放射線遮蔽板、放射線撮像装置
【課題】開口部の側壁で反射されて放射線検出手段に向かう放射線の発生を抑える。
【解決手段】開口部Ａpの側壁は、遮蔽板７５を平面視した場合において開口部Ａpが四角形状を有するように当該四角形の各辺に対応する４つの面を有している。しかも、開口部Ａpの側壁が有する面のうち少なくとも一つの面Ｓal、Ｓbl、Ｓbr、Ｓcr等は、遮蔽板７５の一方主面７５aに対して斜めに傾いている。その結果、開口部Ａpの側壁で反射されて、遮蔽板７５の他方主面７５b側に設けられた放射線検出手段に向かう放射線の発生を抑えることが可能となる。
【解決手段】開口部Ａpの側壁は、遮蔽板７５を平面視した場合において開口部Ａpが四角形状を有するように当該四角形の各辺に対応する４つの面を有している。しかも、開口部Ａpの側壁が有する面のうち少なくとも一つの面Ｓal、Ｓbl、Ｓbr、Ｓcr等は、遮蔽板７５の一方主面７５aに対して斜めに傾いている。その結果、開口部Ａpの側壁で反射されて、遮蔽板７５の他方主面７５b側に設けられた放射線検出手段に向かう放射線の発生を抑えることが可能となる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、放射線源から被検体を透過した放射線を放射線検出手段で検出する際に、放射線源と放射線検出手段の間に設けられて放射線源からの放射線を部分的に遮蔽する放射線遮蔽板および当該放射線遮蔽板を用いた放射線撮像装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１では、Ｘ線源（Ｘ線管球）が発生したＸ線を被検体に照射するとともに、被検体を透過したＸ線を検出手段（２次元検出器システム）により検出するＸ線ＣＴ（Computed Tomography）装置が記載されている。また、特許文献２にも同様の構成を具備するＸ線撮影装置が記載されている。これらの放射線撮像装置は、被検体を透過した放射線（Ｘ線）を検出手段が検出することで得られる情報を、画像として再構成することで、被検体の画像を撮像するものである。
【０００３】
また、特許文献１および２のいずれの放射線撮像装置においても、放射線源と検出手段の間にコリメータが配置されている。例えば特許文献１では、厚み方向に貫通する開口部が設けられたコリメータ板が放射線源と検出手段の間に配置されており、放射線源から照射されてコリメータ板の開口を通過した放射線のみが、被検体を透過した後に検出手段に到達し、画像撮像に供する。一方、コリメータ板の開口部以外の部分に入射した放射線は、遮蔽されて画像撮像に供しない。つまり、コリメータ板を設けることで、画像撮像に不要な放射線が被検体に照射されるのを抑制して、被検体の被爆量を抑えている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−００６１３３号公報
【特許文献２】特開２００６−３１１９２９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、このようなコリメータ等の放射線遮蔽板を用いた場合、被検体の不要な被爆を抑えることができる利点がある一方、次のような課題を有していた。つまり、放射線遮蔽版は厚みを有するため、放射線遮蔽版に貫通形成された開口部も同等の厚みを有することとなる。したがって、放射線源で発生した放射線の一部は、開口部の側壁で反射される場合がある。このとき、開口部の側壁での反射によって、放射線が検出手段の方へ進行方向を変えて検出手段に入射してしまうと、例えば、検出手段の検出結果を適切な画像として再構成できないといった問題が発生するおそれがあった。
【０００６】
この発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、開口部の側壁で反射されて放射線検出手段に向かう放射線の発生を抑えることが可能となる放射線遮蔽板および当該放射線遮蔽板を備えた放射線撮像装置の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明にかかる放射線撮像装置は、上記目的を達成するために、一方主面から当該一方主面と反対の他方主面へ貫通する開口部が設けられるとともに、開口部以外の部分で放射線を遮蔽する遮蔽板と、遮蔽板の一方主面側に設けられて、放射線を発生する放射線源と、遮蔽板の他方主面側に設けられて、放射線源から射出された後に開口部を通過して被検体を透過した放射線を検出する放射線検出手段とを備え、開口部の側壁は、遮蔽板を平面視した場合において開口部が多角形の形状を有するように当該多角形の各辺に対応する複数の面を有し、開口部の側壁が有する複数の面のうち少なくとも一つは、遮蔽板の一方主面に対して斜めに傾いていることを特徴としている。
【０００８】
このように構成された発明（放射線撮像装置）では、遮蔽板はその一方主面から他方主面へ貫通する開口部を有するとともに、放射線源は遮蔽板の一方主面側に設けられ、放射線検出手段は遮蔽板の他方主面側に設けられている。したがって、放射線源で発生した放射線は、遮蔽板の一方主面から他方主面に向けて開口部を通過した後に、被検体を透過して放射線検出手段により検出される。また、この開口部の側壁は、遮蔽板の法線方向からの平面視において多角形の形状を有するように当該多角形の各辺に対応する複数の面を有している。そして、開口部の側壁が有する複数の面のうち少なくとも一つは、遮蔽板の一方主面に対して斜めに傾いている。
【０００９】
この際、遮蔽板の一方主面に対して斜めに傾いている面（傾斜面）の傾き方としては、遮蔽板の一方主面側を向いて傾く場合と遮蔽板の他方主面側を向いて傾く場合の２通りがあるが、いずれの場合においても、開口部の側壁で反射されて放射線検出手段に向かう放射線の発生を抑制できる。つまり、傾斜面が一方主面側を向く場合には、この傾斜面に入射した放射線は、放射線検出手段の設けられた他方主面側よりはむしろ一方主面側に反射されることとなる。逆に、傾斜面が他方主面側を向く場合には、当該傾斜面は放射線が入射してくる一方主面側と反対を向くこととなるため、当該傾斜面へ入射する放射線の量そのものを減少させることができる。したがって、このような傾斜面を開口部の側壁に設けておくことで、側壁に入射した放射線を放射線検出手段の逆側（一方主面側）に反射し、あるいは側壁へ入射するの放射線の量そのものを減少させることができ、その結果、開口部の側壁で反射されて放射線検出手段に向かう放射線の発生を抑えることが可能となる。
【００１０】
ちなみに、遮蔽板の一方主面に対して斜めに傾いている面が遮蔽板の一方主面側を向いている装置においては、以下のように構成しても良い。
【００１１】
つまり、遮蔽板の一方主面に対して斜めに傾いている面と遮蔽板の一方主面とが成す角度は１３５度以上で且つ１８０度未満であるように構成しても良い。このように構成することで、入射した放射線を一方主面側に効率的に反射する傾斜面の機能を効率的に発揮させて、開口部の側壁で反射されて放射線検出手段に向かう放射線の発生を効果的に抑えることが可能となる。
【００１２】
上述のとおり、開口部側壁に設けられた傾斜面を一方主面側を向ける理由は、傾斜面に入射した光を一方主面側に反射して、他方主面側に設けられた放射線検出手段へ開口部側壁での反射光が入射することを抑制するという効果にある。このとき、かかる効果をより効率的に発揮させるためには、一方主面に対して傾かない状態では入射してきた放射線を他方主面側に反射してしまいやすい面を、傾斜面として構成しておくことが好適となる。より具体的には、放射線源と開口部との位置関係によって、開口部の側壁が有する複数の面それぞれが放射線を放射線検出手段側に反射しやすい場合や、開口部の側壁のうち一部の面のみが放射線を放射線検出手段側に反射しやすい場合が考えられる。このような場合に、放射線を放射線検出手段側に反射しやすい面については、一方主面側に向けておくことが好適となる。そこで、以下のように構成しても良い。
【００１３】
つまり、遮蔽板を平面視した場合において開口部がみせる多角形を、遮蔽板の一方主面を含む仮想平面に正射影した図形の幾何重心を開口部の中心と定義したとき、開口部の中心と放射線源が遮蔽板の一方主面の法線方向に対して平行に並ぶ放射線撮像装置においては、開口部の側壁が有する複数の面のそれぞれが、一方主面に対して傾かない状態では、放射線を放射線検出手段側に反射しやすいと想定される。そこで、開口部の側壁が有する複数の面のそれぞれが、遮蔽板の一方主面に対して斜めに傾いて、遮蔽板の一方主面側を向いているように構成しても良い。このように構成することで、開口部の側壁に入射した放射線を一方主面側に効率的に反射して、開口部の側壁で反射されて放射線検出手段に向かう放射線の発生をより確実に抑制することができる。
【００１４】
あるいは、遮蔽板を平面視した場合において開口部がみせる多角形を、遮蔽板の一方主面を含む仮想平面に正射影した図形の幾何重心を開口部の中心と定義したとき、開口部の中心と放射線源が遮蔽板の一方主面の法線方向に対して傾いて並ぶ放射線撮像装置においては、開口部の側壁が有する面のうち次の条件を満たす面が、一方主面に対して傾かない状態では、放射線を放射線検出手段側に反射しやすいと想定される。すなわち、放射線源から開口部の中心に向かうベクトルを第１のベクトルと定義し、遮蔽板の一方主面を含む仮想平面に第１のベクトルを正射影したベクトルを第２のベクトルと定義したとき、開口部の側壁が有する複数の面のうち第２のベクトルに平行な面が特に、多くの放射線を放射線検出手段側に反射しやすいと想定される。そこで、この第２のベクトルに平行な面が、遮蔽板の一方主面に対して斜めに傾いて、遮蔽板の一方主面側を向いているように構成しても良い。このように構成することで、開口部の側壁に入射した放射線を一方主面側に効率的に反射して、開口部の側壁で反射されて放射線検出手段に向かう放射線の発生をより確実に抑制することができる。
【００１５】
ちなみに、開口部の側壁が有する複数の面のうち、第２のベクトルに対して平行でなくて且つ第２のベクトルの方向の逆側を向く面は、遮蔽板の一方主面に対して斜めに傾いて、遮蔽板の他方主面側を向いているように構成しても良い。このように、当該面を他方主面側に向けることで、当該面へ入射する放射線の量そのものを減少させて、開口部の側壁で反射されて放射線検出手段に向かう放射線の発生を抑えることができる。
【００１６】
また、遮蔽板に複数の開口部を設けることもできる。このような場合、各開口部と放射線源との位置関係に応じて、各開口部の側壁のうち、一方主面に対して傾かない状態では、放射線を放射線検出手段側に反射しやすい面を一方主面側に向けておくことが好適となる。すなわち、遮蔽板を平面視した場合において開口部がみせる多角形を、遮蔽板の一方主面を含む仮想平面に正射影した図形の幾何重心を開口部の中心と定義したとき、複数の開口部が遮蔽板に設けられるとともに、複数の開口部のうち一の開口部の中心と放射線源が遮蔽板の一方主面の法線方向に対して平行に並ぶ一方、複数の開口部のうち一の開口部とは別の他の開口部の中心と放射線源が遮蔽板の一方主面の法線方向に対して傾いて並ぶ放射線撮像装置においては、一の開口部の側壁が有する複数の面のそれぞれが、遮蔽板の一方主面に対して斜めに傾いて、遮蔽板の一方主面側を向いている一方、放射線源から他の開口部の中心に向かうベクトルを第１のベクトルと定義し、遮蔽板の一方主面を含む仮想平面に第１のベクトルを正射影したベクトルを第２のベクトルと定義したとき、他の開口部の側壁が有する複数の面のうち第２のベクトルに平行な面が、遮蔽板の一方主面に対して斜めに傾いて、遮蔽板の一方主面側を向いているように構成しても良い。
【００１７】
ところで、上述したとおり、遮蔽板の一方主面に対して斜めに傾いている面が遮蔽板の他方主面側を向いているように構成することによっても、開口部の側壁で反射されて放射線検出手段に向かう放射線の発生を抑えることができる。これは、他方主面側に向けることで、傾斜面へ入射する放射線の量そのものを減少できることによる。ちなみに、放射線源と開口部との位置関係によっては、開口部の側壁が有する複数の面の間で、当該壁面に向かって進行してくる放射線の量に違いが生じることがある。したがって、比較的多くの放射線が進行してくる面を他方主面側に向けて、当該面へ入射する放射線の量を減少させるように構成しても良い。
【００１８】
つまり、遮蔽板を平面視した場合において開口部がみせる多角形を、遮蔽板の一方主面を含む仮想平面に正射影した図形の幾何重心を開口部の中心と定義したとき、開口部の中心と放射線源が遮蔽板の一方主面の法線方向に対して傾いて並ぶ放射線撮像装置においては、放射線源から開口部の中心に向かうベクトルを第１のベクトルと定義し、遮蔽板の一方主面を含む仮想平面に第１のベクトルを正射影したベクトルを第２のベクトルと定義したとき、開口部の側壁が有する複数の面のうち、第２のベクトルに対して平行でなくて且つ第２のベクトルの方向の逆側を向く面に向かって、より多くの放射線が進行してくると想定される。したがって、当該面が遮蔽板の一方主面に対して斜めに傾いて、遮蔽板の他方主面側を向いているように構成しても良い。
【００１９】
また、本発明にかかる放射線遮蔽板は、上記目的を達成するために、一方主面から当該一方主面と反対の他方主面へ貫通する開口部が設けられるとともに、開口部以外の部分で放射線を遮蔽する板状部材を備え、開口部の側壁は、板状部材を平面視した場合において開口部が多角形の形状を有するように当該多角形の各辺に対応する複数の面を有し、開口部の側壁が有する複数の面のうち少なくとも一つは、板状部材の一方主面に対して斜めに傾いていることを特徴としている。
【００２０】
このように構成された発明（放射線遮蔽板）では、放射線を遮蔽する板状部材はその一方主面から他方主面へ貫通する開口部を有する。そして、この開口部の側壁は、板状部材の平面視において多角形の形状を有するように当該多角形の各辺に対応する複数の面を有している。そして、開口部の側壁が有する複数の面のうち少なくとも一つは、遮蔽板の一方主面に対して斜めに傾いている。したがって、この放射線遮蔽板を放射線源と放射線検出手段の間に配置することで、開口部の側壁に入射した放射線を放射線検出手段の逆側に反射し、あるいは側壁へ入射するの放射線の量そのものを抑えることができ、その結果、開口部の側壁で反射されて放射線検出手段に向かう放射線の発生を抑えることが可能となる。
【発明の効果】
【００２１】
開口部の側壁に入射した放射線を放射線検出手段の逆側に反射し、あるいは側壁へ入射するの放射線の量そのものを抑えて、開口部の側壁で反射されて放射線検出手段に向かう放射線の発生を抑えることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明にかかる放射線撮像装置を搭載した部品検査装置の概略構成を示す模式図である。
【図２】図１の部品検査装置が備える電気的構成を示すブロック図である。
【図３】Ｘ線撮像装置で実行されるＸ線撮像動作の一例を示す模式図である。
【図４】Ｘ線遮蔽板の概略構成を示す平面図である。
【図５】一方向傾斜面あるいは他方向傾斜面として形成される面の条件を説明する斜視図である。
【図６】図４のＡ1−Ａ1線断面を示す断面図である。
【図７】図４のＢ1−Ｂ1線断面を示す断面図である。
【図８】遮蔽板の一方主面側を向いて傾く一方向傾斜面の効果の説明図である。
【図９】遮蔽板の他方主面側を向いて傾く他方向傾斜面の効果の説明図である。
【図１０】一方向傾斜面の角度と一方向傾斜面で反射されるＸ線との関係を示す図である。
【図１１】遮蔽板の変形例を示す平面図である。
【図１２】遮蔽板の別の変形例を示す平面図である。
【図１３】遮蔽板のさらに別の変形例を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
図１は本発明にかかる放射線撮像装置を搭載した部品検査装置の概略構成を示す模式図である。図２は、図１の部品検査装置が備える電気的構成を示すブロック図である。なお、図１および後で説明する図面では、各図の方向関係を明確にするために、ＸＹＺ直角座標軸が適宜示されている。また、各座標軸の矢印方向を正方向とし、矢印と反対方向を負方向とする。
【００２４】
部品検査装置１は、基板Ｗ（ワーク）に電子部品を接続する半田の状態を主に検査するものである。この部品検査装置１は、部品検査を実行する各機能部を収容するハウジング１１を備えており、ハウジング１１の搬入口１１１から搬入されてきた基板Ｗに対して各機能部が協働して検査を行なうとともに、検査を終了した基板Ｗを搬出口１１２から外部へ搬出する。
【００２５】
図１に示すように、ハウジング１１内の下方には、ＸＹ
駆動テーブル３が配置されている。このＸＹ駆動テーブル３は、その表面に基板Ｗを支持しつつ、ＸＹ駆動機構３１からの駆動力を受けてＸＹ面内を移動可能に構成されている。したがって、ＸＹ駆動テーブル３は、ハウジング１１のＹ軸方向正側（図１右側）の搬入口１１１まで移動して基板Ｗを受け取ったり、部品検査のためにハウジング１１の略中央に基板Ｗを位置決めしたり（図１に示す状態）、ハウジング１１のＹ軸方向負側（図１左側）の搬出口１１２まで検査済み基板Ｗを運んだりといった動作を行なうことができる。
【００２６】
また、この部品検査装置１は、光学撮像による検査を行なう光学撮像装置５（図２）と、Ｘ線（放射線）撮像による検査を行なうＸ線撮像装置７（図２）とを具備する。図１に示すように、光学撮像装置５は、照明５１、ミラー５３および光学カメラ５５より構成される。照明５１は、上部が開口したドーム形状を有しており、ハウジング１１の略中央にある基板ＷをＺ軸方向正側（図１上側）から囲んで、当該基板Ｗに対して光を照射する。ミラー５３は、照明５１の開口５１１の上方に配置されており、照明５１により照らされた基板Ｗの姿を写す。そして、光学カメラ５５はミラー５３に写った像を撮像して、この撮像結果をコントローラー１００（図２）へと出力する。こうして、光学撮像装置５が撮像した映像に基づいて、コントローラー１００は、電子部品の端子の前面側に存在する半田（いわゆるフロントフィレット）の状態を確認する。
【００２７】
一方、Ｘ線撮像装置７は、Ｘ線放射部７１およびＸ線検出部７３（Ｘ線カメラ）を備える。Ｘ線放射部７１はハウジング１１の略中央にある基板ＷのＺ軸方向正側（図１上側）に配置されており、Ｘ線源７１１が発生したＸ線をＺ軸方向負側（図１下側）へ放射する。一方、Ｘ線検出部７３は、基板ＷのＺ方向負側に配置されており、Ｘ線ＣＣＤ(Charge Coupled Device)等で構成されている。このように、Ｘ線放射部７１とＸ線検出部７３は、部品検査位置の基板Ｗを挟むように配置されており、Ｘ線放射部７１から放射されたＸ線は、部品検査位置の基板Ｗを透過した後にＸ線検出部７３に入射する。そして、Ｘ線検出部７３は、Ｘ線を検出した結果をコントローラー１００（図２）へと出力する。こうしてＸ線撮像装置７が撮像した映像に基づいて、コントローラー１００は、電子部品の端子の背面側に存在する半田（いわゆる、ヒールフィレット）の状態を確認する。
【００２８】
ちなみに、このＸ線撮像装置７は、基板Ｗに入射するＸ線の角度を変えながら、基板ＷのＸ線撮像を複数回実行することができる。具体的には、ＸＹ駆動テーブル３によってＸＹ面内で基板Ｗを移動させることで、Ｘ線放射部のＸ線源７１１と基板Ｗの相対位置を変化させ、これに応じて、Ｘ線源７１１から基板Ｗへ向かう放射線と基板Ｗとの角度を変化させる。そして、所望の角度で放射線が入射する位置に基板Ｗを位置決めしてＸ線撮像を行う動作を、角度を変化させながら実行する。このとき、基板Ｗを透過した放射線をＸ線検出部７３で確実に検出するためには、基板Ｗの移動に応じてＸ線検出部７３も移動させる必要がある。そこで、このＸ線検査装置１では、Ｘ線検出部７３をＸＹ面内で駆動するＸＹ駆動機構７７が備えられている。
【００２９】
続いて図２を用いて、コントローラー１００の動作の詳細について説明する。コントローラー１００は、コントローラー１００で実行される制御動作を統括的に管理するために、ＣＰＵ(Central Processing Unit)等で構成された装置制御演算処理部１０１を備える。また、コントローラー１００は、ＸＹ駆動機構３１、７７（図１）の駆動源である各モーターを制御するモーター制御部１０２を備える。つまり、ＸＹ駆動機構３１、７７は、モーター制御部１０２からの指令に応じて、ＸＹ駆動テーブル３やＸ線検出部７３を移動して位置決めする。さらに、コントローラー１００は、光学撮像装置５およびＸ線撮像装置７の撮像結果を処理するために、画像処理部１０３および検査判定処理部１０４を備える。この画像処理部１０３は、光学撮像装置５およびＸ線撮像装置７の撮像結果を受信して、例えばＸ線撮像結果の再構成等に必要な演算処理を当該撮像結果に施す。そして、検査判定処理部１０４は、画像処理部１０３による処理を経た撮像結果に基づいて、半田の状態の良否を判定する。
【００３０】
以上が、部品検査装置１の概略構成である。続いて、部品検査装置１が備えるＸ線撮像装置７の詳細について説明する。上述したとおり、Ｘ線撮像装置７は、Ｘ線源７１１と基板Ｗの相対位置を変化させることで、Ｘ線源７１１から基板Ｗへ向かう放射線と基板Ｗとの角度を変化させながらＸ線撮像を実行する（図３）。
【００３１】
図３は、Ｘ線撮像装置で実行されるＸ線撮像動作の一例を示す模式図である。同図では、３つの基板Ｗと３つのＸ線検出部７３が示されているが、これは基板ＷおよびＸ線検出部７３が３つずつあることを示すものではなく、基板ＷおよびＸ線検出部７３が図３で示された各位置に移動可能であることを示している。また、同図では、基板Ｗの位置ＰwおよびＸ線検出部７３の位置Ｐcには座標(θx,θy)が併記されている。ここで、位置Ｐw（θx,θy）は、Ｘ軸方向に角度θxでかつＹ軸方向に角度θyの入射角でＸ線が基板Ｗ（の中心）に入射する基板Ｗの位置を示している。また、位置Ｐc（θx,θy）は、位置Ｐc（θx,θy）にある基板Ｗを透過したＸ線を検出するＸ線検出部７３の位置を示しており、位置Ｐc（θx,θy）にあるＸ線検出部７３は、位置Ｐw（θx,θy）にある基板ＷとＸ線源７１１と略一直線に並ぶ。図３では、Ｘ軸方向の角度を０°に固定して、Ｙ軸方向の角度を４５°毎に変化させた場合が示されている。なお、これから説明する例では、図３に示す３つの角度状態（０°,−４５°）、（０°,０°）、（０°,４５°）以外に、６つの角度状態（−４５°,０°）、（４５°,０°）、（−４５°, −４５°）、（−４５°, ４５°）、（４５°, −４５°）、（４５°,４５°）のそれぞれでＸ線撮像が可能であるように構成されている。
【００３２】
また、図３に示すように、この実施形態にかかるＸ線撮像装置７では、被検体である基板Ｗや電子部品等の被爆量を最小限に抑えるために、遮蔽板７５（放射線遮蔽板）が用いられる。この遮蔽板７５は平板形状を有しており、その一方主面７５aの法線がＺ軸方向と平行となるように、Ｘ線源７１１と基板Ｗとの間に配置されている。このとき、遮蔽板７５は、その一方主面７５aをＺ軸方向正側に向けるとともに、その他方主面７５bをＺ軸方向負側に向けた状態で、Ｘ線源７１１と基板Ｗとの間に配置される。さらに、遮蔽板７５には、一方主面７５aから他方主面７５bまで貫通する開口部Ａp（コリメータ）が形成されている。そして、Ｘ線源７１１から放射されたＸ線のうち、開口部Ａpを通過したＸ線が基板Ｗを透過してＸ線検出部７３に到達する一方、遮蔽板７５の開口部Ａp以外の部分に入射したＸ線は遮蔽されることとなる。つまり、開口部Ａpは通過するＸ線を絞ってＸ線の照射野を規定することで、被検体への被爆量を最小限に抑えるものである。かかる開口部Ａpは、上述した９つの角度状態に対応して９個形成されている（図４）。
【００３３】
図４は、Ｘ線遮蔽板の概略構成を示す平面図である。図４では、Ｚ軸方向正側から平面視した遮蔽板７５が示されるとともに、当該平面視においてＺ軸方向に貫通して見える開口部Ａpが白抜きで表され、その他の部分にはドットあるいは斜線のハッチングが施されている。特に、ドットのハッチングが施された部分は、遮蔽板７５の一方主面７５aを示す。また、同図では、開口部Ａpに座標（θx,θy）が併記されている。ここで、開口部Ａp（θx,θy）は、角度状態（θx,θy）に対応する開口部である。すなわち、開口部Ａp（θx,θy）は、Ｘ線源７１１、基板の位置Ｐw（θx,θy）およびＸ線検出部７３の位置Ｐc（θx,θy）が並ぶ直線上に位置して、位置Ｐw（θx,θy）にある基板Ｗに対して照射野を規定する機能を果たす。図３を併用しつつ具体例を挙げて説明すると、開口部Ａp（０°、４５°）（図３における右端の開口部Ａp）は、Ｘ線源７１１、基板の位置Ｐw（０°、４５°）およびＸ線検出部７３の位置Ｐc（０°、４５°）が並ぶ直線上に位置して、位置Ｐw（０°、４５°）にある基板Ｗに対する照射野を規定する機能を果たす。
【００３４】
図４に示すように、遮蔽板７５には、中央部に位置する開口部Ａp（０°、０°）とこれを取り囲む８個の開口部Ａpを併せた合計９個の開口部Ａpが形成されている。中央部の開口部Ａp（０°、０°）のＺ軸方向正側（図３の上側）にはＸ線源７１１が正対（直視）しており、中央部の開口部Ａp（０°、０°）（の中心）とＸ線源７１１はＺ軸方向に平行に並んでいる。したがって、Ｘ線源７１１からの放射線は、Ｚ軸方向（一方主面７５aの法線方向）から中央部の開口部Ａp（０°、０°）へ入射する。一方、図４において、中央部の開口部Ａp（０°、０°）の上下左右に並ぶ開口部Ａp（−４５°、０°）、Ａp（４５°、０°）、Ａp（０°、−４５°）、Ａp（０°、４５°）に対しては、Ｘ線源７１１は４５°傾いた位置にあり、これらの開口部Ａp（の中心）とＸ線源７１１はＺ軸方向に対して４５°傾いて並んでいる（斜視）。したがって、Ｘ線源７１１からの放射線は、Ｚ軸方向（一方主面７５aの法線方向）に対して４５°傾いた方向からこれらの開口部Ａpへ入射する。さらに、遮蔽板７５の四隅にある開口部Ａp（−４５°、―４５°）、Ａp（４５°、−４５°）、Ａp（−４５°、４５°）、Ａp（４５°、４５°）に対しては、Ｘ線源７１１はＸ軸およびＹ軸の両方向に４５°傾いており（斜視）、放射線は、Ｚ軸方向（一方主面７５aの法線方向）に対して４５°よりも大きく傾いて開口部Ａpへ入射する。
【００３５】
各開口部Ａpは、Ｚ軸方向からの平面視において図４にて白抜きで示される四角形の形状を有するように、四角形の各辺に対応する４つの面で構成されている。そして、図４において、中央と上下左右に位置する５つの開口部Ａpについては、各開口部Ａpの側壁が有するこれらの面のうちの一部あるいは全部が、遮蔽板７５の一方主面７５aに対して斜めに傾いている。このとき、遮蔽板７５の一方主面７５aに対して斜めに傾いている面（傾斜面）の傾き方としては、遮蔽板７５の一方主面７５a側（Ｚ軸方向正側）を向いて傾く場合と遮蔽板７５の他方主面７５b側（Ｚ軸方向負側）を向いて傾く場合の２通りがある。図４に示すＺ軸方向正側からの平面視において、一方主面７５a側を向く傾斜面（一方向傾斜面）は見えるため斜線のハッチングで示される一方、他方主面７５b側を向く傾斜面（他方向傾斜面）は遮蔽板７５の一方主面７５aに隠れて見えないため示されていない。
【００３６】
より詳しくは、開口部Ａpの側壁が有する面のうち、図５を用いて説明する条件を満たす面を一方向傾斜面あるいは他方向傾斜面として構成している。図５は、一方向傾斜面あるいは他方向傾斜面として形成される面の条件を説明する斜視図である。図５において、符号Ｐapは、遮蔽板７５を平面視した場合において開口部Ａpがみせる四角形（図４の白抜きで示された四角形）を、遮蔽板７５の一方主面７５aを含む仮想平面に正射影（Ｚ軸方向から射影）した図形である。また、図５において、符号Ｃapは開口部Ａpの射影図Ｐapの幾何重心である。ここで、この幾何重心Ｃapを開口部Ａpの中心と定義し、Ｘ線源７１１から開口部Ａpの中心Ｃapに向かうベクトルを第１のベクトルＶ1と定義し、遮蔽板７５の一方主面７５aを含む仮想平面に第１のベクトルＶ1を正射影したベクトルを第２のベクトルＶ2と定義する。
【００３７】
そして、開口部Ａpの側壁を構成する面のうち、第２のベクトルＶ2に平行な面（図５の辺Ｌ1、Ｌ2に対応する面）が一方向傾斜面として形成される。したがって、図４において斜線のハッチングで示すように、中央部の開口部Ａp（０°、０°）の４面、左右に位置する開口部Ａp（０°、−４５°）、Ａp（０°、４５°）の上下の２面、および上下に位置する開口部部Ａp（−４５°、０°）、Ａp（４５°、０°）の左右の２面は一方向傾斜面として形成される。なお、中央の開口部Ａp（０°、０°）の中心ＣapとＸ線源７１１とはＺ軸方向に平行に並ぶ。したがって、中央の開口部Ａp（０°、０°）については、第１のベクトルＶ1が遮蔽板７５の一方主面７５aを含む仮想平面に対して直交するため、第２のベクトルＶ2はゼロベクトルとなる。そこで、このゼロベクトルに対しては中央の開口部Ａp（０°、０°）の側壁の各面は平行であると、ここでは取り扱う。
【００３８】
一方、開口部Ａpの側壁を構成する面のうち、第２のベクトルＶ2に対して平行でなくて且つ第２のベクトルＶ2の方向の逆側を向く面（図５の辺Ｌ3に対応する面）が他方向傾斜面として形成される。したがって、図４において、左に位置する開口部Ａp（０°、−４５°）の左側の１面、右に位置する開口部Ａp（０°、４５°）の右側の１面、上に位置する開口部Ａp（−４５°、０°）の上側の１面、および下に位置する開口部Ａp（４５°、０°）の下側の１面は他方向傾斜面として形成される。続いて、これら一方向傾斜面・他方向傾斜面を有する開口部Ａpの断面について、図６および図７を併用しつつ説明する。
【００３９】
図６は、図４のＡ1−Ａ1線断面を示す断面図である。図７は、図４のＢ1−Ｂ1線断面を示す断面図である。これらの図では破線円で示すように部分的に拡大した図が併記されている。なお、この拡大図では、開口部Ａpの側壁の面と遮蔽板７５の一方主面７５aとの角度が示されている。
【００４０】
先ずは、図６に示す断面から説明を行う。図６に示すように、開口部Ａp（０°、−４５°）の側壁のうちＹ軸方向負側（同図左側）の面Ｓalは、遮蔽板７５の一方主面７５aに対して４５°の角度で傾いた平面であり、遮蔽板７５の他方主面７５b側を向いた他方向傾斜面である。一方、開口部Ａp（０°、−４５°）の側壁のうちＹ軸方向正側（同図右側）の面Ｓarは、遮蔽板７５の一方主面７５aに対して垂直な平面である。また、開口部Ａp（０°、０°）の側壁のうちＹ軸方向の両側の２つの面Ｓbl、Ｓbrそれぞれは、遮蔽板７５の一方主面７５aに対して１３５°の角度で傾いた平面であり、遮蔽板７５の一方主面７５a側を向いた一方向傾斜面である。また、開口部Ａp（０°、４５°）の側壁のうちＹ軸方向負側（同図左側）の面Ｓclは、遮蔽板７５の一方主面７５aに対して垂直な平面である。一方、開口部Ａp（０°、４５°）の側壁のうちＹ軸方向正側（同図右側）の面Ｓcrは、遮蔽板７５の一方主面７５aに対して４５°の角度で傾いた平面であり、遮蔽板７５の他方主面７５b側を向いている。なお、Ａ2−Ａ2線（図４）における断面図も図６に示した断面図と同様となる。
【００４１】
続いて、図７に示す断面について説明を行なう。図７に示すように、開口部Ａp（−４５°、−４５°）の側壁のうちＹ軸方向の両側の２つの面Ｓdl、Ｓdrそれぞれは、遮蔽板７５の一方主面７５aに対して垂直な平面である。また、開口部Ａp（−４５°、０°）の側壁のうちＹ軸方向の両側の２つの面Ｓel、Ｓerそれぞれは、遮蔽板７５の一方主面７５aに対して１３５°の角度で傾いた平面であり、遮蔽板７５の一方主面７５a側を向いた一方向傾斜面である。また、開口部Ａp（−４５°、４５°）の側壁のうちＹ軸方向の両側の２つの面Ｓfl、Ｓfrそれぞれは、遮蔽板７５の一方主面７５aに対して垂直な平面である。なお、Ｂ2−Ｂ2〜Ｂ4−Ｂ4線（図４）における断面図も図７に示した断面図と同様になる。
【００４２】
以上のように、本実施形態におけるＸ線撮像装置７では、遮蔽板７５はその一方主面７５aから他方主面７５bへ貫通する開口部Ａpを有するとともに、Ｘ線源７１１は遮蔽板７５の一方主面７５a側に設けられ、Ｘ線検出部７３は遮蔽板７５の他方主面７５b側に設けられている。したがって、Ｘ線源７１１で発生したＸ線は、遮蔽板７５の一方主面７５aから他方主面７５bに向けて開口部Ａpを通過した後に、被検体を透過してＸ線検出部７３により検出される。また、この開口部Ａpの側壁は、遮蔽板７５の法線方向（Ｚ軸方向）からの平面視において四角形の形状を有するように当該四角形の各辺に対応する４つの面を有している。そして、開口部Ａpの側壁が有する４つの面のうち少なくとも一つは、遮蔽板７５の一方主面７５aに対して斜めに傾いている。
【００４３】
この際、遮蔽板７５の一方主面７５aに対して斜めに傾いている面（傾斜面）の傾き方としては、遮蔽板７５の一方主面７５a側を向いて傾く場合と遮蔽板７５の他方主面７５b側を向いて傾く場合の２通りがあるが、いずれの場合においても、開口部Ａpの側壁で反射されてＸ線検出部７３に向かう放射線の発生を抑制できる。これについて、図８および図９を用いて説明する。図８は、遮蔽板の一方主面側を向いて傾く一方向傾斜面の効果の説明図である。図９は、遮蔽板の他方主面側を向いて傾く他方向傾斜面の効果の説明図である。なお、図８および図９の破線は、遮蔽板７５の一方主面７５aに対して垂直に形成された開口部Ａpの側壁の面Ｓであり、比較のために示されている。
【００４４】
図８では、開口部Ａpの側壁の面Ｓが一方主面側を向く一方向傾斜面として構成されている。同図に示すように、開口部Ａpの側壁の面Ｓが遮蔽板７５の一方主面７５aに垂直である場合には、面Ｓに入射したＸ線ＬＩは、Ｘ線検出部７３の設けられた他方主面７５b側に反射される傾向にある（図８の反射Ｘ線ＬＲb(-)）。一方、開口部Ａpの側壁の面Ｓが一方向傾斜面として構成されている場合には、この傾斜面Ｓに入射したＸ線ＬIは、Ｘ線検出部７３の設けられた他方主面７５b側よりはむしろ一方主面７５a側に反射されることとなる（図８の反射Ｘ線ＬＲb(+)）。
【００４５】
一方、図９では、図８と逆に、開口部Ａpの側壁の面Ｓが他方主面側を向く他方向傾斜面として構成されている。同図に示すように、開口部Ａpの側壁の面Ｓが遮蔽板７５の一方主面７５aに垂直である場合には、面Ｓに入射したＸ線ＬＩは、Ｘ線検出部７３の設けられた他方主面側に反射される傾向にある（図９の反射Ｘ線ＬＲb(-)）。一方、開口部Ａpの側壁の面Ｓが他方向傾斜面として構成されている場合には、当該傾斜面ＳはＸ線が入射してくる一方主面７５a側と反対を向くこととなるため、Ｘ線ＬＩは傾斜面Ｓに入射すること無く通過する傾向にあり、当該傾斜面Ｓへ入射するＸ線の量そのものを減少させることができる。
【００４６】
つまり、図８および図９に示したような傾斜面Ｓを開口部Ａpの側壁に設けておくことで、開口部Ａpの側壁に入射した放射線をＸ線検出部７３の逆側（一方主面側）に反射し、あるいは開口部Ａpの側壁へ入射するのＸ線の量そのものを減少させることができ、その結果、開口部Ａpの側壁で反射されてＸ線検出部７３に向かうＸ線の発生を抑えることが可能となる。
【００４７】
また、上記実施形態では、つまり、一方向傾斜面と遮蔽板７５の一方主面７５aとが成す角度は１３５度以上で且つ１８０度未満であるように構成している。このように構成した場合、入射したＸ線を一方主面７５a側に効率的に反射する一方向傾斜面の機能を効率的に発揮させて、開口部Ａpの側壁で反射されてＸ線検出部７３に向かうＸ線の発生を効果的に抑えることが可能となる。この理由について、図１０を用いて説明すると次のとおりである。
【００４８】
図１０は、一方向傾斜面の角度と一方向傾斜面で反射されるＸ線との関係を示す図である。なお、Ｘ線が散乱される態様としては、弾性散乱、レーリー散乱、コンプトン散乱など複数のものがあるが、図１０では弾性散乱のみを想定する。ここでは、開口部Ａpの壁面に設けられた一方向傾斜面Ｓで反射されたＸ線が他方主面７５b側（Ｚ軸方向負側）に向かわずに、一方主面７５a側（Ｚ軸方向正側）に向かう場合を考える。特に、被反射Ｘ線が他方主面７５b側にぎりぎり向かわない条件、言い換えれば、被反射Ｘ線が図１０に示すＸ線ＬＲ(0)ようにＺ軸方向に直交する方向（真横）に向う条件を求める。そして、これから、被反射Ｘ線が他方主面７５b側に確実に向かわないために、一方向傾斜面Ｓが満たす角度を求める。
【００４９】
被反射Ｘ線が図１０の真横に向かう場合、図１０から、次式
Ｒx＋９０°＋Ｒc＋Ｒx＝１８０°
が成立し、これを変形すると、
Ｒc＝９０°−２×Ｒx …式１
となる。ここで、角度Ｒcは、Ｘ線ＬＩの入射角であり、角度Ｒxは、一方向傾斜面ＳとＺ軸とが成す角度である。ここで、角度Ｒcは０°よりは大きい角度であるので、これを式１に適用すると、次式、
Ｒc＝９０°−２×Ｒx＞０° …式２
が得られ、さらにこれを変形して、
４５°＞Ｒx …式３
となる。つまり、この式３が、被反射Ｘ線が他方主面７５b側にぎりぎり向かわない条件での角度Ｒx（限界角）となる。逆に言うと、角度Ｒxを４５°以上とすることで、一方向傾斜面Ｓに入射するＸ線を、一方主面７５a側に確実に反射することが可能となる。すなわち、上記実施形態のように、一方向傾斜面Ｓと遮蔽板７５の一方主面７５aとが成す角度（＝９０°＋Ｒx）を１３５度以上で且つ１８０度未満であるように構成することで、一方向傾斜面Ｓに入射するＸ線を、一方主面７５a側に確実に反射することが可能となる。
【００５０】
図８を用いて説明したとおり、開口部Ａpの側壁に設けられた傾斜面を一方主面７５a側を向ける理由は、傾斜面に入射した光を一方主面７５a側に反射して、他方主面７５b側に設けられたＸ線検出部７３へ開口部Ａpの側壁での反射光が入射することを抑制するという効果にある。このとき、かかる効果をより効率的に発揮させるためには、一方主面７５aに対して傾かない状態では入射してきたＸ線を他方主面７５b側に反射してしまいやすい面を、傾斜面として構成しておくことが好適となる。より具体的には、Ｘ線源７１１と開口部Ａpとの位置関係によって、開口部Ａpの側壁が有する複数の面それぞれがＸ線をＸ線検出部７３側に反射しやすい場合や、開口部Ａpの側壁のうち一部の面のみがＸ線をＸ線検出部７３側に反射しやすい場合が考えられる。このような場合に、Ｘ線をＸ線検出部７３側に反射しやすい面については、一方主面７５a側に向けておくことが好適となる。これに対して、上述の実施形態では以下のように構成している。
【００５１】
つまり、その中心ＣapとＸ線源７１１とが遮蔽板７５の一方主面７５aの法線方向に対して平行に並ぶ、（中央の）開口部Ａpにおいては、当該開口部Ａpの側壁が有する複数の面のそれぞれが、一方主面７５aに対して傾かない状態では、Ｘ線をＸ線検出部７３側に反射しやすいと想定される。そこで、図５等を用いて説明した通り、（中央の）開口部Ａpの側壁が有する複数の面のそれぞれは、遮蔽板７５の一方主面７５aに対して斜めに傾いて、遮蔽板７５の一方主面７５a側を向いている。これにより、開口部Ａpの側壁に入射したＸ線を一方主面７５a側に効率的に反射して、開口部Ａpの側壁で反射されてＸ線検出部７３に向かうＸ線の発生をより確実に抑制することができる。
【００５２】
あるいは、その中心ＣapとＸ線源７１１とが遮蔽板７５の一方主面７５aの法線方向に対して傾いてに並ぶ、（左右上下の）開口部Ａpにおいては、開口部Ａpの側壁が有する複数の面のうち第２のベクトルＶ2に平行な面（図５の辺Ｌ1、Ｌ2に対応する面）が特に、多くのＸ線をＸ線検出部７３側に反射しやすいと想定される。そこで、図５等を用いて説明したとおり、第２のベクトルＶ2に平行な面は、遮蔽板７５の一方主面７５aに対して斜めに傾いて、遮蔽板７５の一方主面７５a側を向いている。これにより、開口部Ａpの側壁に入射したＸ線を一方主面７５a側に効率的に反射して、開口部Ａpの側壁で反射されてＸ線検出部７３に向かうＸ線の発生をより確実に抑制することができる。
【００５３】
ところで、図９を用いて説明したとおり、遮蔽板７５の一方主面７５aに対して斜めに傾いている面が遮蔽板７５の他方主面７５b側を向いているように構成することによっても、開口部Ａpの側壁で反射されてＸ線検出部７３に向かうＸ線の発生を抑えることができる。これは、他方主面７５b側に向けることで、傾斜面へ入射するＸ線の量そのものを減少できることによる。ちなみに、Ｘ線源７１１と開口部Ａpとの位置関係によっては、開口部Ａpの側壁が有する複数の面の間で、当該壁面に向かって進行してくるＸ線の量に違いが生じることがある。したがって、比較的多くのＸ線が進行してくる面を他方主面７５b側に向けて、当該面へ入射するＸ線の量を減少させるように構成しても良い。つまり、開口部Ａpの側壁が有する複数の面のうち、第２のベクトルＶ2に対して平行でなくて且つ第２のベクトルＶ2の方向の逆側を向く面（図９の辺Ｌ3に対応する面）に向かって、より多くのＸ線が進行してくると想定される。そこで、上記実施形態では、当該面が遮蔽板７５の一方主面７５aに対して斜めに傾いて、遮蔽板７５の他方主面７５b側を向いている。
【００５４】
また、本実施形態におけるＸ線遮蔽板７５では、Ｘ線を遮蔽する板状部材（遮蔽板７５を構成する平板）はその一方主面７５aから他方主面７５bへ貫通する開口部Ａpを有する。そして、この開口部Ａpの側壁は、遮蔽板７５の法線方向からの平面視において四角形の形状を有するように当該四角形の各辺に対応する４つの面を有している。そして、開口部Ａpの側壁が有する４つの面のうち少なくとも一つは、遮蔽板７５の一方主面７５aに対して斜めに傾いている。したがって、このＸ線遮蔽板７５をＸ線源７１１とＸ線検出部７３の間に配置することで、開口部Ａpの側壁に入射したＸ線をＸ線検出部７３の逆側に反射し、あるいは側壁へ入射するの放射線の量そのものを抑えることができ、その結果、開口部Ａpの側壁で反射されてＸ線検出部７３に向かうＸ線の発生を抑えることが可能となる。
【００５５】
以上のように、本実施形態では、Ｘ線撮像装置７が本発明の「放射線撮影装置」に相当し、遮蔽板７５が本発明の「放射線遮蔽板」に相当している。また、遮蔽板７５が本発明の「遮蔽板」に相当し、一方主面７５aが本発明の「一方主面」に相当し、他方主面７５bが本発明の「他方主面」に相当し、開口部Ａpが本発明の「開口部」に相当している。また、Ｘ線が本発明の放射線に相当し、Ｘ線源７１１が本発明の「放射線源」に相当し、Ｘ線検出部７３が本発明の「放射線検出手段」に相当する。
【００５６】
なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行なうことが可能である。例えば、遮蔽板７５には、一方向傾斜面を有する開口部Ａpおよび他方傾斜面を有する開口部Ａpの両方が形成されている。しかしながら、一方向傾斜面および他方傾斜面のいずれか一方を有する開口部Ａpのみを遮蔽板７５に形成するように構成しても良い。このように構成された遮蔽板７５によっても、開口部Ａpの側壁で反射されてＸ線検出部７３に向かうＸ線の発生を抑えることができる。
【００５７】
また、上記実施形態では、開口部Ａpは、平面視において四角形の形状を有するように構成されているが、平面視において四角形以外の多角形の形状を有するように開口部Ａpを変形することもできる。
【００５８】
また、上記実施形態では、開口部Ａpの側壁に設けた傾斜面を平面で形成したが、例えばアールを付けて丸みを持たせたり、屈曲させたりといった変形も適宜可能である。
【００５９】
また、遮蔽板７５に形成する開口部Ａpの個数も適宜変更が可能であり、上述のものに限られない。
【００６０】
また、遮蔽板７５に形成する開口部Ａpの大きさも適宜変更可能である（図１１）。ここで、図１１は、遮蔽板の変形例を示す平面図である。図１１の遮蔽板７５では、開口部Ａpの大きさが上述した図４の遮蔽板７５の開口部Ａpよりも大きい。なお、図１１と図４とは開口部Ａpの設け方のみが異なり、開口部Ａpの側壁が有する面のうち傾斜面として形成される面や、Ｘ線源７１１との位置関係等は同様である。図１１の遮蔽板７５で開口部Ａpが大きく形成されているのは、ズームアップでＸ線撮像を行うような場合に対応するためである。つまり、ズームアップでＸ線撮像を行う場合では、Ｘ線源７１１を基板Ｗに近づけるため、開口部Ａpはより大きい必要がある。そこで、図１１に示すようなズームアップ用の遮蔽板７５を別途用いることがあるが、このズームアップ用の遮蔽板７５に対しても本発明を適用することで、開口部Ａpの側壁で反射されてＸ線検出部７３に向かうＸ線の発生を抑えることができる。
【００６１】
このとき、ズームアップ用の遮蔽板７５および通常の遮蔽板７５をそれぞれ用意しておき、必要に応じて何れか一方を、Ｘ線源７１１と基板Ｗの間に配置するように構成しても良い。
【００６２】
あるいは、ズームアップ用の遮蔽板７５をＸ線源７１１と基板Ｗの間に常時配置しておくこともできる。さらに、この場合には、通常の遮蔽板７５をズームアップ用の遮蔽板７５とＸ線源７１１との間に着脱可能に構成しておき、ズームアップでＸ線撮像を行う場合は通常の遮蔽板７５を取り外しておく一方、通常のＸ線撮像を行う場合は通常の遮蔽板７５を取り付けるように構成しても良い。
【００６３】
なお、ズームアップ用の遮蔽板７５に形成する開口部Ａpの個数も適宜変更が可能であり、上述のものに限られない。
【００６４】
また、ズームアップ用の遮蔽板７５と通常の遮蔽板７５とをそれぞれ別体で構成する必要はなく、図１２に示すようにこれらを一体に構成しても良い。図１２は、遮蔽板の別の変形例を示す平面図である。図１２の遮蔽板７５は、図１１に示した遮蔽板７５と図４に示した遮蔽板７５を左右に並べて、一体的に形成した構成を具備している。
【００６５】
この際も、遮蔽板７５に設ける開口部Ａpの個数を適宜変更可能であり、例えば、ズームアップ用の大きな開口部Ａpと通常のＸ線撮像ようの小さな開口部Ａpとを一つずつ設けるように構成しても良い。
【００６６】
なお、ズームアップ用の９個の開口部Ａpと通常用の９個の開口部Ａpの合計１８個の開口部Ａpを用いる構成において、１８個の開口部Ａpの配列方法を適宜変更することもできる。具体的には、これら１８個の開口部Ａpを一列あるいは二列で配列したり、円形の平板の円周に１８個の開口部Ａpを並べて配置したりといった変形が可能である。
【００６７】
また、各開口部Ａpの使用頻度に差がある場合は、最も良く使う開口部Ａpを一つだけ設けた遮蔽板７５とその他の複数の開口部Ａpを設けた遮蔽板７５とをそれぞれ用意しても良い（図１３）。図１３は、遮蔽板のさらに別の変形例を示す平面図である。同図の右側の遮蔽板７５には、Ｘ線源７１１を開口部Ａpに正対させて行なう、通常用のＸ線撮像で用いられる開口部Ａp（図４で開口部Ａp（０°、０°））のみが形成されている。このとき、通常用の残りの８個の開口部Ａpとズームアップ用の９個の開口部Ａpとの合計１７個の開口部Ａpを備えた遮蔽板７５を、別に用意しても良いが、同図の左側の遮蔽板７５のように、ズームアップ用の大きさを備える９個の開口部Ａpのみを有する遮蔽板７５を用意しても良い。つまり、この場合には、Ｘ線源７１１を開口部Ａpに対して傾けて行なう斜視撮影では、ズームアップ時も通常時も同図左側の遮蔽板７５が兼用されることとなる。
【符号の説明】
【００６８】
１…部品検査装置
７…Ｘ線撮像装置
７１…Ｘ線放射部
７１１…Ｘ線源
７３…Ｘ線検出部
７５…Ｘ線遮蔽板
７５a…一方主面
７５b…他方主面
７７…ＸＹ駆動機構
Ｖ1…第１のベクトル
Ｖ2…第２のベクトル
【技術分野】
【０００１】
この発明は、放射線源から被検体を透過した放射線を放射線検出手段で検出する際に、放射線源と放射線検出手段の間に設けられて放射線源からの放射線を部分的に遮蔽する放射線遮蔽板および当該放射線遮蔽板を用いた放射線撮像装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１では、Ｘ線源（Ｘ線管球）が発生したＸ線を被検体に照射するとともに、被検体を透過したＸ線を検出手段（２次元検出器システム）により検出するＸ線ＣＴ（Computed Tomography）装置が記載されている。また、特許文献２にも同様の構成を具備するＸ線撮影装置が記載されている。これらの放射線撮像装置は、被検体を透過した放射線（Ｘ線）を検出手段が検出することで得られる情報を、画像として再構成することで、被検体の画像を撮像するものである。
【０００３】
また、特許文献１および２のいずれの放射線撮像装置においても、放射線源と検出手段の間にコリメータが配置されている。例えば特許文献１では、厚み方向に貫通する開口部が設けられたコリメータ板が放射線源と検出手段の間に配置されており、放射線源から照射されてコリメータ板の開口を通過した放射線のみが、被検体を透過した後に検出手段に到達し、画像撮像に供する。一方、コリメータ板の開口部以外の部分に入射した放射線は、遮蔽されて画像撮像に供しない。つまり、コリメータ板を設けることで、画像撮像に不要な放射線が被検体に照射されるのを抑制して、被検体の被爆量を抑えている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−００６１３３号公報
【特許文献２】特開２００６−３１１９２９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、このようなコリメータ等の放射線遮蔽板を用いた場合、被検体の不要な被爆を抑えることができる利点がある一方、次のような課題を有していた。つまり、放射線遮蔽版は厚みを有するため、放射線遮蔽版に貫通形成された開口部も同等の厚みを有することとなる。したがって、放射線源で発生した放射線の一部は、開口部の側壁で反射される場合がある。このとき、開口部の側壁での反射によって、放射線が検出手段の方へ進行方向を変えて検出手段に入射してしまうと、例えば、検出手段の検出結果を適切な画像として再構成できないといった問題が発生するおそれがあった。
【０００６】
この発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、開口部の側壁で反射されて放射線検出手段に向かう放射線の発生を抑えることが可能となる放射線遮蔽板および当該放射線遮蔽板を備えた放射線撮像装置の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明にかかる放射線撮像装置は、上記目的を達成するために、一方主面から当該一方主面と反対の他方主面へ貫通する開口部が設けられるとともに、開口部以外の部分で放射線を遮蔽する遮蔽板と、遮蔽板の一方主面側に設けられて、放射線を発生する放射線源と、遮蔽板の他方主面側に設けられて、放射線源から射出された後に開口部を通過して被検体を透過した放射線を検出する放射線検出手段とを備え、開口部の側壁は、遮蔽板を平面視した場合において開口部が多角形の形状を有するように当該多角形の各辺に対応する複数の面を有し、開口部の側壁が有する複数の面のうち少なくとも一つは、遮蔽板の一方主面に対して斜めに傾いていることを特徴としている。
【０００８】
このように構成された発明（放射線撮像装置）では、遮蔽板はその一方主面から他方主面へ貫通する開口部を有するとともに、放射線源は遮蔽板の一方主面側に設けられ、放射線検出手段は遮蔽板の他方主面側に設けられている。したがって、放射線源で発生した放射線は、遮蔽板の一方主面から他方主面に向けて開口部を通過した後に、被検体を透過して放射線検出手段により検出される。また、この開口部の側壁は、遮蔽板の法線方向からの平面視において多角形の形状を有するように当該多角形の各辺に対応する複数の面を有している。そして、開口部の側壁が有する複数の面のうち少なくとも一つは、遮蔽板の一方主面に対して斜めに傾いている。
【０００９】
この際、遮蔽板の一方主面に対して斜めに傾いている面（傾斜面）の傾き方としては、遮蔽板の一方主面側を向いて傾く場合と遮蔽板の他方主面側を向いて傾く場合の２通りがあるが、いずれの場合においても、開口部の側壁で反射されて放射線検出手段に向かう放射線の発生を抑制できる。つまり、傾斜面が一方主面側を向く場合には、この傾斜面に入射した放射線は、放射線検出手段の設けられた他方主面側よりはむしろ一方主面側に反射されることとなる。逆に、傾斜面が他方主面側を向く場合には、当該傾斜面は放射線が入射してくる一方主面側と反対を向くこととなるため、当該傾斜面へ入射する放射線の量そのものを減少させることができる。したがって、このような傾斜面を開口部の側壁に設けておくことで、側壁に入射した放射線を放射線検出手段の逆側（一方主面側）に反射し、あるいは側壁へ入射するの放射線の量そのものを減少させることができ、その結果、開口部の側壁で反射されて放射線検出手段に向かう放射線の発生を抑えることが可能となる。
【００１０】
ちなみに、遮蔽板の一方主面に対して斜めに傾いている面が遮蔽板の一方主面側を向いている装置においては、以下のように構成しても良い。
【００１１】
つまり、遮蔽板の一方主面に対して斜めに傾いている面と遮蔽板の一方主面とが成す角度は１３５度以上で且つ１８０度未満であるように構成しても良い。このように構成することで、入射した放射線を一方主面側に効率的に反射する傾斜面の機能を効率的に発揮させて、開口部の側壁で反射されて放射線検出手段に向かう放射線の発生を効果的に抑えることが可能となる。
【００１２】
上述のとおり、開口部側壁に設けられた傾斜面を一方主面側を向ける理由は、傾斜面に入射した光を一方主面側に反射して、他方主面側に設けられた放射線検出手段へ開口部側壁での反射光が入射することを抑制するという効果にある。このとき、かかる効果をより効率的に発揮させるためには、一方主面に対して傾かない状態では入射してきた放射線を他方主面側に反射してしまいやすい面を、傾斜面として構成しておくことが好適となる。より具体的には、放射線源と開口部との位置関係によって、開口部の側壁が有する複数の面それぞれが放射線を放射線検出手段側に反射しやすい場合や、開口部の側壁のうち一部の面のみが放射線を放射線検出手段側に反射しやすい場合が考えられる。このような場合に、放射線を放射線検出手段側に反射しやすい面については、一方主面側に向けておくことが好適となる。そこで、以下のように構成しても良い。
【００１３】
つまり、遮蔽板を平面視した場合において開口部がみせる多角形を、遮蔽板の一方主面を含む仮想平面に正射影した図形の幾何重心を開口部の中心と定義したとき、開口部の中心と放射線源が遮蔽板の一方主面の法線方向に対して平行に並ぶ放射線撮像装置においては、開口部の側壁が有する複数の面のそれぞれが、一方主面に対して傾かない状態では、放射線を放射線検出手段側に反射しやすいと想定される。そこで、開口部の側壁が有する複数の面のそれぞれが、遮蔽板の一方主面に対して斜めに傾いて、遮蔽板の一方主面側を向いているように構成しても良い。このように構成することで、開口部の側壁に入射した放射線を一方主面側に効率的に反射して、開口部の側壁で反射されて放射線検出手段に向かう放射線の発生をより確実に抑制することができる。
【００１４】
あるいは、遮蔽板を平面視した場合において開口部がみせる多角形を、遮蔽板の一方主面を含む仮想平面に正射影した図形の幾何重心を開口部の中心と定義したとき、開口部の中心と放射線源が遮蔽板の一方主面の法線方向に対して傾いて並ぶ放射線撮像装置においては、開口部の側壁が有する面のうち次の条件を満たす面が、一方主面に対して傾かない状態では、放射線を放射線検出手段側に反射しやすいと想定される。すなわち、放射線源から開口部の中心に向かうベクトルを第１のベクトルと定義し、遮蔽板の一方主面を含む仮想平面に第１のベクトルを正射影したベクトルを第２のベクトルと定義したとき、開口部の側壁が有する複数の面のうち第２のベクトルに平行な面が特に、多くの放射線を放射線検出手段側に反射しやすいと想定される。そこで、この第２のベクトルに平行な面が、遮蔽板の一方主面に対して斜めに傾いて、遮蔽板の一方主面側を向いているように構成しても良い。このように構成することで、開口部の側壁に入射した放射線を一方主面側に効率的に反射して、開口部の側壁で反射されて放射線検出手段に向かう放射線の発生をより確実に抑制することができる。
【００１５】
ちなみに、開口部の側壁が有する複数の面のうち、第２のベクトルに対して平行でなくて且つ第２のベクトルの方向の逆側を向く面は、遮蔽板の一方主面に対して斜めに傾いて、遮蔽板の他方主面側を向いているように構成しても良い。このように、当該面を他方主面側に向けることで、当該面へ入射する放射線の量そのものを減少させて、開口部の側壁で反射されて放射線検出手段に向かう放射線の発生を抑えることができる。
【００１６】
また、遮蔽板に複数の開口部を設けることもできる。このような場合、各開口部と放射線源との位置関係に応じて、各開口部の側壁のうち、一方主面に対して傾かない状態では、放射線を放射線検出手段側に反射しやすい面を一方主面側に向けておくことが好適となる。すなわち、遮蔽板を平面視した場合において開口部がみせる多角形を、遮蔽板の一方主面を含む仮想平面に正射影した図形の幾何重心を開口部の中心と定義したとき、複数の開口部が遮蔽板に設けられるとともに、複数の開口部のうち一の開口部の中心と放射線源が遮蔽板の一方主面の法線方向に対して平行に並ぶ一方、複数の開口部のうち一の開口部とは別の他の開口部の中心と放射線源が遮蔽板の一方主面の法線方向に対して傾いて並ぶ放射線撮像装置においては、一の開口部の側壁が有する複数の面のそれぞれが、遮蔽板の一方主面に対して斜めに傾いて、遮蔽板の一方主面側を向いている一方、放射線源から他の開口部の中心に向かうベクトルを第１のベクトルと定義し、遮蔽板の一方主面を含む仮想平面に第１のベクトルを正射影したベクトルを第２のベクトルと定義したとき、他の開口部の側壁が有する複数の面のうち第２のベクトルに平行な面が、遮蔽板の一方主面に対して斜めに傾いて、遮蔽板の一方主面側を向いているように構成しても良い。
【００１７】
ところで、上述したとおり、遮蔽板の一方主面に対して斜めに傾いている面が遮蔽板の他方主面側を向いているように構成することによっても、開口部の側壁で反射されて放射線検出手段に向かう放射線の発生を抑えることができる。これは、他方主面側に向けることで、傾斜面へ入射する放射線の量そのものを減少できることによる。ちなみに、放射線源と開口部との位置関係によっては、開口部の側壁が有する複数の面の間で、当該壁面に向かって進行してくる放射線の量に違いが生じることがある。したがって、比較的多くの放射線が進行してくる面を他方主面側に向けて、当該面へ入射する放射線の量を減少させるように構成しても良い。
【００１８】
つまり、遮蔽板を平面視した場合において開口部がみせる多角形を、遮蔽板の一方主面を含む仮想平面に正射影した図形の幾何重心を開口部の中心と定義したとき、開口部の中心と放射線源が遮蔽板の一方主面の法線方向に対して傾いて並ぶ放射線撮像装置においては、放射線源から開口部の中心に向かうベクトルを第１のベクトルと定義し、遮蔽板の一方主面を含む仮想平面に第１のベクトルを正射影したベクトルを第２のベクトルと定義したとき、開口部の側壁が有する複数の面のうち、第２のベクトルに対して平行でなくて且つ第２のベクトルの方向の逆側を向く面に向かって、より多くの放射線が進行してくると想定される。したがって、当該面が遮蔽板の一方主面に対して斜めに傾いて、遮蔽板の他方主面側を向いているように構成しても良い。
【００１９】
また、本発明にかかる放射線遮蔽板は、上記目的を達成するために、一方主面から当該一方主面と反対の他方主面へ貫通する開口部が設けられるとともに、開口部以外の部分で放射線を遮蔽する板状部材を備え、開口部の側壁は、板状部材を平面視した場合において開口部が多角形の形状を有するように当該多角形の各辺に対応する複数の面を有し、開口部の側壁が有する複数の面のうち少なくとも一つは、板状部材の一方主面に対して斜めに傾いていることを特徴としている。
【００２０】
このように構成された発明（放射線遮蔽板）では、放射線を遮蔽する板状部材はその一方主面から他方主面へ貫通する開口部を有する。そして、この開口部の側壁は、板状部材の平面視において多角形の形状を有するように当該多角形の各辺に対応する複数の面を有している。そして、開口部の側壁が有する複数の面のうち少なくとも一つは、遮蔽板の一方主面に対して斜めに傾いている。したがって、この放射線遮蔽板を放射線源と放射線検出手段の間に配置することで、開口部の側壁に入射した放射線を放射線検出手段の逆側に反射し、あるいは側壁へ入射するの放射線の量そのものを抑えることができ、その結果、開口部の側壁で反射されて放射線検出手段に向かう放射線の発生を抑えることが可能となる。
【発明の効果】
【００２１】
開口部の側壁に入射した放射線を放射線検出手段の逆側に反射し、あるいは側壁へ入射するの放射線の量そのものを抑えて、開口部の側壁で反射されて放射線検出手段に向かう放射線の発生を抑えることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明にかかる放射線撮像装置を搭載した部品検査装置の概略構成を示す模式図である。
【図２】図１の部品検査装置が備える電気的構成を示すブロック図である。
【図３】Ｘ線撮像装置で実行されるＸ線撮像動作の一例を示す模式図である。
【図４】Ｘ線遮蔽板の概略構成を示す平面図である。
【図５】一方向傾斜面あるいは他方向傾斜面として形成される面の条件を説明する斜視図である。
【図６】図４のＡ1−Ａ1線断面を示す断面図である。
【図７】図４のＢ1−Ｂ1線断面を示す断面図である。
【図８】遮蔽板の一方主面側を向いて傾く一方向傾斜面の効果の説明図である。
【図９】遮蔽板の他方主面側を向いて傾く他方向傾斜面の効果の説明図である。
【図１０】一方向傾斜面の角度と一方向傾斜面で反射されるＸ線との関係を示す図である。
【図１１】遮蔽板の変形例を示す平面図である。
【図１２】遮蔽板の別の変形例を示す平面図である。
【図１３】遮蔽板のさらに別の変形例を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
図１は本発明にかかる放射線撮像装置を搭載した部品検査装置の概略構成を示す模式図である。図２は、図１の部品検査装置が備える電気的構成を示すブロック図である。なお、図１および後で説明する図面では、各図の方向関係を明確にするために、ＸＹＺ直角座標軸が適宜示されている。また、各座標軸の矢印方向を正方向とし、矢印と反対方向を負方向とする。
【００２４】
部品検査装置１は、基板Ｗ（ワーク）に電子部品を接続する半田の状態を主に検査するものである。この部品検査装置１は、部品検査を実行する各機能部を収容するハウジング１１を備えており、ハウジング１１の搬入口１１１から搬入されてきた基板Ｗに対して各機能部が協働して検査を行なうとともに、検査を終了した基板Ｗを搬出口１１２から外部へ搬出する。
【００２５】
図１に示すように、ハウジング１１内の下方には、ＸＹ
駆動テーブル３が配置されている。このＸＹ駆動テーブル３は、その表面に基板Ｗを支持しつつ、ＸＹ駆動機構３１からの駆動力を受けてＸＹ面内を移動可能に構成されている。したがって、ＸＹ駆動テーブル３は、ハウジング１１のＹ軸方向正側（図１右側）の搬入口１１１まで移動して基板Ｗを受け取ったり、部品検査のためにハウジング１１の略中央に基板Ｗを位置決めしたり（図１に示す状態）、ハウジング１１のＹ軸方向負側（図１左側）の搬出口１１２まで検査済み基板Ｗを運んだりといった動作を行なうことができる。
【００２６】
また、この部品検査装置１は、光学撮像による検査を行なう光学撮像装置５（図２）と、Ｘ線（放射線）撮像による検査を行なうＸ線撮像装置７（図２）とを具備する。図１に示すように、光学撮像装置５は、照明５１、ミラー５３および光学カメラ５５より構成される。照明５１は、上部が開口したドーム形状を有しており、ハウジング１１の略中央にある基板ＷをＺ軸方向正側（図１上側）から囲んで、当該基板Ｗに対して光を照射する。ミラー５３は、照明５１の開口５１１の上方に配置されており、照明５１により照らされた基板Ｗの姿を写す。そして、光学カメラ５５はミラー５３に写った像を撮像して、この撮像結果をコントローラー１００（図２）へと出力する。こうして、光学撮像装置５が撮像した映像に基づいて、コントローラー１００は、電子部品の端子の前面側に存在する半田（いわゆるフロントフィレット）の状態を確認する。
【００２７】
一方、Ｘ線撮像装置７は、Ｘ線放射部７１およびＸ線検出部７３（Ｘ線カメラ）を備える。Ｘ線放射部７１はハウジング１１の略中央にある基板ＷのＺ軸方向正側（図１上側）に配置されており、Ｘ線源７１１が発生したＸ線をＺ軸方向負側（図１下側）へ放射する。一方、Ｘ線検出部７３は、基板ＷのＺ方向負側に配置されており、Ｘ線ＣＣＤ(Charge Coupled Device)等で構成されている。このように、Ｘ線放射部７１とＸ線検出部７３は、部品検査位置の基板Ｗを挟むように配置されており、Ｘ線放射部７１から放射されたＸ線は、部品検査位置の基板Ｗを透過した後にＸ線検出部７３に入射する。そして、Ｘ線検出部７３は、Ｘ線を検出した結果をコントローラー１００（図２）へと出力する。こうしてＸ線撮像装置７が撮像した映像に基づいて、コントローラー１００は、電子部品の端子の背面側に存在する半田（いわゆる、ヒールフィレット）の状態を確認する。
【００２８】
ちなみに、このＸ線撮像装置７は、基板Ｗに入射するＸ線の角度を変えながら、基板ＷのＸ線撮像を複数回実行することができる。具体的には、ＸＹ駆動テーブル３によってＸＹ面内で基板Ｗを移動させることで、Ｘ線放射部のＸ線源７１１と基板Ｗの相対位置を変化させ、これに応じて、Ｘ線源７１１から基板Ｗへ向かう放射線と基板Ｗとの角度を変化させる。そして、所望の角度で放射線が入射する位置に基板Ｗを位置決めしてＸ線撮像を行う動作を、角度を変化させながら実行する。このとき、基板Ｗを透過した放射線をＸ線検出部７３で確実に検出するためには、基板Ｗの移動に応じてＸ線検出部７３も移動させる必要がある。そこで、このＸ線検査装置１では、Ｘ線検出部７３をＸＹ面内で駆動するＸＹ駆動機構７７が備えられている。
【００２９】
続いて図２を用いて、コントローラー１００の動作の詳細について説明する。コントローラー１００は、コントローラー１００で実行される制御動作を統括的に管理するために、ＣＰＵ(Central Processing Unit)等で構成された装置制御演算処理部１０１を備える。また、コントローラー１００は、ＸＹ駆動機構３１、７７（図１）の駆動源である各モーターを制御するモーター制御部１０２を備える。つまり、ＸＹ駆動機構３１、７７は、モーター制御部１０２からの指令に応じて、ＸＹ駆動テーブル３やＸ線検出部７３を移動して位置決めする。さらに、コントローラー１００は、光学撮像装置５およびＸ線撮像装置７の撮像結果を処理するために、画像処理部１０３および検査判定処理部１０４を備える。この画像処理部１０３は、光学撮像装置５およびＸ線撮像装置７の撮像結果を受信して、例えばＸ線撮像結果の再構成等に必要な演算処理を当該撮像結果に施す。そして、検査判定処理部１０４は、画像処理部１０３による処理を経た撮像結果に基づいて、半田の状態の良否を判定する。
【００３０】
以上が、部品検査装置１の概略構成である。続いて、部品検査装置１が備えるＸ線撮像装置７の詳細について説明する。上述したとおり、Ｘ線撮像装置７は、Ｘ線源７１１と基板Ｗの相対位置を変化させることで、Ｘ線源７１１から基板Ｗへ向かう放射線と基板Ｗとの角度を変化させながらＸ線撮像を実行する（図３）。
【００３１】
図３は、Ｘ線撮像装置で実行されるＸ線撮像動作の一例を示す模式図である。同図では、３つの基板Ｗと３つのＸ線検出部７３が示されているが、これは基板ＷおよびＸ線検出部７３が３つずつあることを示すものではなく、基板ＷおよびＸ線検出部７３が図３で示された各位置に移動可能であることを示している。また、同図では、基板Ｗの位置ＰwおよびＸ線検出部７３の位置Ｐcには座標(θx,θy)が併記されている。ここで、位置Ｐw（θx,θy）は、Ｘ軸方向に角度θxでかつＹ軸方向に角度θyの入射角でＸ線が基板Ｗ（の中心）に入射する基板Ｗの位置を示している。また、位置Ｐc（θx,θy）は、位置Ｐc（θx,θy）にある基板Ｗを透過したＸ線を検出するＸ線検出部７３の位置を示しており、位置Ｐc（θx,θy）にあるＸ線検出部７３は、位置Ｐw（θx,θy）にある基板ＷとＸ線源７１１と略一直線に並ぶ。図３では、Ｘ軸方向の角度を０°に固定して、Ｙ軸方向の角度を４５°毎に変化させた場合が示されている。なお、これから説明する例では、図３に示す３つの角度状態（０°,−４５°）、（０°,０°）、（０°,４５°）以外に、６つの角度状態（−４５°,０°）、（４５°,０°）、（−４５°, −４５°）、（−４５°, ４５°）、（４５°, −４５°）、（４５°,４５°）のそれぞれでＸ線撮像が可能であるように構成されている。
【００３２】
また、図３に示すように、この実施形態にかかるＸ線撮像装置７では、被検体である基板Ｗや電子部品等の被爆量を最小限に抑えるために、遮蔽板７５（放射線遮蔽板）が用いられる。この遮蔽板７５は平板形状を有しており、その一方主面７５aの法線がＺ軸方向と平行となるように、Ｘ線源７１１と基板Ｗとの間に配置されている。このとき、遮蔽板７５は、その一方主面７５aをＺ軸方向正側に向けるとともに、その他方主面７５bをＺ軸方向負側に向けた状態で、Ｘ線源７１１と基板Ｗとの間に配置される。さらに、遮蔽板７５には、一方主面７５aから他方主面７５bまで貫通する開口部Ａp（コリメータ）が形成されている。そして、Ｘ線源７１１から放射されたＸ線のうち、開口部Ａpを通過したＸ線が基板Ｗを透過してＸ線検出部７３に到達する一方、遮蔽板７５の開口部Ａp以外の部分に入射したＸ線は遮蔽されることとなる。つまり、開口部Ａpは通過するＸ線を絞ってＸ線の照射野を規定することで、被検体への被爆量を最小限に抑えるものである。かかる開口部Ａpは、上述した９つの角度状態に対応して９個形成されている（図４）。
【００３３】
図４は、Ｘ線遮蔽板の概略構成を示す平面図である。図４では、Ｚ軸方向正側から平面視した遮蔽板７５が示されるとともに、当該平面視においてＺ軸方向に貫通して見える開口部Ａpが白抜きで表され、その他の部分にはドットあるいは斜線のハッチングが施されている。特に、ドットのハッチングが施された部分は、遮蔽板７５の一方主面７５aを示す。また、同図では、開口部Ａpに座標（θx,θy）が併記されている。ここで、開口部Ａp（θx,θy）は、角度状態（θx,θy）に対応する開口部である。すなわち、開口部Ａp（θx,θy）は、Ｘ線源７１１、基板の位置Ｐw（θx,θy）およびＸ線検出部７３の位置Ｐc（θx,θy）が並ぶ直線上に位置して、位置Ｐw（θx,θy）にある基板Ｗに対して照射野を規定する機能を果たす。図３を併用しつつ具体例を挙げて説明すると、開口部Ａp（０°、４５°）（図３における右端の開口部Ａp）は、Ｘ線源７１１、基板の位置Ｐw（０°、４５°）およびＸ線検出部７３の位置Ｐc（０°、４５°）が並ぶ直線上に位置して、位置Ｐw（０°、４５°）にある基板Ｗに対する照射野を規定する機能を果たす。
【００３４】
図４に示すように、遮蔽板７５には、中央部に位置する開口部Ａp（０°、０°）とこれを取り囲む８個の開口部Ａpを併せた合計９個の開口部Ａpが形成されている。中央部の開口部Ａp（０°、０°）のＺ軸方向正側（図３の上側）にはＸ線源７１１が正対（直視）しており、中央部の開口部Ａp（０°、０°）（の中心）とＸ線源７１１はＺ軸方向に平行に並んでいる。したがって、Ｘ線源７１１からの放射線は、Ｚ軸方向（一方主面７５aの法線方向）から中央部の開口部Ａp（０°、０°）へ入射する。一方、図４において、中央部の開口部Ａp（０°、０°）の上下左右に並ぶ開口部Ａp（−４５°、０°）、Ａp（４５°、０°）、Ａp（０°、−４５°）、Ａp（０°、４５°）に対しては、Ｘ線源７１１は４５°傾いた位置にあり、これらの開口部Ａp（の中心）とＸ線源７１１はＺ軸方向に対して４５°傾いて並んでいる（斜視）。したがって、Ｘ線源７１１からの放射線は、Ｚ軸方向（一方主面７５aの法線方向）に対して４５°傾いた方向からこれらの開口部Ａpへ入射する。さらに、遮蔽板７５の四隅にある開口部Ａp（−４５°、―４５°）、Ａp（４５°、−４５°）、Ａp（−４５°、４５°）、Ａp（４５°、４５°）に対しては、Ｘ線源７１１はＸ軸およびＹ軸の両方向に４５°傾いており（斜視）、放射線は、Ｚ軸方向（一方主面７５aの法線方向）に対して４５°よりも大きく傾いて開口部Ａpへ入射する。
【００３５】
各開口部Ａpは、Ｚ軸方向からの平面視において図４にて白抜きで示される四角形の形状を有するように、四角形の各辺に対応する４つの面で構成されている。そして、図４において、中央と上下左右に位置する５つの開口部Ａpについては、各開口部Ａpの側壁が有するこれらの面のうちの一部あるいは全部が、遮蔽板７５の一方主面７５aに対して斜めに傾いている。このとき、遮蔽板７５の一方主面７５aに対して斜めに傾いている面（傾斜面）の傾き方としては、遮蔽板７５の一方主面７５a側（Ｚ軸方向正側）を向いて傾く場合と遮蔽板７５の他方主面７５b側（Ｚ軸方向負側）を向いて傾く場合の２通りがある。図４に示すＺ軸方向正側からの平面視において、一方主面７５a側を向く傾斜面（一方向傾斜面）は見えるため斜線のハッチングで示される一方、他方主面７５b側を向く傾斜面（他方向傾斜面）は遮蔽板７５の一方主面７５aに隠れて見えないため示されていない。
【００３６】
より詳しくは、開口部Ａpの側壁が有する面のうち、図５を用いて説明する条件を満たす面を一方向傾斜面あるいは他方向傾斜面として構成している。図５は、一方向傾斜面あるいは他方向傾斜面として形成される面の条件を説明する斜視図である。図５において、符号Ｐapは、遮蔽板７５を平面視した場合において開口部Ａpがみせる四角形（図４の白抜きで示された四角形）を、遮蔽板７５の一方主面７５aを含む仮想平面に正射影（Ｚ軸方向から射影）した図形である。また、図５において、符号Ｃapは開口部Ａpの射影図Ｐapの幾何重心である。ここで、この幾何重心Ｃapを開口部Ａpの中心と定義し、Ｘ線源７１１から開口部Ａpの中心Ｃapに向かうベクトルを第１のベクトルＶ1と定義し、遮蔽板７５の一方主面７５aを含む仮想平面に第１のベクトルＶ1を正射影したベクトルを第２のベクトルＶ2と定義する。
【００３７】
そして、開口部Ａpの側壁を構成する面のうち、第２のベクトルＶ2に平行な面（図５の辺Ｌ1、Ｌ2に対応する面）が一方向傾斜面として形成される。したがって、図４において斜線のハッチングで示すように、中央部の開口部Ａp（０°、０°）の４面、左右に位置する開口部Ａp（０°、−４５°）、Ａp（０°、４５°）の上下の２面、および上下に位置する開口部部Ａp（−４５°、０°）、Ａp（４５°、０°）の左右の２面は一方向傾斜面として形成される。なお、中央の開口部Ａp（０°、０°）の中心ＣapとＸ線源７１１とはＺ軸方向に平行に並ぶ。したがって、中央の開口部Ａp（０°、０°）については、第１のベクトルＶ1が遮蔽板７５の一方主面７５aを含む仮想平面に対して直交するため、第２のベクトルＶ2はゼロベクトルとなる。そこで、このゼロベクトルに対しては中央の開口部Ａp（０°、０°）の側壁の各面は平行であると、ここでは取り扱う。
【００３８】
一方、開口部Ａpの側壁を構成する面のうち、第２のベクトルＶ2に対して平行でなくて且つ第２のベクトルＶ2の方向の逆側を向く面（図５の辺Ｌ3に対応する面）が他方向傾斜面として形成される。したがって、図４において、左に位置する開口部Ａp（０°、−４５°）の左側の１面、右に位置する開口部Ａp（０°、４５°）の右側の１面、上に位置する開口部Ａp（−４５°、０°）の上側の１面、および下に位置する開口部Ａp（４５°、０°）の下側の１面は他方向傾斜面として形成される。続いて、これら一方向傾斜面・他方向傾斜面を有する開口部Ａpの断面について、図６および図７を併用しつつ説明する。
【００３９】
図６は、図４のＡ1−Ａ1線断面を示す断面図である。図７は、図４のＢ1−Ｂ1線断面を示す断面図である。これらの図では破線円で示すように部分的に拡大した図が併記されている。なお、この拡大図では、開口部Ａpの側壁の面と遮蔽板７５の一方主面７５aとの角度が示されている。
【００４０】
先ずは、図６に示す断面から説明を行う。図６に示すように、開口部Ａp（０°、−４５°）の側壁のうちＹ軸方向負側（同図左側）の面Ｓalは、遮蔽板７５の一方主面７５aに対して４５°の角度で傾いた平面であり、遮蔽板７５の他方主面７５b側を向いた他方向傾斜面である。一方、開口部Ａp（０°、−４５°）の側壁のうちＹ軸方向正側（同図右側）の面Ｓarは、遮蔽板７５の一方主面７５aに対して垂直な平面である。また、開口部Ａp（０°、０°）の側壁のうちＹ軸方向の両側の２つの面Ｓbl、Ｓbrそれぞれは、遮蔽板７５の一方主面７５aに対して１３５°の角度で傾いた平面であり、遮蔽板７５の一方主面７５a側を向いた一方向傾斜面である。また、開口部Ａp（０°、４５°）の側壁のうちＹ軸方向負側（同図左側）の面Ｓclは、遮蔽板７５の一方主面７５aに対して垂直な平面である。一方、開口部Ａp（０°、４５°）の側壁のうちＹ軸方向正側（同図右側）の面Ｓcrは、遮蔽板７５の一方主面７５aに対して４５°の角度で傾いた平面であり、遮蔽板７５の他方主面７５b側を向いている。なお、Ａ2−Ａ2線（図４）における断面図も図６に示した断面図と同様となる。
【００４１】
続いて、図７に示す断面について説明を行なう。図７に示すように、開口部Ａp（−４５°、−４５°）の側壁のうちＹ軸方向の両側の２つの面Ｓdl、Ｓdrそれぞれは、遮蔽板７５の一方主面７５aに対して垂直な平面である。また、開口部Ａp（−４５°、０°）の側壁のうちＹ軸方向の両側の２つの面Ｓel、Ｓerそれぞれは、遮蔽板７５の一方主面７５aに対して１３５°の角度で傾いた平面であり、遮蔽板７５の一方主面７５a側を向いた一方向傾斜面である。また、開口部Ａp（−４５°、４５°）の側壁のうちＹ軸方向の両側の２つの面Ｓfl、Ｓfrそれぞれは、遮蔽板７５の一方主面７５aに対して垂直な平面である。なお、Ｂ2−Ｂ2〜Ｂ4−Ｂ4線（図４）における断面図も図７に示した断面図と同様になる。
【００４２】
以上のように、本実施形態におけるＸ線撮像装置７では、遮蔽板７５はその一方主面７５aから他方主面７５bへ貫通する開口部Ａpを有するとともに、Ｘ線源７１１は遮蔽板７５の一方主面７５a側に設けられ、Ｘ線検出部７３は遮蔽板７５の他方主面７５b側に設けられている。したがって、Ｘ線源７１１で発生したＸ線は、遮蔽板７５の一方主面７５aから他方主面７５bに向けて開口部Ａpを通過した後に、被検体を透過してＸ線検出部７３により検出される。また、この開口部Ａpの側壁は、遮蔽板７５の法線方向（Ｚ軸方向）からの平面視において四角形の形状を有するように当該四角形の各辺に対応する４つの面を有している。そして、開口部Ａpの側壁が有する４つの面のうち少なくとも一つは、遮蔽板７５の一方主面７５aに対して斜めに傾いている。
【００４３】
この際、遮蔽板７５の一方主面７５aに対して斜めに傾いている面（傾斜面）の傾き方としては、遮蔽板７５の一方主面７５a側を向いて傾く場合と遮蔽板７５の他方主面７５b側を向いて傾く場合の２通りがあるが、いずれの場合においても、開口部Ａpの側壁で反射されてＸ線検出部７３に向かう放射線の発生を抑制できる。これについて、図８および図９を用いて説明する。図８は、遮蔽板の一方主面側を向いて傾く一方向傾斜面の効果の説明図である。図９は、遮蔽板の他方主面側を向いて傾く他方向傾斜面の効果の説明図である。なお、図８および図９の破線は、遮蔽板７５の一方主面７５aに対して垂直に形成された開口部Ａpの側壁の面Ｓであり、比較のために示されている。
【００４４】
図８では、開口部Ａpの側壁の面Ｓが一方主面側を向く一方向傾斜面として構成されている。同図に示すように、開口部Ａpの側壁の面Ｓが遮蔽板７５の一方主面７５aに垂直である場合には、面Ｓに入射したＸ線ＬＩは、Ｘ線検出部７３の設けられた他方主面７５b側に反射される傾向にある（図８の反射Ｘ線ＬＲb(-)）。一方、開口部Ａpの側壁の面Ｓが一方向傾斜面として構成されている場合には、この傾斜面Ｓに入射したＸ線ＬIは、Ｘ線検出部７３の設けられた他方主面７５b側よりはむしろ一方主面７５a側に反射されることとなる（図８の反射Ｘ線ＬＲb(+)）。
【００４５】
一方、図９では、図８と逆に、開口部Ａpの側壁の面Ｓが他方主面側を向く他方向傾斜面として構成されている。同図に示すように、開口部Ａpの側壁の面Ｓが遮蔽板７５の一方主面７５aに垂直である場合には、面Ｓに入射したＸ線ＬＩは、Ｘ線検出部７３の設けられた他方主面側に反射される傾向にある（図９の反射Ｘ線ＬＲb(-)）。一方、開口部Ａpの側壁の面Ｓが他方向傾斜面として構成されている場合には、当該傾斜面ＳはＸ線が入射してくる一方主面７５a側と反対を向くこととなるため、Ｘ線ＬＩは傾斜面Ｓに入射すること無く通過する傾向にあり、当該傾斜面Ｓへ入射するＸ線の量そのものを減少させることができる。
【００４６】
つまり、図８および図９に示したような傾斜面Ｓを開口部Ａpの側壁に設けておくことで、開口部Ａpの側壁に入射した放射線をＸ線検出部７３の逆側（一方主面側）に反射し、あるいは開口部Ａpの側壁へ入射するのＸ線の量そのものを減少させることができ、その結果、開口部Ａpの側壁で反射されてＸ線検出部７３に向かうＸ線の発生を抑えることが可能となる。
【００４７】
また、上記実施形態では、つまり、一方向傾斜面と遮蔽板７５の一方主面７５aとが成す角度は１３５度以上で且つ１８０度未満であるように構成している。このように構成した場合、入射したＸ線を一方主面７５a側に効率的に反射する一方向傾斜面の機能を効率的に発揮させて、開口部Ａpの側壁で反射されてＸ線検出部７３に向かうＸ線の発生を効果的に抑えることが可能となる。この理由について、図１０を用いて説明すると次のとおりである。
【００４８】
図１０は、一方向傾斜面の角度と一方向傾斜面で反射されるＸ線との関係を示す図である。なお、Ｘ線が散乱される態様としては、弾性散乱、レーリー散乱、コンプトン散乱など複数のものがあるが、図１０では弾性散乱のみを想定する。ここでは、開口部Ａpの壁面に設けられた一方向傾斜面Ｓで反射されたＸ線が他方主面７５b側（Ｚ軸方向負側）に向かわずに、一方主面７５a側（Ｚ軸方向正側）に向かう場合を考える。特に、被反射Ｘ線が他方主面７５b側にぎりぎり向かわない条件、言い換えれば、被反射Ｘ線が図１０に示すＸ線ＬＲ(0)ようにＺ軸方向に直交する方向（真横）に向う条件を求める。そして、これから、被反射Ｘ線が他方主面７５b側に確実に向かわないために、一方向傾斜面Ｓが満たす角度を求める。
【００４９】
被反射Ｘ線が図１０の真横に向かう場合、図１０から、次式
Ｒx＋９０°＋Ｒc＋Ｒx＝１８０°
が成立し、これを変形すると、
Ｒc＝９０°−２×Ｒx …式１
となる。ここで、角度Ｒcは、Ｘ線ＬＩの入射角であり、角度Ｒxは、一方向傾斜面ＳとＺ軸とが成す角度である。ここで、角度Ｒcは０°よりは大きい角度であるので、これを式１に適用すると、次式、
Ｒc＝９０°−２×Ｒx＞０° …式２
が得られ、さらにこれを変形して、
４５°＞Ｒx …式３
となる。つまり、この式３が、被反射Ｘ線が他方主面７５b側にぎりぎり向かわない条件での角度Ｒx（限界角）となる。逆に言うと、角度Ｒxを４５°以上とすることで、一方向傾斜面Ｓに入射するＸ線を、一方主面７５a側に確実に反射することが可能となる。すなわち、上記実施形態のように、一方向傾斜面Ｓと遮蔽板７５の一方主面７５aとが成す角度（＝９０°＋Ｒx）を１３５度以上で且つ１８０度未満であるように構成することで、一方向傾斜面Ｓに入射するＸ線を、一方主面７５a側に確実に反射することが可能となる。
【００５０】
図８を用いて説明したとおり、開口部Ａpの側壁に設けられた傾斜面を一方主面７５a側を向ける理由は、傾斜面に入射した光を一方主面７５a側に反射して、他方主面７５b側に設けられたＸ線検出部７３へ開口部Ａpの側壁での反射光が入射することを抑制するという効果にある。このとき、かかる効果をより効率的に発揮させるためには、一方主面７５aに対して傾かない状態では入射してきたＸ線を他方主面７５b側に反射してしまいやすい面を、傾斜面として構成しておくことが好適となる。より具体的には、Ｘ線源７１１と開口部Ａpとの位置関係によって、開口部Ａpの側壁が有する複数の面それぞれがＸ線をＸ線検出部７３側に反射しやすい場合や、開口部Ａpの側壁のうち一部の面のみがＸ線をＸ線検出部７３側に反射しやすい場合が考えられる。このような場合に、Ｘ線をＸ線検出部７３側に反射しやすい面については、一方主面７５a側に向けておくことが好適となる。これに対して、上述の実施形態では以下のように構成している。
【００５１】
つまり、その中心ＣapとＸ線源７１１とが遮蔽板７５の一方主面７５aの法線方向に対して平行に並ぶ、（中央の）開口部Ａpにおいては、当該開口部Ａpの側壁が有する複数の面のそれぞれが、一方主面７５aに対して傾かない状態では、Ｘ線をＸ線検出部７３側に反射しやすいと想定される。そこで、図５等を用いて説明した通り、（中央の）開口部Ａpの側壁が有する複数の面のそれぞれは、遮蔽板７５の一方主面７５aに対して斜めに傾いて、遮蔽板７５の一方主面７５a側を向いている。これにより、開口部Ａpの側壁に入射したＸ線を一方主面７５a側に効率的に反射して、開口部Ａpの側壁で反射されてＸ線検出部７３に向かうＸ線の発生をより確実に抑制することができる。
【００５２】
あるいは、その中心ＣapとＸ線源７１１とが遮蔽板７５の一方主面７５aの法線方向に対して傾いてに並ぶ、（左右上下の）開口部Ａpにおいては、開口部Ａpの側壁が有する複数の面のうち第２のベクトルＶ2に平行な面（図５の辺Ｌ1、Ｌ2に対応する面）が特に、多くのＸ線をＸ線検出部７３側に反射しやすいと想定される。そこで、図５等を用いて説明したとおり、第２のベクトルＶ2に平行な面は、遮蔽板７５の一方主面７５aに対して斜めに傾いて、遮蔽板７５の一方主面７５a側を向いている。これにより、開口部Ａpの側壁に入射したＸ線を一方主面７５a側に効率的に反射して、開口部Ａpの側壁で反射されてＸ線検出部７３に向かうＸ線の発生をより確実に抑制することができる。
【００５３】
ところで、図９を用いて説明したとおり、遮蔽板７５の一方主面７５aに対して斜めに傾いている面が遮蔽板７５の他方主面７５b側を向いているように構成することによっても、開口部Ａpの側壁で反射されてＸ線検出部７３に向かうＸ線の発生を抑えることができる。これは、他方主面７５b側に向けることで、傾斜面へ入射するＸ線の量そのものを減少できることによる。ちなみに、Ｘ線源７１１と開口部Ａpとの位置関係によっては、開口部Ａpの側壁が有する複数の面の間で、当該壁面に向かって進行してくるＸ線の量に違いが生じることがある。したがって、比較的多くのＸ線が進行してくる面を他方主面７５b側に向けて、当該面へ入射するＸ線の量を減少させるように構成しても良い。つまり、開口部Ａpの側壁が有する複数の面のうち、第２のベクトルＶ2に対して平行でなくて且つ第２のベクトルＶ2の方向の逆側を向く面（図９の辺Ｌ3に対応する面）に向かって、より多くのＸ線が進行してくると想定される。そこで、上記実施形態では、当該面が遮蔽板７５の一方主面７５aに対して斜めに傾いて、遮蔽板７５の他方主面７５b側を向いている。
【００５４】
また、本実施形態におけるＸ線遮蔽板７５では、Ｘ線を遮蔽する板状部材（遮蔽板７５を構成する平板）はその一方主面７５aから他方主面７５bへ貫通する開口部Ａpを有する。そして、この開口部Ａpの側壁は、遮蔽板７５の法線方向からの平面視において四角形の形状を有するように当該四角形の各辺に対応する４つの面を有している。そして、開口部Ａpの側壁が有する４つの面のうち少なくとも一つは、遮蔽板７５の一方主面７５aに対して斜めに傾いている。したがって、このＸ線遮蔽板７５をＸ線源７１１とＸ線検出部７３の間に配置することで、開口部Ａpの側壁に入射したＸ線をＸ線検出部７３の逆側に反射し、あるいは側壁へ入射するの放射線の量そのものを抑えることができ、その結果、開口部Ａpの側壁で反射されてＸ線検出部７３に向かうＸ線の発生を抑えることが可能となる。
【００５５】
以上のように、本実施形態では、Ｘ線撮像装置７が本発明の「放射線撮影装置」に相当し、遮蔽板７５が本発明の「放射線遮蔽板」に相当している。また、遮蔽板７５が本発明の「遮蔽板」に相当し、一方主面７５aが本発明の「一方主面」に相当し、他方主面７５bが本発明の「他方主面」に相当し、開口部Ａpが本発明の「開口部」に相当している。また、Ｘ線が本発明の放射線に相当し、Ｘ線源７１１が本発明の「放射線源」に相当し、Ｘ線検出部７３が本発明の「放射線検出手段」に相当する。
【００５６】
なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行なうことが可能である。例えば、遮蔽板７５には、一方向傾斜面を有する開口部Ａpおよび他方傾斜面を有する開口部Ａpの両方が形成されている。しかしながら、一方向傾斜面および他方傾斜面のいずれか一方を有する開口部Ａpのみを遮蔽板７５に形成するように構成しても良い。このように構成された遮蔽板７５によっても、開口部Ａpの側壁で反射されてＸ線検出部７３に向かうＸ線の発生を抑えることができる。
【００５７】
また、上記実施形態では、開口部Ａpは、平面視において四角形の形状を有するように構成されているが、平面視において四角形以外の多角形の形状を有するように開口部Ａpを変形することもできる。
【００５８】
また、上記実施形態では、開口部Ａpの側壁に設けた傾斜面を平面で形成したが、例えばアールを付けて丸みを持たせたり、屈曲させたりといった変形も適宜可能である。
【００５９】
また、遮蔽板７５に形成する開口部Ａpの個数も適宜変更が可能であり、上述のものに限られない。
【００６０】
また、遮蔽板７５に形成する開口部Ａpの大きさも適宜変更可能である（図１１）。ここで、図１１は、遮蔽板の変形例を示す平面図である。図１１の遮蔽板７５では、開口部Ａpの大きさが上述した図４の遮蔽板７５の開口部Ａpよりも大きい。なお、図１１と図４とは開口部Ａpの設け方のみが異なり、開口部Ａpの側壁が有する面のうち傾斜面として形成される面や、Ｘ線源７１１との位置関係等は同様である。図１１の遮蔽板７５で開口部Ａpが大きく形成されているのは、ズームアップでＸ線撮像を行うような場合に対応するためである。つまり、ズームアップでＸ線撮像を行う場合では、Ｘ線源７１１を基板Ｗに近づけるため、開口部Ａpはより大きい必要がある。そこで、図１１に示すようなズームアップ用の遮蔽板７５を別途用いることがあるが、このズームアップ用の遮蔽板７５に対しても本発明を適用することで、開口部Ａpの側壁で反射されてＸ線検出部７３に向かうＸ線の発生を抑えることができる。
【００６１】
このとき、ズームアップ用の遮蔽板７５および通常の遮蔽板７５をそれぞれ用意しておき、必要に応じて何れか一方を、Ｘ線源７１１と基板Ｗの間に配置するように構成しても良い。
【００６２】
あるいは、ズームアップ用の遮蔽板７５をＸ線源７１１と基板Ｗの間に常時配置しておくこともできる。さらに、この場合には、通常の遮蔽板７５をズームアップ用の遮蔽板７５とＸ線源７１１との間に着脱可能に構成しておき、ズームアップでＸ線撮像を行う場合は通常の遮蔽板７５を取り外しておく一方、通常のＸ線撮像を行う場合は通常の遮蔽板７５を取り付けるように構成しても良い。
【００６３】
なお、ズームアップ用の遮蔽板７５に形成する開口部Ａpの個数も適宜変更が可能であり、上述のものに限られない。
【００６４】
また、ズームアップ用の遮蔽板７５と通常の遮蔽板７５とをそれぞれ別体で構成する必要はなく、図１２に示すようにこれらを一体に構成しても良い。図１２は、遮蔽板の別の変形例を示す平面図である。図１２の遮蔽板７５は、図１１に示した遮蔽板７５と図４に示した遮蔽板７５を左右に並べて、一体的に形成した構成を具備している。
【００６５】
この際も、遮蔽板７５に設ける開口部Ａpの個数を適宜変更可能であり、例えば、ズームアップ用の大きな開口部Ａpと通常のＸ線撮像ようの小さな開口部Ａpとを一つずつ設けるように構成しても良い。
【００６６】
なお、ズームアップ用の９個の開口部Ａpと通常用の９個の開口部Ａpの合計１８個の開口部Ａpを用いる構成において、１８個の開口部Ａpの配列方法を適宜変更することもできる。具体的には、これら１８個の開口部Ａpを一列あるいは二列で配列したり、円形の平板の円周に１８個の開口部Ａpを並べて配置したりといった変形が可能である。
【００６７】
また、各開口部Ａpの使用頻度に差がある場合は、最も良く使う開口部Ａpを一つだけ設けた遮蔽板７５とその他の複数の開口部Ａpを設けた遮蔽板７５とをそれぞれ用意しても良い（図１３）。図１３は、遮蔽板のさらに別の変形例を示す平面図である。同図の右側の遮蔽板７５には、Ｘ線源７１１を開口部Ａpに正対させて行なう、通常用のＸ線撮像で用いられる開口部Ａp（図４で開口部Ａp（０°、０°））のみが形成されている。このとき、通常用の残りの８個の開口部Ａpとズームアップ用の９個の開口部Ａpとの合計１７個の開口部Ａpを備えた遮蔽板７５を、別に用意しても良いが、同図の左側の遮蔽板７５のように、ズームアップ用の大きさを備える９個の開口部Ａpのみを有する遮蔽板７５を用意しても良い。つまり、この場合には、Ｘ線源７１１を開口部Ａpに対して傾けて行なう斜視撮影では、ズームアップ時も通常時も同図左側の遮蔽板７５が兼用されることとなる。
【符号の説明】
【００６８】
１…部品検査装置
７…Ｘ線撮像装置
７１…Ｘ線放射部
７１１…Ｘ線源
７３…Ｘ線検出部
７５…Ｘ線遮蔽板
７５a…一方主面
７５b…他方主面
７７…ＸＹ駆動機構
Ｖ1…第１のベクトル
Ｖ2…第２のベクトル
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一方主面から当該一方主面と反対の他方主面へ貫通する開口部が設けられるとともに、前記開口部以外の部分で放射線を遮蔽する遮蔽板と、
前記遮蔽板の前記一方主面側に設けられて、放射線を発生する放射線源と、
前記遮蔽板の前記他方主面側に設けられて、前記放射線源から射出された後に前記開口部を通過して被検体を透過した放射線を検出する放射線検出手段と
を備え、
前記開口部の側壁は、前記遮蔽板を平面視した場合において前記開口部が多角形の形状を有するように当該多角形の各辺に対応する複数の面を有し、
前記開口部の側壁が有する前記複数の面のうち少なくとも一つは、前記遮蔽板の前記一方主面に対して斜めに傾いていることを特徴とする放射線撮像装置。
【請求項２】
前記遮蔽板の前記一方主面に対して斜めに傾いている面は、前記遮蔽板の前記一方主面側を向いている請求項１に記載の放射線撮像装置。
【請求項３】
前記遮蔽板の前記一方主面に対して斜めに傾いている面と前記遮蔽板の前記一方主面とが成す角度は１３５度以上で且つ１８０度未満である請求項２に記載の放射線撮像装置。
【請求項４】
前記遮蔽板を平面視した場合において前記開口部がみせる前記多角形を、前記遮蔽板の前記一方主面を含む仮想平面に正射影した図形の幾何重心を前記開口部の中心と定義したとき、前記開口部の中心と前記放射線源が前記遮蔽板の前記一方主面の法線方向に対して平行に並ぶ請求項２または３に記載の放射線撮像装置であって、
前記開口部の側壁が有する前記複数の面のそれぞれが、前記遮蔽板の前記一方主面に対して斜めに傾いて、前記遮蔽板の前記一方主面側を向いている放射線撮像装置。
【請求項５】
前記遮蔽板を平面視した場合において前記開口部がみせる前記多角形を、前記遮蔽板の前記一方主面を含む仮想平面に正射影した図形の幾何重心を前記開口部の中心と定義したとき、前記開口部の中心と前記放射線源が前記遮蔽板の前記一方主面の法線方向に対して傾いて並ぶ請求項２または３に記載の放射線撮像装置であって、
前記放射線源から前記開口部の中心に向かうベクトルを第１のベクトルと定義し、前記遮蔽板の前記一方主面を含む仮想平面に前記第１のベクトルを正射影したベクトルを第２のベクトルと定義したとき、
前記開口部の側壁が有する前記複数の面のうち前記第２のベクトルに平行な面が、前記遮蔽板の前記一方主面に対して斜めに傾いて、前記遮蔽板の前記一方主面側を向いている放射線撮像装置。
【請求項６】
前記開口部の側壁が有する前記複数の面のうち、前記第２のベクトルに対して平行でなくて且つ前記第２のベクトルの方向の逆側を向く面が、前記遮蔽板の前記一方主面に対して斜めに傾いて、前記遮蔽板の前記他方主面側を向いている請求項５に記載の放射線撮像装置。
【請求項７】
前記遮蔽板を平面視した場合において前記開口部がみせる前記多角形を、前記遮蔽板の前記一方主面を含む仮想平面に正射影した図形の幾何重心を前記開口部の中心と定義したとき、複数の前記開口部が前記遮蔽板に設けられるとともに、前記複数の開口部のうち一の開口部の中心と前記放射線源が前記遮蔽板の前記一方主面の法線方向に対して平行に並ぶ一方、前記複数の開口部のうち前記一の開口部とは別の他の開口部の中心と前記放射線源が前記遮蔽板の前記一方主面の法線方向に対して傾いて並ぶ請求項２または３に記載の放射線撮像装置であって、
前記一の開口部の側壁が有する前記複数の面のそれぞれが、前記遮蔽板の前記一方主面に対して斜めに傾いて、前記遮蔽板の前記一方主面側を向いている一方、
前記放射線源から前記他の開口部の中心に向かうベクトルを第１のベクトルと定義し、前記遮蔽板の前記一方主面を含む仮想平面に前記第１のベクトルを正射影したベクトルを第２のベクトルと定義したとき、
前記他の開口部の側壁が有する前記複数の面のうち前記第２のベクトルに平行な面が、前記遮蔽板の前記一方主面に対して斜めに傾いて、前記遮蔽板の前記一方主面側を向いている放射線撮像装置。
【請求項８】
前記遮蔽板の前記一方主面に対して斜めに傾いている面は、前記遮蔽板の前記他方主面側を向いている請求項１に記載の放射線撮像装置。
【請求項９】
前記遮蔽板を平面視した場合において前記開口部がみせる前記多角形を、前記遮蔽板の前記一方主面を含む仮想平面に正射影した図形の幾何重心を前記開口部の中心と定義したとき、前記開口部の中心と前記放射線源が前記遮蔽板の前記一方主面の法線方向に対して傾いて並ぶ請求項８に記載の放射線撮像装置であって、
前記放射線源から前記開口部の中心に向かうベクトルを第１のベクトルと定義し、前記遮蔽板の前記一方主面を含む仮想平面に前記第１のベクトルを正射影したベクトルを第２のベクトルと定義したとき、
前記開口部の側壁が有する前記複数の面のうち、前記第２のベクトルに対して平行でなくて且つ前記第２のベクトルの方向の逆側を向く面が、前記遮蔽板の前記一方主面に対して斜めに傾いて、前記遮蔽板の前記他方主面側を向いている放射線撮像装置。
【請求項１０】
一方主面から当該一方主面と反対の他方主面へ貫通する開口部が設けられるとともに、前記開口部以外の部分で放射線を遮蔽する板状部材を備え、
前記開口部の側壁は、前記板状部材を平面視した場合において前記開口部が多角形の形状を有するように当該多角形の各辺に対応する複数の面を有し、
前記開口部の側壁が有する前記複数の面のうち少なくとも一つは、前記板状部材の前記一方主面に対して斜めに傾いていることを特徴とする放射線遮蔽板。
【請求項１】
一方主面から当該一方主面と反対の他方主面へ貫通する開口部が設けられるとともに、前記開口部以外の部分で放射線を遮蔽する遮蔽板と、
前記遮蔽板の前記一方主面側に設けられて、放射線を発生する放射線源と、
前記遮蔽板の前記他方主面側に設けられて、前記放射線源から射出された後に前記開口部を通過して被検体を透過した放射線を検出する放射線検出手段と
を備え、
前記開口部の側壁は、前記遮蔽板を平面視した場合において前記開口部が多角形の形状を有するように当該多角形の各辺に対応する複数の面を有し、
前記開口部の側壁が有する前記複数の面のうち少なくとも一つは、前記遮蔽板の前記一方主面に対して斜めに傾いていることを特徴とする放射線撮像装置。
【請求項２】
前記遮蔽板の前記一方主面に対して斜めに傾いている面は、前記遮蔽板の前記一方主面側を向いている請求項１に記載の放射線撮像装置。
【請求項３】
前記遮蔽板の前記一方主面に対して斜めに傾いている面と前記遮蔽板の前記一方主面とが成す角度は１３５度以上で且つ１８０度未満である請求項２に記載の放射線撮像装置。
【請求項４】
前記遮蔽板を平面視した場合において前記開口部がみせる前記多角形を、前記遮蔽板の前記一方主面を含む仮想平面に正射影した図形の幾何重心を前記開口部の中心と定義したとき、前記開口部の中心と前記放射線源が前記遮蔽板の前記一方主面の法線方向に対して平行に並ぶ請求項２または３に記載の放射線撮像装置であって、
前記開口部の側壁が有する前記複数の面のそれぞれが、前記遮蔽板の前記一方主面に対して斜めに傾いて、前記遮蔽板の前記一方主面側を向いている放射線撮像装置。
【請求項５】
前記遮蔽板を平面視した場合において前記開口部がみせる前記多角形を、前記遮蔽板の前記一方主面を含む仮想平面に正射影した図形の幾何重心を前記開口部の中心と定義したとき、前記開口部の中心と前記放射線源が前記遮蔽板の前記一方主面の法線方向に対して傾いて並ぶ請求項２または３に記載の放射線撮像装置であって、
前記放射線源から前記開口部の中心に向かうベクトルを第１のベクトルと定義し、前記遮蔽板の前記一方主面を含む仮想平面に前記第１のベクトルを正射影したベクトルを第２のベクトルと定義したとき、
前記開口部の側壁が有する前記複数の面のうち前記第２のベクトルに平行な面が、前記遮蔽板の前記一方主面に対して斜めに傾いて、前記遮蔽板の前記一方主面側を向いている放射線撮像装置。
【請求項６】
前記開口部の側壁が有する前記複数の面のうち、前記第２のベクトルに対して平行でなくて且つ前記第２のベクトルの方向の逆側を向く面が、前記遮蔽板の前記一方主面に対して斜めに傾いて、前記遮蔽板の前記他方主面側を向いている請求項５に記載の放射線撮像装置。
【請求項７】
前記遮蔽板を平面視した場合において前記開口部がみせる前記多角形を、前記遮蔽板の前記一方主面を含む仮想平面に正射影した図形の幾何重心を前記開口部の中心と定義したとき、複数の前記開口部が前記遮蔽板に設けられるとともに、前記複数の開口部のうち一の開口部の中心と前記放射線源が前記遮蔽板の前記一方主面の法線方向に対して平行に並ぶ一方、前記複数の開口部のうち前記一の開口部とは別の他の開口部の中心と前記放射線源が前記遮蔽板の前記一方主面の法線方向に対して傾いて並ぶ請求項２または３に記載の放射線撮像装置であって、
前記一の開口部の側壁が有する前記複数の面のそれぞれが、前記遮蔽板の前記一方主面に対して斜めに傾いて、前記遮蔽板の前記一方主面側を向いている一方、
前記放射線源から前記他の開口部の中心に向かうベクトルを第１のベクトルと定義し、前記遮蔽板の前記一方主面を含む仮想平面に前記第１のベクトルを正射影したベクトルを第２のベクトルと定義したとき、
前記他の開口部の側壁が有する前記複数の面のうち前記第２のベクトルに平行な面が、前記遮蔽板の前記一方主面に対して斜めに傾いて、前記遮蔽板の前記一方主面側を向いている放射線撮像装置。
【請求項８】
前記遮蔽板の前記一方主面に対して斜めに傾いている面は、前記遮蔽板の前記他方主面側を向いている請求項１に記載の放射線撮像装置。
【請求項９】
前記遮蔽板を平面視した場合において前記開口部がみせる前記多角形を、前記遮蔽板の前記一方主面を含む仮想平面に正射影した図形の幾何重心を前記開口部の中心と定義したとき、前記開口部の中心と前記放射線源が前記遮蔽板の前記一方主面の法線方向に対して傾いて並ぶ請求項８に記載の放射線撮像装置であって、
前記放射線源から前記開口部の中心に向かうベクトルを第１のベクトルと定義し、前記遮蔽板の前記一方主面を含む仮想平面に前記第１のベクトルを正射影したベクトルを第２のベクトルと定義したとき、
前記開口部の側壁が有する前記複数の面のうち、前記第２のベクトルに対して平行でなくて且つ前記第２のベクトルの方向の逆側を向く面が、前記遮蔽板の前記一方主面に対して斜めに傾いて、前記遮蔽板の前記他方主面側を向いている放射線撮像装置。
【請求項１０】
一方主面から当該一方主面と反対の他方主面へ貫通する開口部が設けられるとともに、前記開口部以外の部分で放射線を遮蔽する板状部材を備え、
前記開口部の側壁は、前記板状部材を平面視した場合において前記開口部が多角形の形状を有するように当該多角形の各辺に対応する複数の面を有し、
前記開口部の側壁が有する前記複数の面のうち少なくとも一つは、前記板状部材の前記一方主面に対して斜めに傾いていることを特徴とする放射線遮蔽板。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【公開番号】特開２０１２−１３２７１５（Ｐ２０１２−１３２７１５Ａ）
【公開日】平成２４年７月１２日（２０１２．７．１２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２８３３０８（Ｐ２０１０−２８３３０８）
【出願日】平成２２年１２月２０日（２０１０．１２．２０）
【出願人】（００００１００７６）ヤマハ発動機株式会社 (3,045)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年７月１２日（２０１２．７．１２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年１２月２０日（２０１０．１２．２０）
【出願人】（００００１００７６）ヤマハ発動機株式会社 (3,045)
【Ｆターム（参考）】
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