液処理装置、液処理方法および記憶媒体
【課題】被処理基板を、フッ酸系処理液によって処理した後、有機溶媒により乾燥させる方法を用いた場合であっても、当該被処理基板にシミが発生することを防止すること。
【解決手段】液処理装置１は、ケーシング５と、ウエハ（被処理基板）Ｗを保持する基板保持機構２０と、処理液を供給する処理液供給機構３０と、処理液を受ける排液カップ１２と、処理液を外方に排出する排液管１３と、を備えている。処理液供給機構３０は、フッ酸系処理液を供給する第一薬液供給機構と、ウエハＷを乾燥させるための有機溶媒を供給する乾燥液供給機構４３とを有している。制御部５０は、第一薬液供給機構によってフッ酸系処理液を供給させた後、乾燥液供給機構４３によって有機溶媒を供給させ、かつ、乾燥液供給機構４３によって有機溶媒を供給させる前に、洗浄機構１０によりケーシング５内のアルカリ成分を除去させる。
【解決手段】液処理装置１は、ケーシング５と、ウエハ（被処理基板）Ｗを保持する基板保持機構２０と、処理液を供給する処理液供給機構３０と、処理液を受ける排液カップ１２と、処理液を外方に排出する排液管１３と、を備えている。処理液供給機構３０は、フッ酸系処理液を供給する第一薬液供給機構と、ウエハＷを乾燥させるための有機溶媒を供給する乾燥液供給機構４３とを有している。制御部５０は、第一薬液供給機構によってフッ酸系処理液を供給させた後、乾燥液供給機構４３によって有機溶媒を供給させ、かつ、乾燥液供給機構４３によって有機溶媒を供給させる前に、洗浄機構１０によりケーシング５内のアルカリ成分を除去させる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フッ酸系処理液によって処理した後、有機溶媒により乾燥させる方法を用いた液処理装置および液処理方法、並びにコンピュータに当該液処理方法を実行させるためのコンピュータプログラムを格納した記憶媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、処理対象となるウエハに付着したパーティクルを除去する方法としては、ウエハを回転させつつ、ウエハに対してアンモニア過酸化水素水混合水溶液を吐出した後、当該ウエハを回転させつつウエハに対してフッ酸を吐出して、ウエハを洗浄する液処理方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００２−３２９６９６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
このような液処理方法において、ウエハを乾燥させるために有機溶媒を用いると、ウエハにウオーターマークのようなシミが発生することがあることを発明者は発見した。すなわち、ウエハを、アンモニア成分（アルカリ成分）の処理液によって処理した後、フッ酸により処理し、その後、有機溶媒を用いて乾燥させると、ウエハにシミが発生するのである。
【０００４】
このようにウエハにシミが発生する機構は未だ定かではないが、これはおそらく、フッ酸により活性化されたウエハの表面が、外部雰囲気内にアンモニア成分（アルカリ成分）が存在している状態で有機溶媒にさらされることにより、これらアンモニア成分と有機溶媒から何らかの攻撃を受けることによるものと推測される。
【０００５】
また、本願の発明者が実験した結果によると、上述のように処理液としてアンモニア成分（アルカリ成分）からなるものを用いない場合であっても、外部雰囲気内に僅かなアンモニア成分（アルカリ成分）があるだけで、ウエハの表面にシミが発生しまうことが分かった。
【０００６】
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、被処理基板を、フッ酸系処理液によって処理した後、有機溶媒により乾燥させる方法を用いた場合であっても、当該被処理基板にシミが発生することを防止することができる液処理装置および液処理方法を提供することを目的とする。さらに、本発明は、当該液処理方法を実行させるためのコンピュータプログラムを格納した記憶媒体を提供することも目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明による液処理装置は、ケーシングと、ケーシング内に設けられ、被処理基板を保持する基板保持機構と、基板保持機構によって保持された被処理基板に処理液を供給する処理液供給機構と、ケーシング内で基板保持機構によって保持された被処理基板を周縁外方から覆うとともに、被処理基板を洗浄した後の処理液を受ける排液カップと、排液カップに連結され、排液カップを経た処理液を外方に排出する排液管と、を備え、
前記処理液供給機構が、フッ酸系処理液を供給する第一薬液供給機構と、第一薬液供給機構によってフッ酸系処理液を供給した後、被処理基板を乾燥させるための有機溶媒を供給する乾燥液供給機構とを有し、
ケーシング内のアルカリ成分を除去する除去機構、または、ケーシング内へのアルカリ成分の侵入を防止する侵入防止機構が設けられ、
第一薬液供給機構および乾燥液供給機構、並びに、除去機構または侵入防止機構が、制御部により制御され、
制御部が、第一薬液供給機構によってフッ酸系処理液を供給させた後、乾燥液供給機構によって被処理基板を乾燥させるための有機溶媒を供給させ、かつ、乾燥液供給機構によって有機溶媒を供給させる前に、除去機構によりケーシング内のアルカリ成分を除去させる、または、侵入防止機構によりケーシング内へのアルカリ成分の侵入を防止させる。
【０００８】
このような構成によれば、被処理基板を、フッ酸系処理液によって処理した後、有機溶媒により乾燥させる方法を用いた場合であっても、乾燥液供給機構によって有機溶媒を供給させる前に、除去機構によりケーシング内のアルカリ成分を除去させたり、または、侵入防止機構によりケーシング内へのアルカリ成分の侵入を防止させたりすることができ、当該被処理基板にシミが発生することを防止することができる。
【０００９】
本発明による液処理装置において、制御部は、第一薬液供給機構によってフッ酸系処理液を供給させる前に、除去機構よってケーシング内のアルカリ成分を除去させることが好ましい。
【００１０】
このような構成によれば、ケーシング内のアルカリ成分を除去させる際に、フッ酸系処理液により活性化した被処理基板の表面が不要な反応を起こすことを防止することができ、より確実に、被処理基板にシミが発生することを防止することができる。
【００１１】
本発明による液処理装置において、侵入防止機構は、ケーシング内の気圧を高くする与圧機構からなることが好ましい。
【００１２】
本発明による液処理装置において、除去機構は、排液カップに洗浄液を供給することによって、排液カップに付着したアルカリ成分を除去する洗浄機構からなることが好ましい。
【００１３】
本発明による液処理装置において、処理液供給機構は、制御部により制御され、アルカリ系処理液を供給する第二薬液供給機構を有し、制御部は、第二薬液供給機構によってアルカリ系処理液を供給させた後であって、第一薬液供給機構によってフッ酸系処理液を供給させる前に、洗浄機構によって排液カップに洗浄液を供給させることで、排液カップに付着したアルカリ成分を除去することが好ましい。
【００１４】
本発明による液処理装置において、排液管に設けられ、当該排液管を通過する処理液の流れを止める閉塞機構をさらに備え、処理液供給機構は、基板保持機構に保持された被処理基板に洗浄液を供給する洗浄液供給機構を有し、前記洗浄液供給機構、前記排液管および前記閉塞機構によって、前記洗浄機構が構成され、制御部は、閉塞機構により排液管を閉塞させることによって、排液管および排液カップ内に洗浄液を貯留して排液カップに洗浄液を供給し、排液カップに付着したアルカリ成分を除去することが好ましい。
【００１５】
このような構成によれば、閉塞機構を閉じるだけで、排液カップに洗浄液を供給し、排液カップに付着したアルカリ成分を除去することができ、被処理基板にシミが発生することを容易にかつ安価な構成で防止することができる。また、排液カップを洗浄液に浸すことができるので、排液カップに付着したアルカリ成分を、確実に洗浄して除去することができ、被処理基板にシミが発生することを高い確率で防止することができる。
【００１６】
本発明による液処理装置において、前記洗浄機構は、排液カップに洗浄液を噴出することによって、排液カップに付着したアルカリ成分を除去する洗浄液噴出機構を有することが好ましい。
【００１７】
このような構成によれば、排液カップに向かって洗浄液を噴出させることで、排液カップに付着したアルカリ成分を除去することができる。このため、被処理基板にシミが発生することを容易に防止することができる。
【００１８】
本発明による液処理装置において、ケーシング内に配置され、基板保持機構に保持された被処理基板に上方から気体を供給する気体導入部と、ケーシング内で排液カップを囲繞して配置され、被処理基板を経た気体を取り込んで排気する排気カップと、をさらに備えたことが好ましい。
【００１９】
本発明による液処理方法は、ケーシングと、ケーシング内に設けられ、被処理基板を保持する基板保持機構と、基板保持機構によって保持された被処理基板に処理液を供給する処理液供給機構と、ケーシング内で基板保持機構によって保持された被処理基板を周縁外方から覆うとともに、被処理基板を洗浄した後の処理液を受ける排液カップと、排液カップに連結され、排液カップを経た処理液を外方に排出する排液管と、を有する液処理装置を用いた液処理方法であって、
基板保持機構によって、被処理基板を保持する保持工程と、回転機構によって、基板保持機構によって保持された被処理基板を回転させる回転工程と、処理液供給機構によって、基板保持機構により保持された被処理基板に処理液を供給する処理液供給工程と、を備え、
処理液供給工程は、フッ酸系処理液を供給する第一薬液供給工程と、当該第一薬液供給工程の後、被処理基板を乾燥させるための有機溶媒を供給する乾燥液供給工程と、を有し、
前記乾燥液供給工程の前に、ケーシング内のアルカリ成分を除去する除去工程、または、ケーシング内へのアルカリ成分の侵入を防止する侵入防止工程が実施される。
【００２０】
このような方法によれば、被処理基板を、フッ酸系処理液によって処理した後、有機溶媒により乾燥させる方法を用いた場合であっても、被処理基板を乾燥させる前に、ケーシング内のアルカリ成分を除去したり、または、ケーシング内へのアルカリ成分の侵入を防止したりすることができ、当該被処理基板にシミが発生することを防止することができる。
【００２１】
本発明による液処理方法において、前記除去工程は、フッ酸系処理液を供給する前記第一薬液供給工程の前に実施されることが好ましい。
【００２２】
このような方法によれば、ケーシング内のアルカリ成分を除去させる際に、フッ酸系処理液により活性化した被処理基板の表面が不要な反応を起こすことを防止することができ、より確実に、被処理基板にシミが発生することを防止することができる。
【００２３】
本発明による液処理方法において、前記侵入防止工程は、ケーシング内の気圧を高くすることによって、ケーシング内へのアルカリ成分の侵入を防止することが好ましい。
【００２４】
本発明による液処理方法において、前記除去工程は、排液カップに洗浄液を供給することによって、排液カップに付着したアルカリ成分を除去することが好ましい。
【００２５】
本発明による液処理方法において、処理液供給工程は、フッ酸系処理液を供給する前記第一薬液供給工程の前に、アルカリ系処理液を供給する第二薬液供給工程を有し、アルカリ系処理液を供給する第二薬液供給工程の後であって、フッ酸系処理液を供給する第一薬液供給工程の前に、排液カップに洗浄液を供給することによって、排液カップに付着したアルカリ成分を除去することが好ましい。
【００２６】
本発明による液処理方法において、排液管に設けられた閉塞機構によって、処理液供給機構から供給され排液管を通過する洗浄液の流れを止めることにより、排液管および排液カップ内に処理液を貯留して排液カップに洗浄液を供給し、排液カップに付着したアルカリ成分を除去することが好ましい。
【００２７】
このような方法によれば、閉塞機構を閉じるだけで、排液カップに洗浄液を供給し、排液カップに付着したアルカリ成分を除去することができ、被処理基板にシミが発生することを容易にかつ安価な構成で防止することができる。また、このような方法によれば、排液カップを洗浄液に浸すことができるので、排液カップに付着したアルカリ成分を、確実に洗浄して除去することができ、被処理基板にシミが発生することを高い確率で防止することができる。
【００２８】
本発明による液処理方法において、前記洗浄工程は、排液カップに洗浄液を噴出することによって、排液カップに付着したアルカリ成分を除去することが好ましい。
【００２９】
このような方法によれば、排液カップに向かって洗浄液を噴出させるだけで、排液カップに付着したアルカリ成分を除去することができ、被処理基板にシミが発生することを容易に防止することができる。
【００３０】
本発明による記憶媒体は、コンピュータに液処理方法を実行させるためのコンピュータプログラムを格納した記憶媒体において、
当該液処理方法が、被処理基板を保持する基板保持機構と、基板保持機構によって保持された被処理基板に処理液を供給する処理液供給機構と、基板保持機構によって保持された被処理基板を周縁外方から覆うとともに、被処理基板を洗浄した後の処理液を受ける排液カップと、排液カップに連結され、排液カップを経た処理液を外方に排出する排液管と、少なくとも、基板保持機構および排液カップを収容するケーシングと、を有する液処理装置を用いた方法であって、
基板保持機構によって、被処理基板を保持する保持工程と、回転機構によって、基板保持機構によって保持された被処理基板を回転させる回転工程と、処理液供給機構によって、基板保持機構により保持された被処理基板に処理液を供給する処理液供給工程と、を備え、
処理液供給工程は、フッ酸系処理液を供給する第一薬液供給工程と、当該第一薬液供給工程の後、被処理基板を乾燥させるための有機溶媒を供給する乾燥液供給工程と、を有し、
前記乾燥液供給工程の前に、ケーシング内のアルカリ成分を除去する除去工程、または、ケーシング内へのアルカリ成分の侵入を防止する侵入防止工程が実施される方法である。
【００３１】
このような構成によれば、液処理装置が、被処理基板を、フッ酸系処理液によって処理した後、有機溶媒により乾燥させる方法を用いて液処理を実施する場合であっても、被処理基板を乾燥させる前に、ケーシング内のアルカリ成分を除去したり、または、ケーシング内へのアルカリ成分の侵入を防止したりすることができ、当該被処理基板にシミが発生することを防止することができる。
【発明の効果】
【００３２】
本発明によれば、被処理基板をフッ酸系処理液によって処理した後、有機溶媒により乾燥させる方法を用いた場合であっても、有機溶媒を供給して被処理基板を乾燥させる前に、ケーシング内のアルカリ成分を除去させる、または、ケーシング内へのアルカリ成分の侵入を防止させることによって、当該被処理基板にシミが発生することを防止することができる。
【発明を実施するための形態】
【００３３】
第１の実施の形態
以下、本発明に係る液処理装置１、液処理方法および記憶媒体の第１の実施の形態について、図面を参照して説明する。ここで、図１乃至図５は本発明の第１の実施の形態を示す図である。
【００３４】
図１に示すように、液処理システムは、外部から被処理基板としての半導体ウエハＷ（以下、単にウエハＷともいう）を収容したキャリアを載置するための載置台８１と、キャリアに収容されたウエハＷを取り出すためのトランスファーアーム８２と、トランスファーアーム８２によって取り出されたウエハＷを載置するための棚ユニット８３と、棚ユニット８３に載置されたウエハＷを受け取り、当該ウエハＷを液処理装置１１内に搬送するメインアーム８４と、を含んでいる。そして、この液処理システムには、複数（本実施の形態では１２個）の液処理装置１が組み込まれている。なお、この図１は、本実施の形態による液処理装置１を含む液処理システムを上方から見た上方平面図である。
【００３５】
この液処理装置１は、図２に示すように、ケーシング５と、ケーシング５内に設けられ、ウエハＷを保持する基板保持機構２０と、基板保持機構２０によって保持されたウエハＷに処理液を供給する処理液供給機構３０と、ケーシング５内で基板保持機構２０によって保持されたウエハＷを周縁外方から覆うとともに、基板保持機構２０と一体となって回転可能な回転カップ６１と、前記回転カップ６１および前記基板保持機構２０を一体的に回転させる回転機構７０と、を備えている。なお、この図２は、本実施の形態による液処理装置１の縦断面図である。
【００３６】
また、図２に示すように、ケーシング５内であって回転カップ６１の周縁外方には、ウエハＷを洗浄した後の処理液を受ける環状の排液カップ１２が配置されている。そして、この排液カップ１２には、排液カップ１２を経た処理液を外方に排出する排液管１３が連結されている。
【００３７】
また、図２に示すように、ケーシング５の側壁には、ウエハＷを出し入れするための出入口５ａが設けられている。
【００３８】
また、図２および図４に示すように、基板保持機構２０は、水平に設けられた円板状をなす回転プレート２１と、回転プレート２１の周縁端部に設けられ、ウエハＷを保持する保持部材２２と、回転プレート２１の下面の中心部に連結され、下方鉛直に延びる円筒状の回転軸２３とを有している。また、回転プレート２１の中心部には、円筒状の回転軸２３の孔２３ａに連通する円形の孔２１ａが形成されており、回転軸２３の孔２３ａの内部には、昇降機構５６により上下方向に昇降自在な昇降部材２５が設けられている。なお、この図４は、本実施の形態による液処理装置１の一部を図２とは異なる断面で切断した縦断面図である。
【００３９】
また、図２および図４に示すように、この昇降部材２５内には、ウエハＷの裏面（下面）側から処理液を供給する裏面処理液供給路２６が設けられている。また、昇降部材２５の上端部にはウエハ支持台２７が設けられ、このウエハ支持台２７の上面にはウエハＷを支持するためのウエハ支持ピン２８が設けられている。なお、回転軸２３は、軸受け部材２９を介してベースプレート６に回転可能に支持されている。
【００４０】
また、図２および図４に示すように、回転機構７０は、モータ軸７１ａを有するモータ７１と、当該モータ軸７１ａに巻き掛けられるとともに、回転軸２３の下端部にも巻き掛けられたベルト７２とを有している。なお、ベルト７２とモータ軸７１ａとの間にはプーリー７４が設けられ、ベルト７２と回転軸２３との間にはプーリー７３が設けられている。
【００４１】
また、図２に示すように、ケーシング５内の上方部には、液処理システムのファン・フィルター・ユニット（ＦＦＵ）（図示せず）からの気体を導入口５ｂを介して導入する気体導入部３が設けられており、基板保持機構２０に保持されたウエハＷに上方から清浄空気（気体）を供給するようになっている。ＦＦＵは、アルカリ成分を吸着させるケミカルフィルターを有しており、外部からケーシング５内に、アルカリ雰囲気が持ち込まれることを防止することができる。
【００４２】
また、図２および図４に示すように、排液カップ１２の周縁外方には、気体導入部３から供給されてウエハＷを経た清浄空気を取り込んで排気する環状の排気カップ６６が配置されている。
【００４３】
また、この排気カップ６６には、排気カップ６６を経た気体を外方に排出する排気管６７が１本連結されている。また、排液カップ１２の下端には、スリット状の通気孔６６ｂが設けられており、排気カップ６６を経た気体を排気管６７に案内するようになっている（図２の点線矢印参照）。
【００４４】
また、図２および図３に示すように、処理液供給機構３０は、基板保持機構２０によって保持されたウエハＷの表面に処理液を供給するノズル３１ａ，３１ｂを有するノズルブロック３１と、ノズルブロック３１に連結され、当該ノズルブロック３１を基板保持機構２０に保持されたウエハＷの表面に沿って移動させるノズルアーム３２と、当該ノズルアーム３２から下方鉛直方向に向かって延びるノズル揺動軸３３と、当該ノズル揺動軸３３を駆動するノズル駆動部７５と、を有している。また、ノズル揺動軸３３の下端にはノズルブロック３１、ノズルアーム３２、ノズル揺動軸３３およびノズル駆動部７５を上下方向に駆動するノズル昇降機構５７が連結されている。なお、この図３は、本実施の形態による液処理装置１の処理液供給機構の構成を示す概略図である。
【００４５】
そして、このノズル駆動部７５は、モータ軸７６ａを有するモータ７６と、当該モータ軸７６ａに巻き掛けられるとともに、ノズル揺動軸３３の下端部にも巻き掛けられたベルト７７とを有している。なお、ベルト７７とモータ軸７６ａとの間にはプーリー７９が設けられ、ベルト７７とノズル揺動軸３３との間には、プーリー７８が設けられている。
【００４６】
また、図３に示すように、処理液供給機構３０のノズル３１ａ，３１ｂを有するノズルブロック３１、ノズルアーム３２およびノズル揺動軸３３内には、処理液が通過する処理液流路３５と、乾燥溶媒が通過する乾燥溶媒流路３８が設けられている。また、処理液流路３５と乾燥溶媒流路３８は、処理液供給部４０に連通されている。
【００４７】
また、この処理液供給部４０は、洗浄処理のための薬液として、フッ酸系の薬液である例えば希フッ酸(ＤＨＦ)を供給するＤＨＦ供給源４１と、アルカリ系の薬液である例えばアンモニア過水(ＳＣ１)を供給するＳＣ１供給源４２と、リンス液として例えば純水(ＤＩＷ)を供給するＤＩＷ供給源４５と、乾燥溶媒として例えばＩＰＡ（イソプロピルアルコール）を供給するＩＰＡ供給源４３とを有している。なお、フッ酸系の薬液としては、上述のような希フッ酸(ＤＨＦ)の他、ＢＨＦ（ＨＦとＮＨ４Ｆの混合溶液）やＬＡＬ（ＢＨＦと界面活性剤との混合溶液）などを用いることができる。
【００４８】
そして、処理液流路３５は、第一バルブ４６を介してＤＨＦ供給源４１と連通され、第二バルブ４７を介してＳＣ１供給源４２と連通され、第三バルブ４８を介してＤＩＷ供給源４５と連通されている。また、乾燥溶媒流路３８は、第四バルブ４９を介してＩＰＡ供給源４３と連通されている。
【００４９】
ところで、図３において、第一バルブ４６のみが開けられて、処理液流路３５とＤＨＦ供給源４１とが連通されると、処理液供給機構３０は、洗浄処理のための薬液として希フッ酸(ＤＨＦ)を供給する。このように、ノズル３１ａ，３１ｂを有するノズルブロック３１、ノズルアーム３２、ノズル揺動軸３３、処理液流路３５、ノズル駆動部７５（図２参照）、第一バルブ４６およびＤＨＦ供給源４１によって、フッ酸系処理液を供給する第一薬液供給機構が構成されている。
【００５０】
他方、図３において、第二バルブ４７のみが開けられて、処理液流路３５とＳＣ１供給源４２とが連通されると、処理液供給機構３０は、洗浄処理のための薬液としてアンモニア過水を供給する。このように、ノズル３１ａ，３１ｂを有するノズルブロック３１、ノズルアーム３２、ノズル揺動軸３３、処理液流路３５、ノズル駆動部７５（図２参照）、第二バルブ４７およびＳＣ１供給源４２によって、アルカリ系処理液を供給する第二薬液供給機構が構成されている。
【００５１】
また、図３において、ノズル３１ａ，３１ｂを有するノズルブロック３１、ノズルアーム３２、ノズル揺動軸３３、乾燥溶媒流路３８、ノズル駆動部７５（図２参照）、第四バルブ４９およびＩＰＡ供給源４３によって、ウエハＷを乾燥させるためのＩＰＡ（有機溶媒）を供給する乾燥液供給機構４３が構成されている。
【００５２】
また、図３において、第三バルブ４８のみが開けられて、処理液流路３５にＤＩＷ供給源４５を連通されると、処理液供給機構３０は、薬液のリンス液としての純水（洗浄液）を供給する。このため、ノズル３１ａ，３１ｂを有するノズルブロック３１、ノズルアーム３２、ノズル揺動軸３３、処理液流路３５、ノズル駆動部７５（図２参照）、第三バルブ４８およびＤＩＷ供給源４５によって、基板保持機構２０に保持されたウエハＷに純水（薬液のリンス液）を供給する洗浄液供給機構が構成されている。
【００５３】
なお、図２および図４に示す裏面処理液供給路２６へ処理液を供給する機構は、ＩＰＡ供給源４３が設けられていないことを除いて、上述した処理液供給部４０と同様の構成からなっている。
【００５４】
また、図２および図４に示すように、排液管１３には、当該排液管１３を通過する処理液の流れを止める閉塞バルブ（閉塞機構）１１が設けられており、この閉塞バルブ１１を閉じることによって、排液管１３を閉塞することができる。このため、後述するように、洗浄液供給機構によって純水Ｄを供給する際、閉塞バルブ１１によって、排液管１３を閉塞することによって、排液管１３および排液カップ１２内に純水Ｄを貯留して、排液カップ１２に純水Ｄを供給することができる。このため、洗浄液供給機構、排液管１３および閉塞バルブ１１によって、排液カップ１２に純水Ｄを供給する洗浄機構（除去機構）１０が構成されていることとなる。
【００５５】
また、図２および図３に示すように、第一バルブ４６、第二バルブ４７、第三バルブ４８、第四バルブ４９および閉塞バルブ１１の各々には制御部５０が接続されており、第一薬液供給機構、乾燥液供給機構４３および閉塞バルブ１１の各々は、制御部５０により制御される。
【００５６】
また、図４に示すように、排気管６７より回転軸２３側には、ウエハＷと基板保持機構２０との間から漏れた処理液（図４では純水Ｄ）を受けて外部に排出する内方排出管６８が設けられている。また、排気カップ６６の下方には、排気カップ６６の設けられた空間６６ａ内に流入した処理液（図４では純水Ｄ）を受けて外部に排出する外方排出管６９が設けられている。
【００５７】
また、図２に示すように、ケーシングの上壁には、バルブ１９を介して、低湿度の空気やＮ２などの乾燥気体を供給する乾燥気体供給部１８が連結されている。
【００５８】
次に、このような構成からなる本実施の形態の作用について述べる。より具体的には、本実施の形態による液処理装置１により、ウエハＷを洗浄処理する液処理方法について述べる。
【００５９】
まず、メインアーム８４によって保持されたウエハＷが、出入口５ａを介して液処理装置１のケーシング５内に搬送される。そして、このようにして搬送されたウエハＷが、昇降部材２５を上昇させた状態で、ウエハ支持台２７に設けられたウエハ支持ピン２８上にウエハＷを受け渡される。その後、昇降部材２５が下降し、保持部材２２によりウエハＷがチャッキングされて保持される（保持工程）（図１、図２および図４参照）。
【００６０】
次に、回転機構７０によって、基板保持機構２０によって保持されたウエハＷを回転カップ６１と一体的に回転させる（回転工程）（図２および図４参照）。なお、後述する乾燥工程が終了するまで、ウエハＷと回転カップ６１は回転し続けている。
【００６１】
より具体的には、モータ７１のモータ軸７１ａを回転させることによって、モータ軸７１ａに巻き掛けられるとともに、回転軸２３の下端部にも巻き掛けられたベルト７２を回転させ、回転軸２３を回転させる。ここで、回転カップ６１は、基板保持機構２０と一体となっているので、回転軸２３を回転させることによって、この回転カップ６１を基板保持機構２０と一体的に回転させることができる。
【００６２】
このとき、処理液供給機構３０によって、基板保持機構２０により保持されたウエハＷに処理液が供給される（処理液供給工程）（図２乃至図４参照）。この処理液供給工程においては、具体的には、以下の工程が実施される。なお、処理液供給工程を行う前は、全てのバルブ４６，４７，４８，４９は閉じた状態になっている（図３参照）。
【００６３】
まず、制御部５０からの信号に基づいて、第二バルブ４７が開けられ、ＳＣ１供給源４２からアンモニア過水が供給される。そして、アンモニア過水が、ノズル３１ａを介して、基板保持機構２０により保持されたウエハＷに供給される（第二薬液供給工程９１）（図３および図５参照）。
【００６４】
次に、制御部５０からの信号に基づいて、第二バルブ４７が閉じられるとともに第三バルブ４８が開けられ、ＤＩＷ供給源４５から純水Ｄが供給される。そして、ノズル３１ａを介して、ウエハＷに純水Ｄが供給される（リンス工程９２）（図３乃至図５参照）。
【００６５】
所定の時間（例えば１０秒ほど）、ウエハＷに対して純水Ｄが供給されたら、制御部５０からの信号に基づいて、閉塞バルブ１１が閉じられる（洗浄工程９３）（図２乃至図５参照）。このように閉塞バルブ１１を閉じることによって、排液管１３を通過する純水Ｄの流れを止めることができる。このため、排液管１３および排液カップ１２内に純水Ｄを貯留して、排液カップ１２を純水Ｄに浸すことによって、排液カップ１２に純水Ｄを供給することができる。このため、排液カップ１２に付着したアンモニア成分（アルカリ成分）を除去することができる。
【００６６】
このように、本実施の形態によれば、アンモニア過水を供給した後のリンス工程９２において、閉塞バルブ１１を閉じるだけで、排液カップ１２に純水Ｄを供給し、排液カップ１２に付着したアンモニア成分を除去することができる（図４参照）。このため、ウエハＷの表面がフッ酸系処理液によって処理された後有機溶媒にさらされる場合では、ケーシング５内に僅かにアンモニア成分が存在するだけで発生してしまうシミの発生を、容易にかつ安価な構成で防止することができる。
【００６７】
また、排液管１３および排液カップ１２内に純水Ｄを貯留して、排液カップ１２を純水Ｄに浸すことができる（図４参照）。このため、排液カップ１２に付着したアンモニア成分を、確実に洗浄して除去することができ、ウエハＷにシミが発生することを、高い確率で防止することができる。
【００６８】
上述のように排液カップ１２に純水Ｄを供給した後、制御部５０からの信号に基づいて、閉塞バルブ１１が開けられる（図２およじ図４参照）。このことによって、排液カップ１２を浸していた純水Ｄが排液カップ１２から除去される。
【００６９】
次に、制御部５０からの信号に基づいて、第三バルブ４８が閉じられるとともに第一バルブ４６が開けられ、ＤＨＦ供給源４１から希フッ酸が供給される。そして、希フッ酸が、ノズル３１ａを介して、ウエハＷに供給される（第一薬液供給工程９５）（図２乃至図５参照）。
【００７０】
次に、制御部５０からの信号に基づいて、第一バルブ４６が閉じられるとともに第三バルブ４８が開けられ、ＤＩＷ供給源４５から純水Ｄが供給される。そして、ノズル３１ａを介して、基板保持機構２０によりウエハＷに純水Ｄが供給される（リンス工程９７）（図２乃至図５参照）。
【００７１】
このリンス工程９７において、ケーシング５内に流入される気体が、ＦＦＵから供給される清浄空気から、乾燥気体供給部１８から供給される低湿度の空気やＮ２などの乾燥気体に切り換えられる。このように、乾燥気体をケーシング５内に供給することによって、ケーシング５内の湿度を低減することができ、ウエハＷにウオーターマークが形成されることを防止することができる。
【００７２】
次に、制御部５０からの信号に基づいて、第三バルブ４８を閉じられ、その後、第四バルブ４９が開けられ、ウエハＷを乾燥させるためのＩＰＡが、ノズル３１ｂを介してウエハＷに供給される（乾燥液供給工程９８）（図２乃至図５参照）。
【００７３】
この際、ノズル駆動部７５によってノズル揺動軸３３が駆動され、ノズルアーム３２に設けられたノズルブロック３１のノズル３１ａ，３１ｂは、ノズル揺動軸３３を中心として、ウエハＷ上方においてウエハＷの表面に沿って揺動される（図１および図２参照）。
【００７４】
上述のように、ウエハＷにＩＰＡを供給した後、基板保持機構２０に保持されたウエハＷを乾燥液供給工程９８のときより高速に回転させることによって、ウエハＷに付着したＩＰＡを振り切り、ウエハＷを乾燥させる（乾燥工程）。
【００７５】
ところで、上述した処理液供給工程の各々において、回転カップ６１は基板保持機構２０と一体となって回転するため、ウエハＷから振り切られた処理液が回転カップ６１に当たった際に当該処理液には遠心力が働く。このため、当該処理液は外方へ飛び散りにくくミスト化しにくくなっている。
【００７６】
最後に、処理済みのウエハＷが、保持部材２２によるチャッキングを解消した後、基板保持機構２０から取り除かれ、出入口５ａを介してケーシング５の外方に搬出される（図２参照）。
【００７７】
上述では、アンモニア過水を供給した第二薬液供給工程９１の後のリンス工程９２において、閉塞バルブ１１を閉じて、排液カップ１２に純水Ｄを貯留したが、これに限らない。例えば、希フッ酸の供給する第一薬液供給工程９５の後のリンス工程９７において、閉塞バルブ１１を閉じて、排液カップ１２に純水Ｄを供給してもよい。しかしながら、希フッ酸を供給した後では、ウエハＷの表面が活性化しているため、純水ＤにウエハＷが浸る可能性のある洗浄工程においては、純水ＤとウエハＷの表面とが不要な反応を起こす可能性がある。従って、上述したように、アンモニア過水を供給した第二薬液供給工程９１の後のリンス工程９２において、閉塞バルブ１１を閉じて、洗浄工程９３を実施する方が好ましい。
【００７８】
なお、上述した本実施の形態において、アルカリ成分としてアンモニア成分を用いて説明したが、これに限らず、別のアルカリ成分であってもよい。
【００７９】
また、本実施の形態によれば、上述したような液処理方法をコンピュータに実行させるためのコンピュータプログラムや、このようなコンピュータプログラムを格納した記憶媒体も提供することができる。
【００８０】
また、上記では、排気カップ６６を経た清浄空気を外方に排出する排気管６７が、排気カップ６６に１本連結されている態様を用いて説明したが、これに限らず、複数本（例えば２本）の排気管が、排気カップ６６に連結されていてもよい。
【００８１】
このように、排気カップ６６に、排気カップ６６を経た清浄空気を外方に排出する排気管を複数本連結することによって、第二薬液供給工程９１で供給されたアンモニア過水によるアンモニア成分を、ケーシング５内からより確実に排気することができる。このため、ウエハＷにシミが発生してしまうことを、より確実に防止することができる。
【００８２】
また、上記では、ＤＨＦ供給源４１から供給される希フッ酸と、ＳＣ１供給源４２から供給されるアンモニア過水とが、一つのノズルアーム３２と、ノズル３１ａ，３１ｂを有する一つのノズルブロック３１を用いてウエハＷに供給される態様を用いて説明したが、これに限らず、ＤＨＦ供給源４１から供給される希フッ酸と、ＳＣ１供給源４２から供給されるアンモニア過水の各々が、専用のノズルアームと専用のノズルブロック（ノズルを含む）を用いてウエハＷに供給されてもよい。
【００８３】
図１乃至図５に示す第１の実施の形態では、ＤＨＦ供給源４１とＳＣ１供給源４２とが、同じ一つのノズルアーム３２とノズルブロック３１（ノズル３１ａ，３１ｂを含む）を用いてウエハＷに処理液を供給している。このため、これらノズルアーム３２およびノズルブロック３１（ノズル３１ａ，３１ｂを含む）の外面に付着した、第二薬液供給工程９１において用いられたアンモニア成分（ほんの僅かな量ではあるが）が、洗浄工程９３より後の工程においてウエハＷに付着する可能性が否定できない。そして、上述のように、僅かなアンモニア成分が存在するだけでウエハＷにシミが発生する原因となるので、このようなアンモニア成分によってウエハＷにシミが発生することも否めない。
【００８４】
この点、ＤＨＦ供給源４１から供給される希フッ酸と、ＳＣ１供給源４２から供給されるアンモニア過水の各々が、専用のノズルアームと専用のノズルブロック（ノズルを含む）を用いてウエハＷに供給されることによって、第二薬液供給工程９１が終了した時点で、これらノズルアームとノズルブロック（ノズルを含む）を待機位置に移動させることができる。このため、第二薬液供給工程９１が終了するとそれ以降、アンモニア過水を供給する際に用いられたノズルアームとノズルブロック（ノズルを含む）をウエハＷから離れた位置に移動させることができる。この結果、これらのノズルアームとノズルブロック（ノズルを含む）の外面に付着したアンモニア成分がウエハＷに付着することを防止することができ、ウエハＷにシミが発生することをより確実に防止することができる。
【００８５】
第２の実施の形態
次に、図６により、本発明の第２の実施の形態について説明する。図６に示す第２の実施の形態は、排液カップ１２に付着したアルカリ成分を除去する洗浄機構（除去機構）１０が、洗浄液供給機構、排液管１３および閉塞バルブ１１から構成される代わりに、排液カップ１２に純水（洗浄液）Ｄを噴出することによって、排液カップ１２に付着したアルカリ成分を除去する洗浄液噴出機構１５から構成されるものである。また、排液カップ１２の周縁外方に配置された環状の排気カップ６６が上下方向に移動自在となっている（図６の矢印Ａ２参照）。その他の構成は図１乃至図５に示す第１の実施の形態と略同一である。
【００８６】
図６に示す第２の実施の形態において、図１乃至図５に示す第１の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。
【００８７】
図６に示すように、洗浄液噴出機構１５は、ケーシング５内で揺動軸１６を中心に上下方向に揺動自在に配置されている。また、この洗浄液噴出機構１５は、排液カップ１２に向かって純水Ｄを噴出する噴出ノズル１７を有している。
【００８８】
さらに、図６に示すように、この洗浄液噴出機構１５には制御部５０が接続されており、洗浄液噴出機構１５は制御部５０により制御されるようになっている。
【００８９】
以下に、この洗浄液噴出機構１５の作用について述べる。
【００９０】
まず、アンモニア過水が供給される第二薬液供給工程９１の間、洗浄液噴出機構１５の噴出ノズル１７は、上方位置に位置している。このとき、排気カップ６６も上方位置に位置している。
【００９１】
そして、この第二薬液供給工程９１が終わり次のリンス工程９２が開始されて所定の時間が経過すると、排気カップ６６が下方へ移動し始める。
【００９２】
その後、制御部５０からの信号に基づいて、噴出ノズル１７が、揺動軸１６を中心に揺動され（図６の矢印Ａ１参照）、下方位置（図６に示している位置）に配置される。そして、制御部５０からの信号に基づいて、下方位置に位置した噴出ノズル１７から、排液カップ１２に向かって純水Ｄが勢いよく噴出され、排液カップ１２に付着したアンモニア成分（アルカリ成分）が除去される（図６参照）。
【００９３】
このように、本実施の形態によれば、アンモニア過水を供給した後のリンス工程９２において、下方位置に位置した噴出ノズル１７から、排液カップ１２に向かって洗浄液を噴出させることによって、排液カップ１２に洗浄液を供給し、排液カップ１２に付着したアンモニア成分を除去することができる。このため、ケーシング５内に僅かにアンモニア成分が存在するだけで発生してしまうシミがウエハＷ上で発生することを、容易に防止することができる。
【００９４】
そして、上述したアンモニアを供給した後のリンス工程９２が終わると、制御部５０からの信号に基づいて、噴出ノズル１７は、揺動軸１６を中心に揺動され、上方位置に達する。
【００９５】
その後は、第１の実施の形態で示したのと同様、第一薬液供給工程９５、リンス工程９７および乾燥液供給工程９８が順次実施される（図５参照）。
【００９６】
ところで、上記では、第１の実施の形態で示した洗浄機構（除去機構）１０の代わりに、洗浄液噴出機構１５から構成される洗浄機構（除去機構）１０を用いて説明した。しかしながら、これに限らず、第１の実施の形態の態様に、洗浄液噴出機構１５をさらに加えることによって、洗浄機構（除去機構）１０を構成してもよい。
【００９７】
第３の実施の形態
次に、図７により、本発明の第３の実施の形態について説明する。図７に示す第３の実施の形態は、ケーシング５内のアルカリ成分を除去する洗浄機構１０を設ける代わりに、乾燥気体供給部１８がケーシング５内へのアルカリ成分の侵入を防止する与圧機構（侵入防止機構）としての機能を果たすようにしたものである。具体的には、乾燥気体供給部１８からケーシング５内へ流入される乾燥気体の気圧を高くすることによってケーシング５内へのアルカリ成分の侵入を防止する。その他の構成は図１乃至図５に示す第１の実施の形態と略同一である。
【００９８】
図７に示す第３の実施の形態において、図１乃至図５に示す第１の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。
【００９９】
図７に示すように、ケーシング５に、ケーシング５内の気圧を高くすることによって、ケーシング５内へアンモニア成分などのアルカリ成分が侵入することを防止する与圧機構１８が連結されている。また、この与圧機構１８は、制御部５０に接続されており、当該制御部５０からの信号に基づいて制御される。
【０１００】
上述のように、ウエハＷの表面がフッ酸系処理液によって処理された後、有機溶媒にさらされる場合では、ケーシング５内に僅かにアンモニア成分（アルカリ成分）が存在するだけで、ウエハＷにシミが発生してしまう。この点、本実施の形態では、乾燥気体供給部１８によって、ケーシング５内の気圧を高くすることができ、外部（例えば、クリーンルーム内）の空気に存在しているアンモニア成分が、ケーシング５内に侵入することを防止することができる。このため、ウエハＷをフッ酸系処理液によって処理した後、有機溶媒によって乾燥させる場合であっても、ウエハＷにシミが発生してしまうことを容易に防止することができる。
【０１０１】
なお、ケーシング５内の気圧を高くすることによって、ケーシング５内へのアルカリ成分の侵入を防止する工程（侵入防止工程）は、処理対象となるウエハＷがケーシング５内の基板保持機構２０上に載置されてから、処理されたウエハＷがケーシング５の外方に搬出されるまでの間、継続して実施される（図２参照）。
【０１０２】
ところで、本実施の形態による与圧機構（侵入防止機構）としての乾燥気体供給部１８は、アルカリ系処理液であるアンモニア過水(ＳＣ１)を供給するＳＣ１供給源４２を有しておらず、アンモニア過水(ＳＣ１)を供給しない場合にも有効である。
【０１０３】
また、上記では、ケーシング５内へのアルカリ成分の侵入を防止する侵入防止機構として、ケーシング５内の気圧を高くする乾燥気体供給部１８を用いて説明したが、これに限られることなく、ケーシング５内へのアルカリ成分の侵入を防止するものであれば、あらゆるものを侵入防止機構として用いることができる。
【０１０４】
なお、上記では、第１の実施の形態、第２の実施の形態および第３の実施の形態の各々を別個に説明したが、これらを任意に組合せたり、あるいは、これら全てを組合せたりしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【０１０５】
【図１】本発明の第１の実施の形態による液処理装置を含む液処理システムを上方から見た上方平面図。
【図２】本発明の第１の実施の形態による液処理装置の縦断面図。
【図３】本発明の第１の実施の形態による液処理装置の処理液供給機構の構成を示す概略図。
【図４】本発明の第１の実施の形態による液処理装置の一部を図２とは異なる断面で切断した縦断面図。
【図５】本発明の第１の実施の形態による液処理方法に含まれる工程の一部を示すフロー図。
【図６】本発明の第２の実施の形態による液処理装置の一部を図４に対応する断面で切断した縦断面図。
【図７】本発明の第３の実施の形態による液処理装置の縦断面図。
【符号の説明】
【０１０６】
１ 液処理装置
３ 気体導入部
５ ケーシング
１０ 洗浄機構（除去機構）
１１ 閉塞バルブ（閉塞機構）
１２ 排液カップ
１３ 排液管
１５ 洗浄液噴出機構
１６ 揺動軸
１７ 噴出ノズル
１８ 乾燥気体供給部（与圧機構（侵入防止機構））
２０ 基板保持機構
３０ 処理液供給機構
３１ａ，３１ｂ ノズル
３１ ノズルブロック
３２ ノズルアーム
３３ ノズル揺動軸
３５ 処理液流路
３８ 乾燥溶媒流路
４２ ＳＣ１供給源
４３ ＩＰＡ供給源
４５ ＤＩＷ供給源
４６ 第二バルブ
４７ 第二バルブ
４８ 第三バルブ
４９ 第四バルブ
５０ 制御部
６１ 回転カップ
６６ 排気カップ
７０ 回転機構
９１ 第二薬液供給工程
９２ リンス工程
９３ 洗浄工程
９５ 第一薬液供給工程
９７ リンス工程
９８ 乾燥液供給工程
Ｗ ウエハ（被処理基板）
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フッ酸系処理液によって処理した後、有機溶媒により乾燥させる方法を用いた液処理装置および液処理方法、並びにコンピュータに当該液処理方法を実行させるためのコンピュータプログラムを格納した記憶媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、処理対象となるウエハに付着したパーティクルを除去する方法としては、ウエハを回転させつつ、ウエハに対してアンモニア過酸化水素水混合水溶液を吐出した後、当該ウエハを回転させつつウエハに対してフッ酸を吐出して、ウエハを洗浄する液処理方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００２−３２９６９６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
このような液処理方法において、ウエハを乾燥させるために有機溶媒を用いると、ウエハにウオーターマークのようなシミが発生することがあることを発明者は発見した。すなわち、ウエハを、アンモニア成分（アルカリ成分）の処理液によって処理した後、フッ酸により処理し、その後、有機溶媒を用いて乾燥させると、ウエハにシミが発生するのである。
【０００４】
このようにウエハにシミが発生する機構は未だ定かではないが、これはおそらく、フッ酸により活性化されたウエハの表面が、外部雰囲気内にアンモニア成分（アルカリ成分）が存在している状態で有機溶媒にさらされることにより、これらアンモニア成分と有機溶媒から何らかの攻撃を受けることによるものと推測される。
【０００５】
また、本願の発明者が実験した結果によると、上述のように処理液としてアンモニア成分（アルカリ成分）からなるものを用いない場合であっても、外部雰囲気内に僅かなアンモニア成分（アルカリ成分）があるだけで、ウエハの表面にシミが発生しまうことが分かった。
【０００６】
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、被処理基板を、フッ酸系処理液によって処理した後、有機溶媒により乾燥させる方法を用いた場合であっても、当該被処理基板にシミが発生することを防止することができる液処理装置および液処理方法を提供することを目的とする。さらに、本発明は、当該液処理方法を実行させるためのコンピュータプログラムを格納した記憶媒体を提供することも目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明による液処理装置は、ケーシングと、ケーシング内に設けられ、被処理基板を保持する基板保持機構と、基板保持機構によって保持された被処理基板に処理液を供給する処理液供給機構と、ケーシング内で基板保持機構によって保持された被処理基板を周縁外方から覆うとともに、被処理基板を洗浄した後の処理液を受ける排液カップと、排液カップに連結され、排液カップを経た処理液を外方に排出する排液管と、を備え、
前記処理液供給機構が、フッ酸系処理液を供給する第一薬液供給機構と、第一薬液供給機構によってフッ酸系処理液を供給した後、被処理基板を乾燥させるための有機溶媒を供給する乾燥液供給機構とを有し、
ケーシング内のアルカリ成分を除去する除去機構、または、ケーシング内へのアルカリ成分の侵入を防止する侵入防止機構が設けられ、
第一薬液供給機構および乾燥液供給機構、並びに、除去機構または侵入防止機構が、制御部により制御され、
制御部が、第一薬液供給機構によってフッ酸系処理液を供給させた後、乾燥液供給機構によって被処理基板を乾燥させるための有機溶媒を供給させ、かつ、乾燥液供給機構によって有機溶媒を供給させる前に、除去機構によりケーシング内のアルカリ成分を除去させる、または、侵入防止機構によりケーシング内へのアルカリ成分の侵入を防止させる。
【０００８】
このような構成によれば、被処理基板を、フッ酸系処理液によって処理した後、有機溶媒により乾燥させる方法を用いた場合であっても、乾燥液供給機構によって有機溶媒を供給させる前に、除去機構によりケーシング内のアルカリ成分を除去させたり、または、侵入防止機構によりケーシング内へのアルカリ成分の侵入を防止させたりすることができ、当該被処理基板にシミが発生することを防止することができる。
【０００９】
本発明による液処理装置において、制御部は、第一薬液供給機構によってフッ酸系処理液を供給させる前に、除去機構よってケーシング内のアルカリ成分を除去させることが好ましい。
【００１０】
このような構成によれば、ケーシング内のアルカリ成分を除去させる際に、フッ酸系処理液により活性化した被処理基板の表面が不要な反応を起こすことを防止することができ、より確実に、被処理基板にシミが発生することを防止することができる。
【００１１】
本発明による液処理装置において、侵入防止機構は、ケーシング内の気圧を高くする与圧機構からなることが好ましい。
【００１２】
本発明による液処理装置において、除去機構は、排液カップに洗浄液を供給することによって、排液カップに付着したアルカリ成分を除去する洗浄機構からなることが好ましい。
【００１３】
本発明による液処理装置において、処理液供給機構は、制御部により制御され、アルカリ系処理液を供給する第二薬液供給機構を有し、制御部は、第二薬液供給機構によってアルカリ系処理液を供給させた後であって、第一薬液供給機構によってフッ酸系処理液を供給させる前に、洗浄機構によって排液カップに洗浄液を供給させることで、排液カップに付着したアルカリ成分を除去することが好ましい。
【００１４】
本発明による液処理装置において、排液管に設けられ、当該排液管を通過する処理液の流れを止める閉塞機構をさらに備え、処理液供給機構は、基板保持機構に保持された被処理基板に洗浄液を供給する洗浄液供給機構を有し、前記洗浄液供給機構、前記排液管および前記閉塞機構によって、前記洗浄機構が構成され、制御部は、閉塞機構により排液管を閉塞させることによって、排液管および排液カップ内に洗浄液を貯留して排液カップに洗浄液を供給し、排液カップに付着したアルカリ成分を除去することが好ましい。
【００１５】
このような構成によれば、閉塞機構を閉じるだけで、排液カップに洗浄液を供給し、排液カップに付着したアルカリ成分を除去することができ、被処理基板にシミが発生することを容易にかつ安価な構成で防止することができる。また、排液カップを洗浄液に浸すことができるので、排液カップに付着したアルカリ成分を、確実に洗浄して除去することができ、被処理基板にシミが発生することを高い確率で防止することができる。
【００１６】
本発明による液処理装置において、前記洗浄機構は、排液カップに洗浄液を噴出することによって、排液カップに付着したアルカリ成分を除去する洗浄液噴出機構を有することが好ましい。
【００１７】
このような構成によれば、排液カップに向かって洗浄液を噴出させることで、排液カップに付着したアルカリ成分を除去することができる。このため、被処理基板にシミが発生することを容易に防止することができる。
【００１８】
本発明による液処理装置において、ケーシング内に配置され、基板保持機構に保持された被処理基板に上方から気体を供給する気体導入部と、ケーシング内で排液カップを囲繞して配置され、被処理基板を経た気体を取り込んで排気する排気カップと、をさらに備えたことが好ましい。
【００１９】
本発明による液処理方法は、ケーシングと、ケーシング内に設けられ、被処理基板を保持する基板保持機構と、基板保持機構によって保持された被処理基板に処理液を供給する処理液供給機構と、ケーシング内で基板保持機構によって保持された被処理基板を周縁外方から覆うとともに、被処理基板を洗浄した後の処理液を受ける排液カップと、排液カップに連結され、排液カップを経た処理液を外方に排出する排液管と、を有する液処理装置を用いた液処理方法であって、
基板保持機構によって、被処理基板を保持する保持工程と、回転機構によって、基板保持機構によって保持された被処理基板を回転させる回転工程と、処理液供給機構によって、基板保持機構により保持された被処理基板に処理液を供給する処理液供給工程と、を備え、
処理液供給工程は、フッ酸系処理液を供給する第一薬液供給工程と、当該第一薬液供給工程の後、被処理基板を乾燥させるための有機溶媒を供給する乾燥液供給工程と、を有し、
前記乾燥液供給工程の前に、ケーシング内のアルカリ成分を除去する除去工程、または、ケーシング内へのアルカリ成分の侵入を防止する侵入防止工程が実施される。
【００２０】
このような方法によれば、被処理基板を、フッ酸系処理液によって処理した後、有機溶媒により乾燥させる方法を用いた場合であっても、被処理基板を乾燥させる前に、ケーシング内のアルカリ成分を除去したり、または、ケーシング内へのアルカリ成分の侵入を防止したりすることができ、当該被処理基板にシミが発生することを防止することができる。
【００２１】
本発明による液処理方法において、前記除去工程は、フッ酸系処理液を供給する前記第一薬液供給工程の前に実施されることが好ましい。
【００２２】
このような方法によれば、ケーシング内のアルカリ成分を除去させる際に、フッ酸系処理液により活性化した被処理基板の表面が不要な反応を起こすことを防止することができ、より確実に、被処理基板にシミが発生することを防止することができる。
【００２３】
本発明による液処理方法において、前記侵入防止工程は、ケーシング内の気圧を高くすることによって、ケーシング内へのアルカリ成分の侵入を防止することが好ましい。
【００２４】
本発明による液処理方法において、前記除去工程は、排液カップに洗浄液を供給することによって、排液カップに付着したアルカリ成分を除去することが好ましい。
【００２５】
本発明による液処理方法において、処理液供給工程は、フッ酸系処理液を供給する前記第一薬液供給工程の前に、アルカリ系処理液を供給する第二薬液供給工程を有し、アルカリ系処理液を供給する第二薬液供給工程の後であって、フッ酸系処理液を供給する第一薬液供給工程の前に、排液カップに洗浄液を供給することによって、排液カップに付着したアルカリ成分を除去することが好ましい。
【００２６】
本発明による液処理方法において、排液管に設けられた閉塞機構によって、処理液供給機構から供給され排液管を通過する洗浄液の流れを止めることにより、排液管および排液カップ内に処理液を貯留して排液カップに洗浄液を供給し、排液カップに付着したアルカリ成分を除去することが好ましい。
【００２７】
このような方法によれば、閉塞機構を閉じるだけで、排液カップに洗浄液を供給し、排液カップに付着したアルカリ成分を除去することができ、被処理基板にシミが発生することを容易にかつ安価な構成で防止することができる。また、このような方法によれば、排液カップを洗浄液に浸すことができるので、排液カップに付着したアルカリ成分を、確実に洗浄して除去することができ、被処理基板にシミが発生することを高い確率で防止することができる。
【００２８】
本発明による液処理方法において、前記洗浄工程は、排液カップに洗浄液を噴出することによって、排液カップに付着したアルカリ成分を除去することが好ましい。
【００２９】
このような方法によれば、排液カップに向かって洗浄液を噴出させるだけで、排液カップに付着したアルカリ成分を除去することができ、被処理基板にシミが発生することを容易に防止することができる。
【００３０】
本発明による記憶媒体は、コンピュータに液処理方法を実行させるためのコンピュータプログラムを格納した記憶媒体において、
当該液処理方法が、被処理基板を保持する基板保持機構と、基板保持機構によって保持された被処理基板に処理液を供給する処理液供給機構と、基板保持機構によって保持された被処理基板を周縁外方から覆うとともに、被処理基板を洗浄した後の処理液を受ける排液カップと、排液カップに連結され、排液カップを経た処理液を外方に排出する排液管と、少なくとも、基板保持機構および排液カップを収容するケーシングと、を有する液処理装置を用いた方法であって、
基板保持機構によって、被処理基板を保持する保持工程と、回転機構によって、基板保持機構によって保持された被処理基板を回転させる回転工程と、処理液供給機構によって、基板保持機構により保持された被処理基板に処理液を供給する処理液供給工程と、を備え、
処理液供給工程は、フッ酸系処理液を供給する第一薬液供給工程と、当該第一薬液供給工程の後、被処理基板を乾燥させるための有機溶媒を供給する乾燥液供給工程と、を有し、
前記乾燥液供給工程の前に、ケーシング内のアルカリ成分を除去する除去工程、または、ケーシング内へのアルカリ成分の侵入を防止する侵入防止工程が実施される方法である。
【００３１】
このような構成によれば、液処理装置が、被処理基板を、フッ酸系処理液によって処理した後、有機溶媒により乾燥させる方法を用いて液処理を実施する場合であっても、被処理基板を乾燥させる前に、ケーシング内のアルカリ成分を除去したり、または、ケーシング内へのアルカリ成分の侵入を防止したりすることができ、当該被処理基板にシミが発生することを防止することができる。
【発明の効果】
【００３２】
本発明によれば、被処理基板をフッ酸系処理液によって処理した後、有機溶媒により乾燥させる方法を用いた場合であっても、有機溶媒を供給して被処理基板を乾燥させる前に、ケーシング内のアルカリ成分を除去させる、または、ケーシング内へのアルカリ成分の侵入を防止させることによって、当該被処理基板にシミが発生することを防止することができる。
【発明を実施するための形態】
【００３３】
第１の実施の形態
以下、本発明に係る液処理装置１、液処理方法および記憶媒体の第１の実施の形態について、図面を参照して説明する。ここで、図１乃至図５は本発明の第１の実施の形態を示す図である。
【００３４】
図１に示すように、液処理システムは、外部から被処理基板としての半導体ウエハＷ（以下、単にウエハＷともいう）を収容したキャリアを載置するための載置台８１と、キャリアに収容されたウエハＷを取り出すためのトランスファーアーム８２と、トランスファーアーム８２によって取り出されたウエハＷを載置するための棚ユニット８３と、棚ユニット８３に載置されたウエハＷを受け取り、当該ウエハＷを液処理装置１１内に搬送するメインアーム８４と、を含んでいる。そして、この液処理システムには、複数（本実施の形態では１２個）の液処理装置１が組み込まれている。なお、この図１は、本実施の形態による液処理装置１を含む液処理システムを上方から見た上方平面図である。
【００３５】
この液処理装置１は、図２に示すように、ケーシング５と、ケーシング５内に設けられ、ウエハＷを保持する基板保持機構２０と、基板保持機構２０によって保持されたウエハＷに処理液を供給する処理液供給機構３０と、ケーシング５内で基板保持機構２０によって保持されたウエハＷを周縁外方から覆うとともに、基板保持機構２０と一体となって回転可能な回転カップ６１と、前記回転カップ６１および前記基板保持機構２０を一体的に回転させる回転機構７０と、を備えている。なお、この図２は、本実施の形態による液処理装置１の縦断面図である。
【００３６】
また、図２に示すように、ケーシング５内であって回転カップ６１の周縁外方には、ウエハＷを洗浄した後の処理液を受ける環状の排液カップ１２が配置されている。そして、この排液カップ１２には、排液カップ１２を経た処理液を外方に排出する排液管１３が連結されている。
【００３７】
また、図２に示すように、ケーシング５の側壁には、ウエハＷを出し入れするための出入口５ａが設けられている。
【００３８】
また、図２および図４に示すように、基板保持機構２０は、水平に設けられた円板状をなす回転プレート２１と、回転プレート２１の周縁端部に設けられ、ウエハＷを保持する保持部材２２と、回転プレート２１の下面の中心部に連結され、下方鉛直に延びる円筒状の回転軸２３とを有している。また、回転プレート２１の中心部には、円筒状の回転軸２３の孔２３ａに連通する円形の孔２１ａが形成されており、回転軸２３の孔２３ａの内部には、昇降機構５６により上下方向に昇降自在な昇降部材２５が設けられている。なお、この図４は、本実施の形態による液処理装置１の一部を図２とは異なる断面で切断した縦断面図である。
【００３９】
また、図２および図４に示すように、この昇降部材２５内には、ウエハＷの裏面（下面）側から処理液を供給する裏面処理液供給路２６が設けられている。また、昇降部材２５の上端部にはウエハ支持台２７が設けられ、このウエハ支持台２７の上面にはウエハＷを支持するためのウエハ支持ピン２８が設けられている。なお、回転軸２３は、軸受け部材２９を介してベースプレート６に回転可能に支持されている。
【００４０】
また、図２および図４に示すように、回転機構７０は、モータ軸７１ａを有するモータ７１と、当該モータ軸７１ａに巻き掛けられるとともに、回転軸２３の下端部にも巻き掛けられたベルト７２とを有している。なお、ベルト７２とモータ軸７１ａとの間にはプーリー７４が設けられ、ベルト７２と回転軸２３との間にはプーリー７３が設けられている。
【００４１】
また、図２に示すように、ケーシング５内の上方部には、液処理システムのファン・フィルター・ユニット（ＦＦＵ）（図示せず）からの気体を導入口５ｂを介して導入する気体導入部３が設けられており、基板保持機構２０に保持されたウエハＷに上方から清浄空気（気体）を供給するようになっている。ＦＦＵは、アルカリ成分を吸着させるケミカルフィルターを有しており、外部からケーシング５内に、アルカリ雰囲気が持ち込まれることを防止することができる。
【００４２】
また、図２および図４に示すように、排液カップ１２の周縁外方には、気体導入部３から供給されてウエハＷを経た清浄空気を取り込んで排気する環状の排気カップ６６が配置されている。
【００４３】
また、この排気カップ６６には、排気カップ６６を経た気体を外方に排出する排気管６７が１本連結されている。また、排液カップ１２の下端には、スリット状の通気孔６６ｂが設けられており、排気カップ６６を経た気体を排気管６７に案内するようになっている（図２の点線矢印参照）。
【００４４】
また、図２および図３に示すように、処理液供給機構３０は、基板保持機構２０によって保持されたウエハＷの表面に処理液を供給するノズル３１ａ，３１ｂを有するノズルブロック３１と、ノズルブロック３１に連結され、当該ノズルブロック３１を基板保持機構２０に保持されたウエハＷの表面に沿って移動させるノズルアーム３２と、当該ノズルアーム３２から下方鉛直方向に向かって延びるノズル揺動軸３３と、当該ノズル揺動軸３３を駆動するノズル駆動部７５と、を有している。また、ノズル揺動軸３３の下端にはノズルブロック３１、ノズルアーム３２、ノズル揺動軸３３およびノズル駆動部７５を上下方向に駆動するノズル昇降機構５７が連結されている。なお、この図３は、本実施の形態による液処理装置１の処理液供給機構の構成を示す概略図である。
【００４５】
そして、このノズル駆動部７５は、モータ軸７６ａを有するモータ７６と、当該モータ軸７６ａに巻き掛けられるとともに、ノズル揺動軸３３の下端部にも巻き掛けられたベルト７７とを有している。なお、ベルト７７とモータ軸７６ａとの間にはプーリー７９が設けられ、ベルト７７とノズル揺動軸３３との間には、プーリー７８が設けられている。
【００４６】
また、図３に示すように、処理液供給機構３０のノズル３１ａ，３１ｂを有するノズルブロック３１、ノズルアーム３２およびノズル揺動軸３３内には、処理液が通過する処理液流路３５と、乾燥溶媒が通過する乾燥溶媒流路３８が設けられている。また、処理液流路３５と乾燥溶媒流路３８は、処理液供給部４０に連通されている。
【００４７】
また、この処理液供給部４０は、洗浄処理のための薬液として、フッ酸系の薬液である例えば希フッ酸(ＤＨＦ)を供給するＤＨＦ供給源４１と、アルカリ系の薬液である例えばアンモニア過水(ＳＣ１)を供給するＳＣ１供給源４２と、リンス液として例えば純水(ＤＩＷ)を供給するＤＩＷ供給源４５と、乾燥溶媒として例えばＩＰＡ（イソプロピルアルコール）を供給するＩＰＡ供給源４３とを有している。なお、フッ酸系の薬液としては、上述のような希フッ酸(ＤＨＦ)の他、ＢＨＦ（ＨＦとＮＨ４Ｆの混合溶液）やＬＡＬ（ＢＨＦと界面活性剤との混合溶液）などを用いることができる。
【００４８】
そして、処理液流路３５は、第一バルブ４６を介してＤＨＦ供給源４１と連通され、第二バルブ４７を介してＳＣ１供給源４２と連通され、第三バルブ４８を介してＤＩＷ供給源４５と連通されている。また、乾燥溶媒流路３８は、第四バルブ４９を介してＩＰＡ供給源４３と連通されている。
【００４９】
ところで、図３において、第一バルブ４６のみが開けられて、処理液流路３５とＤＨＦ供給源４１とが連通されると、処理液供給機構３０は、洗浄処理のための薬液として希フッ酸(ＤＨＦ)を供給する。このように、ノズル３１ａ，３１ｂを有するノズルブロック３１、ノズルアーム３２、ノズル揺動軸３３、処理液流路３５、ノズル駆動部７５（図２参照）、第一バルブ４６およびＤＨＦ供給源４１によって、フッ酸系処理液を供給する第一薬液供給機構が構成されている。
【００５０】
他方、図３において、第二バルブ４７のみが開けられて、処理液流路３５とＳＣ１供給源４２とが連通されると、処理液供給機構３０は、洗浄処理のための薬液としてアンモニア過水を供給する。このように、ノズル３１ａ，３１ｂを有するノズルブロック３１、ノズルアーム３２、ノズル揺動軸３３、処理液流路３５、ノズル駆動部７５（図２参照）、第二バルブ４７およびＳＣ１供給源４２によって、アルカリ系処理液を供給する第二薬液供給機構が構成されている。
【００５１】
また、図３において、ノズル３１ａ，３１ｂを有するノズルブロック３１、ノズルアーム３２、ノズル揺動軸３３、乾燥溶媒流路３８、ノズル駆動部７５（図２参照）、第四バルブ４９およびＩＰＡ供給源４３によって、ウエハＷを乾燥させるためのＩＰＡ（有機溶媒）を供給する乾燥液供給機構４３が構成されている。
【００５２】
また、図３において、第三バルブ４８のみが開けられて、処理液流路３５にＤＩＷ供給源４５を連通されると、処理液供給機構３０は、薬液のリンス液としての純水（洗浄液）を供給する。このため、ノズル３１ａ，３１ｂを有するノズルブロック３１、ノズルアーム３２、ノズル揺動軸３３、処理液流路３５、ノズル駆動部７５（図２参照）、第三バルブ４８およびＤＩＷ供給源４５によって、基板保持機構２０に保持されたウエハＷに純水（薬液のリンス液）を供給する洗浄液供給機構が構成されている。
【００５３】
なお、図２および図４に示す裏面処理液供給路２６へ処理液を供給する機構は、ＩＰＡ供給源４３が設けられていないことを除いて、上述した処理液供給部４０と同様の構成からなっている。
【００５４】
また、図２および図４に示すように、排液管１３には、当該排液管１３を通過する処理液の流れを止める閉塞バルブ（閉塞機構）１１が設けられており、この閉塞バルブ１１を閉じることによって、排液管１３を閉塞することができる。このため、後述するように、洗浄液供給機構によって純水Ｄを供給する際、閉塞バルブ１１によって、排液管１３を閉塞することによって、排液管１３および排液カップ１２内に純水Ｄを貯留して、排液カップ１２に純水Ｄを供給することができる。このため、洗浄液供給機構、排液管１３および閉塞バルブ１１によって、排液カップ１２に純水Ｄを供給する洗浄機構（除去機構）１０が構成されていることとなる。
【００５５】
また、図２および図３に示すように、第一バルブ４６、第二バルブ４７、第三バルブ４８、第四バルブ４９および閉塞バルブ１１の各々には制御部５０が接続されており、第一薬液供給機構、乾燥液供給機構４３および閉塞バルブ１１の各々は、制御部５０により制御される。
【００５６】
また、図４に示すように、排気管６７より回転軸２３側には、ウエハＷと基板保持機構２０との間から漏れた処理液（図４では純水Ｄ）を受けて外部に排出する内方排出管６８が設けられている。また、排気カップ６６の下方には、排気カップ６６の設けられた空間６６ａ内に流入した処理液（図４では純水Ｄ）を受けて外部に排出する外方排出管６９が設けられている。
【００５７】
また、図２に示すように、ケーシングの上壁には、バルブ１９を介して、低湿度の空気やＮ２などの乾燥気体を供給する乾燥気体供給部１８が連結されている。
【００５８】
次に、このような構成からなる本実施の形態の作用について述べる。より具体的には、本実施の形態による液処理装置１により、ウエハＷを洗浄処理する液処理方法について述べる。
【００５９】
まず、メインアーム８４によって保持されたウエハＷが、出入口５ａを介して液処理装置１のケーシング５内に搬送される。そして、このようにして搬送されたウエハＷが、昇降部材２５を上昇させた状態で、ウエハ支持台２７に設けられたウエハ支持ピン２８上にウエハＷを受け渡される。その後、昇降部材２５が下降し、保持部材２２によりウエハＷがチャッキングされて保持される（保持工程）（図１、図２および図４参照）。
【００６０】
次に、回転機構７０によって、基板保持機構２０によって保持されたウエハＷを回転カップ６１と一体的に回転させる（回転工程）（図２および図４参照）。なお、後述する乾燥工程が終了するまで、ウエハＷと回転カップ６１は回転し続けている。
【００６１】
より具体的には、モータ７１のモータ軸７１ａを回転させることによって、モータ軸７１ａに巻き掛けられるとともに、回転軸２３の下端部にも巻き掛けられたベルト７２を回転させ、回転軸２３を回転させる。ここで、回転カップ６１は、基板保持機構２０と一体となっているので、回転軸２３を回転させることによって、この回転カップ６１を基板保持機構２０と一体的に回転させることができる。
【００６２】
このとき、処理液供給機構３０によって、基板保持機構２０により保持されたウエハＷに処理液が供給される（処理液供給工程）（図２乃至図４参照）。この処理液供給工程においては、具体的には、以下の工程が実施される。なお、処理液供給工程を行う前は、全てのバルブ４６，４７，４８，４９は閉じた状態になっている（図３参照）。
【００６３】
まず、制御部５０からの信号に基づいて、第二バルブ４７が開けられ、ＳＣ１供給源４２からアンモニア過水が供給される。そして、アンモニア過水が、ノズル３１ａを介して、基板保持機構２０により保持されたウエハＷに供給される（第二薬液供給工程９１）（図３および図５参照）。
【００６４】
次に、制御部５０からの信号に基づいて、第二バルブ４７が閉じられるとともに第三バルブ４８が開けられ、ＤＩＷ供給源４５から純水Ｄが供給される。そして、ノズル３１ａを介して、ウエハＷに純水Ｄが供給される（リンス工程９２）（図３乃至図５参照）。
【００６５】
所定の時間（例えば１０秒ほど）、ウエハＷに対して純水Ｄが供給されたら、制御部５０からの信号に基づいて、閉塞バルブ１１が閉じられる（洗浄工程９３）（図２乃至図５参照）。このように閉塞バルブ１１を閉じることによって、排液管１３を通過する純水Ｄの流れを止めることができる。このため、排液管１３および排液カップ１２内に純水Ｄを貯留して、排液カップ１２を純水Ｄに浸すことによって、排液カップ１２に純水Ｄを供給することができる。このため、排液カップ１２に付着したアンモニア成分（アルカリ成分）を除去することができる。
【００６６】
このように、本実施の形態によれば、アンモニア過水を供給した後のリンス工程９２において、閉塞バルブ１１を閉じるだけで、排液カップ１２に純水Ｄを供給し、排液カップ１２に付着したアンモニア成分を除去することができる（図４参照）。このため、ウエハＷの表面がフッ酸系処理液によって処理された後有機溶媒にさらされる場合では、ケーシング５内に僅かにアンモニア成分が存在するだけで発生してしまうシミの発生を、容易にかつ安価な構成で防止することができる。
【００６７】
また、排液管１３および排液カップ１２内に純水Ｄを貯留して、排液カップ１２を純水Ｄに浸すことができる（図４参照）。このため、排液カップ１２に付着したアンモニア成分を、確実に洗浄して除去することができ、ウエハＷにシミが発生することを、高い確率で防止することができる。
【００６８】
上述のように排液カップ１２に純水Ｄを供給した後、制御部５０からの信号に基づいて、閉塞バルブ１１が開けられる（図２およじ図４参照）。このことによって、排液カップ１２を浸していた純水Ｄが排液カップ１２から除去される。
【００６９】
次に、制御部５０からの信号に基づいて、第三バルブ４８が閉じられるとともに第一バルブ４６が開けられ、ＤＨＦ供給源４１から希フッ酸が供給される。そして、希フッ酸が、ノズル３１ａを介して、ウエハＷに供給される（第一薬液供給工程９５）（図２乃至図５参照）。
【００７０】
次に、制御部５０からの信号に基づいて、第一バルブ４６が閉じられるとともに第三バルブ４８が開けられ、ＤＩＷ供給源４５から純水Ｄが供給される。そして、ノズル３１ａを介して、基板保持機構２０によりウエハＷに純水Ｄが供給される（リンス工程９７）（図２乃至図５参照）。
【００７１】
このリンス工程９７において、ケーシング５内に流入される気体が、ＦＦＵから供給される清浄空気から、乾燥気体供給部１８から供給される低湿度の空気やＮ２などの乾燥気体に切り換えられる。このように、乾燥気体をケーシング５内に供給することによって、ケーシング５内の湿度を低減することができ、ウエハＷにウオーターマークが形成されることを防止することができる。
【００７２】
次に、制御部５０からの信号に基づいて、第三バルブ４８を閉じられ、その後、第四バルブ４９が開けられ、ウエハＷを乾燥させるためのＩＰＡが、ノズル３１ｂを介してウエハＷに供給される（乾燥液供給工程９８）（図２乃至図５参照）。
【００７３】
この際、ノズル駆動部７５によってノズル揺動軸３３が駆動され、ノズルアーム３２に設けられたノズルブロック３１のノズル３１ａ，３１ｂは、ノズル揺動軸３３を中心として、ウエハＷ上方においてウエハＷの表面に沿って揺動される（図１および図２参照）。
【００７４】
上述のように、ウエハＷにＩＰＡを供給した後、基板保持機構２０に保持されたウエハＷを乾燥液供給工程９８のときより高速に回転させることによって、ウエハＷに付着したＩＰＡを振り切り、ウエハＷを乾燥させる（乾燥工程）。
【００７５】
ところで、上述した処理液供給工程の各々において、回転カップ６１は基板保持機構２０と一体となって回転するため、ウエハＷから振り切られた処理液が回転カップ６１に当たった際に当該処理液には遠心力が働く。このため、当該処理液は外方へ飛び散りにくくミスト化しにくくなっている。
【００７６】
最後に、処理済みのウエハＷが、保持部材２２によるチャッキングを解消した後、基板保持機構２０から取り除かれ、出入口５ａを介してケーシング５の外方に搬出される（図２参照）。
【００７７】
上述では、アンモニア過水を供給した第二薬液供給工程９１の後のリンス工程９２において、閉塞バルブ１１を閉じて、排液カップ１２に純水Ｄを貯留したが、これに限らない。例えば、希フッ酸の供給する第一薬液供給工程９５の後のリンス工程９７において、閉塞バルブ１１を閉じて、排液カップ１２に純水Ｄを供給してもよい。しかしながら、希フッ酸を供給した後では、ウエハＷの表面が活性化しているため、純水ＤにウエハＷが浸る可能性のある洗浄工程においては、純水ＤとウエハＷの表面とが不要な反応を起こす可能性がある。従って、上述したように、アンモニア過水を供給した第二薬液供給工程９１の後のリンス工程９２において、閉塞バルブ１１を閉じて、洗浄工程９３を実施する方が好ましい。
【００７８】
なお、上述した本実施の形態において、アルカリ成分としてアンモニア成分を用いて説明したが、これに限らず、別のアルカリ成分であってもよい。
【００７９】
また、本実施の形態によれば、上述したような液処理方法をコンピュータに実行させるためのコンピュータプログラムや、このようなコンピュータプログラムを格納した記憶媒体も提供することができる。
【００８０】
また、上記では、排気カップ６６を経た清浄空気を外方に排出する排気管６７が、排気カップ６６に１本連結されている態様を用いて説明したが、これに限らず、複数本（例えば２本）の排気管が、排気カップ６６に連結されていてもよい。
【００８１】
このように、排気カップ６６に、排気カップ６６を経た清浄空気を外方に排出する排気管を複数本連結することによって、第二薬液供給工程９１で供給されたアンモニア過水によるアンモニア成分を、ケーシング５内からより確実に排気することができる。このため、ウエハＷにシミが発生してしまうことを、より確実に防止することができる。
【００８２】
また、上記では、ＤＨＦ供給源４１から供給される希フッ酸と、ＳＣ１供給源４２から供給されるアンモニア過水とが、一つのノズルアーム３２と、ノズル３１ａ，３１ｂを有する一つのノズルブロック３１を用いてウエハＷに供給される態様を用いて説明したが、これに限らず、ＤＨＦ供給源４１から供給される希フッ酸と、ＳＣ１供給源４２から供給されるアンモニア過水の各々が、専用のノズルアームと専用のノズルブロック（ノズルを含む）を用いてウエハＷに供給されてもよい。
【００８３】
図１乃至図５に示す第１の実施の形態では、ＤＨＦ供給源４１とＳＣ１供給源４２とが、同じ一つのノズルアーム３２とノズルブロック３１（ノズル３１ａ，３１ｂを含む）を用いてウエハＷに処理液を供給している。このため、これらノズルアーム３２およびノズルブロック３１（ノズル３１ａ，３１ｂを含む）の外面に付着した、第二薬液供給工程９１において用いられたアンモニア成分（ほんの僅かな量ではあるが）が、洗浄工程９３より後の工程においてウエハＷに付着する可能性が否定できない。そして、上述のように、僅かなアンモニア成分が存在するだけでウエハＷにシミが発生する原因となるので、このようなアンモニア成分によってウエハＷにシミが発生することも否めない。
【００８４】
この点、ＤＨＦ供給源４１から供給される希フッ酸と、ＳＣ１供給源４２から供給されるアンモニア過水の各々が、専用のノズルアームと専用のノズルブロック（ノズルを含む）を用いてウエハＷに供給されることによって、第二薬液供給工程９１が終了した時点で、これらノズルアームとノズルブロック（ノズルを含む）を待機位置に移動させることができる。このため、第二薬液供給工程９１が終了するとそれ以降、アンモニア過水を供給する際に用いられたノズルアームとノズルブロック（ノズルを含む）をウエハＷから離れた位置に移動させることができる。この結果、これらのノズルアームとノズルブロック（ノズルを含む）の外面に付着したアンモニア成分がウエハＷに付着することを防止することができ、ウエハＷにシミが発生することをより確実に防止することができる。
【００８５】
第２の実施の形態
次に、図６により、本発明の第２の実施の形態について説明する。図６に示す第２の実施の形態は、排液カップ１２に付着したアルカリ成分を除去する洗浄機構（除去機構）１０が、洗浄液供給機構、排液管１３および閉塞バルブ１１から構成される代わりに、排液カップ１２に純水（洗浄液）Ｄを噴出することによって、排液カップ１２に付着したアルカリ成分を除去する洗浄液噴出機構１５から構成されるものである。また、排液カップ１２の周縁外方に配置された環状の排気カップ６６が上下方向に移動自在となっている（図６の矢印Ａ２参照）。その他の構成は図１乃至図５に示す第１の実施の形態と略同一である。
【００８６】
図６に示す第２の実施の形態において、図１乃至図５に示す第１の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。
【００８７】
図６に示すように、洗浄液噴出機構１５は、ケーシング５内で揺動軸１６を中心に上下方向に揺動自在に配置されている。また、この洗浄液噴出機構１５は、排液カップ１２に向かって純水Ｄを噴出する噴出ノズル１７を有している。
【００８８】
さらに、図６に示すように、この洗浄液噴出機構１５には制御部５０が接続されており、洗浄液噴出機構１５は制御部５０により制御されるようになっている。
【００８９】
以下に、この洗浄液噴出機構１５の作用について述べる。
【００９０】
まず、アンモニア過水が供給される第二薬液供給工程９１の間、洗浄液噴出機構１５の噴出ノズル１７は、上方位置に位置している。このとき、排気カップ６６も上方位置に位置している。
【００９１】
そして、この第二薬液供給工程９１が終わり次のリンス工程９２が開始されて所定の時間が経過すると、排気カップ６６が下方へ移動し始める。
【００９２】
その後、制御部５０からの信号に基づいて、噴出ノズル１７が、揺動軸１６を中心に揺動され（図６の矢印Ａ１参照）、下方位置（図６に示している位置）に配置される。そして、制御部５０からの信号に基づいて、下方位置に位置した噴出ノズル１７から、排液カップ１２に向かって純水Ｄが勢いよく噴出され、排液カップ１２に付着したアンモニア成分（アルカリ成分）が除去される（図６参照）。
【００９３】
このように、本実施の形態によれば、アンモニア過水を供給した後のリンス工程９２において、下方位置に位置した噴出ノズル１７から、排液カップ１２に向かって洗浄液を噴出させることによって、排液カップ１２に洗浄液を供給し、排液カップ１２に付着したアンモニア成分を除去することができる。このため、ケーシング５内に僅かにアンモニア成分が存在するだけで発生してしまうシミがウエハＷ上で発生することを、容易に防止することができる。
【００９４】
そして、上述したアンモニアを供給した後のリンス工程９２が終わると、制御部５０からの信号に基づいて、噴出ノズル１７は、揺動軸１６を中心に揺動され、上方位置に達する。
【００９５】
その後は、第１の実施の形態で示したのと同様、第一薬液供給工程９５、リンス工程９７および乾燥液供給工程９８が順次実施される（図５参照）。
【００９６】
ところで、上記では、第１の実施の形態で示した洗浄機構（除去機構）１０の代わりに、洗浄液噴出機構１５から構成される洗浄機構（除去機構）１０を用いて説明した。しかしながら、これに限らず、第１の実施の形態の態様に、洗浄液噴出機構１５をさらに加えることによって、洗浄機構（除去機構）１０を構成してもよい。
【００９７】
第３の実施の形態
次に、図７により、本発明の第３の実施の形態について説明する。図７に示す第３の実施の形態は、ケーシング５内のアルカリ成分を除去する洗浄機構１０を設ける代わりに、乾燥気体供給部１８がケーシング５内へのアルカリ成分の侵入を防止する与圧機構（侵入防止機構）としての機能を果たすようにしたものである。具体的には、乾燥気体供給部１８からケーシング５内へ流入される乾燥気体の気圧を高くすることによってケーシング５内へのアルカリ成分の侵入を防止する。その他の構成は図１乃至図５に示す第１の実施の形態と略同一である。
【００９８】
図７に示す第３の実施の形態において、図１乃至図５に示す第１の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。
【００９９】
図７に示すように、ケーシング５に、ケーシング５内の気圧を高くすることによって、ケーシング５内へアンモニア成分などのアルカリ成分が侵入することを防止する与圧機構１８が連結されている。また、この与圧機構１８は、制御部５０に接続されており、当該制御部５０からの信号に基づいて制御される。
【０１００】
上述のように、ウエハＷの表面がフッ酸系処理液によって処理された後、有機溶媒にさらされる場合では、ケーシング５内に僅かにアンモニア成分（アルカリ成分）が存在するだけで、ウエハＷにシミが発生してしまう。この点、本実施の形態では、乾燥気体供給部１８によって、ケーシング５内の気圧を高くすることができ、外部（例えば、クリーンルーム内）の空気に存在しているアンモニア成分が、ケーシング５内に侵入することを防止することができる。このため、ウエハＷをフッ酸系処理液によって処理した後、有機溶媒によって乾燥させる場合であっても、ウエハＷにシミが発生してしまうことを容易に防止することができる。
【０１０１】
なお、ケーシング５内の気圧を高くすることによって、ケーシング５内へのアルカリ成分の侵入を防止する工程（侵入防止工程）は、処理対象となるウエハＷがケーシング５内の基板保持機構２０上に載置されてから、処理されたウエハＷがケーシング５の外方に搬出されるまでの間、継続して実施される（図２参照）。
【０１０２】
ところで、本実施の形態による与圧機構（侵入防止機構）としての乾燥気体供給部１８は、アルカリ系処理液であるアンモニア過水(ＳＣ１)を供給するＳＣ１供給源４２を有しておらず、アンモニア過水(ＳＣ１)を供給しない場合にも有効である。
【０１０３】
また、上記では、ケーシング５内へのアルカリ成分の侵入を防止する侵入防止機構として、ケーシング５内の気圧を高くする乾燥気体供給部１８を用いて説明したが、これに限られることなく、ケーシング５内へのアルカリ成分の侵入を防止するものであれば、あらゆるものを侵入防止機構として用いることができる。
【０１０４】
なお、上記では、第１の実施の形態、第２の実施の形態および第３の実施の形態の各々を別個に説明したが、これらを任意に組合せたり、あるいは、これら全てを組合せたりしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【０１０５】
【図１】本発明の第１の実施の形態による液処理装置を含む液処理システムを上方から見た上方平面図。
【図２】本発明の第１の実施の形態による液処理装置の縦断面図。
【図３】本発明の第１の実施の形態による液処理装置の処理液供給機構の構成を示す概略図。
【図４】本発明の第１の実施の形態による液処理装置の一部を図２とは異なる断面で切断した縦断面図。
【図５】本発明の第１の実施の形態による液処理方法に含まれる工程の一部を示すフロー図。
【図６】本発明の第２の実施の形態による液処理装置の一部を図４に対応する断面で切断した縦断面図。
【図７】本発明の第３の実施の形態による液処理装置の縦断面図。
【符号の説明】
【０１０６】
１ 液処理装置
３ 気体導入部
５ ケーシング
１０ 洗浄機構（除去機構）
１１ 閉塞バルブ（閉塞機構）
１２ 排液カップ
１３ 排液管
１５ 洗浄液噴出機構
１６ 揺動軸
１７ 噴出ノズル
１８ 乾燥気体供給部（与圧機構（侵入防止機構））
２０ 基板保持機構
３０ 処理液供給機構
３１ａ，３１ｂ ノズル
３１ ノズルブロック
３２ ノズルアーム
３３ ノズル揺動軸
３５ 処理液流路
３８ 乾燥溶媒流路
４２ ＳＣ１供給源
４３ ＩＰＡ供給源
４５ ＤＩＷ供給源
４６ 第二バルブ
４７ 第二バルブ
４８ 第三バルブ
４９ 第四バルブ
５０ 制御部
６１ 回転カップ
６６ 排気カップ
７０ 回転機構
９１ 第二薬液供給工程
９２ リンス工程
９３ 洗浄工程
９５ 第一薬液供給工程
９７ リンス工程
９８ 乾燥液供給工程
Ｗ ウエハ（被処理基板）
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ケーシングと、
ケーシング内に設けられ、被処理基板を保持する基板保持機構と、
基板保持機構によって保持された被処理基板に処理液を供給する処理液供給機構と、
ケーシング内で基板保持機構によって保持された被処理基板を周縁外方から覆うとともに、被処理基板を洗浄した後の処理液を受ける排液カップと、
排液カップに連結され、排液カップを経た処理液を外方に排出する排液管と、を備え、
前記処理液供給機構は、フッ酸系処理液を供給する第一薬液供給機構と、被処理基板を乾燥させるための有機溶媒を供給する乾燥液供給機構とを有し、
ケーシング内のアルカリ成分を除去する除去機構、または、ケーシング内へのアルカリ成分の侵入を防止する侵入防止機構が設けられ、
第一薬液供給機構および乾燥液供給機構、並びに、除去機構または侵入防止機構は、制御部により制御され、
制御部は、第一薬液供給機構によってフッ酸系処理液を供給させた後、乾燥液供給機構によって被処理基板を乾燥させるための有機溶媒を供給させ、かつ、
乾燥液供給機構によって有機溶媒を供給させる前に、除去機構によりケーシング内のアルカリ成分を除去させる、または、侵入防止機構によりケーシング内へのアルカリ成分の侵入を防止させることを特徴とする液処理装置。
【請求項２】
制御部は、第一薬液供給機構によってフッ酸系処理液を供給させる前に、除去機構よってケーシング内のアルカリ成分を除去させることを特徴とする請求項１に記載の液処理装置。
【請求項３】
侵入防止機構は、ケーシング内の気圧を高くする与圧機構からなることを特徴とする請求項１に記載の液処理装置。
【請求項４】
除去機構は、排液カップに洗浄液を供給することによって、排液カップに付着したアルカリ成分を除去する洗浄機構からなることを特徴とする請求項１に記載の液処理装置。
【請求項５】
処理液供給機構は、制御部により制御され、アルカリ系処理液を供給する第二薬液供給機構を有し、
制御部は、第二薬液供給機構によってアルカリ系処理液を供給させた後であって、第一薬液供給機構によってフッ酸系処理液を供給させる前に、洗浄機構によって排液カップに洗浄液を供給させることで、排液カップに付着したアルカリ成分を除去することを特徴とする請求項４に記載の液処理装置。
【請求項６】
排液管に設けられ、当該排液管を通過する処理液の流れを止める閉塞機構をさらに備え、
処理液供給機構は、基板保持機構に保持された被処理基板に洗浄液を供給する洗浄液供給機構を有し、
前記洗浄液供給機構、前記排液管および前記閉塞機構によって、前記洗浄機構が構成され、
制御部は、閉塞機構により排液管を閉塞させることによって、排液管および排液カップ内に洗浄液を貯留して、排液カップに付着したアルカリ成分を除去することを特徴とする請求項４に記載の液処理装置。
【請求項７】
前記洗浄機構は、排液カップに洗浄液を噴出することによって、排液カップに付着したアルカリ成分を除去する洗浄液噴出機構を有することを特徴とする請求項４に記載の液処理装置。
【請求項８】
ケーシング内に配置され、基板保持機構に保持された被処理基板に上方から気体を供給する気体導入部と、
ケーシング内で排液カップを囲繞して配置され、被処理基板を経た気体を取り込んで排気する排気カップと、
をさらに備えたことを特徴とする請求項１に記載の液処理装置。
【請求項９】
ケーシングと、ケーシング内に設けられ、被処理基板を保持する基板保持機構と、基板保持機構によって保持された被処理基板に処理液を供給する処理液供給機構と、ケーシング内で基板保持機構によって保持された被処理基板を周縁外方から覆うとともに、被処理基板を洗浄した後の処理液を受ける排液カップと、排液カップに連結され、排液カップを経た処理液を外方に排出する排液管と、を有する液処理装置を用いた液処理方法であって、
基板保持機構によって、被処理基板を保持する保持工程と、
回転機構によって、基板保持機構によって保持された被処理基板を回転させる回転工程と、
処理液供給機構によって、基板保持機構により保持された被処理基板に処理液を供給する処理液供給工程と、を備え、
処理液供給工程は、フッ酸系処理液を供給する第一薬液供給工程と、当該第一薬液供給工程の後、被処理基板を乾燥させるための有機溶媒を供給する乾燥液供給工程と、を有し、
前記乾燥液供給工程の前に、ケーシング内のアルカリ成分を除去する除去工程、または、ケーシング内へのアルカリ成分の侵入を防止する侵入防止工程が実施されることを特徴とする液処理方法。
【請求項１０】
前記除去工程は、フッ酸系処理液を供給する前記第一薬液供給工程の前に実施されることを特徴とする請求項９に記載の液処理方法。
【請求項１１】
前記侵入防止工程は、ケーシング内の気圧を高くすることによって、ケーシング内へのアルカリ成分の侵入を防止することを特徴とする請求項９に記載の液処理方法。
【請求項１２】
前記除去工程は、排液カップに洗浄液を供給することによって、排液カップに付着したアルカリ成分を除去することを特徴とする請求項９に記載の液処理方法。
【請求項１３】
処理液供給工程は、フッ酸系処理液を供給する前記第一薬液供給工程の前に、アルカリ系処理液を供給する第二薬液供給工程を有し、
アルカリ系処理液を供給する第二薬液供給工程の後であって、フッ酸系処理液を供給する第一薬液供給工程の前に、排液カップに洗浄液を供給することによって、排液カップに付着したアルカリ成分を除去することを特徴とする請求項１２に記載の液処理方法。
【請求項１４】
排液管に設けられた閉塞機構によって、処理液供給機構から供給され排液管を通過する洗浄液の流れを止めることにより、排液管および排液カップ内に処理液を貯留して排液カップに洗浄液を供給し、排液カップに付着したアルカリ成分を除去することを特徴とする請求項１２に記載の液処理方法。
【請求項１５】
前記洗浄工程は、排液カップに洗浄液を噴出することによって、排液カップに付着したアルカリ成分を除去することを特徴とする請求項１２に記載の液処理方法。
【請求項１６】
コンピュータに液処理方法を実行させるためのコンピュータプログラムを格納した記憶媒体において、
当該液処理方法は、被処理基板を保持する基板保持機構と、基板保持機構によって保持された被処理基板に処理液を供給する処理液供給機構と、基板保持機構によって保持された被処理基板を周縁外方から覆うとともに、被処理基板を洗浄した後の処理液を受ける排液カップと、排液カップに連結され、排液カップを経た処理液を外方に排出する排液管と、少なくとも、基板保持機構および排液カップを収容するケーシングと、を有する液処理装置を用いた方法であって、
基板保持機構によって、被処理基板を保持する保持工程と、
回転機構によって、基板保持機構によって保持された被処理基板を回転させる回転工程と、
処理液供給機構によって、基板保持機構により保持された被処理基板に処理液を供給する処理液供給工程と、を備え、
処理液供給工程は、フッ酸系処理液を供給する第一薬液供給工程と、当該第一薬液供給工程の後、被処理基板を乾燥させるための有機溶媒を供給する乾燥液供給工程と、を有し、
前記乾燥液供給工程の前に、ケーシング内のアルカリ成分を除去する除去工程、または、ケーシング内へのアルカリ成分の侵入を防止する侵入防止工程が実施される方法であることを特徴とする記憶媒体。
【請求項１】
ケーシングと、
ケーシング内に設けられ、被処理基板を保持する基板保持機構と、
基板保持機構によって保持された被処理基板に処理液を供給する処理液供給機構と、
ケーシング内で基板保持機構によって保持された被処理基板を周縁外方から覆うとともに、被処理基板を洗浄した後の処理液を受ける排液カップと、
排液カップに連結され、排液カップを経た処理液を外方に排出する排液管と、を備え、
前記処理液供給機構は、フッ酸系処理液を供給する第一薬液供給機構と、被処理基板を乾燥させるための有機溶媒を供給する乾燥液供給機構とを有し、
ケーシング内のアルカリ成分を除去する除去機構、または、ケーシング内へのアルカリ成分の侵入を防止する侵入防止機構が設けられ、
第一薬液供給機構および乾燥液供給機構、並びに、除去機構または侵入防止機構は、制御部により制御され、
制御部は、第一薬液供給機構によってフッ酸系処理液を供給させた後、乾燥液供給機構によって被処理基板を乾燥させるための有機溶媒を供給させ、かつ、
乾燥液供給機構によって有機溶媒を供給させる前に、除去機構によりケーシング内のアルカリ成分を除去させる、または、侵入防止機構によりケーシング内へのアルカリ成分の侵入を防止させることを特徴とする液処理装置。
【請求項２】
制御部は、第一薬液供給機構によってフッ酸系処理液を供給させる前に、除去機構よってケーシング内のアルカリ成分を除去させることを特徴とする請求項１に記載の液処理装置。
【請求項３】
侵入防止機構は、ケーシング内の気圧を高くする与圧機構からなることを特徴とする請求項１に記載の液処理装置。
【請求項４】
除去機構は、排液カップに洗浄液を供給することによって、排液カップに付着したアルカリ成分を除去する洗浄機構からなることを特徴とする請求項１に記載の液処理装置。
【請求項５】
処理液供給機構は、制御部により制御され、アルカリ系処理液を供給する第二薬液供給機構を有し、
制御部は、第二薬液供給機構によってアルカリ系処理液を供給させた後であって、第一薬液供給機構によってフッ酸系処理液を供給させる前に、洗浄機構によって排液カップに洗浄液を供給させることで、排液カップに付着したアルカリ成分を除去することを特徴とする請求項４に記載の液処理装置。
【請求項６】
排液管に設けられ、当該排液管を通過する処理液の流れを止める閉塞機構をさらに備え、
処理液供給機構は、基板保持機構に保持された被処理基板に洗浄液を供給する洗浄液供給機構を有し、
前記洗浄液供給機構、前記排液管および前記閉塞機構によって、前記洗浄機構が構成され、
制御部は、閉塞機構により排液管を閉塞させることによって、排液管および排液カップ内に洗浄液を貯留して、排液カップに付着したアルカリ成分を除去することを特徴とする請求項４に記載の液処理装置。
【請求項７】
前記洗浄機構は、排液カップに洗浄液を噴出することによって、排液カップに付着したアルカリ成分を除去する洗浄液噴出機構を有することを特徴とする請求項４に記載の液処理装置。
【請求項８】
ケーシング内に配置され、基板保持機構に保持された被処理基板に上方から気体を供給する気体導入部と、
ケーシング内で排液カップを囲繞して配置され、被処理基板を経た気体を取り込んで排気する排気カップと、
をさらに備えたことを特徴とする請求項１に記載の液処理装置。
【請求項９】
ケーシングと、ケーシング内に設けられ、被処理基板を保持する基板保持機構と、基板保持機構によって保持された被処理基板に処理液を供給する処理液供給機構と、ケーシング内で基板保持機構によって保持された被処理基板を周縁外方から覆うとともに、被処理基板を洗浄した後の処理液を受ける排液カップと、排液カップに連結され、排液カップを経た処理液を外方に排出する排液管と、を有する液処理装置を用いた液処理方法であって、
基板保持機構によって、被処理基板を保持する保持工程と、
回転機構によって、基板保持機構によって保持された被処理基板を回転させる回転工程と、
処理液供給機構によって、基板保持機構により保持された被処理基板に処理液を供給する処理液供給工程と、を備え、
処理液供給工程は、フッ酸系処理液を供給する第一薬液供給工程と、当該第一薬液供給工程の後、被処理基板を乾燥させるための有機溶媒を供給する乾燥液供給工程と、を有し、
前記乾燥液供給工程の前に、ケーシング内のアルカリ成分を除去する除去工程、または、ケーシング内へのアルカリ成分の侵入を防止する侵入防止工程が実施されることを特徴とする液処理方法。
【請求項１０】
前記除去工程は、フッ酸系処理液を供給する前記第一薬液供給工程の前に実施されることを特徴とする請求項９に記載の液処理方法。
【請求項１１】
前記侵入防止工程は、ケーシング内の気圧を高くすることによって、ケーシング内へのアルカリ成分の侵入を防止することを特徴とする請求項９に記載の液処理方法。
【請求項１２】
前記除去工程は、排液カップに洗浄液を供給することによって、排液カップに付着したアルカリ成分を除去することを特徴とする請求項９に記載の液処理方法。
【請求項１３】
処理液供給工程は、フッ酸系処理液を供給する前記第一薬液供給工程の前に、アルカリ系処理液を供給する第二薬液供給工程を有し、
アルカリ系処理液を供給する第二薬液供給工程の後であって、フッ酸系処理液を供給する第一薬液供給工程の前に、排液カップに洗浄液を供給することによって、排液カップに付着したアルカリ成分を除去することを特徴とする請求項１２に記載の液処理方法。
【請求項１４】
排液管に設けられた閉塞機構によって、処理液供給機構から供給され排液管を通過する洗浄液の流れを止めることにより、排液管および排液カップ内に処理液を貯留して排液カップに洗浄液を供給し、排液カップに付着したアルカリ成分を除去することを特徴とする請求項１２に記載の液処理方法。
【請求項１５】
前記洗浄工程は、排液カップに洗浄液を噴出することによって、排液カップに付着したアルカリ成分を除去することを特徴とする請求項１２に記載の液処理方法。
【請求項１６】
コンピュータに液処理方法を実行させるためのコンピュータプログラムを格納した記憶媒体において、
当該液処理方法は、被処理基板を保持する基板保持機構と、基板保持機構によって保持された被処理基板に処理液を供給する処理液供給機構と、基板保持機構によって保持された被処理基板を周縁外方から覆うとともに、被処理基板を洗浄した後の処理液を受ける排液カップと、排液カップに連結され、排液カップを経た処理液を外方に排出する排液管と、少なくとも、基板保持機構および排液カップを収容するケーシングと、を有する液処理装置を用いた方法であって、
基板保持機構によって、被処理基板を保持する保持工程と、
回転機構によって、基板保持機構によって保持された被処理基板を回転させる回転工程と、
処理液供給機構によって、基板保持機構により保持された被処理基板に処理液を供給する処理液供給工程と、を備え、
処理液供給工程は、フッ酸系処理液を供給する第一薬液供給工程と、当該第一薬液供給工程の後、被処理基板を乾燥させるための有機溶媒を供給する乾燥液供給工程と、を有し、
前記乾燥液供給工程の前に、ケーシング内のアルカリ成分を除去する除去工程、または、ケーシング内へのアルカリ成分の侵入を防止する侵入防止工程が実施される方法であることを特徴とする記憶媒体。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【公開番号】特開２００９−５９８９５（Ｐ２００９−５９８９５Ａ）
【公開日】平成２１年３月１９日（２００９．３．１９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−２２５８６８（Ｐ２００７−２２５８６８）
【出願日】平成１９年８月３１日（２００７．８．３１）
【出願人】（０００２１９９６７）東京エレクトロン株式会社 (5,184)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年３月１９日（２００９．３．１９）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年８月３１日（２００７．８．３１）
【出願人】（０００２１９９６７）東京エレクトロン株式会社 (5,184)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]