液晶表示素子用印刷装置及びこれを用いたパターン形成方法

【課題】印刷ロールの表面に付着されたブランケットの変形を最小化できる液晶表示素子の製造用印刷装置及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】レール６００と；前記レール６００上に位置した印刷板５００及び基板１００と；前記印刷板５００を経由して前記基板１００にパターンを転写する印刷ロール３００と；前記印刷ロール３００にパターン物質２００を転写するためのコーティングロール３５０と；前記コーティングロール３５０にパターン物質２００を塗布するための印刷ノズル８００と；を含んで印刷装置を構成する。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示素子に関するもので、詳しくは、液晶表示素子を製造するための印刷装置及びこれを用いたパターン形成方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
表示画面の厚さが数センチメートル（cm）に過ぎない超薄型の平板表示素子のうち、液晶表示素子は、動作電圧が低くて消費電力が少なく、携帯用として用いられるなどの利点があり、ノートブックコンピュータ、モニター、宇宙船、航空機などの多様な分野で広く用いられている。
【０００３】
前記液晶表示素子は、下部基板、上部基板、及びこれら両基板の間に形成された液晶層を含んで構成される。
【０００４】
前記下部基板上には、互いに縦横に交差して画素領域を定義するゲート配線及びデータ配線が形成される。また、前記ゲート配線とデータ配線との交差領域には、スイッチング素子としての薄膜トランジスタが形成される。さらに、画素電極は、前記下部基板上に形成されて薄膜トランジスタに連結される。
【０００５】
また、前記上部基板上には、前記ゲート配線、データ配線及び薄膜トランジスタ領域から光が漏れることを遮断するための遮光層が形成され、前記遮光層上には、カラーフィルタ層が形成され、前記カラーフィルタ層の上部には、共通電極が形成される。
【０００６】
上記のように、液晶表示素子は、多様な構成要素を含んでおり、それら構成要素を形成するために数多くの工程が繰り返して行われる。特に、多様な構成要素を多様な形態でパターニングするために、一般的なフォトリソグラフィ工程が用いられている。
【０００７】
以下、一般的なフォトリソグラフィ工程によるパターン形成方法を説明する。
【０００８】
図１Ａ乃至図１Ｃは、一般的なフォトリソグラフィ工程によるパターン形成方法を概略的に示した断面図である。
【０００９】
まず、図１Ａに示すように、基板１０上にパターン物質層２０を形成し、このパターン物質層２０に感光膜２１を形成する。
【００１０】
次いで、図１Ｂに示すように、前記感光膜２１上に、所定パターンのマスク３０を位置させた後、露光装置を通して光を照射する。
【００１１】
次いで、図１Ｃに示すように、現像工程によって前記感光膜２１をパターニングし、前記パターニングされた感光膜２１をマスクとして用いて前記パターン物質層２０をエッチングし、所望のパターン２０ａを形成する。
【００１２】
しかしながら、上記のフォトリソグラフィ工程においては、感光膜及び所定パターンのマスクを用いることから、それだけ製造原価が上昇するという短所があった。さらに、現像工程及びエッチング工程などを経るため、工程が複雑になるとともに、長い工程時間が要されるという短所があった。
【００１３】
したがって、上記のフォトリソグラフィ工程の短所を解決するために、新しいパターン形成方法が要求されており、その要求に合わせて、印刷ロールを用いたパターン形成方法が考案された。
【００１４】
以下、従来の印刷ロールを用いて基板上にパターンを形成する方法を説明する。
【００１５】
図２Ａ乃至図２Ｃは、従来の印刷ロールを用いて基板上にパターンを形成する工程を示した断面図である。
【００１６】
まず、図２Ａに示すように、表面にブランケット３２が付着された印刷ロール３０を準備する。その後、印刷ノズル４０を用いて、前記印刷ロール３０の表面にパターン物質２０を塗布する。
【００１７】
次いで、図２Ｂに示すように、所定形状の凹部及び凸部が備わった印刷板５０上に前記印刷ロール３０を回転させ、前記印刷板５０の凸部５５に一部のパターン物質２０ｂを転写し、残存するパターン物質２０ａによって、印刷ロール３０に所定形状のパターンを形成する。
【００１８】
前記印刷ロール３０の表面に付着されたブランケット３２は、ある程度の弾性を有する樹脂からなり、前記印刷ロール３０に塗布された前記パターン物質２０を前記印刷板５０に転写するとき、前記印刷ロール３０と前記印刷板５０との間の摩擦を減少する役割をする。
【００１９】
次いで、図２Ｃに示すように、基板１０上に前記印刷ロール３０を回転させ、前記基板１０上に前記印刷ロール３０に残存するパターン物質２０ａを転写し、基板１０にパターンを形成する。
【００２０】
上記の印刷ロール及び印刷板を用いたパターン形成方法においては、所定形状のマスクが必要でなく、露光及び現像工程が要求されないため、製造原価及び工程時間を節減できる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２１】
しかしながら、従来の印刷ロールを用いたパターン形成方法においては、印刷ノズルを用いて、ブランケットが付着された印刷ロールにパターン物質を直接塗布するため、前記パターン物質に含まれた溶剤が前記ブランケットに吸収されることで、前記ブランケットに膨潤及び変形が発生するという問題があった。
【００２２】
本発明は上記の問題点を解決するためのもので、その目的は、印刷ロールの表面に付着されたブランケットの変形を最小化できる液晶表示素子の製造用印刷装置及びこれを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２３】
上記目的を達成するための本発明に係る印刷装置は、レールと；前記レール上に位置した印刷板及び基板と；前記印刷板を経由して前記基板にパターンを転写する印刷ロールと；前記印刷ロールにパターン物質を転写するためのコーティングロールと；前記コーティングロールにパターン物質を塗布するための印刷ノズルと；を含んで構成されることを特徴とする。
【００２４】
ここで、前記コーティングロールを洗浄するための洗浄ノズルをさらに含むことを特徴とする。
【００２５】
前記印刷板を洗浄するための洗浄機をさらに含むことを特徴とする。
【００２６】
前記印刷ノズル内部のパターン物質の硬化を防止するために、印刷ノズルバスをさらに含むことを特徴とする。
【００２７】
また、上記目的を達成するための本発明に係るパターン形成方法は、印刷ノズルを用いてコーティングロールにパターン物質を塗布する段階と；前記コーティングロールに塗布されたパターン物質を印刷ロールに転写する段階と；所定形状の凸部が形成された印刷板上に前記印刷ロールを回転させ、前記印刷板の凸部に一部のパターン物質を転写する段階と；基板上に前記印刷ロールを回転させ、残存するパターン物質を前記基板に転写する段階と；を含んで構成されることを特徴とする。
【００２８】
ここで、前記コーティングロールに塗布されたパターン物質を印刷ロールに転写する段階において、前記コーティングロールに塗布されたパターン物質のうち一部分は、印刷ロールに転写しないことを特徴とする。
【００２９】
前記コーティングロールに塗布されたパターン物質を印刷ロールに転写する段階後、前記印刷ノズルを印刷ノズルバスに移動する段階をさらに含むことを特徴とする。
【００３０】
前記コーティングロールに塗布されたパターン物質を前記印刷ロールに転写する段階後、前記コーティングロールを洗浄する段階をさらに含むことを特徴とする。
【００３１】
前記基板上に、前記印刷ロールに残存するパターン物質を転写する段階後、前記印刷板を洗浄する段階をさらに含むことを特徴とする。
【００３２】
また、上記目的を達成するための本発明に係る液晶表示素子の製造方法は、前記第１基板及び第２基板を準備する工程と、前記第１基板上にパターンを形成する工程と、前記第１基板と第２基板との間に液晶層を形成する工程とからなり、このとき、前記第１基板上にパターンを形成する工程は、印刷ノズルを用いてコーティングロールにパターン物質を塗布する段階と、前記コーティングロールに塗布されたパターン物質を印刷ロールに転写する段階と、所定形状の突出部が形成された印刷板上に前記印刷ロールを回転させ、前記印刷板の突出部に一部のパターン物質を転写する段階と、前記第１基板上に前記印刷ロールを回転させ、残存するパターン物質を前記第１基板に転写する段階と、を含んで構成されることを特徴とする。
【００３３】
ここで、前記パターン物質は、ブラックマトリックス物質またはカラーフィルタ物質である。
【発明の効果】
【００３４】
本発明に係るパターン形成方法及びこれを用いた液晶表示素子の製造方法においては、コーティングロールにパターン物質を塗布するとき、パターン物質に含まれた溶剤が直ちに蒸発するため、印刷ロールの表面に付着されたブランケットが溶剤によって影響を受けることはない。その結果、前記ブランケットを頻繁に取り替える必要がないため、製造原価を節減できるという効果がある。
【００３５】
また、印刷ノズルを用いて直ちに印刷ロールにパターン物質を塗布する場合に比べて、コーティングロールを用いる場合には、パターン物質の膜均一度を向上できるという効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３６】
以下、本発明に係る印刷装置及びこれを用いた液晶表示素子の製造方法の好適な実施形態について、添付の図面に基づいて詳細に説明する。
【００３７】
図３は、本発明の実施形態に係る印刷装置を概略的に示した断面図である。
【００３８】
本発明の実施形態に係る印刷装置は、図３に示すように、印刷板及び基板を移動するためのレール６００と、前記レール６００上に位置した印刷板５００及び基板１００と、前記レール６００を通して、前記印刷板５００を経由して前記基板１００にパターンを転写する印刷ロール３００と、前記印刷ロール３００にパターン物質２００を転写するためのコーティングロール３５０と、前記コーティングロール３５０にパターン物質２００を塗布するための印刷ノズル８００と、を含んで構成される。
【００３９】
このとき、前記印刷ロール３００は、その表面にＳｉ系樹脂層からなるブランケット３２０が付着される。前記ブランケット３２０は、Ｓｉ系樹脂層からなるので、ある程度の弾性を有しており、前記印刷ロール３００が印刷板５００にパターン物質を転写するとき、または、前記印刷ロール３００が基板１００にパターン物質を転写するとき、前記印刷ロール３００と印刷板５００及び前記印刷ロール３００と基板１００との間の摩擦を減少する役割をする。
【００４０】
従来は、前記印刷ロール３００にパターン物質２００を直接塗布するため、前記パターン物質２００に含まれた溶剤が前記ブランケット３２０に吸収されることで、ブランケット３２０に膨潤及び変形が発生した。
【００４１】
一方、本発明の構成によると、前記コーティングロール３５０にはブランケット３２０が付着されておらず、前記パターン物質２００がコーティングロール３５０に塗布されるので、前記パターン物質２００が前記コーティングロール３５０に塗布されると、直ちに溶剤が蒸発することになり、前記コーティングロール３５０から前記印刷ロール３００にパターン物質２００を転写する場合、前記印刷ロール３００のブランケット３２０が前記溶剤によって影響を受けることはない。前記コーティングロール３５０は、非吸湿性物質からなる。また、前記コーティングロール３５０は、金属、プラスチックまたはガラスからなる。
【００４２】
また、前記コーティングロール３５０を用いて印刷ロール３００にパターン物質２００を塗布するとき、前記コーティングロール３５０が前記印刷ロール３００に所定の圧力を与えるので、前記印刷ノズル８００を用いて直ちに印刷ロール３００にパターン物質２００を塗布する場合に比べると、前記パターン物質２００の膜均一度を向上できる。
【００４３】
また、本発明に係る印刷装置は、洗浄ノズル８５０、洗浄機７００及び印刷ノズルバス９００をさらに含む。
【００４４】
前記洗浄ノズル８５０は、前記コーティングロール３５０が印刷ロール３００にパターン物質２００を転写した後、前記コーティングロール３５０に残存するパターン物質２０を取り除くために備わる。前記洗浄ノズル８５０は、シンナー、アセトンなどの乾燥の速い物質を吐出することで、圧力及び化学的相互作用によってコーティングロール３５０を洗浄する。
【００４５】
前記洗浄機７００は、印刷板５００を洗浄するために備える。すなわち、一回のパターン工程を行った後、前記印刷板５００の凸部に残ったパターン物質を取り除くべきである。このため、前記前記洗浄機７００を用いて、前記印刷板５００に残ったパターン物質を取り除く。
【００４６】
前記洗浄機７００は、前記レール６００上に位置し、洗浄時、印刷板５００上に移動して洗浄工程を行う。また、前記洗浄機７００は、洗浄液噴射装置及びエアーナイフなどの乾燥装置を備えており、これらを通して洗浄及び乾燥工程を行う。
【００４７】
前記印刷ノズルバス９００は、図６から分かるように、前記印刷ノズル８００内部のパターン物質２００が硬化することを防止するために、その内部に溶剤９２０を含んでいる。前記印刷ノズルバス９００の内部に含まれた溶剤９２０の蒸発によって発生する水蒸気は、前記印刷ノズル８００内部のパターン物質２００が硬化することを防止する。
【００４８】
また、前記印刷ノズルバス９００は、図６から分かるように、前記印刷ノズル８００を洗浄するためのスプレー９１０を含んでいる。前記スプレー９１０を通してシンナーまたはアセトンなどを噴射することで、前記印刷ノズル８００を洗浄する。
【００４９】
以下、本発明に係る印刷装置を用いたパターン形成方法を説明する。
【００５０】
図４Ａ乃至図４Ｄは、本発明の実施形態に係る印刷装置を用いてパターンを形成する方法を概略的に示した断面図である。
【００５１】
まず、図４Ａに示すように、前記印刷ノズル８００を用いて、前記コーティングロール３５０にパターン物質２００を塗布する。
【００５２】
次いで、図４Ｂに示すように、前記コーティングロール３５０に塗布されたパターン物質２００を、ブランケット３２０が付着された印刷ロール３００に転写する。
【００５３】
前記コーティングロール３５０にパターン物質２００を塗布するとき、前記パターン物質２００に含まれた溶剤が直ちに蒸発するため、前記コーティングロール３５０から前記印刷ロール３００にパターン物質２００を転写する場合、前記印刷ロール３００の表面に付着されたブランケット３２０に膨潤または変形が発生しない。
【００５４】
図４Ｂにおいては、前記印刷ロール３００が前記コーティングロール３５０に移動してパターン物質２００を転写しているが、その反対に、前記コーティングロール３５０が前記印刷ロール３００に移動してパターン物質２００を転写することもできる。
【００５５】
前記コーティングロール３５０に塗布されたパターン物質２００を前記印刷ロール３００に転写するとき、コーティングの品質を高めるために、コーティングロール３５０に塗布されたパターン物質２００のうち一部は転写しないこともある。これは、前記コーティングロール３５０に塗布されたパターン物質２００を全て印刷ロール３００に転写する場合、前記印刷ロール３００に転写されたパターン物質２００の膜均一度が低下しうるためである。
【００５６】
次いで、図４Ｃに示すように、所定形状の凹部及び凸部が形成された印刷板５００上に前記印刷ロール３００を回転させ、前記印刷板５００の凸部に一部のパターン物質２００ｂを転写し、残存するパターン物質２００ａによって、印刷ロール３００に所定形状のパターンを形成する。
【００５７】
このとき、前記印刷ノズル８００は、その内部に含まれたパターン物質２００の硬化及び不純物の流入を防ぐために、前記印刷ノズルバス９００に移動する。前記印刷ノズルバス９００は、図６から分かるように、スプレー９１０を用いて前記印刷ノズル８００を洗浄するとともに、溶剤９２０の蒸発によって発生した水蒸気を用いて印刷ノズル８００内部のパターン物質２００の硬化を防止する。
【００５８】
また、前記洗浄ノズル８５０は、前記コーティングロール３５０上に移動し、一部の転写されてないパターン物質を洗浄する。
【００５９】
次いで、図４Ｄに示すように、基板１００上に前記印刷ロール３００を回転させ、前記基板１００上にパターンを形成する。このようにパターンが形成された後、前記洗浄機７００は、前記印刷板５００に移動して前記印刷板５００を洗浄する。
【００６０】
上記の過程を繰り返して基板にパターンを形成する。
【００６１】
以下、上述したパターン形成方法を液晶表示素子の製造方法に適用した場合を説明する。
【００６２】
図５Ａ乃至図５Ｄは、本発明の実施形態に係る液晶表示素子の製造方法を概略的に示した工程断面図である。
【００６３】
まず、図５Ａに示すように、第１基板１３０上にブラックマトリックス層２１０を形成する。すなわち、図４Ａ〜図４Ｄに示すように、前記印刷ノズル８００を用いて前記コーティングロール３５０にブラックマトリックス物質を塗布し、前記コーティングロール３５０に塗布されたブラックマトリックス物質を、ブランケット３２０が付着された印刷ロール３００に転写する。次いで、所定形状の凹部及び凸部が形成された印刷板５００上に前記印刷ロール３００を回転させ、前記印刷板５００の凸部に一部のブラックマトリックス物質を転写し、残存するブラックマトリックス物質によって印刷ロール３００に所定形状のパターンを形成する。
【００６４】
その後、基板１３０上に前記印刷ロール３００を回転させ、前記基板１３０上にブラックマトリックス層２１０を形成する。
【００６５】
次いで、同じ方法で、前記コーティングロール３５０にＲ、Ｇ、Ｂカラーフィルタ物質を塗布し、図５Ｂに示すように、前記ブラックマトリックス層２１０が形成された第１基板１３０の該当部分にカラーフィルタ層２３０をそれぞれ形成する。
【００６６】
その後、図５Ｃに示すように、薄膜トランジスタアレイ基板である第２基板１６０を準備する。
【００６７】
前記第２基板は、図示してないが、上述したパターン形成方法の実施形態に係る工程を行い、前記第２基板上に互いに縦横に交差して画素領域を定義するゲート配線及びデータ配線と、前記ゲート配線とデータ配線との交差領域に形成される薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタを含む第１基板上に形成される保護膜と、前記保護膜の上部に形成され、前記薄膜トランジスタのドレイン電極に接続される画素電極と、を含んで構成される。
【００６８】
次いで、図５Ｄに示すように、前記第１基板１３０と第２基板１６０とを合着し、前記第１及び第２基板１３０，１６０の間に液晶層２５０を形成する。
【００６９】
このとき、前記液晶層２５０の形成工程では、前記第１基板１３０及び第２基板１６０のうちいずれか一つの基板に注入口のないシール材を形成し、前記第１基板１３０及び第２基板１６０のうちいずれか一つの基板に適当量の液晶を滴下した後、前記二つの基板１３０，１６０を合着する。
【００７０】
また、前記液晶層２５０の形成工程では、第１基板１３０及び第２基板１６０のうちいずれか一つの基板に注入口が備わったシール材を形成し、前記両基板１３０，１６０を合着した後、前記注入口を通して、毛管現象及び圧力差を用いて液晶を注入することもできる。
【図面の簡単な説明】
【００７１】
【図１Ａ】一般的なフォトリソグラフィ工程を概略的に示した断面図である。
【図１Ｂ】一般的なフォトリソグラフィ工程を概略的に示した断面図である。
【図１Ｃ】一般的なフォトリソグラフィ工程を概略的に示した断面図である。
【図２Ａ】従来の印刷ロール及び印刷板を用いて基板上にパターンを形成する工程を示した断面図である。
【図２Ｂ】従来の印刷ロール及び印刷板を用いて基板上にパターンを形成する工程を示した断面図である。
【図２Ｃ】従来の印刷ロール及び印刷板を用いて基板上にパターンを形成する工程を示した断面図である。
【図３】本発明の実施形態に係る印刷装置を概略的に示した断面図である。
【図４Ａ】本発明の実施形態に係る印刷装置を用いてパターンを形成する方法を概略的に示した工程断面図である。
【図４Ｂ】本発明の実施形態に係る印刷装置を用いてパターンを形成する方法を概略的に示した工程断面図である。
【図４Ｃ】本発明の実施形態に係る印刷装置を用いてパターンを形成する方法を概略的に示した工程断面図である。
【図４Ｄ】本発明の実施形態に係る印刷装置を用いてパターンを形成する方法を概略的に示した工程断面図である。
【図５Ａ】本発明の実施形態に係る液晶表示素子の製造方法を概略的に示した工程断面図である。
【図５Ｂ】本発明の実施形態に係る液晶表示素子の製造方法を概略的に示した工程断面図である。
【図５Ｃ】本発明の実施形態に係る液晶表示素子の製造方法を概略的に示した工程断面図である。
【図５Ｄ】本発明の実施形態に係る液晶表示素子の製造方法を概略的に示した工程断面図である。
【図６】本発明の実施形態に係るコーティングノズルバスを概略的に示した断面図である。
【符号の説明】
【００７２】
１００基板
３００印刷ロール
３２０ブランケット
３５０コーティングロール
５００印刷板
６００移動レール
７００洗浄機
８００印刷ノズル
８５０洗浄ノズル
９００印刷ノズルバス

【特許請求の範囲】
【請求項１】
レールと；
前記レール上に位置した印刷板及び基板と；
前記印刷板を経由して前記基板にパターンを転写する印刷ロールと；
前記印刷ロールにパターン物質を転写するためのコーティングロールと；
前記コーティングロールにパターン物質を塗布するための印刷ノズルと；を含んで構成されることを特徴とする印刷装置。
【請求項２】
前記コーティングロールが前記印刷ロールに向かって移動するか、または、前記印刷ロールが前記コーティングロールに向かって移動することを特徴とする請求項１に記載の印刷装置。
【請求項３】
前記コーティングロールは、金属、プラスチックまたはガラスからなることを特徴とする請求項１に記載の印刷装置。
【請求項４】
前記コーティングロールが前記印刷ロールに向かって移動するか、または、前記印刷ロールが前記コーティングロールに向かって移動することを特徴とする請求項１に記載の印刷装置。
【請求項５】
前記コーティングロールを洗浄するための洗浄ノズルをさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の印刷装置。
【請求項６】
前記印刷板を洗浄するための洗浄機をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の印刷装置。
【請求項７】
前記印刷ノズルを洗浄しかつ前記印刷ノズル内部のパターン物質の硬化を防止するために、印刷ノズルバスをさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の印刷装置。
【請求項８】
前記印刷ノズルバスには、前記印刷ノズルを洗浄するためのスプレーが備わることを特徴とする請求項１に記載の印刷装置。
【請求項９】
前記印刷ノズルバスには、前記印刷ノズル内部のパターン物質の硬化を防止するための溶剤が収容されることを特徴とする請求項１に記載の印刷装置。
【請求項１０】
前記印刷ロールは、その表面にブランケットが備わることを特徴とする請求項１に記載の印刷装置。
【請求項１１】
前記ブランケットは、Ｓｉ系樹脂層によって構成されることを特徴とする請求項１０に記載の印刷装置。
【請求項１２】
印刷ノズルを用いてコーティングロールにパターン物質を塗布する段階と；
前記コーティングロールに塗布されたパターン物質を印刷ロールに転写する段階と；
所定形状の凸部が形成された印刷板上に前記印刷ロールを回転させ、前記印刷板の凸部に一部のパターン物質を転写する段階と；
基板上に前記印刷ロールを回転させ、残存するパターン物質を前記基板に転写する段階と；を含んで構成されることを特徴とするパターン形成方法。
【請求項１３】
前記コーティングロールに塗布されたパターン物質を印刷ロールに転写する段階において、前記コーティングロールに塗布されたパターン物質のうち一部分は、印刷ロールに転写しないことを特徴とする請求項１２に記載のパターン形成方法。
【請求項１４】
前記印刷ノズルを洗浄する段階をさらに含むことを特徴とする請求項１２に記載のパターン形成方法。
【請求項１５】
前記印刷ノズル内部のパターン物質の硬化を防止する段階をさらに含むことを特徴とする請求項１２に記載のパターン形成方法。
【請求項１６】
前記印刷ノズル内部のパターン物質の硬化を防止する段階は、印刷ノズルバス内に収容された溶剤の蒸発によって発生した水蒸気を用いることを特徴とする請求項１５に記載のパターン形成方法。
【請求項１７】
前記コーティングロールを洗浄する段階をさらに含むことを特徴とする請求項１２に記載のパターン形成方法。
【請求項１８】
前記印刷板を洗浄する段階をさらに含むことを特徴とする請求項１２に記載のパターン形成方法。
【請求項１９】
前記第１基板及び第２基板を準備する工程と、
前記第１基板上にパターンを形成する工程と、
前記第１基板と第２基板との間に液晶層を形成する工程とからなり、
このとき、前記第１基板上にパターンを形成する工程は、
印刷ノズルを用いてコーティングロールにパターン物質を塗布する段階と、
前記コーティングロールに塗布されたパターン物質を印刷ロールに転写する段階と、
所定形状の突出部が形成された印刷板上に前記印刷ロールを回転させ、前記印刷板の突出部に一部のパターン物質を転写する段階と、
前記第１基板上に前記印刷ロールを回転させ、残存するパターン物質を前記第１基板に転写する段階と、を含んで構成されることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
【請求項２０】
前記パターン物質は、ブラックマトリックス物質またはカラーフィルタ物質であることを特徴とする請求項１９に記載の液晶表示素子の製造方法。

【図１Ａ】