モジュールを示す図
【図２】本発明の実施の形態に係る収差補正素子モジュールを示す図
【図３】本発明の実施の形態に係る収差補正素子モジュールを示す図
【図４】本発明の実施の形態に係る収差補正素子モジュールを用いた光学系の図
【図５】本発明の実施の形態に係る収差補正素子モジュールを用いた光学系の部分拡大図
【図６】本発明の実施の形態における収差補正ミラーを示す図
【図７】本発明の実施の形態における収差補正ミラーを示す図
【符号の説明】
【００４３】
１ 収差補正素子モジュール
２ パッケージ
３ａ 入射窓
３ｂ 出射窓
４ 偏光ビームスプリッター
５ａ １／４波長板
５ｂ １／４波長板
６ａ 収差補正ミラー
６ｂ 収差補正ミラー
１１ａ 圧電膜
１１ｂ 圧電膜
１５ａ 誘電性液体
１５ｂ 誘電性液体
２１ａ 下部電極膜
２１ｂ 上部電極膜
２２ 圧電膜
２３ 熱酸化Ｓｉ
２５ 基板
２５ａ 基板
２５ｂ 基板
２６ 反射膜
２９ キャビティ
３１ 偏光ビームスプリッター
３２ 光源
３３ 受光素子
３４ 演算装置
３５ ドライバＩＣ
３６ 光学ディスク
３７ 対物レンズ
３８ 立上げプリズム
３９ １／４波長板
４０ ビーム
５０ 光学ディスク基板
５１ 第一面
５２ 第二面
５３ 光学ディスク表面
５４ 電源
６１ 電極パッド
６２ 電極パッド
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学装置、特に光学ディスク装置の光学ピックアップにおける収差補正素子モジュールに関する。
【背景技術】
【０００２】
光学ディスク装置を用いた情報記録媒体として、コンパクトディスク（ＣＤ）やデジタルビデオディスク（ＤＶＤ）などがある。さらに、今日ではマルチメディア技術の急速な発展に合わせて、従来よりも波長の短い青色レーザーを用いたブルーレイ光学ディスク（ＢＤ）が開発され、読み取り、もしくは記録情報の大容量化を達成している。近年の光学ディスク装置は一台でこれら複数の光学ディスクのいずれにも対応できる構成になっている。このことは一方で光学ディスク装置の高密度実装を要求する。すなわち、従来と同じ光学ディスク装置の中に複数の光学ディスクに対応する光学系を配置する必要がある。さらに、それとは別に、パーソナルコンピュータ、特にノート型パーソナルコンピュータ用の光学ディスク装置に対しては、小型、薄型の必要性が年々高くなっており、部品の小型化や高密度実装、光学系の縮小化が大きな課題となっている。
【０００３】
ところで、ＢＤは二層のディスク面からなり、第一層と第二層のデータを記録再生する際に生じる球面収差を補正することが必要となる。したがって、パーソナルコンピュータに用いられるＢＤ光学ディスク装置の課題は小型の部品で球面収差補正を行うことであるといえる。この課題を解決することを目的として、従来、圧電素子の弾性変形を利用した薄膜ミラーを用いた球面収差補正素子が、例えば以下の特許文献に提案されている。
【特許文献１】特開２０００−１０５３０６号公報
【特許文献２】特開平１０−１２３４３８号公報
【特許文献３】特開平８−２１９６４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、ＢＤ光学ディスク装置の規格においては、波長の短い青色レーザーが用いられていることと、開口数（ＮＡ）が０．８５と従来に比べて大きいことから、光学ディスクにおける第一層と第二層のディスク厚の差によって発生する球面収差量は従来と比較して大きい。したがって、ミラーを変形させてその収差を補正しようとする場合、大きな曲率の変化が必要である。すなわち、圧電素子を用いたミラーの場合、大きな曲率の変化を与えようとする、一般に大きな電圧が必要である。ところが、圧電素子に加えうる電圧の最大値は主に圧電素子の膜厚に依存する絶縁性から来る制限がある。また、たとえば、光学ピックアップのような装置においては、システムで用いられる５Ｖ電源を流用することが望ましく、それ以上の電圧が必要な場合は新たに昇圧回路が必要でコストアップを招く恐れがある。以上のように、従来、５Ｖ程度の低電圧でＢＤにおける球面収差を補正できる圧電素子が望まれていた。
【０００５】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたもので、低電圧であっても適正に球面収差を補正することが可能な収差補正素子モジュールを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
以上の課題を解決するために、本発明の収差補正素子モジュールは、基板と、キャビティ部と、前記キャビティ部に対向して設けられた圧電体と、前記圧電体をはさむ一対の電極膜と、光学反射膜とからなる収差補正ミラーが二個で一対をなして設けられ、偏光ビームスプリッターの略中心を通って主光軸に垂直な副光軸に平行に、前記偏光ビームスプリ
ッターを挟んで前記一対の収差補正ミラーと一対の１／４波長板が配置されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によると、光学設計通りの精度のよい曲面をもったミラーを作製することができるので、光学収差、特に球面収差を高い精度で低減させることができ、光ピックアップとして用いた場合には、記録再生特性を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
本願の第１の発明は、基板と、キャビティ部と、前記キャビティ部に対向して設けられた圧電体と、前記圧電体をはさむ一対の電極膜と、光学反射膜とからなる収差補正ミラーが二個で一対をなして設けられ、偏光ビームスプリッターの略中心を通って主光軸に垂直な副光軸に平行に、前記偏光ビームスプリッターを挟んで前記一対の収差補正ミラーと一対の１／４波長板が配置されていることを特徴とする収差補正素子モジュールである。
【０００９】
二個の収差補正ミラーによって二回の収差補正が行われるので、従来の半分の電圧で収差補正を行うことができる。また、光路を偏向することがないので、既存の光路に挿入するだけでよいという簡便性がある。
【００１０】
本願の第２の発明は、前記収差補正ミラーと、前記偏光ビームスプリッターと、前記１／４波長板とがパッケージによって封止されることを特徴とする。パッケージ化されていることにより、ある決まった球面収差量を補正することができる独立した部品として取扱うことができる。また、それによって素子の取扱い時の機械的損傷などがなくなり、部品装填が容易であるという効果がある。
【００１１】
本願の第３の発明は、前記パッケージによる封止が不活性ガス、もしくは乾燥空気によってなされることを特徴とする。これにより、湿気や使用環境における気体が引き起す化学反応などによる圧電素子の劣化を防ぐことができ、部品としての寿命が長くなるという効果がある。
【００１２】
本願の第４の発明は、前記パッケージによる封止が絶縁油を充填してなされることを特徴とする。これにより、部品の長寿命化に加えて、充填する絶縁油の屈折率に応じて補正できる収差量が大きくなり、さらに低電圧化ができるという効果がある。
【００１３】
本願の第５の発明は、前記一対の収差補正ミラーのうち一方が球面、もしくは放物面であり、他方が４次以上の高次の非球面からなることを特徴とする。これにより、一方のミラーが球面収差を除去し、そのミラーがミラー自体の製造誤差等が理由で除去することができない４次以上の高次の項を他方のミラーが除去することができるという効果がある。
【００１４】
本願の第６の発明は、前記主光軸に沿って前記収差補正素子モジュールが複数配列されていることを特徴とする。複数個配置することにより、その個数に応じてさらに低電圧化することができるという効果がある。
【００１５】
本願の第７の発明は、前記一対の収差補正ミラーのそれぞれの基板と、前記一対の１／４波長板のそれぞれが接合され、前記キャビティ部が封止されていることを特徴とする。収差補正ミラーと１／４波長板をウェハーの状態で接合することができるので、工程が簡素になって、コストダウンを図ることができるという効果がある。
【００１６】
本願の第８の発明は、前記封止が不活性ガス、もしくは乾燥空気によってなされることを特徴とする。この封止によると、コストが安い上に、湿気や使用環境における気体が引
き起す化学反応などによる圧電素子の劣化を防ぐことができ、部品としての寿命が長くなるという効果がある。
【００１７】
本願の第９の発明は、前記封止が絶縁油を充填されてなされることを特徴とする。この封止によると、コストが安く、部品の長寿命であることに加えて、充填する絶縁油の屈折率に応じて補正できる収差量が大きくなり、さらに低電圧化ができるという効果がある。
【００１８】
（実施の形態）
以下、本発明の一実施の形態について説明する。
【００１９】
まず、光学ディスク装置における光学ピックアップの基本的な構成例を図４に示す。まずＰ偏光で光源から発せられたビームは偏光ビームスプリッター３１を透過し、本発明による収差補正素子モジュール１を透過し、１／４波長板３９を通過して、立上げプリズム３８で反射し、対物レンズ３７で集光されて光学ディスク３６でスポットを形成する。光学ディスク３６で反射したビームは再び対物レンズ３７を透過し、立上げプリズム３８で反射して、１／４波長板３９を透過してＳ偏光となり、収差補正素子モジュール１を透過し、偏光ビームスプリッター３１において分岐して、受光素子３３に達する。受光素子３３に入射した光は電気信号に変換される。
【００２０】
収差補正素子モジュール１における収差補正素子は、ドライバＩＣ３５から制御電圧を供給されることによりミラー面の曲率を変え、収差補正の動作を行う。ドライバＩＣ３５で得られた電気信号は演算装置３４によって演算され、球面収差量を算出し、収差補正素子モジュール１に与える制御電圧の値がフィードバックされる。
【００２１】
図５（ａ）および図５（ｂ）はそれぞれ、図４における対物レンズ３７、光学ディスク３６の拡大図と、収差補正素子モジュール１内の圧電膜の動作の様子を示す。光学ディスク３６は二層構成で、光学ディスク基板５０上に第一面５１、および第二面５２の二面に情報を持つことができる。ビーム４０は対物レンズ３７で集光し、光学ディスク表面５３で屈折して、第一面５１と第二面５２のいずれかの面に焦点を結ぶ構成となっている。
【００２２】
図５（ａ）は第二面５２を記録再生する場合を示しており、この場合はドライバＩＣ３５が持つ電源５４はオフの状態で、圧電膜２２は製造時の初期状態となっている。図５（ｂ）は第一面５１を記録再生する場合を示しており、この場合はドライバＩＣ３５が持つ電源５４はオンの状態で、圧電膜２２には圧電歪が発生して初期状態から変形している。この形態においては、圧電膜２２は初期において相対的に大きな曲率をもち、電界を与えた場合に相対的に小さな曲率に変形する。
【００２３】
次に、本発明に係る収差補正素子モジュールについて説明する。図１は本発明による収差補正素子モジュール１の断面を示した図である。図面左から右へ向かう方向をビーム４０の方向、すなわち主光軸とする。ビーム４０が通過するように、パッケージ２が配置され、パッケージ２の二つの側面には光学ガラスによる入射窓３ａおよび出射窓３ｂを配置する。この一対の入出射窓の間に、主光軸がその略中心を通るように偏光ビームスプリッター４を配置する。偏光ビームスプリッター４をはさんでそれぞれの側に１／４波長板５ａおよび５ｂを配置し、圧電膜１１ａ、１１ｂ等を基板２５ａおよび２５ｂ上に設けた収差補正ミラー６ａおよび６ｂを配置する。
【００２４】
入射窓３ａからＰ偏光で入射したビーム４０は偏光ビームスプリッター４により反射され、図面上方の１／４波長板５ａを通過し、収差補正ミラー６ａで反射し、再び１／４波長板５ａを透過してＳ偏光となり、偏光ビームスプリッター４を透過して、下方の１／４波長板５ｂを透過し、収差補正ミラー６ｂで反射し、再び１／４波長板５ｂを通過してＰ
偏光となり、偏光ビームスプリッター４で反射されて、出射窓３ｂを通して出射する。ビーム４０は入射窓３ａと出射窓３ｂを通る間に二個の収差補正ミラー６ａおよび６ｂにより二回の収差補正を受ける。従って、一対の収差補正ミラーが同じ特性であれば、一個の収差補正ミラーに必要とされる変形量は従来の半分ですむので、制御電圧も従来の半分となる。
【００２５】
図６（ａ）は収差補正ミラーを形成する基板を製膜時の配置において上から見た斜視図であり、図６（ｂ）は基板を下側から見た斜視図である。収差補正ミラーは下から順に、基板２５、下部電極膜２１ａ、圧電膜２２、上部電極膜２１ｂ、反射膜２６から構成される。基板２５の一部は円形のキャビティ２９を有する。６１、６２は電極パッドである。
【００２６】
図６（ｃ）はＡ−Ｂ断面図であり、キャビティ２９の内部を拡大して表している。キャビティ２９の内部は基板２５を除く反射膜２６、下部電極膜２１ａ、圧電膜２２、上部電極膜２１ｂだけから構成され、キャビティ２９以外の部分と比較して相対的に膜厚が非常に薄い薄膜となる。そのため、熱や圧電歪などによる応力により変形しやすい状態になっている。特に、製膜時に発生する内部応力によってキャビティ２９内部の膜は初期状態として、ある形状に変形している。
【００２７】
基板２５はＳｉによって形成され、厚みが２７８μｍである。基板２５の表層には、１μｍ厚の熱酸化Ｓｉ２３が形成されている。
【００２８】
その基板２５上に図面の下側から、Ｉｒ−Ｔｉ合金からなる厚み０．２μｍの下部電極膜２１ａ、ＰＺＴ（チタン酸ジルコン酸鉛）からなる厚み１μｍの圧電膜２２、Ｎｉからなる厚み０．６μｍの上部電極膜２１ｂがスパッタリングにより順に積層される。基板２５の下部の熱酸化Ｓｉ２３と、Ｓｉからなる基板２５をＲＩＥにより一部除去して、内径１ｍｍの円形キャビティ２９を形成した。作製後、キャビティ２９の内部は下に凸に変形し、中央部での曲率半径が約１８ｍｍであった。この収差補正素子に５Ｖの直流電圧を与えると、下方向へ変形し、曲率半径が６０ｍｍとなった。この収差補正ミラーを一対と、ＢＫ７を材質とする偏光ビームスプリッターおよび一対の１／４波長板を図１のように接着により配置し、ＢＫ７を材質とする一対の平面ガラスを入出射窓として、セラミックパッケージによりパッケージングし、収差補正素子モジュールを形成することにより２Ｖの制御電圧で、ブルーディスクにおける二層間の保護層厚みによる球面収差を補正することができた。
【００２９】
図６（ｃ）において、ビーム４０は反射膜２６によって反射される。一つの形態においては、光学系はこの初期状態において収差がなくなるように調整されている。次にこの状態から、光学ディスクの別の面で記録再生する場合は、光学ディスク保護層の厚みの差によって球面収差が発生するので、下部電極膜２１ａおよび上部電極膜２１ｂに電圧を与えることにより圧電膜２２に電界を与えると、圧電歪により曲率が減少するように変形し、球面収差が補正される。
【００３０】
次に、本発明に係る収差補正素子モジュールの別の実施の形態を図２に示す。図２はこの実施の形態に係る収差補正素子モジュール１の断面を示した図である。図面左から右へ向かう方向をビーム４０の方向、すなわち主光軸とする。ビーム４０が通過するように、パッケージ２が配置され、パッケージ２の二つの側面には光学ガラスによる入射窓３ａおよび出射窓３ｂを配置する。この一対の入出射窓の間に、主光軸がその略中心を通るように偏光ビームスプリッター４を配置する。この実施の形態においては、収差補正ミラー６ａ、６ｂは、基板２５ａおよび２５ｂ側に向かって球面形状をなし、ビーム４０は基板の下側から入射する。１／４波長板５ａ、５ｂはそれぞれ基板２５ａ、２５ｂと共に接合され、キャビティはそれぞれ１／４波長板５ａ、５ｂによって封止される。封止は真空封止
であってもよいし、不活性ガスや乾燥空気によるパッケージでもよい。また、絶縁油などの誘電性液体１５ａ、１５ｂを充填させて封止してもよい。誘電性液体を充填する場合は、不慮の放電を防ぐとともに、誘電率によってビームの光学的距離の増大により、ミラーの曲率を小さくすることができるので、さらに低電圧化できるという効果がある。
【００３１】
さらに、この収差補正素子モジュール１をビーム４０の方向に複数個配列する図３のような構成にすれば、さらにそれぞれの収差補正素子モジュール１における制御電圧を低下させることができるので、高い電圧を使うことによる昇圧器等によるコストアップや、放電などによる故障を防ぐことができるだけでなく、圧電素子の寿命を長くすることができるのでモジュール全体の品質を高めることができる。
【００３２】
一対の収差補正素子のうち第一の収差補正素子における収差補正素子ミラーの形状を、（式１）に示す球面となるよう設計する。
【００３３】
ｚ（ｒ）＝ ｃｒ2／（１＋（１−ｃ2ｒ2）０．５）……（式１）
他方、第二の収差補正素子における収差補正ミラーを式２に示す４次曲面となるよう設計する。
【００３４】
ｚ（ｒ）＝ ｃｒ4……（式２）
なお、（式１），（式２）において、ｚはミラー中心位置からの高さ、ｃは曲率に関係する係数、ｒは動径方向位置を意味する。
【００３５】
第一の収差補正ミラーは光学ディスクの厚みの差によって発生する球面収差を主に補正する機能をもつ。しかしながら、収差補正素子の製造誤差等により、４次以降の高次項の誤差が残存する。そのため、第一の収差補正素子が残す４次の収差を除去する機能を第二の収差補正素子に持たせている。
【００３６】
図７（ａ）は収差補正素子モジュールに用いる収差補正ミラーの基板上からの斜視図であり、図７（ｂ）は基板を下側から見た斜視図である。収差補正ミラーは下から順に、基板２５、反射膜２６、下部電極膜２１ａ、圧電膜２２、上部電極膜２１ｂから構成される。基板２５の一部は円形のキャビティ２９を有する。６１、６２は電極パッドである。
【００３７】
図７（ｃ）はＡ−Ｂ断面図であり、キャビティ２９の内部を拡大して表している。基板２５はＳｉによって形成され、厚みが２９８μｍである。基板２５の表層には、１μｍ厚の熱酸化Ｓｉ２３が形成されている。
【００３８】
その基板２５上に図面の下側から、ＴｉＯ2およびＴｎＯ2からなる誘電体多層膜による反射膜２６が厚み０．８μｍで蒸着により積層される。さらに、Ｉｒ−Ｔｉ合金からなる厚み０．１μｍの下部電極膜２１ａ、ＰＺＴ（チタン酸ジルコン酸鉛）からなる厚み２μｍの圧電膜２２、Ｔｉからなる厚み０．１μｍの上部電極膜２１ｂがスパッタリングにより順に積層される。
【００３９】
基板２５の下部の熱酸化Ｓｉ２３、Ｓｉからなる基板２５をＲＩＥにより一部除去して内径１ｍｍの円形キャビティ２９を形成した。作製後、キャビティ内部は上に凸に変形し、中央部での曲率半径が約３３ｍｍであった。この収差補正素子に５Ｖの直流電圧を与えると、下方向へ変形し、曲率半径が８０ｍｍとなった。この収差補正ミラーをＳｉウェハー上で形成し、収差補正ミラーの基板であるＳｉウェハーの裏側とウェハー状の１／４波長板をスクリーン印刷により接着した後、ダイシングして収差補正ミラーと１／４波長板が接合された部材を形成した。（図示しない）その部材一対と、ＢＫ７を材質とする偏光ビームスプリッターを図２のように接着により配置し、ＢＫ７を材質とする一対の平面ガ
ラスを入出射窓として、セラミックパッケージによりパッケージングし、収差補正素子モジュールを形成することにより３．５Ｖの制御電圧で、ブルーディスクにおける二層間の保護層厚みによる球面収差を補正することができた。
【００４０】
なお、上記の例は、好適な例を示したにすぎない。本発明を用いる限り、実用的ないかなる圧電膜、弾性体を用いてもダイナミックな球面収差を効果的に補正することができる。たとえば、圧電膜３としては、ＰＺＴ（チタン酸ジルコン酸鉛）をはじめ、水晶、ＬｉＮｂＯ3、ＬｉＴａＯ3、ＫＮｂＯ3、ＺｎＯ、ＡｌＮ、Ｐｂ（Ｚｒ，Ｔｉ）Ｏ3、ＰＶＤＦ（ポリフッ化ビニリデン）等を用いることができる。また、電極としてはＮｉ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ａｕ、Ｐｔ等を用いることができる。反射膜はＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＴｎＯ2などの酸化物を用いた誘電体多層膜の他、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕなど腐食性を考慮した貴金属、また、使うビーム波長の反射率に合わせたさまざまな選択が可能である。キャビティの形状は円形の例を示したが、軸対称な多角形であればいかなる形状でも本発明の効果が得られる。なお、本実施の形態では、光ピックアップについて説明したが、その他の光学装置などにも当然応用が可能である。
【産業上の利用可能性】
【００４１】
以上述べたように、本発明によれば、非常に小型で、省電力で、応答性にすぐれた、精度の高い球面収差補正を行うことができるので、ＣＤ／ＤＶＤドライブレコーダ、デコーダ、ＣＤ／ＤＶＤドライブなどに用いられる光学ピックアップ、特に、青色レーザーを用いた光学ピックアップや収差の補正が必要な光学装置に利用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明の実施の形態に係る収差補正素子モジュールを示す図
【図２】本発明の実施の形態に係る収差補正素子モジュールを示す図
【図３】本発明の実施の形態に係る収差補正素子モジュールを示す図
【図４】本発明の実施の形態に係る収差補正素子モジュールを用いた光学系の図
【図５】本発明の実施の形態に係る収差補正素子モジュールを用いた光学系の部分拡大図
【図６】本発明の実施の形態における収差補正ミラーを示す図
【図７】本発明の実施の形態における収差補正ミラーを示す図
【符号の説明】
【００４３】
１ 収差補正素子モジュール
２ パッケージ
３ａ 入射窓
３ｂ 出射窓
４ 偏光ビームスプリッター
５ａ １／４波長板
５ｂ １／４波長板
６ａ 収差補正ミラー
６ｂ 収差補正ミラー
１１ａ 圧電膜
１１ｂ 圧電膜
１５ａ 誘電性液体
１５ｂ 誘電性液体
２１ａ 下部電極膜
２１ｂ 上部電極膜
２２ 圧電膜
２３ 熱酸化Ｓｉ
２５ 基板
２５ａ 基板
２５ｂ 基板
２６ 反射膜
２９ キャビティ
３１ 偏光ビームスプリッター
３２ 光源
３３ 受光素子
３４ 演算装置
３５ ドライバＩＣ
３６ 光学ディスク
３７ 対物レンズ
３８ 立上げプリズム
３９ １／４波長板
４０ ビーム
５０ 光学ディスク基板
５１ 第一面
５２ 第二面
５３ 光学ディスク表面
５４ 電源
６１ 電極パッド
６２ 電極パッド
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、キャビティ部と、前記キャビティ部に対向して設けられた圧電体と、前記圧電体をはさむ一対の電極膜と、光学反射膜とからなる収差補正ミラーが二個で一対をなして設けられ、偏光ビームスプリッターの略中心を通って主光軸に垂直な副光軸に平行に、前記偏光ビームスプリッターを挟んで前記一対の収差補正ミラーと一対の１／４波長板が配置されていることを特徴とする収差補正素子モジュール。
【請求項２】
前記収差補正ミラーと、前記偏光ビームスプリッターと、前記１／４波長板とがパッケージによって封止されることを特徴とする請求項１記載の収差補正素子モジュール。
【請求項３】
前記パッケージによる封止が不活性ガス、もしくは乾燥空気によってなされることを特徴とする請求項２記載の収差補正素子モジュール。
【請求項４】
前記パッケージによる封止が絶縁油を充填してなされることを特徴とする請求項２記載の収差補正素子モジュール。
【請求項５】
前記一対の収差補正ミラーのうち一方が球面、もしくは放物面であり、他方が４次以上の高次の非球面からなることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の収差補正素子モジュール。
【請求項６】
前記主光軸に沿って前記収差補正素子モジュールが複数配列されていることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の収差補正素子モジュール。
【請求項７】
前記一対の収差補正ミラーのそれぞれの基板と、前記一対の１／４波長板のそれぞれが接合され、前記キャビティ部が封止されていることを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載の収差補正素子モジュール。
【請求項８】
前記封止が不活性ガス、もしくは乾燥空気によってなされることを特徴とする請求項７記載の収差補正素子モジュール。
【請求項９】
前記封止が絶縁油を充填されてなされることを特徴とする請求項７記載の収差補正素子モジュール。
【請求項１】
基板と、キャビティ部と、前記キャビティ部に対向して設けられた圧電体と、前記圧電体をはさむ一対の電極膜と、光学反射膜とからなる収差補正ミラーが二個で一対をなして設けられ、偏光ビームスプリッターの略中心を通って主光軸に垂直な副光軸に平行に、前記偏光ビームスプリッターを挟んで前記一対の収差補正ミラーと一対の１／４波長板が配置されていることを特徴とする収差補正素子モジュール。
【請求項２】
前記収差補正ミラーと、前記偏光ビームスプリッターと、前記１／４波長板とがパッケージによって封止されることを特徴とする請求項１記載の収差補正素子モジュール。
【請求項３】
前記パッケージによる封止が不活性ガス、もしくは乾燥空気によってなされることを特徴とする請求項２記載の収差補正素子モジュール。
【請求項４】
前記パッケージによる封止が絶縁油を充填してなされることを特徴とする請求項２記載の収差補正素子モジュール。
【請求項５】
前記一対の収差補正ミラーのうち一方が球面、もしくは放物面であり、他方が４次以上の高次の非球面からなることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の収差補正素子モジュール。
【請求項６】
前記主光軸に沿って前記収差補正素子モジュールが複数配列されていることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の収差補正素子モジュール。
【請求項７】
前記一対の収差補正ミラーのそれぞれの基板と、前記一対の１／４波長板のそれぞれが接合され、前記キャビティ部が封止されていることを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載の収差補正素子モジュール。
【請求項８】
前記封止が不活性ガス、もしくは乾燥空気によってなされることを特徴とする請求項７記載の収差補正素子モジュール。
【請求項９】
前記封止が絶縁油を充填されてなされることを特徴とする請求項７記載の収差補正素子モジュール。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【公開番号】特開２００６−１１０２２（Ｐ２００６−１１０２２Ａ）
【公開日】平成１８年１月１２日（２００６．１．１２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００４−１８７７１９（Ｐ２００４−１８７７１９）
【出願日】平成１６年６月２５日（２００４．６．２５）
【出願人】（０００００５８２１）松下電器産業株式会社 (73,050)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年１月１２日（２００６．１．１２）
【国際特許分類】
【出願日】平成１６年６月２５日（２００４．６．２５）
【出願人】（０００００５８２１）松下電器産業株式会社 (73,050)
【Ｆターム（参考）】
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