平面ディスプレイ部材の製造方法
【課題】 映り込み、歪み、ぼやけ等の問題がない良好な視認性を有し、耐衝撃性に優れたディスプレイを得ることのできる平面ディスプレイ部材の製造方法を提供すること。
【解決手段】 平面ディスプレイ部材の製造方法は、透明基材上の第１の面に透明樹脂層を、第２の面の最表面に反射防止層を有する平面ディスプレイ部材の製造方法であって、透明基材上に、２５℃での粘度が２０００〜５００００ｍＰａ・ｓの透明樹脂ペーストを口金から吐出して枚様方式で塗布する工程及び塗布された透明樹脂ペーストを硬化する工程を経て前記透明樹脂層を形成する。
【解決手段】 平面ディスプレイ部材の製造方法は、透明基材上の第１の面に透明樹脂層を、第２の面の最表面に反射防止層を有する平面ディスプレイ部材の製造方法であって、透明基材上に、２５℃での粘度が２０００〜５００００ｍＰａ・ｓの透明樹脂ペーストを口金から吐出して枚様方式で塗布する工程及び塗布された透明樹脂ペーストを硬化する工程を経て前記透明樹脂層を形成する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、平面ディスプレイに用いられる平面ディスプレイ部材に関するものであり、さらに詳しくは、映り込み、歪み、ぼやけ等の問題がない良好な視認性を有し、耐衝撃性に優れた平面ディスプレイに用いられる平面ディスプレイ材料の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイなどの平面ディスプレイは、明瞭なフルカラー表示が可能な表示装置である。平面ディスプレイには、通常、反射防止と平面ディスプレイ保護を目的とした前面保護板が平面ディスプレイ視認側に配置される。特にプラズマディスプレイや屋外で使用する携帯電話などに使用される液晶ディスプレイは、平面ディスプレイと前面保護板の間に間隙を設け、ディスプレイに衝撃力が直接作用することを防止し、ディスプレイから発生する熱や電磁波の伝搬を抑制している。しかしながら、このような間隙によって形成される空気層と前面保護板および平面ディスプレイの界面における光の反射が大きく、外光が映り込む、あるいは表示が２重に見えるといった視認性の低下が問題となる。ここから、平面ディスプレイの視認側に緩衝性と密着性を有する耐熱性の透明樹脂シートを介して透明保護板を直接装着する方法（特許文献１参照）が提案されているが、透明樹脂シートを製造する方法としては、あらかじめセパレーター上に設けた透明樹脂シートを圧着方式によって密着させる方式が記載されているのみであった。このような製造方法では、平坦性が良好な透明樹脂シートを得ることが困難であり、表示画像の歪み、ぼやけ等の視認性の低下につながるといった問題があった。また、同様な耐衝撃性シートの製造方法として、スクリュー式押し出し機を用いてシート状に成型する方法（特許文献２参照）が提案されているが、このような製造方法によっても平坦性が良好透明樹脂シートを得ることは困難であり、ディスプレイに用いた場合、歪みが発生するなど視認性の面で問題があった。
【０００３】
【特許文献１】特開平9-259770号公報
【特許文献２】特開平2000-211012号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
そこで、本発明は、上記従来技術に鑑みて、より合理的なプロセスで、映り込み、歪み、ぼやけ等の問題がない良好な視認性を有し、耐衝撃性に優れたディスプレイを得ることのできる平面ディスプレイ部材の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本願発明者らは、透明基材の第１の面に透明樹脂層を形成、第２の面に反射防止層を積層した平面ディスプレイ部材を平面ディスプレイの前面に透明樹脂層を介して直接装着することにより、映り込みのない平面ディスプレイが提供でき、特定の範囲の粘度を有する透明樹脂ペーストを平坦に保持された透明基材上に口金から吐出・硬化して枚様方式で形成することにより、透明樹脂層の平坦性が向上し、表示画像のゆがみ等のない視認性・耐衝撃性に優れた平面ディスプレイを得ることのできる平面ディスプレイ部材を製造できることを見いだし、本発明に至った。
【０００６】
すなわち、本発明は、透明基材上の第１の面に透明樹脂層を、第２の面の最表面に反射防止層を有する平面ディスプレイ部材の製造方法であって、透明基材上に、２５℃での粘度が２０００〜５００００ｍＰａ・ｓの透明樹脂ペーストを口金から吐出して枚様方式で塗布する工程及び塗布された透明樹脂ペーストを硬化する工程を経て前記透明樹脂層を形成することを特徴とする平面ディスプレイ部材の製造方法を提供する。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、簡略な工程により、視認性に優れる平面ディスプレイ部材を製造でき、さらに、この平面ディスプレイ部材を用いることで表示品位・耐衝撃性に優れた平面ディスプレイを提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
透明基材
本発明の平面ディスプレイ部材の製造方法に用いる透明基材は、平面ディスプレイの前面に配置され得る透明なものであれば、特に制限なく用いることができる。本発明の「透明」とは、その光透過率がＪＩＳ Ｋ６７１４に準拠したヘイズ値に基づいて５以下、全光線透過率が８５％以上であることをいう。このような透明基材としては、ガラス基板、樹脂基板、フィルムなどを用いることができる。樹脂基板としては厚み０．５〜３ｍｍのアクリル板もしくはポリカーボネート基板等の公知の透明樹脂基板を用いることができる。また、フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートフィルムやポリカーボネートフィルムを用いることができる。ガラス基板としては厚み０.７〜３．５ｍｍのソーダガラスもしくは強化ガラス等の公知のガラス基板を用いることができる。特にガラス基板は、基材の平坦性を保持することが容易で、後述する透明樹脂層の形成が高品位となる点から、好ましく用いられる。
【０００９】
透明樹脂層
上記した透明基材上に、透明樹脂層を形成する。透明樹脂層は視認性、耐衝撃性の点より、０．１〜２．０ｍｍ、より好ましくは０．３〜１．５ｍｍの厚みであることが好ましい。０．１ｍｍ未満の場合耐衝撃性能に劣り、２．０ｍｍを超える場合、透明性の低下や、厚みムラの発生等が懸念され、表示品位が低下する恐れがある。
【００１０】
透明樹脂としては、例えばアミド樹脂、スチレン樹脂、塩化ビニル樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、オレフィン樹脂などの適宜な透明樹脂を用いることができる。この中でも、透明性、耐衝撃性、耐候性などの点から、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂若しくはオレフィン樹脂又はこれらの２種以上の混合物が好ましく用いられる。
【００１１】
本発明の製造方法における透明樹脂層は、透明基材上に透明樹脂ペーストを口金から吐出して枚様方式で塗布する工程と、硬化工程を経て形成される。ここで、「枚様方式」とは、透明基材上での塗布が終了した時点で透明樹脂ペーストの吐出を一旦終了して間欠的に塗布していくことを意味する。
【００１２】
本発明で好ましく用いられる０．１ｍｍ以上の厚みの透明樹脂層を得るための透明樹脂ペーストの塗布方法としては、密閉型の口金から透明樹脂ペーストを吐出して、基材上に塗布するダイコート、リップコート塗布等があげられる。特に、スリットダイコート塗布は圧送やシリンジポンプ、ダイヤフラムポンプ、ギヤポンプなどを用いて、いわゆるスリット状の吐出口を有する口金からペーストを吐出し、塗布する方法であり、必要なペースト量だけを塗布することができるため、理論的には廃液が発生せず、経済性に優れているという点から好ましく用いられる
【００１３】
透明樹脂ペーストは枚様形状に塗布される。本発明の製造方法で得られた平面ディスプレイ部材を平面ディスプレイの視認側に装着する際、平面ディスプレイは枚様であるため、最終的には平面ディスプレイ部材を枚様に成型する必要がある。さらに、後述する基材の平坦性の保持の際も、連続的に形成するよりは、枚様形状で間欠的かつ選択的に形成するほうが簡便である。
【００１４】
透明樹脂ペーストとは透明樹脂の未硬化の状態のものを言い、透明樹脂を適宜の溶媒に溶解した透明樹脂溶液、透明樹脂の溶融液、硬化前の未反応物（以下、硬化主材）と硬化開始剤の混合液などを用いることができる。ここで溶媒とは、樹脂を溶解可能で、沸点２００℃以下、８０〜１５０℃の加熱により除去可能なものを言う。特に、溶媒の乾燥が不要で、厚み制御が容易である点から、無溶媒ペーストが好ましく用いられる。さらには、硬化開始剤と硬化主材の混合物からなる複数液硬化型ペーストが好ましく用いられる。例えばシリコーン樹脂の場合、硬化主材としては、シラノール基や、ビニル基に代表されるアルケニル基等の官能基を有するベースポリマーとしてのオルガノポリシロキサンが用いられる。オルガノポリシロキサンとしては、アルケニル基や水酸基（シラノール基）等の官能基を１分子中に２個以上有するものが挙げられ、例えば、末端にシラノール基や、ビニル基等のアルケニル基を有するジメチルポリシロキサンやジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体等のジオルガノポリシロキサンが用いられる。硬化開始剤としては、３官能以上のシランモノマー、３官能以上のメチルハイドロジェン（ポリ）シロキサン等のオルガノハイドロジェン（ポリ）シロキサン、アルキルオルソシリケート等の金属アルコラートなどが挙げられる。さらに硬化反応促進触媒として、白金化合物、ジブチル錫ジアセテートやジブチル錫ジラウリレート等の有機金属化合物、又はオクテン酸錫のような金属脂肪酸塩などを適宜混合する。前記硬化材や触媒の種類や量は、架橋度、可使時間や硬化速度を考慮して適宜決定すればよい。また必要に応じて、フィラー、希釈剤、可塑剤、着色剤、紫外線吸収、粘着付与剤などを配合することもできる。
【００１５】
さらに、透明樹脂ペーストの２５℃における粘度は、２，０００〜５０，０００ｍＰａ・ｓであり、好ましくは４，０００〜３０，０００ｍＰａ・ｓである。２，０００ｍＰａ・ｓ未満ではペーストのレベリングによるたれや広がりが発生し、０．１ｍｍ以上の厚みを制御することが困難となる。また、５０，０００ｍＰａ・ｓを超えると、ペースト吐出の際のペースト流の安定性確保が困難になることから、好ましくない。なお、粘度は、JIS Z8803-1998に従って測定される。
【００１６】
上記した透明樹脂自体はこの分野において周知であり、市販もされているので、市販品を用いてもよい。
【００１７】
硬化工程は、透明樹脂溶液を用いた場合は加熱による溶媒除去、複数液硬化型の無溶媒樹脂を用いた場合は、硬化反応トリガーとエネルギー、例えば加熱、活性エネルギー線の照射による反応開始剤の活性化により、硬化主材の硬化反応が進み、透明樹脂を得ることができる。
【００１８】
このような透明樹脂ペーストの吐出工程、硬化工程においては、基材の平坦性を保持することが好ましい。すなわち、未硬化の透明樹脂ペーストを、凹凸がある状態の基材上で吐出・硬化した場合、透明樹脂層の厚みムラ、透明性の低下が懸念され、表示品位が低下する恐れがある。基材の平坦性を保持する方法としては、平坦な支持体上に基材を固定する方法などが挙げられる。ガラスを用いる場合は、平坦性の保持が容易である。樹脂基板を用いる場合は、ステンレスや御影石などの平坦なステージ上に真空吸着で固定する方法が、簡便である。フィルムを用いる場合は、ステンレスやゴムなどの平坦なローラー上にフィルムを通したり、ステンレスや御影石などの平坦なステージ上に真空吸着で固定する方法が挙げられる。特に、平坦なステージ上に真空吸着で基材を固定し、吐出工程はステージと口金が相対移動しながら、硬化工程はステージの水平度を保持した状態で行うことが、様々な平坦性を有する基材を使用でき、かつ平坦性を保持して、厚みムラのない透明樹脂層を得られる点から好ましい。
【００１９】
反射防止層
透明基材の第２の面の最表面に、反射防止層を形成する。反射防止層は、ディスプレイの視認側に装着したとき、外光の反射防止、映り込み防止または低反射映り込み防止の機能を果たして、ディスプレイの画像表示の劣化を防ぐものである。このような効果を発揮させる反射防止層の形成は、透明基材の他方の面に反射防止フィルムを積層する、あるいは透明基材に直接反射防止処理を施すなどの方法を用いることができる。反射防止フィルムを用いる場合は、厚さが０．０１〜０．５ｍｍ、好ましくは０．０５〜０．３ｍｍの範囲にあるのがよい。通常は、透明性が良好でかつ機械的強度にすぐれる、ポリエステルフィルム、ポリアセチルセルロースフィルム、ポリアクリルフィルム、ポリカーボネートフィルム、エポキシ系フィルム、ポリウレタンフィルムなどのプラスチックフィルムを基材とし、これに可視光反射率が５％以下、好ましくは３％以下となる反射防止処理を施したもの、ヘイズ値が５０％以下となるアンチグレア（写り込み防止）処理を施したものなどが用いられる。これらの各処理の方法には特に限定はなく、公知の方法を用いて行えばよい。このような反射防止フィルム自体は周知であり、市販もされているので、市販品を用いることもできる。
【００２０】
電磁波シールド層
さらに、透明基材の第２の面に、電磁波シールド層を形成することもできる。特にプラズマディスプレイには、電磁波シールドが必須となる。電磁波シールドはプラズマディスプレイ前面の表示エリアをカバーするように設けられた導電部と、導電部の周辺４辺にアースと呼ばれる帯状の部分がある。アース部分は、金属ペースト法、導電性テープなどにより適宜形成される。プラズマディスプレイより放射された電磁波のほとんどは導電部で反射されるが、一部は電気エネルギーとなり導電部を導通しこのアースから筐体に接地される。電磁波シールドに基づく電磁波シールド効果は、たとえば、４２インチのプラズマディスプレイ単体からの放射電界強度が４０〜５０ｄＢμＶ／ｍである場合、１０ｄＢ以上、好ましくは２０ｄＢ以上のシールド効果が必要である。つまり、ＶＣＣＩ規制値（１０ｍ法）では、クラスＡで４０ｄＢμＶ／ｍ以下であり、マージン６〜７ｄＢを考えると、プラズマディスプレイ単体からの放射電界強度が４０〜５０ｄＢμＶ／ｍに対し、シールド効果が１０ｄＢ以上、好ましくは２０ｄＢ以上である。相対値として、シールド効果１０ｄＢ以上に必要な表面抵抗値は１０Ω／ｃｍ２以下であり、好ましくは５Ω／ｃｍ２以下である。
【００２１】
このような効果を発揮させる電磁波シールド層の形成は、透明基材の他方の面に電磁波シールドフィルムを積層する、あるいは透明基材に直接電磁波シールド処理を施すなどの方法を用いることができる。電磁波シールドフィルムを用いる場合は、厚さが０．０１〜０．５ｍｍ、好ましくは０．０５〜０．３ｍｍの範囲にあるのがよい。通常は、可視光線透過率が７０％以上の透明性を有し、機械的強度にすぐれ、耐熱性の良好であるプラスチック、たとえば、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、トリアセチルセルロース、アートン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルスルフォンなどのフィルムを基材として、この上に、繊維に無電解メッキした金属メッシュ、パターニングした金属メッシュ、導電性微粒子をパターニング印刷した金属メッシュ、金属薄膜と透明薄膜との透明導電多層膜などを、設けたものなどが用いられる。なお、このような電磁波シールド層自体もこの分野において周知である。
【００２２】
層構成
本発明の製造方法で得られる平面ディスプレイ部材の層構成としては、透明樹脂層／透明基材／反射防止層、透明樹脂層／透明基材／電磁波シールド層／反射防止層の構成がある。さらに、透過率制御機能を付与することにより、平面ディスプレイ用の光学フィルターとして用いることができる。透過率制御機能は各層に付与することもできるが、透過する光の波長を制御するための色補正フィルムや、赤外線や紫外線をカットするフィルム、また、プラズマディスプレイに用いる場合は、ネオン光をカットする機能を有するフィルム、指紋など汚染物質が表面に付着することを防止する防汚性フィルムなどを貼り付けることで、多機能の光学フィルターを作成できる。また、こうして得られる光学フィルターは、平面ディスプレイ用の前面フィルター、例えば、プラズマディスプレイパネルなどの前面フィルターとして、好適に用いることができる。このような、ディスプレイ部材に用いられる各種フィルムはこの分野において周知である。
【００２３】
平面ディスプレイ
以上、本発明の製造方法により得られる平面ディスプレイ部材を、平面ディスプレイの視認側に、前記透明樹脂層を介して直接装着することにより、表示品位・耐衝撃性に優れた平面ディスプレイを提供することが可能となる。
【００２４】
以下、本発明を実施例に基づきより具体的に説明する。もっとも、本発明は下記実施例に限定されるものではない。
【実施例】
【００２５】
各例で用いた部材、材料は、次のとおりである。
透明基材 ：
日本板硝子製ソーダガラス（厚み１．８ｍｍ）
東レ製ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム「ルミラー」（厚み０．１ｍｍ）
三菱レイヨン製アクリレート樹脂板「アクリライト」（厚み２ｍｍ）
透明樹脂ペースト：
東レダウコーニングシリコーン製シリコーン組成物（無溶媒、２液：Ａ、Ｂ）
綜研化学製アクリルシロップ（無溶媒、１液）
バイエル製ウレタン組成物（無溶媒、２液：イソシアネート、ポリオール）
反射防止層 ：
住友大阪セメント製反射防止フィルム「クリアラス」（厚み０．１ｍｍ）
電磁波シールド層：
日本フィルコン製パターニング銅メッシュフィルム（厚み０．１ｍｍ）
塗布機 ：
東レエンジニアリング製スリットダイコーター
康井精機製フレキシブルコーター
硬化機 ：
タバイ製熱風乾燥炉
ＪＡＴＥＣ製ＵＶ照射装置
大日本スクリーン製枚様露光機
ラミネーター ：
ＭＣＫ製オートカットラミネーター
大成ラミネーター製ロールラミネーター
【００２６】
実施例１
大きさ９６５ｍｍ×５５０ｍｍのソーダガラスをダイコーターのステンレス製ステージ上に真空吸着により固定し、第１の面に、シリコーン組成物（重量比：Ａ／Ｂ＝１／１、粘度８０００ｍＰａ・ｓ）を、厚み１．１ｍｍのスペーサーで幅５４０ｍｍのスリットを形成したスリットダイコート口金を用いて塗布した。塗布は、スリットを下に向けて口金を門構えに固定、その下をステージが移動し、塗液供給を圧送で行い、塗布開始：加圧開始、塗布終了：加圧終了となるように圧力供給を電磁弁で切り替える方式で行った。条件は以下の通り。塗布速度 ：２．５ｍ／分、吐出圧力：３ｋｇ／ｃｍ2、塗布長さ：９５５ｍｍ。その後、熱風乾燥炉までＵＰＥ製ローラー上を搬送し、ステンレス製ステージ上に静置して１００℃、１０分間加熱して、硬化を行った。得られた透明樹脂は厚み０．５ｍｍ、幅５４５ｍｍ、長さ９６０ｍｍの形状であった。続いて透明樹脂の上面に幅９６５ｍｍのＰＥＴ製セパレートフィルムをオートカットラミネーターでラミネートした。その後、ソーダガラスの第２の面に幅９６５ｍｍのクリアラス（商品名）をオートカットラミネーターでラミネートして、平面ディスプレイ部材を製造した。
【００２７】
実施例２
幅１０００ｍｍのＰＥＴフィルムをフレキシブルコーターに通し、巻き出し部と巻き取り部のテンションを調整することによりステンレス製の塗工ローラーに密着させた。このフィルムの第１の面にアクリルシロップ（粘度２０，０００ｍＰａ・ｓ）を、塗布幅９７０ｍｍのリップコート口金を用いて塗布した。塗布は、口金のリップが上に向いた状態で、塗液パンの直上に塗工ローラーを固定し、塗工ローラー上をフィルムが搬送され、塗液供給をポンプ液送で行い、塗布開始：リターンバルブ閉→供給バルブ開、塗布終了：供給バルブ閉→リターンバルブ開となるように圧力供給をバルブで切り替える方式で行った。条件は以下の通り。搬送速度：５．０ｍ／分、吐出回転数：１５００ｒｐｍ、塗布長さ：５４０ｍｍ、塗布間隔：１０ｍｍ。その後、巻き出し部と巻き取り部の調整による進行方向水平、および左右ガイドテンターによる進行方向垂直なテンション調整により、塗布領域を水平かつ平坦に保持されたフィルムにＵＶ照射機で５００ｍＪ／ｃｍ2のＵＶを照射して硬化を行った。得られた透明樹脂は厚み０．７ｍｍ、幅９８０ｍｍ、長さ５４４ｍ、間隔６ｍｍで形成されていた。続いて、ロールラミネーターで透明樹脂の上面に幅１０００ｍｍのＰＥＴ製セパレートフィルムを、第２の面に幅１０００ｍｍのクリアラス（商品名）をラミネートして、幅９６５ｍｍに両端スリット加工を行い、長さ５５０ｍｍ平面ディスプレイ部材を製造した。
【００２８】
実施例３
大きさ９６５ｍｍ×５５０ｍｍのアクリレート樹脂板をダイコーターのステンレス製ステージ上に真空吸着により固定し、第１の面に、アクリルシロップ（粘度２０，０００ｍＰａ・ｓ）を、厚み０．７ｍｍのスペーサーで幅９５０ｍｍのスリットを形成したスリットダイコート口金を用いて塗布した。塗布は、スリットを下に向けて口金を門構えに固定、その下をステージが移動し、塗液供給を圧送で行い、塗布開始：加圧開始、塗布終了：加圧終了となるように圧力供給を電磁弁で切り替える方式で行った。条件は以下の通り。塗布速度 ：４．０ｍ／分、吐出圧力：２ｋｇ／ｃｍ2、塗布長さ：５４０ｍｍ。その後、露光機までＵＰＥ製ローラー上を搬送し、ステンレス製ステージ上に静置して４００ｍＪ／ｃｍ2のＵＶを照射して硬化を行った。得られた透明樹脂は厚み０．３ｍｍ、幅９６０ｍｍ、長さ５４５ｍｍの形状であった。続いて透明樹脂の上面に幅９６５ｍｍのＰＥＴ製セパレートフィルムをオートカットラミネーターでラミネートした。その後、アクリレート樹脂板の第２の面に９２５ｍｍ×５１０ｍｍのメッシュパターンが４０ｍｍ間隔で形成された９６５ｍｍ幅の銅メッシュフィルムロールをオートカットラミネーターでラミネートした。続いてメッシュフィルムの上に幅９４５ｍｍのクリアラス（商品名）をオートカットラミネーターで９４５ｍｍ×５３０ｍｍに内貼りラミネートして、メッシュフィルム周辺の銅箔が１０ｍｍ幅で剥き出しになってアースが形成された平面ディスプレイ部材を製造した。
【００２９】
実施例４
大きさ９６５ｍｍ×５５０ｍｍのＰＥＴフィルムをダイコーターのステンレス製ステージ上に真空吸着により固定し、第１の面に、ウレタン組成物（ＮＣＯ／ＯＨ＝１／１、粘度１５，０００ｍＰａ・ｓ）を、厚み１．４ｍｍのスペーサーで幅５３５ｍｍのスリットを形成したスリットダイコート口金を用いて塗布した。塗布は、スリットを下に向けて口金を門構えに固定、その下をステージが移動し、塗液供給を圧送で行い、塗布開始：加圧開始、塗布終了：加圧終了となるように圧力供給を電磁弁で切り替える方式で行った。条件は以下の通り。塗布速度 ：２．０ｍ／分、吐出圧力：３ｋｇ／ｃｍ2、塗布長さ：９５０ｍｍ。その後、熱風乾燥炉までＵＰＥ製ローラー上を搬送し、ステンレス製ステージ上に静置して１００℃、１０分間加熱して、硬化を行った。得られた透明樹脂は厚み１．０ｍｍ、幅５４５ｍｍ、長さ９６０ｍｍの形状であった。続いて透明樹脂の上面に幅９６５ｍｍのＰＥＴ製セパレートフィルムをオートカットラミネーターでラミネートした。その後、ＰＥＴフィルムの第２の面に幅９６５ｍｍのクリアラス（商品名）をオートカットラミネーターでラミネートして、平面ディスプレイ部材を製造した。
【００３０】
比較例１
アクリルシロップの塗布開始・終了切り替えを行わず、連続塗布を行い、巻き出し部と巻き取り部のテンション調整のみでフィルムを保持してＵＶ照射した以外は実施例２と同様に透明樹脂を形成し、平面ディスプレイ部材を製造した。
【００３１】
比較例２
アクリル樹脂メチルエチルケトン溶液（３０重量％、粘度７００ｍＰａ・ｓ）を用い、熱風乾燥炉でメチルエチルケトンを加熱除去して硬化した以外は実施例２と同様にして透明樹脂を形成し、平面ディスプレイ部材を製造した。得られた透明樹脂は、厚み０．０５ｍｍであった。
【００３２】
比較例３
アクリルシロップの粘度を１５００ｍＰａ・ｓとする以外は実施例２と同様にして透明樹脂を形成した。得られた透明樹脂は第１の面の厚みが０．２ｍｍで、第２の面にまわりこんで形成されており、クリアラス（商品名）ラミネートの際、均一なラミネートができなかった。
【００３３】
実施例１〜４、比較例１，２の平面ディスプレイ部材を４２インチプラズマディスプレイ（松下電器産業製「ＰＨＤ７」）に透明樹脂層を介して装着して、視認性を評価した。また、５５４×９８０×２．８ｍｍの高歪み点ガラス（日本電気硝子製「ＰＰ８」）に透明樹脂層を介して装着して、耐衝撃性を評価した。結果を表１に示す。なお、評価方法は次の通りである。
【００３４】
視認性：
室内、蛍光灯下、照度１５００Ｌｘの環境下で画像を表示させ、表示画像を観察した。
【００３５】
耐衝撃性：
外形５５４×９８０ｍｍ、内形５３４×９６０ｍｍ、厚み４ｍｍのステンレス製の枠を定盤上に固定し、平面ディスプレイ部材を装着した高歪み点ガラスをガラス面を下にして枠に乗せ、外形５５８×９８４ｍｍ、内形５３４×９６０ｍｍ、厚み２ｍｍのステンレス製の枠を用いて平面ディスプレイ部材面から定盤に固定する。続いてディスプレイ部材面からスプリングインパクトハンマー（ＰＴＬ社製）で０．５Ｊの衝撃を与え、高歪み点ガラスの損傷具合を観察した。
【００３６】
結果を下記表１に示す。表１に示されるように、本発明の製造方法により製造した平面ディスプレイ部材は、優れた視認性及び耐衝撃性を示したが、枚様方式ではなく連続的に製造した比較例１や低粘度の樹脂溶液を塗布した比較例２では視認性が劣っていた。また、低粘度の樹脂ペーストを用いた比較例３では、上記の通り、反射防止フィルムの均一なラミネートができなかった。
【００３７】
【表１】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、平面ディスプレイに用いられる平面ディスプレイ部材に関するものであり、さらに詳しくは、映り込み、歪み、ぼやけ等の問題がない良好な視認性を有し、耐衝撃性に優れた平面ディスプレイに用いられる平面ディスプレイ材料の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイなどの平面ディスプレイは、明瞭なフルカラー表示が可能な表示装置である。平面ディスプレイには、通常、反射防止と平面ディスプレイ保護を目的とした前面保護板が平面ディスプレイ視認側に配置される。特にプラズマディスプレイや屋外で使用する携帯電話などに使用される液晶ディスプレイは、平面ディスプレイと前面保護板の間に間隙を設け、ディスプレイに衝撃力が直接作用することを防止し、ディスプレイから発生する熱や電磁波の伝搬を抑制している。しかしながら、このような間隙によって形成される空気層と前面保護板および平面ディスプレイの界面における光の反射が大きく、外光が映り込む、あるいは表示が２重に見えるといった視認性の低下が問題となる。ここから、平面ディスプレイの視認側に緩衝性と密着性を有する耐熱性の透明樹脂シートを介して透明保護板を直接装着する方法（特許文献１参照）が提案されているが、透明樹脂シートを製造する方法としては、あらかじめセパレーター上に設けた透明樹脂シートを圧着方式によって密着させる方式が記載されているのみであった。このような製造方法では、平坦性が良好な透明樹脂シートを得ることが困難であり、表示画像の歪み、ぼやけ等の視認性の低下につながるといった問題があった。また、同様な耐衝撃性シートの製造方法として、スクリュー式押し出し機を用いてシート状に成型する方法（特許文献２参照）が提案されているが、このような製造方法によっても平坦性が良好透明樹脂シートを得ることは困難であり、ディスプレイに用いた場合、歪みが発生するなど視認性の面で問題があった。
【０００３】
【特許文献１】特開平9-259770号公報
【特許文献２】特開平2000-211012号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
そこで、本発明は、上記従来技術に鑑みて、より合理的なプロセスで、映り込み、歪み、ぼやけ等の問題がない良好な視認性を有し、耐衝撃性に優れたディスプレイを得ることのできる平面ディスプレイ部材の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本願発明者らは、透明基材の第１の面に透明樹脂層を形成、第２の面に反射防止層を積層した平面ディスプレイ部材を平面ディスプレイの前面に透明樹脂層を介して直接装着することにより、映り込みのない平面ディスプレイが提供でき、特定の範囲の粘度を有する透明樹脂ペーストを平坦に保持された透明基材上に口金から吐出・硬化して枚様方式で形成することにより、透明樹脂層の平坦性が向上し、表示画像のゆがみ等のない視認性・耐衝撃性に優れた平面ディスプレイを得ることのできる平面ディスプレイ部材を製造できることを見いだし、本発明に至った。
【０００６】
すなわち、本発明は、透明基材上の第１の面に透明樹脂層を、第２の面の最表面に反射防止層を有する平面ディスプレイ部材の製造方法であって、透明基材上に、２５℃での粘度が２０００〜５００００ｍＰａ・ｓの透明樹脂ペーストを口金から吐出して枚様方式で塗布する工程及び塗布された透明樹脂ペーストを硬化する工程を経て前記透明樹脂層を形成することを特徴とする平面ディスプレイ部材の製造方法を提供する。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、簡略な工程により、視認性に優れる平面ディスプレイ部材を製造でき、さらに、この平面ディスプレイ部材を用いることで表示品位・耐衝撃性に優れた平面ディスプレイを提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
透明基材
本発明の平面ディスプレイ部材の製造方法に用いる透明基材は、平面ディスプレイの前面に配置され得る透明なものであれば、特に制限なく用いることができる。本発明の「透明」とは、その光透過率がＪＩＳ Ｋ６７１４に準拠したヘイズ値に基づいて５以下、全光線透過率が８５％以上であることをいう。このような透明基材としては、ガラス基板、樹脂基板、フィルムなどを用いることができる。樹脂基板としては厚み０．５〜３ｍｍのアクリル板もしくはポリカーボネート基板等の公知の透明樹脂基板を用いることができる。また、フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートフィルムやポリカーボネートフィルムを用いることができる。ガラス基板としては厚み０.７〜３．５ｍｍのソーダガラスもしくは強化ガラス等の公知のガラス基板を用いることができる。特にガラス基板は、基材の平坦性を保持することが容易で、後述する透明樹脂層の形成が高品位となる点から、好ましく用いられる。
【０００９】
透明樹脂層
上記した透明基材上に、透明樹脂層を形成する。透明樹脂層は視認性、耐衝撃性の点より、０．１〜２．０ｍｍ、より好ましくは０．３〜１．５ｍｍの厚みであることが好ましい。０．１ｍｍ未満の場合耐衝撃性能に劣り、２．０ｍｍを超える場合、透明性の低下や、厚みムラの発生等が懸念され、表示品位が低下する恐れがある。
【００１０】
透明樹脂としては、例えばアミド樹脂、スチレン樹脂、塩化ビニル樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、オレフィン樹脂などの適宜な透明樹脂を用いることができる。この中でも、透明性、耐衝撃性、耐候性などの点から、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂若しくはオレフィン樹脂又はこれらの２種以上の混合物が好ましく用いられる。
【００１１】
本発明の製造方法における透明樹脂層は、透明基材上に透明樹脂ペーストを口金から吐出して枚様方式で塗布する工程と、硬化工程を経て形成される。ここで、「枚様方式」とは、透明基材上での塗布が終了した時点で透明樹脂ペーストの吐出を一旦終了して間欠的に塗布していくことを意味する。
【００１２】
本発明で好ましく用いられる０．１ｍｍ以上の厚みの透明樹脂層を得るための透明樹脂ペーストの塗布方法としては、密閉型の口金から透明樹脂ペーストを吐出して、基材上に塗布するダイコート、リップコート塗布等があげられる。特に、スリットダイコート塗布は圧送やシリンジポンプ、ダイヤフラムポンプ、ギヤポンプなどを用いて、いわゆるスリット状の吐出口を有する口金からペーストを吐出し、塗布する方法であり、必要なペースト量だけを塗布することができるため、理論的には廃液が発生せず、経済性に優れているという点から好ましく用いられる
【００１３】
透明樹脂ペーストは枚様形状に塗布される。本発明の製造方法で得られた平面ディスプレイ部材を平面ディスプレイの視認側に装着する際、平面ディスプレイは枚様であるため、最終的には平面ディスプレイ部材を枚様に成型する必要がある。さらに、後述する基材の平坦性の保持の際も、連続的に形成するよりは、枚様形状で間欠的かつ選択的に形成するほうが簡便である。
【００１４】
透明樹脂ペーストとは透明樹脂の未硬化の状態のものを言い、透明樹脂を適宜の溶媒に溶解した透明樹脂溶液、透明樹脂の溶融液、硬化前の未反応物（以下、硬化主材）と硬化開始剤の混合液などを用いることができる。ここで溶媒とは、樹脂を溶解可能で、沸点２００℃以下、８０〜１５０℃の加熱により除去可能なものを言う。特に、溶媒の乾燥が不要で、厚み制御が容易である点から、無溶媒ペーストが好ましく用いられる。さらには、硬化開始剤と硬化主材の混合物からなる複数液硬化型ペーストが好ましく用いられる。例えばシリコーン樹脂の場合、硬化主材としては、シラノール基や、ビニル基に代表されるアルケニル基等の官能基を有するベースポリマーとしてのオルガノポリシロキサンが用いられる。オルガノポリシロキサンとしては、アルケニル基や水酸基（シラノール基）等の官能基を１分子中に２個以上有するものが挙げられ、例えば、末端にシラノール基や、ビニル基等のアルケニル基を有するジメチルポリシロキサンやジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体等のジオルガノポリシロキサンが用いられる。硬化開始剤としては、３官能以上のシランモノマー、３官能以上のメチルハイドロジェン（ポリ）シロキサン等のオルガノハイドロジェン（ポリ）シロキサン、アルキルオルソシリケート等の金属アルコラートなどが挙げられる。さらに硬化反応促進触媒として、白金化合物、ジブチル錫ジアセテートやジブチル錫ジラウリレート等の有機金属化合物、又はオクテン酸錫のような金属脂肪酸塩などを適宜混合する。前記硬化材や触媒の種類や量は、架橋度、可使時間や硬化速度を考慮して適宜決定すればよい。また必要に応じて、フィラー、希釈剤、可塑剤、着色剤、紫外線吸収、粘着付与剤などを配合することもできる。
【００１５】
さらに、透明樹脂ペーストの２５℃における粘度は、２，０００〜５０，０００ｍＰａ・ｓであり、好ましくは４，０００〜３０，０００ｍＰａ・ｓである。２，０００ｍＰａ・ｓ未満ではペーストのレベリングによるたれや広がりが発生し、０．１ｍｍ以上の厚みを制御することが困難となる。また、５０，０００ｍＰａ・ｓを超えると、ペースト吐出の際のペースト流の安定性確保が困難になることから、好ましくない。なお、粘度は、JIS Z8803-1998に従って測定される。
【００１６】
上記した透明樹脂自体はこの分野において周知であり、市販もされているので、市販品を用いてもよい。
【００１７】
硬化工程は、透明樹脂溶液を用いた場合は加熱による溶媒除去、複数液硬化型の無溶媒樹脂を用いた場合は、硬化反応トリガーとエネルギー、例えば加熱、活性エネルギー線の照射による反応開始剤の活性化により、硬化主材の硬化反応が進み、透明樹脂を得ることができる。
【００１８】
このような透明樹脂ペーストの吐出工程、硬化工程においては、基材の平坦性を保持することが好ましい。すなわち、未硬化の透明樹脂ペーストを、凹凸がある状態の基材上で吐出・硬化した場合、透明樹脂層の厚みムラ、透明性の低下が懸念され、表示品位が低下する恐れがある。基材の平坦性を保持する方法としては、平坦な支持体上に基材を固定する方法などが挙げられる。ガラスを用いる場合は、平坦性の保持が容易である。樹脂基板を用いる場合は、ステンレスや御影石などの平坦なステージ上に真空吸着で固定する方法が、簡便である。フィルムを用いる場合は、ステンレスやゴムなどの平坦なローラー上にフィルムを通したり、ステンレスや御影石などの平坦なステージ上に真空吸着で固定する方法が挙げられる。特に、平坦なステージ上に真空吸着で基材を固定し、吐出工程はステージと口金が相対移動しながら、硬化工程はステージの水平度を保持した状態で行うことが、様々な平坦性を有する基材を使用でき、かつ平坦性を保持して、厚みムラのない透明樹脂層を得られる点から好ましい。
【００１９】
反射防止層
透明基材の第２の面の最表面に、反射防止層を形成する。反射防止層は、ディスプレイの視認側に装着したとき、外光の反射防止、映り込み防止または低反射映り込み防止の機能を果たして、ディスプレイの画像表示の劣化を防ぐものである。このような効果を発揮させる反射防止層の形成は、透明基材の他方の面に反射防止フィルムを積層する、あるいは透明基材に直接反射防止処理を施すなどの方法を用いることができる。反射防止フィルムを用いる場合は、厚さが０．０１〜０．５ｍｍ、好ましくは０．０５〜０．３ｍｍの範囲にあるのがよい。通常は、透明性が良好でかつ機械的強度にすぐれる、ポリエステルフィルム、ポリアセチルセルロースフィルム、ポリアクリルフィルム、ポリカーボネートフィルム、エポキシ系フィルム、ポリウレタンフィルムなどのプラスチックフィルムを基材とし、これに可視光反射率が５％以下、好ましくは３％以下となる反射防止処理を施したもの、ヘイズ値が５０％以下となるアンチグレア（写り込み防止）処理を施したものなどが用いられる。これらの各処理の方法には特に限定はなく、公知の方法を用いて行えばよい。このような反射防止フィルム自体は周知であり、市販もされているので、市販品を用いることもできる。
【００２０】
電磁波シールド層
さらに、透明基材の第２の面に、電磁波シールド層を形成することもできる。特にプラズマディスプレイには、電磁波シールドが必須となる。電磁波シールドはプラズマディスプレイ前面の表示エリアをカバーするように設けられた導電部と、導電部の周辺４辺にアースと呼ばれる帯状の部分がある。アース部分は、金属ペースト法、導電性テープなどにより適宜形成される。プラズマディスプレイより放射された電磁波のほとんどは導電部で反射されるが、一部は電気エネルギーとなり導電部を導通しこのアースから筐体に接地される。電磁波シールドに基づく電磁波シールド効果は、たとえば、４２インチのプラズマディスプレイ単体からの放射電界強度が４０〜５０ｄＢμＶ／ｍである場合、１０ｄＢ以上、好ましくは２０ｄＢ以上のシールド効果が必要である。つまり、ＶＣＣＩ規制値（１０ｍ法）では、クラスＡで４０ｄＢμＶ／ｍ以下であり、マージン６〜７ｄＢを考えると、プラズマディスプレイ単体からの放射電界強度が４０〜５０ｄＢμＶ／ｍに対し、シールド効果が１０ｄＢ以上、好ましくは２０ｄＢ以上である。相対値として、シールド効果１０ｄＢ以上に必要な表面抵抗値は１０Ω／ｃｍ２以下であり、好ましくは５Ω／ｃｍ２以下である。
【００２１】
このような効果を発揮させる電磁波シールド層の形成は、透明基材の他方の面に電磁波シールドフィルムを積層する、あるいは透明基材に直接電磁波シールド処理を施すなどの方法を用いることができる。電磁波シールドフィルムを用いる場合は、厚さが０．０１〜０．５ｍｍ、好ましくは０．０５〜０．３ｍｍの範囲にあるのがよい。通常は、可視光線透過率が７０％以上の透明性を有し、機械的強度にすぐれ、耐熱性の良好であるプラスチック、たとえば、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、トリアセチルセルロース、アートン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルスルフォンなどのフィルムを基材として、この上に、繊維に無電解メッキした金属メッシュ、パターニングした金属メッシュ、導電性微粒子をパターニング印刷した金属メッシュ、金属薄膜と透明薄膜との透明導電多層膜などを、設けたものなどが用いられる。なお、このような電磁波シールド層自体もこの分野において周知である。
【００２２】
層構成
本発明の製造方法で得られる平面ディスプレイ部材の層構成としては、透明樹脂層／透明基材／反射防止層、透明樹脂層／透明基材／電磁波シールド層／反射防止層の構成がある。さらに、透過率制御機能を付与することにより、平面ディスプレイ用の光学フィルターとして用いることができる。透過率制御機能は各層に付与することもできるが、透過する光の波長を制御するための色補正フィルムや、赤外線や紫外線をカットするフィルム、また、プラズマディスプレイに用いる場合は、ネオン光をカットする機能を有するフィルム、指紋など汚染物質が表面に付着することを防止する防汚性フィルムなどを貼り付けることで、多機能の光学フィルターを作成できる。また、こうして得られる光学フィルターは、平面ディスプレイ用の前面フィルター、例えば、プラズマディスプレイパネルなどの前面フィルターとして、好適に用いることができる。このような、ディスプレイ部材に用いられる各種フィルムはこの分野において周知である。
【００２３】
平面ディスプレイ
以上、本発明の製造方法により得られる平面ディスプレイ部材を、平面ディスプレイの視認側に、前記透明樹脂層を介して直接装着することにより、表示品位・耐衝撃性に優れた平面ディスプレイを提供することが可能となる。
【００２４】
以下、本発明を実施例に基づきより具体的に説明する。もっとも、本発明は下記実施例に限定されるものではない。
【実施例】
【００２５】
各例で用いた部材、材料は、次のとおりである。
透明基材 ：
日本板硝子製ソーダガラス（厚み１．８ｍｍ）
東レ製ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム「ルミラー」（厚み０．１ｍｍ）
三菱レイヨン製アクリレート樹脂板「アクリライト」（厚み２ｍｍ）
透明樹脂ペースト：
東レダウコーニングシリコーン製シリコーン組成物（無溶媒、２液：Ａ、Ｂ）
綜研化学製アクリルシロップ（無溶媒、１液）
バイエル製ウレタン組成物（無溶媒、２液：イソシアネート、ポリオール）
反射防止層 ：
住友大阪セメント製反射防止フィルム「クリアラス」（厚み０．１ｍｍ）
電磁波シールド層：
日本フィルコン製パターニング銅メッシュフィルム（厚み０．１ｍｍ）
塗布機 ：
東レエンジニアリング製スリットダイコーター
康井精機製フレキシブルコーター
硬化機 ：
タバイ製熱風乾燥炉
ＪＡＴＥＣ製ＵＶ照射装置
大日本スクリーン製枚様露光機
ラミネーター ：
ＭＣＫ製オートカットラミネーター
大成ラミネーター製ロールラミネーター
【００２６】
実施例１
大きさ９６５ｍｍ×５５０ｍｍのソーダガラスをダイコーターのステンレス製ステージ上に真空吸着により固定し、第１の面に、シリコーン組成物（重量比：Ａ／Ｂ＝１／１、粘度８０００ｍＰａ・ｓ）を、厚み１．１ｍｍのスペーサーで幅５４０ｍｍのスリットを形成したスリットダイコート口金を用いて塗布した。塗布は、スリットを下に向けて口金を門構えに固定、その下をステージが移動し、塗液供給を圧送で行い、塗布開始：加圧開始、塗布終了：加圧終了となるように圧力供給を電磁弁で切り替える方式で行った。条件は以下の通り。塗布速度 ：２．５ｍ／分、吐出圧力：３ｋｇ／ｃｍ2、塗布長さ：９５５ｍｍ。その後、熱風乾燥炉までＵＰＥ製ローラー上を搬送し、ステンレス製ステージ上に静置して１００℃、１０分間加熱して、硬化を行った。得られた透明樹脂は厚み０．５ｍｍ、幅５４５ｍｍ、長さ９６０ｍｍの形状であった。続いて透明樹脂の上面に幅９６５ｍｍのＰＥＴ製セパレートフィルムをオートカットラミネーターでラミネートした。その後、ソーダガラスの第２の面に幅９６５ｍｍのクリアラス（商品名）をオートカットラミネーターでラミネートして、平面ディスプレイ部材を製造した。
【００２７】
実施例２
幅１０００ｍｍのＰＥＴフィルムをフレキシブルコーターに通し、巻き出し部と巻き取り部のテンションを調整することによりステンレス製の塗工ローラーに密着させた。このフィルムの第１の面にアクリルシロップ（粘度２０，０００ｍＰａ・ｓ）を、塗布幅９７０ｍｍのリップコート口金を用いて塗布した。塗布は、口金のリップが上に向いた状態で、塗液パンの直上に塗工ローラーを固定し、塗工ローラー上をフィルムが搬送され、塗液供給をポンプ液送で行い、塗布開始：リターンバルブ閉→供給バルブ開、塗布終了：供給バルブ閉→リターンバルブ開となるように圧力供給をバルブで切り替える方式で行った。条件は以下の通り。搬送速度：５．０ｍ／分、吐出回転数：１５００ｒｐｍ、塗布長さ：５４０ｍｍ、塗布間隔：１０ｍｍ。その後、巻き出し部と巻き取り部の調整による進行方向水平、および左右ガイドテンターによる進行方向垂直なテンション調整により、塗布領域を水平かつ平坦に保持されたフィルムにＵＶ照射機で５００ｍＪ／ｃｍ2のＵＶを照射して硬化を行った。得られた透明樹脂は厚み０．７ｍｍ、幅９８０ｍｍ、長さ５４４ｍ、間隔６ｍｍで形成されていた。続いて、ロールラミネーターで透明樹脂の上面に幅１０００ｍｍのＰＥＴ製セパレートフィルムを、第２の面に幅１０００ｍｍのクリアラス（商品名）をラミネートして、幅９６５ｍｍに両端スリット加工を行い、長さ５５０ｍｍ平面ディスプレイ部材を製造した。
【００２８】
実施例３
大きさ９６５ｍｍ×５５０ｍｍのアクリレート樹脂板をダイコーターのステンレス製ステージ上に真空吸着により固定し、第１の面に、アクリルシロップ（粘度２０，０００ｍＰａ・ｓ）を、厚み０．７ｍｍのスペーサーで幅９５０ｍｍのスリットを形成したスリットダイコート口金を用いて塗布した。塗布は、スリットを下に向けて口金を門構えに固定、その下をステージが移動し、塗液供給を圧送で行い、塗布開始：加圧開始、塗布終了：加圧終了となるように圧力供給を電磁弁で切り替える方式で行った。条件は以下の通り。塗布速度 ：４．０ｍ／分、吐出圧力：２ｋｇ／ｃｍ2、塗布長さ：５４０ｍｍ。その後、露光機までＵＰＥ製ローラー上を搬送し、ステンレス製ステージ上に静置して４００ｍＪ／ｃｍ2のＵＶを照射して硬化を行った。得られた透明樹脂は厚み０．３ｍｍ、幅９６０ｍｍ、長さ５４５ｍｍの形状であった。続いて透明樹脂の上面に幅９６５ｍｍのＰＥＴ製セパレートフィルムをオートカットラミネーターでラミネートした。その後、アクリレート樹脂板の第２の面に９２５ｍｍ×５１０ｍｍのメッシュパターンが４０ｍｍ間隔で形成された９６５ｍｍ幅の銅メッシュフィルムロールをオートカットラミネーターでラミネートした。続いてメッシュフィルムの上に幅９４５ｍｍのクリアラス（商品名）をオートカットラミネーターで９４５ｍｍ×５３０ｍｍに内貼りラミネートして、メッシュフィルム周辺の銅箔が１０ｍｍ幅で剥き出しになってアースが形成された平面ディスプレイ部材を製造した。
【００２９】
実施例４
大きさ９６５ｍｍ×５５０ｍｍのＰＥＴフィルムをダイコーターのステンレス製ステージ上に真空吸着により固定し、第１の面に、ウレタン組成物（ＮＣＯ／ＯＨ＝１／１、粘度１５，０００ｍＰａ・ｓ）を、厚み１．４ｍｍのスペーサーで幅５３５ｍｍのスリットを形成したスリットダイコート口金を用いて塗布した。塗布は、スリットを下に向けて口金を門構えに固定、その下をステージが移動し、塗液供給を圧送で行い、塗布開始：加圧開始、塗布終了：加圧終了となるように圧力供給を電磁弁で切り替える方式で行った。条件は以下の通り。塗布速度 ：２．０ｍ／分、吐出圧力：３ｋｇ／ｃｍ2、塗布長さ：９５０ｍｍ。その後、熱風乾燥炉までＵＰＥ製ローラー上を搬送し、ステンレス製ステージ上に静置して１００℃、１０分間加熱して、硬化を行った。得られた透明樹脂は厚み１．０ｍｍ、幅５４５ｍｍ、長さ９６０ｍｍの形状であった。続いて透明樹脂の上面に幅９６５ｍｍのＰＥＴ製セパレートフィルムをオートカットラミネーターでラミネートした。その後、ＰＥＴフィルムの第２の面に幅９６５ｍｍのクリアラス（商品名）をオートカットラミネーターでラミネートして、平面ディスプレイ部材を製造した。
【００３０】
比較例１
アクリルシロップの塗布開始・終了切り替えを行わず、連続塗布を行い、巻き出し部と巻き取り部のテンション調整のみでフィルムを保持してＵＶ照射した以外は実施例２と同様に透明樹脂を形成し、平面ディスプレイ部材を製造した。
【００３１】
比較例２
アクリル樹脂メチルエチルケトン溶液（３０重量％、粘度７００ｍＰａ・ｓ）を用い、熱風乾燥炉でメチルエチルケトンを加熱除去して硬化した以外は実施例２と同様にして透明樹脂を形成し、平面ディスプレイ部材を製造した。得られた透明樹脂は、厚み０．０５ｍｍであった。
【００３２】
比較例３
アクリルシロップの粘度を１５００ｍＰａ・ｓとする以外は実施例２と同様にして透明樹脂を形成した。得られた透明樹脂は第１の面の厚みが０．２ｍｍで、第２の面にまわりこんで形成されており、クリアラス（商品名）ラミネートの際、均一なラミネートができなかった。
【００３３】
実施例１〜４、比較例１，２の平面ディスプレイ部材を４２インチプラズマディスプレイ（松下電器産業製「ＰＨＤ７」）に透明樹脂層を介して装着して、視認性を評価した。また、５５４×９８０×２．８ｍｍの高歪み点ガラス（日本電気硝子製「ＰＰ８」）に透明樹脂層を介して装着して、耐衝撃性を評価した。結果を表１に示す。なお、評価方法は次の通りである。
【００３４】
視認性：
室内、蛍光灯下、照度１５００Ｌｘの環境下で画像を表示させ、表示画像を観察した。
【００３５】
耐衝撃性：
外形５５４×９８０ｍｍ、内形５３４×９６０ｍｍ、厚み４ｍｍのステンレス製の枠を定盤上に固定し、平面ディスプレイ部材を装着した高歪み点ガラスをガラス面を下にして枠に乗せ、外形５５８×９８４ｍｍ、内形５３４×９６０ｍｍ、厚み２ｍｍのステンレス製の枠を用いて平面ディスプレイ部材面から定盤に固定する。続いてディスプレイ部材面からスプリングインパクトハンマー（ＰＴＬ社製）で０．５Ｊの衝撃を与え、高歪み点ガラスの損傷具合を観察した。
【００３６】
結果を下記表１に示す。表１に示されるように、本発明の製造方法により製造した平面ディスプレイ部材は、優れた視認性及び耐衝撃性を示したが、枚様方式ではなく連続的に製造した比較例１や低粘度の樹脂溶液を塗布した比較例２では視認性が劣っていた。また、低粘度の樹脂ペーストを用いた比較例３では、上記の通り、反射防止フィルムの均一なラミネートができなかった。
【００３７】
【表１】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材上の第１の面に透明樹脂層を、第２の面の最表面に反射防止層を有する平面ディスプレイ部材の製造方法であって、前記透明基材上に、２５℃での粘度が２０００〜５００００ｍＰａ・ｓの透明樹脂ペーストを口金から吐出して枚様方式で塗布する工程及び塗布された前記透明樹脂ペーストを硬化する工程を経て前記透明樹脂層を形成することを特徴とする平面ディスプレイ部材の製造方法。
【請求項２】
前記透明樹脂層の厚みが０．１〜２ｍｍの範囲である請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記透明樹脂がシリコーン樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂若しくはオレフィン樹脂又はこれらの２種以上の混合物である請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記透明樹脂ペーストの塗布工程および硬化工程が前記透明基材を平坦に保持して行われる請求項１ないし３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記透明樹脂ペーストが、無溶剤である請求項１ないし４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記透明樹脂ペーストが、少なくとも硬化開始剤と硬化主材の混合物からなる、複数液硬化型ペーストである請求項１ないし５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
前記透明基材がガラスである請求項１ないし６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記ディスプレイ部材が、前記透明基材の第２の面に電磁波シールド層を有する請求項１ないし７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１】
透明基材上の第１の面に透明樹脂層を、第２の面の最表面に反射防止層を有する平面ディスプレイ部材の製造方法であって、前記透明基材上に、２５℃での粘度が２０００〜５００００ｍＰａ・ｓの透明樹脂ペーストを口金から吐出して枚様方式で塗布する工程及び塗布された前記透明樹脂ペーストを硬化する工程を経て前記透明樹脂層を形成することを特徴とする平面ディスプレイ部材の製造方法。
【請求項２】
前記透明樹脂層の厚みが０．１〜２ｍｍの範囲である請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記透明樹脂がシリコーン樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂若しくはオレフィン樹脂又はこれらの２種以上の混合物である請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記透明樹脂ペーストの塗布工程および硬化工程が前記透明基材を平坦に保持して行われる請求項１ないし３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記透明樹脂ペーストが、無溶剤である請求項１ないし４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記透明樹脂ペーストが、少なくとも硬化開始剤と硬化主材の混合物からなる、複数液硬化型ペーストである請求項１ないし５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
前記透明基材がガラスである請求項１ないし６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記ディスプレイ部材が、前記透明基材の第２の面に電磁波シールド層を有する請求項１ないし７のいずれか１項に記載の方法。
【公開番号】特開２００６−２７６１０５（Ｐ２００６−２７６１０５Ａ）
【公開日】平成１８年１０月１２日（２００６．１０．１２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−９０６７６（Ｐ２００５−９０６７６）
【出願日】平成１７年３月２８日（２００５．３．２８）
【出願人】（０００００３１５９）東レ株式会社 (7,677)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年１０月１２日（２００６．１０．１２）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年３月２８日（２００５．３．２８）
【出願人】（０００００３１５９）東レ株式会社 (7,677)
【Ｆターム（参考）】
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