有機ＥＬ表示パネルとその製造方法、および有機ＥＬ表示装置
【課題】発光領域が広く、且つ、発光領域内での有機機能層の膜厚が均一に維持され、且つ、有機機能層の段切れのないことから、優れた発光特性を有しながら、長寿命な有機ＥＬ表示パネルとその製造方法、および有機ＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】陽極１０５は、その端部Ｐ１が、開口部を臨むバンクの端部Ｐ２から離間した状態で配置されている。陽極１０５は、平坦化膜１０４の側からアルミニウム若しくはアルミニウム合金からなる金属層１０５１と、ＩＴＯからなる透明導電層１０５２との積層構造を有する。この内、金属層１０５１の膜厚ｔ２は、４０[ｎｍ]以上２００[ｎｍ]以下であり、その表面部が所定の反射率を有する反射部となっている。また、陽極１０５上に形成された有機機能層１０７は、その膜厚ｔ３が、陽極１０５の膜厚ｔ１以上であり、陽極１０５の上面から端部の側面にわたって形成されている。
【解決手段】陽極１０５は、その端部Ｐ１が、開口部を臨むバンクの端部Ｐ２から離間した状態で配置されている。陽極１０５は、平坦化膜１０４の側からアルミニウム若しくはアルミニウム合金からなる金属層１０５１と、ＩＴＯからなる透明導電層１０５２との積層構造を有する。この内、金属層１０５１の膜厚ｔ２は、４０[ｎｍ]以上２００[ｎｍ]以下であり、その表面部が所定の反射率を有する反射部となっている。また、陽極１０５上に形成された有機機能層１０７は、その膜厚ｔ３が、陽極１０５の膜厚ｔ１以上であり、陽極１０５の上面から端部の側面にわたって形成されている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ表示パネルとその製造方法、および有機ＥＬ表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年では、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置の研究・開発がなされている。有機ＥＬ表示装置に含まれる有機ＥＬ表示パネルは、画素単位で有機ＥＬ素子が設けられた構成を有し、有機ＥＬ素子毎に固体蛍光性物質の電界発光現象を利用して自発光する。従来技術の一例として、特許文献１，２で開示されている有機ＥＬ表示パネルの構成について、図１６を用い説明する。
【０００３】
図１６に示すように、従来技術に係る有機ＥＬ表示パネルでは、基板９０１上にＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）層９０２が形成され（図１６では、一部であるソースのみを図示している）、その上にパッシベーション膜９０３および平坦化膜９０４が順に積層形成されている。平坦化膜９０４上には、各画素９００に対応する状態で、陽極９０５が形成されている。陽極９０５は、平坦化膜９０４の側から順に積層形成された金属層９０５１と透明導電層９０５２とから構成されている。陽極９０５は、平坦化膜９０４に開けられたコンタクトホール９０４ａ中にも埋め込まれており、これによりＴＦＴ層９０２との接続が図られている。
【０００４】
平坦化膜９０４上には、画素９００と隣接する画素９００との間を区画するように、バンク９０６が形成されている。バンク９０６は、陽極９０５の端部の一部上を覆うように配されている。バンク９０５で規定された画素９００の領域には、陽極９０５上に有機機能層９０７が積層形成されている。有機機能層９０７は、湿式の塗布型層であって、少なくとも有機発光層を含む。有機機能層９０７上およびバンク９０６上には、陰極９０８が形成されており、さらに陰極９０８を覆うように封止層９０９が積層形成されている。
【０００５】
ところで、図１６に示す従来技術に係る有機ＥＬ表示装置では、バンク９０６が陽極９０５の端部を覆っているため、当該部分に電流が流れ難くなり、発光領域の減少が問題となる。また、図１７（ａ）や図１７（ｂ）に示すように、各画素９２０，９３０における有機機能層９２７，９３７の両端部分（矢印Ｉおよび矢印Ｊで指し示す部分）において、塗布ムラに起因する厚みの不均一を生じることがある。このような現象は、発光輝度ムラの原因となり、画質の向上という観点から改善が求められる。
【０００６】
これに対し、特許文献３では、バンクの幅を狭くすることにより陽極との間隔をあけ、これによって上記のような課題を解決しようとする提案がされている。即ち、バンクの幅を狭くすることで陽極の端部をバンクで覆わない構成とし、当該構成により発光領域を広くするとともに、陽極上の有機機能層の厚みを均一にできるとされている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平１１−５４２８６号公報
【特許文献２】特開２００４−１９２８９０号公報
【特許文献３】特開２００５−９３４２１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献３で提案されている技術では、バンクと陽極との間に間隔をあけたことに起因して、陽極の端部において有機機能層が段切れを生じて陽極と陰極とがショートしてしまったり、段切れを生じないまでも有機機能層の膜厚が極端に薄くなることで電界集中を生じたりするなどの問題を生じ得る。即ち、図１８に示すように、陽極９５５の端部Ｐ９１とバンク９０６の端部Ｐ９２との間に間隔ｄ９をあける構成の場合、陽極９５５の端部（矢印Ｋで示す部分）で陽極９５５と陰極９０８とがショートしたりすることが生じ得る。
【０００９】
図１８に示すように、陽極９５５は、アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層などの金属層９５５１とＩＴＯ（酸化インジウムスズ）層９５５２との積層構造を有するが、この内、金属層９５５１は図示を省略しているバスバーと同一行程で形成されるため、膜厚ｔ９２をバスバーに合わせて厚膜に形成しているのが現状である。これより、従来においては、陽極９５５の膜厚ｔ９１が厚くなっており、それよりも膜厚ｔ９３が薄い有機機能層９５７ａを形成するとき、矢印Ｋで示す部分で有機機能層が段切れを生じる。即ち、矢印Ｋで示す部分を境にして、有機機能層９５７ａと有機機能層９５７ｂとの間が不連続な状態となる。この場合、段切れ部分で陽極９５５と陰極９０８とがショートするという問題が生じる。
【００１０】
なお、上記のような段切れの発生を防止するという目的で、有機機能層の膜厚を厚くするということも考えられるが、このような構成を採用する場合には、陽極９５５と陰極９０８との間での電気抵抗が増大してしまう。よって、所望の輝度を得るためには、より高い電圧を印加することが必要となり、有機機能層における有機発光層の劣化が促進され、寿命の低下という問題を生じることが考えられる。
【００１１】
本発明は、上記問題を解決しようとなされたものであって、発光領域が広く、且つ、発光領域内での有機機能層の膜厚が均一に維持され、且つ、有機機能層の段切れのないことから、優れた発光特性を有しながら、長寿命な有機ＥＬ表示パネルとその製造方法、および有機ＥＬ表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記目的を達成するために、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルは、基板と、基板の上方に配置された絶縁層と、絶縁層の上方に形成され、所定の画素の領域に対応する開口部を規定するバンクと、絶縁層の表面上に配置され、アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層を含み、当該アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層の表面部を所定の反射率を有する反射部とした第１電極と、第１電極の上面に形成され、有機発光層を少なくとも含む有機機能層と、有機機能層の上方に配置され、有機機能層から上方へ照射された光と、有機機能層から下方に照射された光であって第１電極の反射部で反射された光と、を透過する第２電極と、を含む。そして、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、第１電極は、バンクの開口部内において、その端部が開口部を臨むバンクの端部から離間して配置され、第１電極に含まれるアルミニウム層若しくはアルミニウム合金層の膜厚は、４０［ｎｍ]以上２００[ｎｍ]以下の所定の膜厚であり、有機機能層は、第１電極の所定の膜厚以上の膜厚であり、第１電極の上面から端部の側面にわたって形成されている。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、第１電極におけるアルミニウム層若しくはアルミニウム合金層（以下、「金属層」と記載する。）の膜厚を４０[ｎｍ]以上２００[ｎｍ]以下の所定の膜厚とし、これにより、第１電極の金属層の表面部分が、有機機能層における有機発光層から照射された光に対して所定の反射率を有する反射部となる。即ち、第１電極における金属層の膜厚を４０[ｎｍ]未満とする場合には、有機機能層における有機発光層から下方に照射された光の第２電極へ反射する光量が減少し、発光効率の低下を招くが、第１電極における金属層の膜厚を４０[ｎｍ]以上とすることにより、高い発光効率を得ることができる。
【００１４】
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、有機機能層の膜厚を、第１電極の所定膜厚以上の膜厚とし、且つ、第１電極の上面から端部の側面にわたって有機機能層が形成されている構成を採用する。このため、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、第１電極に対する有機機能層の膜厚および第１電極に対する有機機能層の形成形態を採用することにより、有機機能層の膜厚を必要以上に厚くする必要はなく、第１電極と第２電極との間での電気抵抗の増大による寿命低下という問題を生じることはなく、また、第１電極の端部における有機機能層の段切れや極端な薄膜化を招くことがない。
【００１５】
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、第１電極の端部と、開口部を臨むバンクの端部とを相互に離間させているので、発光領域を広くできるとともに、上記特許文献３で提案されている技術と同様に、第１電極上の有機機能層の厚みを均一化することができる。よって、発光特性が優れる。
【００１６】
以上より、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、発光領域が広く、且つ、発光領域内での有機機能層の膜厚が均一に維持され、且つ、有機機能層の段切れの発生がない。従って、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルは、優れた発光特性を有しながら、長寿命である。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】実施の形態１に係る有機ＥＬ表示装置１の構成を示す模式ブロック構成図である。
【図２】有機ＥＬ表示パネル１０の一部構成を示す模式断面端面図である。
【図３】有機ＥＬ表示パネル１０の一部構成を示す模式断面端面図である。
【図４】有機ＥＬ表示パネル１０の一部構成を抜き出して示す模式平面図である。
【図５】有機ＥＬ表示パネル１０における陽極１０５の端部付近を示す模式断面端面図である。
【図６】（ａ）は、実施の形態１に係る有機ＥＬ表示パネル１０における陽極１０５と有機機能層１０７との相互の配置関係を示す模式断面端面図であり、（ｂ）は、比較例に係る有機ＥＬ表示パネルにおける陽極９５５と有機機能層９５７との相互の配置関係を示す模式断面端面図である。
【図７】金属層１０５１の膜厚毎の光の波長と反射率との関係を示す特性図である。
【図８】発光色毎の金属層１０５１の膜厚と反射率との関係を示す特性図である。
【図９】（ａ）は、有機機能層１０７が２層構造である場合の膜厚ｔ３を定義するために用いる模式断面図であり、（ｂ）は、有機機能層１１７が３層構造である場合の膜厚ｔ１３を定義するために用いる模式断面図であり、（ｃ）は、有機機能層１２７に含まれる電荷注入層１２７１の膜厚ｔ２３２を定義するために用いる模式断面図である。
【図１０】（ａ）〜（ｄ）は、有機ＥＬ表示パネル１０の製造工程の一部を示す模式工程図である。
【図１１】（ａ）〜（ｃ）は、有機ＥＬ表示パネル１０の製造工程の一部を示す模式工程図である。
【図１２】（ａ），（ｂ）は、有機ＥＬ表示パネル１０の製造工程の一部を示す模式工程図である。
【図１３】実施の形態２に係る有機ＥＬ表示パネル３０の一部構成を示す模式断面端面図である。
【図１４】実施の形態３に係る有機ＥＬ表示パネル４０の一部構成を抜き出して示す模式平面図である。
【図１５】有機ＥＬ表示パネル４０の一部構成を示す模式断面端面図である。
【図１６】従来技術に係る有機ＥＬ表示パネルの一部構成を示す模式断面端面図である。
【図１７】（ａ），（ｂ）は、従来技術で問題となる有機機能層９２７，９３７の端部断面形状を示す模式断面端面図である。
【図１８】改良に係る従来技術で問題となる陽極９５５の端部付近での有機機能層９５７の端部断面形状を示す模式断面端面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
[本発明の態様]
本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルは、基板と、基板の上方に配置された絶縁層と、絶縁層の上方に形成され、所定の画素の領域に対応する開口部を規定するバンクと、絶縁層の表面上に配置され、アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層を含み、当該アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層の表面部を所定の反射率を有する反射部とした第１電極と、第１電極の上面に形成され、有機発光層を少なくとも含む有機機能層と、有機機能層の上方に配置され、有機機能層から上方へ照射された光と、有機機能層から下方に照射された光であって第１電極の反射部で反射された光と、を透過する第２電極と、を含む。そして、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、第１電極は、バンクの開口部内において、その端部が開口部を臨むバンクの端部から離間して配置され、第１電極に含まれるアルミニウム層若しくはアルミニウム合金層の膜厚は、４０［ｎｍ]以上２００[ｎｍ]以下の所定の膜厚であり、有機機能層は、第１電極の所定の膜厚以上の膜厚であり、第１電極の上面から端部の側面にわたって形成されている。
【００１９】
なお、本明細書では、第１電極における周囲の縁部を「端部」と呼称している。
本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、第１電極におけるアルミニウム層若しくはアルミニウム合金層（以下、「金属層」と記載する。）の膜厚を４０[ｎｍ]以上２００[ｎｍ]以下の所定の膜厚とし、これにより、第１電極の金属層の表面部分が、有機機能層における有機発光層から下方に照射された光に対して所定の反射率を有する反射部となる。即ち、第１電極における金属層の膜厚を４０[ｎｍ]未満とする場合には、有機機能層における有機発光層から照射された光の第２電極へ反射する光量が減少し、発光効率の低下を招くが、第１電極における金属層の膜厚を４０[ｎｍ]以上とすることにより、高い発光効率を得ることができる。
【００２０】
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、有機機能層の膜厚を、第１電極の所定膜厚以上の膜厚とし、且つ、第１電極の上面から端部の側面にわたって有機機能層が形成されている構成を採用する。このため、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、第１電極に対する有機機能層の膜厚および第１電極に対する有機機能層の形成形態を採用することにより、有機機能層の膜厚を必要以上に厚くする必要はなく、第１電極と第２電極との間での電気抵抗の増大による寿命低下という問題を生じることはなく、また、第１電極の端部における有機機能層の段切れや極端な薄膜化を招くことがない。
【００２１】
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、第１電極の端部と、開口部を臨むバンクの端部とを相互に離間させているので、発光領域を広くできるとともに、第１電極上の有機機能層の厚みを均一化することができる。よって、発光特性が優れる。
【００２２】
以上より、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、発光領域が広く、且つ、発光領域内での有機機能層の膜厚が均一に維持され、且つ、有機機能層の段切れの発生がない。従って、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルは、優れた発光特性を有しながら、長寿命である。
【００２３】
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、上記構成において、第１電極が、金属層（アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層）の上面に設けられた透明導電層を有する、という構成を採用することもできる。これにより、製造工程中などで金属層の表面部の反射率が低下するのを防止することができ、また、キャビティ設計における自由度を高くすることができる。
【００２４】
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、上記構成において、第１電極に含まれる金属層（アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層）の膜厚が４３[ｎｍ]以上２００[ｎｍ]以下の所定の膜厚である、という構成を採用することもできる。このように、金属層の膜厚を４３[ｎｍ]以上とすることにより、有機機能層の段切れの発生を防止しながら、金属層の表面部における反射率を高く維持することができる。具体的には、金属層の表面部における反射率を８９[％]以上の安定した値とすることができる。よって、この構成を採用する場合には、光学特性に更に優れたものとすることができる。
【００２５】
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、上記構成において、第１電極に含まれる金属層（アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層）の膜厚が４０[ｎｍ]以上１２０[ｎｍ]以下の所定の膜厚である、という構成を採用することもできる。先ず、金属層の膜厚の上限を１２０[ｎｍ]と規定することにより、金属層の表面部における反射率を低下させることなく、第１電極全体での膜厚を更に薄くすることができ、端部における有機機能層の段切れの発生を更に効果的に防止することができる。よって、上記構成を採用する場合には、第１電極と第２電極とのショートをより確実に防止することができる。
【００２６】
なお、金属層を含む第１電極の膜厚を厚くし、これに連動して有機機能層の膜厚も厚くした場合には、上記のように、第１電極と第２電極との間での電気抵抗が増大し、この間に流れる電流量が低下する。このため、このような構成を採用すると、有機発光層における発光量が第１電極と第２電極との間隔の増大に反して、低下する。特に、第１電極における金属層の膜厚を１２０[ｎｍ]よりも厚くし、第１電極の膜厚もこれに伴い厚くする場合には、有機発光層における発光量の低下が、有機発光デバイスとして使用できない程度まで大きくなる。
【００２７】
これに対して、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、第１電極の金属層の膜厚を１２０[ｎｍ]以下としているので、有機機能層の膜厚もこれに伴い薄くすることができ、第１電極と第２電極との間に印加する電圧を低減することができ、その結果、有機発光デバイスとしての消費電力を抑えることができる。そして、このように印加電圧を低減する場合にも、大きな電流が流れるので、有機発光デバイスとして優れた発光性能を有する。よって、優れた発光特性を有しながら、長寿命であるという効果を得ることができる。
【００２８】
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、上記構成において、第１電極に含まれる金属層（アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層）の膜厚が４３[ｎｍ]以上１２０[ｎｍ]以下の所定の膜厚である、という構成を採用することもできる。上記構成を採用する場合には、第１電極における金属層の表面部での反射率を８９[％]以上の高い値で安定させることができる。その結果、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、優れた光学特性を有する。また、金属層の膜厚を上記範囲とすることに伴い、第１電極の膜厚もこれに伴って更に薄くすることでき、有機機能層の段切れの発生を防止しながら、第１電極と第２電極との間に印加する電圧を低減することができる。
【００２９】
よって、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、優れた光学特性を有し、更に長寿命である。
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、上記構成において、第１電極に含まれる金属層（アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層）の膜厚が５０[ｎｍ]以上１００[ｎｍ]以下の所定の膜厚である、という構成を採用することもできる。この構成を採用する場合には、第１電極の膜厚を金属層の膜厚に伴って極力薄くすることができ、且つ、金属層の膜厚が１００[ｎｍ]を超える第１電極を採用する場合と同等の反射率を確保することができる。よって、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、優れた光学特性を有し、且つ、有機機能層の膜厚を更に薄くすることができるので、第１電極と第２電極との間に印加する電圧を低減することができる。
【００３０】
以上より、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、優れた光学特性を有し、更に長寿命であるという効果を有する。
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、上記構成において、有機機能層が、第１電極上に形成された電荷注入層あるいは電荷輸送層の少なくとも一方を含み、第１電極上に形成された電荷注入層あるいは電荷輸送層の少なくとも一方の膜厚が第１電極の所定の膜厚以上の膜厚であり、第１電極の上面から端部の側面にわたって形成されている、という構成を採用することもできる。このように、有機機能層に電荷注入層あるいは電荷輸送層の少なくとも一方を含む構成を採用する場合には、電荷注入性に優れ、優れた発光特性を有することができる。そして、電荷注入層あるいは電荷輸送層が第１電極の上面から端部の側面にわたって形成されているので、第１電極の端部での有機機能層の段切れが確実に防止でき、第１電極と第２電極とのショートを防止することができる。
【００３１】
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、上記構成において、有機機能層が、第１電極上に形成された電荷注入層あるいは電荷輸送層の少なくとも一方の層の上方に有機発光層を設けた層である、という構成を採用することもできる。
【００３２】
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、上記構成において、有機機能層が、電荷注入層、電荷輸送層および有機発光層を含む層であり、電荷注入層が第１電極上に形成され、電荷注入層の膜厚が第１電極の所定の膜厚以上の膜厚であり、第１電極の上面から端部の側面にわたって形成されている、という構成を採用することもできる。
【００３３】
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、上記構成において、第１電極の端部の側面と基板とがなす内角が９０[°]以下である、という構成を採用することもできる。この構成を採用する場合には、第１電極の上方に配置された有機機能層が、第１電極の端部で段切れを発生するのを、より確実に防止することができるようになり、第１電極と第２電極との間でのショートの発生を確実に防止することができる。
【００３４】
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、第１電極の端部を開口部を臨むバンクの端部から離間させて配置しているので、バンク近傍での有機膜の塗布状態が不安定になることが考えられるが、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、当該領域の下方には第１電極が存在しないため、発光しない領域（非発光領域）となる。よって、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、発光領域において、塗布形状のバラツキが少なく、膜厚を含む膜状態が均一な有機機能層を有し、画素内での輝度ムラが少なく、長寿命であるという効果を得ることができる。
【００３５】
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、上記所定の画素の領域が、画素毎の領域であり、バンクが、上記開口部を画素毎に規定する、という構成を採用することができる。即ち、所謂、ピクセルバンク構成を一例として採用することができる。
【００３６】
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、上記所定の画素の領域が、複数の画素がライン状に配列された領域であり、バンクが、上記開口部をライン状に配列された複数の画素毎に規定する、という構成を採用することもできる。即ち、所謂、ラインバンク構成を一例として採用することもできる。
【００３７】
本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示装置は、上記のいずれかの有機ＥＬ表示パネルを具備したことを特徴とする。よって、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示装置においても、上記同様の理由より、優れた発光特性を有しながら、長寿命である。
【００３８】
本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法では、次の工程を含む。
（第１工程）基板を準備する。
（第２工程）基板の上方に絶縁膜を配置する。
【００３９】
（第３工程）金属層（アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層）を含み、当該金属層（アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層）の表面部を所定の反射率を有する反射部とした第１電極を、絶縁層の表面上に配置する。
【００４０】
（第４工程）絶縁膜の上方に、所定の画素の領域に対応する開口部を規定するバンクを形成する。
（第５工程）有機発光層を少なくとも含む有機機能層を、第１電極の上面から端部の側面にわたって、第１電極の所定の膜厚以上の膜厚に形成する。
【００４１】
（第６工程）有機発光層から上方へ照射された光と、有機発光層から下方に照射された光であって第１電極の反射部で反射された光とを、透過する第２電極を前記有機発光層の上方に配置する。
【００４２】
本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法では、上記において、第１電極は、バンクの開口部内において、その端部が開口部を臨むバンクの端部から離間して配置し、第１電極に含まれる金属層（アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層）の膜厚が４０[ｎｍ]以上２００[ｎｍ]以下の所定の膜厚である、という構成を採用することを特徴とする。
【００４３】
本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法では、金属層（アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層）の膜厚を４０[ｎｍ]以上２００[ｎｍ]以下の所定の膜厚とし、これにより、その表面部分が、有機機能層における有機発光層から照射された光に対して所定の反射率を有する反射部となる第１電極を形成する。金属層の膜厚を４０[ｎｍ]以上とすることにより、表面部における反射部が高い発光効率を有する第１電極を形成することができる。
【００４４】
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法では、有機機能層の膜厚を、第１電極の所定膜厚以上の膜厚とし、且つ、第１電極の上面から端部の側面にわたって有機機能層を形成することとしている。このため、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法を用いる場合、製造された有機ＥＬ表示パネルは、第１電極に対する有機機能層の膜厚および第１電極に対する有機機能層の形成形態を採用することにより、有機機能層の膜厚を必要以上に厚くする必要はなく、第１電極と第２電極との間での電気抵抗の増大による寿命低下という問題を生じることはなく、また、第１電極の端部における有機機能層の段切れや極端な薄膜化を招くことがない。
【００４５】
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法では、第１電極の端部と、開口部を臨むバンクの端部とが相互に離間するようにしているので、発光領域を広くすることができ、第１電極上の有機機能層の厚みが均一な有機ＥＬ表示パネルを製造することができる。よって、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法を用い製造された有機ＥＬ表示パネルは、発光特性が優れる。
【００４６】
以上より、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法では、発光領域が広く、且つ、発光領域内での有機機能層の膜厚が均一に維持され、且つ、有機機能層の段切れの発生がなく、製造された有機ＥＬ表示パネルは、優れた発光特性を有しながら、長寿命である。
【００４７】
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法では、上記第３工程において、第１電極が、金属層（アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層）の上面に透明導電層を設けて形成される、という構成を採用することができる。これにより、製造工程中などで金属層の表面部の反射率が低下するのを防止することができ、また、キャビティ設計における自由度を高くすることができる。
【００４８】
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法では、上記第３工程において、ウェットエッチングにより、所定の形状にパターニングされた第１電極を形成することにより、第１電極の端部の側面と基板とがなす内角を９０[°]以下にする、という構成を採用することもできる。ウェットエッチングは、等方性エッチングであるため、ウェットエッチングにより第１電極をパターニングする場合には、第１電極の端部の側面と基板とがなす内角を９０[°]以下とすることに好適である。
【００４９】
上記のようにウェットエッチングにより第１電極のパターニングを行う場合には、第１電極の端部の側面と基板とがなす内角を９０[°]以下とすることにより、第１電極の上方に配置された有機機能層が、第１電極の端部で段切れを発生するのを、より確実に防止することができるようになる。よって、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法では、第１電極と第２電極との間でのショートの発生が確実に防止された有機ＥＬ表示パネルを製造することができる。
【００５０】
なお、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法では、上記ウェットエッチング以外にも、ドライエッチングを用いることができることはいうまでもない。
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法では、上記構成において、有機機能層を、インクジェット法、ダイコート法、スピンコート法のいずれかの湿式塗布方法で形成する、という構成を採用することもできる。インクジェット法、ダイコート法、スピンコート法などの湿式塗布方法は、連続した有機機能層を大面積に形成することができる方法である。このため、これら方法の何れかを用い有機機能層を形成する場合には、第１電極の端部での段切れを防止しながら、第１電極上での膜厚が均一な有機機能層を形成するのに好適である。
【００５１】
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法では、上記構成において、有機機能層が、第１電極上に形成された電荷注入層あるいは電荷輸送層の少なくとも一方を含み、第１電極上に形成された電荷注入層あるいは電荷輸送層の少なくとも一方の膜厚が第１電極の所定の膜厚以上の膜厚であり、第１電極の上面から端部の側面にわたって形成されている、という構成を採用することもできる。このように、有機機能層に電荷注入層あるいは電荷輸送層の少なくとも一方を含む構成を採用する場合には、電荷注入性に優れ、優れた発光特性を有することができる。そして、電荷注入層あるいは電荷輸送層が第１電極の上面から端部の側面にわたって形成されているので、第１電極の端部での有機機能層の段切れが確実に防止でき、第１電極と第２電極とのショートを防止することができる。
【００５２】
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法では、上記構成において、有機機能層が、電荷注入層あるいは電荷輸送層の少なくとも一方の層の上方に有機発光層を設けた層である、という構成を採用することもできる。
【００５３】
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法では、上記構成において、有機機能層が、電荷注入層、電荷輸送層及び有機発光層を含む層であり、電荷注入層が第１電極上に形成され、電荷注入層の膜厚が第１電極の所定の膜厚以上の膜厚であり、電荷注入層が第１電極の上面から端部の側面にわたって形成されている、という構成を採用することもできる。
【００５４】
以下では、本発明を実施するための形態について、数例を用い説明する。
なお、以下の説明で用いる実施の形態は、本発明の構成および作用・効果を分かりやすく説明するために用いる例示であって、本発明は、その本質的部分以外に何ら以下の形態に限定を受けるものではない。
【００５５】
[実施の形態１]
１．有機ＥＬ表示装置１の全体構成
以下では、発光装置の一例としての有機ＥＬ表示装置１で説明する。
【００５６】
本実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置１の全体構成について、図１を用い説明する。
図１に示すように、有機ＥＬ表示装置１は、有機ＥＬ表示パネル１０と、これに接続された駆動制御部２０とを有し構成されている。有機ＥＬ表示パネル１０は、有機材料の電界発光現象を利用したパネルであり、複数の有機ＥＬ素子が、例えば、マトリクス状に配列され構成されている。駆動制御部２０は、４つの駆動回路２１〜２４と制御回路２５とから構成されている。
【００５７】
なお、実際の有機ＥＬ表示装置１では、表示パネル１０に対する駆動制御部２０の配置については、これに限られない。
２．有機ＥＬ表示パネル１０の構成
有機ＥＬ表示パネル１０の構成について、図２、図３および図４を用い説明する。図２は、有機ＥＬ表示パネル１０の構成の一部を、図１におけるＹ軸方向に切断した断面端面図であって、図４におけるＣ−Ｃ‘断面の端面を示す。一方、図３は、有機ＥＬ表示パネル１０の構成の一部を、図１におけるＸ軸方向に切断した断面端面図であって、図４におけるＤ−Ｄ’断面の端面を示す。
【００５８】
なお、図４では、陽極１０５とバンク１０６との関係を分かりやすくするため、他の構成要素の図示を省略している。
先ず、図２に示すように、有機ＥＬ表示パネル１０は、基板１０１をベースとして形成されている。そして、基板１０１上には、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）層１０２、パッシベーション膜１０３および平坦化膜１０４が順に積層形成されている。なお、図２では、ＴＦＴ層１０２について、その構成の一部であるソースあるいはドレイン（ＳＤ電極）のみを図示している。
【００５９】
絶縁層である平坦化膜１０４上には、画素に対応する開口部を規定するバンク１０６が形成されている。また、平坦化膜１０４上におけるバンク１０６で規定された画素領域には、陽極１０５が形成されている。陽極１０５は、平坦化膜１０４の側から順に、金属層１０５１および透明導電層１０５２が積層され構成されている。陽極１０５は、平坦化膜１０４に開けられたコンタクトホール１０４ａ内にも連続して形成され、ＴＦＴ層１０２のＳＤ電極と接続されている。
【００６０】
陽極１０５における金属層１０５１は、アルミニウム（Ａｌ）若しくはアルミニウム合金（Ａｌ合金）からなる層であり、透明導電層１０５２は、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）若しくはＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）からなる層である。
【００６１】
有機ＥＬ表示パネル１０におけるバンク１０６と陽極１０５との配置関係を、図４を用い説明する。
図４に示すように、有機ＥＬ表示パネル１０におけるバンク１０６は、所謂、ピクセルバンクと呼称されるものであって、Ｘ軸方向に延伸する要素１０６ａとＹ軸方向に延伸する要素１０６ｂとが一体に形成されている。バンク１０６で規定される各開口部が一画素に該当し、陽極１０５が各開口部内に配されている。なお、各画素における陽極１０５は、コンタクトホール１０４ａを介してＴＦＴ層１０２のＳＤ電極に接続されている。
【００６２】
図２に戻って、陽極１０５上には、有機機能層１０７が積層形成されている。有機機能層１０７は、少なくとも有機発光層を含む層であって、その他に電荷注入層、電荷輸送層あるいは電荷注入輸送層などを含むものであってもよい。
【００６３】
図２の矢印Ａ部分に示すように、本実施の形態に係る有機ＥＬ表示パネル１０では、陽極１０５の端部が、開口部を臨むバンク１０６の端部から離間した状態となっており、当該離間部分では、平坦化膜１０４の表面に接する状態で有機機能層１０７が形成されている。
【００６４】
有機機能層１０７上には、陰極１０８が形成されている。陰極１０８は、有機ＥＬ表示パネル１０における全ての画素にわたり共通に設けられており、バンク１０６上にも形成されている。陰極１０８の上には、封止層１０９が形成されている。
【００６５】
図３に示すように、有機ＥＬ表示パネル１０では、図４のＤ−Ｄ‘断面についても、コンタクトホール１０４ａがないことを除いて、図２に示すＣ−Ｃ’断面と基本的に同一の構成を有する。そして、図３の矢印Ｂ部分に示すように、Ｄ−Ｄ‘断面においても、陽極１０５の端部が、開口部を臨むバンク１０６の端部から離間した状態となっている。そして、図２および図３に示すように、各画素における陽極１０５が形成された領域が発光領域１００であり、バンク１０６が形成された領域を含むその他の領域が非発光領域１５０である。
【００６６】
有機ＥＬ表示パネル１０では、陽極１０５からホールが供給され、陰極１０８から電子が注入され、これらが有機機能層１０７へと送り込まれ、有機発光層で再結合することで光が出射される。有機機能層１０７の有機発光層から出射された光には、陰極１０８の側へと向かう成分と、陽極１０５の側へと向かう成分とが含まれる。陽極１０５の側へと向かった光成分は、陽極１０５における金属層１０５１におけるＺ軸上側の表面および表層部分で反射されて陰極１０８の側へと向かうことになる。このように、陽極１０５における金属層１０５１の表面部は、所定の反射率を有する反射部としての役割も果たす。
【００６７】
３．有機ＥＬ表示パネル１０を構成する主要材料
ａ）基板１０１
基板１０１は、例えば、無アルカリガラス、ソーダガラス、無蛍光ガラス、燐酸系ガラス、硼酸系ガラス、石英、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエチレン、ポリエステル、シリコーン系樹脂、又はアルミナ等の絶縁性材料をベースとして形成されている。
【００６８】
ｂ）平坦化膜１０４
平坦化膜１０４は、例えば、ポリイミド、ポリアミド、アクリル系樹脂材料などの有機化合物を用い形成されている。
【００６９】
ｃ）陽極１０５における金属層１０５１
陽極１０５における金属層１０５１は、上記のように、アルミニウム（Ａｌ）またはアルミニウム（Ａｌ）合金を用い形成されている。そして、トップエミッション型の本実施の形態に係る有機ＥＬ表示パネル１０の場合には、その表面部が高い反射性を有することが好ましい。
【００７０】
ｄ）陽極１０５における透明導電層１０５２
陽極１０５における透明導電層１０５２は、例えば、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）やＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）などの透明導電材料を用い形成されている。
【００７１】
ｅ）バンク１０６
バンク１０６は、樹脂等の有機材料を用い形成されており絶縁性を有する。バンク１０６の形成に用いる有機材料の例としては、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ノボラック型フェノール樹脂等があげられる。バンク１０６は、有機溶剤耐性を有することが好ましい。さらに、バンク１０６は、製造工程中において、エッチング処理、ベーク処理など施されることがあるので、それらの処理に対して過度に変形、変質などをしないような耐性の高い材料で形成されることが好ましい。また、撥水性をもたせるために、表面をフッ素処理することもできる。
【００７２】
なお、バンク１０６を親液性の材料を用い形成した場合には、バンク１０６の表面と有機機能層１０７の表面との親液性／撥液性の差異が小さくなり、有機機能層１０７中の有機発光層を形成するために有機物質を含んだインクを、バンク１０６が規定する開口部内に選択的に保持させることが困難となってしまうためである。
【００７３】
さらに、バンク１０６の構造については、図２および図３に示すような一層構造だけでなく、二層以上の多層構造を採用することもできる。この場合には、層毎に上記材料を組み合わせることもできるし、層毎に無機材料と有機材料とを用いることもできる。
【００７４】
ｆ）有機機能層１０７
有機機能層１０７中に含まれる有機発光層は、上述のように、ホールと電子とが注入され再結合されることにより励起状態が生成され発光する機能を有する。有機発光層の形成に用いる材料は、湿式印刷法を用い製膜できる発光性の有機材料を用いることが必要である。
【００７５】
具体的には、例えば、特許公開公報（日本国・特開平５−１６３４８８号公報）に記載のオキシノイド化合物、ペリレン化合物、クマリン化合物、アザクマリン化合物、オキサゾール化合物、オキサジアゾール化合物、ペリノン化合物、ピロロピロール化合物、ナフタレン化合物、アントラセン化合物、フルオレン化合物、フルオランテン化合物、テトラセン化合物、ピレン化合物、コロネン化合物、キノロン化合物及びアザキノロン化合物、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、ローダミン化合物、クリセン化合物、フェナントレン化合物、シクロペンタジエン化合物、スチルベン化合物、ジフェニルキノン化合物、スチリル化合物、ブタジエン化合物、ジシアノメチレンピラン化合物、ジシアノメチレンチオピラン化合物、フルオレセイン化合物、ピリリウム化合物、チアピリリウム化合物、セレナピリリウム化合物、テルロピリリウム化合物、芳香族アルダジエン化合物、オリゴフェニレン化合物、チオキサンテン化合物、アンスラセン化合物、シアニン化合物、アクリジン化合物、８−ヒドロキシキノリン化合物の金属錯体、２−ビピリジン化合物の金属錯体、シッフ塩とＩＩＩ族金属との錯体、オキシン金属錯体、希土類錯体などの蛍光物質で形成されることが好ましい。
【００７６】
なお、有機機能層１０７には、有機発光層よりも陽極１０５側に介挿された電荷注入層が含まれることもある。この場合、電荷注入層の構成材料としては、例えば、ＰＥＤＯＴ（ポリチオフェンとポリスチレンスルホン酸との混合物）などの導電性ポリマー材料を採用することができる。
【００７７】
ｇ）陰極１０８
陰極１０８は、例えば、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）若しくはＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）などを用い形成される。本実施の形態のように、トップエミッション型の有機ＥＬ表示パネル１０の場合においては、光透過性の材料で形成されることが好ましい。光透過性については、透過率が８０［％］以上とすることが好ましい。
【００７８】
陰極１０８の形成に用いる材料としては、上記の他に、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属、またはそれらのハロゲン化物を含む層の構造、あるいは、前記いずれかの層に銀を含む層とをこの順で積層した構造を用いることもできる。上記において、銀を含む層は、銀単独で形成されていてもよいし、銀合金で形成されていてもよい。また、光取出し効率の向上を図るためには、当該銀を含む層の上から透明度の高い屈折率調整層を設けることもできる。
【００７９】
ｈ）封止層１０９
封止層１０９は、有機機能層１０７中の有機発光層などが水分に晒されたり、空気に晒されたりすることを抑制する機能を有し、例えば、ＳｉＮ（窒化シリコン）、ＳｉＯＮ（酸窒化シリコン）などの材料を用い形成される。
【００８０】
また、ＳｉＮ（窒化シリコン）、ＳｉＯＮ（酸窒化シリコン）などの材料を用い形成された層の上に、アクリル樹脂、シリコーン樹脂などの樹脂材料からなる封止樹脂層を設けてもよい。
【００８１】
封止層１０９は、トップエミッション型である本実施の形態に係る有機ＥＬ表示パネル１０の場合においては、光透過性の材料で形成されることが好ましい。
４．陽極１０５とバンク１０６および有機機能層１０７との関係
陽極１０５とバンク１０６および有機機能層１０７との関係について、図５および図６を用い説明する。
【００８２】
図５に示すように、本実施の形態に係る有機ＥＬ表示パネル１０では、陽極１０５の端部Ｐ１が、開口部を臨むバンク１０６の端部Ｐ２から間隔ｄ１だけ離間した状態で配されている。この状態は、バンク１０６の幅を狭くすることにより実現されている。そのため、有機ＥＬ表示パネル１０では、図１６に示す従来技術に係る有機ＥＬ表示パネルに比べて開口部を広くすることができ、優れた発光特性を有する。これは、間隔ｄ１の部分では有機機能層１０７の直下に陽極１０５は形成されていないものの、有機機能層１０７には、陽極１０５の端部と陰極１０８の間（図５における二点鎖線で囲んで示す部分）に生じた電界により、光が出射するためである。
【００８３】
また、間隔ｄ１だけ離間した部分では、有機機能層１０７が平坦化膜１０４上に形成されることになり、このため、図１７（ａ）および図１７（ｂ）に示すような、陽極１０５上における有機機能層１０７の膜厚不均一という問題を生じない。
【００８４】
陽極１０５における金属層１０５１の膜厚ｔ２は、有機機能層１０７における有機発光層から照射された光を陰極１０８の側へと反射するための反射率が所定値以上となるように設定されている。具体的な膜厚ｔ２は、４０[ｎｍ]以上２００[ｎｍ]以下の範囲内であり、望ましくは、下限値が４３[ｎｍ]であり、上限値が１２０[ｎｍ]であり、さらに望ましくは、下限値が５０[ｎｍ]であり、上限値が１００[ｎｍ]である。例えば、膜厚ｔ２の所定範囲の下限値を４３[ｎｍ]とする場合には、後述する図８に例示するように、８９[％]以上の安定した反射率を得ることができる。
【００８５】
また、本実施の形態では、有機機能層１０７の膜厚ｔ３が、陽極１０５の膜厚ｔ１以上の膜厚に設定されており、陽極１０５の上面１０５ａから端部側面１０５ｂにわたって形成されている。前記のような膜厚ｔ１，ｔ３の関係を採用することにより、矢印Ｅ部分に示すように、有機機能層１０７が、陽極１０５の端部で段切れや極端に薄肉となることがない。
【００８６】
有機機能層１０７の段切れ防止について、図６（ａ）および図６（ｂ）を用い説明する。図６（ａ）は、本実施の形態に係る陽極１０５と有機機能層１０７とを模式的に図示したものであり、図６（ｂ）は、比較例に係る陽極９５５と有機機能層９５７とを模式的に図示したものである。
【００８７】
先ず、図６（ａ）に示すように、本実施の形態のように、有機機能層１０７の膜厚ｔ３が、陽極１０５の膜厚ｔ１以上の膜厚に設定されている場合には、陽極１０５の上面１０５ａから端部側面１０５ｂにわたって有機機能層１０７が形成されることになる。なお、上記のように、陽極１０５の金属層１０５１の膜厚ｔ２が、反射率との関係で上記数値範囲内とすることが必要であるので、有機機能層１０７の膜厚ｔ３は、金属層１０５１の膜厚ｔ２を含む陽極１０５の膜厚ｔ１との相対的な関係で規定される。
【００８８】
また、図６（ａ）に示すように、陽極１０５における端部側面１０５ｂと基板１０１および平坦化膜１０４の上面とがなす内角θは、９０[°]以下になっている。これによっても、矢印Ｆ部分において、有機機能層１０７に段切れなどを生じない。
【００８９】
以上より、図６（ａ）の矢印Ｆ部分に示すように、有機機能層１０７が陽極１０５の端部で段切れなどを生じることがない。
次に、図６（ｂ）に示すように、比較例においては、陽極９５５上における有機機能層９５７の膜厚ｔ９３は、陽極９５５の膜厚ｔ９１よりも薄い関係となっている。従来技術では、陽極９５５が、金属層９５５１を含めて、図示を省略しているバスバーと同一の工程で形成することに起因して、金属層９５５１の膜厚ｔ９２および陽極９５５の膜厚ｔ９１が厚くなっている。よって、図６（ｂ）に示すように、有機機能層９５７は、矢印Ｇ部分（陽極９５５の端部）で段切れを発生することがある。そして、有機機能層９５７が段切れを生じ、陽極９５５の上面９５５ａ上の有機機能層９５７ａと、陽極９５５の端部側面９５５ｂを覆う有機機能層９５７ｂとが連続せず、陽極９５５の透明導電層９５５２が、矢印Ｇ部分で陰極（図６（ｂ）では、図示を省略。）とがショートすることになる。
【００９０】
５．有機ＥＬ表示パネル１０およびこれを備える有機ＥＬ表示装置１が有する主な効果
本実施の形態に係る有機ＥＬ表示パネル１０では、第１電極である陽極１０５の金属層１０５１（アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層）の膜厚ｔ２（図５などを参照。）を、４０[ｎｍ]以上の所定の膜厚とし、これにより、陽極１０５の金属層１０５１の表面部分が、有機機能層１０７における有機発光層から照射された光に対して所定の反射率を有する反射部となる。即ち、陽極１０５における金属層１０５１の膜厚ｔ２を４０[ｎｍ]未満とする場合には、有機機能層１０７における有機発光層から照射された光の陰極１０８側へ反射する光量が減少し、発光効率の低下を招くが、本実施の形態のように、陽極１０５における金属層１０５１の膜厚ｔ２を４０[ｎｍ]以上とすることにより、高い発光効率を得ることができる。
【００９１】
また、本実施の形態に係る有機ＥＬ表示パネル１０では、有機機能層１０７の膜厚ｔ３を、陽極１０５の膜厚ｔ１以上とし（図５などを参照。）、且つ、陽極１０５の上面１０５ａから端部側面１０５ｂにわたって有機機能層１０７が形成されている構成を採用する（図６（ａ）を参照）。このため、有機ＥＬ表示パネル１０では、陽極１０５に対する有機機能層１０７の膜厚ｔ３および陽極１０５に対する有機機能層１０７の上記のような形成形態を採用することにより、有機機能層１０７の膜厚ｔ３を必要以上に厚くする必要はなく、陽極１０５と陰極１０８との間での電気抵抗の増大による寿命低下という問題を生じることはなく、また、陽極１０５の端部における有機機能層１０７の段切れや極端な薄膜化を招くことがない（図５および図６（ａ）を参照）。なお、陽極１０５における金属層１０５１の膜厚ｔ２を、上記段切れ防止のための陽極１０５の膜厚ｔ１の低減に伴って低減することができ、具体的には、２００[ｎｍ]以下、望ましくは１２０[ｎｍ]以下、更に望ましくは１００[ｎｍ]以下とすることができる。
【００９２】
また、図２、図３および図５などに示すように、有機ＥＬ表示パネル１０では、陽極１０５の端部Ｐ１と、開口部を臨むバンク１０６の端部Ｐ２とを相互に離間させているので、発光領域を広くできるとともに、陽極１０５上の有機機能層１０７の厚みを均一化することができる。よって、発光特性が優れる。
【００９３】
以上より、本実施の形態に係る有機ＥＬ表示パネル１０およびこれを備える有機ＥＬ表示装置１では、発光領域が広く、且つ、発光領域内での有機機能層１０７の膜厚ｔ３が均一に維持され、且つ、有機機能層１０７の段切れの発生がない。従って、有機ＥＬ表示パネル１０およびこれを備える有機ＥＬ表示装置１は、優れた発光特性を有しながら、長寿命である。
【００９４】
６．陽極１０５における金属層１０５１の膜厚ｔ２の最適範囲
陽極１０５における金属層１０５１の膜厚ｔ２の最適範囲について、図７および図８を用い検討結果を説明する。図７は、横軸が金属層１０５１の反射率を測定する際に用いた分光光度計の測定光の波長であり、縦軸が金属層１０５１の反射率である。図８は、図７の測定データについて、測定した金属層１０５１の膜厚と、各膜厚での反射率との関係を示す図である。図８の横軸が金属層１０５１の膜厚であり、縦軸が金属層１０５１の反射率である。
【００９５】
図７に示すように、金属層の膜厚が、４３[ｎｍ]〜９８[ｎｍ]の各サンプルでは、４５０[ｎｍ]〜６００[ｎｍ]の波長域において、反射率が略８９[％]以上となっている。
一方、金属層の膜厚が、３３[ｎｍ]、３５[ｎｍ]のサンプルでは、４５０[ｎｍ]〜６００[ｎｍ]の波長域において、反射率が８５[％]程度となっている。
【００９６】
次に、図８に示すように、金属層の膜厚が４０[ｎｍ]以上の範囲では、赤（Ｒ：λ＝６００[ｎｍ]）、緑（Ｇ：λ＝５３０［ｎｍ]）、青（Ｂ：λ＝４６０[ｎｍ]）の全ての波長域において、反射率が８８[％]以上となった。そして、金属層の膜厚が４３[ｎｍ]以上の範囲では、反射率は８９[％]以上となり、膜厚が５０[ｎｍ]以上の範囲では、反射率は略９０[％]前後となった。
【００９７】
また、図８に示すように、赤（Ｒ：λ＝６００[ｎｍ]）、緑（Ｇ：λ＝５３０［ｎｍ]）、青（Ｂ：λ＝４６０[ｎｍ]）の全ての波長域において、金属層の膜厚については、５０[ｎｍ]以上の範囲であれば、反射率が略９０[％]で一定の値となっている。
【００９８】
なお、陽極１０５の金属層１０５１の膜厚ｔ２に関し、その上限値は、上述のように、反射率という観点からは特に規定する必要はないが、上記のように有機機能層１０７の段切れ防止という観点から陽極１０５の膜厚ｔ２を薄くしようとすることを考慮すると、２００[ｎｍ]以下、望ましくは１２０[ｎｍ]以下、更に望ましくは１００[ｎｍ]以下である。
【００９９】
以上より、陽極１０５における金属層１０５１の膜厚ｔ２の範囲は、４０[ｎｍ]以上２００[ｎｍ]以下、望ましくは、４３[ｎｍ]以上２００[ｎｍ]以下、あるいは４０[ｎｍ]以上１２０[ｎｍ]以下、更に望ましくは、４３[ｎｍ]以上１２０[ｎｍ]以下、あるいは５０[ｎｍ]以上１００[ｎｍ]以下の範囲である。
【０１００】
７．有機機能層についての規定
上記では、有機機能層１０７について、少なくとも有機発光層を含むものとしているが、バリエーションを含めた規定について、図９を用い説明する。
【０１０１】
（１） 先ず、図９（ａ）に示すように、有機機能層１０７が電荷注入層１０７１と有機発光層１０７２との積層構造体とすることができる。この場合、陽極１０５における透明導電層１０５２に対し、電荷注入層１０７１が積層され、その上に有機発光層１０７２が積層されることになる。
【０１０２】
なお、この構成を採用する場合には、「有機機能層１０７の膜厚ｔ３」とは、電荷注入層１０７１の膜厚ｔ３２と有機発光層１０７２の膜厚ｔ３１とを足し合わせた厚みとなる。
【０１０３】
（２） 次に、図９（ｂ）に示すように、有機機能層１１７が電荷注入層１１７１、有機発光層１１７２および電子輸送層１１７３の３層構造の積層構造体とすることもできる。この場合、陽極１０５の膜厚ｔ１との比較における「有機機能層１１７の膜厚ｔ１３」とは、電荷注入層１１７１の膜厚ｔ１３２と有機発光層１１７２の膜厚ｔ１３１とを足し合わせた厚みとなり、陽極１０５の膜厚ｔ１との比較においては、電子輸送層１１７３の膜厚ｔ１３３を含めないものとする。
【０１０４】
（３） 次に、図９（ｃ）に示すように、有機機能層１２７が電荷注入層１２７１、電荷輸送層１２７４および有機発光層１２７２の３層構造の積層構造体とすることもできる。この場合、陽極１０５の膜厚ｔ１との比較における「有機機能層１２７の膜厚ｔ２３」とは、電荷注入層１２７１の膜厚ｔ２３２と電荷輸送層１２７４の膜厚ｔ２３４と有機発光層１１７２の膜厚ｔ２３１とを足し合わせた厚みとなる。
【０１０５】
なお、図９（ｃ）における有機発光層１２７２に上に電子輸送層などが介挿される場合には、上記同様に、陽極１０５の膜厚ｔ１との比較においては、電子輸送層の膜厚を含めないものとする。
【０１０６】
８．有機ＥＬ表示パネル１０の製造方法
有機ＥＬ表示パネル１０の製造方法について、図１０から図１２を用い説明する。図１０から図１２は、主な工程での断面端面図である。
【０１０７】
図１０（ａ）に示すように、基板１０１を準備する。
次に、基板１０１の主面１０１ａ上に対し、ＴＦＴ層１０２およびパッシベーション膜１０３を形成する（図１０（ｂ）を参照）。なお、図１０（ｂ）においても、上記同様に、ＴＦＴ層１０２についてＳＤ電極だけを図示している。
【０１０８】
次に、基板１０１の上方であるパッシベーション膜１０３の主面１０３ａ上に、絶縁層である平坦化膜１０４を形成する。なお、図１０（ｃ）に示すように、平坦化膜１０４に対しては、ＴＦＴ層１０２のＳＤ電極に相当する部分にコンタクトホール１０４ａをあけ、当該部分のパッシベーション膜１０３についても住居することにより、底部にＴＦＴ層１０２のＳＤ電極の表面が露出するようにする。
【０１０９】
次に、平坦化膜１０４の主面１０４ｂに対して、金属層１０５１形成のための膜と、透明導電層１０５２形成のための膜とを順に積層する。両膜は、コンタクトホール１０４ａを囲む側壁にも形成される。そして、フォトリソグラフィおよびエッチングにより、これをパターニングし、金属層１０５１と透明導電層１０５２との積層構造体である陽極１０５を形成する（図１０（ｄ）を参照）。ここで、パターニングには、ドライエッチングおよびウェットエッチングの何れを採用することもできるが、特にウェットエッチングを採用する場合には、ウェットエッチングが等方性エッチングであることに起因して、陽極１０５の端部の内角を９０[°]以下にすることができるので、好適である。
【０１１０】
次に、陽極１０５が形成されずに露出した平坦化膜１０４の主面に対し、バンク１０６形成のための膜をスパッタリング法により形成する。そして、フォトリソグラフィおよびウェットエッチングにより、画素領域に対応する開口部を規定するバンク１０６を形成する（図１１（ａ）を参照）。図１１（ａ）に示すように、開口部を臨むバンク１０６の端部は、陽極１０５の端部に対し、間隔ｄ１をあけて形成される。
【０１１１】
次に、陽極１０５の主面１０５ａを含む、バンク１０６で規定された開口部内に対し、有機機能層１０７形成のためのインク１０７０を塗布する（図１１（ｂ）を参照）。このとき、バンク１０６の表面の撥液性に起因して、隣接する開口部間では、インク１０７０が連続することはない。
【０１１２】
次に、インク１０７０を乾燥することにより、バンク１０６で規定される開口部内に有機機能層１０７が形成される（図１１（ｃ）を参照）。なお、有機機能層１０７が、図９（ａ）から図９（ｃ）に示すように、２層構造あるいは３層以上の構造を採用する場合には、各層形成のためのインク塗布と乾燥とを繰り返し実行することになる。
【０１１３】
次に、有機機能層１０７の主面１０７ａおよびバンク１０６の表面を含む全体領域に対し、陰極１０８を形成する（図１２（ａ）を参照）。ここで、陰極１０８の形成には、スパッタリング法などを用いることができる。
【０１１４】
次に、陰極１０８の表面１０８ａ上に、封止層１０９を積層形成する（図１２（ｂ）を参照）。
［実施の形態２］
実施の形態２に係る有機ＥＬ表示パネル３０の構成について、上記実施の形態１との差異部分を中心に、図１３を用い説明する。図１３は、上記実施の形態１における図２で示す断面端面図に対応するものである。
【０１１５】
図１３に示すように、本実施の形態に係る有機ＥＬ表示パネル３０では、陽極３０５が金属層の一層構造である点で上記実施の形態１に係る有機ＥＬ表示パネル１０と相違する。有機ＥＬ表示パネル３０でも、陽極３０５の端部が、開口部を臨むバンク１０６の端部から離間した状態となっており、陽極３０５が形成された領域が発光領域３００であり、他の領域が非発光領域３５０である。
【０１１６】
本実施の形態に係る有機ＥＬ表示パネル３０でも、陽極３０５の膜厚は４０［ｎｍ］以上２００［ｎｍ］以下の範囲内に設定され、また、有機機能層１０７の膜厚が陽極３０５の膜厚よりも厚くなっている。そして、有機機能層１０７は、陽極３０５の上面から端部側面にわたって形成されている。
【０１１７】
以上より、本実施の形態に係る有機ＥＬ表示パネル３０およびこれを備える有機ＥＬ表示装置でも、上記有機ＥＬ表示パネル１０および有機ＥＬ表示装置１と同様の効果を有する。
【０１１８】
［実施の形態３］
実施の形態３に係る有機ＥＬ表示パネル４０の構成について、上記実施の形態１との差異部分を中心に、図１４および図１５を用い説明する。図１４は、上記実施の形態１における図４に示す平面図に対応するものであり、図１５は、図２で示す断面端面図に対応するものである。
【０１１９】
図１４に示すように、本実施の形態に係る有機ＥＬ表示パネル４０は、バンク４０６が、所謂、ラインバンク構造を有する点に特徴がある。即ち、図１４に示すように、バンク４０６は、Ｙ軸方向に延伸する複数条の要素により構成されている。複数条の要素は、端部において互いに連続していてもよいし、逆に、各々が分離した状態となっていてもよい。
【０１２０】
図１５は、図１４における有機ＥＬ表示パネル４０の一部をＨ−Ｈ‘断面の端面を示す模式断面端面図である。図１５に示すように、有機ＥＬ表示パネル４０では、ラインバンク構造のバンク４０６（図１４を参照。）を採用するため、Ｙ軸方向における隣接画素間には、バンク４０６が介挿されない。
【０１２１】
図１５に示すように、本実施の形態においても、陽極１０５の上面から端部側面にわたって有機機能層４０７が形成されており、その上に陰極４０８および封止層４０９が順に積層形成されている。よって、有機ＥＬ表示パネル４０においても、陽極１０５が形成された領域が発光領域４００であり、その他の領域が非発光領域４５０である。
【０１２２】
なお、有機ＥＬ表示パネル４０について、図１４のＸ軸方向の断面構造については、図示を省略しているが、当該構造は、上記実施の形態１と同様である。即ち、Ｘ軸方向においては、陽極１０５の端部が、開口部を臨むバンク４０６の端部に対して離間した状態となっている。また、本実施の形態においても、陽極１０５における金属層１０５１の膜厚は、４０［ｎｍ］以上２００［ｎｍ］以下の範囲内で設定されており、有機機能層４０７の膜厚が陽極１０５の膜厚よりも厚くなっている。
【０１２３】
以上より、本実施の形態に係る有機ＥＬ表示パネル４０およびこれを備える有機ＥＬ表示装置でも、上記実施の形態１と同様の効果を有する。
［その他の事項］
上記実施の形態１，２，３では、有機機能層１０７，１１７，１２７，４０７に対して、Ｚ軸方向の下方、即ち、基板１０１の側に陽極１０５，３０５を配置し、Ｚ軸方向の上方に陰極１０８，４０８を配置することとしたが、陽極と陰極との配置関係を上下逆にすることもできる。この場合には、有機機能層において、有機発光層に対し基板１０１側となる領域に電子注入層や電子輸送層が配置されることになり、この場合も「有機機能層の膜厚」は、基板１０１の側から積算し、有機発光層を含むレベルまでの膜厚が規定される。
【０１２４】
また、上記実施の形態１，２，３の説明の際に用いた図１から図１５については、各部のサイズについて厳密な相対値を以って示しているわけではなく、実際の構造への適用に際して適宜の変更が可能である。この場合においても、陽極における金属層の膜厚を上記範囲内で規定し、且つ、有機機能層の膜厚を陽極の膜厚よりも厚くすることは必要である。
【産業上の利用可能性】
【０１２５】
本発明は、優れた発光特性を有しながら、長寿命な有機ＥＬ表示パネルおよび有機ＥＬ表示装置を実現するのに有用である。
【符号の説明】
【０１２６】
１．有機ＥＬ表示装置
１０，３０，４０．有機ＥＬ表示パネル
２０．駆動制御部
２１〜２４．駆動回路
２５．制御回路
１００，３００，４００．発光領域
１０１．基板
１０２．ＴＦＴ層
１０３．パッシベーション膜
１０４．平坦化膜
１０５，３０５．陽極
１０６，４０６．バンク
１０７，１１７，１２７，４０７．有機機能層
１０８，４０８．陰極
１０９，４０９．封止層
１５０，３５０，４５０．非発光領域
１０５１．金属層
１０５２．透明導電層
１０７０．インク
１０７１，１１７１，１２７１．電荷注入層
１０７２，１１７２，１２７２．有機発光層
１１７３．電子輸送層
１２７４．電荷輸送層
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ表示パネルとその製造方法、および有機ＥＬ表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年では、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置の研究・開発がなされている。有機ＥＬ表示装置に含まれる有機ＥＬ表示パネルは、画素単位で有機ＥＬ素子が設けられた構成を有し、有機ＥＬ素子毎に固体蛍光性物質の電界発光現象を利用して自発光する。従来技術の一例として、特許文献１，２で開示されている有機ＥＬ表示パネルの構成について、図１６を用い説明する。
【０００３】
図１６に示すように、従来技術に係る有機ＥＬ表示パネルでは、基板９０１上にＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）層９０２が形成され（図１６では、一部であるソースのみを図示している）、その上にパッシベーション膜９０３および平坦化膜９０４が順に積層形成されている。平坦化膜９０４上には、各画素９００に対応する状態で、陽極９０５が形成されている。陽極９０５は、平坦化膜９０４の側から順に積層形成された金属層９０５１と透明導電層９０５２とから構成されている。陽極９０５は、平坦化膜９０４に開けられたコンタクトホール９０４ａ中にも埋め込まれており、これによりＴＦＴ層９０２との接続が図られている。
【０００４】
平坦化膜９０４上には、画素９００と隣接する画素９００との間を区画するように、バンク９０６が形成されている。バンク９０６は、陽極９０５の端部の一部上を覆うように配されている。バンク９０５で規定された画素９００の領域には、陽極９０５上に有機機能層９０７が積層形成されている。有機機能層９０７は、湿式の塗布型層であって、少なくとも有機発光層を含む。有機機能層９０７上およびバンク９０６上には、陰極９０８が形成されており、さらに陰極９０８を覆うように封止層９０９が積層形成されている。
【０００５】
ところで、図１６に示す従来技術に係る有機ＥＬ表示装置では、バンク９０６が陽極９０５の端部を覆っているため、当該部分に電流が流れ難くなり、発光領域の減少が問題となる。また、図１７（ａ）や図１７（ｂ）に示すように、各画素９２０，９３０における有機機能層９２７，９３７の両端部分（矢印Ｉおよび矢印Ｊで指し示す部分）において、塗布ムラに起因する厚みの不均一を生じることがある。このような現象は、発光輝度ムラの原因となり、画質の向上という観点から改善が求められる。
【０００６】
これに対し、特許文献３では、バンクの幅を狭くすることにより陽極との間隔をあけ、これによって上記のような課題を解決しようとする提案がされている。即ち、バンクの幅を狭くすることで陽極の端部をバンクで覆わない構成とし、当該構成により発光領域を広くするとともに、陽極上の有機機能層の厚みを均一にできるとされている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平１１−５４２８６号公報
【特許文献２】特開２００４−１９２８９０号公報
【特許文献３】特開２００５−９３４２１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献３で提案されている技術では、バンクと陽極との間に間隔をあけたことに起因して、陽極の端部において有機機能層が段切れを生じて陽極と陰極とがショートしてしまったり、段切れを生じないまでも有機機能層の膜厚が極端に薄くなることで電界集中を生じたりするなどの問題を生じ得る。即ち、図１８に示すように、陽極９５５の端部Ｐ９１とバンク９０６の端部Ｐ９２との間に間隔ｄ９をあける構成の場合、陽極９５５の端部（矢印Ｋで示す部分）で陽極９５５と陰極９０８とがショートしたりすることが生じ得る。
【０００９】
図１８に示すように、陽極９５５は、アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層などの金属層９５５１とＩＴＯ（酸化インジウムスズ）層９５５２との積層構造を有するが、この内、金属層９５５１は図示を省略しているバスバーと同一行程で形成されるため、膜厚ｔ９２をバスバーに合わせて厚膜に形成しているのが現状である。これより、従来においては、陽極９５５の膜厚ｔ９１が厚くなっており、それよりも膜厚ｔ９３が薄い有機機能層９５７ａを形成するとき、矢印Ｋで示す部分で有機機能層が段切れを生じる。即ち、矢印Ｋで示す部分を境にして、有機機能層９５７ａと有機機能層９５７ｂとの間が不連続な状態となる。この場合、段切れ部分で陽極９５５と陰極９０８とがショートするという問題が生じる。
【００１０】
なお、上記のような段切れの発生を防止するという目的で、有機機能層の膜厚を厚くするということも考えられるが、このような構成を採用する場合には、陽極９５５と陰極９０８との間での電気抵抗が増大してしまう。よって、所望の輝度を得るためには、より高い電圧を印加することが必要となり、有機機能層における有機発光層の劣化が促進され、寿命の低下という問題を生じることが考えられる。
【００１１】
本発明は、上記問題を解決しようとなされたものであって、発光領域が広く、且つ、発光領域内での有機機能層の膜厚が均一に維持され、且つ、有機機能層の段切れのないことから、優れた発光特性を有しながら、長寿命な有機ＥＬ表示パネルとその製造方法、および有機ＥＬ表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記目的を達成するために、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルは、基板と、基板の上方に配置された絶縁層と、絶縁層の上方に形成され、所定の画素の領域に対応する開口部を規定するバンクと、絶縁層の表面上に配置され、アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層を含み、当該アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層の表面部を所定の反射率を有する反射部とした第１電極と、第１電極の上面に形成され、有機発光層を少なくとも含む有機機能層と、有機機能層の上方に配置され、有機機能層から上方へ照射された光と、有機機能層から下方に照射された光であって第１電極の反射部で反射された光と、を透過する第２電極と、を含む。そして、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、第１電極は、バンクの開口部内において、その端部が開口部を臨むバンクの端部から離間して配置され、第１電極に含まれるアルミニウム層若しくはアルミニウム合金層の膜厚は、４０［ｎｍ]以上２００[ｎｍ]以下の所定の膜厚であり、有機機能層は、第１電極の所定の膜厚以上の膜厚であり、第１電極の上面から端部の側面にわたって形成されている。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、第１電極におけるアルミニウム層若しくはアルミニウム合金層（以下、「金属層」と記載する。）の膜厚を４０[ｎｍ]以上２００[ｎｍ]以下の所定の膜厚とし、これにより、第１電極の金属層の表面部分が、有機機能層における有機発光層から照射された光に対して所定の反射率を有する反射部となる。即ち、第１電極における金属層の膜厚を４０[ｎｍ]未満とする場合には、有機機能層における有機発光層から下方に照射された光の第２電極へ反射する光量が減少し、発光効率の低下を招くが、第１電極における金属層の膜厚を４０[ｎｍ]以上とすることにより、高い発光効率を得ることができる。
【００１４】
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、有機機能層の膜厚を、第１電極の所定膜厚以上の膜厚とし、且つ、第１電極の上面から端部の側面にわたって有機機能層が形成されている構成を採用する。このため、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、第１電極に対する有機機能層の膜厚および第１電極に対する有機機能層の形成形態を採用することにより、有機機能層の膜厚を必要以上に厚くする必要はなく、第１電極と第２電極との間での電気抵抗の増大による寿命低下という問題を生じることはなく、また、第１電極の端部における有機機能層の段切れや極端な薄膜化を招くことがない。
【００１５】
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、第１電極の端部と、開口部を臨むバンクの端部とを相互に離間させているので、発光領域を広くできるとともに、上記特許文献３で提案されている技術と同様に、第１電極上の有機機能層の厚みを均一化することができる。よって、発光特性が優れる。
【００１６】
以上より、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、発光領域が広く、且つ、発光領域内での有機機能層の膜厚が均一に維持され、且つ、有機機能層の段切れの発生がない。従って、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルは、優れた発光特性を有しながら、長寿命である。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】実施の形態１に係る有機ＥＬ表示装置１の構成を示す模式ブロック構成図である。
【図２】有機ＥＬ表示パネル１０の一部構成を示す模式断面端面図である。
【図３】有機ＥＬ表示パネル１０の一部構成を示す模式断面端面図である。
【図４】有機ＥＬ表示パネル１０の一部構成を抜き出して示す模式平面図である。
【図５】有機ＥＬ表示パネル１０における陽極１０５の端部付近を示す模式断面端面図である。
【図６】（ａ）は、実施の形態１に係る有機ＥＬ表示パネル１０における陽極１０５と有機機能層１０７との相互の配置関係を示す模式断面端面図であり、（ｂ）は、比較例に係る有機ＥＬ表示パネルにおける陽極９５５と有機機能層９５７との相互の配置関係を示す模式断面端面図である。
【図７】金属層１０５１の膜厚毎の光の波長と反射率との関係を示す特性図である。
【図８】発光色毎の金属層１０５１の膜厚と反射率との関係を示す特性図である。
【図９】（ａ）は、有機機能層１０７が２層構造である場合の膜厚ｔ３を定義するために用いる模式断面図であり、（ｂ）は、有機機能層１１７が３層構造である場合の膜厚ｔ１３を定義するために用いる模式断面図であり、（ｃ）は、有機機能層１２７に含まれる電荷注入層１２７１の膜厚ｔ２３２を定義するために用いる模式断面図である。
【図１０】（ａ）〜（ｄ）は、有機ＥＬ表示パネル１０の製造工程の一部を示す模式工程図である。
【図１１】（ａ）〜（ｃ）は、有機ＥＬ表示パネル１０の製造工程の一部を示す模式工程図である。
【図１２】（ａ），（ｂ）は、有機ＥＬ表示パネル１０の製造工程の一部を示す模式工程図である。
【図１３】実施の形態２に係る有機ＥＬ表示パネル３０の一部構成を示す模式断面端面図である。
【図１４】実施の形態３に係る有機ＥＬ表示パネル４０の一部構成を抜き出して示す模式平面図である。
【図１５】有機ＥＬ表示パネル４０の一部構成を示す模式断面端面図である。
【図１６】従来技術に係る有機ＥＬ表示パネルの一部構成を示す模式断面端面図である。
【図１７】（ａ），（ｂ）は、従来技術で問題となる有機機能層９２７，９３７の端部断面形状を示す模式断面端面図である。
【図１８】改良に係る従来技術で問題となる陽極９５５の端部付近での有機機能層９５７の端部断面形状を示す模式断面端面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
[本発明の態様]
本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルは、基板と、基板の上方に配置された絶縁層と、絶縁層の上方に形成され、所定の画素の領域に対応する開口部を規定するバンクと、絶縁層の表面上に配置され、アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層を含み、当該アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層の表面部を所定の反射率を有する反射部とした第１電極と、第１電極の上面に形成され、有機発光層を少なくとも含む有機機能層と、有機機能層の上方に配置され、有機機能層から上方へ照射された光と、有機機能層から下方に照射された光であって第１電極の反射部で反射された光と、を透過する第２電極と、を含む。そして、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、第１電極は、バンクの開口部内において、その端部が開口部を臨むバンクの端部から離間して配置され、第１電極に含まれるアルミニウム層若しくはアルミニウム合金層の膜厚は、４０［ｎｍ]以上２００[ｎｍ]以下の所定の膜厚であり、有機機能層は、第１電極の所定の膜厚以上の膜厚であり、第１電極の上面から端部の側面にわたって形成されている。
【００１９】
なお、本明細書では、第１電極における周囲の縁部を「端部」と呼称している。
本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、第１電極におけるアルミニウム層若しくはアルミニウム合金層（以下、「金属層」と記載する。）の膜厚を４０[ｎｍ]以上２００[ｎｍ]以下の所定の膜厚とし、これにより、第１電極の金属層の表面部分が、有機機能層における有機発光層から下方に照射された光に対して所定の反射率を有する反射部となる。即ち、第１電極における金属層の膜厚を４０[ｎｍ]未満とする場合には、有機機能層における有機発光層から照射された光の第２電極へ反射する光量が減少し、発光効率の低下を招くが、第１電極における金属層の膜厚を４０[ｎｍ]以上とすることにより、高い発光効率を得ることができる。
【００２０】
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、有機機能層の膜厚を、第１電極の所定膜厚以上の膜厚とし、且つ、第１電極の上面から端部の側面にわたって有機機能層が形成されている構成を採用する。このため、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、第１電極に対する有機機能層の膜厚および第１電極に対する有機機能層の形成形態を採用することにより、有機機能層の膜厚を必要以上に厚くする必要はなく、第１電極と第２電極との間での電気抵抗の増大による寿命低下という問題を生じることはなく、また、第１電極の端部における有機機能層の段切れや極端な薄膜化を招くことがない。
【００２１】
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、第１電極の端部と、開口部を臨むバンクの端部とを相互に離間させているので、発光領域を広くできるとともに、第１電極上の有機機能層の厚みを均一化することができる。よって、発光特性が優れる。
【００２２】
以上より、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、発光領域が広く、且つ、発光領域内での有機機能層の膜厚が均一に維持され、且つ、有機機能層の段切れの発生がない。従って、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルは、優れた発光特性を有しながら、長寿命である。
【００２３】
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、上記構成において、第１電極が、金属層（アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層）の上面に設けられた透明導電層を有する、という構成を採用することもできる。これにより、製造工程中などで金属層の表面部の反射率が低下するのを防止することができ、また、キャビティ設計における自由度を高くすることができる。
【００２４】
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、上記構成において、第１電極に含まれる金属層（アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層）の膜厚が４３[ｎｍ]以上２００[ｎｍ]以下の所定の膜厚である、という構成を採用することもできる。このように、金属層の膜厚を４３[ｎｍ]以上とすることにより、有機機能層の段切れの発生を防止しながら、金属層の表面部における反射率を高く維持することができる。具体的には、金属層の表面部における反射率を８９[％]以上の安定した値とすることができる。よって、この構成を採用する場合には、光学特性に更に優れたものとすることができる。
【００２５】
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、上記構成において、第１電極に含まれる金属層（アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層）の膜厚が４０[ｎｍ]以上１２０[ｎｍ]以下の所定の膜厚である、という構成を採用することもできる。先ず、金属層の膜厚の上限を１２０[ｎｍ]と規定することにより、金属層の表面部における反射率を低下させることなく、第１電極全体での膜厚を更に薄くすることができ、端部における有機機能層の段切れの発生を更に効果的に防止することができる。よって、上記構成を採用する場合には、第１電極と第２電極とのショートをより確実に防止することができる。
【００２６】
なお、金属層を含む第１電極の膜厚を厚くし、これに連動して有機機能層の膜厚も厚くした場合には、上記のように、第１電極と第２電極との間での電気抵抗が増大し、この間に流れる電流量が低下する。このため、このような構成を採用すると、有機発光層における発光量が第１電極と第２電極との間隔の増大に反して、低下する。特に、第１電極における金属層の膜厚を１２０[ｎｍ]よりも厚くし、第１電極の膜厚もこれに伴い厚くする場合には、有機発光層における発光量の低下が、有機発光デバイスとして使用できない程度まで大きくなる。
【００２７】
これに対して、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、第１電極の金属層の膜厚を１２０[ｎｍ]以下としているので、有機機能層の膜厚もこれに伴い薄くすることができ、第１電極と第２電極との間に印加する電圧を低減することができ、その結果、有機発光デバイスとしての消費電力を抑えることができる。そして、このように印加電圧を低減する場合にも、大きな電流が流れるので、有機発光デバイスとして優れた発光性能を有する。よって、優れた発光特性を有しながら、長寿命であるという効果を得ることができる。
【００２８】
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、上記構成において、第１電極に含まれる金属層（アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層）の膜厚が４３[ｎｍ]以上１２０[ｎｍ]以下の所定の膜厚である、という構成を採用することもできる。上記構成を採用する場合には、第１電極における金属層の表面部での反射率を８９[％]以上の高い値で安定させることができる。その結果、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、優れた光学特性を有する。また、金属層の膜厚を上記範囲とすることに伴い、第１電極の膜厚もこれに伴って更に薄くすることでき、有機機能層の段切れの発生を防止しながら、第１電極と第２電極との間に印加する電圧を低減することができる。
【００２９】
よって、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、優れた光学特性を有し、更に長寿命である。
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、上記構成において、第１電極に含まれる金属層（アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層）の膜厚が５０[ｎｍ]以上１００[ｎｍ]以下の所定の膜厚である、という構成を採用することもできる。この構成を採用する場合には、第１電極の膜厚を金属層の膜厚に伴って極力薄くすることができ、且つ、金属層の膜厚が１００[ｎｍ]を超える第１電極を採用する場合と同等の反射率を確保することができる。よって、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、優れた光学特性を有し、且つ、有機機能層の膜厚を更に薄くすることができるので、第１電極と第２電極との間に印加する電圧を低減することができる。
【００３０】
以上より、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、優れた光学特性を有し、更に長寿命であるという効果を有する。
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、上記構成において、有機機能層が、第１電極上に形成された電荷注入層あるいは電荷輸送層の少なくとも一方を含み、第１電極上に形成された電荷注入層あるいは電荷輸送層の少なくとも一方の膜厚が第１電極の所定の膜厚以上の膜厚であり、第１電極の上面から端部の側面にわたって形成されている、という構成を採用することもできる。このように、有機機能層に電荷注入層あるいは電荷輸送層の少なくとも一方を含む構成を採用する場合には、電荷注入性に優れ、優れた発光特性を有することができる。そして、電荷注入層あるいは電荷輸送層が第１電極の上面から端部の側面にわたって形成されているので、第１電極の端部での有機機能層の段切れが確実に防止でき、第１電極と第２電極とのショートを防止することができる。
【００３１】
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、上記構成において、有機機能層が、第１電極上に形成された電荷注入層あるいは電荷輸送層の少なくとも一方の層の上方に有機発光層を設けた層である、という構成を採用することもできる。
【００３２】
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、上記構成において、有機機能層が、電荷注入層、電荷輸送層および有機発光層を含む層であり、電荷注入層が第１電極上に形成され、電荷注入層の膜厚が第１電極の所定の膜厚以上の膜厚であり、第１電極の上面から端部の側面にわたって形成されている、という構成を採用することもできる。
【００３３】
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、上記構成において、第１電極の端部の側面と基板とがなす内角が９０[°]以下である、という構成を採用することもできる。この構成を採用する場合には、第１電極の上方に配置された有機機能層が、第１電極の端部で段切れを発生するのを、より確実に防止することができるようになり、第１電極と第２電極との間でのショートの発生を確実に防止することができる。
【００３４】
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、第１電極の端部を開口部を臨むバンクの端部から離間させて配置しているので、バンク近傍での有機膜の塗布状態が不安定になることが考えられるが、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、当該領域の下方には第１電極が存在しないため、発光しない領域（非発光領域）となる。よって、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、発光領域において、塗布形状のバラツキが少なく、膜厚を含む膜状態が均一な有機機能層を有し、画素内での輝度ムラが少なく、長寿命であるという効果を得ることができる。
【００３５】
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、上記所定の画素の領域が、画素毎の領域であり、バンクが、上記開口部を画素毎に規定する、という構成を採用することができる。即ち、所謂、ピクセルバンク構成を一例として採用することができる。
【００３６】
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、上記所定の画素の領域が、複数の画素がライン状に配列された領域であり、バンクが、上記開口部をライン状に配列された複数の画素毎に規定する、という構成を採用することもできる。即ち、所謂、ラインバンク構成を一例として採用することもできる。
【００３７】
本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示装置は、上記のいずれかの有機ＥＬ表示パネルを具備したことを特徴とする。よって、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示装置においても、上記同様の理由より、優れた発光特性を有しながら、長寿命である。
【００３８】
本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法では、次の工程を含む。
（第１工程）基板を準備する。
（第２工程）基板の上方に絶縁膜を配置する。
【００３９】
（第３工程）金属層（アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層）を含み、当該金属層（アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層）の表面部を所定の反射率を有する反射部とした第１電極を、絶縁層の表面上に配置する。
【００４０】
（第４工程）絶縁膜の上方に、所定の画素の領域に対応する開口部を規定するバンクを形成する。
（第５工程）有機発光層を少なくとも含む有機機能層を、第１電極の上面から端部の側面にわたって、第１電極の所定の膜厚以上の膜厚に形成する。
【００４１】
（第６工程）有機発光層から上方へ照射された光と、有機発光層から下方に照射された光であって第１電極の反射部で反射された光とを、透過する第２電極を前記有機発光層の上方に配置する。
【００４２】
本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法では、上記において、第１電極は、バンクの開口部内において、その端部が開口部を臨むバンクの端部から離間して配置し、第１電極に含まれる金属層（アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層）の膜厚が４０[ｎｍ]以上２００[ｎｍ]以下の所定の膜厚である、という構成を採用することを特徴とする。
【００４３】
本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法では、金属層（アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層）の膜厚を４０[ｎｍ]以上２００[ｎｍ]以下の所定の膜厚とし、これにより、その表面部分が、有機機能層における有機発光層から照射された光に対して所定の反射率を有する反射部となる第１電極を形成する。金属層の膜厚を４０[ｎｍ]以上とすることにより、表面部における反射部が高い発光効率を有する第１電極を形成することができる。
【００４４】
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法では、有機機能層の膜厚を、第１電極の所定膜厚以上の膜厚とし、且つ、第１電極の上面から端部の側面にわたって有機機能層を形成することとしている。このため、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法を用いる場合、製造された有機ＥＬ表示パネルは、第１電極に対する有機機能層の膜厚および第１電極に対する有機機能層の形成形態を採用することにより、有機機能層の膜厚を必要以上に厚くする必要はなく、第１電極と第２電極との間での電気抵抗の増大による寿命低下という問題を生じることはなく、また、第１電極の端部における有機機能層の段切れや極端な薄膜化を招くことがない。
【００４５】
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法では、第１電極の端部と、開口部を臨むバンクの端部とが相互に離間するようにしているので、発光領域を広くすることができ、第１電極上の有機機能層の厚みが均一な有機ＥＬ表示パネルを製造することができる。よって、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法を用い製造された有機ＥＬ表示パネルは、発光特性が優れる。
【００４６】
以上より、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法では、発光領域が広く、且つ、発光領域内での有機機能層の膜厚が均一に維持され、且つ、有機機能層の段切れの発生がなく、製造された有機ＥＬ表示パネルは、優れた発光特性を有しながら、長寿命である。
【００４７】
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法では、上記第３工程において、第１電極が、金属層（アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層）の上面に透明導電層を設けて形成される、という構成を採用することができる。これにより、製造工程中などで金属層の表面部の反射率が低下するのを防止することができ、また、キャビティ設計における自由度を高くすることができる。
【００４８】
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法では、上記第３工程において、ウェットエッチングにより、所定の形状にパターニングされた第１電極を形成することにより、第１電極の端部の側面と基板とがなす内角を９０[°]以下にする、という構成を採用することもできる。ウェットエッチングは、等方性エッチングであるため、ウェットエッチングにより第１電極をパターニングする場合には、第１電極の端部の側面と基板とがなす内角を９０[°]以下とすることに好適である。
【００４９】
上記のようにウェットエッチングにより第１電極のパターニングを行う場合には、第１電極の端部の側面と基板とがなす内角を９０[°]以下とすることにより、第１電極の上方に配置された有機機能層が、第１電極の端部で段切れを発生するのを、より確実に防止することができるようになる。よって、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法では、第１電極と第２電極との間でのショートの発生が確実に防止された有機ＥＬ表示パネルを製造することができる。
【００５０】
なお、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法では、上記ウェットエッチング以外にも、ドライエッチングを用いることができることはいうまでもない。
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法では、上記構成において、有機機能層を、インクジェット法、ダイコート法、スピンコート法のいずれかの湿式塗布方法で形成する、という構成を採用することもできる。インクジェット法、ダイコート法、スピンコート法などの湿式塗布方法は、連続した有機機能層を大面積に形成することができる方法である。このため、これら方法の何れかを用い有機機能層を形成する場合には、第１電極の端部での段切れを防止しながら、第１電極上での膜厚が均一な有機機能層を形成するのに好適である。
【００５１】
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法では、上記構成において、有機機能層が、第１電極上に形成された電荷注入層あるいは電荷輸送層の少なくとも一方を含み、第１電極上に形成された電荷注入層あるいは電荷輸送層の少なくとも一方の膜厚が第１電極の所定の膜厚以上の膜厚であり、第１電極の上面から端部の側面にわたって形成されている、という構成を採用することもできる。このように、有機機能層に電荷注入層あるいは電荷輸送層の少なくとも一方を含む構成を採用する場合には、電荷注入性に優れ、優れた発光特性を有することができる。そして、電荷注入層あるいは電荷輸送層が第１電極の上面から端部の側面にわたって形成されているので、第１電極の端部での有機機能層の段切れが確実に防止でき、第１電極と第２電極とのショートを防止することができる。
【００５２】
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法では、上記構成において、有機機能層が、電荷注入層あるいは電荷輸送層の少なくとも一方の層の上方に有機発光層を設けた層である、という構成を採用することもできる。
【００５３】
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法では、上記構成において、有機機能層が、電荷注入層、電荷輸送層及び有機発光層を含む層であり、電荷注入層が第１電極上に形成され、電荷注入層の膜厚が第１電極の所定の膜厚以上の膜厚であり、電荷注入層が第１電極の上面から端部の側面にわたって形成されている、という構成を採用することもできる。
【００５４】
以下では、本発明を実施するための形態について、数例を用い説明する。
なお、以下の説明で用いる実施の形態は、本発明の構成および作用・効果を分かりやすく説明するために用いる例示であって、本発明は、その本質的部分以外に何ら以下の形態に限定を受けるものではない。
【００５５】
[実施の形態１]
１．有機ＥＬ表示装置１の全体構成
以下では、発光装置の一例としての有機ＥＬ表示装置１で説明する。
【００５６】
本実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置１の全体構成について、図１を用い説明する。
図１に示すように、有機ＥＬ表示装置１は、有機ＥＬ表示パネル１０と、これに接続された駆動制御部２０とを有し構成されている。有機ＥＬ表示パネル１０は、有機材料の電界発光現象を利用したパネルであり、複数の有機ＥＬ素子が、例えば、マトリクス状に配列され構成されている。駆動制御部２０は、４つの駆動回路２１〜２４と制御回路２５とから構成されている。
【００５７】
なお、実際の有機ＥＬ表示装置１では、表示パネル１０に対する駆動制御部２０の配置については、これに限られない。
２．有機ＥＬ表示パネル１０の構成
有機ＥＬ表示パネル１０の構成について、図２、図３および図４を用い説明する。図２は、有機ＥＬ表示パネル１０の構成の一部を、図１におけるＹ軸方向に切断した断面端面図であって、図４におけるＣ−Ｃ‘断面の端面を示す。一方、図３は、有機ＥＬ表示パネル１０の構成の一部を、図１におけるＸ軸方向に切断した断面端面図であって、図４におけるＤ−Ｄ’断面の端面を示す。
【００５８】
なお、図４では、陽極１０５とバンク１０６との関係を分かりやすくするため、他の構成要素の図示を省略している。
先ず、図２に示すように、有機ＥＬ表示パネル１０は、基板１０１をベースとして形成されている。そして、基板１０１上には、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）層１０２、パッシベーション膜１０３および平坦化膜１０４が順に積層形成されている。なお、図２では、ＴＦＴ層１０２について、その構成の一部であるソースあるいはドレイン（ＳＤ電極）のみを図示している。
【００５９】
絶縁層である平坦化膜１０４上には、画素に対応する開口部を規定するバンク１０６が形成されている。また、平坦化膜１０４上におけるバンク１０６で規定された画素領域には、陽極１０５が形成されている。陽極１０５は、平坦化膜１０４の側から順に、金属層１０５１および透明導電層１０５２が積層され構成されている。陽極１０５は、平坦化膜１０４に開けられたコンタクトホール１０４ａ内にも連続して形成され、ＴＦＴ層１０２のＳＤ電極と接続されている。
【００６０】
陽極１０５における金属層１０５１は、アルミニウム（Ａｌ）若しくはアルミニウム合金（Ａｌ合金）からなる層であり、透明導電層１０５２は、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）若しくはＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）からなる層である。
【００６１】
有機ＥＬ表示パネル１０におけるバンク１０６と陽極１０５との配置関係を、図４を用い説明する。
図４に示すように、有機ＥＬ表示パネル１０におけるバンク１０６は、所謂、ピクセルバンクと呼称されるものであって、Ｘ軸方向に延伸する要素１０６ａとＹ軸方向に延伸する要素１０６ｂとが一体に形成されている。バンク１０６で規定される各開口部が一画素に該当し、陽極１０５が各開口部内に配されている。なお、各画素における陽極１０５は、コンタクトホール１０４ａを介してＴＦＴ層１０２のＳＤ電極に接続されている。
【００６２】
図２に戻って、陽極１０５上には、有機機能層１０７が積層形成されている。有機機能層１０７は、少なくとも有機発光層を含む層であって、その他に電荷注入層、電荷輸送層あるいは電荷注入輸送層などを含むものであってもよい。
【００６３】
図２の矢印Ａ部分に示すように、本実施の形態に係る有機ＥＬ表示パネル１０では、陽極１０５の端部が、開口部を臨むバンク１０６の端部から離間した状態となっており、当該離間部分では、平坦化膜１０４の表面に接する状態で有機機能層１０７が形成されている。
【００６４】
有機機能層１０７上には、陰極１０８が形成されている。陰極１０８は、有機ＥＬ表示パネル１０における全ての画素にわたり共通に設けられており、バンク１０６上にも形成されている。陰極１０８の上には、封止層１０９が形成されている。
【００６５】
図３に示すように、有機ＥＬ表示パネル１０では、図４のＤ−Ｄ‘断面についても、コンタクトホール１０４ａがないことを除いて、図２に示すＣ−Ｃ’断面と基本的に同一の構成を有する。そして、図３の矢印Ｂ部分に示すように、Ｄ−Ｄ‘断面においても、陽極１０５の端部が、開口部を臨むバンク１０６の端部から離間した状態となっている。そして、図２および図３に示すように、各画素における陽極１０５が形成された領域が発光領域１００であり、バンク１０６が形成された領域を含むその他の領域が非発光領域１５０である。
【００６６】
有機ＥＬ表示パネル１０では、陽極１０５からホールが供給され、陰極１０８から電子が注入され、これらが有機機能層１０７へと送り込まれ、有機発光層で再結合することで光が出射される。有機機能層１０７の有機発光層から出射された光には、陰極１０８の側へと向かう成分と、陽極１０５の側へと向かう成分とが含まれる。陽極１０５の側へと向かった光成分は、陽極１０５における金属層１０５１におけるＺ軸上側の表面および表層部分で反射されて陰極１０８の側へと向かうことになる。このように、陽極１０５における金属層１０５１の表面部は、所定の反射率を有する反射部としての役割も果たす。
【００６７】
３．有機ＥＬ表示パネル１０を構成する主要材料
ａ）基板１０１
基板１０１は、例えば、無アルカリガラス、ソーダガラス、無蛍光ガラス、燐酸系ガラス、硼酸系ガラス、石英、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエチレン、ポリエステル、シリコーン系樹脂、又はアルミナ等の絶縁性材料をベースとして形成されている。
【００６８】
ｂ）平坦化膜１０４
平坦化膜１０４は、例えば、ポリイミド、ポリアミド、アクリル系樹脂材料などの有機化合物を用い形成されている。
【００６９】
ｃ）陽極１０５における金属層１０５１
陽極１０５における金属層１０５１は、上記のように、アルミニウム（Ａｌ）またはアルミニウム（Ａｌ）合金を用い形成されている。そして、トップエミッション型の本実施の形態に係る有機ＥＬ表示パネル１０の場合には、その表面部が高い反射性を有することが好ましい。
【００７０】
ｄ）陽極１０５における透明導電層１０５２
陽極１０５における透明導電層１０５２は、例えば、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）やＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）などの透明導電材料を用い形成されている。
【００７１】
ｅ）バンク１０６
バンク１０６は、樹脂等の有機材料を用い形成されており絶縁性を有する。バンク１０６の形成に用いる有機材料の例としては、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ノボラック型フェノール樹脂等があげられる。バンク１０６は、有機溶剤耐性を有することが好ましい。さらに、バンク１０６は、製造工程中において、エッチング処理、ベーク処理など施されることがあるので、それらの処理に対して過度に変形、変質などをしないような耐性の高い材料で形成されることが好ましい。また、撥水性をもたせるために、表面をフッ素処理することもできる。
【００７２】
なお、バンク１０６を親液性の材料を用い形成した場合には、バンク１０６の表面と有機機能層１０７の表面との親液性／撥液性の差異が小さくなり、有機機能層１０７中の有機発光層を形成するために有機物質を含んだインクを、バンク１０６が規定する開口部内に選択的に保持させることが困難となってしまうためである。
【００７３】
さらに、バンク１０６の構造については、図２および図３に示すような一層構造だけでなく、二層以上の多層構造を採用することもできる。この場合には、層毎に上記材料を組み合わせることもできるし、層毎に無機材料と有機材料とを用いることもできる。
【００７４】
ｆ）有機機能層１０７
有機機能層１０７中に含まれる有機発光層は、上述のように、ホールと電子とが注入され再結合されることにより励起状態が生成され発光する機能を有する。有機発光層の形成に用いる材料は、湿式印刷法を用い製膜できる発光性の有機材料を用いることが必要である。
【００７５】
具体的には、例えば、特許公開公報（日本国・特開平５−１６３４８８号公報）に記載のオキシノイド化合物、ペリレン化合物、クマリン化合物、アザクマリン化合物、オキサゾール化合物、オキサジアゾール化合物、ペリノン化合物、ピロロピロール化合物、ナフタレン化合物、アントラセン化合物、フルオレン化合物、フルオランテン化合物、テトラセン化合物、ピレン化合物、コロネン化合物、キノロン化合物及びアザキノロン化合物、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、ローダミン化合物、クリセン化合物、フェナントレン化合物、シクロペンタジエン化合物、スチルベン化合物、ジフェニルキノン化合物、スチリル化合物、ブタジエン化合物、ジシアノメチレンピラン化合物、ジシアノメチレンチオピラン化合物、フルオレセイン化合物、ピリリウム化合物、チアピリリウム化合物、セレナピリリウム化合物、テルロピリリウム化合物、芳香族アルダジエン化合物、オリゴフェニレン化合物、チオキサンテン化合物、アンスラセン化合物、シアニン化合物、アクリジン化合物、８−ヒドロキシキノリン化合物の金属錯体、２−ビピリジン化合物の金属錯体、シッフ塩とＩＩＩ族金属との錯体、オキシン金属錯体、希土類錯体などの蛍光物質で形成されることが好ましい。
【００７６】
なお、有機機能層１０７には、有機発光層よりも陽極１０５側に介挿された電荷注入層が含まれることもある。この場合、電荷注入層の構成材料としては、例えば、ＰＥＤＯＴ（ポリチオフェンとポリスチレンスルホン酸との混合物）などの導電性ポリマー材料を採用することができる。
【００７７】
ｇ）陰極１０８
陰極１０８は、例えば、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）若しくはＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）などを用い形成される。本実施の形態のように、トップエミッション型の有機ＥＬ表示パネル１０の場合においては、光透過性の材料で形成されることが好ましい。光透過性については、透過率が８０［％］以上とすることが好ましい。
【００７８】
陰極１０８の形成に用いる材料としては、上記の他に、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属、またはそれらのハロゲン化物を含む層の構造、あるいは、前記いずれかの層に銀を含む層とをこの順で積層した構造を用いることもできる。上記において、銀を含む層は、銀単独で形成されていてもよいし、銀合金で形成されていてもよい。また、光取出し効率の向上を図るためには、当該銀を含む層の上から透明度の高い屈折率調整層を設けることもできる。
【００７９】
ｈ）封止層１０９
封止層１０９は、有機機能層１０７中の有機発光層などが水分に晒されたり、空気に晒されたりすることを抑制する機能を有し、例えば、ＳｉＮ（窒化シリコン）、ＳｉＯＮ（酸窒化シリコン）などの材料を用い形成される。
【００８０】
また、ＳｉＮ（窒化シリコン）、ＳｉＯＮ（酸窒化シリコン）などの材料を用い形成された層の上に、アクリル樹脂、シリコーン樹脂などの樹脂材料からなる封止樹脂層を設けてもよい。
【００８１】
封止層１０９は、トップエミッション型である本実施の形態に係る有機ＥＬ表示パネル１０の場合においては、光透過性の材料で形成されることが好ましい。
４．陽極１０５とバンク１０６および有機機能層１０７との関係
陽極１０５とバンク１０６および有機機能層１０７との関係について、図５および図６を用い説明する。
【００８２】
図５に示すように、本実施の形態に係る有機ＥＬ表示パネル１０では、陽極１０５の端部Ｐ１が、開口部を臨むバンク１０６の端部Ｐ２から間隔ｄ１だけ離間した状態で配されている。この状態は、バンク１０６の幅を狭くすることにより実現されている。そのため、有機ＥＬ表示パネル１０では、図１６に示す従来技術に係る有機ＥＬ表示パネルに比べて開口部を広くすることができ、優れた発光特性を有する。これは、間隔ｄ１の部分では有機機能層１０７の直下に陽極１０５は形成されていないものの、有機機能層１０７には、陽極１０５の端部と陰極１０８の間（図５における二点鎖線で囲んで示す部分）に生じた電界により、光が出射するためである。
【００８３】
また、間隔ｄ１だけ離間した部分では、有機機能層１０７が平坦化膜１０４上に形成されることになり、このため、図１７（ａ）および図１７（ｂ）に示すような、陽極１０５上における有機機能層１０７の膜厚不均一という問題を生じない。
【００８４】
陽極１０５における金属層１０５１の膜厚ｔ２は、有機機能層１０７における有機発光層から照射された光を陰極１０８の側へと反射するための反射率が所定値以上となるように設定されている。具体的な膜厚ｔ２は、４０[ｎｍ]以上２００[ｎｍ]以下の範囲内であり、望ましくは、下限値が４３[ｎｍ]であり、上限値が１２０[ｎｍ]であり、さらに望ましくは、下限値が５０[ｎｍ]であり、上限値が１００[ｎｍ]である。例えば、膜厚ｔ２の所定範囲の下限値を４３[ｎｍ]とする場合には、後述する図８に例示するように、８９[％]以上の安定した反射率を得ることができる。
【００８５】
また、本実施の形態では、有機機能層１０７の膜厚ｔ３が、陽極１０５の膜厚ｔ１以上の膜厚に設定されており、陽極１０５の上面１０５ａから端部側面１０５ｂにわたって形成されている。前記のような膜厚ｔ１，ｔ３の関係を採用することにより、矢印Ｅ部分に示すように、有機機能層１０７が、陽極１０５の端部で段切れや極端に薄肉となることがない。
【００８６】
有機機能層１０７の段切れ防止について、図６（ａ）および図６（ｂ）を用い説明する。図６（ａ）は、本実施の形態に係る陽極１０５と有機機能層１０７とを模式的に図示したものであり、図６（ｂ）は、比較例に係る陽極９５５と有機機能層９５７とを模式的に図示したものである。
【００８７】
先ず、図６（ａ）に示すように、本実施の形態のように、有機機能層１０７の膜厚ｔ３が、陽極１０５の膜厚ｔ１以上の膜厚に設定されている場合には、陽極１０５の上面１０５ａから端部側面１０５ｂにわたって有機機能層１０７が形成されることになる。なお、上記のように、陽極１０５の金属層１０５１の膜厚ｔ２が、反射率との関係で上記数値範囲内とすることが必要であるので、有機機能層１０７の膜厚ｔ３は、金属層１０５１の膜厚ｔ２を含む陽極１０５の膜厚ｔ１との相対的な関係で規定される。
【００８８】
また、図６（ａ）に示すように、陽極１０５における端部側面１０５ｂと基板１０１および平坦化膜１０４の上面とがなす内角θは、９０[°]以下になっている。これによっても、矢印Ｆ部分において、有機機能層１０７に段切れなどを生じない。
【００８９】
以上より、図６（ａ）の矢印Ｆ部分に示すように、有機機能層１０７が陽極１０５の端部で段切れなどを生じることがない。
次に、図６（ｂ）に示すように、比較例においては、陽極９５５上における有機機能層９５７の膜厚ｔ９３は、陽極９５５の膜厚ｔ９１よりも薄い関係となっている。従来技術では、陽極９５５が、金属層９５５１を含めて、図示を省略しているバスバーと同一の工程で形成することに起因して、金属層９５５１の膜厚ｔ９２および陽極９５５の膜厚ｔ９１が厚くなっている。よって、図６（ｂ）に示すように、有機機能層９５７は、矢印Ｇ部分（陽極９５５の端部）で段切れを発生することがある。そして、有機機能層９５７が段切れを生じ、陽極９５５の上面９５５ａ上の有機機能層９５７ａと、陽極９５５の端部側面９５５ｂを覆う有機機能層９５７ｂとが連続せず、陽極９５５の透明導電層９５５２が、矢印Ｇ部分で陰極（図６（ｂ）では、図示を省略。）とがショートすることになる。
【００９０】
５．有機ＥＬ表示パネル１０およびこれを備える有機ＥＬ表示装置１が有する主な効果
本実施の形態に係る有機ＥＬ表示パネル１０では、第１電極である陽極１０５の金属層１０５１（アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層）の膜厚ｔ２（図５などを参照。）を、４０[ｎｍ]以上の所定の膜厚とし、これにより、陽極１０５の金属層１０５１の表面部分が、有機機能層１０７における有機発光層から照射された光に対して所定の反射率を有する反射部となる。即ち、陽極１０５における金属層１０５１の膜厚ｔ２を４０[ｎｍ]未満とする場合には、有機機能層１０７における有機発光層から照射された光の陰極１０８側へ反射する光量が減少し、発光効率の低下を招くが、本実施の形態のように、陽極１０５における金属層１０５１の膜厚ｔ２を４０[ｎｍ]以上とすることにより、高い発光効率を得ることができる。
【００９１】
また、本実施の形態に係る有機ＥＬ表示パネル１０では、有機機能層１０７の膜厚ｔ３を、陽極１０５の膜厚ｔ１以上とし（図５などを参照。）、且つ、陽極１０５の上面１０５ａから端部側面１０５ｂにわたって有機機能層１０７が形成されている構成を採用する（図６（ａ）を参照）。このため、有機ＥＬ表示パネル１０では、陽極１０５に対する有機機能層１０７の膜厚ｔ３および陽極１０５に対する有機機能層１０７の上記のような形成形態を採用することにより、有機機能層１０７の膜厚ｔ３を必要以上に厚くする必要はなく、陽極１０５と陰極１０８との間での電気抵抗の増大による寿命低下という問題を生じることはなく、また、陽極１０５の端部における有機機能層１０７の段切れや極端な薄膜化を招くことがない（図５および図６（ａ）を参照）。なお、陽極１０５における金属層１０５１の膜厚ｔ２を、上記段切れ防止のための陽極１０５の膜厚ｔ１の低減に伴って低減することができ、具体的には、２００[ｎｍ]以下、望ましくは１２０[ｎｍ]以下、更に望ましくは１００[ｎｍ]以下とすることができる。
【００９２】
また、図２、図３および図５などに示すように、有機ＥＬ表示パネル１０では、陽極１０５の端部Ｐ１と、開口部を臨むバンク１０６の端部Ｐ２とを相互に離間させているので、発光領域を広くできるとともに、陽極１０５上の有機機能層１０７の厚みを均一化することができる。よって、発光特性が優れる。
【００９３】
以上より、本実施の形態に係る有機ＥＬ表示パネル１０およびこれを備える有機ＥＬ表示装置１では、発光領域が広く、且つ、発光領域内での有機機能層１０７の膜厚ｔ３が均一に維持され、且つ、有機機能層１０７の段切れの発生がない。従って、有機ＥＬ表示パネル１０およびこれを備える有機ＥＬ表示装置１は、優れた発光特性を有しながら、長寿命である。
【００９４】
６．陽極１０５における金属層１０５１の膜厚ｔ２の最適範囲
陽極１０５における金属層１０５１の膜厚ｔ２の最適範囲について、図７および図８を用い検討結果を説明する。図７は、横軸が金属層１０５１の反射率を測定する際に用いた分光光度計の測定光の波長であり、縦軸が金属層１０５１の反射率である。図８は、図７の測定データについて、測定した金属層１０５１の膜厚と、各膜厚での反射率との関係を示す図である。図８の横軸が金属層１０５１の膜厚であり、縦軸が金属層１０５１の反射率である。
【００９５】
図７に示すように、金属層の膜厚が、４３[ｎｍ]〜９８[ｎｍ]の各サンプルでは、４５０[ｎｍ]〜６００[ｎｍ]の波長域において、反射率が略８９[％]以上となっている。
一方、金属層の膜厚が、３３[ｎｍ]、３５[ｎｍ]のサンプルでは、４５０[ｎｍ]〜６００[ｎｍ]の波長域において、反射率が８５[％]程度となっている。
【００９６】
次に、図８に示すように、金属層の膜厚が４０[ｎｍ]以上の範囲では、赤（Ｒ：λ＝６００[ｎｍ]）、緑（Ｇ：λ＝５３０［ｎｍ]）、青（Ｂ：λ＝４６０[ｎｍ]）の全ての波長域において、反射率が８８[％]以上となった。そして、金属層の膜厚が４３[ｎｍ]以上の範囲では、反射率は８９[％]以上となり、膜厚が５０[ｎｍ]以上の範囲では、反射率は略９０[％]前後となった。
【００９７】
また、図８に示すように、赤（Ｒ：λ＝６００[ｎｍ]）、緑（Ｇ：λ＝５３０［ｎｍ]）、青（Ｂ：λ＝４６０[ｎｍ]）の全ての波長域において、金属層の膜厚については、５０[ｎｍ]以上の範囲であれば、反射率が略９０[％]で一定の値となっている。
【００９８】
なお、陽極１０５の金属層１０５１の膜厚ｔ２に関し、その上限値は、上述のように、反射率という観点からは特に規定する必要はないが、上記のように有機機能層１０７の段切れ防止という観点から陽極１０５の膜厚ｔ２を薄くしようとすることを考慮すると、２００[ｎｍ]以下、望ましくは１２０[ｎｍ]以下、更に望ましくは１００[ｎｍ]以下である。
【００９９】
以上より、陽極１０５における金属層１０５１の膜厚ｔ２の範囲は、４０[ｎｍ]以上２００[ｎｍ]以下、望ましくは、４３[ｎｍ]以上２００[ｎｍ]以下、あるいは４０[ｎｍ]以上１２０[ｎｍ]以下、更に望ましくは、４３[ｎｍ]以上１２０[ｎｍ]以下、あるいは５０[ｎｍ]以上１００[ｎｍ]以下の範囲である。
【０１００】
７．有機機能層についての規定
上記では、有機機能層１０７について、少なくとも有機発光層を含むものとしているが、バリエーションを含めた規定について、図９を用い説明する。
【０１０１】
（１） 先ず、図９（ａ）に示すように、有機機能層１０７が電荷注入層１０７１と有機発光層１０７２との積層構造体とすることができる。この場合、陽極１０５における透明導電層１０５２に対し、電荷注入層１０７１が積層され、その上に有機発光層１０７２が積層されることになる。
【０１０２】
なお、この構成を採用する場合には、「有機機能層１０７の膜厚ｔ３」とは、電荷注入層１０７１の膜厚ｔ３２と有機発光層１０７２の膜厚ｔ３１とを足し合わせた厚みとなる。
【０１０３】
（２） 次に、図９（ｂ）に示すように、有機機能層１１７が電荷注入層１１７１、有機発光層１１７２および電子輸送層１１７３の３層構造の積層構造体とすることもできる。この場合、陽極１０５の膜厚ｔ１との比較における「有機機能層１１７の膜厚ｔ１３」とは、電荷注入層１１７１の膜厚ｔ１３２と有機発光層１１７２の膜厚ｔ１３１とを足し合わせた厚みとなり、陽極１０５の膜厚ｔ１との比較においては、電子輸送層１１７３の膜厚ｔ１３３を含めないものとする。
【０１０４】
（３） 次に、図９（ｃ）に示すように、有機機能層１２７が電荷注入層１２７１、電荷輸送層１２７４および有機発光層１２７２の３層構造の積層構造体とすることもできる。この場合、陽極１０５の膜厚ｔ１との比較における「有機機能層１２７の膜厚ｔ２３」とは、電荷注入層１２７１の膜厚ｔ２３２と電荷輸送層１２７４の膜厚ｔ２３４と有機発光層１１７２の膜厚ｔ２３１とを足し合わせた厚みとなる。
【０１０５】
なお、図９（ｃ）における有機発光層１２７２に上に電子輸送層などが介挿される場合には、上記同様に、陽極１０５の膜厚ｔ１との比較においては、電子輸送層の膜厚を含めないものとする。
【０１０６】
８．有機ＥＬ表示パネル１０の製造方法
有機ＥＬ表示パネル１０の製造方法について、図１０から図１２を用い説明する。図１０から図１２は、主な工程での断面端面図である。
【０１０７】
図１０（ａ）に示すように、基板１０１を準備する。
次に、基板１０１の主面１０１ａ上に対し、ＴＦＴ層１０２およびパッシベーション膜１０３を形成する（図１０（ｂ）を参照）。なお、図１０（ｂ）においても、上記同様に、ＴＦＴ層１０２についてＳＤ電極だけを図示している。
【０１０８】
次に、基板１０１の上方であるパッシベーション膜１０３の主面１０３ａ上に、絶縁層である平坦化膜１０４を形成する。なお、図１０（ｃ）に示すように、平坦化膜１０４に対しては、ＴＦＴ層１０２のＳＤ電極に相当する部分にコンタクトホール１０４ａをあけ、当該部分のパッシベーション膜１０３についても住居することにより、底部にＴＦＴ層１０２のＳＤ電極の表面が露出するようにする。
【０１０９】
次に、平坦化膜１０４の主面１０４ｂに対して、金属層１０５１形成のための膜と、透明導電層１０５２形成のための膜とを順に積層する。両膜は、コンタクトホール１０４ａを囲む側壁にも形成される。そして、フォトリソグラフィおよびエッチングにより、これをパターニングし、金属層１０５１と透明導電層１０５２との積層構造体である陽極１０５を形成する（図１０（ｄ）を参照）。ここで、パターニングには、ドライエッチングおよびウェットエッチングの何れを採用することもできるが、特にウェットエッチングを採用する場合には、ウェットエッチングが等方性エッチングであることに起因して、陽極１０５の端部の内角を９０[°]以下にすることができるので、好適である。
【０１１０】
次に、陽極１０５が形成されずに露出した平坦化膜１０４の主面に対し、バンク１０６形成のための膜をスパッタリング法により形成する。そして、フォトリソグラフィおよびウェットエッチングにより、画素領域に対応する開口部を規定するバンク１０６を形成する（図１１（ａ）を参照）。図１１（ａ）に示すように、開口部を臨むバンク１０６の端部は、陽極１０５の端部に対し、間隔ｄ１をあけて形成される。
【０１１１】
次に、陽極１０５の主面１０５ａを含む、バンク１０６で規定された開口部内に対し、有機機能層１０７形成のためのインク１０７０を塗布する（図１１（ｂ）を参照）。このとき、バンク１０６の表面の撥液性に起因して、隣接する開口部間では、インク１０７０が連続することはない。
【０１１２】
次に、インク１０７０を乾燥することにより、バンク１０６で規定される開口部内に有機機能層１０７が形成される（図１１（ｃ）を参照）。なお、有機機能層１０７が、図９（ａ）から図９（ｃ）に示すように、２層構造あるいは３層以上の構造を採用する場合には、各層形成のためのインク塗布と乾燥とを繰り返し実行することになる。
【０１１３】
次に、有機機能層１０７の主面１０７ａおよびバンク１０６の表面を含む全体領域に対し、陰極１０８を形成する（図１２（ａ）を参照）。ここで、陰極１０８の形成には、スパッタリング法などを用いることができる。
【０１１４】
次に、陰極１０８の表面１０８ａ上に、封止層１０９を積層形成する（図１２（ｂ）を参照）。
［実施の形態２］
実施の形態２に係る有機ＥＬ表示パネル３０の構成について、上記実施の形態１との差異部分を中心に、図１３を用い説明する。図１３は、上記実施の形態１における図２で示す断面端面図に対応するものである。
【０１１５】
図１３に示すように、本実施の形態に係る有機ＥＬ表示パネル３０では、陽極３０５が金属層の一層構造である点で上記実施の形態１に係る有機ＥＬ表示パネル１０と相違する。有機ＥＬ表示パネル３０でも、陽極３０５の端部が、開口部を臨むバンク１０６の端部から離間した状態となっており、陽極３０５が形成された領域が発光領域３００であり、他の領域が非発光領域３５０である。
【０１１６】
本実施の形態に係る有機ＥＬ表示パネル３０でも、陽極３０５の膜厚は４０［ｎｍ］以上２００［ｎｍ］以下の範囲内に設定され、また、有機機能層１０７の膜厚が陽極３０５の膜厚よりも厚くなっている。そして、有機機能層１０７は、陽極３０５の上面から端部側面にわたって形成されている。
【０１１７】
以上より、本実施の形態に係る有機ＥＬ表示パネル３０およびこれを備える有機ＥＬ表示装置でも、上記有機ＥＬ表示パネル１０および有機ＥＬ表示装置１と同様の効果を有する。
【０１１８】
［実施の形態３］
実施の形態３に係る有機ＥＬ表示パネル４０の構成について、上記実施の形態１との差異部分を中心に、図１４および図１５を用い説明する。図１４は、上記実施の形態１における図４に示す平面図に対応するものであり、図１５は、図２で示す断面端面図に対応するものである。
【０１１９】
図１４に示すように、本実施の形態に係る有機ＥＬ表示パネル４０は、バンク４０６が、所謂、ラインバンク構造を有する点に特徴がある。即ち、図１４に示すように、バンク４０６は、Ｙ軸方向に延伸する複数条の要素により構成されている。複数条の要素は、端部において互いに連続していてもよいし、逆に、各々が分離した状態となっていてもよい。
【０１２０】
図１５は、図１４における有機ＥＬ表示パネル４０の一部をＨ−Ｈ‘断面の端面を示す模式断面端面図である。図１５に示すように、有機ＥＬ表示パネル４０では、ラインバンク構造のバンク４０６（図１４を参照。）を採用するため、Ｙ軸方向における隣接画素間には、バンク４０６が介挿されない。
【０１２１】
図１５に示すように、本実施の形態においても、陽極１０５の上面から端部側面にわたって有機機能層４０７が形成されており、その上に陰極４０８および封止層４０９が順に積層形成されている。よって、有機ＥＬ表示パネル４０においても、陽極１０５が形成された領域が発光領域４００であり、その他の領域が非発光領域４５０である。
【０１２２】
なお、有機ＥＬ表示パネル４０について、図１４のＸ軸方向の断面構造については、図示を省略しているが、当該構造は、上記実施の形態１と同様である。即ち、Ｘ軸方向においては、陽極１０５の端部が、開口部を臨むバンク４０６の端部に対して離間した状態となっている。また、本実施の形態においても、陽極１０５における金属層１０５１の膜厚は、４０［ｎｍ］以上２００［ｎｍ］以下の範囲内で設定されており、有機機能層４０７の膜厚が陽極１０５の膜厚よりも厚くなっている。
【０１２３】
以上より、本実施の形態に係る有機ＥＬ表示パネル４０およびこれを備える有機ＥＬ表示装置でも、上記実施の形態１と同様の効果を有する。
［その他の事項］
上記実施の形態１，２，３では、有機機能層１０７，１１７，１２７，４０７に対して、Ｚ軸方向の下方、即ち、基板１０１の側に陽極１０５，３０５を配置し、Ｚ軸方向の上方に陰極１０８，４０８を配置することとしたが、陽極と陰極との配置関係を上下逆にすることもできる。この場合には、有機機能層において、有機発光層に対し基板１０１側となる領域に電子注入層や電子輸送層が配置されることになり、この場合も「有機機能層の膜厚」は、基板１０１の側から積算し、有機発光層を含むレベルまでの膜厚が規定される。
【０１２４】
また、上記実施の形態１，２，３の説明の際に用いた図１から図１５については、各部のサイズについて厳密な相対値を以って示しているわけではなく、実際の構造への適用に際して適宜の変更が可能である。この場合においても、陽極における金属層の膜厚を上記範囲内で規定し、且つ、有機機能層の膜厚を陽極の膜厚よりも厚くすることは必要である。
【産業上の利用可能性】
【０１２５】
本発明は、優れた発光特性を有しながら、長寿命な有機ＥＬ表示パネルおよび有機ＥＬ表示装置を実現するのに有用である。
【符号の説明】
【０１２６】
１．有機ＥＬ表示装置
１０，３０，４０．有機ＥＬ表示パネル
２０．駆動制御部
２１〜２４．駆動回路
２５．制御回路
１００，３００，４００．発光領域
１０１．基板
１０２．ＴＦＴ層
１０３．パッシベーション膜
１０４．平坦化膜
１０５，３０５．陽極
１０６，４０６．バンク
１０７，１１７，１２７，４０７．有機機能層
１０８，４０８．陰極
１０９，４０９．封止層
１５０，３５０，４５０．非発光領域
１０５１．金属層
１０５２．透明導電層
１０７０．インク
１０７１，１１７１，１２７１．電荷注入層
１０７２，１１７２，１２７２．有機発光層
１１７３．電子輸送層
１２７４．電荷輸送層
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板の上方に配置された絶縁層と、
前記絶縁層の上方に形成され、所定の画素の領域に対応する開口部を規定するバンクと、
前記絶縁層の表面上に配置され、アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層を含み、当該アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層の表面部を所定の反射率を有する反射部とした第１電極と、
前記第１電極の上面に形成され、有機発光層を少なくとも含む有機機能層と、
前記有機機能層の上方に配置され、前記有機機能層から上方へ照射された光と、前記有機機能層から下方に照射された光であって前記第１電極の反射部で反射された光と、を透過する第２電極と、
を含み、
前記第１電極は、前記バンクの開口部内において、その端部が前記開口部を臨む前記バンクの端部から離間して配置され、
前記第１電極に含まれるアルミニウム層若しくはアルミニウム合金層の膜厚は、４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の所定の膜厚であり、
前記有機機能層は、前記第１電極の所定の膜厚以上の膜厚であり、前記第１電極の上面から前記端部の側面にわたって形成されている、
有機ＥＬ表示パネル。
【請求項２】
前記第１電極は、前記アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層の上面に設けられた透明導電層を有する、
請求項１に記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項３】
前記第１電極に含まれるアルミニウム層若しくはアルミニウム合金層の膜厚が４３ｎｍ以上２００ｎｍ以下の所定の膜厚である、
請求項１ないし請求項２のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項４】
前記第１電極に含まれるアルミニウム層若しくはアルミニウム合金層の膜厚が４０ｎｍ以上１２０ｎｍ以下の所定の膜厚である、
請求項１ないし請求項２のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項５】
前記第１電極に含まれるアルミニウム層若しくはアルミニウム合金層の膜厚が４３ｎｍ以上１２０ｎｍ以下の所定の膜厚である、
請求項１ないし請求項２のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項６】
前記第１電極に含まれるアルミニウム層若しくはアルミニウム合金層の膜厚が５０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の所定の膜厚である、
請求項１ないし請求項２のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項７】
前記有機機能層は、前記第１電極上に形成された電荷注入層あるいは電荷輸送層の少なくとも一方を含み、
前記第１電極上に形成された前記電荷注入層あるいは電荷輸送層の少なくとも一方は、その膜厚が前記第１電極の所定の膜厚以上の膜厚であり、前記第１電極の上面から前記端部の側面にわたって形成されている、
請求項１ないし請求項６のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項８】
前記有機機能層は、前記第１電極上に形成された前記電荷注入層あるいは電荷輸送層の少なくとも一方の層の上方に前記有機発光層を設けた層である、
請求項７に記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項９】
前記有機機能層は、電荷注入層、電荷輸送層および前記有機発光層を含む層であり、
前記電荷注入層は、前記第１電極上に形成され、
前記電荷注入層は、その膜厚が前記第１電極の所定の膜厚以上の膜厚であり、前記第１電極の上面から前記端部の側面にわたって形成されている、
請求項１ないし請求項６のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項１０】
前記第１電極の前記端部の側面と前記基板とがなす内角が９０度以下である、
請求項１ないし請求項９の何れか１項に記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項１１】
前記所定の画素の領域は、画素毎の領域であり、
前記バンクは、前記開口部を前記画素毎に規定する、
請求項１ないし請求項１０の何れか１項に記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項１２】
前記所定の画素の領域は、複数の画素がライン状に配列された領域であり、
前記バンクは、前記開口部を前記ライン状に配列された複数の画素毎に規定する、
請求項１ないし請求項１０の何れか１項に記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項１３】
請求項１ないし請求項１２のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネルを具備した
有機ＥＬ表示装置。
【請求項１４】
基板を準備する第１工程と、
前記基板の上方に絶縁膜を配置する第２工程と、
アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層を含み、当該アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層の表面部を所定の反射率を有する反射部とした第１電極を、前記絶縁層の表面上に配置する第３工程と、
前記絶縁膜の上方に、所定の画素の領域に対応する開口部を規定するバンクを形成する第４工程と、
有機発光層を少なくとも含む有機機能層を、前記第１電極の上面から端部の側面にわたって、前記第１電極の所定の膜厚以上の膜厚に形成する第５工程と、
前記有機発光層から上方へ照射された光と、前記有機発光層から下方に照射された光であって前記第１電極の反射部で反射された光とを、透過する第２電極を前記有機発光層の上方に配置する第６工程と、
を含み、
前記第１電極は、前記バンクの開口部内において、その端部が前記開口部を臨む前記バンクの端部から離間して配置し、前記第１電極に含まれるアルミニウム層若しくはアルミニウム合金層の膜厚が４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の所定の膜厚である、
有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項１５】
前記第３工程において、前記第１電極は、前記アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層の上面に透明導電層を設けて形成される、
請求項１４に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項１６】
前記第３工程において、ウェットエッチングにより、所定の形状にパターニングされた前記第１電極を形成することにより、
前記第１電極の前記端部の側面と前記基板とがなす内角を９０度以下にする、
請求項１４ないし請求項１５のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項１７】
前記有機機能層は、インクジェット法、ダイコート法、スピンコート法のいずれかの湿式塗布方法で形成する、
請求項１４ないし請求項１６のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項１８】
前記有機機能層は、前記第１電極上に形成された電荷注入層あるいは電荷輸送層の少なくとも一方を含み、
前記第１電極上に形成された前記電荷注入層あるいは電荷輸送層の少なくとも一方は、その膜厚が前記第１電極の所定の膜厚以上の膜厚であり、前記第１電極の上面から前記端部の側面にわたって形成されている、
請求項１４ないし請求項１７のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項１９】
前記有機機能層は、前記電荷注入層あるいは電荷輸送層の少なくとも一方の層の上方に前記有機発光層を設けた層である、
請求項１８に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項２０】
前記有機機能層は、電荷注入層、電荷輸送層及び前記有機発光層を含む層であり、
前記電荷注入層は、前記第１電極上に形成され、
前記電荷注入層は、その膜厚が前記第１電極の所定の膜厚以上の膜厚であり、前記第１電極の上面から前記端部の側面にわたって形成されている、
請求項１４ないし請求項１７のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項１】
基板と、
前記基板の上方に配置された絶縁層と、
前記絶縁層の上方に形成され、所定の画素の領域に対応する開口部を規定するバンクと、
前記絶縁層の表面上に配置され、アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層を含み、当該アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層の表面部を所定の反射率を有する反射部とした第１電極と、
前記第１電極の上面に形成され、有機発光層を少なくとも含む有機機能層と、
前記有機機能層の上方に配置され、前記有機機能層から上方へ照射された光と、前記有機機能層から下方に照射された光であって前記第１電極の反射部で反射された光と、を透過する第２電極と、
を含み、
前記第１電極は、前記バンクの開口部内において、その端部が前記開口部を臨む前記バンクの端部から離間して配置され、
前記第１電極に含まれるアルミニウム層若しくはアルミニウム合金層の膜厚は、４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の所定の膜厚であり、
前記有機機能層は、前記第１電極の所定の膜厚以上の膜厚であり、前記第１電極の上面から前記端部の側面にわたって形成されている、
有機ＥＬ表示パネル。
【請求項２】
前記第１電極は、前記アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層の上面に設けられた透明導電層を有する、
請求項１に記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項３】
前記第１電極に含まれるアルミニウム層若しくはアルミニウム合金層の膜厚が４３ｎｍ以上２００ｎｍ以下の所定の膜厚である、
請求項１ないし請求項２のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項４】
前記第１電極に含まれるアルミニウム層若しくはアルミニウム合金層の膜厚が４０ｎｍ以上１２０ｎｍ以下の所定の膜厚である、
請求項１ないし請求項２のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項５】
前記第１電極に含まれるアルミニウム層若しくはアルミニウム合金層の膜厚が４３ｎｍ以上１２０ｎｍ以下の所定の膜厚である、
請求項１ないし請求項２のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項６】
前記第１電極に含まれるアルミニウム層若しくはアルミニウム合金層の膜厚が５０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の所定の膜厚である、
請求項１ないし請求項２のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項７】
前記有機機能層は、前記第１電極上に形成された電荷注入層あるいは電荷輸送層の少なくとも一方を含み、
前記第１電極上に形成された前記電荷注入層あるいは電荷輸送層の少なくとも一方は、その膜厚が前記第１電極の所定の膜厚以上の膜厚であり、前記第１電極の上面から前記端部の側面にわたって形成されている、
請求項１ないし請求項６のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項８】
前記有機機能層は、前記第１電極上に形成された前記電荷注入層あるいは電荷輸送層の少なくとも一方の層の上方に前記有機発光層を設けた層である、
請求項７に記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項９】
前記有機機能層は、電荷注入層、電荷輸送層および前記有機発光層を含む層であり、
前記電荷注入層は、前記第１電極上に形成され、
前記電荷注入層は、その膜厚が前記第１電極の所定の膜厚以上の膜厚であり、前記第１電極の上面から前記端部の側面にわたって形成されている、
請求項１ないし請求項６のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項１０】
前記第１電極の前記端部の側面と前記基板とがなす内角が９０度以下である、
請求項１ないし請求項９の何れか１項に記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項１１】
前記所定の画素の領域は、画素毎の領域であり、
前記バンクは、前記開口部を前記画素毎に規定する、
請求項１ないし請求項１０の何れか１項に記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項１２】
前記所定の画素の領域は、複数の画素がライン状に配列された領域であり、
前記バンクは、前記開口部を前記ライン状に配列された複数の画素毎に規定する、
請求項１ないし請求項１０の何れか１項に記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項１３】
請求項１ないし請求項１２のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネルを具備した
有機ＥＬ表示装置。
【請求項１４】
基板を準備する第１工程と、
前記基板の上方に絶縁膜を配置する第２工程と、
アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層を含み、当該アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層の表面部を所定の反射率を有する反射部とした第１電極を、前記絶縁層の表面上に配置する第３工程と、
前記絶縁膜の上方に、所定の画素の領域に対応する開口部を規定するバンクを形成する第４工程と、
有機発光層を少なくとも含む有機機能層を、前記第１電極の上面から端部の側面にわたって、前記第１電極の所定の膜厚以上の膜厚に形成する第５工程と、
前記有機発光層から上方へ照射された光と、前記有機発光層から下方に照射された光であって前記第１電極の反射部で反射された光とを、透過する第２電極を前記有機発光層の上方に配置する第６工程と、
を含み、
前記第１電極は、前記バンクの開口部内において、その端部が前記開口部を臨む前記バンクの端部から離間して配置し、前記第１電極に含まれるアルミニウム層若しくはアルミニウム合金層の膜厚が４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の所定の膜厚である、
有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項１５】
前記第３工程において、前記第１電極は、前記アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層の上面に透明導電層を設けて形成される、
請求項１４に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項１６】
前記第３工程において、ウェットエッチングにより、所定の形状にパターニングされた前記第１電極を形成することにより、
前記第１電極の前記端部の側面と前記基板とがなす内角を９０度以下にする、
請求項１４ないし請求項１５のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項１７】
前記有機機能層は、インクジェット法、ダイコート法、スピンコート法のいずれかの湿式塗布方法で形成する、
請求項１４ないし請求項１６のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項１８】
前記有機機能層は、前記第１電極上に形成された電荷注入層あるいは電荷輸送層の少なくとも一方を含み、
前記第１電極上に形成された前記電荷注入層あるいは電荷輸送層の少なくとも一方は、その膜厚が前記第１電極の所定の膜厚以上の膜厚であり、前記第１電極の上面から前記端部の側面にわたって形成されている、
請求項１４ないし請求項１７のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項１９】
前記有機機能層は、前記電荷注入層あるいは電荷輸送層の少なくとも一方の層の上方に前記有機発光層を設けた層である、
請求項１８に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項２０】
前記有機機能層は、電荷注入層、電荷輸送層及び前記有機発光層を含む層であり、
前記電荷注入層は、前記第１電極上に形成され、
前記電荷注入層は、その膜厚が前記第１電極の所定の膜厚以上の膜厚であり、前記第１電極の上面から前記端部の側面にわたって形成されている、
請求項１４ないし請求項１７のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【公開番号】特開２０１１−２４９０８９（Ｐ２０１１−２４９０８９Ａ）
【公開日】平成２３年１２月８日（２０１１．１２．８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１１９７５１（Ｐ２０１０−１１９７５１）
【出願日】平成２２年５月２５日（２０１０．５．２５）
【出願人】（０００００５８２１）パナソニック株式会社 (73,050)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１２月８日（２０１１．１２．８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年５月２５日（２０１０．５．２５）
【出願人】（０００００５８２１）パナソニック株式会社 (73,050)
【Ｆターム（参考）】
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