【課題】ＴＮ液晶表示装置の視野角表示特性、特に視野角コントラストを改良するための光学補償シートを提供すること、並びにこのような光学補償シートを用いた偏光板及び液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】ＴＮ（ツイストネマチック）配向モードの液晶セル、及び液晶セルの両側に配置された一対の偏光板からなる液晶表示装置であって、
少なくとも一方の偏光板の偏光膜と液晶セルとの間に、光学補償シートが配置され、該光学補償シートが
（１）特定範囲の正面及び膜厚方向のレターデーション値を満たす透明フィルム１、
（２）偏光膜の吸収軸と実質的に直交する遅相軸を有する光学異方性層１、
（３）透明フィルム２、
（４）塗布により形成される液晶性化合物からなる光学異方性層２、
の少なくとも４層を有することを特徴とする液晶表示装置。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示装置、さらにそれに用いる光学補償シート、及び偏光板に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ワードプロセッサやノートパソコン、パソコン用モニターなどのＯＡ機器、携帯端末、テレビなどに用いられる表示装置としては、ＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ Ｒａｙ Ｔｕｂｅ）がこれまで主に使用されてきたが、近年、薄型で軽量、また消費電力が小さいことから、液晶表示装置がＣＲＴの代わりに広く使用されてきている。
【０００３】
液晶表示装置は、主として液晶セルと偏光板からなる。偏光板は一般的に保護フィルムと偏光膜からなるもので、例えばポリビニルアルコールフィルムからなるフィルムを、ヨウ素にて染色し、延伸を行って偏光膜とし、その両面に保護フィルムを積層することにより得られる。透過型液晶表示装置では、この偏光板を液晶セルの両側に取り付け、さらには１枚以上の光学補償シートを配置することもある。反射型液晶表示装置では、反射板、液晶セル、１枚以上の光学補償シート、偏光板の順に配置する。
【０００４】
液晶セルは、液晶分子、それを封入するための２枚の基板及び、液晶分子に電圧を加えるための電極層からなる。液晶セルは、液晶分子の配向状態の違いで、ＯＮ、ＯＦＦ表示を行い、透過型、反射型及び反透過型のいずれにも適用できる、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ-Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）のような表示モードが提案されている。
【０００５】
光学補償シートは、画像着色を解消したり、視野角を拡大したりするために、様々な液晶表示装置で用いられている。光学補償シートとしては、延伸複屈折ポリマーフィルムが従来から使用されていたが、最近では延伸複屈折フィルムからなる光学補償シートに代えて、透明支持体上に低分子又は高分子液晶性化合物から形成された光学異方性層を有する光学補償シートを使用することが提案されている。液晶性化合物には多様な配向形態があるため、液晶性化合物を用いることで、従来の延伸複屈折ポリマーフィルムでは得ることができない光学的性質を実現することが可能になった。このような光学補償シートはさらに偏光板の保護フィルムとしても機能させることができる。
【０００６】
光学補償シートの光学的性質は、液晶セルの光学的性質、具体的には上記のような表示モードの違いに応じて決定することができる。液晶性化合物を用いると、液晶セルの様々な表示モードに対応する様々な光学的性質を有する光学補償シートを製造することができる。液晶性化合物を用いた光学補償シートでは、様々な表示モードに対応するものが提案されている。
【０００７】
例えばＴＮモード液晶セルの場合には、電圧印加による液晶セル中の液晶分子はねじれ構造が解消されつつ基板面に傾斜した配向状態をとり、光学補償シートは、これに対する光学補償を行い、黒表示時の斜め方向の光漏れ防止によるコントラストの視角特性を向上させる。
【０００８】
光学補償シートの代表例としては、位相差の同じ延伸フィルムの延伸軸を直交させて積
層し、面内レターデーションをゼロに近づけたフィルムの組を上下偏光板と液晶セルの間に各々配置したものが挙げられる。（特許文献１参照）。
しかし液晶セル中の分子は、電界印加時に、完全には基板に対して垂直配向せず、基板近傍では平行配向のままである。一方基板中央部の液晶分子は垂直配向しており、その間の液晶分子は連続的に傾斜配向している。
【０００９】
このような液晶セルの配向状態を光学補償するには、光学補償シートも同じような光学性能にすればよく、例えば液晶性化合物をハイブリット配向させてフィルム状にする技術が知られており、液晶性化合物に円盤状液晶性化合物を使用したり（特許文献２参照）、棒状液晶性化合物を使用した例がある（特許文献３参照）。
【００１０】
しかし円盤状液晶性化合物を、均一にハイブリッド配向させた光学補償シートを用いても、黒表示時には視野角での光漏れが生じる。この光漏れを減少させるためには、クロスニコル配置した偏光板の透過軸の２等分線方向に、視角を倒した場合の光漏れ抑制が必要である。
【００１１】
この偏光板光漏れを補償するには、二軸位相差板が有用なことが知られている。二軸位相差板としては、ポリマーからなる一軸延伸フィルムの一対を、面内の遅相軸方向が直交するように積層した積層位相差板や、高分子フィルムにテンターによる横延伸又は二軸延伸を施した単層の位相差板が知られている（特許文献４、特許文献５）。しかし単層の二軸位相差板では、付与できる位相差の範囲が狭いことが問題であった。
【特許文献１】特開平４-１６２０１８号公報
【特許文献２】特開平６-２１４１１６号公報
【特許文献３】特開平１０-１８６３５６号公報
【特許文献４】特開平３−３３７１９号公報
【特許文献５】特開平３−２４５０２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明の目的は、ＴＮ液晶表示装置の視野角表示特性、特に視野角コントラストを改良するための光学補償シートを提供すること、並びにこのような光学補償シートを用いた偏光板及び液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の発明者らは、鋭意検討した結果、光学異方性を十分に低下させ、Ｒｅがゼロで、且つＲｔｈがゼロに近く、Ｒｅ、Ｒｔｈの波長分散が小さい透明フィルム１上に、光学異方性層１を形成し、またその光学異方性層の上に透明フィルム２を重ね、さらにその上に液晶性化合物の層が均一にハイブリッド配向した光学異方性層２を積層することにより、偏光板光漏れ補償のための所望の光学異方性（Ｒｅ、Ｒｔｈ）を付与でき、ＴＮ配向モードの液晶表示装置をより正確に光学補償することが可能となることを見出した。
【００１４】
すなわち本発明によれば、下記構成の光学補償シート、並びに該光学補償シートを用いた偏光板及び液晶表示装置が提供され、本発明の上記課題が達成される。
【００１５】
［１］ ＴＮ（ツイストネマチック）配向モードの液晶セル、及び液晶セルの両側に配置された一対の偏光板からなる液晶表示装置であって、
少なくとも一方の偏光板の偏光膜と液晶セルとの間に、光学補償シートが配置され、該光学補償シートが
（１）下記数式（１）及び（２）を満たす透明フィルム１、
（２）偏光膜の吸収軸と実質的に直交する遅相軸を有する光学異方性層１、
（３）透明フィルム２、
（４）塗布により形成される液晶性化合物からなる光学異方性層２、
の少なくとも４層を有することを特徴とする液晶表示装置。
数式（１）：０≦Ｒｅ₆₃₀≦１０で且つ｜Ｒｔｈ₆₃₀｜≦２５
数式（２）：｜Ｒｅ₄₀₀−Ｒｅ₇₀₀｜≦１０で且つ｜Ｒｔｈ₄₀₀−Ｒｔｈ₇₀₀｜≦３５
［式中、Ｒｅ_λは波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ_λは波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。］
［２］ 透明フィルム１がセルロースアシレートフィルムである前記［１］に記載の液晶表示装置。
［３］ 透明フィルム２の正面レターデーション値（Ｒｅ_λ）及び／又は膜厚方向レターデーション値（Ｒｔｈ_λ）が、透明フィルム１の正面レターデーション値（Ｒｅ_λ）及び／又は膜厚方向レターデーション値（Ｒｔｈ_λ）とは異なる前記［１］又は［２］に記載の液晶表示装置。
［４］ 光学異方性層１が液晶性化合物を含有する前記［１］〜［３］のいずれかに記載の液晶表示装置。
［５］ 光学異方性層２の液晶性化合物がディスコティック液晶性化合物である前記［１］〜［４］のいずれかに記載の液晶表示装置。
［６］ 透明フィルム１が、フィルム膜厚方向のレターデーション値（Ｒｔｈ_λ）を低下させる化合物を少なくとも１種、下記数式（３）、（４）を満たす範囲で含有する前記［１］〜［５］のいずれかに記載の液晶表示装置。
数式（３）：（Ｒｔｈ_λA−Ｒｔｈ_λ0）／Ａ≦−１．０
数式（４）：０．０１≦Ａ≦３０
ここで、
Ｒｔｈ_λA：Ｒｔｈ_λを低下させる化合物をＡ質量％含有したフィルムのＲｔｈ_λ（ｎｍ）、
Ｒｔｈ_λ0：Ｒｔｈ_λを低下させる化合物を含有しないフィルムのＲｔｈ_λ（ｎｍ）、
Ａ：フィルム原料ポリマーの質量を１００としたときのＲｔｈ_λを低下させる化合物の質量（％）、
である。
［７］ セルロースアシレートフィルムが、アシル置換度２.８５〜３．００のセルロースアシレートを含有して形成されたフィルムであり、且つ該セルロースアシレートフィルムが、Ｒｅ_λ及びＲｔｈ_λを低下させる化合物を少なくとも１種、該セルロースアシレートの固形分に対して０．０１〜３０質量％含む前記［２］〜［６］のいずれかに記載の液晶表示装置。
［８］ セルロースアシレートフィルムが、｜Ｒｅ₄₀₀−Ｒｅ₇₀₀｜及び｜Ｒｔｈ₄₀₀−Ｒｔｈ₇₀₀｜を低下させる化合物少なくとも１種を、セルロースアシレートの固形分に対して０．０１〜３０質量％含む前記［２］〜［７］のいずれかに記載の液晶表示装置。
［９］ 透明フィルム１及び透明フィルム２の少なくともいずれかの膜厚が１０〜１２０μｍである前記［１］〜［８］のいずれかに記載の液晶表示装置。
［１０］ 偏光膜に隣接して設けられる光学補償シートであって、
（１）下記数式（１）及び（２）を満たす透明フィルム１、
（２）偏光膜の吸収軸と実質的に直交する遅相軸を有する光学異方性層１、
（３）透明フィルム２、
（４）塗布により形成される液晶性化合物からなる光学異方性層２、
の少なくとも４層を有する光学補償シート。
数式（１）：０≦Ｒｅ₆₃₀≦１０で且つ｜Ｒｔｈ₆₃₀｜≦２５
数式（２）：｜Ｒｅ₄₀₀−Ｒｅ₇₀₀｜≦１０で且つ｜Ｒｔｈ₄₀₀−Ｒｔｈ₇₀₀｜≦３５
［式中、Ｒｅ_λは波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ_λは波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。］
［１１］ 前記［１０］記載の光学補償シートを、偏光膜の少なくとも一方の面の保護フ
ィルムとして有することを特徴とする偏光板。
【発明の効果】
【００１６】
本発明者らの研究により、光学異方性が小さく、Ｒｅ、Ｒｔｈの波長分散が小さい透明フィルム１に光学異方性層１を積層し、さらにその上に、透明フィルム２上に液晶性化合物層２を積層した積層体とすることにより、視野角特性に優れる光学補償シート、偏光板などの光学材料、及びこれらを用いた表示品位の高いＴＮ液晶表示装置を提供することが可能になった。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
＜透明フィルム＞
〔各特性値の測定〕
［光学異方性（Ｒｅ、Ｒｔｈ）の測定］
本明細書において、Ｒｅ_λ、Ｒｔｈ_λは、それぞれ波長λにおける正面方向のレターデーション及び膜厚方向のレターデーションを表す。Ｒｅ_λは、“ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ”｛王子計測機器（株）製｝を用い、波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈ_λは、該Ｒｅ_λ、面内の遅相軸（“ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ”により判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、及び面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値の、合計３つの方向で測定したレターデーション値、平均屈折率の仮定値並びに、入力された膜厚値を基に“ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ”が算出する。
【００１８】
ここで平均屈折率の仮定値は、「ポリマーハンドブック」（“ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ ＆ ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについては、アッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：
セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）。
【００１９】
［透明フィルムの光学特性］
本発明において、透明フィルム１は、光学異方性（Ｒｅ、Ｒｔｈ）が小さく、波長分散が小さい。具体的には、光学異方性（Ｒｅ、Ｒｔｈ）が小さいとは、波長６３０ｎｍにおける正面方向のレターデーションＲｅ₆₃₀が１０ｎｍ以下（０≦Ｒｅ₆₃₀≦１０）で且つ、膜厚方向のレターデーションＲｔｈ₆₃₀の絶対値が２５ｎｍ以下（｜Ｒｔｈ₆₃₀｜≦２５ｎｍ）である。望ましくは、０≦Ｒｅ₆₃₀≦５で且つ｜Ｒｔｈ₆₃₀｜≦２０ｎｍであり、０≦Ｒｅ₆₃₀≦２で且つ｜Ｒｔｈ₆₃₀｜≦１５ｎｍであることが特に望ましい。
【００２０】
また、波長分散が小さいとは、｜Ｒｅ₄₀₀−Ｒｅ₇₀₀｜≦１０で且つ｜Ｒｔｈ₄₀₀−Ｒｔｈ₇₀₀｜≦３５である。望ましくは、｜Ｒｅ₄₀₀−Ｒｅ₇₀₀₎｜≦５で且つ｜Ｒｔｈ₄₀₀−Ｒｔｈ₇₀₀｜≦２５であり、｜Ｒｅ₄₀₀−Ｒｅ₇₀₀｜≦３で且つ｜Ｒｔｈ₄₀₀−Ｒｔｈ₇₀₀｜≦１５であることが特に望ましい。
【００２１】
また光学異方性（Ｒｅ、Ｒｔｈ）が小さい透明フィルム１とは別に、これと併用される透明フィルム２は、透明フィルム１に対して大きな光学異方性（Ｒｅ、Ｒｔｈ）を持つことが好ましく、その場合、レターデーション低下剤の変わりにレターデーション上昇剤を用いるのが好ましい。その光学異方性（Ｒｅ、Ｒｔｈ）は、光学補償シートが用いられる液晶セルの設計や、光学補償シート中の光学異方性層の特性（Ｒｅ、Ｒｔｈ）に応じて好
ましい範囲が異なるが、Ｒｅ₆₃₀は０〜２００ｎｍ、Ｒｔｈ₆₃₀は０〜４００ｎｍ範囲であることが好ましい。
【００２２】
〔透明フィルム〕
透明フィルムは、透明なポリマーフィルムであるのが好ましい。透明フィルムは、光透過率が８０％以上であることが好ましい。ポリマーフィルムを構成するポリマーの例には、セルロースエステル（例えば、セルロースのモノ〜トリアシレート体）、ノルボルネン系ポリマー及びポリメチルメタクリレートが含まれる。市販のポリマー｛ノルボルネン系ポリマーでは、「アートン」及び「ゼオネックス」（いずれも商品名）｝を用いてもよい。また従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような、複屈折の発現しやすいポリマーは、国際公開第００／２６７０５号パンフレットに記載のように、分子を修飾することで複屈折の発現性を制御したものを用いるのが好ましい。
【００２３】
中でもセルロースエステルが好ましく、セルロースの低級脂肪酸エステルがさらに好ましい。低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味する。特に、炭素原子数が２〜４のセルロースアシレートが好ましい。
【００２４】
〔セルロースアシレートフィルム〕
以下に本発明に使用するのに好ましい、セルロースアシレートフィルムについて説明する。
本発明に使用するのに好ましいセルロースアシレートフィルムは、特定のセルロースアシレートを原料として用いて形成されている。光学異方性の発現性を大きくしようとする場合と、小さくしようとする場合とで使用するセルロースアシレートを使い分けることが望ましい。
【００２５】
［透明フィルム１］
まず、透明フィルム１に対応する光学異方性を小さくする場合のセルロースアシレートフィルムについて詳細に説明する。
【００２６】
（セルロースアシレート原料綿）
本発明に用いられるセルロースアシレート原料のセルロースとしては、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ，針葉樹パルプ）などがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースアシレートでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。これらの原料セルロースについての詳細な記載は、例えば「プラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂」（丸澤、宇田著、日刊工業新聞社、１９７０年発行）や発明協会公開技報２００１−１７４５（７頁〜８頁）に記載のセルロースを用いることができ、本発明に用いられるセルロースアシレートフィルムに対しては特に限定されるものではない。
【００２７】
（セルロースアシレート置換度）
次に上述のセルロースを原料に製造されるセルロースアシレートについて記載する。セルロースアシレートとしては、セルロースの水酸基がアシル化されたもので、その置換基はアシル基の炭素原子数が２のアセチル基から炭素原子数が２２のものまでいずれも用いることができる。セルロースアシレートにおいて、セルロースの水酸基への置換度については、特に限定されないが、セルロースの水酸基に置換する酢酸及び／又は炭素原子数３〜２２の脂肪酸の結合度を測定し、計算によって置換度を得ることができる。測定方法としては、ＡＳＴＭ Ｄ−８１７−９１に準じて実施することができる。
【００２８】
上記のようにセルロースアシレートにおいて、セルロースの水酸基への置換度については特に限定されないが、セルロースの水酸基へのアシル置換度が２．５０〜３．００であることが望ましい。さらには置換度が２．６０〜３．００であることが望ましく、２．６
５〜３．００であることがより望ましい。
【００２９】
セルロースの水酸基を置換する、酢酸及び／又は炭素原子数３〜２２の脂肪酸のうち、炭素数２〜２２のアシル基としては、脂肪族基でもアリル基でもよく特に限定されず、また単一でも２種類以上の混合物でもよい。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステル又は芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。これらの好ましいアシル基としては、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、へプタノイル、ヘキサノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル、ｉ−ブタノイル、ｔ−ブタノイル、シクロヘキサンカルボニル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイル基などを挙げることができる。これらの中でも、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ドデカノイル、オクタデカノイル、ｔ−ブタノイル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイルなどが好ましく、アセチル、プロピオニル、ブタノイルがより好ましい。
【００３０】
上記のセルロースの水酸基を置換するアシル置換基のうちで、実質的にアセチル基／プロピオニル基／ブタノイル基の中から選ばれる少なくとも２種類からなる場合においては、その全置換度が２.５０〜３．００の場合にセルロースアシレートフィルムの光学異方性をより低下でき、好ましい。より好ましいアシル置換度は２．６０〜３．００であり、さらに望ましくは２．６５〜３．００である。
【００３１】
（セルロースアシレートの重合度）
本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度で１８０〜７００であり、セルロースアセテートにおいては、１８０〜５５０がより好ましく、１８０〜４００が更に好ましく、１８０〜３５０が特に好ましい。重合度が該上限値以下であれば、セルロースアシレートのドープ溶液の粘度が高くなりすぎて、流延によりフィルム作製が困難になるなどの不具合が生じないので好ましい。重合度が該下限値以上であれば、作製したフィルムの強度が低下するなどの不都合が生じないので好ましい。平均重合度は、宇田らの極限粘度法（宇田和夫、斉藤秀夫、「繊維学会誌」、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁、１９６２年）により測定できる。また特開平９−９５５３８号公報にも詳細に記載されている。
【００３２】
また、本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの分子量分布は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって評価され、その多分散性指数Ｍｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）が小さく、分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜３．０であることが好ましく、１．０〜２．０であることがさらに好ましく、１．０〜１．６であることが最も好ましい。
【００３３】
低分子成分が除去されると、平均分子量（重合度）が高くなるが、粘度は通常のセルロースアシレートよりも低くなるため有用である。低分子成分の少ないセルロースアシレートは、通常の方法で合成したセルロースアシレートから低分子成分を除去することにより得ることができる。低分子成分の除去は、セルロースアシレートを適当な有機溶媒で洗浄することにより実施できる。
【００３４】
なお、低分子成分の少ないセルロースアシレートを製造する場合、酢化反応における硫酸触媒量を、セルロース１００質量部に対して０．５〜２５質量部に調整することが好ましい。硫酸触媒の量を該範囲にすると、分子量部分布の点でも好ましい（分子量分布の均一な）セルロースアシレートを合成することができる。セルロースアシレートの製造時において、その含水率は２質量％以下であることが好ましく、さらに好ましくは１質量％以
下であり、特には０．７質量％以下の含水率を有するセルロースアシレートである。一般に、セルロースアシレートは、水を含有しており２．５〜５質量％が知られている。本発明でこのセルロースアシレートの含水率にするためには、乾燥することが必要であり、その方法は、目的とする含水率になるものであれば特に限定されない。本発明のこれらのセルロースアシレートは、その原料綿や合成方法は発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて７頁〜１２頁に詳細に記載されている。
【００３５】
本発明に用いられるセルロースアシレートは置換基、置換度、重合度、分子量分布など前述した範囲であれば、単一又は異なる２種類以上のセルロースアシレートを混合して用いることができる。
【００３６】
（セルロースアシレートへの添加剤）
以下に本発明に使用するのに好ましい添加剤について説明する。
本発明において、セルロースアシレート溶液には、各調製工程において用途に応じた種々の添加剤（例えば、光学異方性を低下させる化合物、波長分散調整剤、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、光学特性調整剤など）を加えることができ、これらについて以下に説明する。またその添加する時期はドープ作製工程において何れでも添加してもよいが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。
【００３７】
本発明において、セルロースアシレートフィルムの光学異方性、特にフィルム膜厚方向のレターデーションＲｔｈ_λを低下させる化合物を、下記数式（３）、（４）をみたす範囲で少なくとも一種含有することが望ましい。
数式（３）：（Ｒｔｈ_λA−Ｒｔｈ_λ0）／Ａ≦−１．０
数式（４）：０．０１≦Ａ≦３０
上記数式（３）、（４）において、より望ましくは、
数式（３−１）：（Ｒｔｈ_λA−Ｒｔｈ_λ0）／Ａ≦−２．０
数式（４−１）：０．０５≦Ａ≦２５
であり、さらに望ましくは、
数式（３−２）：（Ｒｔｈ_λA−Ｒｔｈ_λ0）／Ａ≦−３．０
数式（４−２）：０．１≦Ａ≦２０
である。
ここで、Ｒｔｈ_λAはＲｔｈ_λを低下させる化合物をＡ質量％含有したフィルムのＲｔｈ_λ（ｎｍ）、Ｒｔｈ_λ0はＲｔｈ_λを低下させる化合物を含有しないフィルムのＲｔｈ_λ（ｎｍ）、Ａはフィルム原料ポリマーの質量を１００としたときのＲｔｈ_λを低下させる化合物の質量（％）である。
【００３８】
（セルロースアシレートフィルムの光学異方性を低下させる化合物の構造的特徴）
セルロースアシレートフィルムの光学異方性を低下させる化合物について説明する。
光学異方性を十分に低下させ、Ｒｅ、Ｒｔｈがともにゼロに近くなるようにするためには、フィルム中のセルロースアシレートが、正面方向及び膜厚方向に配向するのを抑制する化合物を用いることが好ましい。また、光学異方性を低下させる化合物は、セルロースアシレートに十分に相溶し、化合物自身が棒状の構造や平面性の構造を持たないことが有利である。具体的には芳香族基のような平面性の官能基を複数持っている場合、それらの官能基を同一平面ではなく、非平面に持つような構造が有利である。
【００３９】
（ＬｏｇＰ値）
本発明において、セルロースアシレートフィルムを作製するに当たっては、上述のように、フィルム中のセルロースアシレートが正面方向及び膜厚方向に配向するのを抑制して
光学異方性を低下させる化合物のうち、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）が０〜７である化合物を選択することが好ましい。ｌｏｇＰ値が７以下の化合物であれば、セルロースアシレートとの相溶性に優れ、フィルムの白濁や粉吹きなどの不都合を生じない。またｌｏｇＰ値が０以上の化合物は、親水性が高くなりすぎることがなく、セルロースアセテートフィルムの耐水性を悪化させるなどの問題が生じないので好ましい。ｌｏｇＰ値としてさらに好ましい範囲は１〜６であり、特に好ましい範囲は１．５〜５である。
【００４０】
オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）の測定は、ＪＩＳ Ｚ−７２６０−１０７（２０００）に記載のフラスコ震盪法により実施することができる。また、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）は、実測に代わって、計算化学的手法又は経験的方法により見積もることも可能である。計算方法としては、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法｛“Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．”，２７巻、ｐ．２１（１９８７年）｝、Ｖｉｓｗａｎａｄｈａｎ’ｓ ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法｛“Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．”，２９巻、ｐ．１６３（１９８９年）｝、Ｂｒｏｔｏ’ｓ ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法｛“Ｅｕｒ．Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．−Ｃｈｉｍ．Ｔｈｅｏｒ．”，１９巻、ｐ．７１（１９８４年）｝などが好ましく用いられるが、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法がより好ましい。ある化合物のｌｏｇＰの値が、測定方法又は計算方法により異なる場合に、該化合物が本発明の範囲内であるかどうかは、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法により判断するものとする。
【００４１】
オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）が０〜７である化合物としては、下記の一般式（１）又は（２）で表される化合物が好ましい。
一般式（１）：
【００４２】
【化１】

【００４３】
式中、Ｒ¹¹はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ¹²及びＲ¹³は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。Ｒ¹¹、Ｒ¹²及びＲ¹³の炭素原子数の総和は１０以上である。
【００４４】
一般式（２）：
【００４５】
【化２】

【００４６】
式中、Ｒ²¹はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ²²及びＲ²³はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。
【００４７】
（光学異方性を低下する化合物の物性）
光学異方性を低下させる化合物は、芳香族基を含有してもよいし、また含有しなくてもよい。さらに光学異方性を低下させる化合物は、分子量が１５０以上３０００以下であることが好ましく、１７０以上２０００以下であることが好ましく、２００以上１０００以下であることが特に好ましい。これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であってもよいし、そのモノマーユニットが複数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でもよい。
【００４８】
光学異方性を低下させる化合物は、好ましくは、２５℃で液体であるか、融点が２５〜２５０℃の固体であり、さらに好ましくは、２５℃で液体であるか、融点が２５〜２００℃の固体である。また光学異方性を低下させる化合物は、セルロースアシレートフィルム作製のドープ流延、乾燥の過程で揮散しないことが好ましい。
【００４９】
光学異方性を低下させる化合物の添加量は、セルロースアシレートに対して０．０１〜３０質量％であることが好ましく、１〜２５質量％であることがより好ましく、５〜２０質量％であることが特に好ましい。
【００５０】
光学異方性を低下させる化合物は、単独で用いても、２種以上の化合物を任意の比で混合して用いてもよい。
【００５１】
光学異方性を低下させる化合物を添加する時期は、ドープ作製工程中の何れであってもよく、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。
【００５２】
光学異方性を低下させる化合物は、少なくとも一方の側の表面から全膜厚の１０％までの部分における該化合物の平均含有率が、該セルロースアシレートフィルムの中央部における該化合物の平均含有率の８０〜９９％であることが好ましい。本発明の化合物の存在量は、例えば、特開平８−５７８７９号公報に記載の赤外吸収スペクトルを用いる方法などにより、表面及び中心部の化合物量を測定して求めることができる。
【００５３】
以下に本発明で好ましく用いられる、セルロースアシレートフィルムの光学異方性を低下させる化合物の具体例を示すが、本発明はこれら化合物に限定されない。
【００５４】
一般式（１）の化合物について説明する。
前記一般式（１）において、Ｒ¹¹はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ¹²及びＲ¹³は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。また、Ｒ¹¹、Ｒ¹²及びＲ¹³の炭素原子数の総和が１０以上であることが特に好ましい。
【００５５】
置換基としては、フッ素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基及びスルホンアミド基が好ましく、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基及びスルホンアミド基が特に好ましい。また、アルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素原子数１〜２５のものが好ましく、６〜２５のものがより好ましく、６〜２０のもの（例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、アミル、イソアミル、ｔ−アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、オクチル、ビシクロオクチル、ノニル、アダマンチル、デシル、ｔ−オクチル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、ジデシル）が特に好ましい。アリール基としては炭素原子数が６〜３０のものが好ましく、６〜２４のもの（例えば、フェニル、ビフェニル、テルフェニル、ナフチル、ビナフチル、トリフェニルフェニル）が特に好ましい。一般式（１）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
【００５６】
【化３】

【００５７】
【化４】

【００５８】
【化５】

【００５９】
次に、以下に、一般式（２）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
【００６０】
【化６】

【００６１】
【化７】

【００６２】
【化８】

【００６３】
【化９】

【００６４】
【化１０】

【００６５】
【化１１】

【００６６】
【化１２】

【００６７】
（波長分散調整剤）
次ぎに、セルロースアシレートフィルムの波長分散を低下させる化合物（以下、波長分散調整剤ともいう）について説明する。
【００６８】
本発明においてセルロースアシレートフィルムの、Ｒｔｈの波長分散を良化させるためには、下記数式（５）で表されるＲｔｈの波長分散ΔＲｔｈ＝｜Ｒｔｈ₄₀₀−Ｒｔｈ₇₀₀｜を低下させる化合物（波長分散調整剤）を、下記数式（６）、（７）をみたす範囲で少なくとも一種含有することが望ましい。
数式（５）：ΔＲｔｈ＝｜Ｒｔｈ₄₀₀−Ｒｔｈ₇₀₀｜
数式（６）：（ΔＲｔｈ_B−ΔＲｔｈ₀）／Ｂ≦−２．０
数式（７）：０．０１≦Ｂ≦３０
上記数式（６）、（７）において、より望ましくは、
数式（６−１）：（ΔＲｔｈ_B−ΔＲｔｈ₀）／Ｂ≦−３．０
数式（７−１）：０．０５≦Ｂ≦２５
であり、さらに望ましくは、
数式（６−２）：（ΔＲｔｈ_B−ΔＲｔｈ₀）／Ｂ≦−４．０
数式（７−２）：０．１≦Ｂ≦２０
である。
ここでΔＲｔｈ_Bは、波長分散調整剤をＢ質量％含有したフィルムのΔＲｔｈ（ｎｍ）、Ｒｔｈ₀は波長分散調整剤を含有しないフィルムのΔＲｔｈ（ｎｍ）、Ｂはフィルム原料ポリマーの質量を１００としたときの波長分散調整剤の質量（％）である。
【００６９】
上記の波長分散調整剤は、２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持ち、フィルムの｜Ｒｅ₄₀₀−Ｒｅ₇₀₀｜及び｜Ｒｔｈ₄₀₀−Ｒｔｈ₇₀₀｜を低下させる化合物であり、該波長分散調整剤を少なくとも１種、セルロースアシレート固形分に対して好ましくは０．０１〜３０質量％、より好ましくは０．１〜３０質量％含有させることによって、セルロースアシレートフィルムのＲｅ、Ｒｔｈの波長分散を調整することもまた本発明の好適な態様である。
【００７０】
セルロースアシレートフィルムのＲｅ、Ｒｔｈの値は、一般に短波長側よりも長波長側が大きい波長分散特性となる。従って、相対的に小さい短波長側のＲｅ、Ｒｔｈを大きくすることによって、波長分散を平滑にすることが要求される。一方２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持つ化合物は、短波長側よりも長波長側の吸光度が大きい波長分散特性をもつ。この化合物自身がセルロースアシレートフィルム内部で等方的に存在していれば、化合物自身の複屈折性、ひいてはＲｅ、Ｒｔｈの波長分散は吸光度の波長分散と同様に短波長側が大きいと想定される。
【００７１】
従って上記のような、２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持ち、化合物自身のＲｅ
、Ｒｔｈの波長分散が、短波長側が大きいと想定されるものを用いることによって、セルロースアシレートフィルムのＲｅ、Ｒｔｈの波長分散を調製することができる。このためには波長分散を調整する化合物はセルロースアシレートに十分均一に相溶することが要求される。このような化合物の紫外領域の吸収帯範囲は２００〜４００ｎｍが好ましいが、２２０〜３９５ｎｍがより好ましく、２４０〜３９０ｎｍがさらに好ましい。
【００７２】
また、近年テレビやノートパソコン、モバイル型携帯端末などの液晶表示装置ではより少ない電力で輝度を高めるのに、液晶表示装置に用いられる光学部材の透過率が優れたものが要求されている。その点においては、２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持ち、フィルムの｜Ｒｅ₄₀₀−Ｒｅ₇₀₀｜及び｜Ｒｔｈ₄₀₀−Ｒｔｈ₇₀₀｜を低下させる化合物を、セルロースアシレートフィルムに添加する場合、得られるフィルムの分光透過率が優れていることが要求される。本発明に用いられるセルロースアシレートフィルムにおいては、波長３８０ｎｍにおける分光透過率が４５％以上９５％以下であり、且つ波長３５０ｎｍにおける分光透過率が１０％以下であることが望ましい。
【００７３】
上記のような、本発明で好ましく用いられる波長分散調整剤は、揮散性の観点から分子量が２５０〜１０００であることが好ましい。より好ましくは２６０〜８００であり、更に好ましくは２７０〜８００であり、特に好ましくは３００〜８００である。これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であってもよいし、そのモノマーユニットが複数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でもよい。
【００７４】
波長分散調整剤は、セルロースアシレートフィルム作製のドープ流延、乾燥の過程で揮散しないことが好ましい。
【００７５】
（波長分散調整剤の添加量）
上記した、本発明で好ましく用いられる波長分散調整剤の添加量は、セルロースアシレートに対して０．０１〜３０質量％であることが好ましく、０．１〜３０質量％であることがより好ましく、０．２〜１０質量％であることが特に好ましい。
【００７６】
（波長分散調整剤添加の方法）
これら波長分散調整剤は、単独で用いても、２種以上の化合物を任意の比で混合して用いてもよい。
またこれら波長分散調整剤を添加する時期はドープ作製工程中の何れであってもよく、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。
【００７７】
本発明に好ましく用いられる波長分散調整剤の具体例としては、例えばベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノ基を含む化合物、オキシベンゾフェノン系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられるが、本発明はこれら化合物だけに限定されるものではない。
【００７８】
ベンゾトリアゾール系化合物としては、下記一般式（３）で示されるものが本発明の波長分散調整剤として好ましく用いられる。
一般式（３）：Ｑ¹−Ｑ²−ＯＨ
（式中、Ｑ¹は含窒素芳香族ヘテロ環、Ｑ²は芳香族環を表す。）
【００７９】
Ｑ¹は含窒素芳香族へテロ環をあらわし、好ましくは５〜７員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは５〜６員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、例えば、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、セレナゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、ベンズオキサゾール、ベンゾセレナゾール、チアジアゾール、オキサジアゾール、ナフトチアゾール、ナフトオキサゾール、アザベン
ズイミダゾール、プリン、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、トリアザインデン、テトラザインデン等があげられ、更に好ましくは、５員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、具体的にはイミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、ベンズオキサゾール、チアジアゾール、オキサジアゾールが好ましく、特に好ましくは、ベンゾトリアゾールである。
【００８０】
Ｑ¹で表される含窒素芳香族ヘテロ環は、更に置換基を有してもよく、置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。また、置換基が複数ある場合にはそれぞれが縮環して更に環を形成してもよい。
【００８１】
Ｑ²で表される芳香族環は、芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。
芳香族炭化水素環として、好ましくは炭素数６〜３０の単環又は二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環など）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。最も好ましくはベンゼン環である。
【００８２】
芳香族ヘテロ環として、好ましくは窒素原子又は硫黄原子を含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として、好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。
【００８３】
Ｑ²で表される芳香族環として、好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくはナフタレン環、ベンゼン環であり、特に好ましくはベンゼン環である。Ｑ²は更に置換基を有してもよく、後述の置換基Ｔが好ましい。
【００８４】
置換基Ｔとしては、例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル、エチル、ｉ−プロピル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニルなどが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニルなどが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。）、置換又は未置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ、２−ナフチルオキシなどが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり
、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどが挙げられる。）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
【００８５】
一般式（３）として、好ましくは下記一般式（３−１）で表される化合物である。
一般式（３−１）：
【００８６】
【化１３】

【００８７】
一般式（３）において、Ｒ³¹、Ｒ³²、Ｒ³³、Ｒ³⁴、Ｒ³⁵、Ｒ³⁶、Ｒ³⁷及びＲ³⁸は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、置換基としては上記の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は、更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。
【００８８】
Ｒ³¹及びＲ³³として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルキル基（好ましくは炭素数４〜１２）である。
【００８９】
Ｒ³²、及びＲ³⁴として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
【００９０】
Ｒ³⁵及びＲ³⁸として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
【００９１】
Ｒ³⁶及びＲ³⁷として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、ハロゲン原子であり、特に好ましくは水素原子、塩素原子である。
【００９２】
一般式（３）として、より好ましくは下記一般式（３−２）で表される化合物である。
一般式（３−２）：
【００９３】
【化１４】

【００９４】
式中、Ｒ³¹、Ｒ³³、Ｒ³⁶及びＲ³⁷は、上記一般式（３−１）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。
【００９５】
以下に一般式（３）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。
【００９６】
【化１５】

【００９７】
【化１６】

【００９８】
以上例にあげたベンゾトリアゾール系化合物の中でも、分子量が３２０以上のものが、セルロースアシレートフィルムを作製した場合に、保留性の点で有利であることが確認さ
れた。
【００９９】
また本発明に用いられる波長分散調整剤の１つであるベンゾフェノン系化合物としては一般式（４）で示されるものが好ましく用いられる。
一般式（４）：
【０１００】
【化１７】

【０１０１】
式中、Ｑ⁴¹及びＱ⁴²は、それぞれ独立に芳香族環を表す。Ｘ⁴¹はＮＲ⁴¹（Ｒ⁴¹は水素原子又は置換基を表す。）、酸素原子又は硫黄原子を表す。
【０１０２】
Ｑ⁴¹及びＱ⁴²で表される芳香族環は、芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。
【０１０３】
Ｑ⁴¹及びＱ⁴²で表される芳香族炭化水素環として、好ましくは炭素数６〜３０の単環又は二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環など）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。更に好ましくはベンゼン環である。
【０１０４】
Ｑ⁴¹及びＱ⁴²で表される芳香族ヘテロ環として、好ましくは酸素原子、窒素原子又は硫黄原子のどれか１つを少なくとも１つ含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。
【０１０５】
Ｑ⁴¹及びＱ⁴²であらわされる芳香族環として好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくは炭素数６〜１０の芳香族炭化水素環であり、更に好ましくは置換又は無置換のベンゼン環である。
【０１０６】
Ｑ⁴¹及びＱ⁴²は更に置換基を有してもよく、前記の置換基Ｔが好ましいが、置換基にカルボン酸やスルホン酸、４級アンモニウム塩を含むことはない。また、可能な場合には置換基同士が連結して環構造を形成してもよい。
【０１０７】
Ｘ⁴¹は、ＮＲ⁴²（Ｒ⁴²は水素原子又は置換基を表す。置換基としては前記の置換基Ｔが適用できる。）、酸素原子又は硫黄原子を表し、Ｘ⁴¹として好ましくは、ＮＲ⁴²（Ｒ⁴²として好ましくはアシル基、スルホニル基であり、これらの置換基は更に置換してもよい。）、又は酸素であり、特に好ましくは酸素である。
【０１０８】
一般式（４）として、好ましくは下記一般式（４−１）で表される化合物である。
一般式（４−１）：
【０１０９】
【化１８】

【０１１０】
式中、Ｒ⁴¹¹、Ｒ⁴¹²、Ｒ⁴¹³、Ｒ⁴¹⁴、Ｒ⁴¹⁵、Ｒ⁴¹⁶、Ｒ⁴¹⁷、Ｒ⁴¹⁸及びＲ⁴¹⁹は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、置換基としては前記の置換基Ｔが適用できる。ま
たこれらの置換基は、更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。
【０１１１】
Ｒ⁴¹¹、Ｒ⁴¹³、Ｒ⁴¹⁴、Ｒ⁴¹⁵、Ｒ⁴¹⁶、Ｒ⁴¹⁸及びＲ⁴¹⁹として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素1〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
【０１１２】
Ｒ⁴¹²として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは炭素数１〜２０のアルコキシ基であり、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルコキシ基である。
【０１１３】
Ｒ⁴¹⁷として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくはメチル基）であり、特に好ましくはメチル基、水素原子である。
【０１１４】
一般式（４）として、より好ましくは下記一般式（４−２）で表される化合物である。
一般式（４−２）：
【０１１５】
【化１９】

【０１１６】
式中、Ｒ⁴²⁰は水素原子、置換又は無置換のアルキル基、置換又は無置換のアルケニル基、置換又は無置換のアルキニル基、置換又は無置換のアリール基を表し、置換基としては前記の置換基Ｔが適用できる。Ｒ⁴²⁰として、好ましくは置換又は無置換のアルキル基であり、より好ましくは炭素数５〜２０の置換又は無置換のアルキル基であり、更に好ましくは炭素数５〜１２の置換又は無置換のアルキル基（ｎ−ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ-ドデシル基、ベンジル基、などが挙げられる。）であり、特に好ましくは、炭素数６〜１２の置換又は無置換のアルキル基（２−エチルヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ベンジル基）である。
【０１１７】
一般式（４）であらわされる化合物は特開平１１−１２２１９号公報記載の公知の方法により合成できる。
【０１１８】
以下に一般式（４）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。
【０１１９】
【化２０】

【０１２０】
【化２１】

【０１２１】
また本発明に用いられる波長分散調整剤の１つであるシアノ基を含む化合物としては一般式（５）で示されるものが好ましく用いられる。
一般式（５）：
【０１２２】
【化２２】

【０１２３】
式中、Ｑ⁵¹及びＱ⁵²は、それぞれ独立に芳香族環を表す。Ｘ⁵¹及びＸ⁵²は水素原子又は置換基を表し、少なくともどちらか１つはシアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環を表す。Ｑ⁵¹及びＱ⁵²であらわされる芳香族環は芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。
【０１２４】
芳香族炭化水素環として、好ましくは炭素数６〜３０の単環又は二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環など）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。更に好ましくはベンゼン環である。
【０１２５】
芳香族ヘテロ環として、好ましくは窒素原子又は硫黄原子を含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。
【０１２６】
Ｑ⁵¹及びＱ⁵²であらわされる芳香族環として、好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくはベンゼン環である。Ｑ⁵¹及びＱ⁵²は更に置換基を有してもよく、後述の置換基Ｔが好ましい。
【０１２７】
Ｘ⁵¹及びＸ⁵²は、水素原子又は置換基を表し、少なくともどちらか１つは、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環を表す。Ｘ⁵¹及びＸ⁵²で表される置換基は、前記の置換基Ｔを適用することができる。また、Ｘ⁵¹及びＸ⁵²はで表される置換基は更に他の置換基によって置換されてもよく、Ｘ⁵¹及びＸ⁵²は、それぞれが縮環して環構造を形成してもよい。
【０１２８】
Ｘ⁵¹及びＸ⁵²として、好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、更に好ましくはシアノ基、カルボニル基であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル基｛−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ⁵¹（Ｒ⁵¹は、炭素数１〜２０アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基及びこれらを組み合せたもの）｝である。
【０１２９】
一般式（５）として、好ましくは下記一般式（５−１）で表される化合物である。
一般式（５−１）：
【０１３０】
【化２３】

【０１３１】
式中、Ｒ⁵¹¹、Ｒ⁵¹²、Ｒ⁵¹³、Ｒ⁵¹⁴、Ｒ⁵¹⁵、Ｒ⁵¹⁶、Ｒ⁵¹⁷、Ｒ⁵¹⁸、Ｒ⁵¹⁹及びＲ⁵²⁰は
それぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、置換基としては前記の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。
【０１３２】
Ｒ⁵¹¹、Ｒ⁵¹²、Ｒ⁵¹⁴、Ｒ⁵¹⁵、Ｒ⁵¹⁶、Ｒ⁵¹⁷、Ｒ⁵¹⁹及びＲ⁵²⁰として好ましくは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素1〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
【０１３３】
Ｒ⁵¹³及びＲ⁵¹⁸として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２アルコキシ基であり、特に好ましくは水素原子である。
【０１３４】
Ｘ⁵¹¹及びＸ⁵¹²は、それぞれ前記一般式（５）におけるＸ⁵¹及びＸ⁵²と同義である。
【０１３５】
一般式（５）として、より好ましくは下記一般式（５−２）で表される化合物である。
一般式（５−２）：
【０１３６】
【化２４】

【０１３７】
式中、Ｒ⁵¹³及びＲ⁵¹⁸は一般式（５−１）におけるそれらと同義であり、また、好ましい範囲も同様である。
【０１３８】
Ｘ⁵¹³は水素原子又は置換基を表し、置換基としては、前記の置換基Ｔが適用でき、また、可能な場合は更に他の置換基で置換されてもよい。Ｘ⁵¹³として、好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、更に好ましくはシアノ基、カルボニル基であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル基｛−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ⁵²（Ｒ⁵²は、炭素数１〜２０アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基及びこれらを組み合せたもの）｝である。
【０１３９】
一般式（５）として、更に好ましくは一般式（５−３）で表される化合物である。
一般式（５−３）：
【０１４０】
【化２５】

【０１４１】
式中、Ｒ⁵¹³及びＲ⁵¹⁸は、一般式（５−１）におけるそれらと同義であり、また、好ましい範囲も同様である。Ｒ⁵²は炭素数１〜２０のアルキル基を表す。Ｒ⁵²として、好ましくは、Ｒ⁵¹³及びＲ⁵¹⁸が両方水素の場合には、炭素数２〜１２のアルキル基であり、より好ましくは炭素数４〜１２のアルキル基であり、更に好ましくは、炭素数６〜１２のアルキル基であり、特に好ましくは、ｎ−オクチル基、ｔ−オクチル基、２−エチルへキシル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基であり、最も好ましくは２−エチルへキシル基である。
【０１４２】
Ｒ⁵²として、好ましくはＲ⁵¹³及びＲ⁵¹⁸が水素以外の場合には、一般式（５−３）で表
される化合物の分子量が３００以上になり、且つ炭素数２０以下の炭素数のアルキル基が好ましい。
【０１４３】
本発明において、一般式（５）で表される化合物は、“Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．”，６３巻、３４５２頁（１９４１年）記載の方法によって合成できる。
【０１４４】
以下に一般式（５）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。
【０１４５】
【化２６】

【０１４６】
【化２７】

【０１４７】
【化２８】

【０１４８】
（マット剤微粒子）
本発明におけるセルロースアシレートフィルムには、マット剤として微粒子を加えることが好ましい。本発明に使用される微粒子としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子はケイ素を含むものが、濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。二酸化珪素の微粒子は、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、且つ見かけ比重が７０ｇ／Ｌ以上であるものが好ましい。１次粒子の平均径が５〜１６ｎｍと小さいものがフィルムのヘイズを下げることができより好ましい。見かけ比重は９０〜２００ｇ／Ｌ以上が好ましく、１００〜２００ｇ／Ｌ以上がさらに好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。
【０１４９】
これらの微粒子は、通常、平均粒子径が０．１〜３．０μｍの２次粒子を形成しており、フィルム中では１次粒子の凝集体として存在して、フィルム表面に０．１〜３．０μｍの凹凸を形成させる。２次平均粒子径は０．２μｍ以上１．５μｍ以下が好ましく、０．４μｍ以上１．２μｍ以下がさらに好ましく、０．６μｍ以上１．１μｍ以下が最も好ましい。１次、２次粒子径はフィルム中の粒子を走査型電子顕微鏡で観察し、粒子に外接する円の直径をもって粒径とした。また、場所を変えて粒子２００個を観察し、その平均値をもって平均粒子径とした。
【０１５０】
二酸化珪素の微粒子は、例えば、「アエロジルＲ９７２」、「アエロジルＲ９７２Ｖ」、「アエロジルＲ９７４」、「アエロジルＲ８１２」、「アエロジル２００」、「アエロジル２００Ｖ」、「アエロジル３００」、「アエロジルＲ２０２」、「アエロジルＯＸ５０」、「アエロジルＴＴ６００」｛以上、日本アエロジル（株）製｝などの市販品を使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、「アエロジルＲ９７６」及び「アエロジルＲ８１１」｛以上、日本アエロジル（株）製｝の商品名で市販されており、使用することができる。
【０１５１】
これらの中では「アエロジル２００Ｖ」及び「アエロジルＲ９７２Ｖ」が、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、且つ見かけ比重が７０ｇ／Ｌ以上である二酸化珪素の微粒子であり、光学フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数をさげる効果が大きいため特に好ましい。
【０１５２】
本発明において、２次平均粒子径の小さな粒子を有するセルロースアシレートフィルム
を得るため、微粒子の分散液を調製する際に、いくつかの手法が考えられる。例えば、溶媒と微粒子を撹拌混合した微粒子分散液をあらかじめ作成し、この微粒子分散液を別途用意した少量のセルロースアシレート溶液に加えて撹拌溶解し、さらにメインのセルロースアシレートドープ液と混合する方法がある。この方法は二酸化珪素微粒子の分散性がよく、二酸化珪素微粒子が更に再凝集しにくい点で好ましい調製方法である。他にも、溶媒に少量のセルロースエステルを加え、撹拌溶解した後、これに微粒子を加えて分散機で分散を行いこれを微粒子添加液とし、この微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する方法もある。本発明はこれらの方法に限定されないが、二酸化珪素微粒子を溶媒などと混合して分散するときの二酸化珪素の濃度は、５〜３０質量％が好ましく、１０〜２５質量％が更に好ましく、１５〜２０質量％が最も好ましい。分散濃度が高い方が添加量に対する液濁度は低くなり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。最終的なセルロースアシレートのドープ溶液中でのマット剤の添加量は１ｍ²当たり０．０１〜１．０ｇが好ましく、０．０３〜０．３ｇが更に好ましく、０．０８〜０．１６ｇが最も好ましい。
【０１５３】
使用される溶媒は、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等の低級アルコール類が挙げられる。低級アルコール以外の溶媒としては、特に限定されないが、セルロースエステルの製膜時に用いられる溶媒を用いることが好ましい。
【０１５４】
（可塑剤、劣化防止剤、剥離剤）
本発明に用いられるセルロースアシレートフィルムには、以上述べた光学的に異方性を低下する化合物、波長分散調整剤の他に、各調製工程において、用途に応じた種々の添加剤（例えば、可塑剤、紫外線防止剤、劣化防止剤、剥離剤、赤外吸収剤、など）を加えることができ、それらは固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定されるものではない。例えば２０℃以下と２０℃以上の紫外線吸収剤の混合や、同様に可塑剤の混合などであり、例えば特開２００１−１５１９０１号公報などに記載されている。また赤外吸収剤としては、例えば特開２００１−１９４５２２号公報に記載されたものが使用できる。さらにその添加する時期は、ドープ作製工程において何れで添加してもよいが、ドープ調製工程の最後の調製工程に、添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。更にまた、各素材の添加量は、機能が発現する限りにおいて特に限定されない。またさらに、セルロースアシレートフィルムが多層から形成される場合、各層の添加物の種類や添加量が異なってもよく、例えば特開２００１−１５１９０２号公報などに記載されているが、これらは従来から知られている技術である。これらの詳細は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて１６頁〜２２頁に詳細に記載されている素材が好ましく用いられる。
【０１５５】
（各化合物添加の比率）
本発明に用いられるセルロースアシレートフィルムにおいては、分子量が３０００以下の化合物の総量は、セルロースアシレート質量に対して５〜４５質量％であることが望ましい。より好ましくは１０〜４０質量％であり、さらに望ましくは１５〜３０質量％である。これらの化合物としては、上述したように、光学異方性を低下する化合物、波長分散調整剤、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、剥離剤、赤外吸収剤などであり、分子量としては３０００以下が望ましく、２０００以下がより望ましく、１０００以下がさらに望ましい。これら化合物の総量が該下限値以上であれば、セルロースアシレート単体の性質が出すぎることがないので、例えば温度や湿度の変化に対して光学性能や物理的強度が変動しやすくなるなどの問題が生じない。またこれら化合物の総量が該上限値以下であれば、セルロースアシレートフィルム中に化合物が相溶する限界を超えて、フィルム表面に析出してフィルムが白濁する（フィルムからの泣き出し)などの問題が生じないので、これら化合物は総量として該範囲内で用いることが好ましい。
【０１５６】
（セルロースアシレート溶液の有機溶媒）
本発明では、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを製造することが好ましく、この方法では、セルロースアシレートを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフィルムは製造される。本発明の主溶媒として、好ましく用いられる有機溶媒は、炭素原子数が３〜１２のエステル、ケトン、エーテル及び、炭素原子数が１〜７のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒が好ましい。エステル、ケトン及び、エーテルは、環状構造を有していてもよい。エステル、ケトン及びエーテルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−及び−ＣＯＯ−）のいずれかを２つ以上有する化合物も、主溶媒として用いることができ、例えばアルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。２種類以上の官能基を有する主溶媒の場合、その炭素原子数はいずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。
【０１５７】
以上、本発明におけるセルロースアシレートフィルムに対しては、塩素系のハロゲン化炭化水素を主溶媒としてもよいし、発明協会公開技報２００１−１７４５（１２頁〜１６頁）に記載されているように、非塩素系溶媒を主溶媒としてもよく、特に限定されるものではない。
【０１５８】
その他、本発明におけるセルロースアシレート溶液及びフィルムについての溶媒は、その溶解方法も含めて以下の特許に開示されており、好ましい態様である。それらは、例えば、特開２０００−９５８７６号公報、特開平１２−９５８７７号公報、特開平１０−３２４７７４号公報、特開平８−１５２５１４号公報、特開平１０−３３０５３８号公報、特開平９−９５５３８号公報、特開平９−９５５５７号公報、特開平１０−２３５６６４号公報、特開平１２−６３５３４号公報、特開平１１−２１３７９号公報、特開平１０−１８２８５３号公報、特開平１０−２７８０５６号公報、特開平１０−２７９７０２号公報、特開平１０−３２３８５３号公報、特開平１０−２３７１８６号公報、特開平１１−６０８０７号公報、特開平１１−１５２３４２号公報、特開平１１−２９２９８８号公報、特開平１１−６０７５２号公報、特開平１１−６０７５２号公報などに記載されている。これらの特許によると、本発明におけるセルロースアシレートに好ましい溶媒だけでなく、その溶液物性や共存させる共存物質についても記載があり、本発明においても好ましい態様である。
【０１５９】
［透明フィルム２］
（光学異方性を大きくする場合のセルロースアシレート）
次ぎに、本発明において用いられる、光学異方性の発現性を大きくする場合のセルロースアシレートについて詳細に記載する。本発明においては、異なる２種類以上のセルロースアシレートを混合して用いてもよい。
【０１６０】
このようなセルロースアシレートとしては、セルロースの水酸基をアセチル基及び炭素原子数が３以上のアシル基で置換して得られたセルロースの混合脂肪酸エステルであって、セルロースの水酸基への置換度が下記数式（８）及び（９）を満足するセルロースアシレートであることが好ましい。
数式（８）：２．０≦Ｓ_A＋Ｓ_B≦３．０
数式（９）：０＜Ｓ_B
式中Ｓ_A及びＳ_Bは、セルロースの水酸基を置換しているアシル基の置換度を表し、Ｓ_Aはアセチル基の置換度、またＳ_Bは炭素原子数３以上のアシル基の置換度である。
【０１６１】
セルロースを構成するβ−１，４結合しているグルコース単位は、２位、３位及び６位に遊離の水酸基を有している。セルロースアシレートは、これらの水酸基の一部又は全部をアシル基によりエステル化したポリマーである。アシル置換度は、２位、３位及び６位
のそれぞれについて、セルロースがエステル化している割合（１００％のエステル化は置換度１）を意味する。
【０１６２】
本発明では、水酸基のＳ_AとＳ_Bとの置換度の総和（Ｓ_A＋Ｓ_B）は、上記数式（８）に示すように、２．０〜３．０であり、好ましくは２．２〜２．９であり、特に好ましくは２．４０〜２．８５である。またＳ_Bの置換度は、上記数式（９）に示すように、０より大きいことが好ましく、０．６以上であることがさらに好ましい。Ｓ_A＋Ｓ_Bが上記範囲であれば、親水性が適度であり環境湿度の影響を受け難い。
【０１６３】
さらにＳ_Bは、その２８％以上が６位水酸基の置換基であるのが好ましいが、より好ましくは３０％以上が６位水酸基の置換基であり、３１％以上がさらに好ましく、特には３２％以上が６位水酸基の置換基であることも好ましい。
【０１６４】
また更に、セルロースアシレートの６位のＳ_AとＳ_Bの置換度の総和が０．７５以上であるのが好ましく、さらには０．８０以上が、特には０．８５以上が好ましい。これらのセルロースアシレートフィルムにより溶解性、濾過性の好ましいフィルム調製用の溶液が作製でき、非塩素系有機溶媒においても、良好な溶液の作製が可能となる。更に粘度が低く濾過性のよい溶液の作製が可能となる。
【０１６５】
前記炭素原子数３以上のアシル基としては、脂肪族基でも芳香族炭化水素基でもよく特に限定されない。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステル又は芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。これらの好ましいアシル基としては、プロピオニル、ブタノイル、ケプタノイル、ヘキサノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル、ｉ‐ブタノイル、ｔ‐ブタノイル、シクロヘキサンカルボニル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイル基などを挙げることができる。これらの中でも、好ましくはプロピオニル、ブタノイル、ドデカノイル、オクタデカノイル、ｔ‐ブタノイル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイル基などである。特に好ましくはプロピオニル、ブタノイル基である。また、プロピオニル基の場合には置換度Ｓ_Bは１．３以上であるのが好ましい。
【０１６６】
前記混合脂肪酸セルロースアシレートとしては、具体的には、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートが挙げられる。
【０１６７】
｛レターデーション上昇剤（発現剤）｝
本発明では光学異方性を大きく発現させ、好ましいレターデーション値を実現する場合に、レターデーション上昇剤（発現剤）を用いるのが好ましい。
【０１６８】
本発明において用いることができるレターデーション上昇剤としては、棒状又は円盤状化合物からなるものを挙げることができる。上記棒状又は円盤状化合物としては、少なくとも２つの芳香族環を有する化合物を用いることができる。
【０１６９】
棒状化合物からなるレターデーション発現剤の添加量は、セルロースアシレートを含むポリマー成分１００質量部に対して、０．１〜３０質量部であることが好ましく、０．５〜２０質量部であることがさらに好ましい。
【０１７０】
円盤状のレターデーション発現剤は、前記セルロースアシレートを含むポリマー成分１００質量部に対して、０．０５〜２０質量部の範囲で使用することが好ましく、０．１〜１０質量部の範囲で使用することがより好ましく、０．２〜５質量部の範囲で使用するこ
とがさらに好ましく、０．５〜２質量部の範囲で使用することが最も好ましい。円盤状化合物はＲｔｈレターデーション発現性において棒状化合物よりも優れているため、特に大きなＲｔｈレターデーションを必要とする場合には好ましく使用される。２種類以上のレターデーション上昇剤を併用してもよい。
【０１７１】
棒状又は円盤状化合物からなる前記レターデーション上昇剤は、２５０〜４００ｎｍの波長領域に最大吸収を有することが好ましく、可視領域に実質的に吸収を有していないことが好ましい。
【０１７２】
先ず円盤状化合物について説明する。円盤状化合物としては、少なくとも２つの芳香族環を有する化合物を用いることができる。
本明細書において、「芳香族環」は、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。芳香族炭化水素環は、６員環（すなわち、ベンゼン環）であることが特に好ましい。
【０１７３】
芳香族性ヘテロ環は、一般に、不飽和ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ環は、５員環、６員環又は７員環であることが好ましく、５員環又は６員環であることがさらに好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。芳香族性ヘテロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環及び１，３，５−トリアジン環が含まれる。
芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環及び１，３，５−トリアジン環が好ましく、特に１，３，５−トリアジン環が好ましく用いられる。具体的には、例えば特開２００１−１６６１４４号公報に開示の化合物が、円盤状化合物として好ましく用いられる。
【０１７４】
上記円盤状化合物が有する芳香族環の数は、２〜２０であることが好ましく、２〜１２であることがより好ましく、２〜８であることがさらに好ましく、２〜６であることが最も好ましい。
【０１７５】
２つの芳香族環の結合関係は、（ａ）縮合環を形成する場合、（ｂ）単結合で直結する場合、及び（ｃ）連結基を介して結合する場合に分類できる（芳香族環のため、スピロ結合は形成できない）。結合関係は、（ａ）〜（ｃ）のいずれでもよい。
【０１７６】
（ａ）の縮合環（２つ以上の芳香族環の縮合環）の例には、インデン環、ナフタレン環、アズレン環、フルオレン環、フェナントレン環、アントラセン環、アセナフチレン環、ビフェニレン環、ナフタセン環、ピレン環、インドール環、イソインドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、インドリジン環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、プリン環、インダゾール環、クロメン環、キノリン環、イソキノリン環、キノリジン環、キナゾリン環、シンノリン環、キノキサリン環、フタラジン環、プテリジン環、カルバゾール環、アクリジン環、フェナントリジン環、キサンテン環、フェナジン環、フェノチアジン環、フェノキサチイン環、フェノキサジン環及びチアントレン環が含まれる。ナフタレン環、アズレン環、インドール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環及びキノリン環が好ましい。
【０１７７】
（ｂ）の単結合は、２つの芳香族環の炭素原子間の結合であることが好ましい。２以上
の単結合で２つの芳香族環を結合して、２つの芳香族環の間に脂肪族環又は非芳香族性複素環を形成してもよい。
【０１７８】
（ｃ）の連結基も、２つの芳香族環の炭素原子と結合することが好ましい。連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｓ−又はそれらの組み合わせであることが好ましい。組み合わせからなる連結基の例を以下に示す。なお、以下の連結基の例の左右の関係は、逆になってもよい。
【０１７９】
ｃ₁：−ＣＯ−Ｏ−
ｃ₂：−ＣＯ−ＮＨ−
ｃ₃：−アルキレン−Ｏ−
ｃ₄：−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−
ｃ₅：−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−
ｃ₆：−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−
ｃ₇：−Ｏ−アルキレン−Ｏ−
ｃ₈：−ＣＯ−アルケニレン−
ｃ₉：−ＣＯ−アルケニレン−ＮＨ−
ｃ₁₀：−ＣＯ−アルケニレン−Ｏ−
ｃ₁₁：−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−アルキレン−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−
ｃ₁₂：−Ｏ−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−アルキレン−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−Ｏ−
ｃ₁₃：−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−
ｃ₁₄：−ＮＨ−ＣＯ−アルケニレン−
ｃ₁₅：−Ｏ−ＣＯ−アルケニレン−
【０１８０】
芳香族環及び連結基は、置換基を有していてもよい。
置換基の例には、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、スルホ基、カルバモイル基、スルファモイル基、ウレイド基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、脂肪族アシル基、脂肪族アシルオキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、脂肪族アミド基、脂肪族スルホンアミド基、脂肪族置換アミノ基、脂肪族置換カルバモイル基、脂肪族置換スルファモイル基、脂肪族置換ウレイド基及び非芳香族性複素環基が含まれる。
【０１８１】
アルキル基の炭素原子数は、１〜８であることが好ましい。環状アルキル基よりも鎖状アルキル基の方が好ましく、直鎖状アルキル基が特に好ましい。アルキル基は、さらに置換基（例えば、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルコキシ基、アルキル置換アミノ基）を有していてもよい。アルキル基の（置換アルキル基を含む）例には、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、２−ヒドロキシエチル基、４−カルボキシブチル基、２−メトキシエチル基及び２−ジエチルアミノエチル基が含まれる。
【０１８２】
アルケニル基の炭素原子数は、２〜８であることが好ましい。環状アルケニル基よりも鎖状アルケニル基の方が好ましく、直鎖状アルケニル基が特に好ましい。アルケニル基は、さらに置換基を有していてもよい。アルケニル基の例には、ビニル基、アリル基及び１−ヘキセニル基が含まれる。
【０１８３】
アルキニル基の炭素原子数は、２〜８であることが好ましい。環状アルキケニル基よりも鎖状アルキニル基の方が好ましく、直鎖状アルキニル基が特に好ましい。アルキニル基は、さらに置換基を有していてもよい。アルキニル基の例には、エチニル基、１−ブチニル基及び１−ヘキシニル基が含まれる。
【０１８４】
脂肪族アシル基の炭素原子数は、１〜１０であることが好ましい。脂肪族アシル基の例には、アセチル基、プロパノイル基及びブタノイル基が含まれる。
脂肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、１〜１０であることが好ましい。脂肪族アシルオキシ基の例には、アセトキシ基が含まれる。
【０１８５】
アルコキシ基の炭素原子数は、１〜８であることが好ましい。アルコキシ基は、さらに置換基（例えば、アルコキシ基）を有していてもよい。アルコキシ基の（置換アルコキシ基を含む）例には、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基及びメトキシエトキシ基が含まれる。
【０１８６】
アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、２〜１０であることが好ましい。アルコキシカルボニル基の例には、メトキシカルボニル基及びエトキシカルボニル基が含まれる。
アルコキシカルボニルアミノ基の炭素原子数は、２〜１０であることが好ましい。アルコキシカルボニルアミノ基の例には、メトキシカルボニルアミノ基及びエトキシカルボニルアミノ基が含まれる。
【０１８７】
アルキルチオ基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましい。アルキルチオ基の例には、メチルチオ基、エチルチオ基及びオクチルチオ基が含まれる。
アルキルスルホニル基の炭素原子数は、１〜８であることが好ましい。アルキルスルホニル基の例には、メタンスルホニル基及びエタンスルホニル基が含まれる。
【０１８８】
脂肪族アミド基の炭素原子数は、１〜１０であることが好ましい。脂肪族アミド基の例には、アセトアミド基が含まれる。
脂肪族スルホンアミド基の炭素原子数は、１〜８であることが好ましい。脂肪族スルホンアミド基の例には、メタンスルホンアミド基、ブタンスルホンアミド基及びｎ−オクタンスルホンアミド基が含まれる。
【０１８９】
脂肪族置換アミノ基の炭素原子数は、１〜１０であることが好ましい。脂肪族置換アミノ基の例には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基及び２−カルボキシエチルアミノ基が含まれる。
脂肪族置換カルバモイル基の炭素原子数は、２〜１０であることが好ましい。脂肪族置換カルバモイル基の例には、メチルカルバモイル基及びジエチルカルバモイル基が含まれる。
【０１９０】
脂肪族置換スルファモイル基の炭素原子数は、１〜８であることが好ましい。脂肪族置換スルファモイル基の例には、メチルスルファモイル基及びジエチルスルファモイル基が含まれる。
脂肪族置換ウレイド基の炭素原子数は、２〜１０であることが好ましい。脂肪族置換ウレイド基の例には、メチルウレイド基が含まれる。
非芳香族性複素環基の例には、ピペリジノ基及びモルホリノ基が含まれる。
【０１９１】
円盤状化合物からなるレターデーション発現剤の分子量は、３００〜８００であることが好ましい。
【０１９２】
本発明では、以上述べた円盤状化合物の他に、直線的な分子構造を有する棒状化合物も好ましく用いることができる。
直線的な分子構造とは、熱力学的に最も安定な構造において棒状化合物の分子構造が直線的であることを意味する。熱力学的に最も安定な構造は、結晶構造解析又は分子軌道計算によって求めることができる。例えば、分子軌道計算ソフト［例えば、“ＷｉｎＭＯＰＡＣ２０００”｛富士通（株）製｝］を用いて分子軌道計算を行い、化合物の生成熱が最
も小さくなるような分子の構造を求めることができる。分子構造が直線的であるとは、上記のように計算して求められる熱力学的に最も安定な構造において、分子構造で主鎖の構成する角度が１４０゜以上であることを意味する。
【０１９３】
棒状化合物としては、少なくとも２つの芳香族環を有するものが好ましく、少なくとも２つの芳香族環を有する棒状化合物としては、下記一般式（６）で表される化合物が好ましい。
一般式（６）：Ａｒ¹−Ｌ⁶¹−Ａｒ²
上記一般式（６）において、Ａｒ¹及びＡｒ²は、それぞれ独立に、芳香族基である。
【０１９４】
本明細書において、芳香族基は、アリール基（芳香族性炭化水素基）、置換アリール基、芳香族性ヘテロ環基及び置換芳香族性ヘテロ環基を含む。
アリール基及び置換アリール基の方が、芳香族性ヘテロ環基及び置換芳香族性ヘテロ環基よりも好ましい。芳香族性へテロ環基のヘテロ環は、一般には不飽和である。芳香族性ヘテロ環は、５員環、６員環又は７員環であることが好ましく、５員環又は６員環であることがさらに好ましい。芳香族性へテロ環は一般に最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子又は硫黄原子が好ましく、窒素原子又は硫黄原子がさらに好ましい。
【０１９５】
芳香族基の芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環及びピラジン環が好ましく、ベンゼン環が特に好ましい。
【０１９６】
置換アリール基及び置換芳香族性ヘテロ環基の置換基の例には、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、アミノ基、アルキルアミノ基（例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ブチルアミノ基、ジメチルアミノ基）、ニトロ基、スルホ基、カルバモイル基、アルキルカルバモイル基（例えば、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ−エチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基）、スルファモイル基、アルキルスルファモイル基（例えば、Ｎ−メチルスルファモイル基、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基）、ウレイド基、アルキルウレイド基（例えば、Ｎ−メチルウレイド基、Ｎ，Ｎ−ジメチルウレイド基、Ｎ，Ｎ，Ｎ'−トリメチルウレイド基）、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘプチル基、オクチル基、イソプロピル基、ｓ−ブチル基、ｔ−アミル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基）、アルケニル基（例えば、ビニル基、アリル基、ヘキセニル基）、アルキニル基（例えば、エチニル基、ブチニル基）、アシル基（例えば、ホルミル基、アセチル基、ブチリル基、ヘキサノイル基、ラウリル基）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、ブチリルオキシ基、ヘキサノイルオキシ基、ラウリルオキシ基）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ヘプチルオキシカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基）、アルコキシカルボニルアミノ基（例えば、ブトキシカルボニルアミノ基、ヘキシルオキシカルボニルアミノ基）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基）、アルキルスルホニル基（例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、ペンチルスルホニル基、ヘプチルスルホニル基、オクチルスルホニル基）、アミド基（例えば、アセトアミド基、ブチルアミド基、ヘキシルアミド基、ラウリルアミド基）及び非芳香族性複素環基（例えば、モルホリル基、ピラジニル基）が含まれる
。
【０１９７】
置換アリール基及び置換芳香族性ヘテロ環基の置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基、アルキル置換アミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基及びアルキル基が好ましい。
【０１９８】
アルキルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基及びアルキルチオ基の、アルキル部分及びアルキル基は、さらに置換基を有していてもよい。アルキル部分及びアルキル基の置換基の例には、ハロゲン原子、ヒドロキシル、カルボキシル、シアノ、アミノ、アルキルアミノ基、ニトロ、スルホ、カルバモイル、アルキルカルバモイル基、スルファモイル、アルキルスルファモイル基、ウレイド、アルキルウレイド基、アルケニル基、アルキニル基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アミド基及び非芳香族性複素環基が含まれる。アルキル部分及びアルキル基の置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル、アミノ、アルキルアミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニル基及びアルコキシ基が好ましい。
【０１９９】
一般式（６）において、Ｌ⁶¹は、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、−Ｏ−、−ＣＯ−及びそれらの組み合わせからなる基から選ばれる２価の連結基である。
【０２００】
アルキレン基は、環状構造を有していてもよい。環状アルキレン基としては、シクロヘキシレンが好ましく、１，４−シクロへキシレンが特に好ましい。鎖状アルキレン基としては、直鎖状アルキレン基の方が分岐を有するアルキレン基よりも好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、より好ましくは１〜１５であり、さらに好ましくは１〜１０であり、さらに好ましくは１〜８であり、最も好ましくは１〜６である。
【０２０１】
アルケニレン基及びアルキニレン基は、環状構造よりも鎖状構造を有することが好ましく、分岐を有する鎖状構造よりも直鎖状構造を有することがさらに好ましい。アルケニレン基及びアルキニレン基の炭素原子数は、好ましくは２〜１０であり、より好ましくは２〜８であり、さらに好ましくは２〜６であり、さらに好ましくは２〜４であり、最も好ましくは２（ビニレン又はエチニレン）である。
【０２０２】
アリーレン基は、炭素原子数は６〜２０であることが好ましく、より好ましくは６〜１６であり、さらに好ましくは６〜１２である。
【０２０３】
一般式（６）の分子構造において、Ｌ⁶¹を挟んで、Ａｒ¹とＡｒ²とが形成する角度は、１４０゜以上であることが好ましい。
【０２０４】
棒状化合物としては、下記式一般式（６−１）で表される化合物がさらに好ましい。
一般式（６−１）：Ａｒ¹−Ｌ⁶¹¹−Ｘ⁶¹−Ｌ⁶¹²−Ａｒ²
上記一般式（６−１）において、Ａｒ¹及びＡｒ²は、それぞれ独立に、芳香族基である。芳香族基の定義及び例は、一般式（６）のＡｒ¹及びＡｒ²と同様である。
【０２０５】
一般式（６−１）において、Ｌ⁶¹¹及びＬ⁶¹²は、それぞれ独立に、アルキレン基、−Ｏ−、−ＣＯ−及びそれらの組み合わせからなる基より選ばれる２価の連結基である。
アルキレン基は、環状構造よりも鎖状構造を有することが好ましく、分岐を有する鎖状構造よりも直鎖状構造を有することがさらに好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１
〜１０であることが好ましく、より好ましくは１〜８であり、さらに好ましくは１〜６であり、さらに好ましくは１〜４であり、１又は２（メチレン又はエチレン）であることが最も好ましい。
【０２０６】
Ｌ⁶¹¹及びＬ⁶¹²は、−Ｏ−ＣＯ−又は−ＣＯ−Ｏ−であることが特に好ましい。またＸ⁶¹は、１，４-シクロへキシレン、ビニレン又はエチニレンである。
【０２０７】
一般式（６）又は（６−１）で表される化合物の具体例としては、特開２００４−１０９６５７号公報の〔化１〕〜〔化１１〕に記載の化合物が挙げられる。
その他、好ましい化合物を以下に示す。
【０２０８】
【化２９】

【０２０９】
【化３０】

【０２１０】
溶液の紫外線吸収スペクトルにおいて、最大吸収波長（λ_max）が２５０ｎｍより短波長である棒状化合物を、２種類以上併用してもよい。
【０２１１】
棒状化合物は、文献記載の方法により合成できる。文献としては、“Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．”,５３巻、ｐ．２２９（１９７９年）、同８９巻、ｐ．９３（１９８２年）、同１４５巻、ｐ．１１１（１９８７年）、同１７０巻、ｐ．４３（１９８９年）、“Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．”，１１３巻、ｐ．１３４９（１９９１年）、同１１８巻、ｐ．５３４６（１９９６年）、同９２巻、ｐ．１５８２（１９７０年）、“Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．”，４０巻、ｐ．４２０（１９７５年）、“Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ”，４８巻１６号、ｐ．３４３７（１９９２年）を挙げることができる。
【０２１２】
その他の添加剤や溶媒等については、光学異方性を小さくするセルロースアシレートフィルムの場合と同様のことがいえる。
【０２１３】
〔セルロースアシレートフィルムの製造工程〕
［溶解工程］
本発明において、セルロースアシレート溶液（ドープ溶液）の調製に際しては、その溶解方法は特に限定されず、室温溶解でもよく、また冷却溶解法又は高温溶解方法でもよく、さらにはこれらの組み合わせで実施されてもよい。本発明におけるセルロースアシレート溶液の調製、さらには溶解工程に伴う溶液濃縮、濾過の各工程に関しては、発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて２２頁〜２５頁に詳細に記載されている製造工程が好ましく用いられる。
【０２１４】
（ドープ溶液の透明度）
本発明におけるセルロースアシレート溶液である、ドープ溶液（以下、単にドープということがある）の透明度としては、８５％以上であることが望ましい。より好ましくは８８％以上であり、さらに好ましくは９０％以上であることが望ましい。本発明においては、セルロースアシレートドープ溶液に、各種の添加剤が十分に溶解していることを確認する。具体的なドープの透明度の算出方法としては、ドープ溶液を１ｃｍ角のガラスセルに注入し、分光光度計“ＵＶ−３１５０”｛（株）島津製作所製｝を用いて５５０ｎｍの吸光度を測定した。溶媒のみを予めブランクとして測定しておき、ブランクの吸光度とドープの吸光度との比から、ドープの透明度を算出した。
【０２１５】
［流延、乾燥、巻き取り工程］
次に、セルロースアシレート溶液（ドープ）を用いたフィルムの製造方法について述べ
る。本発明において、セルロースアシレートフィルムを製造する方法及び設備は、従来セルローストリアセテートフィルム製造に供される溶液流延製膜方法及び溶液流延製膜装置が用いられる。溶解機（釜）で調製されたドープ（セルロースアシレート溶液）を貯蔵釜で一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調整をする。ドープをドープ排出口から、例えば回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギヤポンプを通して加圧型ダイに送り、次いでドープを加圧型ダイの口金（スリット）から、エンドレスに走行している流延部の金属支持体の上に均一に流延し、金属支持体がほぼ一周した剥離点で、生乾きのドープ膜（ウェブとも呼ぶ）を金属支持体から剥離する。得られるウェブの両端をクリップで挟み、幅保持しながらテンターで搬送して乾燥し、続いて得られたフィルムを、乾燥装置のロール群で機械的に搬送し乾燥を終了して、巻き取り機でロール状に所定の長さに巻き取る。テンターとロール群の乾燥装置との組み合わせは、その目的により変わる。これらについては、発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて２５頁〜３０頁に詳細に記載されており、流延（共流延を含む）、金属支持体、乾燥、剥離などに分類され、本発明において好ましく用いることができる。
【０２１６】
得られるセルロースアシレートフィルムの厚さは、１０〜１２０μｍが好ましく、２０〜１００μｍがより好ましく、３０〜９０μｍがさらに好ましい。
【０２１７】
［セルロースアシレートフィルム物性評価］
（高湿度処理後のフィルムの光学性能変化）
本発明におけるセルロースアシレートフィルムの、環境変化による光学性能の変化については、６０℃、９０％ＲＨに２４０時間処理したフィルムのＲｅの及びＲｔｈの変化量が１５ｎｍ以下であることが望ましい。より望ましくは１２ｎｍ以下であり、１０ｎｍ以下であることがさらに望ましい。
【０２１８】
（高温度処理後のフィルムの光学性能変化）
また、８０℃、２４０時間処理したフィルムのＲｅ及びＲｔｈの変化量は１５ｎｍ以下であることが望ましい。より望ましくは１２ｎｍ以下であり、１０ｎｍ以下であることがさらに望ましい。
【０２１９】
（フィルム加熱処理後の化合物揮散量）
本発明におけるセルロースアシレートフィルムに望ましく用いることができる、Ｒｔｈを低下させる化合物及びΔＲｔｈを低下させる化合物は、８０℃、２４０時間処理したフィルムからのそれら化合物の揮散量が、いずれも３０％以下であることが望ましい。より望ましくは２５％以下であり、２０％以下であることがさらに望ましい。
【０２２０】
なお、フィルムからのそれら化合物の揮散量は、８０℃、２４０時間処理したフィルム及び未処理のフィルムをそれぞれ溶媒に溶かし出し、液体高速クロマトグラフィーにて化合物を検出し、化合物のピーク面積をフィルム中に残存した化合物量として、下記数式（１０）により算出した。
数式（１０）：揮散量（質量％）＝｛（未処理品中の残存化合物量）−（処理品中の残存化合物量）｝／（未処理品中の残存化合物量）×１００
【０２２１】
（フィルムのガラス転移温度Ｔｇ）
本発明におけるセルロースアシレートフィルムのガラス転移温度Ｔｇは、通常８０〜１６５℃である。耐熱性の観点から、Ｔｇが１００〜１６０℃であることがより好ましく、１１０〜１５０℃であることが特に好ましい。
ガラス転移温度Ｔｇの測定は、本発明に用いるセルロースアシレートフィルム試料１０ｍｇを、常温から２００℃まで昇降温速度５℃／分で示差走査熱量計“ＤＳＣ２９１０”
（Ｔ．Ａ．インスツルメント社製）で熱量測定を行い、ガラス転移温度Ｔｇを算出した。
【０２２２】
（フィルムのヘイズ）
本発明におけるセルロースアシレートフィルムのヘイズは、０．０１〜２．０％であることが望ましい。より望ましくは０．０５〜１．５％であり、０．１〜１．０％であることがさらに望ましい。光学フィルムとしてフィルムの透明性は重要である。
ヘイズの測定は、セルロースアシレートフィルム試料４０ｍｍ×８０ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨでヘイズメーター“ＨＧＭ−２ＤＰ”｛スガ試験機（株）製｝でＪＩＳ Ｋ−６７１４に従って測定した。
【０２２３】
（フィルムのＲｅ、Ｒｔｈの湿度依存性）
本発明におけるセルロースアシレートフィルムの、正面方向のレターデーションＲｅ及び膜厚方向のレターデーションＲｔｈは、共に湿度による変化が小さいことが好ましい。具体的には、２５℃、１０％ＲＨにおけるＲｔｈ値と２５℃、８０％ＲＨにおけるＲｔｈ値の差ΔＲｔｈ_hum（＝Ｒｔｈ_10%RH−Ｒｔｈ_80%RH）が、０〜５０ｎｍであることが好ましい。より好ましくは０〜４０ｎｍであり、さらに好ましくは０〜３５ｎｍである。
【０２２４】
（フィルムの平衡含水率）
偏光板の保護フィルムとして、透明フィルム１のセルロースアシレートフィルムを用いる場合には、該セルロースアシレートフィルムの平衡含水率は、ポリビニルアルコールなどの水溶性ポリマーとの接着性を損なわないために、膜厚のいかんに関わらず、２５℃、８０％ＲＨにおける平衡含水率が、０〜４％であることが好ましい。０.１〜３．５％であることがより好ましく、１〜３％であることが特に好ましい。平衡含水率が該上限値以下であれば、光学補償シートの支持体として用いる際に、レターデーションの湿度変化による依存性が大きくなりすぎることがなく好ましい。
含水率の測定法は、セルロースアシレートフィルム試料７ｍｍ×３５ｍｍを、水分測定器、試料乾燥装置“ＣＡ−０３”、“ＶＡ−０５”｛共に三菱化学（株）製｝を用いてカールフィッシャー法で測定した。水分量（ｇ）を試料質量（ｇ）で除して算出した。
【０２２５】
（フィルムの透湿度）
本発明の光学補償シートに用いるセルロースアシレートフィルムの透湿度は、ＪＩＳ Ｚ−０２０８を基に、温度６０℃、湿度９５％ＲＨの条件において測定し、膜厚８０μｍに換算して求める。フィルムの透湿度としては、４００〜２０００ｇ／ｍ²・２４ｈであることが望ましい。５００〜１８００ｇ／ｍ²・２４ｈであることがより好ましく、６００〜１６００ｇ／ｍ²・２４ｈであることが特に好ましい。フィルムの透湿度が該上限値以下であれば、フィルムのＲｅ値、Ｒｔｈ値の湿度依存性の絶対値が０．５ｎｍ／％ＲＨを超える傾向が強くなることがないので好ましい。また、セルロースアシレートフィルムに光学異方性層を積層して、光学補償シートとした場合も、Ｒｅ値、Ｒｔｈ値の湿度依存性の絶対値が０．５ｎｍ／％ＲＨを超える傾向が強くなることがないので好ましい。このような光学補償シートや、該光学補償シートを組み合わせた偏光板が液晶表示装置に組み込まれた場合には、色味の変化や視野角の低下などの不具合が生じないので好ましい。また、セルロースアシレートフィルムの透湿度が該下限値以上であれば、このようなフィルムを偏光膜の両面などに貼り付けて偏光板を作製する場合に、セルロースアシレートフィルムにより接着剤の乾燥が妨げられることがなく、接着不良などの不具合を生じることがないので好ましい。
【０２２６】
セルロースアシレートフィルムの膜厚が厚ければ透湿度は小さくなり、膜厚が薄ければ透湿度は大きくなる。そこで、どのような膜厚のサンプルでも、基準を８０μｍに設けて換算する必要がある。膜厚の換算は、下記数式（１１）に従って行った。
数式（１１）：８０μｍ換算の透湿度＝実測の透湿度×実測の膜厚（μｍ）／８０μｍ
【０２２７】
透湿度の測定法は、「高分子の物性ＩＩ」（高分子実験講座４ 共立出版）の２８５頁〜２９４頁：「蒸気透過量の測定」（質量法、温度計法、蒸気圧法、吸着量法）に記載の方法を適用することができる。測定は、セルロースアシレートフィルム試料７０ｍｍφを、２５℃、９０％ＲＨ及び６０℃、９５％ＲＨでそれぞれ２４時間調湿し、透湿試験装置“ＫＫ−７０９００７”｛東洋精機（株）製｝にて、ＪＩＳ Ｚ−０２０８に従って、単位面積あたりの水分量を算出（ｇ／ｍ²）し、透湿度＝調湿後質量−調湿前質量で求めた。
【０２２８】
（フィルムの寸度変化）
本発明で用いられるセルロースアシレートフィルムの寸度安定性は、６０℃、９０％ＲＨの条件下に２４時間静置した場合（高湿）の寸度変化率、及び９０℃、５％ＲＨの条件下に２４時間静置した場合（高温）の寸度変化率がいずれも０.５％以下であることが望ましい。より望ましくは０.３％以下であり、さらに望ましくは０.１５％以下である。
【０２２９】
具体的な測定方法としては、セルロースアシレートフィルム試料３０ｍｍ×１２０ｍｍを２枚用意し、２５℃、６０％ＲＨで２４時間調湿し、自動ピンゲージ｛新東科学（株）製｝にて、両端に６ｍｍφの穴を１００ｍｍの間隔で開け、この穴の間隔の原寸（Ｌ₀）とした。１枚の試料を６０℃、９０％ＲＨにて２４時間処理した後の穴の間隔の寸法（Ｌ₁）を測定、もう１枚の試料を９０℃、５％ＲＨにて２４時間処理した後の穴の間隔の寸法（Ｌ₂）を測定した。すべての間隔の測定において最小目盛り１／１０００ｍｍまで測定した。得られた結果に基づき、下記数式（１２）及び（１３）により寸度変化率を求めた。
数式（１２）：６０℃、９０％ＲＨ（高湿）の寸度変化率（％）＝｛｜Ｌ₀−Ｌ₁｜／Ｌ₀｝×１００
数式（１３）：９０℃、５％ＲＨ（高温）の寸度変化率（％）＝｛｜Ｌ₀−Ｌ₂｜／Ｌ₀｝×１００
【０２３０】
（フィルムの機械的弾性率）
本発明で用いられるセルロースアシレートフィルムの弾性率は、２００〜５００ｋｇｆ／ｍｍ²であることが好ましい、より好ましくは２４０〜４７０ｋｇｆ／ｍｍ²であり、さらに好ましくは２７０〜４４０ｋｇｆ／ｍｍ²である。具体的な測定方法としては、東洋ボールドウィン（株）製万能引張試験機“ＳＴＭ Ｔ５０ＢＰ”を用い、２３℃、７０％ＲＨ雰囲気中、引張速度１０％／分で０．５％伸びにおける応力を測定し、機械的弾性率を求めた。
【０２３１】
（フィルムの光弾性係数）
本発明におけるセルロースアシレートフィルムの光弾性係数は、５０×１０^-13ｃｍ²／ｄｙｎｅ以下であることが好ましい。３０×１０^-13ｃｍ²／ｄｙｎｅ以下であることがより好ましく、２０×１０^-13ｃｍ²／ｄｙｎｅ以下であることがさらに好ましい。具体的な測定方法としては、セルロースアシレートフィルム試料１２ｍｍ×１２０ｍｍの長軸方向に対して引張応力をかけ、その際のレターデーションをエリプソメーター“Ｍ１５０”｛日本分光（株）製｝で測定し、応力に対するレターデーションの変化量から光弾性係数を算出した。
【０２３２】
（延伸前後におけるフィルムのＲｅの変化及び遅相軸の検出）
試料のセルロースアシレートフィルム１００×１００ｍｍを用意し、固定一軸延伸機を用いて、温度１４０℃の条件下で機械搬送方向（ＭＤ方向）又は幅方向（ＴＤ方向）に延伸を行った。延伸前後における各試料の正面方向のレターデーションＲｅは自動複屈折計
“ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ”を用いて測定した。遅相軸の検出は、このレターデーション測定の際に得られる配向角から決定した。延伸によってＲｅの変化が小さいことが好ましく、具体的にはＲｅ_(n)をｎ(％)延伸したフィルムの正面方向のレターデーション(ｎｍ)、Ｒｅ₍₀₎を延伸していないフィルムの正面方向のレターデーション(ｎｍ)としたときに、下記数式（１４）を満足することが好ましく、数式（１４−１）を満足することがさらに好ましい。
数式（１４）：｜Ｒｅ_(n)−Ｒｅ₍₀₎｜／ｎ≦１．０
数式（１４−１）：｜Ｒｅ_(n)−Ｒｅ₍₀₎｜／ｎ≦０．３
【０２３３】
［遅相軸を有する方向］
偏光板の保護フィルムとして、透明フィルム１のセルロースアシレートフィルムを用いる場合、偏光膜が機械搬送方向（ＭＤ方向）に吸収軸を持つため、セルロースアシレートフィルムは、遅相軸がＭＤ方向近傍又はＴＤ近傍にあることが望ましい。遅相軸を偏光膜と平行又は直交させることにより、光漏れや色味変化を低減できる。ここでいう近傍とは、遅相軸とＭＤ又はＴＤ方向が０〜１０°、好ましくは０〜５°の範囲にあることを表す。
【０２３４】
［固有複屈折が正であるセルロースアシレートフィルム］
本発明におけるセルロースアシレートフィルムは、フィルム面内において、遅相軸を有する方向に延伸すると、正面方向のレターデーションＲｅが大きくなり、遅相軸を有する方向と垂直な方向に延伸すると、正面方向のレターデーションＲｅが小さくなる。このことは、固有複屈折が正であることを示しており、フィルム中で発現したＲｅを打ち消すには、遅相軸と垂直方向に延伸することが有効である。この方法としては、例えば、フィルムが機械搬送方向（ＭＤ方向）に遅相軸を有している場合に、ＭＤとは垂直な方向（ＴＤ方向）にテンター延伸を行って、正面Ｒｅを小さくすることが考えられる。逆の例として、ＴＤ方向に遅相軸を有している場合には、ＭＤ方向の機械搬送ロールの張力を強めて延伸することによって正面Ｒｅを小さくすることが考えられる。
【０２３５】
［固有複屈折が負であるセルロースアシレートフィルム］
本発明におけるセルロースアシレートフィルムは、遅相軸を有する方向に延伸すると、正面レターデーションＲｅが小さくなり、遅相軸を有する方向と垂直な方向に延伸すると、正面レターデーションＲｅが大きくなる場合もある。このことは、固有複屈折が負であることを示しており、フィルム中で発現したＲｅを打ち消すには、遅相軸と同一の方向に延伸することが有効である。この方法としては、例えば、フィルムが機械搬送方向（ＭＤ方向）に遅相軸を有している場合に、ＭＤ方向の機械搬送ロールの張力を強めて延伸することによって、正面Ｒｅを小さくすることが考えられる。逆の例として、ＴＤ方向に遅相軸を有している場合には、ＭＤとは垂直な方向（ＴＤ方向）にテンター延伸を行って、正面Ｒｅを小さくすることが考えられる。
【０２３６】
［セルロースアシレートフィルムの評価方法］
本発明に用いるセルロースアシレートフィルムの評価に当たって、以下の方法で測定して実施した。
【０２３７】
（正面方向のレターデーションＲｅ、膜厚方向のレターデーションＲｔｈ）
セルロースアシレートフィルム試料３０ｍｍ×４０ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨで２時間調湿し、Ｒｅ_λの測定は、自動複屈折計“ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ”｛王子計測機器（株）製｝を用いて、波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させることにより行った。またＲｔｈ_λは、このＲｅ_λと、面内の遅相軸を傾斜軸としてフィルム法線方向を０°とし、フィルム試料を１０°毎に５０°まで傾斜させ、波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値とを基に、平均屈折率の仮定値１．４８及び膜厚を入力し算出した
。
【０２３８】
（Ｒｅ、Ｒｔｈの波長分散測定）
セルロースアシレートフィルム試料３０ｍｍ×４０ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨで２時間調湿し、エリプソメーター“Ｍ−１５０”｛日本分光（株）製｝において、波長７８０ｎｍから３８０ｎｍの光をフィルム法線方向に入射させることにより、各波長でのＲｅを求め、Ｒｅの波長分散を測定した。またＲｔｈの波長分散については、このＲｅ並びに、面内の遅相軸を傾斜軸として、フィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から７８０〜３８０ｎｍの波長の光を入射させて測定したレターデーション値、及びフィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長７８０〜３８０ｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値の計３つの方向で測定したレターデーション値を基に、平均屈折率の仮定値１．４８及び膜厚を入力して算出した。
【０２３９】
（分子配向軸）
セルロースアシレートフィルム試料７０ｍｍ×１００ｍｍを、２５℃、６５％ＲＨで２時間調湿し、自動複屈折計“ＫＯＢＲＡ ２１ＤＨ”｛王子計測（株）製｝にて、垂直入射における入射角を変化させた時の位相差より分子配向軸を算出した。
【０２４０】
（軸ズレ）
また、自動複屈折計“ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ”｛王子計測機器（株）製｝を用いて、セルロースアシレートフィルムの軸ズレ角度を測定した。幅方向に全幅にわたって等間隔で２０点測定し、絶対値の平均値を求めた。また遅相軸角度（軸ズレ）のレンジは、幅方向全域にわたって等間隔に２０点測定し、軸ズレの絶対値の大きいほうから４点の平均と小さいほうから４点の平均の差をとったものである。
【０２４１】
（透過率）
セルロースアシレートフィルム試料２０ｍｍ×７０ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨで、透明度測定器「ＡＫＡ光電管比色計」｛ＫＯＴＡＫＩ製作所（株）製｝で可視光（６１５ｎｍ）の透過率を測定した。
【０２４２】
（分光特性）
セルロースアシレートフィルム試料１３ｍｍ×４０ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨで分光光度計“Ｕ−３２１０”｛（株）日立製作所製｝にて、波長３００〜４５０ｎｍにおける透過率を測定した。傾斜幅は（７２％の波長−５％の波長）で求めた。限界波長は、（傾斜幅／２）＋５％の波長で表した。吸収端は、透過率０．４％の波長で表す。これより３８０ｎｍ及び３５０ｎｍの透過率を評価した。
【０２４３】
（フィルム表面の性状）
本発明におけるセルロースアシレートフィルムの表面は、ＪＩＳ Ｂ−０６０１−１９９４に基づく、該フィルムの表面凹凸の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以下、及び最大高さ（Ｒｙ）が０．５μｍ以下であることが好ましい。より好ましくは、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０５μｍ以下、及び最大高さ（Ｒｙ）が０．２μｍ以下である。膜表面の凹と凸の形状は、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により評価することができる。
【０２４４】
（セルロースアシレートフィルムのレターデーションの面内ばらつき）
本発明におけるセルロースアシレートフィルムは、次の数式（１５）を満たすことが望ましい。
数式（１５）：｜Ｒｅ_max−Ｒｅ_min｜≦３で且つ｜Ｒｔｈ_max−Ｒｔｈ_min｜≦５
（式中、Ｒｅ_max及びＲｔｈ_maxは、任意に切り出した１ｍ四方のフィルムのレターデーション値の最大値、Ｒｅ_min及びＲｔｈ_minはその最小値である。］
【０２４５】
（フィルムの保留性）
本発明に用いられるセルロースアシレートフィルムにおいては、フィルムに添加した各種化合物の保留性が要求される。具体的には、セルロースアシレートフィルムを８０℃、９０％ＲＨの条件下に４８時間静置した場合の、フィルムの質量変化が０〜５％であることが好ましい。より好ましくは０〜３％であり、さらに好ましくは０〜２％である。
【０２４６】
（保留性の評価方法）
セルロースアシレートフィルム試料を１０ｃｍ×１０ｃｍのサイズに断裁し、２３℃、５５％ＲＨの雰囲気下で２４時間放置後の質量を測定して、８０±５℃、９０±１０％ＲＨの条件下で４８時間放置した。処理後の試料の表面を軽く拭き、２３℃、５５％ＲＨで１日放置後の質量を測定して、以下の数式（１６）に従って保留性を計算した。
数式（１６）：保留性（質量％）＝｛（放置前の質量−放置後の質量）／放置前の質量｝×１００
【０２４７】
（フィルムの力学特性）
（カール）
本発明におけるセルロースアシレートフィルムの幅方向のカール値は、−１０／ｍ〜＋１０／ｍであることが好ましい。本発明におけるセルロースアシレートフィルムには、後述する表面処理、光学異方性層を塗設する際のラビング処理の実施や配向膜、光学異方性層の塗設や貼合などを長尺で行う際に、該セルロースアシレートフィルムの幅方向のカール値が、該範囲内であれば、フィルムのハンドリングに支障をきたしてフィルムの切断が起きるなどの不都合が生じにくい。またフィルムのエッジや中央部などで、フィルムが搬送ロールと強く接触して発塵しやすくなったり、フィルム上への異物付着が多くなったりして、光学補償シートの点欠陥や塗布スジの頻度が許容値を超えるなどの不具合が生じないので好ましい。また、カールを該範囲内とすることで光学異方性層を設置するときに発生しやすい色斑故障を低減できるほか、偏光膜貼り合せ時に気泡が入ることを防ぐことができ、好ましい。
カール値は、アメリカ国家規格協会の規定する測定方法（ＡＮＳＩ／ＡＳＣＰＨ１．２９−１９８５）に従い測定することができる。
【０２４８】
（引裂き強度）
ＪＩＳ Ｋ７１２８−２−１９９８の引裂き試験方法に基づく引裂き強度（エルメンドルフ引裂き法）は、セルロースアシレートフィルムの膜厚が２０〜８０μｍの範囲においては、２ｇ以上であることが好ましい。より好ましくは、５〜２５ｇであり、更には６〜２５ｇである。またフィルムの膜厚の６０μｍ換算では８ｇ以上が好ましく、より好ましくは８〜１５ｇである。具体的には、試料片５０ｍｍ×６４ｍｍを、２５℃、６５％ＲＨの条件下に２時間調湿した後に、軽荷重引裂き強度試験機を用いて測定できる。
【０２４９】
（フィルムの残留溶媒量）
本発明におけるセルロースアシレートフィルムは、その残留溶媒量が０．０１〜１．５質量％の範囲となるような条件で乾燥することが好ましい。より好ましくは０．０１〜１．０質量％である。本発明に用いる透明フィルムの残留溶媒量は１．５％以下とすることでカールを抑制できる。１．０％以下であることがより好ましい。これは、前記のソルベントキャスト方法による成膜時の残留溶媒量を少なくすることで、自由体積が小さくなることが主要な効果要因になるためと思われる。
【０２５０】
（フィルムの吸湿膨張係数）
本発明におけるセルロースアシレートフィルムの吸湿膨張係数は、３０×１０^-5／％ＲＨ以下とすることが好ましい。吸湿膨張係数は、１５×１０^-5／％ＲＨ以下とすることが
好ましく、１０×１０^-5／％ＲＨ以下であることがさらに好ましい。また、吸湿膨張係数は小さい方が好ましいが、通常は、１．０×１０^-5／％ＲＨ以上の値である。吸湿膨張係数は、一定温度下において相対湿度を変化させた時の試料の長さの変化量を示す。この吸湿膨張係数を調節することで、該セルロースアシレートフィルムを光学補償シート支持体として用いた際、光学補償シートの光学補償機能を維持したまま、額縁状の透過率上昇すなわち歪みによる光漏れを防止することができる。
【０２５１】
（表面処理）
セルロースアシレートフィルムは、場合により表面処理を行うことによって、セルロースアシレートフィルムと光学異方性層や必要性に応じて付与される各機能層（例えば、下塗層及びバック層）との接着の向上を達成することができる。例えばグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸又はアルカリ処理を用いることができる。
ここでいうグロー放電処理とは、１０^-3〜２０Ｔｏｒｒの低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、更にまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。このような条件においてプラズマ励起される気体をプラズマ励起性気体といい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類及びそれらの混合物などがあげられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて３０頁〜３２頁に詳細に記載されており、本発明において好ましく用いることができる。
【０２５２】
（アルカリ鹸化処理によるフィルム表面の接触角）
偏光板の保護フィルムとして、透明フィルム１のセルロースアシレートフィルムを用いる場合、該フィルムの表面処理の有効な手段の１つとしてアルカリ鹸化処理が上げられる。この場合、アルカリ鹸化処理後のフィルム表面の接触角が５５°以下であることが望ましい。より望ましくは５０°以下であり、４５°以下であることがさらに望ましい。接触角の評価法は、アルカリ鹸化処理後のフィルム表面に直径３ｍｍの水滴を落とし、フィルム表面と水滴のなす角を求める通常の手法によって親疎水性の評価として用いることができる。
【０２５３】
（耐光性）
本発明におけるセルロースアシレートの光耐久性の指標として、スーパーキセノン光を２４０時間照射したときの、フィルムの色差ΔＥ^*abが２０以下であることが望ましい。より望ましくは１８以下であり、１５以下であることがさらに望ましい。色差の測定は、“ＵＶ３１００”｛（株）島津製作所製｝を用いた。測定の仕方は、フィルムを２５℃、６０％ＲＨに２時間以上調湿した後に、キセノン光照射前のフィルムのカラー測定を行い、初期値（Ｌ₀^*、ａ₀^*、ｂ₀^*）を求めた。その後、フィルム単体で、スーパーキセノンウェザーメーター“ＳＸ−７５”｛スガ試験機（株）製｝にて、１５０Ｗ／ｍ²、６０℃、５０％ＲＨ条件にてキセノン光を２４０時間照射した。所定時間の経過後、フィルムを恒温槽から取り出し、２５℃、６０％ＲＨに２時間調湿した後に、再びカラー測定を行い、照射経時後の値（Ｌ₁^*、ａ₁^*、ｂ₁^*）を求めた。これらから、下記数式（１７）に従って色差ΔＥ^*abを求めた。
数式（１７）：ΔＥ^*ab＝［（Ｌ₀^*−Ｌ₁^*）²＋（ａ₀^*−ａ₁^*）²＋（ｂ₀^*−ｂ₁^*）²］^0.5。
【０２５４】
＜光学補償シート＞
〔光学異方性層〕
次に、本発明の光学補償シートにおける光学異方性層について詳細に説明する。
【０２５５】
［光学異方性層１］
本発明における光学異方性層１は、Ｒｅが６０〜２００ｎｍであるのが好ましく、７０
〜１８０ｎｍであるのがより好ましく、９０〜１６０ｎｍであるのがさらに好ましい。また、Ｒｔｈは３０〜１００ｎｍであるのが好ましく、３５〜９０ｎｍであるのがより好ましく、４５〜８０ｎｍであるのがさらに好ましい。本発明における光学異方性層１は、このような光学特性を有し、且つ長尺であることが好ましく、その材料及び形態についても特に制限されない。例えば、複屈折ポリマーフィルムからなる位相差膜、透明フィルム上に高分子化合物を塗布後に加熱した膜、及び透明フィルム上に低分子又は高分子液晶性化合物を、塗布又は転写することによって形成された位相差層を有する位相差膜など、いずれも使用することができる。また、それぞれを積層して使用することもできる。
【０２５６】
光学異方性層１は、光軸が層平面に対して実質的に平行であるのが好ましい。そのような光学異方性層は、延伸したポリマーフィルムであってもよいし、実質的に水平（ホモジニアス）配向した液晶性化合物を固定化させてなる層であってもよく、より好ましくは、液晶性化合物を固定化させてなる層である。
【０２５７】
（液晶性化合物による光学異方性層１の形成）
液晶分子の実質的な水平（ホモジニアス）配向とは、液晶分子のダイレクター方向と層平面との平均角度が０〜２０゜の範囲内であることを意味する。液晶分子は、配向状態で固定化されているのが好ましく、重合により固定化されているのがより好ましい。上記光学的特性を満たす限り、液晶性化合物の種類については特に制限されない。例えば、低分子液晶性化合物を、液晶状態においてネマティック配向に形成後、光架橋や熱架橋によって固定化して得られる光学異方性層や、高分子液晶性化合物を液晶状態においてネマティック配向に形成後、冷却することによって当該配向を固定化して得られる光学異方性層を用いることができる。なお本発明では、光学異方性層に液晶性化合物が用いられる場合であっても、光学異方性層は、該化合物が重合等によって固定されて形成された層であり、層となった後はもはや液晶性を示す必要はない。
【０２５８】
上記光学異方性層１が液晶分子の配向を固定してなる態様では、光学異方性層１は、液晶性化合物を含有する組成物から形成することができる。該液晶性化合物としては、棒状液晶性化合物を用いるのが好ましい。液晶性化合物は、ネマティック配向している状態で固定されていることが好ましく、重合反応により固定されていることがさらに好ましい。棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。
【０２５９】
以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。棒状液晶性化合物を重合によって配向を固定することがより好ましい。液晶分子には活性光線や電子線、熱などによって重合や架橋反応を起こしうる部分構造を有するものが好適に用いられる。その部分構造の個数は１〜６個、好ましくは１〜３個である。重合性棒状液晶性化合物としては、“Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．”，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、“Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ”，５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許第４６８３３２７号明細書、同第５６２２６４８号明細書、同第５７７０１０７号明細書、国際公開第９５／２２５８６号パンフレット、同第９５／２４４５５号パンフレット、同第９７／００６００号パンフレット、同第９８／２３５８０号パンフレット、同第９８／５２９０５号パンフレット、特開平１−２７２５５１号公報、同６−１６６１６号公報、同７−１１０４６９号公報、同１１−８００８１号公報、及び特開２００１−３２８９７３号公報などに記載の化合物を用いることができる。
【０２６０】
光学異方性層１は、液晶性化合物及び、必要に応じて、重合性開始剤や任意の成分を含
む塗布液を、配向膜の上に塗布することで形成できる。塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例えば、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジン）、炭化水素（例えば、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハリド（例えば、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例えば、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例えば、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例えば、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハリド及びケトンが好ましい。２種類以上の有機溶媒を併用してもよい。塗布液の塗布は、公知の方法（例、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。光学異方性層の厚さは、０．５〜１００μｍであることが好ましく、０．５〜３０μｍであることがさらに好ましい。
【０２６１】
［光学異方性層２］
次に、液晶性化合物からなる光学異方性層２の好ましい態様について詳細を記述する。
光学異方性層２は、液晶表示装置の黒表示における液晶セル中の液晶性化合物を補償するように設計することが好ましい。黒表示における液晶セル中の液晶性化合物の配向状態は、液晶表示装置のモードにより異なる。この液晶セル中の液晶性化合物の配向状態に関しては、“ＩＤＷ’００、ＦＭＣ７−２”ｐ．４１１〜４１４に記載されている。光学異方性層２は、ラビング軸等の配向軸によって配向制御され、その配向状態に固定された液晶性化合物を含有する。
【０２６２】
光学異方性層２に用いる液晶性化合物には、棒状液晶性化合物及びディスコティック液晶性化合物が含まれる。棒状液晶性化合物及びディスコティック液晶性化合物は、高分子液晶でも低分子液晶でもよく、さらに、低分子液晶が架橋され液晶性を示さなくなったものも含まれる。光学異方性層の作製に棒状液晶性化合物を用いた場合は、棒状液晶性化合物は、配向軸に対してその長軸を平行にして配向しているのが好ましい。また、光学異方性層の作製にディスコティック液晶性化合物を用いた場合も、ディスコティック液晶性化合物はその長軸（円盤面）を配向軸に平行にして配向しているのが好ましが、円盤面と層平面とのなす角（傾斜角）が深さ方向に変化する、後述のハイブリッド配向がより好ましい。
【０２６３】
（棒状液晶性化合物）
棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。
【０２６４】
なお、棒状液晶性化合物には、金属錯体も含まれる。また、棒状液晶性化合物を繰り返し単位中に含む液晶ポリマーも、棒状液晶性化合物として用いることができる。言い換えると、棒状液晶性化合物は、（液晶）ポリマーと結合していてもよい。
【０２６５】
棒状液晶性化合物については、「季刊化学総説」第２２巻「液晶の化学」（１９９４）日本化学会編の第４章、第７章及び第１１章、及び「液晶デバイスハンドブック」日本学術振興会第１４２委員会編の第３章に記載がある。
【０２６６】
棒状液晶性化合物の複屈折率は、０．００１〜０．７の範囲にあることが好ましい。
【０２６７】
棒状液晶性化合物は、その配向状態を固定するために、重合性基を有することが好ましい。重合性基は、ラジカル重合性不飽基又はカチオン重合性基が好ましく、具体的には、
例えば特開２００２−６２４２７号公報段落番号［００６４］〜［００８６］記載の重合性基、重合性液晶化合物が挙げられる。
【０２６８】
（ディスコティック液晶性化合物）
ディスコティック（円盤状）液晶性化合物には、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告“Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．”，７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告“Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．”，１２２巻、１４１頁（１９８５年）及び“Ｐｈｙｓｉｃｓ ｌｅｔｔ，Ａ”，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告“Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．”，９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体、並びにＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告“Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．”，１７９４頁（１９８５年）及びＪ．Ｚｈａｎｇらの研究報告“Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．”，１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルが含まれる。
【０２６９】
ディスコティック液晶性化合物としては、分子中心の母核に対して、直鎖のアルキル基、アルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基が母核の側鎖として放射線状に置換した構造である液晶性を示す化合物も含まれる。分子又は分子の集合体が、回転対称性を有し、一定の配向を付与できる化合物であることが好ましい。ディスコティック液晶性化合物から形成する光学異方性層は、最終的に光学異方性層に含まれる化合物がディスコティック液晶性化合物である必要はなく、例えば、低分子のディスコティック液晶性化合物が熱や光で反応する基を有しており、結果的に熱、光で反応により重合又は架橋し、高分子量化し液晶性を失った化合物も含まれる。ディスコティック液晶性化合物の好ましい例は、特開平８−５０２０６号公報に記載されている。また、ディスコティック液晶性化合物の重合については、特開平８−２７２８４号公報に記載がある。
【０２７０】
ディスコティック液晶性化合物を重合により固定するためには、ディスコティック液晶性化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。円盤状コアと重合性基は、連結基を介して結合する化合物が好ましく、これにより重合反応においても配向状態を保つことができる。例えば、特開２０００−１５５２１６号公報段落番号［０１５１］〜「０１６８」記載の化合物等が挙げられる。
【０２７１】
ハイブリッド配向では、ディスコティック液晶性化合物の長軸（円盤面）と透明フィルムの面との角度、すなわち傾斜角が、光学異方性層の深さ（すなわち、透明フィルムに垂直な）方向で、且つ偏光膜の面からの距離の増加と共に増加又は減少している。角度は、距離の増加と共に減少することが好ましい。さらに、傾斜角の変化としては、連続的増加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連続的増加と連続的減少を含む変化、又は、増加及び減少を含む間欠的変化が可能である。間欠的変化は、厚さ方向の途中で傾斜角が変化しない領域を含んでいる。角度が変化しない領域を含んでいても、全体として増加又は減少していればよい。しかしながら、傾斜角は連続的に変化することが好ましい。
【０２７２】
ディスコティック液晶性化合物の長軸（円盤面）の平均方向（各分子の長軸方向の平均）は、一般にディスコティック液晶性化合物又は配向膜の材料を選択することにより、又はラビング処理方法を選択することにより、調整することができる。また、表面側（空気側）のディスコティック液晶性化合物の長軸（円盤面）方向は、一般にディスコティック液晶性化合物又はディスコティック液晶性化合物と共に使用する添加剤の種類を選択することにより調整することができる。
ディスコティック液晶性化合物と共に使用する添加剤の例としては、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー及びポリマーなどを挙げることができる。長軸の配向方向の変化の程度も、上記と同様に、液晶性分子と添加剤との選択により調整できる。
【０２７３】
光学異方性層２の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．５〜１５μｍであることがさらに好ましく、１〜１０μｍであることが最も好ましい。
【０２７４】
（光学異方性層２中の他の添加物）
光学異方性層２中には、上記の液晶性化合物と共に、可塑剤、フッ素系化合物、重合性モノマー等を併用して、塗工膜の均一性、膜の強度、液晶分子の配向性等を向上することができる。液晶性化合物と相溶性を有し、液晶性化合物の傾斜角の変化を与えられるか、又は配向を阻害しないことが好ましい。
【０２７５】
重合性モノマーとしては、ラジカル重合性又はカチオン重合性の化合物が挙げられる。好ましくは、多官能性ラジカル重合性モノマーであり、上記の重合性基含有の液晶性化合物と共重合性のものが好ましい。例えば、特開２００２−２９６４２３号公報段落番号［００１８］〜［００２０］記載のものが挙げられる。上記化合物の添加量は、ディスコティック液晶性化合物に対して一般に１〜５０質量％の範囲にあり、５〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。
【０２７６】
フッ素系化合物としては、従来公知の化合物が挙げられるが、具体的には、例えば特開２００１−３３０７２５号公報段落番号［００２８］〜［００５６］記載の化合物や特願２００４−２７４３９６号公報に記載のフッ素系化合物等が挙げられる。
【０２７７】
液晶性化合物とともに使用するポリマーは、塗布液を増粘できることが好ましく、とくにディスコティック液晶性化合物とともに使用するポリマーは、ディスコティック液晶性化合物に傾斜角の変化を与えられることが好ましい。
【０２７８】
ポリマーの例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、特開２０００−１５５２１６号公報段落番号［０１７８］記載のものが挙げられる。液晶性化合物の配向を阻害しないように、該ポリマーの添加量は、液晶性化合物に対して０．１〜１０質量％の範囲にあることが好ましく、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましい。ディスコティック液晶性化合物の、ディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度は、７０〜３００℃が好ましく、７０〜１７０℃がさらに好ましい。
【０２７９】
（光学異方性層２の形成）
光学異方性層２は、液晶性化合物及び、必要に応じて、後記の重合性開始剤や任意の成分を含む塗布液を、配向膜の上に塗布することで形成できる。
【０２８０】
塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例えば、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジン）、炭化水素（例えば、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロエタン）、エステル（例えば、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例えば、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例えば、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライド及びケトンが好ましい。２種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
【０２８１】
塗布液の塗布は、公知の方法（例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スロットダイコーティング法）により実施できる。スロットダイコーティング法の具体的塗布方法としては、特願２００４−２７６５４５号公報の段落番号［０
２９３］〜［０２９４］記載されている方法等を用いることができる。
【０２８２】
連続走行するウェブに各種液状組成物を塗布して形成した、長尺で広幅な塗布膜面を乾燥する乾燥方法及び装置については、Ｅ．Ｂ．Ｇｕｔｏｆｆ， Ｅ．ｄ．Ｃｏｈｅｎ著の“Ｃｏａｔｉｎｇ ａｎｄ Ｄｒｙｉｎｇ Ｄｅｆｅｃｔｓ”（Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ， Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ， Ｉｎｃ．）に、非塗布面側をロールで支持し、塗布面側にエア・ノズルから風を吹かせて乾燥させる乾燥方法や、塗布面、非塗布面ともにエア・ノズルから風を吹かせて、ウェブを浮上させた状態、すなわち支持体がロール等に接触しないで乾燥させる非接触式のエア・フローティング乾燥方法について記されている。この非接触式の乾燥方法については、スペースを効率よく利用し、且つ効率よく乾燥させる方法として、特公昭６０−５９２５０号公報に開示されているような、弦巻き型の乾燥装置を用いた乾燥方法等がある。また特開２００３−１０６７６７号公報に開示されているような、塗布手段の直後に塗布液の溶媒を凝縮・回収するドライヤを配設し、ドライヤの各種条件を最適化することで、乾燥ムラを抑制し、且つ効率よく乾燥させる方法もある。
【０２８３】
（液晶性化合物の配向状態の固定）
配向させた液晶性化合物を、配向状態を維持して固定することができる。固定化は、重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合反応が好ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同第２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同第２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジン及びフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）及びオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。
【０２８４】
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％の範囲にあることが好ましく、０．５〜５質量％の範囲にあることがさらに好ましい。
【０２８５】
液晶性化合物の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ²〜５０Ｊ／ｃｍ²の範囲にあることが好ましく、２０〜５０００ｍＪ／ｃｍ²の範囲にあることがより好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ²の範囲にあることがさらに好ましい。また、光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。
【０２８６】
なお、保護層を、光学異方性層の上に設けてもよい。
【０２８７】
（配向膜）
配向膜は、液晶性化合物の配向方向を規定する機能を有する。従って、配向膜は本発明の好ましい態様を実現する上では必須である。しかし、液晶性化合物を配向後にその配向状態を固定してしまえば、配向膜はその役割を果たしているために、本発明の構成要素としては必ずしも必須のものではない。すなわち、配向状態が固定された配向膜上の光学異方性層のみを透明フィルム上に転写して、本発明の偏光板を作製することも可能である。
【０２８８】
配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、又はラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例えば、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロラ
イド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与又は光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
【０２８９】
配向機能を生じさせる手段は特に限定されないが、ポリマーのラビング処理によることが好ましい。配向膜に使用するポリマーは、原則として、液晶分子を配向させる機能のある分子構造を有する。
【０２９０】
本発明では、液晶分子を配向させる機能に加えて、架橋性官能基（例えば、二重結合）を有する側鎖を主鎖に結合させるか、又は、液晶分子を配向させる機能を有する架橋性官能基を側鎖に導入することが好ましい。
【０２９１】
配向膜に使用されるポリマーは、それ自体架橋可能なポリマー又は架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができ、これらの組み合わせを複数使用することができる。
【０２９２】
ポリマーの例には、例えば特開平８−３３８９１３号公報段落番号［００２２］記載のメタクリレート系共重合体、スチレン系共重合体、ポリオレフィン、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリカーボネート等が含まれる。シランカップリング剤をポリマーとして用いることができる。
【０２９３】
配向膜に使用されるポリマーとしては、水溶性ポリマー｛例えば、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール｝が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールがさらに好ましく、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。重合度が異なるポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールを２種類併用することが特に好ましい。ポリビニルアルコールの鹸化度は、７０〜１００％が好ましく、８０〜１００％がさらに好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜５０００であることが好ましい。
【０２９４】
液晶分子を配向させる機能を有する側鎖は、一般に疎水性基を官能基として有する。具体的な官能基の種類は、液晶分子の種類及び必要とする配向状態に応じて決定する。例えば、変性ポリビニルアルコールの変性基としては、共重合変性、連鎖移動変性又はブロック重合変性により導入できる。変性基の例には、親水性基（カルボン酸基、スルホン酸基、ホスホン酸基、アミノ基、アンモニウム基、アミド基、チオール基等）、炭素数１０〜１００個の炭化水素基、フッ素原子置換の炭化水素基、チオエーテル基、重合性基（不飽和重合性基、エポキシ基、アジリニジル基等）、アルコキシシリル基（トリアルコキシ、ジアルコキシ、モノアルコキシ）等が挙げられる。これらの変性ポリビニルアルコール化合物の具体例として、例えば特開２０００−１５５２１６号公報段落番号［００２２］〜［０１４５］、同２００２−６２４２６号公報段落番号［００１８］〜［００２２］に記載のもの等が挙げられる。
【０２９５】
架橋性官能基を有する側鎖を配向膜ポリマーの主鎖に結合させるか、又は、液晶分子を配向させる機能を有する側鎖に架橋性官能基を導入することにより、配向膜のポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを共重合させることができる。その結果、多官能モノマーと多官能モノマーとの間だけではなく、配向膜ポリマーと配向膜ポリマーとの間、そして多官能モノマーと配向膜ポリマーとの間も共有結合で強固に結合される。従って、架橋性官能基を配向膜ポリマーに導入することで、光学補償シートの強度を著しく改善することができる。
【０２９６】
配向膜ポリマーの架橋性官能基は、多官能モノマーと同様に、重合性基を含むことが好ましい。具体的には、例えば特開２０００−１５５２１６号公報段落番号［００８０］〜［０１００］記載のもの等が挙げられる。
【０２９７】
配向膜ポリマーは、上記の架橋性官能基とは別に、架橋剤を用いて架橋させることもできる。架橋剤としては、アルデヒド、Ｎ−メチロール化合物、ジオキサン誘導体、カルボキシル基を活性化することにより作用する化合物、活性ビニル化合物、活性ハロゲン化合物、イソオキサゾール及びジアルデヒド澱粉が含まれる。二種類以上の架橋剤を併用してもよい。具体的には、例えば特開２００２−６２４２６号公報段落番号［００２３］〜［００２４］記載の化合物等が挙げられる。反応活性の高いアルデヒド、特にグルタルアルデヒドが好ましい。
【０２９８】
架橋剤の添加量は、ポリマーに対して０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１５質量％がさらに好ましい。配向膜に残存する未反応の架橋剤の量は、１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。このように調節することで、配向膜を液晶表示装置に長期使用、又は高温高湿の雰囲気下に長期間放置しても、レチキュレーション発生のない充分な耐久性が得られる。
【０２９９】
配向膜は、基本的に、配向膜形成材料である上記ポリマー、架橋剤を含む透明フィルム上に塗布した後、加熱乾燥（架橋させ）し、ラビング処理することにより形成することができる。架橋反応は、前記のように、透明フィルム上に塗布した後、任意の時期に行ってよい。
【０３００】
ポリビニルアルコールのような、水溶性ポリマーを配向膜形成材料として用いる場合には、塗布液は消泡作用のある有機溶媒（例えば、メタノール）と水の混合溶媒とすることが好ましい。その比率は、質量比で水：メタノールが０：１００〜９９：１が好ましく、０：１００〜９１：９であることがさらに好ましい。これにより、泡の発生が抑えられ、配向膜、更には光学異方層の層表面の欠陥が著しく減少する。
【０３０１】
配向膜の塗布方法は、ワイヤーバーコーティング法、スピンコーティング法、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、ロッドコーティング法、スロットダイコーティング法、又はロールコーティング法等、公知の方法で実施できる。また、乾燥後の配向膜の膜厚は０．１〜１０μｍが好ましい。加熱乾燥は、２０℃〜１１０℃で行うことができる。充分な架橋を形成するためには６０℃〜１００℃が好ましく、特に８０℃〜１００℃が好ましい。乾燥時間は１分〜３６時間で行うことができるが、好ましくは１分〜３０分である。ｐＨも、使用する架橋剤に最適な値に設定することが好ましく、グルタルアルデヒドを使用した場合は、ｐＨ４．５〜５．５で、特に５が好ましい。
【０３０２】
配向膜は、透明フィルム上又は透明フィルム上に必要に応じて設けられた下塗層上に設けられる。配向膜は、上記のようにポリマー層を架橋したのち、表面をラビング処理することにより得ることができる。
【０３０３】
前記のラビング処理は、液晶表示装置（ＬＣＤ）の液晶配向処理工程として、広く採用されている処理方法を適用することができる。すなわち、配向膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、レーヨン、ゴム又はナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより、配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さ及び太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。
【０３０４】
次に、配向膜を機能させて、配向膜の上に設けられる光学異方性層２の液晶分子を配向
させる。その後、必要に応じて、配向膜ポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを反応させるか、又は、架橋剤を用いて配向膜ポリマーを架橋させる。
【０３０５】
＜偏光板＞
偏光板は通常、偏光膜の両側に保護フィルムを有する。偏光板の保護フィルムとしては、公知のいずれの保護フィルムも用いることができるがセルロースアシレートフィルムを用いることが好ましい。該セルロースアシレートフィルムとしては、本発明において透明フィルム１として用いられるセルロースアシレートフィルムも好適に用いることが出来る。
本発明の光学補償シートは、偏光板と貼り合せるか、偏光板の偏光膜を保護する保護フィルムとして使用することで、その機能を著しく発揮することができる。
【０３０６】
＜偏光膜＞
本発明に用いられる偏光膜は、Ｏｐｔｉｖａ社製のものに代表される塗布型偏光膜、又は皮膜形成ポリマーと、ヨウ素又は二色性色素からなる偏光膜が好ましい。
【０３０７】
偏光膜におけるヨウ素及び二色性色素は、ポリマー皮膜中で配向することで偏向性能を発現する。ヨウ素及び二色性色素は、ポリマー分子に沿って配向するか、又は二色性色素が、液晶のような自己組織化により一方向に配向することが好ましい。
【０３０８】
汎用の偏光膜は、例えば、延伸したポリマーを、浴槽中のヨウ素又は二色性色素の溶液に浸漬し、ポリマー皮膜中にヨウ素又は二色性色素を浸透させることで作製することができる。
【０３０９】
汎用の偏光膜は、ポリマー表面から４μｍ程度（両側合わせて８μｍ程度）にヨウ素又は二色性色素が分布しており、十分な偏光性能を得るためには、少なくとも１０μｍの厚みを有することが望ましい。浸透度は、ヨウ素又は二色性色素の溶液濃度、同浴槽の温度、同浸漬時間により制御することができる。
【０３１０】
上記のように、ポリマー皮膜の厚みの下限は、１０μｍであることが好ましい。一方、厚みの上限については、特に限定はしないが、偏光板を液晶表示装置に使用した場合に発生する光漏れ現象の観点からは、薄ければ薄い程よい。現在、汎用の偏光板（約３０μｍ）以下であることが好ましく、２５μｍ以下が好ましく、２０μｍ以下がさらに好ましい。２０μｍ以下であると、１７インチの液晶表示装置では、光漏れ現象が観察されなくなる。
【０３１１】
偏光膜のポリマーは架橋していてもよい。架橋しているポリマーは、それ自体架橋可能なポリマーを用いることで達成できる。官能基を有するポリマー又はポリマーに官能基を導入して得られる架橋性ポリマーを、光、熱又はｐＨ変化により、ポリマー間で反応させて偏光膜を形成することができる。
【０３１２】
また、架橋剤によりポリマーに架橋構造を導入してもよい。反応活性の高い化合物である架橋剤を用いて、ポリマー間に架橋剤に由来する結合基を導入して、ポリマー間を架橋することにより形成することができる。
【０３１３】
架橋は、一般に、ポリマー又はポリマーと架橋剤の混合物を含む塗布液を、透明支持体上に塗布したのち、加熱を行うことにより実施される。最終商品の段階で耐久性が確保できればよいため、架橋させる処理は、最終の偏光板を得るまでのいずれの段階で行なってもよい。
【０３１４】
偏光膜を形成するポリマーは、それ自体架橋可能なポリマー又は架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができる。ポリマーの例には、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリスチレン、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリビニルトルエン、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、塩素化ポリオレフィン（例えば、ポリ塩化ビニル）、ポリエステル、ポリイミド、ポリ酢酸ビニル、ポリエチレン、カルボキシメチルセルロース、ポリプロピレン、ポリカーボネート及びそれらのコポリマー（例えば、アクリル酸／メタクリル酸重合体、スチレン／マレインイミド重合体、スチレン／ビニルトルエン重合体、酢酸ビニル／塩化ビニル重合体、エチレン／酢酸ビニル重合体）が含まれる。水溶性ポリマー｛例えば、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコール｝が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールがさらに好ましく、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。
【０３１５】
ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールのケン化度は、７０〜１００％が好ましく、８０〜１００％がさらに好ましく、９５〜１００％が最も好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜５０００が好ましい。
【０３１６】
変性ポリビニルアルコールは、ポリビニルアルコールに対して、共重合変性、連鎖移動変性又はブロック重合変性により変性基を導入して得られる。
【０３１７】
共重合変性では、変性基として、−ＣＯＯＮａ、−Ｓｉ（ＯＨ）₃、Ｎ（ＣＨ₃）₃・Ｃｌ、Ｃ₉Ｈ₁₉ＣＯＯ−、−ＳＯ₃Ｎａ、−Ｃ₁₂Ｈ₂₅を導入することができる。連鎖移動変性では、変性基として、−ＣＯＯＮａ、−ＳＨ、−ＳＣ₁₂Ｈ₂₅を導入することができる。
【０３１８】
変性ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜３０００が好ましい。変性ポリビニルアルコールについては、特開平８−３３８９１３号、同９−１５２５０９号及び同９−３１６１２７号の各公報に記載がある。
【０３１９】
ケン化度が８５〜９５％の未変性ポリビニルアルコール及びアルキルチオ変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。
【０３２０】
ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールは、２種以上を併用してもよい。
【０３２１】
ポリマーの架橋剤は、多く添加すると、偏光膜の耐湿熱性を向上させることができるが、ヨウ素又は二色性色素の配向性を良好に保つためには、ポリマーに対して架橋剤を５０質量％より少なく添加することが好ましい。架橋剤の添加量は、ポリマーに対して、０．１〜２０質量％がより好ましく、０．５〜１５質量％がさらに好ましい。
【０３２２】
ポリマー皮膜は、架橋反応が終了した後でも、反応しなかった架橋剤をある程度含んでいる。ただし、残存する架橋剤の量は、ポリマー中に１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。バインダー層中の架橋剤の量が該上限値以下であれば、耐久性に問題が生じることがないので好ましい。すなわち、架橋剤の残留量を少なくすることによって、偏光膜を液晶表示装置に組み込み、長期使用、又は高温高湿の雰囲気下に長期間放置した場合に、偏光度の低下などの不具合を防止することができる。
【０３２３】
架橋剤については、米国再発行特許２３２９７号明細書に記載がある。また、ホウ素化合物（例えば、ホウ酸、硼砂）も、架橋剤として用いることができる。
【０３２４】
二色性色素としては、アゾ系色素、スチルベン系色素、ピラゾロン系色素、トリフェニルメタン系色素、キノリン系色素、オキサジン系色素、チアジン系色素又はアントラキノン系色素が用いられる。二色性色素は、水溶性であることが好ましい。二色性色素は、親水性置換基（例えば、スルホ、アミノ、ヒドロキシル）を有することが好ましい。
【０３２５】
二色性色素の例には、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・イエロー１２、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・オレンジ３９、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・オレンジ７２、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・レッド３９、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・レッド７９、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・レッド８１、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・レッド８３、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・レッド８９、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・バイオレット４８、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・ブルー６７、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・ブルー９０、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・グリーン５９、Ｃ．Ｉ．アシッド・レッド３７が含まれる。二色性色素については、特開平１−１６１２０２号、同１−１７２９０６号、同１−１７２９０７号、同１−１８３６０２号、同１−２４８１０５号、同１−２６５２０５号、同７−２６１０２４号の各公報に記載がある。
【０３２６】
二色性色素は、遊離酸、又はアルカリ金属塩、アンモニウム塩又はアミン塩として用いられる。２種類以上の二色性色素を配合することにより、各種の色相を有する偏光膜を製造することができる。偏光軸を直交させた時に黒色を呈する化合物（色素）を用いた偏光膜、又は黒色を呈するように各種の二色性分子を配合した偏光膜又は偏光板が、単板透過率及び偏光率とも優れており好ましい。
【０３２７】
本発明においては、偏光膜と透明フィルム１を、接着剤を介して配置することも可能性である。接着剤は、ポリビニルアルコール系樹脂（アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基による変性ポリビニルアルコールを含む）やホウ素化合物水溶液を用いることができる。その中でもポリビニルアルコール系樹脂が好ましい。接着剤層の厚みは、乾燥後に０．０１〜１０μｍの範囲にあることが好ましく、０．０５〜５μｍの範囲にあることが特に好ましい。
【０３２８】
〔偏光膜の製造〕
偏光膜は、歩留まりの観点から、ポリマーフィルムを偏光膜の長手方向（ＭＤ方向）に対して、１０〜８０゜傾斜して延伸するか（延伸法）、又はラビングした（ラビング法）後に、ヨウ素、二色性染料で染色することが好ましい。傾斜角度は、液晶表示装置（ＬＣＤ）を構成する液晶セルの両側に貼り合わされる、２枚の偏光板の透過軸と液晶セルの縦又は横方向のなす角度に合わせるように延伸することが好ましい。
【０３２９】
通常の傾斜角度は４５゜である。しかし、最近は、透過型、反射型及び半透過型ＬＣＤにおいて必ずしも４５゜でない装置が開発されており、延伸方向はＬＣＤの設計にあわせて任意に調整できることが好ましい。
【０３３０】
延伸法の場合、延伸倍率は２．５〜３０．０倍が好ましく、３．０〜１０．０倍がさらに好ましい。延伸は、空気中でのドライ延伸で実施できる。また、水に浸漬した状態でのウェット延伸を実施してもよい。ドライ延伸の延伸倍率は、２．５〜５．０倍が好ましく、ウェット延伸の延伸倍率は、３．０〜１０．０倍が好ましい。
【０３３１】
延伸工程は、斜め延伸を含め数回に分けて行ってもよい。数回に分けることによって、高倍率延伸でもより均一に延伸することができる。斜め延伸前に、横又は縦に若干の延伸（幅方向の収縮を防止する程度）を行ってもよい。
【０３３２】
延伸は、二軸延伸におけるテンター延伸を、左右異なる工程で行うことによって実施で
きる。該二軸延伸は、通常のフィルム製膜において行われている延伸方法と同様である。二軸延伸では、左右異なる速度によって延伸されるため、延伸前のポリマーフィルムの厚みが、左右で異なるようにする必要がある。流延製膜では、ダイにテーパーを付けることにより、ポリマー溶液の流量に左右の差をつけることができる。
以上のように、偏光膜のＭＤ方向に対して１０〜８０゜斜め延伸されたバインダーフィルムが製造される。
【０３３３】
ラビング法では、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されているラビング処理方法を応用することができる。すなわち、膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、レーヨン、ゴム又はナイロン、ポリエステル繊維を用いて一定方向に擦ることにより配向を得る。一般には、長さ及び太さが均一な繊維を平均的に植毛した布を用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。ロール自身の真円度、円筒度、振れ（偏芯）がいずれも３０μｍ以下であるラビングロールを用いて実施することが好ましい。ラビングロールへのフィルムのラップ角度は、０．１〜９０゜が好ましい。ただし、特開平８−１６０４３０号公報に記載されているように、３６０゜以上巻き付けることで、安定なラビング処理を得ることもできる。
【０３３４】
長尺フィルムをラビング処理する場合は、フィルムを搬送装置により一定張力の状態で１〜１００ｍ／分の速度で搬送することが好ましい。ラビングロールは、任意のラビング角度設定のためフィルム進行方向に対し水平方向に回転自在とされることが好ましい。０〜６０゜の範囲で適切なラビング角度を選択することが好ましい。
【０３３５】
〔偏光板の性能〕
液晶表示装置のコントラスト比を高めるためには、偏光板の透過率は高い方が好ましく、偏光度も高い方が好ましい。偏光板の透過率は、波長５５０ｎｍの光において、３０〜５０％の範囲にあることが好ましく、３５〜５０％の範囲にあることがさらに好ましく、４０〜５０％の範囲にある（偏光板の単板透過率の最大値は５０％である）ことが最も好ましい。偏光度は、波長５５０ｎｍの光において、９０〜１００％の範囲にあることが好ましく、９５〜１００％の範囲にあることがさらに好ましく、９９〜１００％の範囲にあることが最も好ましい。
【０３３６】
〔光学補償シート、偏光板を構成する各層の積層順、積層角度〕
本発明の光学補償シートは、偏光膜と液晶セルの間に、偏光膜側から透明フィルム１、光学異方性層１、透明フィルム２、液晶性化合物からなる光学異方性層２の順番で積層されることが必要である。偏光膜と光学異方性層１とは、偏光膜の吸収軸と光学異方性層１の遅相軸とが、実質的に直交するようにして積層される。また、偏光板にするときは、偏光板の片側の保護フィルムを該光学補償シートが兼ねるようにすることが好ましい。
上記各層の間には、配向膜や粘着層、さらなる光学異方性層等、必要に応じて適宜追加することができる。
【０３３７】
〔ハードコートフィルム、防眩フィルム、反射防止フィルム〕
本発明の光学補償シート及び偏光板、並びに次ぎに記す液晶表示装置の表面にはハードコート層、防眩層、反射防止層の何れか、又は全てを付与することができる。このような防眩フィルム、反射防止フィルムとしての望ましい実施態様は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）の５４頁〜５７頁に詳細に記載されている。
【０３３８】
＜液晶表示装置＞
〔ＴＮ型液晶表示装置〕
本発明の光学補償シートを、ＴＮモードの液晶セルを有するＴＮ型液晶表示装置に用い
てもよい。ＴＮモードの液晶セルとＴＮ型液晶表示装置については、古くからよく知られている。ＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開平３−９３２５号、特開平６−１４８４２９号、特開平８−５０２０６号、特開平９−２６５７２号の各公報に記載がある。また、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文（Ｊｐｎ． Ｊ． Ａｐｐｌ． Ｐｈｙｓ． Ｖｏｌ．３６（１９９７）ｐ．１４３や、Ｊｐｎ． Ｊ． Ａｐｐｌ． Ｐｈｙｓ． Ｖｏｌ．３６（１９９７）ｐ．１０６８）に記載がある。
【実施例】
【０３３９】
以下に本発明を、実施例を挙げて一層詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０３４０】
実施例１
＜光学補償シートの作製＞
〔透明フィルム１の作製〕
［セルロースアシレートフィルム（ＣＡ−１）の作製］
｛ドープ（Ｄ−１）の調製｝
｛セルロースアセテート原液（ＣＡＬ−１）の調製｝
先ず下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアセテート原液（ＣＡＬ−１）を調製した。
【０３４１】
｛セルロースアセテート原液（ＣＡＬ−１）組成｝
セルロースアセテート（酢化度２．８６） １００．０質量部
メチレンクロリド（第１溶媒） ４０２．０質量部
メタノール（第２溶媒） ６０．０質量部
【０３４２】
（マット剤溶液の調製）
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子“ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２”｛日本アエロジル（株）製｝を２０質量部及びメタノール８０質量部を、３０分間よく攪拌混合してシリカ粒子分散液とした。この分散液を下記の組成物とともに分散機に投入し、さらに３０分以上攪拌して各成分を溶解し、マット剤溶液を調製した。
【０３４３】
（マット剤溶液組成）
シリカ粒子（平均粒径１６ｎｍ）の分散液 １０．０質量部
メチレンクロリド（第１溶媒） ７６．３質量部
メタノール（第２溶媒） ３．４質量部
セルロースアセテート原液（ＣＡＬ−１） １０．３質量部
【０３４４】
（添加剤溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
【０３４５】
（添加剤溶液組成）
光学異方性を低下する化合物（１１９） ４９．３質量部
波長分散調整剤（ＵＶ−１０２） ７．６質量部
メチレンクロリド（第１溶媒） ５８．４質量部
メタノール（第２溶媒） ８．７質量部
セルロースアセテート原液（ＣＡＬ−１） １２．８質量部
【０３４６】
｛セルロースアシレートフィルム（ＣＡ−１）の作製｝
上記セルロースアセテート原液（ＣＡＬ−１）９４．６質量部、マット剤溶液１．３質
量部及び添加剤溶液４．１質量部のそれぞれを濾過後に混合して、ドープ（Ｄ−１）を調製した。次いで得られたドープ（Ｄ−１）を、バンド流延機を用いて流延した。上記組成で光学異方性を低下する化合物及び波長分散調整剤の、セルロースアセテートに対する質量比は、それぞれ１２質量％、１．８質量％であった。残留溶媒量３０質量％となった時点でフィルムをバンドから剥離し、１４０℃で４０分間乾燥させ、セルロースアシレートフィルム（ＣＡ−１）を製造した。出来上がったセルロースアシレートフィルム（ＣＡ−１）の残留溶媒量は０．２質量％であり、膜厚は８０μｍであった。また該フィルム（ＣＡ−１）のＲｅ₆₃₀は０．３ｎｍ、Ｒｔｈ₆₃₀は３．２ｎｍであり、｜Ｒｅ₄₀₀−Ｒｅ₇₀₀｜は１．２ｎｍ、｜Ｒｔｈ₄₀₀−Ｒｔｈ₇₀₀｜は６．８ｎｍであった。
また、波長６３０ｎｍにおけるＲｔｈ_λ0は３４ｎｍであり、数式（３）の値は、−２．５７であった。
【０３４７】
〔光学異方性層１の形成〕
［セルロースアシレートフィルムの鹸化処理］
上記のセルロースアシレートフィルム（ＣＡ−１）を、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、下記の組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて１４ｍＬ／ｍ²塗布し、１１０℃に加熱したスチーム式遠赤外線ヒーター｛（株）ノリタケカンパニー製｝の下に１０秒間滞留させた後、同じくバーコーターを用いて純水を３ｍＬ／ｍ²塗布した。このときのフィルム温度は４０℃であった。次いでファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返して後に、７０℃の乾燥ゾーンに２秒滞留させて乾燥した。
【０３４８】
（アルカリ溶液組成）
水酸化カリウム ４．７質量部
水 １５．７質量部
イソプロパノール ６４．８質量部
プロピレングリコール １４．９質量部
界面活性剤 １．０質量部
Ｃ₁₆Ｈ₃₃Ｏ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₁₀Ｈ
【０３４９】
［配向膜の形成］
下記構造のアクリル酸コポリマー及びトリエチルアミン（中和剤）を、メタノール／水の混合溶媒（質量比＝３０／７０）に溶解して、４質量％溶液を調製した。表面をケン化したロール状のセルロースアシレートフィルム（ＣＡ−１）を搬送しながら、この上に上記溶液を、バーコーターを用いて連続的に塗布し、次いで１２０℃で５分間加熱して、乾燥し、厚さ１μｍの塗布層を形成した。次ぎに塗布層を設けたロール状セルロースアセテートフィルムを搬送しながら、長手方向（搬送方向）に連続的に塗布層の表面をラビング処理して、配向膜を形成した。
【０３５０】
【化３１】

【０３５１】
［光学異方性層１の形成］
上記配向膜の上に、以下の組成の塗布液を、バーコーターを用いて連続的に塗布した。塗布層を１００℃で１分間加熱して、棒状液晶分子を配向させた後、紫外線を照射して棒状液晶分子を重合させ、配向状態を固定し、セルロースアシレートフィルム（ＣＡ−１）上に、光学異方性層１が形成されている光学補償シート１を作製した。光学異方性層１のみの光学特性を算出したところ、Ｒｅは１４０ｎｍ、Ｒｔｈは７０ｎｍ、棒状液晶分子の長軸の層平面に対する平均傾斜角は０°であり、フィルム平面に対して平行に配向していた。また、棒状液晶分子は、長軸方向がロール状セルロースアシレートフィルム（ＣＡ−１）の長手方向と直交するように配向していた（すなわち、光学異方性層１の遅相軸方向
はロール状セルロースアシレートフィルム（ＣＡ−１）の長手方向と直交していた）。
【０３５２】
（光学異方性層１の塗布液組成）
界面活性剤 １．０質量部
下記構造の棒状液晶性化合物 ３８．４質量部
増感剤 ０．３８質量部
「カヤキュアーＤＥＴＸ」日本化薬（株）製
光重合開始剤 １．１５質量部
「イルガキュア９０７」チバガイギー社製
下記構造の空気界面水平配向剤 ０．０６質量部
メチルエチルケトン ６０．０質量部
【０３５３】
【化３２】

【０３５４】
【化３３】

【０３５５】
〔透明フィルム２の作製〕
［セルロースアシレートフィルム（ＣＡ−２）の作製］
｛内層用ドープ（Ｄ−２）及び外層用ドープ（Ｄ−３）の調製｝
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、３０℃に加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、内層用ドープ（Ｄ−２）及び外層用ドープ（Ｄ−３）を調製した。
【０３５６】
｛内層用ドープ（Ｄ−２）及び外層用ドープ（Ｄ−３）組成（質量部）｝
Ｄ−２ Ｄ−３
セルロースアセテート（酢化度６０．９％） １００ １００
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．８ ７．８
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ３．９ ３．９
メチレンクロリド（第１溶媒） ２９３ ３１４
メタノール（第２溶媒） ７１ ７６
１−ブタノール（第３溶媒） １．５ １．６
シリカ微粒子 ０ ０．８
“ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２”日本アエロジル（株）製
下記レターデーション上昇剤 １．５ ０
【０３５７】
【化３４】

【０３５８】
｛セルロースアシレートフィルム（ＣＡ−２）の作製｝
得られた内層用ドープ及び外層用ドープを、三層共流延ダイを用いて、０℃に冷却したドラム上に流延した。残留溶媒量が７０質量％のフィルムをドラムから剥ぎ取り、両端をピンテンターにて固定し、搬送方向のドロー比を１１０％として搬送しながら８０℃で乾燥させ、残留溶媒量が１０質量％となったところで、１１０℃で乾燥させた。その後、１４０℃の温度で３０分乾燥し、残留溶媒が０．３質量％のセルロースアシレートフィルム（ＣＡ−２）（外層：３μｍ、内層：７４μｍ、外層：３μｍ）を作製した。得られたセルロースアシレートフィルム（ＣＡ−２）の幅は１３４０ｍｍであり、厚さは８０μｍであった。また該セルロースアシレートフィルム（ＣＡ−２）のＲｅ₆₃₀は８ｎｍ（流延方向に遅相軸）であり、Ｒｔｈ₆₃₀は８０ｎｍであった。
【０３５９】
〔光学異方性層２の形成〕
［配向膜の形成］
セルロースアシレート（ＣＡ−２）に対し前記セルロースアシレート（ＣＡ−１）と同
様の鹸化処理を行い、その後さらに、下記の組成の塗布液を＃１６のワイヤーバーコーターで２８ｍＬ／ｍ²塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。次に、形成した膜に、セルロースアシレートフィルム（ＣＡ−２）の流延方向と平行な方向に配向するようにラビング処理を実施した｛すなわち、ラビング軸はセルロースアシレートフィルム（ＣＡ−２）の流延方向と平行であった｝。
【０３６０】
（配向膜塗布液組成）
下記構造の変性ポリビニルアルコール ２０質量部
水 ３６０質量部
メタノール １２０質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤） １．０質量部
【０３６１】
【化３５】

【０３６２】
［光学異方性層２の形成］
配向膜上に、下記塗布液を、＃４のワイヤーバーを９３２回転でフィルムの搬送方向と同じ方向に回転させて、２４ｍ／分で搬送されている上記ロールフィルムの配向膜面に連続的に塗布した。室温から１００℃に連続的に加温する工程で、溶媒を乾燥させ、その後、１３５℃の乾燥ゾーンで、ディスコティック液晶性化合物層にあたる膜面風速が、フィルム搬送方向に平行に１．５ｍ／ｓｅｃとなるようにし、約９０秒間加熱し、ディスコティック液晶性化合物を配向させた。次に、８０℃の乾燥ゾーンに搬送させて、フィルムの表面温度が約１００℃の状態で、紫外線照射装置（紫外線ランプ：出力１６０Ｗ／ｃｍ、発光長１．６ｍ）により、照度６００ｍＷの紫外線を４秒間照射し、架橋反応を進行させ、ディスコティック液晶性化合物をその配向に固定した。その後、室温まで放冷し、円筒状に巻き取ってロール状の形態にした。以上により、三層構造のセルロースアシレートフィルム（ＣＡ−２）上に、光学異方性層２が形成されている光学補償シート２を作製した。
【０３６３】
（光学異方性層２の塗布液組成）
下記の組成物を、１０７質量部のメチルエチルケトンに溶解して塗布液を調製した。
下記構造のディスコティック液晶性化合物（１） ４１．０１質量部
エチレンオキシド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
“Ｖ＃３６０”大阪有機化学（株）製 ４．０６質量部
セルロースアセテートブチレート ０．９質量部
“ＣＡＢ５５１−０．２”イーストマンケミカル社製
セルロースアセテートブチレート ０．２１質量部
“ＣＡＢ５３１−１”イーストマンケミカル社製
フルオロ脂肪族基含有ポリマー ０．１４質量部
「メガファックＦ７８０」大日本インキ（株）製
光重合開始剤 １．３５質量部
「イルガキュア９０７」チバガイギー社製
増感剤 ０．４５質量部
「カヤキュアーＤＥＴＸ」日本化薬（株）製
【０３６４】
【化３６】

【０３６５】
光学異方性層２のディスコティック液晶性化合物は、支持体から距離が増すにつれて、その円盤面と支持体面のなす角度が増加するようにハイブリッド配向していた。
【０３６６】
〔光学補償シート（Ｃ−１）の作製〕
前記光学補償シート１を、５５℃の１．５モル／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬した後、水で十分に水酸化ナトリウムを洗い流した。その後、３５℃の０．００５モル／Ｌ希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。また光学補償シート２についても、同様に鹸化処理を行った。
【０３６７】
このように鹸化処理を行った光学補償シート１の光学異方性層１側と、同じく鹸化処理を行った光学補償シート２のセルロースアシレートフィルム（ＣＡ−２）側を合わせるようにして、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合せ、光学補償シート（Ｃ−１）を作製した。得られた光学補償シートの構成を表１に示す。
【０３６８】
比較例１
実施例１において、光学補償シート１を用いる代わりに、セルロースアシレートフィルム（ＣＡ−１）上に、光学異方性層１を形成しない以外は光学補償シート１の作製と同様にして作製した光学補償シートＲ１を用い、以下実施例１と同様にして光学補償シート（ＲＣ−１）を作製した。得られた光学補償シートの構成を表１に示す。
【０３６９】
比較例２
実施例１において、セルロースアシレートフィルム（ＣＡ−１）を用いる代わりに、セルロースアシレートフィルム（ＣＡ−２）を用いる以外は光学補償シート１の作製と同様にして作製した光学補償シートＲ２を用い、以下実施例１と同様にして、光学補償シート（ＲＣ−２）を作製した。得られた光学補償シートの構成を表１に示す。
【０３７０】
【表１】

【０３７１】
実施例１１
＜偏光板（Ｐ−１）の作製＞
〔偏光膜の作製〕
厚さ８０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを、ヨウ素濃度０．０５質量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒浸漬して染色し、次いでホウ酸濃度４質量％濃度のホウ酸水溶液中に６０秒浸漬している間に元の長さの５倍に縦延伸した後、５０℃で４分間乾燥させて、厚さ２０μｍの偏光膜を得た。
【０３７２】
〔偏光板（Ｐ−１）の作製〕
前記のように鹸化処理を行った光学補償シート（Ｃ−１）を、同様に鹸化処理を行った市販のセルロースアシレートフィルムと組合せて、光学補償シート（Ｃ−１）の鹸化処理面と該市販のセルロースアシレートフィルムの鹸化処理面とを上記の偏光膜に向け、該偏光膜を挟むようにして、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合せ偏光板（Ｐ−１）を得た。ここで市販のセルロースアシレートフィルムとしては「フジタックＴＦ８０ＵＬ」｛富士写真フイルム（株）製｝を用いた。このとき、偏光膜並びに、偏光膜両側の保護フィルムである光学補償シート（Ｃ−１）及び「フジタックＴＦ８０ＵＬ」は、いずれもロール形態で作製されているため、各ロールフィルムの長手方向が平行となっており、連続的に貼り合わせることができる。従って光学補償シートロール長手方向（セルロースアシレートフィルムの流延方向）と偏光子吸収軸とは平行な方向となる。
【０３７３】
比較例１１
実施例１１において、光学補償シート（Ｃ−１）を用いる代わりに、光学補償シート（ＲＣ−１）を用いる以外は実施例１１と同様にして、偏光板（ＲＰ−１）を作製した。
【０３７４】
比較例１２
実施例１１において、光学補償シート（Ｃ−１）を用いる代わりに、光学補償シート（ＲＣ−２）を用いる以外は実施例１１と同様にして、偏光板（ＲＰ−２）を作製した。
【０３７５】
比較例１３
実施例１１において、光学補償シート（Ｃ−１）を用いる代わりに、光学補償シート２を用いる以外は実施例１１と同様にして、偏光板（ＲＰ−３）を作製した。得られた偏光板の構成を表２に示す。
【０３７６】
［ＴＮ液晶セルでの評価］
ＴＮ型液晶セルを使用した液晶表示装置“Ｓｙｎｃｍａｓｔｅｒ１７２Ｘ”｛三星電子（株）製｝に設けられている一対の偏光板を剥がし、代わりに上記で作製した各偏光板（Ｐ−１）、（ＲＰ−１）〜（ＲＰ−４）を、光学補償シートが液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側及びバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸と、バックライト側の偏光板の透過軸とは、Ｏモードとなるように配置した。
【０３７７】
作製した液晶表示装置について、測定機“ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄ”（ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ０）と白表示（Ｌ７）で全方位視野角の輝度を測定した。上下左右で、コントラスト比（白透過率／黒透過率）が１０以上の領域を視野角として求めた。測定結果を、使用した偏光板の構成と共に表２に示す。
【０３７８】
【表２】

【０３７９】
上記表２の結果から分かるように、本発明の構成により、コントラスト視野角特性が良好な液晶表示装置を提供することができる。
【０３８０】
実施例２−１〜２−３
実施例１において、透明フィルム１として、膜厚８０μｍのセルロースアシレートフィルム（ＣＡ−１）を用いる代わりに、セルロースアシレートフィルム（ＣＡ−１）と同様にドープ（Ｄ−１）を用いて、膜厚が５０、６０又は１００μｍとなるように調整してセルロースアシレートフィルム（ＣＡ−３）〜（ＣＡ−５）を作製し、以下実施例１と同様にして光学補償シート（Ｃ−２１）〜（Ｃ−２３）を作製した。
【０３８１】
以下に、実施例１および実施例２で得られた光学補償シートの構成を表３に示す。
【０３８２】
【表３】

【０３８３】
実施例１２−１〜１２−３
実施例１１において、光学補償シート（Ｃ−１）を用いる代わりに、実施例２−１〜２−３で作製した光学補償シート（Ｃ−２１）〜（Ｃ−２３）を用いる以外は実施例１１と同様にして偏光板（Ｐ−２１）〜（Ｐ−２３）を作製し、これらの偏光板を実施例１１と同様に液晶表示装置に貼って性能評価を行ったところ、これらの視野角表示特性も実施例１１と同様に良好であることが確認された。
【０３８４】
実施例３
実施例１において、光学異方性層２の塗布液組成を下記のように変更した以外は実施例１と同様にして、光学補償シート（Ｃ−３）を作製した。
【０３８５】
実施例１３
光学補償シート（Ｃ−１）を用いる代わりに、この光学補償シート（Ｃ−３）を用いる以外は実施例１１と同様にして偏光板（Ｐ−３）を作製し、これを実施例１１と同様に液晶表示装置に貼って性能評価を行ったところ、その視野角表示特性も実施例１１
と同様に良好であることが確認された。
【０３８６】
（光学異方性層２の塗布液組成）
下記の組成物を、メチルエチルケトン１０７質量部に溶解して塗布液を調製した。
セルロースアセテートブチレート ０．２１質量部
前記構造のディスコティック液晶性化合物（１） ４１．０１質量部
エチレンオキシド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
“Ｖ＃３６０”大阪有機化学（株）製 ４．０６質量部
セルロースアセテートブチレート ０．３４質量部
“ＣＡＢ５５１−０．２”イーストマンケミカル社製
セルロースアセテートブチレート ０．１１質量部
“ＣＡＢ５３１−１”イーストマンケミカル社製
下記構造フルオロ脂肪族基含有ポリマー１ ０．０３質量部
下記構造フルオロ脂肪族基含有ポリマー２ ０．２３質量部
光重合開始剤 １．３５質量部
「イルガキュア９０７」チバガイギー社製
増感剤 ０．４５質量部
「カヤキュアーＤＥＴＸ」日本化薬（株）製
【０３８７】
【化３７】

【０３８８】
【化３８】

【０３８９】
実施例４〜５
実施例１又は３において、光学異方性層２の塗布手段をスロットダイコーティング法にし、４０ｍ／分で搬送して塗布した以外は実施例１又は３と同様にして光学補償シート（Ｃ−４）及び（Ｃ−５）を作製した。
【０３９０】
実施例１４〜１５
光学補償シート（Ｃ−１）又は（Ｃ−３）を用いる代わりに、これらの光学補償シート（Ｃ−４）又は（Ｃ−５）を用いる以外は実施例１１と同様にして偏光板（Ｐ−４）及び（Ｐ−５）を作製し、これを実施例１１と同様に液晶表示装置に貼って性能評価を行ったところ、その視野角表示特性も実施例１１と同様に良好であることが確認された。
【産業上の利用可能性】
【０３９１】
光学異方性が小さく、Ｒｅ、Ｒｔｈの波長分散が小さい透明フィルム１に光学異方性層１を積層し、さらにその上に、透明フィルム２上に液晶性化合物層２を積層した光学補償シートを、ＴＮモード液晶表示装置に適用することで、ＴＮモード液晶表示装置の視野角コントラストを著しく改善できた。すなわち表示特性の改善された画像表示装置の分野に応用することができる。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＴＮ（ツイストネマチック）配向モードの液晶セル、及び液晶セルの両側に配置された一対の偏光板からなる液晶表示装置であって、
少なくとも一方の偏光板の偏光膜と液晶セルとの間に、光学補償シートが配置され、該光学補償シートが
（１）下記数式（１）及び（２）を満たす透明フィルム１、
（２）偏光膜の吸収軸と実質的に直交する遅相軸を有する光学異方性層１、
（３）透明フィルム２、
（４）塗布により形成される液晶性化合物からなる光学異方性層２、
の少なくとも４層を有することを特徴とする液晶表示装置。
数式（１）：０≦Ｒｅ₆₃₀≦１０で且つ｜Ｒｔｈ₆₃₀｜≦２５
数式（２）：｜Ｒｅ₄₀₀−Ｒｅ₇₀₀｜≦１０で且つ｜Ｒｔｈ₄₀₀−Ｒｔｈ₇₀₀｜≦３５
［式中、Ｒｅ_λは波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ_λは波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。］
【請求項２】
透明フィルム１がセルロースアシレートフィルムである請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
透明フィルム２の正面レターデーション値（Ｒｅ_λ）及び／又は膜厚方向レターデーション値（Ｒｔｈ_λ）が、透明フィルム１の正面レターデーション値（Ｒｅ_λ）及び／又は膜厚方向レターデーション値（Ｒｔｈ_λ）とは異なる請求項１又は２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
光学異方性層１が液晶性化合物を含有する請求項１〜３のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項５】
光学異方性層２の液晶性化合物がディスコティック液晶性化合物である請求項１〜４のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項６】
透明フィルム１が、フィルム膜厚方向のレターデーション値（Ｒｔｈ_λ）を低下させる化合物を少なくとも１種、下記数式（３）、（４）を満たす範囲で含有する請求項１〜５のいずれかに記載の液晶表示装置。
数式（３）：（Ｒｔｈ_λA−Ｒｔｈ_λ0）／Ａ≦−１．０
数式（４）：０．０１≦Ａ≦３０
ここで、
Ｒｔｈ_λA：Ｒｔｈ_λを低下させる化合物をＡ質量％含有したフィルムのＲｔｈ_λ（ｎｍ）、
Ｒｔｈ_λ0：Ｒｔｈ_λを低下させる化合物を含有しないフィルムのＲｔｈ_λ（ｎｍ）、
Ａ：フィルム原料ポリマーの質量を１００としたときのＲｔｈ_λを低下させる化合物の質量（％）、
である。
【請求項７】
セルロースアシレートフィルムが、アシル置換度２.８５〜３．００のセルロースアシレートを含有して形成されたフィルムであり、且つ該セルロースアシレートフィルムが、Ｒｅ_λ及びＲｔｈ_λを低下させる化合物を少なくとも１種、該セルロースアシレートの固形分に対して０．０１〜３０質量％含む請求項２〜６のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項８】
セルロースアシレートフィルムが、｜Ｒｅ₄₀₀−Ｒｅ₇₀₀｜及び｜Ｒｔｈ₄₀₀−Ｒｔｈ₇₀₀｜を低下させる化合物少なくとも１種を、セルロースアシレートの固形分に対して０．０
１〜３０質量％含む請求項２〜７のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項９】
透明フィルム１及び透明フィルム２の少なくともいずれかの膜厚が１０〜１２０μｍである請求項１〜８のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
偏光膜に隣接して設けられる光学補償シートであって、
（１）下記数式（１）及び（２）を満たす透明フィルム１、
（２）偏光膜の吸収軸と実質的に直交する遅相軸を有する光学異方性層１、
（３）透明フィルム２、
（４）塗布により形成される液晶性化合物からなる光学異方性層２、
の少なくとも４層を有する光学補償シート。
数式（１）：０≦Ｒｅ₆₃₀≦１０で且つ｜Ｒｔｈ₆₃₀｜≦２５
数式（２）：｜Ｒｅ₄₀₀−Ｒｅ₇₀₀｜≦１０で且つ｜Ｒｔｈ₄₀₀−Ｒｔｈ₇₀₀｜≦３５
［式中、Ｒｅ_λは波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ_λは波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。］
【請求項１１】
請求項１０記載の光学補償シートを、偏光膜の少なくとも一方の面の保護フィルムとして有することを特徴とする偏光板。

【公開番号】特開２００６−１９５３６３（Ｐ２００６−１９５３６３Ａ）
【公開日】平成１８年７月２７日（２００６．７．２７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−９２４７（Ｐ２００５−９２４７）
【出願日】平成１７年１月１７日（２００５．１．１７）
【出願人】（０００００５２０１）富士写真フイルム株式会社 (7,609)
【Ｆターム（参考）】