表示パネル及び表示装置とこれを備える機器
【課題】
高性能な反射防止膜を有する表示パネルを低コストに実現すること。
【解決手段】
第１の透明基板と第２の透明基板と、これら２つの透明基板の間に液晶層を有する液晶表示パネル、もしくは発光素子を有する有機発光ダイオード表示パネルにおいて、少なくともその表示領域であって、なおかつ観察者側の面（表面）となる部分に反射防止膜を有し、さらに少なくとも表示領域の表面とは逆の面と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備える。
高性能な反射防止膜を有する表示パネルを低コストに実現すること。
【解決手段】
第１の透明基板と第２の透明基板と、これら２つの透明基板の間に液晶層を有する液晶表示パネル、もしくは発光素子を有する有機発光ダイオード表示パネルにおいて、少なくともその表示領域であって、なおかつ観察者側の面（表面）となる部分に反射防止膜を有し、さらに少なくとも表示領域の表面とは逆の面と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備える。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止膜を備える液晶表示パネル、及び該液晶表示パネルとバックライト装置とを組み合わせた液晶表示装置、あるいは、反射防止膜を備える有機エレクトロルミネッセンス表示装置などの表示装置とこれを備える機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
携帯電話やＰＤＡ（パーソナルディジタルアシスタント）などの携帯機器では、薄型軽量な表示装置が求められており、このような表示装置とし液晶表示装置や有機発光ダイオード表示装置（以下、ＯＬＥＤ表示装置と呼ぶ）が採用されている。尚、液晶表示装置は一般に光の透過率や反射率を制御することで画像を形成する液晶表示パネルと光源としてのバックライト装置、もしくはフロントライト装置と組み合わせることで表示装置を実現する。また、ＯＬＥＤ表示装置はＯＬＥＤ表示パネル自身が画像光を放射するため特に光源と組み合わせなくとも表示装置が実現できる。
【０００３】
表示装置を明るい環境の下で観察する場合、画面の表面で外光が反射して画像が見づらくなることがある。そこで、画面の表面に反射防止膜を設けて外光の反射を抑制することが行われる。
【０００４】
反射防止膜としては多層膜，単層膜どちらも利用されている。多層構造による反射防止膜は蒸着，スパッタリング，イオンプレーティング等の成膜方法により高屈折率層と低屈折率層を交互に積層することで反射防止性能に優れた膜を実現できる反面、製造コストが高くなる。
【０００５】
一方、工程数が少なく塗布成膜が可能な単層による反射防止膜は低コスト化に有利であるため、その反射防止性能の向上が望まれている。
【０００６】
単層膜の場合、外界の屈折率をｎ0、表示装置表面の屈折率をｎ1、反射防止膜の屈折率をｎ2とすると、反射率Ｒ′は、次式で表される。
【０００７】
Ｒ′＝{(ｎ22−ｎ0×ｎ1)／(ｎ22＋ｎ0×ｎ1)}2 …（１）
外界は通常空気であり、その屈折率ｎ0は凡そ１.０であるため、反射率Ｒ′は
Ｒ′＝{(ｎ22−ｎ1)／(ｎ22＋ｎ1)}2 …（２）
となり、ｎ2＝√ｎ1のとき反射率は理論的に０％になる。
【０００８】
通常、表示装置の表面は屈折率が１.５ 程度なので反射防止膜の屈折率としては約1.22が好適となる。しかしながら、現状、屈折率が低いといわれるフッ素系の樹脂は屈折率が約１.３４ 程度であり、単層で十分な反射防止を得ることは極めて困難である。
【０００９】
近年、単層膜で屈折率をより低くする方法が提案されており、その１つに下記特許文献１に記載の薄膜がある。この薄膜は内部に空洞のある微粒子（中空微粒子）と、この中空微粒子を保持するバインダーを有した薄膜である。この薄膜の内部の空洞は、実質的に空気と同じ屈折率（屈折率１.０ ）であるため、その中空微粒子の材質や中空微粒子を保持するバインダーの屈折率が大きくても、膜としてみれば結果的に空気に近い屈折率となる。即ち、この膜を基板に形成することで反射率を低減できるというものである。
【００１０】
また、別の方法で、単層膜で屈折率をより低くする方法の１つに、下記特許文献２に記載の低屈折率膜がある。これは、空気に近い側に有機超微粒子の表面が露出し、表面に凹凸を生じさせることで、表面の密度を下げ、結果として屈折率の低い膜を形成すると開示されている。
【００１１】
また、別の方法では、下記特許文献３に記載のハニカム構造の細孔を有する低屈折率膜がある。これは、ハニカム状に形成された複数の細孔が、シリカ微粒子を貫通するようにかつ互いに平行に形成されることにより、シリカ微粒子自体の強度を低下させること無く、最大の空隙率を得ることができる。これによって、機械的強度に優れた低屈折率膜を形成することができると開示されている。
【００１２】
【特許文献１】特開２００３−２０１４４３号公報
【特許文献２】特開平７−９２３０５号公報
【特許文献３】特開２００４−８３３０７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
上記特許文献１に記載の薄膜は、低い屈折率を実用しようとする場合、空孔率を高くする必要があるため膜の機械的強度は低くなる。
【００１４】
また、上記特許文献２や特許文献３に記載の膜では、架橋や重合によって膜の機械的強度は高いと考えられるが、膜表面の凹凸に汚れが入り込むこと除去が困難であり、屈折が高くなってしまう可能性がある。さらにこれらの構造では、単層膜による反射防止膜として理想的な屈折率の値（一般によく利用される基材が１.５程度であり、この場合は約
１.２２程度）を実現することが困難である。
【００１５】
また、これら従来技術は、板状或いはフィルム状の基材に膜を塗布することを前提としており、表示パネルに直接反射防止膜を塗布することは考慮されていなかった。
【００１６】
本発明はこのような従来技術の課題を解決するためになされたものであり、その目的は高い反射防止性能を有する膜を直接表示パネルに形成することでより低コストな表示装置やこれを備える機器を実現することにある。また、この膜により反射防止機能以外の機能を付加することでより高いコストパフォーマンスの表示装置を実現することにある。
【００１７】
本発明のその他の課題と新規な特徴については本明細書の記述及び添付図面を参照して明らかにする。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
本発明は上記目的を達成するため、例えば以下の手段を採用する。
【００１９】
第１の透明基板と第２の透明基板と、これら透明基板の間に液晶層を有する液晶表示パネルであって、この液晶表示パネルは少なくともその表示領域であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜を有し、さらに少なくとも表示領域に相当する部分のおもて面とは逆の面（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備える。
【００２０】
あるいは、マトリクス状に配置した複数の画素を構成する発光素子を有する基板と、封止手段とを有する有機発光ダイオード表示パネル(以下、ＯＬＥＤ表示パネルとも称する)であって、このＯＬＥＤ表示パネルは少なくともその表示領域であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜を有し、さらに少なくとも表示領域に相当する部分のおもて面とは逆の面（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備える。
【００２１】
また、反射防止膜を構成する膜として、膜表面の抵抗が１０11Ω未満となる膜を採用する。
【００２２】
さらに、この表示パネルは、画像信号などの電気的信号の外部との接続を所定の一方向から行う構造とし、その方向の端面以外であって、なおかつ、おもて面以外の面にも反射防止膜と同じ材料の膜を有する構成とする。
【００２３】
また、第１の透明基板と第２の透明基板と、これら透明基板の間に液晶層を有する液晶表示パネルにおいて、第２の透明基板は第１の透明基板よりも面積が大きく、第２の透明基板と第１の透明基板が重なる領域に表示領域を有するものであり、第２の透明基板の第１の透明基板側の面上であって、第１の透明基板に覆われない領域の少なくとも一部には、第１の透明基板の第２の透明基板とは逆側の面においてその高さが略同じとなる平坦化膜を備え、さらにこの液晶表示パネルは少なくともその表示領域及び平坦化膜の少なくとも一部であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜を有し、さらに少なくとも表示領域に相当する部分のおもて面とは逆の面（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備える。
【００２４】
尚、本明細書における面積の大小は、特に説明がない場合には観察者が表示パネルの画面を正面から観察した場合の観察者の方向における投影面積の大小のことである。
【００２５】
あるいは、第１の透明基板と第２の透明基板と、これら透明基板の間に液晶層を有する液晶表示パネルであって、第１の透明基板には第２の透明基板とは反対側の面に少なくとも一つの偏光層を含む第１の光学フィルムを備え、第２の透明基板には第１の透明基板とは反対側の面に少なくとも一つの偏光層を含む第２の光学フィルムを備え、第２の透明基板は第１の透明基板よりも面積が大きく、第２の透明基板と第１の透明基板が重なる領域に表示領域を有するものであり、第２の透明基板の第１の透明基板側の面上であって、第１の透明基板に覆われない領域の少なくとも一部には、第１の光学フィルムの第１の透明基板側とは反対側の面においてその高さが略同じとなる第１の平坦化膜を備え、第２の透明基板の第１の透明基板とは逆側の面上であって、第１の透明基板に覆われない領域の少なくとも一部には、第２の光学フィルムの第２の透明基板側とは反対側の面においてその高さが略同じとなる第２の平坦化膜を備え、さらにこの液晶表示パネルは少なくともその表示領域及び第１または第２の平坦化膜の少なくとも一部であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜を有し、さらに少なくとも表示領域に相当する部分のおもて面とは逆の面（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備える。
【００２６】
或いは、マトリクス状に配置した複数の画素を構成する発光素子を有する基板と、封止手段とを有するＯＬＥＤ表示パネルにおいて、発光素子を有する基板は封止手段よりも面積が大きく、発光素子を有する基板と封止手段が重なる領域に表示領域を有するものであり、発光素子を有する基板の封止手段側の面上であって、封止手段に覆われない領域の少なくとも一部には、封止手段の発光素子を有する基板とは逆側の面においてその高さが略同じとなる平坦化膜を備え、さらにこのＯＬＥＤ表示パネルは少なくともその表示領域及び平坦化膜の少なくとも一部であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜を有し、さらに少なくとも表示領域に相当する部分のおもて面とは逆の面（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備える。
【００２７】
或いはマトリクス状に配置した複数の画素を構成する発光素子を有する基板と、封止手段とを有するＯＬＥＤ表示パネルにおいて、画像光は発光素子を有する基板側から取り出すものであり、さらに発光素子を有する基板の封止手段とは反対の面には少なくとも一つの偏光層を含む光学フィルムを備え、発光素子を有する基板の封止手段とは逆側の面上であって、なおかつ光学フィルムに覆われない領域の少なくとも一部には、光学フィルムの発光素子を有する基板とは反対側の面において、その高さが略同じとなる平坦化膜を備え、さらにこのＯＬＥＤ表示パネルは少なくともその表示領域及び平坦化膜の少なくとも一部であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜を有し、さらに少なくとも表示領域に相当する部分のおもて面とは逆の面（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備える。
【００２８】
また、液晶表示パネルの場合であれば、第２の透明基板にマトリクス状に配置した複数の画素を構成する電極を備え、さらに画像信号などの電気的信号を外部と接続する領域を有し、この電気的信号の外部との接続を所定の一方向から行う構造とし、平坦化膜を設ける領域は電気的信号を外部と接続する領域と兼用する。
【００２９】
或いはＯＬＥＤ表示パネルの場合であれば、発光素子を有する基板に画像信号などの電気的信号を外部と接続する領域を有し、この電気的信号の外部との接続を所定の一方向から行う構造とし、平坦化膜を設ける領域は電気的信号を外部と接続する領域と兼用する。
【００３０】
また、第１の透明基板と第２の透明基板と、これら透明基板の間に液晶層を有する液晶表示パネルであって、第１の透明基板には第２の透明基板とは反対側の面に少なくとも一つの偏光層を含む第１の光学フィルムを備え、第２の透明基板には第１の透明基板とは反対側の面に少なくとも一つの偏光層を含む第２の光学フィルムを備え、第２の透明基板は第１の透明基板よりも面積が大きく、第２の透明基板と第１の透明基板が重なる領域に表示領域を有するものであり、第１の光学フィルム及び第２の光学フィルムは第１の透明基板よりもその面積が大きく、さらに第２の透明基板の第１の透明基板に覆われない領域の少なくとも一部を覆うものであり、さらにこの液晶表示パネルは第１または第２の光学フィルム上であって、少なくともその表示領域及び第２の透明基板の第１の透明基板に覆われない領域の少なくとも一部であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜を有し、さらに少なくとも表示領域に相当する部分のおもて面とは逆の面（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備える。
【００３１】
或いは、マトリクス状に配置した複数の画素を構成する発光素子を有する基板と、封止手段とを有するＯＬＥＤ表示パネルにおいて、発光素子を有する基板と封止手段のうち、画像光を取り出す側の最表面に少なくとも一つの偏光層を含む光学フィルムを備え、発光素子を有する基板は封止手段よりも面積が大きく、これらが重なる領域に表示領域を有するものであり、光学フィルムは封止手段よりも面積が大きく、さらに発光素子を有する基板の封止手段に覆われない領域の少なくとも一部を覆うものであり、さらにこのＯＬＥＤ表示パネルは光学フィルム上であって、少なくともその表示領域及び発光素子を有する基板の封止手段に覆われない領域の少なくとも一部であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜を有し、さらに少なくとも表示領域に相当する部分のおもて面とは逆の面（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備える。
【００３２】
また、液晶表示パネルの場合であれば、第２の透明基板にマトリクス状に配置した複数の画素を構成する電極を備え、さらに画像信号などの電気的信号を外部と接続する領域を有し、この電気的信号の外部との接続を所定の一方向から行う構造とし、光学フィルムの面積を拡大した領域と電気的信号を外部と接続する領域を重ね合わす。
【００３３】
或いはＯＬＥＤ表示パネルの場合であれば、発光素子を有する基板に画像信号などの電気的信号を外部と接続する領域を有し、この電気的信号の外部との接続を所定の一方向から行う構造とし、光学フィルムの面積を拡大した領域と電気的信号を外部と接続する領域と重ね合わせる。
【００３４】
また、本願発明に適用する反射防止膜としては、無機酸化物からなる微粒子と、バインダーと、空隙とを有する反射防止膜であって、膜の一方の表面における算術平均粗さ(Ra)が６ｎｍ未満とする。
【００３５】
また、他の反射防止膜としては、無機酸化物からなる微粒子と、バインダーと、空隙とを有する反射防止膜において、前記バインダーは前記基板の部材と同じ部材を主成分とする。
【００３６】
また、他の反射防止膜としては、無機酸化物からなる微粒子と、バインダーと、空隙とを有する反射防止膜において、前記空隙の密度は、空気と接する膜表面より、膜内部の方が高いものとする。
【００３７】
また、表示パネルと、その前面側に配置する透明な保護板と、前記表示パネル及び前記保護板の間に空気層を有する表示装置を備える機器において、前記保護板は前記表示パネルの表示領域よりも面積が大きく、さらに前記表示装置と前記保護板は独立して筐体に固定されることで、機器に固定する。
【００３８】
上記以外の手段については以下の記述で明らかとする。
【発明の効果】
【００３９】
本発明により、高い反射防止性能を備える表示パネルまたは表示装置を実現できる。また、これらを備える機器が実現できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４０】
以下、本発明の実施形態について、詳細に説明するが、種々の変更は可能であり、また、下記実施形態同士の組み合わせは本発明に包含されるものである。
【００４１】
（液晶表示パネルの実施形態１）
本発明に係る液晶表示パネルの実施の形態について図面を参照して説明する。図１及び図２はそれぞれ本発明に係る液晶表示パネルの１実施例の概略構成を示す斜視図及び断面構造の概略を示す模式図である。
【００４２】
液晶表示パネル１は後述するバックライト装置と組み合わせ、バックライト装置からの光の透過光量を調整することで映像を表示する透過型、或いは半透過反射型の液晶表示パネルである。尚、液晶表示パネルにはパッシブ駆動方式やアクティブ駆動方式があるが、詳細な構成や動作については周知であるのでここではその説明は省略する。
【００４３】
液晶表示パネルは偏光板を備え、液晶層に入射する光の偏光状態を制御することで映像表示を行うものが比較的低い駆動電圧でコントラスト比の高い映像が得られることから望ましい。また、液晶表示パネルとしては例えばＴＮ(Twisted Nematic )方式，ＳＴＮ
（Super Twisted Nematic）方式，ＥＣＢ（Electrical Controlled Birefringence）方式などを用いることができる。また、広視野角を特徴とするＩＰＳ（In Plane Switching）方式，ＶＡ（Vertical Alingned）方式を用いることができる。
【００４４】
あるいは液晶表示パネルとしては上記方式を応用した半透過反射型を用いることができる。
【００４５】
ここでは以下、液晶表示パネルとしてアクティブマトリクス方式を用いる場合の概要を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００４６】
液晶表示パネル１は、平坦かつ透明で光学的に等方なガラス、あるいはプラスチックからなる第１の透明基板２０および第２の透明基板２１とを有する。
【００４７】
第１の透明基板２０には、カラーフィルタや、ポリイミド系高分子からなる配向膜（いずれも不図示）が積層されている。第２の透明基板２１には、マトリクス状に配置した複数の画素を形成する電極，信号電極，走査電極，薄膜トランジスタ等からなるスイッチング素子，配向膜等（いずれも不図示）が形成されている。
【００４８】
２枚の透明基板２０，２１は配向膜形成面を向かい合わせ、図示しないスペーサーにより一定の間隙を設けた状態で枠状のシール材２３で周囲を接着して内部に空間を形成する。この空間に液晶を封入し、封止することで液晶層２２が設けられる。
【００４９】
液晶層２２は２枚の透明基板２０，２１上に形成された配向膜に施される配向処理により、その液晶分子長軸の配向方向が規定される。
【００５０】
第１の透明基板２０の観察者側の面（おもて面）と第２の透明基板２１の観察者側とは反対側の面（うら面）にはそれぞれ第１の光学フィルム３０と第２の光学フィルム３１を備える。
【００５１】
第１の光学フィルム３０と第２の光学フィルム３１はそれぞれ少なくとも一つの偏光層を含むものであり、適用する液晶表示モードに応じて適切な位相差層を含んでもよい。偏光層はこれに入射する光のうち互いに直交する直線偏光成分の一方を透過し、他方を吸収するものである。偏光層としては例えば、ヨウ素や有機染料などの２色性の材料を染色あるいは吸着させたポリビニルアルコールなどからなる基材フィルムを延伸し、２色性の材料を配向させることで吸収２色性を発現したものを用い、その両側をトリアセチルセルロースフィルムなどからなる２枚の透明保護フィルムで挟んだ構造のものを用いることができる。
【００５２】
尚、第２の光学フィルム３１を構成するフィルムとしては偏光層で吸収される直線偏光成分は反射し、これ以外の光は透過する反射型の偏光フィルムを含んでも良い。この場合、偏光層で吸収される光の量が減り、より明るい画像が得られるようになる。
【００５３】
第１の光学フィルム３０と第２の光学フィルム３１はそれぞれ図示しない粘着層を介して、第１の透明基板２０と第２の透明基板２１に固定される。
【００５４】
第２の透明基板は第１の透明基板よりも面積が大きく、第２の透明基板と第１の透明基板が重なる領域内にバックライト装置からの光の透過量を変調することで２次元画像を形成する表示領域を有する。また、第１の光学フィルム３０と第２の光学フィルム３１は共に表示領域以上の面積を有し、表示領域を全て覆うように配置する。この際、第１の光学フィルム３０と第２の光学フィルム３１は第１の透明基板、もしくは第２の透明基板と外形寸法が同じ、またはそれよりやや小さめにすることが液晶表示パネルの外形寸法を無駄に大きくしないこと、及び反射防止膜が表示領域内で均一になるために重要である。
【００５５】
つまり、光学フィルムの端部では反射防止膜の膜厚が均一になりにくいため、光学フィルムは表示領域よりもできるだけ大きいことが望ましいが、液晶表示パネルの外形寸法を無駄に大きくしないためには第１の透明基板、もしくは第２の透明基板の外形寸法と同じもしくはそれより小さくする必要がある。
【００５６】
尚、本明細書における面積とは、特に説明がない場合には観察者が表示パネルの画面を正面から観察した場合における観察者の方向での投影面積のことである。
【００５７】
第２の透明基板２１の第１の透明基板２０側の面上であって、第１の透明基板２０に覆われない領域には画像信号などの電気的信号を外部と接続する領域を有する。つまり、液晶表示パネル１は第２の透明基板２１上であって、第１の透明基板２０が重なっていない領域にフレキシブルプリント回路板（以下、ＦＰＣとも呼ぶ）５０を備え、このＦＰＣ50を介して外部と電気的に接続する。また、この領域には必要に応じてドライバとして機能する半導体チップ４０を実装してもよい。
【００５８】
液晶表示パネル１は少なくとも表示領域を覆う第１の光学フィルムの観察者側の面（おもて面）上に反射防止膜１０を有し、さらに表示領域のおもて面とは逆の面（うら面）、つまり、第２の光学フィルムが配置された面と、図１中、液晶表示パネル１の２つの側面（左右の端面）と底面（下方向の端面）の３つの端面に反射防止膜と同じ材料の膜を備える。
【００５９】
この場合、液晶表示パネルのおもて面とうら面に同じ材質の膜が形成されるため、反射防止膜と表示パネルを構成する部材とで温度による体積変化の比率が異なっていても、液晶表示パネルのおもて面とうら面で収縮または膨張の方向が同じになるため、表示パネルが反る等の変形が抑制される。
【００６０】
また、液晶表示パネルを構成する基板の端面が膜で覆われ保護されるため、特に液晶表示パネルを薄型化するために薄いガラス基板を採用する場合に基板端面の小さなクラックなどから割れやすくなることを防止する効果が得られる場合がある。
【００６１】
さらに、反射防止膜を構成する膜として、膜表面の抵抗が１０11Ω未満となる膜を採用することで、液晶表示パネルの表示領域のみならず、端部や端面への埃の付着を抑制することができる。尚、本発明に好適な反射防止膜については後に詳述する。
【００６２】
ここで、液晶表示パネルは電気的信号の外部との接続を所定の一方向から行う構造とすることが重要である。つまり、本実施の形態の通り、液晶表示パネル１に接続するＦＰＣ５０は観察者が表示領域を正面から観察した際、矩形である液晶表示パネルの一つの辺に相当する部分に接続する。
【００６３】
この場合、液晶表示パネルをＦＰＣ５０が接続される領域、つまり、第２の透明基板において、第１の透明基板と重ならない部分で直接あるいは適切なじ具を介して固定し、ディップコート法で反射防止膜を塗布すると一回の工程で、液晶表示パネルのおもて面とうら面、及び、３つの端面に反射防止膜と同じ材料の膜を形成することができる。このため塗布材料のロスが少なく、低コストな成膜が可能となる。
【００６４】
図３は上記液晶表示パネルを備える液晶表示装置の断面構造の概略を示す模式図である。液晶表示装置は、液晶表示パネル１と、その背面に配置するバックライト装置２とから構成される。バックライト装置２は液晶表示パネル１の表示領域をその背面側から照明するものである。バックライト装置２としてはエッジライト方式（導光体方式），直下方式（反射板方式），面状光源方式などがある。バックライト装置２はこれらの方式やその他の方式の中から用途や目的，表示領域の大きさに合わせて最適な方式を選べばよい。ここでは、エッジライト方式のバックライトについて説明する。
【００６５】
バックライト装置２は裏面に白色顔料によるドット印刷、或いは微細な凹凸形状やレンズ形状等の光の進行方向を変える手段を形成した透明な樹脂からなる導光板６０と、導光板６０の端面に配置した光源６１と、導光板６０の裏面側に配置した反射板６２と、導光板６０の表面側に配置したプリズムシートや、マイクロレンズアレイ，拡散シートなどの光学部材６３とを有している。
【００６６】
光源６１としては冷陰極管や熱陰極管などの線状光源や発光ダイオード（ＬＥＤ）などの点状光源を使用することができる。ここでは以下、光源６１としてＬＥＤを使用する場合を説明するが本発明はこれに限定されるものではない。
【００６７】
光源６１としてＬＥＤを用いる場合は、光源からの光を導光板６０に効率よく入射させるため、図示しない反射体を設けたり、発光部の周囲に形成するモールド樹脂の形状を工夫すると良い。
【００６８】
この構成において、光源６１から出射し、導光板６０に入射する光は全反射しながら導光板６０内を伝播する。導光板６０内を伝播する光のうち導光体裏面に施された、光の進行方向を変える手段に至った光は、その進行方向が変わり、導光板６０の表面側から出射する。導光板６０から出射する光は、プリズムシートや、マイクロレンズアレイ，拡散シートなどの光学部材により出射角度の分布や、面内での輝度分布が調整された後、液晶表示パネル１に照射される。
【００６９】
液晶表示パネル１はバックライト装置２からの光の透過光量を画像データに応じて調整することで映像を形成する。
【００７０】
この場合、反射防止膜１０は液晶表示パネルの両面に形成されているため、外光の反射低減による明環境下での視認性の向上のほか、液晶表示パネルの透過率向上により、より明るい映像が実現できる。また、反射防止膜１０として、膜表面の抵抗が１０11Ω未満となる膜を採用することで、液晶表示パネルのおもて面だけでなく、側面や裏面への異物の付着が減り、バックライト装置と液晶表示パネルとの間に混入する異物による不良が低減できる。
【００７１】
（ＯＬＥＤ表示パネルの実施形態１）
次に本発明に係るＯＬＥＤ表示パネルの実施の形態について図面を参照して説明する。図４は本発明に係るＯＬＥＤ表示パネルの１実施例の概略構成を示す斜視図であり、図５及び図６はそれぞれ本発明に係るＯＬＥＤ表示パネルの１実施例の断面構造の概略を示す模式図である。
【００７２】
ＯＬＥＤ表示パネル３は液晶表示パネルと異なり、自ら発光する素子を備えるためバックライト装置などの補助光源を必要とすることなく画像を表示することができるものである。また、ＯＬＥＤ表示パネルとしては、薄膜トランジスタ（以下、ＴＦＴとも称する）などのスイッチング素子を備えるアクティブマトリクス駆動型と、有機発光ダイオード素子を構成する電極をそれぞれ走査線とデータ線に直結して駆動する単純マトリクス駆動型が考えられる。
【００７３】
ここでは以下、アクティブマトリクス駆動型のＯＬＥＤ表示パネルについて説明するが本発明はこれに限定されるものではない。
【００７４】
ＯＬＥＤ表示パネル３はマトリクス状に配置した複数の画素を構成する有機発光ダイオード素子からなる発光素子を有する基板１２１と、少なくとも可視光に対して透明な封止手段１２０と、封止手段１２０のおもて面に配置する光学フィルム１３０と、を有し、少なくともその表示領域であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜を有し、さらに少なくとも表示領域のおもて面とは逆の面（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備える。
【００７５】
尚、ＯＬＥＤ表示パネル３は有機発光ダイオード素子が形成された基板１２１とは反対方向から光を取り出す、所謂トップエミッション型のＯＬＥＤ表示パネルである。トップエミッション型の場合には図５に例示する通り、封止手段１２０として可視光に対して透明でガスバリア性を有する透明な封止板を用い、表示領域の周囲に枠状に塗布した接着性のあるシール剤により基板１２１と密閉封止する。透明な封止板としてはガラス板や、ガスバリヤー処理を施した樹脂フィルム，薄いガラス板と樹脂フィルムを積層したものなどを用いることができる。
【００７６】
この場合、封止手段１２０と基板１２１との空隙１２２は封止手段１２０との屈折率差が小さくなるように屈折率１.４〜２.０程度の透明体で満たすことが望ましい。これは空隙１２２と封止手段１２０との界面での反射を小さくするためである。
【００７７】
このように透明な封止板を封止手段として用いる代わりに、図６に例示する通り、ガスバリア性のある無機の透明材料を積層形成する、あるいは無機の透明材料と有機の透明材料を交互に繰り返し積層することでガスバリア性を持たせた膜を積層形成することで封止してもよい。
【００７８】
画素を構成する発光素子としては有機発光ダイオード素子が用いられる。有機発光ダイオード素子としは陽極として機能する電極と、陰極として機能する電極と、これらの電極間に陽極側からホール輸送層，発光層，電子輸送層を順次積層した三層構造の素子が知られているが本発明はこれに限定されるものではない。
【００７９】
また、発光素子を有する基板１２１としてはガラスやプラスチックなどの絶縁性の基板、あるいはインバ−など熱膨張率をガラスに近づけた金属基板の表面に絶縁膜を施した基板を用いることができる。表示領域は基板１２１のほぼ中央の部分に設けられ、その周辺には図示しないデータ駆動回路や走査駆動回路が設置され、これらの駆動回路はＮチャネル型とＰチャネル型のＴＦＴ（Thin Film Transistor）による相補型回路から構成されるシフトレジスタ回路，レベルシフタ回路，アナログスイッチ回路などから構成される。
【００８０】
アクティブマトリクス駆動型ＯＬＥＤ表示パネルの典型的な画素駆動回路はスイッチトランジスタとドライバトランジスタの２つのＴＦＴと蓄積容量で構成され、この画素駆動回路により有機発光ダイオード素子の発光が制御されるものである。
【００８１】
尚、ＯＬＥＤ表示パネルの詳細な構成や動作については周知であるのでここではその説明は省略する。
【００８２】
光学フィルム１３０は外光の反射を抑制するために必要に応じて配置するもので、少なくとも一つの偏光層を含み、１／４波長板として機能する位相差層と組み合わせることで円偏光板として機能するものである。偏光層はこれに入射する光のうち互いに直交する直線偏光成分の一方を透過し、他方を吸収するものである。偏光層としては例えば、ヨウ素や有機染料などの２色性の材料を染色あるいは吸着させたポリビニルアルコールなどからなる基材フィルムを延伸し、２色性の材料を配向させることで吸収２色性を発現したものを用い、その両側をトリアセチルセルロースフィルムなどからなる２枚の透明保護フィルムで挟んだ構造のものを用いることができる。また、位相差層はシクロオレフィンポリマーやポリカーボネートなどの透明な高分子フィルムを用いることができる。
【００８３】
光学フィルム１３０は表示領域以上の面積を有し、図示しない粘着層を介して表示領域を全て覆うように封止手段１２０に固定される。
【００８４】
この際、光学フィルム１３０は封止手段１２０、もしくは発光素子を有する基板と外形寸法が同じ、またはそれよりやや小さめにすることがＯＬＥＤ表示パネルの外形寸法を無駄に大きくしないこと、及び反射防止膜が表示領域内で均一になるために重要である。
【００８５】
つまり、光学フィルムの端部では反射防止膜の膜厚が均一になりにくいため、光学フィルムは表示領域よりもできるだけ大きいことが望ましいが、ＯＬＥＤ表示パネルの外形寸法を無駄に大きくしないためには封止手段、もしくは発光素子を有する基板の外形寸法と同じもしくはそれより小さくする必要がある。
【００８６】
発光素子を有する基板１２１のおもて面上であって、封止手段１２０に覆われない領域には画像信号などの電気的信号を外部と接続する領域を有し、この領域にフレキシブルプリント回路板（以下、ＦＰＣとも呼ぶ）１５０を備え、このＦＰＣ１５０を介して外部と電気的に接続する。また、この領域には必要に応じてドライバとして機能する半導体チップ１４０を実装してもよい。
【００８７】
ＯＬＥＤ表示パネル３は少なくとも表示領域を覆う光学フィルム１３０の観察者側の面（おもて面）上に反射防止膜１００を有し、さらに基板１２１のうら面と、図４中、OLED表示パネル３の２つの側面（左右の端面）と底面（下方向の端面）の３つの端面に反射防止膜と同じ材料の膜を備える。
【００８８】
この場合、ＯＬＥＤ表示パネルのおもて面とうら面に同じ材質の膜が形成されるため、反射防止膜と表示パネルを構成する部材とで温度による体積変化の比率が異なっていても、ＯＬＥＤ表示パネルのおもて面とうら面で収縮または膨張の方向が同じになるため、表示パネルが反る等の変形が抑制される。
【００８９】
また、ＯＬＥＤ表示パネルを構成する基板の端面が膜で覆われ保護されるため、特に
ＯＬＥＤ表示パネルを薄型化するために薄いガラス基板を採用する場合に基板端面の小さなクラックなどから割れやすくなることを防止する効果が得られる場合がある。
【００９０】
さらに、反射防止膜を構成する膜として、膜表面の抵抗が１０11Ω未満となる膜を採用することで、ＯＬＥＤ表示パネルの表示領域のみならず、端部や端面への埃の付着を抑制することができる。尚、本発明に好適な反射防止膜については後に詳述する。
【００９１】
ここで、ＯＬＥＤ表示パネルは電気的信号の外部との接続を所定の一方向から行う構造とすることが重要である。つまり、本実施の形態の通り、ＯＬＥＤ表示パネル３に接続するＦＰＣ１５０は観察者が表示領域を正面から観察した際、矩形であるＯＬＥＤ表示パネルの一つの辺に相当する部分に接続する。
【００９２】
この場合、ＯＬＥＤ表示パネルをＦＰＣ１５０が接続される領域、つまり、発光素子を有する基板１２１において、封止手段１２０と重ならない部分で直接あるいは適切な治具を介して固定し、ディップコート法で反射防止膜を塗布すると一回の工程で、ＯＬＥＤ表示パネルのおもて面とうら面、及び、３つの端面に反射防止膜と同じ材料の膜を形成することができる。このため塗布材料のロスが少なく、低コストな成膜が可能となる。
【００９３】
（ＯＬＥＤ表示パネルの実施形態２）
次に本発明に係るＯＬＥＤ表示パネルの他の実施の形態について図面を参照して説明する。図７は本発明に係るＯＬＥＤ表示パネルの１実施例の概略構成を示す斜視図であり、図８及び図９はそれぞれ本発明に係るＯＬＥＤ表示パネルの１実施例の断面構造の概略を示す模式図である。
【００９４】
ＯＬＥＤ表示パネル４は発光素子を有する基板側から光を取り出す、所謂ボトムエミッション型のＯＬＥＤ表示パネルであり、上記実施の形態（ＯＬＥＤ表示パネルの実施形態１）に記載のＯＬＥＤ表示パネルと同様な部分については詳細な説明は省略する。
【００９５】
ＯＬＥＤ表示パネル４はマトリクス状に配置した複数の画素を構成する有機発光ダイオード素子からなる発光素子を有する透明な基板１２３と、封止手段１２４と、発光素子を有する基板１２３のおもて面に配置する光学フィルム１３１と、を有し、少なくともその表示領域であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜を有し、さらに少なくとも表示領域のおもて面とは逆の面（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備える。
【００９６】
ボトムエミッション型の場合には封止手段１２４として透明な封止板を用いる必要はない。このため、図８に例示する通り、封止手段１２４としてより安価なステンレスなどの金属製の封止管を用い表示領域の周囲に枠状に塗布した接着性のあるシール剤により透明な基板１２３と密閉封止する。この場合、封止手段１２４と透明な基板１２３との空隙
１２５は窒素などの不活性なガスを封入し、有機発光ダイオード素子の長寿命化のために図示しない吸湿材（デシカント）を設けても良い。
【００９７】
このように封止手段として封止管を用いる代わりに、図９に例示する通り、ガスバリア性のある無機材料を積層形成する、あるいは無機の材料と有機の材料を交互に繰り返し積層することでガスバリア性を持たせた膜を積層形成することで封止してもよい。
【００９８】
光学フィルム１３１は外光の反射を抑制するために必要に応じて配置するもので、少なくとも一つの偏光層を含み、１／４波長板として機能する位相差層と組み合わせることで円偏光板として機能するものである。偏光層はこれに入射する光のうち互いに直交する直線偏光成分の一方を透過し、他方を吸収するものである。偏光層としては例えば、ヨウ素や有機染料などの２色性の材料を染色あるいは吸着させたポリビニルアルコールなどからなる基材フィルムを延伸し、２色性の材料を配向させることで吸収２色性を発現したものを用い、その両側をトリアセチルセルロースフィルムなどからなる２枚の透明保護フィルムで挟んだ構造のものを用いることができる。また、位相差層はシクロオレフィンポリマーやポリカーボネートなどの透明な高分子フィルムを用いることができる。
【００９９】
光学フィルム１３１は表示領域以上の面積を有し、図示しない粘着層を介して表示領域を全て覆うように透明な基板１２３に固定される。
【０１００】
発光素子を有する透明な基板１２３のうら面上であって、封止手段１２０に覆われない領域には画像信号などの電気的信号を外部と接続する領域を有し、この領域にフレキシブルプリント回路板（以下、ＦＰＣとも呼ぶ）１５１を備え、このＦＰＣ１５１を介して外部と電気的に接続する。また、この領域には必要に応じてドライバとして機能する半導体チップ１４１を実装してもよい。
【０１０１】
ＯＬＥＤ表示パネル４は少なくとも表示領域を覆う光学フィルム１３１の観察者側の面（おもて面）上に反射防止膜１００を有し、さらに封止手段１２４のうら面と、図７中、ＯＬＥＤ表示パネル４の２つの側面（左右の端面）と底面（下方向の端面）の３つの端面に反射防止膜と同じ材料の膜を備える。
【０１０２】
この場合、ＯＬＥＤ表示パネルのおもて面とうら面に同じ材質の膜が形成されるため、反射防止膜と表示パネルを構成する部材とで温度による体積変化の比率が異なっていても、ＯＬＥＤ表示パネルのおもて面とうら面で収縮または膨張の方向が同じになるため、表示パネルが反る等の変形が抑制される。
【０１０３】
また、ＯＬＥＤ表示パネルを構成する基板の端面が膜で覆われ保護されるため、特に
ＯＬＥＤ表示パネルを薄型化するために薄いガラス基板を採用する場合に基板端面の小さなクラックなどから割れやすくなることを防止する効果が得られる場合がある。
【０１０４】
さらに、反射防止膜を構成する膜として、膜表面の抵抗が１０11Ω未満となる膜を採用することで、ＯＬＥＤ表示パネルの表示領域のみならず、端部や端面への埃の付着を抑制することができる。尚、本発明に好適な反射防止膜については後に詳述する。
【０１０５】
ここで、ＯＬＥＤ表示パネルは電気的信号の外部との接続を所定の一方向から行う構造とすることが重要である。つまり、本実施の形態の通り、ＯＬＥＤ表示パネル４に接続するＦＰＣ１５１は観察者が表示領域を正面から観察した際、矩形であるＯＬＥＤ表示パネルの一つの辺に相当する部分に接続する。
【０１０６】
この場合、ＯＬＥＤ表示パネルをＦＰＣ１５１が接続される領域、つまり、発光素子を有する透明な基板１２３において、封止手段１２４と重ならない部分で直接あるいは適切な治具を介して固定し、ディップコート法で反射防止膜を塗布すると一回の工程で、OLED表示パネルのおもて面とうら面、及び、３つの端面に反射防止膜と同じ材料の膜を形成することができる。このため塗布材料のロスが少なく、低コストな成膜が可能となる。
【０１０７】
（液晶表示パネルの実施形態２）
次に本発明に係る液晶表示パネルの他の実施の形態について図面を参照して説明する。図１０及び図１１はそれぞれ本発明に係る液晶表示パネルの１実施例の概略構成を示す斜視図及び断面構造の概略を示す模式図である。また、図１２は本発明に係る液晶表示パネルとバックライト装置を組み合わせた表示装置の断面構造の概略を示す模式図である。
【０１０８】
本実施の形態の液晶表示パネルは上記液晶表示パネル（液晶表示パネルの実施形態１）において、第２の透明基板２１の第１の透明基板２０側の面上であって、第１の透明基板２０に覆われない領域の少なくとも一部に、第１の透明基板２０の第２の透明基板２１とは逆側の面においてその高さが略同じとなる平坦化膜７０を備えるものである。さらに、液晶表示パネルは少なくともその表示領域及び平坦化膜７０の少なくとも一部であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜１０を有し、さらに少なくとも表示領域のおもて面とは逆の面（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備えるものであって、上記実施形態と同じ部材には同じ符号を付け詳細な説明は省略する。
【０１０９】
本実施の形態の液晶表示パネルは、第２の透明基板２１のおもて面側であって、第１の透明基板２０が重なっていない領域に新に平坦化膜７０を設けることで液晶表示パネルのおもて面の段差を減らし、平坦な領域を増やすものである。この際、第１の光学フィルム３０の厚みも考慮して、液晶表示パネルのおもて面を平坦化することが望ましい。したがって、平坦化膜７０は第２の透明基板上だけでなく、第１の透明基板２０上や第１の光学フィルム３０上にも形成することで液晶表示パネルのおもて面をより広い領域に渡って平坦化するようにしても良い。
【０１１０】
平坦化膜７０としては有機材料や無機材料を使用することができ、透明であっても不透明であってもよい。ただし、平坦化膜７０を第１の光学フィルム３０のおもて面上にも形成する場合は、可視光に対して透明であることが望ましい。比較的容易に段差をなくすためには有機系の材料を用いることが望ましい。また、反射防止膜を塗布する際の耐性も考慮することが必要である。
【０１１１】
ここで、塗布法により反射防止膜を形成する場合、反射防止膜を形成すべき面に段差があると、その段差に起因して膜厚が均一にならない。このため段差部とその近傍では光学特性が均質な反射防止膜が形成できない。
【０１１２】
しかしながら、本実施の形態の様に液晶表示パネルのおもて面の段差を平坦化膜により減らし、段差部を表示領域から遠ざけることで、少なくとも表示領域では光学特性の均一性の高い反射防止膜が実現できる。
【０１１３】
尚、液晶表示パネルの場合、平坦化膜を設ける領域を液晶表示パネルが電気的信号を外部と接続する領域と兼用することで、特に額縁の大きさを拡大することなく、表示領域において光学特性の均一性の高い反射防止膜が実現できる。
【０１１４】
換言すると、表示領域において光学特性の均一性の高い反射防止膜を有し、なおかつ額縁の小さな表示パネルを実現することができる。
【０１１５】
尚、表示パネルにおいて、電気的信号の外部と接続する領域に平坦化膜を設けることはその部分を保護するという効果もある。つまり、平坦化膜には表示パネルに直接、反射防止膜を塗布する際に電気的な接続箇所を保護するという効果も期待できる。
【０１１６】
（液晶表示パネルの実施形態３）
次に本発明に係る液晶表示パネルのその他の実施の形態について図面を参照して説明する。図１３及び図１４はそれぞれ本発明に係る液晶表示パネルの１実施例の概略構成を示す斜視図及び断面構造の概略を示す模式図である。また、図１５は本発明に係る液晶表示パネルとバックライト装置を組み合わせた表示装置の断面構造の概略を示す模式図である。
【０１１７】
本実施の形態の液晶表示パネルは上記液晶表示パネル（液晶表示パネルの実施形態１）において、第２の透明基板２１の第１の透明基板２０側の面上であって、第１の透明基板２０に覆われない領域の少なくとも一部に、第１の光学フィルム３０の第１の透明基板
２０側とは反対側の面においてその高さが略同じとなる第１の平坦化膜７０を備える。また、第２の透明基板２１の第１の透明基板２０とは逆側の面上であって、第１の透明基板２０に覆われない領域に相当する部分の少なくとも一部には、第２の光学フィルム３１の第２の透明基板２１側とは反対側の面においてその高さが略同じとなる第２の平坦化膜
７１を備え、さらにこの液晶表示パネルは少なくともその表示領域及び第１または第２の平坦化膜の少なくとも一部であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜１０を有し、さらに少なくとも表示領域のおもて面とは逆の面（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備えるもので、上記実施形態と同じ部材には同じ符号を付け詳細な説明は省略する。
【０１１８】
本実施の形態の液晶表示パネルは、第２の透明基板２１のおもて面側であって、第１の透明基板２０が重なっていない領域に新に平坦化膜７０を設けることで液晶表示パネルのおもて面の段差を減らし、平坦な領域を増やすものである。この際、第１の光学フィルム３０の厚みも考慮して、液晶表示パネルのおもて面を平坦化することが望ましい。したがって、平坦化膜７０は第２の透明基板上だけでなく、第１の透明基板２０上や第１の光学フィルム３０上にも形成することで液晶表示パネルのおもて面をより広い領域に渡って平坦化するようにしても良い。
【０１１９】
また、本実施の形態の液晶表示パネルは、第２の透明基板２１のうら面側であって、第１の透明基板２０が重なっていない領域に相当する部分に新に平坦化膜７１を設けることで液晶表示パネルのうら面の段差を減らし、平坦な領域を増やすものである。この際、第２の光学フィルム３１の厚みも考慮して、液晶表示パネルのうら面を平坦化することが望ましい。したがって、平坦化膜７１は第２の透明基板上だけでなく、第２の光学フィルム３１上にも形成することで液晶表示パネルのうら面をより広い領域に渡って平坦化するようにしても良い。
【０１２０】
平坦化膜７０，７１としては有機材料や無機材料を使用することができ、透明であっても不透明であってもよい。ただし、平坦化膜７０，７１を第１の光学フィルム３０のおもて面や第２の光学フィルムのうら面上にも形成する場合は、可視光に対して透明であることが望ましい。比較的容易に段差をなくすためには有機系の材料を用いることが望ましい。また、反射防止膜を塗布する際の耐性も考慮することが必要である。
【０１２１】
ここで、塗布法により反射防止膜を形成する場合、反射防止膜を形成すべき面に段差があると、その段差に起因して膜厚が均一にならない。このため段差部とその近傍では光学特性が均質な反射防止膜が形成できない。
【０１２２】
しかしながら、本実施の形態の様に液晶表示パネルのおもて面とうら面の両面の段差を平坦化膜により減らし、段差部を表示領域から遠ざけることで、少なくとも表示領域では光学特性の均一性の高い反射防止膜が実現できる。
【０１２３】
尚、液晶表示パネルの場合には、第２の透明基板にマトリクス状に配置した複数の画素を構成する電極を備え、さらに画像信号などの電気的信号を外部と接続する領域を有し、この電気的信号の外部との接続を所定の一方向から行う構造とすると、平坦化膜を設ける領域は電気的信号を外部と接続する領域と兼用できるため、特に額縁の大きさを拡大することなく、表示領域において光学特性の均一性の高い反射防止膜が実現できる。
【０１２４】
換言すると、表示領域において光学特性の均一性の高い反射防止膜を有し、なおかつ額縁の小さな表示パネルを実現することができる。
【０１２５】
（ＯＬＥＤ表示パネルの実施形態３）
次に本発明に係るＯＬＥＤ表示パネルの他の実施の形態について図面を参照して説明する。図１６は本発明に係るＯＬＥＤ表示パネルの１実施例の概略構成を示す斜視図であり、図１７及び図１８はそれぞれ本発明に係るＯＬＥＤ表示パネルの１実施例の断面構造の概略を示す模式図である。
【０１２６】
本実施の形態のＯＬＥＤ表示パネルは上記ＯＬＥＤ表示パネル（ＯＬＥＤ表示パネルの実施形態１）において、発光素子を有する基板１２１は封止手段１２０よりも面積が大きく、発光素子を有する基板１２１と封止手段１２０が重なる領域に表示領域を有するものである。また、発光素子を有する基板１２１の封止手段１２０側の面上であって、封止手段１２０に覆われない領域の少なくとも一部には、封止手段１２０の発光素子を有する基板１２１とは逆側の面においてその高さが略同じとなる平坦化膜１７０を備える。さらにこのＯＬＥＤ表示パネルは少なくともその表示領域及び平坦化膜の少なくとも一部であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜１００を有し、さらに少なくとも表示領域のおもて面とは逆の面（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備える。
【０１２７】
従って、上記実施形態と同じ部材には同じ符号を付け詳細な説明は省略する。
【０１２８】
本実施の形態のＯＬＥＤ晶表示パネルは発光素子を有する基板１２１のおもて面側であって、封止手段１２０が重なっていない領域に新に平坦化膜１７０を設けることでOLED表示パネルのおもて面の段差を減らし、平坦な領域を増やすものである。この際、光学フィルム１３０の厚みも考慮して、ＯＬＥＤ表示パネルのおもて面を平坦化することが望ましい。したがって、平坦化膜１７０は発光素子を有する基板１２１上だけでなく、封止手段１２０上や光学フィルム１３０上にも形成することでＯＬＥＤ表示パネルのおもて面をより広い領域に渡って平坦化するようにしても良い。
【０１２９】
平坦化膜１７０としては有機材料や無機材料を使用することができ、透明であっても不透明であってもよい。ただし、平坦化膜１７０を光学フィルム１３０のおもて面上にも形成する場合は、可視光に対して透明であることが望ましい。比較的容易に段差をなくすためには有機系の材料を用いることが望ましい。また、反射防止膜を塗布する際の耐性も考慮することが必要である。
【０１３０】
ここで、塗布法により反射防止膜を形成する場合、反射防止膜を形成すべき面に段差があると、その段差に起因して膜厚が均一にならない。このため段差部とその近傍では光学特性が均質な反射防止膜が形成できない。しかしながら、本実施の形態の様にＯＬＥＤ表示パネルのおもて面の段差を平坦化膜により減らし、段差部を表示領域から遠ざけることで、少なくとも表示領域では光学特性の均一性の高い反射防止膜が実現できる。
【０１３１】
尚、ＯＬＥＤ表示パネルの場合、発光素子を有する基板に画像信号などの電気的信号を外部と接続する領域を有し、この電気的信号の外部との接続を所定の一方向から行う構造とすると、平坦化膜を設ける領域は電気的信号を外部と接続する領域と兼用することで、特に額縁の大きさを拡大することなく、表示領域において光学特性の均一性の高い反射防止膜が実現できる。
【０１３２】
換言すると、表示領域において光学特性の均一性の高い反射防止膜を有し、なおかつ額縁の小さな表示パネルを実現することができる。
【０１３３】
尚、表示パネルにおいて、電気的信号の外部と接続する領域に平坦化膜を設けることはその部分を保護するという効果もある。つまり、平坦化膜には表示パネルに直接、反射防止膜を塗布する際に電気的な接続箇所を保護するという効果も期待できる。
【０１３４】
（ＯＬＥＤ表示パネルの実施形態４）
次に本発明に係るＯＬＥＤ表示パネルのその他の実施の形態について図面を参照して説明する。図１９は本発明に係るＯＬＥＤ表示パネルの１実施例の概略構成を示す斜視図であり、図２０及び図２１はそれぞれ本発明に係るＯＬＥＤ表示パネルの１実施例の断面構造の概略を示す模式図である。
【０１３５】
本実施の形態のＯＬＥＤ表示パネルは上記ＯＬＥＤ表示パネル（ＯＬＥＤ表示パネルの実施形態２）において、画像光は発光素子を有する透明な基板１２３側から取り出すものであり、さらに透明な基板１２３の封止手段１２４とは反対側の面には少なくとも一つの偏光層を含む光学フィルム１３１を備える。また、透明な基板１２３の封止手段１２４とは逆側の面上であって、なおかつ光学フィルム１３１に覆われない領域の少なくとも一部には、光学フィルム１３１の透明な基板１２３とは反対側の面において、その高さが略同じとなる平坦化膜１７１を備える。さらにこのＯＬＥＤ表示パネルは少なくともその表示領域及び平坦化膜１７１の少なくとも一部であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜１００を有し、さらに少なくとも表示領域のおもて面とは逆の面
（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備えるものである。
【０１３６】
従って、上記実施形態と同じ部材には同じ符号を付け詳細な説明は省略する。本実施の形態のＯＬＥＤ表示パネルは発光素子を有する基板１２３のおもて面側であって、光学フィルム１３１が配置されていない領域に新に平坦化膜１７１を設けることでＯＬＥＤ表示パネルのおもて面の段差を減らし、平坦な領域を増やすものである。したがって、平坦化膜１７１は発光素子を有する基板１２３上だけでなく、光学フィルム１３１上にも形成することでＯＬＥＤ表示パネルのおもて面をより広い領域に渡って平坦化するようにしても良い。
【０１３７】
平坦化膜１７１としては有機材料や無機材料を使用することができ、透明であっても不透明であってもよい。ただし、平坦化膜１７１を光学フィルム１３１のおもて面上にも形成する場合は、可視光に対して透明であることが望ましい。比較的容易に段差をなくすためには有機系の材料を用いることが望ましい。また、反射防止膜を塗布する際の耐性も考慮することが必要である。
【０１３８】
ここで、塗布法により反射防止膜を形成する場合、反射防止膜を形成すべき面に段差があると、その段差に起因して膜厚が均一にならない。このため段差部とその近傍では光学特性が均質な反射防止膜が形成できない。しかしながら、本実施の形態の様にＯＬＥＤ表示パネルのおもて面の段差を平坦化膜により減らし、段差部を表示領域から遠ざけることで、少なくとも表示領域では光学特性の均一性の高い反射防止膜が実現できる。
【０１３９】
尚、ＯＬＥＤ表示パネルの場合、発光素子を有する基板に画像信号などの電気的信号を外部と接続する領域を有し、この電気的信号の外部との接続を所定の一方向から行う構造とすると、平坦化膜を設ける領域は電気的信号を外部と接続する領域と兼用することで、特に額縁の大きさを拡大することなく、表示領域において光学特性の均一性の高い反射防止膜が実現できる。
換言すると、表示領域において光学特性の均一性の高い反射防止膜を有し、なおかつ額縁の小さな表示パネルを実現することができる。
【０１４０】
（液晶表示パネルの実施形態４）
次に本発明に係る液晶表示パネルのその他の実施の形態について図面を参照して説明する。図２２及び図２３はそれぞれ本発明に係る液晶表示パネルの１実施例の概略構成を示す斜視図及び断面構造の概略を示す模式図である。また、図２４は本発明に係る液晶表示パネルとバックライト装置を組み合わせた表示装置の断面構造の概略を示す模式図である。
【０１４１】
本実施の形態の液晶表示パネルは上記液晶表示パネル（液晶表示パネルの実施形態１）において、第２の透明基板２１が第１の透明基板２０よりも面積が大きく、第２の透明基板２１と第１の透明基板２０が重なる領域に表示領域を有するものである。また、第１の光学フィルム３２及び第２の光学フィルム３３は第１の透明基板２０よりもその面積が大きく、さらに第２の透明基板２１の第１の透明基板に覆われない領域の少なくとも一部を覆うものである。さらにこの液晶表示パネルは第１または第２の光学フィルム上であって、少なくともその表示領域及び第２の透明基板２１の第１の透明基板２０に覆われない領域の少なくとも一部であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜を有し、さらに少なくとも表示領域のおもて面とは逆の面（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備えるものである。
【０１４２】
従って、上記実施形態と同じ部材には同じ符号を付け詳細な説明は省略する。
【０１４３】
本実施の形態の液晶表示パネルでは、面積を拡大した光学フィルム上に反射防止膜を形成することになる。つまり、液晶表示パネル上の段差の影響を受けることなく、表示領域よりも広い領域に反射防止膜を形成することができるため、少なくとも表示領域では光学特性の均一性の高い反射防止膜が実現できる。換言すると、表示領域において光学特性の均一性の高い反射防止膜を有し、なおかつ額縁の小さな表示パネルを実現することができる。
【０１４４】
尚、液晶表示パネルの場合であれば、光学フィルムの面積を拡大した領域と電気的信号を外部と接続する領域を重ね合わすことができるため、特に表示パネルの額縁の大きさを拡大することなく、表示領域において光学特性の均一性の高い反射防止膜が実現できる。
【０１４５】
また、第１の光学フィルムと第２の光学フィルムの面積は第１の透明基板よりも大きく、第２の透明基板以下とすることが望ましい。第１の光学フィルムと第２の光学フィルムの面積は第１の透明基板よりも大きくするのは液晶表示パネル上の段差の影響を受けることなく、表示領域よりも広い領域に反射防止膜を形成することができるため望ましい。また、第１の光学フィルムと第２の光学フィルムの面積を第２の透明基板以下にすることは液晶表示パネルの外形寸法を無駄に大きくしないためである。
【０１４６】
従って、望ましい光学フィルムの外形は、液晶表示パネルが電気的信号を外部と接続する方向（辺）と直交する方向の長さは第１の透明基板と略一致させ、これと直交する方向の長さは第１の透明基板以上、第２の透明基板以下の長さにすることである。
【０１４７】
尚、本液晶表示パネルの場合、大面積化した第１の光学フィルム３２が第２の透明基板２２上に備えられる構造物、例えばドライバなどの半導体チップ４０に当たりゆがむことがないよう、第１の透明基板２０の厚み以下に薄くする、或いは光学フィルムが接触しない場所、例えばＦＰＣ上に備えるようにする必要がある。
【０１４８】
（ＯＬＥＤ表示パネルの実施形態５）
次に本発明に係るＯＬＥＤ表示パネルのその他の実施の形態について図面を参照して説明する。図２５は本発明に係るＯＬＥＤ表示パネルの１実施例の概略構成を示す斜視図であり、図２６及び図２７はそれぞれ本発明に係るＯＬＥＤ表示パネルの１実施例の断面構造の概略を示す模式図である。
【０１４９】
本実施の形態のＯＬＥＤ表示パネルは上記ＯＬＥＤ表示パネル（ＯＬＥＤ表示パネルの実施形態１）において、発光素子を有する基板１２１は封止手段１２０よりも面積が大きく、これらが重なる領域に表示領域を有するものであり、光学フィルム１３２は封止手段１２０よりも面積が大きく、さらに発光素子を有する基板１２１の封止手段１２０に覆われない領域の少なくとも一部を覆うものである。
【０１５０】
さらにこのＯＬＥＤ表示パネルは光学フィルム１３２上であって、少なくともその表示領域及び発光素子を有する基板１２１の封止手段１２０に覆われない領域の少なくとも一部であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜１００を有し、さらに少なくとも表示領域のおもて面とは逆の面（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備えるものである。
【０１５１】
従って、上記実施形態と同じ部材には同じ符号を付け詳細な説明は省略する。
【０１５２】
本ＯＬＥＤ表示パネルは面積を拡大した光学フィルム上に反射防止膜を形成することになる。つまり、ＯＬＥＤ表示パネル上の段差の影響を受けることなく、表示領域よりも広い領域に反射防止膜を形成することができるため、少なくとも表示領域では光学特性の均一性の高い反射防止膜が実現できる。
【０１５３】
また、ＯＬＥＤ表示パネルの場合、発光素子を有する基板に画像信号などの電気的信号を外部と接続する領域を有し、この電気的信号の外部との接続を所定の一方向から行う構造とすると、光学フィルムの面積を拡大した領域と電気的信号を外部と接続する領域とを重ね合わせられるため、特に表示パネルの額縁の大きさを拡大することなく、表示領域において光学特性の均一性の高い反射防止膜が実現できる。換言すると、表示領域において光学特性の均一性の高い反射防止膜を有し、なおかつ額縁の小さな表示パネルを実現することができる。
【０１５４】
尚、光学フィルムの面積は封止手段以上、発光素子を有する基板以下とすることが望ましい。光学フィルムの面積は封止手段よりも大きくするのはＯＬＥＤ表示パネル上の段差の影響を受けることなく、表示領域よりも広い領域に反射防止膜を形成することができるため望ましい。また、光学フィルムの面積を発光素子を有する基板以下とすることは表示パネルの外形寸法を無駄に大きくしないためである。
【０１５５】
従って、望ましい光学フィルムの外形は、表示パネルが電気的信号を外部と接続する方向（辺）と直交する方向の長さは発光素子を有する基板と略一致させ、これと直交する方向の長さは封止手段以上、発光素子を有する基板以下の長さにすることである。
【０１５６】
（ＯＬＥＤ表示パネルの実施形態６）
次に本発明に係るＯＬＥＤ表示パネルのその他の実施の形態について図面を参照して説明する。図２８は本発明に係るＯＬＥＤ表示パネルの１実施例の概略構成を示す斜視図であり、図２９及び図３０はそれぞれ本発明に係るＯＬＥＤ表示パネルの１実施例の断面構造の概略を示す模式図である。
【０１５７】
本実施の形態のＯＬＥＤ表示パネルは上記ＯＬＥＤ表示パネル（ＯＬＥＤ表示パネルの実施形態２）において、発光素子を有する透明な基板１２３は封止手段１２４よりも面積が大きく、これらが重なる領域に表示領域を有するものであり、光学フィルム１３３は封止手段１２４よりも面積が大きく、さらに発光素子を有する透明な基板１２３の封止手段１２４に覆われない領域に相当する部分の少なくとも一部を覆うものである。
【０１５８】
さらにこのＯＬＥＤ表示パネルは光学フィルム１３３上であって、少なくともその表示領域及び発光素子を有する透明な基板１２３の封止手段１２４に覆われない領域に相当する部分の少なくとも一部であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜１００を有し、さらに少なくとも表示領域のおもて面とは逆の面（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備えるものである。
【０１５９】
従って、上記実施形態と同じ部材には同じ符号を付け詳細な説明は省略する。
【０１６０】
本ＯＬＥＤ表示パネルは面積を拡大した光学フィルム上に反射防止膜を形成することになる。つまり、ＯＬＥＤ表示パネル上の段差の影響を受けることなく、表示領域よりも広い領域に反射防止膜を形成することができるため、少なくとも表示領域では光学特性の均一性の高い反射防止膜が実現できる。
【０１６１】
また、ＯＬＥＤ表示パネルの場合、発光素子を有する基板に画像信号などの電気的信号を外部と接続する領域を有し、この電気的信号の外部との接続を所定の一方向から行う構造とすると、光学フィルムの面積を拡大した領域と電気的信号を外部と接続する領域とを重ね合わせられるため、特に表示パネルの額縁の大きさを拡大することなく、表示領域において光学特性の均一性の高い反射防止膜が実現できる。換言すると、表示領域において光学特性の均一性の高い反射防止膜を有し、なおかつ額縁の小さな表示パネルを実現することができる。
【０１６２】
尚、光学フィルムの面積は発光素子を有する基板と同等かそれより少し小さめとすることが望ましい。光学フィルムの面積は大きければ大きいほど表示領域内でより均一性の高い反射防止膜を実現しやすくなるため望ましい。また、光学フィルムの面積を発光素子を有する基板以下とすることは表示パネルの外形寸法を無駄に大きくしないためである。
【０１６３】
従って、望ましい光学フィルムの外形は、表示パネルが電気的信号を外部と接続する方向（辺）と直交する方向の長さは発光素子を有する基板と略一致させ、これと直交する方向の長さは封止手段以上、発光素子を有する基板以下の長さにすることである。
【０１６４】
（反射防止膜の実施形態）
次に本発明に係る反射防止膜に好適な実施の形態ついて説明する。本発明に係る反射防止膜は、無機酸化物微粒子とバインダーから形成されていることが望ましい。バインダーは反射防止膜のバインダーとして機能するものである。また基本的にこの膜は少なくとも無機酸化物微粒子、及びバインダーと溶剤を混合した塗料を基板に塗布・加熱によって成膜する。バインダーがシリカゾル，エポキシ樹脂モノマー，メラミン樹脂モノマー等の熱硬化性物質の場合は重合、即ち塗膜の熱硬化を促進するための触媒も塗料に極少量添加される。また、本実施形態にかかわる反射防止膜は、単層プロセスで形成可能であり、多層プロセスで形成しても良い。ただし、低コスト化のためには単層プロセスであることが望ましい。
【０１６５】
本実施形態にかかわる反射防止膜の形成方法の概略について図３３を用いて説明する。
【０１６６】
バインダーと溶剤の混合物１１と無機酸化物微粒子１２からなる反射防止膜塗料１３を表示パネル上に膜厚が均一になるように塗布する（工程Ａ）。
【０１６７】
加熱して塗膜を固化させる際、溶剤が気化して空隙１５が内部にある反射防止膜１０
（または１００）が形成される（工程Ｂ）。
【０１６８】
図３４は本実施形態の反射防止膜の一例についての走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）の断面写真であり、基板上に図３３［Ｂ］で示した反射防止膜を形成したものの一例である（なお、図３４の膜表面には極薄く白金が蒸着されている）。
【０１６９】
膜中の粒子は無機酸化物の酸化ケイ素であり、それらをシリカゾルのバインダーで固定している。図３４のＳＥＭ写真から膜内に明るい部分と、暗い部分があるが、エネルギー分散型Ｘ線分光法（ＥＤＸ）で測定した結果明るい部分には酸化ケイ素が多く存在し、反対に暗い部分には酸化ケイ素の存在割合が小さいことが確認できた。よって、酸化ケイ素が少ない部分は反射防止膜塗料を加熱する際溶剤が気化することで形成された空隙１５と考えられる。
【０１７０】
膜の主成分である酸化ケイ素の屈折率は約１.５であり、空隙の屈折率は約１.０であるので、膜中に占める空隙の割合を適切化することで屈折率を所望の値に制御することができる。
【０１７１】
また、熱硬化時の溶剤の気化が空隙形成に寄与することから用いる溶剤の沸点、及び基板に塗料を塗布後の熱硬化温度によっても空隙の形成は制御できる。次に、ＳＥＭの断面写真から、空隙は膜内部には存在するが、膜表面には少ないことがわかる。空隙が膜表面に多いと膜表面の凹凸が大きくなり、それによって布などで拭いたときに引っ掛かりやすくなるが、表面凹凸が小さいと引っ掛かりが少なくなるので、膜が剥がれたり傷ついたりしにくい。よって、膜の物理的強度が高くなる。
【０１７２】
以下に反射防止膜用の塗料材料の説明、及び成膜の詳細を記述する。
（１）塗料材料
塗料材料はバインダー，無機酸化物微粒子，溶剤からなる。これらに関して下記に記述する。
（１−１）バインダー
塗膜材料としては、透明性の高い有機系或いは無機系の高分子材料，高分子化可能な材料が挙げられる。
【０１７３】
有機系の高分子材料としては、熱可塑性の高分子材料が挙げられる。具体的にはアクリル樹脂，ポリスチレン，スチレン−アクリル共重合体，ポリエステル樹脂，ポリ塩化ビニル，エチレン−酢酸ビニル共重合体，ポリエチレンテレフタレート樹脂，ポリ塩化ビニリデン樹脂，ポリカーボネート樹脂等が挙げられる。有機系の高分子化可能な材料としては、熱硬化性の高分子材料が挙げられる。具体的には脂肪族骨格のポリアミック酸誘導体等が挙げられる。
【０１７４】
無機系の高分子材料としては、加水分解性残基を有するケイ素化合物（一般名はシリカゾル），加水分解性残基を有するチタン化合物（一般名はチタニアゾル）等が挙げられる。これらはアルコキシシラン、あるいはアルコキシチタンが分子量数千程度に重合した化合物であり、アルコール系の溶剤に可溶の状態である。これらを加熱することにより酸化ケイ素、或いは酸化チタンのバインダーを形成できる。
【０１７５】
無機系の高分子化可能な材料としてはアミノ基やクロル基，メルカプト基等各種置換基を有するアルコキシシラン等が挙げられる。具体的な材料は後述する加水分解性残基を有するケイ素化合物の記述の中で示す。
【０１７６】
加水分解性残基を有するケイ素化合物の一つとしてシリカゾルが挙げられる。これは加熱によって酸化ケイ素に変化する物質である。次にシリカゾルの一般的な調製方法は以下の通りである。テトラアルコキシシランを弱酸性条件で加温するとアルコキシ基が加水分解して水酸基となり、これが近傍のアルコキシシラン基と反応しケイ素−酸素―ケイ素の結合を形成しながら高分子量化したものを示す。一般に平均分子量は数千である。
【０１７７】
シリカゾルを作製する際用いられるテトラアルコキシシランとしてはテトラメトキシシラン，テトラエトキシシラン，テトラプロポキシシラン，テトライソプロポキシシラン，テトライソブトキシシラン，テトラブトキシシラン等が挙げられる。これ以外にはアルコキシシラン基の代わりに塩素基を有するケイ素化合物、例えば四塩化ケイ素等も挙げられる。
【０１７８】
シリカゾル以外に加水分解性残基を有するケイ素化合物としては、テトラアルコキシシラン以外に、アミノ基やクロル基，メルカプト基等を有する化合物を含まれる。具体的には３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
（１−２）無機酸化物微粒子
無機酸化物微粒子としては酸化ケイ素，酸化アルミニウム，酸化チタン，酸化セリウム等の無色の微粒子が挙げられる。
（１−２−１）無機酸化物微粒子の粒子径・形状
無機酸化物微粒子は球形の場合、膜に入射した光が散乱しないよう粒子径は波長の１／２以下が望ましい。可視光の波長領域が３８０ｎｍ〜７８０ｎｍであるので、この範囲で散乱しないための粒子径は１９０ｎｍ以下が望ましい。可視領域については、納谷嘉信著、１９８４年２月１０日第２版 産業色彩学、朝倉書店、２ページに記載がある。これより大きいと入射した光が散乱するため膜が濁って見える。また無機酸化物微粒子が鎖状の場合も上記と同様の理由で粒子の短軸の径は１９０ｎｍ以下にすることが望ましい。また、無機酸化物微粒子は、粒子径の異なるもの、あるいは形状の異なるものを複数種類用いても構わない。
（１−２−２）無機酸化物微粒子選定の付帯事項
用いる溶剤への分散性が不十分であると、凝集により大きな二次粒子になってしまい、やはり膜が濁って見えてしまうという問題がある。そこで、できれば酸化ケイ素微粒子を良好に分散できる溶剤を使用するのが良いのであるが、基板の種類によってはそのような溶剤を使用できない場合も考えられる。そこでそのような場合には適切な分散剤を添加することでこの問題に対処する。
【０１７９】
酸化ケイ素微粒子としてはコロイダルシリカが好適である。コロイダルシリカとしては例えば日産化学製オルガノシリカゾル，スノーテックス等が挙げられる。これら微粒子は表面に水酸基を多数有しているため親水性が高い。またこれらを部材として形成した反射防止膜は親水性であると同時に極めて抵抗が低い。具体的には１×１０10〜１０×１０10Ω程度である。この値はガラス（１０12〜１０16台），アクリル樹脂（１０16台），ポリカーボネート樹脂（１０16台），ＰＥＴ樹脂（１０16台）等の１００分の１〜百万分の１と非常に小さい。そのため、チリ等の埃が付着しにくい。よって、本発明の膜を基板表面に設けた表示装置は、乾燥した室内でも長時間にわたりチリが付着しくい。故に、一般家庭，オフィス等に設置される表示装置に形成する膜の部材としては好適である。
【０１８０】
また、後述するアルコキシシラン基を有するパーフルオロポリエーテル化合物系、或いはパーフルオロアルキル化合物系の撥液剤を処理し、撥液性を持たせることも可能である。
【０１８１】
酸化ケイ素以外に屈折率が小さく好適な酸化アルミニウムに関しても表面に水酸基を多数有するアルミナゾルは低抵抗率の膜を形成する点で好適である。
（１−３）溶剤
塗料の溶剤はバインダーを溶解、或いは一様に分散できるものが有効である。前述のバインダーとして好適の加水分解性残基を有するケイ素化合物と、無機酸化物微粒子として好適である酸化ケイ素微粒子を有する塗料の場合はアルコール系の溶剤が好適である。具体的にはエタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、tert−ブタノール、ｎ−ペンタノール、イソペンタノール、tert−ペンタノール等が挙げられる。
（２）製膜方法
本実施形態の反射防止膜は基板の前処理，塗布，加熱によって形成される。単層プロセスで形成可能であり、多層プロセスで形成しても良いが低コスト化のためには単層プロセスとすることが望ましい。更に耐擦性を向上させるため、加熱後の後処理を行うこともある。これらの詳細について記述する。
（２−１）前処理
前処理では塗料を均一に付着させるため、表示パネル表面の洗浄，濡れ性向上を行うことが望ましい。通常、表示パネルの表面には偏光板が配置され、偏光板を構成する保護フィルムは鹸化処理されており、このまま使用することが可能である。
（２−２）塗布方法
塗布はスピンコート，ディップコート，バーコート，アプリケーターによるコート，スプレーコート，フローコート等の方法が考えられるが、表示パネルに直接膜を形成すること、及び、表示パネルの５つの面を同時に成膜することを考慮すると、ディップコート
（浸漬）が好適である。
【０１８２】
適切な膜厚に制御するためには塗料の濃度、及び塗布条件を適正化する必要がある。例えば、ディップコートの場合は浸漬時間と引き上げ速度などが塗布条件として挙げられる。
【０１８３】
また、波長λの光線において反射率を最小にするための屈折率ｎの層の厚さｄは、ｄ＝λ／（４ｎ）で表される。反射率は、可視光である３８０〜７８０ｎｍの波長の中でも、人間の視感度の最も高い波長で反射率が最小になるように反射防止膜の膜厚ｄを設定することが好ましい。人間の視感度には個人差があるが、納谷嘉信著、１９８４年２月１０日第２版 産業色彩学、朝倉書店、４〜８ページに記載の明所視比視感度曲線で、相対分光感度の極大値の波長、つまり明るい環境で人間の視感度が最も高い波長(λ)は５５５ｎｍ付近である。また、反射率を理論的に０％にできる反射防止膜の屈折率は、適用する基材の屈折率で決まり、基材の屈折率の平方根が反射防止膜の屈折率となる。表示パネルの最表面には偏光板の保護フィルムなどの透明樹脂フィルムが配置され、これらの屈折率は
１.４９〜１.５４程度なので屈折率１.２２〜１.２４の反射防止膜を用いることが望まれる。以上より、５５５ｎｍの波長において、屈折率１.５ の基材の反射光を理論的に０％にできる反射防止膜の膜厚は、１１６ｎｍである。反射防止膜が無い場合の表示パネル表面の反射率は約４％あるので、少なくとも反射率を４％以下にできる反射防止膜の膜厚は９０ｎｍから１４０ｎｍの範囲である。このときの反射率と膜厚の関係を図３５に示す。
（２−３）加熱
塗布工程後、溶剤を揮発させる、或いはバインダーによっては重合を進行させるために加熱を行う。
【０１８４】
ところで、加熱温度は溶剤の沸点以外に表示パネルの耐熱温度以下にする必要があり、またバインダーとして熱硬化性の材料を用いた場合は熱硬化温度以上にする必要がある。そのためこれら要求を満たすよう溶剤の選定，バインダー材料の選定を行う必要がある。更に加熱後の冷却で膜と表示パネルの体積収縮率に差があると、膜の剥離，表示パネルの変形等の問題が起こる可能性があるので、表示パネルと膜は材質の似通ったもの、或いは線膨張率の近いものを選択することが望ましい。さらに、表示パネルの前面と後面に同じ膜厚の膜を形成することが膜と表示パネルの線膨張率の違いによる反りを防止するためには望ましい。
（２−４）後処理概要
熱硬化によって本発明の反射防止膜は形成されるが、これに撥液性を有する含フッ素化合物からなる層が形成されることによって、表面の防汚性が向上する。ただし撥液性を有する含フッ素化合物からなる層の厚さは形成された反射防止膜の反射防止効果を低下させることがないよう、極めて薄く製膜する必要がある。人間の視感度の高い５５５ｎｍの波長において、反射率への影響が１％未満となる撥液層の膜厚は、６ｎｍ未満である。
【０１８５】
なお撥液性を有する含フッ素化合物からなる層の形成形態は下記２種類挙げられる。
・撥液性を有する含フッ素化合物からなる塗膜
撥液性を有する含フッ素化合物からなる塗膜を形成する方法である。表面を塗膜で被覆することにより撥液性を発揮するものである。そのため、反射防止膜が低抵抗の場合、撥液性の含フッ素化合物が被覆されるため、表面抵抗が高まり、結果的にチリ等の埃を付着しやすくなる可能性がある。
【０１８６】
この膜を形成する材料としては、サイトップ(旭硝子社製)，ＩＮＴ３０４ＶＣ（ＩＮＴスクリーン社製）等が挙げられる。これらを溶剤で希釈後、塗布し、加熱することにより溶剤を揮発させ、場合によっては熱硬化させることにより製膜する。
・パーフルオロポリエーテル化合物、或いはパーフルオロアルキル化合物を結合
末端に水酸基等と結合可能なアルコキシシラン基を有するパーフルオロポリエーテル化合物、或いはパーフルオロアルキル化合物を反射防止膜に結合させる方法である。具体的には下記で示されるような化合物を反射防止膜に結合される。
【０１８７】
【化１】
【０１８８】
この場合、反射防止膜表面を完全に被覆するのではなく、反射防止膜上に草のようにパーフルオロポリエーテル鎖、或いはパーフルオロアルキル鎖が生えているような状況になる。反射防止膜の表面が完全に被覆されているわけではないので膜が１０11Ω以下の低抵抗の場合、この方法を行った後も膜は低抵抗性を維持することが可能となる。
【０１８９】
更にこれらパーフルオロポリエーテル鎖、或いはパーフルオロアルキル鎖を表面に形成することで、表面の潤滑性も向上する。そのため、擦れによる表面の物理的ダメージを緩和し、耐擦性の高い表面を形成することができる。
（２−５）後処理で用いる撥液剤
（２−４）で記述したように撥液剤としては末端にアルコキシシラン基を有するパーフルオロポリエーテル化合物、或いはパーフルオロアルキル化合物が有効である。下記に撥液剤、及び撥液膜形成方法を示す。
（ａ）撥液剤
末端にアルコキシシラン基を有するパーフルオロポリエーテル化合物、或いはパーフルオロアルキル化合物としては具体的には以下の化合物１〜１２があげられる。
【０１９０】
【化２】
【０１９１】
【化３】
【０１９２】
【化４】
【０１９３】
【化５】
【０１９４】
【化６】
【０１９５】
【化７】
【０１９６】
【化８】
【０１９７】
【化９】
【０１９８】
【化１０】
【０１９９】
【化１１】
【０２００】
【化１２】
【０２０１】
【化１３】
【０２０２】
このうち化合物１〜８は以下に示す合成方法を実行することで得られる。化合物９〜
１２は化合物名がそれぞれ１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリメトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリエトキシシラン、１Ｈ，
１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリメトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリエトキシシランとしてヒドラス化学社より上市されている。また、その他の市販材料としてはダイキン工業社製オプツールＤＳＸが挙げられる。これら化合物を一般式で表すと以下のようになる。
【０２０３】
【化１４】
【０２０４】
（化合物１の合成）
デュポン社製クライトックス１５７ＦＳ−Ｌ（平均分子量２５００）（２５重量部）を３Ｍ社製ＰＦ−５０８０（１００重量部）に溶解し、これに塩化チオニル（２０重量部）を加え、攪拌しながら４８時間還流する。塩化チオニルとＰＦ−５０８０をエバポレーターで揮発させクライトックス１５７ＦＳ−Ｌの酸クロライド（２５重量部）を得る。これにＰＦ−５０８０（１００重量部），チッソ（株）製サイラエースＳ３３０（３重量部），トリエチルアミン（３重量部）を加え、室温で２０時間攪拌する。反応液を昭和化学工業製ラジオライトファインフローＡでろ過し、ろ液中のＰＦ−５０８０をエバポレーターで揮発させ、化合物１（２０重量部）を得た。
（化合物２の合成）
チッソ（株）製サイラエースＳ３３０（３重量部）の代わりにチッソ（株）製サイラエースＳ３６０（３重量部）を用いる以外は化合物１の合成と同様にして化合物２（２０重量部）を得た。
（化合物３の合成）
デュポン社製クライトックス１５７ＦＳ−Ｌ（平均分子量２５００）（２５重量部）の代わりにダイキン工業社製デムナムＳＨ（平均分子量３５００）（３５重量部）を用いる以外は化合物１の合成と同様にして化合物３（３０重量部）を得た。
（化合物４の合成）
チッソ（株）製サイラエースＳ３３０（３重量部）の代わりにチッソ（株）製サイラエースＳ３６０を用い、デュポン社製クライトックス１５７ＦＳ−Ｌ(平均分子量２５００)（２５重量部）の代わりにダイキン工業社製デムナムＳＨ（平均分子量３５００）（３５重量部）を用いる以外は化合物１の合成と同様にして化合物４（３０重量部）を得た。
（化合物５の合成）
デュポン社製クライトックス１５７ＦＳ−Ｌ（平均分子量２５００）（２５重量部）の代わりにダイキン工業社製７Ｈ−ドデカフルオロヘプタン酸(分子量３４６.０６)（３.５重量部）を用いる以外は化合物１の合成と同様にして化合物５（３.５重量部）を得た。
（化合物６の合成）
デュポン社製クライトックス１５７ＦＳ−Ｌ（平均分子量２５００）（２５重量部）の代わりにダイキン工業社製７Ｈ−ドデカフルオロヘプタン酸(分子量３４６.０６)（３.５重量部）を用い、チッソ（株）社製サイラエースＳ３１０（２重量部）の代わりにチッソ（株）社製サイラエースＳ３２０（２重量部）を用いる以外は化合物１の合成と同様にして化合物６（３.５重量部）を得た。
（化合物７の合成）
デュポン社製クライトックス１５７ＦＳ−Ｌ（平均分子量２５００）（２５重量部）の代わりにダイキン工業社製９Ｈ−ヘキサデカフルオロノナン酸（分子量４４６.０７）
（４.５重量部）を用いる以外は化合物１の合成と同様にして化合物７（４.５重量部）を得た。
（化合物８の合成）
デュポン社製クライトックス１５７ＦＳ−Ｌ（平均分子量２００）（２５重量部）の代わりにダイキン工業社製９Ｈ−ヘキサデカフルオロノナンサン（分子量４４６.０７）
（４.５重量部）を用い、チッソ（株）製サイラエースＳ３１０（２重量部）の代わりにチッソ（株）サイラエースＳ３２０（２重量部）を用いる以外は化合物１の合成と同様にして化合物８（４.５重量部）を得た。
（ｂ）撥液膜形成方法
末端にアルコキシシラン基を有するパーフルオロポリエーテル化合物、或いはパーフルオロアルキル化合物を用いる撥液膜形成方法は以下の通りである。
【０２０５】
まず末端にアルコキシシラン基を有するパーフルオロポリエーテル化合物、或いはパーフルオロアルキル化合物を溶剤に溶解する。濃度は塗布方法によっても異なってくるが、概ね０.０１〜１.０重量％程度である。フッ素系の溶剤として具体的には３Ｍ社のＦＣ−７２，ＦＣ−７７,ＰＦ−５０６０,ＰＦ−５０８０,ＨＦＥ−７１００,ＨＦＥ−７２００、デュポン社製バートレルＸＦ等が挙げられる。こうしてパーフルオロポリエーテル化合物、或いはパーフルオロアルキル化合物を溶解した液（以後撥液処理剤と記述）を調製する。
【０２０６】
次に反射防止膜表面に撥液処理剤を塗布し、加熱する。塗布方法としてディップコート法が好適である。
【０２０７】
（表示装置を備える機器の実施の形態）
次に本発明の表示装置を備える機器の実施の形態について説明する。図３１は本発明の表示装置を備える機器の一実施例の概略構成を模式的に示す断面図である。また、図３２は本発明の表示装置を備える機器の表示装置近傍の概略構成を模式的に示す一部断面図である。
【０２０８】
この機器は、テンキー等から構成される入力手段４００と、保護板３００と、表示装置５と、これらを保持する筐体を備える。
【０２０９】
保護板３００は透明で割れにくく、その表面の機械的な強度が強いことが望まれる。保護板としてはアクリル樹脂やポリカーボネート樹脂などの樹脂板を使用することができる。
【０２１０】
表示装置５は上記実施の形態で例示した液晶表示パネルとバックライト装置を組み合わせた液晶表示装置、あるいはＯＬＥＤ表示パネル（ＯＬＥＤ表示装置）を用いる。この場合、反射防止膜は光学フィルム上に形成されており、低反射を実現するような低屈折率な膜の場合には、硬度や耐擦はガラス表面の様に高くはできない。そこで、本機器では表示装置５の前面に透明な保護板３００を備え、保護板３００と表示装置５の間には空隙500を設ける。さらに、保護板３００は機器前面側の筐体２００で保持し、表示装置５は機器裏面側の筐体２１０で保持するようにする。
【０２１１】
この場合、前面側の外部より表示装置近傍に加わる機械的な力は保護板と機器の筐体に加わり、表示装置表面に機械的力が加わることを防止できるため、表示装置表面の反射防止膜に強度の弱い膜を使用していても不具合の発生を防止することできる。
【図面の簡単な説明】
【０２１２】
【図１】本発明の液晶表示パネルの概略構成を示す斜視図である。
【図２】本発明の液晶表示パネルの断面構造の概略を示す模式図である。
【図３】本発明の液晶表示装置の断面構造の概略を示す模式図である。
【図４】本発明の有機発光ダイオード表示パネルの概略構成を示す斜視図である。
【図５】本発明の有機発光ダイオード表示パネルの断面構造の概略を示す模式図である。
【図６】本発明の有機発光ダイオード表示パネルの断面構造の概略を示す模式図である。
【図７】本発明の有機発光ダイオード表示パネルの概略構成を示す斜視図である。
【図８】本発明の有機発光ダイオード表示パネルの断面構造の概略を示す模式図である。
【図９】本発明の有機発光ダイオード表示パネルの断面構造の概略を示す模式図である。
【図１０】本発明の液晶表示パネルの概略構成を示す斜視図である。
【図１１】本発明の液晶表示パネルの断面構造の概略を示す模式図である。
【図１２】本発明の液晶表示装置の断面構造の概略を示す模式図である。
【図１３】本発明の液晶表示パネルの概略構成を示す斜視図である。
【図１４】本発明の液晶表示パネルの断面構造の概略を示す模式図である。
【図１５】本発明の液晶表示装置の断面構造の概略を示す模式図である。
【図１６】本発明の有機発光ダイオード表示パネルの概略構成を示す斜視図である。
【図１７】本発明の有機発光ダイオード表示パネルの断面構造の概略を示す模式図である。
【図１８】本発明の有機発光ダイオード表示パネルの断面構造の概略を示す模式図である。
【図１９】本発明の有機発光ダイオード表示パネルの概略構成を示す斜視図である。
【図２０】本発明の有機発光ダイオード表示パネルの断面構造の概略を示す模式図である。
【図２１】本発明の有機発光ダイオード表示パネルの断面構造の概略を示す模式図である。
【図２２】本発明の液晶表示パネルの概略構成を示す斜視図である。
【図２３】本発明の液晶表示パネルの断面構造の概略を示す模式図である。
【図２４】本発明の液晶表示装置の断面構造の概略を示す模式図である。
【図２５】本発明の有機発光ダイオード表示パネルの概略構成を示す斜視図である。
【図２６】本発明の有機発光ダイオード表示パネルの断面構造の概略を示す模式図である。
【図２７】本発明の有機発光ダイオード表示パネルの断面構造の概略を示す模式図である。
【図２８】本発明の有機発光ダイオード表示パネルの概略構成を示す斜視図である。
【図２９】本発明の有機発光ダイオード表示パネルの断面構造の概略を示す模式図である。
【図３０】本発明の有機発光ダイオード表示パネルの断面構造の概略を示す模式図である。
【図３１】本発明の表示装置を備える機器の一実施例の概略構成を模式的に示す断面図である。
【図３２】本発明の表示装置を備える機器の表示装置近傍の概略構成を模式的に示す一部断面図である。
【図３３】本発明の反射防止膜の形成方法の概略説明図である。
【図３４】本発明の反射防止膜の一例を示す断面写真である。
【図３５】本発明の反射防止膜の膜厚と反射率の関係の一例を示す図である。
【符号の説明】
【０２１３】
１…液晶表示パネル、２…バックライト装置、３…有機発光ダイオード表示パネル、５…表示装置、１０，１００…反射防止膜、１１…バインダーと溶剤の混合物、１２…無機酸化物微粒子、１３…反射防止膜塗料、１５，１２２，１２５，５００…空隙、２０…第１の透明基板、２１…第２の透明基板、２２…液晶層、２３…シール材、３０，３２…第１の光学フィルム、３１，３３…第２の光学フィルム、４０，１４０，１４１…半導体チップ、５０，１５０，１５１…フレキシブルプリント回路板（ＦＰＣ）、６０…導光板、６１…光源、６２…反射板、６３…光学部材、７０，１７０，１７１…平坦化膜、１２０，１２４…封止手段、１２１，１２３…基板、１３０，１３１,１３２,１３３…光学フィルム、２００，２１０…筐体、３００…保護板。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止膜を備える液晶表示パネル、及び該液晶表示パネルとバックライト装置とを組み合わせた液晶表示装置、あるいは、反射防止膜を備える有機エレクトロルミネッセンス表示装置などの表示装置とこれを備える機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
携帯電話やＰＤＡ（パーソナルディジタルアシスタント）などの携帯機器では、薄型軽量な表示装置が求められており、このような表示装置とし液晶表示装置や有機発光ダイオード表示装置（以下、ＯＬＥＤ表示装置と呼ぶ）が採用されている。尚、液晶表示装置は一般に光の透過率や反射率を制御することで画像を形成する液晶表示パネルと光源としてのバックライト装置、もしくはフロントライト装置と組み合わせることで表示装置を実現する。また、ＯＬＥＤ表示装置はＯＬＥＤ表示パネル自身が画像光を放射するため特に光源と組み合わせなくとも表示装置が実現できる。
【０００３】
表示装置を明るい環境の下で観察する場合、画面の表面で外光が反射して画像が見づらくなることがある。そこで、画面の表面に反射防止膜を設けて外光の反射を抑制することが行われる。
【０００４】
反射防止膜としては多層膜，単層膜どちらも利用されている。多層構造による反射防止膜は蒸着，スパッタリング，イオンプレーティング等の成膜方法により高屈折率層と低屈折率層を交互に積層することで反射防止性能に優れた膜を実現できる反面、製造コストが高くなる。
【０００５】
一方、工程数が少なく塗布成膜が可能な単層による反射防止膜は低コスト化に有利であるため、その反射防止性能の向上が望まれている。
【０００６】
単層膜の場合、外界の屈折率をｎ0、表示装置表面の屈折率をｎ1、反射防止膜の屈折率をｎ2とすると、反射率Ｒ′は、次式で表される。
【０００７】
Ｒ′＝{(ｎ22−ｎ0×ｎ1)／(ｎ22＋ｎ0×ｎ1)}2 …（１）
外界は通常空気であり、その屈折率ｎ0は凡そ１.０であるため、反射率Ｒ′は
Ｒ′＝{(ｎ22−ｎ1)／(ｎ22＋ｎ1)}2 …（２）
となり、ｎ2＝√ｎ1のとき反射率は理論的に０％になる。
【０００８】
通常、表示装置の表面は屈折率が１.５ 程度なので反射防止膜の屈折率としては約1.22が好適となる。しかしながら、現状、屈折率が低いといわれるフッ素系の樹脂は屈折率が約１.３４ 程度であり、単層で十分な反射防止を得ることは極めて困難である。
【０００９】
近年、単層膜で屈折率をより低くする方法が提案されており、その１つに下記特許文献１に記載の薄膜がある。この薄膜は内部に空洞のある微粒子（中空微粒子）と、この中空微粒子を保持するバインダーを有した薄膜である。この薄膜の内部の空洞は、実質的に空気と同じ屈折率（屈折率１.０ ）であるため、その中空微粒子の材質や中空微粒子を保持するバインダーの屈折率が大きくても、膜としてみれば結果的に空気に近い屈折率となる。即ち、この膜を基板に形成することで反射率を低減できるというものである。
【００１０】
また、別の方法で、単層膜で屈折率をより低くする方法の１つに、下記特許文献２に記載の低屈折率膜がある。これは、空気に近い側に有機超微粒子の表面が露出し、表面に凹凸を生じさせることで、表面の密度を下げ、結果として屈折率の低い膜を形成すると開示されている。
【００１１】
また、別の方法では、下記特許文献３に記載のハニカム構造の細孔を有する低屈折率膜がある。これは、ハニカム状に形成された複数の細孔が、シリカ微粒子を貫通するようにかつ互いに平行に形成されることにより、シリカ微粒子自体の強度を低下させること無く、最大の空隙率を得ることができる。これによって、機械的強度に優れた低屈折率膜を形成することができると開示されている。
【００１２】
【特許文献１】特開２００３−２０１４４３号公報
【特許文献２】特開平７−９２３０５号公報
【特許文献３】特開２００４−８３３０７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
上記特許文献１に記載の薄膜は、低い屈折率を実用しようとする場合、空孔率を高くする必要があるため膜の機械的強度は低くなる。
【００１４】
また、上記特許文献２や特許文献３に記載の膜では、架橋や重合によって膜の機械的強度は高いと考えられるが、膜表面の凹凸に汚れが入り込むこと除去が困難であり、屈折が高くなってしまう可能性がある。さらにこれらの構造では、単層膜による反射防止膜として理想的な屈折率の値（一般によく利用される基材が１.５程度であり、この場合は約
１.２２程度）を実現することが困難である。
【００１５】
また、これら従来技術は、板状或いはフィルム状の基材に膜を塗布することを前提としており、表示パネルに直接反射防止膜を塗布することは考慮されていなかった。
【００１６】
本発明はこのような従来技術の課題を解決するためになされたものであり、その目的は高い反射防止性能を有する膜を直接表示パネルに形成することでより低コストな表示装置やこれを備える機器を実現することにある。また、この膜により反射防止機能以外の機能を付加することでより高いコストパフォーマンスの表示装置を実現することにある。
【００１７】
本発明のその他の課題と新規な特徴については本明細書の記述及び添付図面を参照して明らかにする。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
本発明は上記目的を達成するため、例えば以下の手段を採用する。
【００１９】
第１の透明基板と第２の透明基板と、これら透明基板の間に液晶層を有する液晶表示パネルであって、この液晶表示パネルは少なくともその表示領域であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜を有し、さらに少なくとも表示領域に相当する部分のおもて面とは逆の面（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備える。
【００２０】
あるいは、マトリクス状に配置した複数の画素を構成する発光素子を有する基板と、封止手段とを有する有機発光ダイオード表示パネル(以下、ＯＬＥＤ表示パネルとも称する)であって、このＯＬＥＤ表示パネルは少なくともその表示領域であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜を有し、さらに少なくとも表示領域に相当する部分のおもて面とは逆の面（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備える。
【００２１】
また、反射防止膜を構成する膜として、膜表面の抵抗が１０11Ω未満となる膜を採用する。
【００２２】
さらに、この表示パネルは、画像信号などの電気的信号の外部との接続を所定の一方向から行う構造とし、その方向の端面以外であって、なおかつ、おもて面以外の面にも反射防止膜と同じ材料の膜を有する構成とする。
【００２３】
また、第１の透明基板と第２の透明基板と、これら透明基板の間に液晶層を有する液晶表示パネルにおいて、第２の透明基板は第１の透明基板よりも面積が大きく、第２の透明基板と第１の透明基板が重なる領域に表示領域を有するものであり、第２の透明基板の第１の透明基板側の面上であって、第１の透明基板に覆われない領域の少なくとも一部には、第１の透明基板の第２の透明基板とは逆側の面においてその高さが略同じとなる平坦化膜を備え、さらにこの液晶表示パネルは少なくともその表示領域及び平坦化膜の少なくとも一部であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜を有し、さらに少なくとも表示領域に相当する部分のおもて面とは逆の面（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備える。
【００２４】
尚、本明細書における面積の大小は、特に説明がない場合には観察者が表示パネルの画面を正面から観察した場合の観察者の方向における投影面積の大小のことである。
【００２５】
あるいは、第１の透明基板と第２の透明基板と、これら透明基板の間に液晶層を有する液晶表示パネルであって、第１の透明基板には第２の透明基板とは反対側の面に少なくとも一つの偏光層を含む第１の光学フィルムを備え、第２の透明基板には第１の透明基板とは反対側の面に少なくとも一つの偏光層を含む第２の光学フィルムを備え、第２の透明基板は第１の透明基板よりも面積が大きく、第２の透明基板と第１の透明基板が重なる領域に表示領域を有するものであり、第２の透明基板の第１の透明基板側の面上であって、第１の透明基板に覆われない領域の少なくとも一部には、第１の光学フィルムの第１の透明基板側とは反対側の面においてその高さが略同じとなる第１の平坦化膜を備え、第２の透明基板の第１の透明基板とは逆側の面上であって、第１の透明基板に覆われない領域の少なくとも一部には、第２の光学フィルムの第２の透明基板側とは反対側の面においてその高さが略同じとなる第２の平坦化膜を備え、さらにこの液晶表示パネルは少なくともその表示領域及び第１または第２の平坦化膜の少なくとも一部であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜を有し、さらに少なくとも表示領域に相当する部分のおもて面とは逆の面（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備える。
【００２６】
或いは、マトリクス状に配置した複数の画素を構成する発光素子を有する基板と、封止手段とを有するＯＬＥＤ表示パネルにおいて、発光素子を有する基板は封止手段よりも面積が大きく、発光素子を有する基板と封止手段が重なる領域に表示領域を有するものであり、発光素子を有する基板の封止手段側の面上であって、封止手段に覆われない領域の少なくとも一部には、封止手段の発光素子を有する基板とは逆側の面においてその高さが略同じとなる平坦化膜を備え、さらにこのＯＬＥＤ表示パネルは少なくともその表示領域及び平坦化膜の少なくとも一部であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜を有し、さらに少なくとも表示領域に相当する部分のおもて面とは逆の面（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備える。
【００２７】
或いはマトリクス状に配置した複数の画素を構成する発光素子を有する基板と、封止手段とを有するＯＬＥＤ表示パネルにおいて、画像光は発光素子を有する基板側から取り出すものであり、さらに発光素子を有する基板の封止手段とは反対の面には少なくとも一つの偏光層を含む光学フィルムを備え、発光素子を有する基板の封止手段とは逆側の面上であって、なおかつ光学フィルムに覆われない領域の少なくとも一部には、光学フィルムの発光素子を有する基板とは反対側の面において、その高さが略同じとなる平坦化膜を備え、さらにこのＯＬＥＤ表示パネルは少なくともその表示領域及び平坦化膜の少なくとも一部であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜を有し、さらに少なくとも表示領域に相当する部分のおもて面とは逆の面（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備える。
【００２８】
また、液晶表示パネルの場合であれば、第２の透明基板にマトリクス状に配置した複数の画素を構成する電極を備え、さらに画像信号などの電気的信号を外部と接続する領域を有し、この電気的信号の外部との接続を所定の一方向から行う構造とし、平坦化膜を設ける領域は電気的信号を外部と接続する領域と兼用する。
【００２９】
或いはＯＬＥＤ表示パネルの場合であれば、発光素子を有する基板に画像信号などの電気的信号を外部と接続する領域を有し、この電気的信号の外部との接続を所定の一方向から行う構造とし、平坦化膜を設ける領域は電気的信号を外部と接続する領域と兼用する。
【００３０】
また、第１の透明基板と第２の透明基板と、これら透明基板の間に液晶層を有する液晶表示パネルであって、第１の透明基板には第２の透明基板とは反対側の面に少なくとも一つの偏光層を含む第１の光学フィルムを備え、第２の透明基板には第１の透明基板とは反対側の面に少なくとも一つの偏光層を含む第２の光学フィルムを備え、第２の透明基板は第１の透明基板よりも面積が大きく、第２の透明基板と第１の透明基板が重なる領域に表示領域を有するものであり、第１の光学フィルム及び第２の光学フィルムは第１の透明基板よりもその面積が大きく、さらに第２の透明基板の第１の透明基板に覆われない領域の少なくとも一部を覆うものであり、さらにこの液晶表示パネルは第１または第２の光学フィルム上であって、少なくともその表示領域及び第２の透明基板の第１の透明基板に覆われない領域の少なくとも一部であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜を有し、さらに少なくとも表示領域に相当する部分のおもて面とは逆の面（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備える。
【００３１】
或いは、マトリクス状に配置した複数の画素を構成する発光素子を有する基板と、封止手段とを有するＯＬＥＤ表示パネルにおいて、発光素子を有する基板と封止手段のうち、画像光を取り出す側の最表面に少なくとも一つの偏光層を含む光学フィルムを備え、発光素子を有する基板は封止手段よりも面積が大きく、これらが重なる領域に表示領域を有するものであり、光学フィルムは封止手段よりも面積が大きく、さらに発光素子を有する基板の封止手段に覆われない領域の少なくとも一部を覆うものであり、さらにこのＯＬＥＤ表示パネルは光学フィルム上であって、少なくともその表示領域及び発光素子を有する基板の封止手段に覆われない領域の少なくとも一部であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜を有し、さらに少なくとも表示領域に相当する部分のおもて面とは逆の面（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備える。
【００３２】
また、液晶表示パネルの場合であれば、第２の透明基板にマトリクス状に配置した複数の画素を構成する電極を備え、さらに画像信号などの電気的信号を外部と接続する領域を有し、この電気的信号の外部との接続を所定の一方向から行う構造とし、光学フィルムの面積を拡大した領域と電気的信号を外部と接続する領域を重ね合わす。
【００３３】
或いはＯＬＥＤ表示パネルの場合であれば、発光素子を有する基板に画像信号などの電気的信号を外部と接続する領域を有し、この電気的信号の外部との接続を所定の一方向から行う構造とし、光学フィルムの面積を拡大した領域と電気的信号を外部と接続する領域と重ね合わせる。
【００３４】
また、本願発明に適用する反射防止膜としては、無機酸化物からなる微粒子と、バインダーと、空隙とを有する反射防止膜であって、膜の一方の表面における算術平均粗さ(Ra)が６ｎｍ未満とする。
【００３５】
また、他の反射防止膜としては、無機酸化物からなる微粒子と、バインダーと、空隙とを有する反射防止膜において、前記バインダーは前記基板の部材と同じ部材を主成分とする。
【００３６】
また、他の反射防止膜としては、無機酸化物からなる微粒子と、バインダーと、空隙とを有する反射防止膜において、前記空隙の密度は、空気と接する膜表面より、膜内部の方が高いものとする。
【００３７】
また、表示パネルと、その前面側に配置する透明な保護板と、前記表示パネル及び前記保護板の間に空気層を有する表示装置を備える機器において、前記保護板は前記表示パネルの表示領域よりも面積が大きく、さらに前記表示装置と前記保護板は独立して筐体に固定されることで、機器に固定する。
【００３８】
上記以外の手段については以下の記述で明らかとする。
【発明の効果】
【００３９】
本発明により、高い反射防止性能を備える表示パネルまたは表示装置を実現できる。また、これらを備える機器が実現できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４０】
以下、本発明の実施形態について、詳細に説明するが、種々の変更は可能であり、また、下記実施形態同士の組み合わせは本発明に包含されるものである。
【００４１】
（液晶表示パネルの実施形態１）
本発明に係る液晶表示パネルの実施の形態について図面を参照して説明する。図１及び図２はそれぞれ本発明に係る液晶表示パネルの１実施例の概略構成を示す斜視図及び断面構造の概略を示す模式図である。
【００４２】
液晶表示パネル１は後述するバックライト装置と組み合わせ、バックライト装置からの光の透過光量を調整することで映像を表示する透過型、或いは半透過反射型の液晶表示パネルである。尚、液晶表示パネルにはパッシブ駆動方式やアクティブ駆動方式があるが、詳細な構成や動作については周知であるのでここではその説明は省略する。
【００４３】
液晶表示パネルは偏光板を備え、液晶層に入射する光の偏光状態を制御することで映像表示を行うものが比較的低い駆動電圧でコントラスト比の高い映像が得られることから望ましい。また、液晶表示パネルとしては例えばＴＮ(Twisted Nematic )方式，ＳＴＮ
（Super Twisted Nematic）方式，ＥＣＢ（Electrical Controlled Birefringence）方式などを用いることができる。また、広視野角を特徴とするＩＰＳ（In Plane Switching）方式，ＶＡ（Vertical Alingned）方式を用いることができる。
【００４４】
あるいは液晶表示パネルとしては上記方式を応用した半透過反射型を用いることができる。
【００４５】
ここでは以下、液晶表示パネルとしてアクティブマトリクス方式を用いる場合の概要を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００４６】
液晶表示パネル１は、平坦かつ透明で光学的に等方なガラス、あるいはプラスチックからなる第１の透明基板２０および第２の透明基板２１とを有する。
【００４７】
第１の透明基板２０には、カラーフィルタや、ポリイミド系高分子からなる配向膜（いずれも不図示）が積層されている。第２の透明基板２１には、マトリクス状に配置した複数の画素を形成する電極，信号電極，走査電極，薄膜トランジスタ等からなるスイッチング素子，配向膜等（いずれも不図示）が形成されている。
【００４８】
２枚の透明基板２０，２１は配向膜形成面を向かい合わせ、図示しないスペーサーにより一定の間隙を設けた状態で枠状のシール材２３で周囲を接着して内部に空間を形成する。この空間に液晶を封入し、封止することで液晶層２２が設けられる。
【００４９】
液晶層２２は２枚の透明基板２０，２１上に形成された配向膜に施される配向処理により、その液晶分子長軸の配向方向が規定される。
【００５０】
第１の透明基板２０の観察者側の面（おもて面）と第２の透明基板２１の観察者側とは反対側の面（うら面）にはそれぞれ第１の光学フィルム３０と第２の光学フィルム３１を備える。
【００５１】
第１の光学フィルム３０と第２の光学フィルム３１はそれぞれ少なくとも一つの偏光層を含むものであり、適用する液晶表示モードに応じて適切な位相差層を含んでもよい。偏光層はこれに入射する光のうち互いに直交する直線偏光成分の一方を透過し、他方を吸収するものである。偏光層としては例えば、ヨウ素や有機染料などの２色性の材料を染色あるいは吸着させたポリビニルアルコールなどからなる基材フィルムを延伸し、２色性の材料を配向させることで吸収２色性を発現したものを用い、その両側をトリアセチルセルロースフィルムなどからなる２枚の透明保護フィルムで挟んだ構造のものを用いることができる。
【００５２】
尚、第２の光学フィルム３１を構成するフィルムとしては偏光層で吸収される直線偏光成分は反射し、これ以外の光は透過する反射型の偏光フィルムを含んでも良い。この場合、偏光層で吸収される光の量が減り、より明るい画像が得られるようになる。
【００５３】
第１の光学フィルム３０と第２の光学フィルム３１はそれぞれ図示しない粘着層を介して、第１の透明基板２０と第２の透明基板２１に固定される。
【００５４】
第２の透明基板は第１の透明基板よりも面積が大きく、第２の透明基板と第１の透明基板が重なる領域内にバックライト装置からの光の透過量を変調することで２次元画像を形成する表示領域を有する。また、第１の光学フィルム３０と第２の光学フィルム３１は共に表示領域以上の面積を有し、表示領域を全て覆うように配置する。この際、第１の光学フィルム３０と第２の光学フィルム３１は第１の透明基板、もしくは第２の透明基板と外形寸法が同じ、またはそれよりやや小さめにすることが液晶表示パネルの外形寸法を無駄に大きくしないこと、及び反射防止膜が表示領域内で均一になるために重要である。
【００５５】
つまり、光学フィルムの端部では反射防止膜の膜厚が均一になりにくいため、光学フィルムは表示領域よりもできるだけ大きいことが望ましいが、液晶表示パネルの外形寸法を無駄に大きくしないためには第１の透明基板、もしくは第２の透明基板の外形寸法と同じもしくはそれより小さくする必要がある。
【００５６】
尚、本明細書における面積とは、特に説明がない場合には観察者が表示パネルの画面を正面から観察した場合における観察者の方向での投影面積のことである。
【００５７】
第２の透明基板２１の第１の透明基板２０側の面上であって、第１の透明基板２０に覆われない領域には画像信号などの電気的信号を外部と接続する領域を有する。つまり、液晶表示パネル１は第２の透明基板２１上であって、第１の透明基板２０が重なっていない領域にフレキシブルプリント回路板（以下、ＦＰＣとも呼ぶ）５０を備え、このＦＰＣ50を介して外部と電気的に接続する。また、この領域には必要に応じてドライバとして機能する半導体チップ４０を実装してもよい。
【００５８】
液晶表示パネル１は少なくとも表示領域を覆う第１の光学フィルムの観察者側の面（おもて面）上に反射防止膜１０を有し、さらに表示領域のおもて面とは逆の面（うら面）、つまり、第２の光学フィルムが配置された面と、図１中、液晶表示パネル１の２つの側面（左右の端面）と底面（下方向の端面）の３つの端面に反射防止膜と同じ材料の膜を備える。
【００５９】
この場合、液晶表示パネルのおもて面とうら面に同じ材質の膜が形成されるため、反射防止膜と表示パネルを構成する部材とで温度による体積変化の比率が異なっていても、液晶表示パネルのおもて面とうら面で収縮または膨張の方向が同じになるため、表示パネルが反る等の変形が抑制される。
【００６０】
また、液晶表示パネルを構成する基板の端面が膜で覆われ保護されるため、特に液晶表示パネルを薄型化するために薄いガラス基板を採用する場合に基板端面の小さなクラックなどから割れやすくなることを防止する効果が得られる場合がある。
【００６１】
さらに、反射防止膜を構成する膜として、膜表面の抵抗が１０11Ω未満となる膜を採用することで、液晶表示パネルの表示領域のみならず、端部や端面への埃の付着を抑制することができる。尚、本発明に好適な反射防止膜については後に詳述する。
【００６２】
ここで、液晶表示パネルは電気的信号の外部との接続を所定の一方向から行う構造とすることが重要である。つまり、本実施の形態の通り、液晶表示パネル１に接続するＦＰＣ５０は観察者が表示領域を正面から観察した際、矩形である液晶表示パネルの一つの辺に相当する部分に接続する。
【００６３】
この場合、液晶表示パネルをＦＰＣ５０が接続される領域、つまり、第２の透明基板において、第１の透明基板と重ならない部分で直接あるいは適切なじ具を介して固定し、ディップコート法で反射防止膜を塗布すると一回の工程で、液晶表示パネルのおもて面とうら面、及び、３つの端面に反射防止膜と同じ材料の膜を形成することができる。このため塗布材料のロスが少なく、低コストな成膜が可能となる。
【００６４】
図３は上記液晶表示パネルを備える液晶表示装置の断面構造の概略を示す模式図である。液晶表示装置は、液晶表示パネル１と、その背面に配置するバックライト装置２とから構成される。バックライト装置２は液晶表示パネル１の表示領域をその背面側から照明するものである。バックライト装置２としてはエッジライト方式（導光体方式），直下方式（反射板方式），面状光源方式などがある。バックライト装置２はこれらの方式やその他の方式の中から用途や目的，表示領域の大きさに合わせて最適な方式を選べばよい。ここでは、エッジライト方式のバックライトについて説明する。
【００６５】
バックライト装置２は裏面に白色顔料によるドット印刷、或いは微細な凹凸形状やレンズ形状等の光の進行方向を変える手段を形成した透明な樹脂からなる導光板６０と、導光板６０の端面に配置した光源６１と、導光板６０の裏面側に配置した反射板６２と、導光板６０の表面側に配置したプリズムシートや、マイクロレンズアレイ，拡散シートなどの光学部材６３とを有している。
【００６６】
光源６１としては冷陰極管や熱陰極管などの線状光源や発光ダイオード（ＬＥＤ）などの点状光源を使用することができる。ここでは以下、光源６１としてＬＥＤを使用する場合を説明するが本発明はこれに限定されるものではない。
【００６７】
光源６１としてＬＥＤを用いる場合は、光源からの光を導光板６０に効率よく入射させるため、図示しない反射体を設けたり、発光部の周囲に形成するモールド樹脂の形状を工夫すると良い。
【００６８】
この構成において、光源６１から出射し、導光板６０に入射する光は全反射しながら導光板６０内を伝播する。導光板６０内を伝播する光のうち導光体裏面に施された、光の進行方向を変える手段に至った光は、その進行方向が変わり、導光板６０の表面側から出射する。導光板６０から出射する光は、プリズムシートや、マイクロレンズアレイ，拡散シートなどの光学部材により出射角度の分布や、面内での輝度分布が調整された後、液晶表示パネル１に照射される。
【００６９】
液晶表示パネル１はバックライト装置２からの光の透過光量を画像データに応じて調整することで映像を形成する。
【００７０】
この場合、反射防止膜１０は液晶表示パネルの両面に形成されているため、外光の反射低減による明環境下での視認性の向上のほか、液晶表示パネルの透過率向上により、より明るい映像が実現できる。また、反射防止膜１０として、膜表面の抵抗が１０11Ω未満となる膜を採用することで、液晶表示パネルのおもて面だけでなく、側面や裏面への異物の付着が減り、バックライト装置と液晶表示パネルとの間に混入する異物による不良が低減できる。
【００７１】
（ＯＬＥＤ表示パネルの実施形態１）
次に本発明に係るＯＬＥＤ表示パネルの実施の形態について図面を参照して説明する。図４は本発明に係るＯＬＥＤ表示パネルの１実施例の概略構成を示す斜視図であり、図５及び図６はそれぞれ本発明に係るＯＬＥＤ表示パネルの１実施例の断面構造の概略を示す模式図である。
【００７２】
ＯＬＥＤ表示パネル３は液晶表示パネルと異なり、自ら発光する素子を備えるためバックライト装置などの補助光源を必要とすることなく画像を表示することができるものである。また、ＯＬＥＤ表示パネルとしては、薄膜トランジスタ（以下、ＴＦＴとも称する）などのスイッチング素子を備えるアクティブマトリクス駆動型と、有機発光ダイオード素子を構成する電極をそれぞれ走査線とデータ線に直結して駆動する単純マトリクス駆動型が考えられる。
【００７３】
ここでは以下、アクティブマトリクス駆動型のＯＬＥＤ表示パネルについて説明するが本発明はこれに限定されるものではない。
【００７４】
ＯＬＥＤ表示パネル３はマトリクス状に配置した複数の画素を構成する有機発光ダイオード素子からなる発光素子を有する基板１２１と、少なくとも可視光に対して透明な封止手段１２０と、封止手段１２０のおもて面に配置する光学フィルム１３０と、を有し、少なくともその表示領域であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜を有し、さらに少なくとも表示領域のおもて面とは逆の面（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備える。
【００７５】
尚、ＯＬＥＤ表示パネル３は有機発光ダイオード素子が形成された基板１２１とは反対方向から光を取り出す、所謂トップエミッション型のＯＬＥＤ表示パネルである。トップエミッション型の場合には図５に例示する通り、封止手段１２０として可視光に対して透明でガスバリア性を有する透明な封止板を用い、表示領域の周囲に枠状に塗布した接着性のあるシール剤により基板１２１と密閉封止する。透明な封止板としてはガラス板や、ガスバリヤー処理を施した樹脂フィルム，薄いガラス板と樹脂フィルムを積層したものなどを用いることができる。
【００７６】
この場合、封止手段１２０と基板１２１との空隙１２２は封止手段１２０との屈折率差が小さくなるように屈折率１.４〜２.０程度の透明体で満たすことが望ましい。これは空隙１２２と封止手段１２０との界面での反射を小さくするためである。
【００７７】
このように透明な封止板を封止手段として用いる代わりに、図６に例示する通り、ガスバリア性のある無機の透明材料を積層形成する、あるいは無機の透明材料と有機の透明材料を交互に繰り返し積層することでガスバリア性を持たせた膜を積層形成することで封止してもよい。
【００７８】
画素を構成する発光素子としては有機発光ダイオード素子が用いられる。有機発光ダイオード素子としは陽極として機能する電極と、陰極として機能する電極と、これらの電極間に陽極側からホール輸送層，発光層，電子輸送層を順次積層した三層構造の素子が知られているが本発明はこれに限定されるものではない。
【００７９】
また、発光素子を有する基板１２１としてはガラスやプラスチックなどの絶縁性の基板、あるいはインバ−など熱膨張率をガラスに近づけた金属基板の表面に絶縁膜を施した基板を用いることができる。表示領域は基板１２１のほぼ中央の部分に設けられ、その周辺には図示しないデータ駆動回路や走査駆動回路が設置され、これらの駆動回路はＮチャネル型とＰチャネル型のＴＦＴ（Thin Film Transistor）による相補型回路から構成されるシフトレジスタ回路，レベルシフタ回路，アナログスイッチ回路などから構成される。
【００８０】
アクティブマトリクス駆動型ＯＬＥＤ表示パネルの典型的な画素駆動回路はスイッチトランジスタとドライバトランジスタの２つのＴＦＴと蓄積容量で構成され、この画素駆動回路により有機発光ダイオード素子の発光が制御されるものである。
【００８１】
尚、ＯＬＥＤ表示パネルの詳細な構成や動作については周知であるのでここではその説明は省略する。
【００８２】
光学フィルム１３０は外光の反射を抑制するために必要に応じて配置するもので、少なくとも一つの偏光層を含み、１／４波長板として機能する位相差層と組み合わせることで円偏光板として機能するものである。偏光層はこれに入射する光のうち互いに直交する直線偏光成分の一方を透過し、他方を吸収するものである。偏光層としては例えば、ヨウ素や有機染料などの２色性の材料を染色あるいは吸着させたポリビニルアルコールなどからなる基材フィルムを延伸し、２色性の材料を配向させることで吸収２色性を発現したものを用い、その両側をトリアセチルセルロースフィルムなどからなる２枚の透明保護フィルムで挟んだ構造のものを用いることができる。また、位相差層はシクロオレフィンポリマーやポリカーボネートなどの透明な高分子フィルムを用いることができる。
【００８３】
光学フィルム１３０は表示領域以上の面積を有し、図示しない粘着層を介して表示領域を全て覆うように封止手段１２０に固定される。
【００８４】
この際、光学フィルム１３０は封止手段１２０、もしくは発光素子を有する基板と外形寸法が同じ、またはそれよりやや小さめにすることがＯＬＥＤ表示パネルの外形寸法を無駄に大きくしないこと、及び反射防止膜が表示領域内で均一になるために重要である。
【００８５】
つまり、光学フィルムの端部では反射防止膜の膜厚が均一になりにくいため、光学フィルムは表示領域よりもできるだけ大きいことが望ましいが、ＯＬＥＤ表示パネルの外形寸法を無駄に大きくしないためには封止手段、もしくは発光素子を有する基板の外形寸法と同じもしくはそれより小さくする必要がある。
【００８６】
発光素子を有する基板１２１のおもて面上であって、封止手段１２０に覆われない領域には画像信号などの電気的信号を外部と接続する領域を有し、この領域にフレキシブルプリント回路板（以下、ＦＰＣとも呼ぶ）１５０を備え、このＦＰＣ１５０を介して外部と電気的に接続する。また、この領域には必要に応じてドライバとして機能する半導体チップ１４０を実装してもよい。
【００８７】
ＯＬＥＤ表示パネル３は少なくとも表示領域を覆う光学フィルム１３０の観察者側の面（おもて面）上に反射防止膜１００を有し、さらに基板１２１のうら面と、図４中、OLED表示パネル３の２つの側面（左右の端面）と底面（下方向の端面）の３つの端面に反射防止膜と同じ材料の膜を備える。
【００８８】
この場合、ＯＬＥＤ表示パネルのおもて面とうら面に同じ材質の膜が形成されるため、反射防止膜と表示パネルを構成する部材とで温度による体積変化の比率が異なっていても、ＯＬＥＤ表示パネルのおもて面とうら面で収縮または膨張の方向が同じになるため、表示パネルが反る等の変形が抑制される。
【００８９】
また、ＯＬＥＤ表示パネルを構成する基板の端面が膜で覆われ保護されるため、特に
ＯＬＥＤ表示パネルを薄型化するために薄いガラス基板を採用する場合に基板端面の小さなクラックなどから割れやすくなることを防止する効果が得られる場合がある。
【００９０】
さらに、反射防止膜を構成する膜として、膜表面の抵抗が１０11Ω未満となる膜を採用することで、ＯＬＥＤ表示パネルの表示領域のみならず、端部や端面への埃の付着を抑制することができる。尚、本発明に好適な反射防止膜については後に詳述する。
【００９１】
ここで、ＯＬＥＤ表示パネルは電気的信号の外部との接続を所定の一方向から行う構造とすることが重要である。つまり、本実施の形態の通り、ＯＬＥＤ表示パネル３に接続するＦＰＣ１５０は観察者が表示領域を正面から観察した際、矩形であるＯＬＥＤ表示パネルの一つの辺に相当する部分に接続する。
【００９２】
この場合、ＯＬＥＤ表示パネルをＦＰＣ１５０が接続される領域、つまり、発光素子を有する基板１２１において、封止手段１２０と重ならない部分で直接あるいは適切な治具を介して固定し、ディップコート法で反射防止膜を塗布すると一回の工程で、ＯＬＥＤ表示パネルのおもて面とうら面、及び、３つの端面に反射防止膜と同じ材料の膜を形成することができる。このため塗布材料のロスが少なく、低コストな成膜が可能となる。
【００９３】
（ＯＬＥＤ表示パネルの実施形態２）
次に本発明に係るＯＬＥＤ表示パネルの他の実施の形態について図面を参照して説明する。図７は本発明に係るＯＬＥＤ表示パネルの１実施例の概略構成を示す斜視図であり、図８及び図９はそれぞれ本発明に係るＯＬＥＤ表示パネルの１実施例の断面構造の概略を示す模式図である。
【００９４】
ＯＬＥＤ表示パネル４は発光素子を有する基板側から光を取り出す、所謂ボトムエミッション型のＯＬＥＤ表示パネルであり、上記実施の形態（ＯＬＥＤ表示パネルの実施形態１）に記載のＯＬＥＤ表示パネルと同様な部分については詳細な説明は省略する。
【００９５】
ＯＬＥＤ表示パネル４はマトリクス状に配置した複数の画素を構成する有機発光ダイオード素子からなる発光素子を有する透明な基板１２３と、封止手段１２４と、発光素子を有する基板１２３のおもて面に配置する光学フィルム１３１と、を有し、少なくともその表示領域であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜を有し、さらに少なくとも表示領域のおもて面とは逆の面（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備える。
【００９６】
ボトムエミッション型の場合には封止手段１２４として透明な封止板を用いる必要はない。このため、図８に例示する通り、封止手段１２４としてより安価なステンレスなどの金属製の封止管を用い表示領域の周囲に枠状に塗布した接着性のあるシール剤により透明な基板１２３と密閉封止する。この場合、封止手段１２４と透明な基板１２３との空隙
１２５は窒素などの不活性なガスを封入し、有機発光ダイオード素子の長寿命化のために図示しない吸湿材（デシカント）を設けても良い。
【００９７】
このように封止手段として封止管を用いる代わりに、図９に例示する通り、ガスバリア性のある無機材料を積層形成する、あるいは無機の材料と有機の材料を交互に繰り返し積層することでガスバリア性を持たせた膜を積層形成することで封止してもよい。
【００９８】
光学フィルム１３１は外光の反射を抑制するために必要に応じて配置するもので、少なくとも一つの偏光層を含み、１／４波長板として機能する位相差層と組み合わせることで円偏光板として機能するものである。偏光層はこれに入射する光のうち互いに直交する直線偏光成分の一方を透過し、他方を吸収するものである。偏光層としては例えば、ヨウ素や有機染料などの２色性の材料を染色あるいは吸着させたポリビニルアルコールなどからなる基材フィルムを延伸し、２色性の材料を配向させることで吸収２色性を発現したものを用い、その両側をトリアセチルセルロースフィルムなどからなる２枚の透明保護フィルムで挟んだ構造のものを用いることができる。また、位相差層はシクロオレフィンポリマーやポリカーボネートなどの透明な高分子フィルムを用いることができる。
【００９９】
光学フィルム１３１は表示領域以上の面積を有し、図示しない粘着層を介して表示領域を全て覆うように透明な基板１２３に固定される。
【０１００】
発光素子を有する透明な基板１２３のうら面上であって、封止手段１２０に覆われない領域には画像信号などの電気的信号を外部と接続する領域を有し、この領域にフレキシブルプリント回路板（以下、ＦＰＣとも呼ぶ）１５１を備え、このＦＰＣ１５１を介して外部と電気的に接続する。また、この領域には必要に応じてドライバとして機能する半導体チップ１４１を実装してもよい。
【０１０１】
ＯＬＥＤ表示パネル４は少なくとも表示領域を覆う光学フィルム１３１の観察者側の面（おもて面）上に反射防止膜１００を有し、さらに封止手段１２４のうら面と、図７中、ＯＬＥＤ表示パネル４の２つの側面（左右の端面）と底面（下方向の端面）の３つの端面に反射防止膜と同じ材料の膜を備える。
【０１０２】
この場合、ＯＬＥＤ表示パネルのおもて面とうら面に同じ材質の膜が形成されるため、反射防止膜と表示パネルを構成する部材とで温度による体積変化の比率が異なっていても、ＯＬＥＤ表示パネルのおもて面とうら面で収縮または膨張の方向が同じになるため、表示パネルが反る等の変形が抑制される。
【０１０３】
また、ＯＬＥＤ表示パネルを構成する基板の端面が膜で覆われ保護されるため、特に
ＯＬＥＤ表示パネルを薄型化するために薄いガラス基板を採用する場合に基板端面の小さなクラックなどから割れやすくなることを防止する効果が得られる場合がある。
【０１０４】
さらに、反射防止膜を構成する膜として、膜表面の抵抗が１０11Ω未満となる膜を採用することで、ＯＬＥＤ表示パネルの表示領域のみならず、端部や端面への埃の付着を抑制することができる。尚、本発明に好適な反射防止膜については後に詳述する。
【０１０５】
ここで、ＯＬＥＤ表示パネルは電気的信号の外部との接続を所定の一方向から行う構造とすることが重要である。つまり、本実施の形態の通り、ＯＬＥＤ表示パネル４に接続するＦＰＣ１５１は観察者が表示領域を正面から観察した際、矩形であるＯＬＥＤ表示パネルの一つの辺に相当する部分に接続する。
【０１０６】
この場合、ＯＬＥＤ表示パネルをＦＰＣ１５１が接続される領域、つまり、発光素子を有する透明な基板１２３において、封止手段１２４と重ならない部分で直接あるいは適切な治具を介して固定し、ディップコート法で反射防止膜を塗布すると一回の工程で、OLED表示パネルのおもて面とうら面、及び、３つの端面に反射防止膜と同じ材料の膜を形成することができる。このため塗布材料のロスが少なく、低コストな成膜が可能となる。
【０１０７】
（液晶表示パネルの実施形態２）
次に本発明に係る液晶表示パネルの他の実施の形態について図面を参照して説明する。図１０及び図１１はそれぞれ本発明に係る液晶表示パネルの１実施例の概略構成を示す斜視図及び断面構造の概略を示す模式図である。また、図１２は本発明に係る液晶表示パネルとバックライト装置を組み合わせた表示装置の断面構造の概略を示す模式図である。
【０１０８】
本実施の形態の液晶表示パネルは上記液晶表示パネル（液晶表示パネルの実施形態１）において、第２の透明基板２１の第１の透明基板２０側の面上であって、第１の透明基板２０に覆われない領域の少なくとも一部に、第１の透明基板２０の第２の透明基板２１とは逆側の面においてその高さが略同じとなる平坦化膜７０を備えるものである。さらに、液晶表示パネルは少なくともその表示領域及び平坦化膜７０の少なくとも一部であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜１０を有し、さらに少なくとも表示領域のおもて面とは逆の面（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備えるものであって、上記実施形態と同じ部材には同じ符号を付け詳細な説明は省略する。
【０１０９】
本実施の形態の液晶表示パネルは、第２の透明基板２１のおもて面側であって、第１の透明基板２０が重なっていない領域に新に平坦化膜７０を設けることで液晶表示パネルのおもて面の段差を減らし、平坦な領域を増やすものである。この際、第１の光学フィルム３０の厚みも考慮して、液晶表示パネルのおもて面を平坦化することが望ましい。したがって、平坦化膜７０は第２の透明基板上だけでなく、第１の透明基板２０上や第１の光学フィルム３０上にも形成することで液晶表示パネルのおもて面をより広い領域に渡って平坦化するようにしても良い。
【０１１０】
平坦化膜７０としては有機材料や無機材料を使用することができ、透明であっても不透明であってもよい。ただし、平坦化膜７０を第１の光学フィルム３０のおもて面上にも形成する場合は、可視光に対して透明であることが望ましい。比較的容易に段差をなくすためには有機系の材料を用いることが望ましい。また、反射防止膜を塗布する際の耐性も考慮することが必要である。
【０１１１】
ここで、塗布法により反射防止膜を形成する場合、反射防止膜を形成すべき面に段差があると、その段差に起因して膜厚が均一にならない。このため段差部とその近傍では光学特性が均質な反射防止膜が形成できない。
【０１１２】
しかしながら、本実施の形態の様に液晶表示パネルのおもて面の段差を平坦化膜により減らし、段差部を表示領域から遠ざけることで、少なくとも表示領域では光学特性の均一性の高い反射防止膜が実現できる。
【０１１３】
尚、液晶表示パネルの場合、平坦化膜を設ける領域を液晶表示パネルが電気的信号を外部と接続する領域と兼用することで、特に額縁の大きさを拡大することなく、表示領域において光学特性の均一性の高い反射防止膜が実現できる。
【０１１４】
換言すると、表示領域において光学特性の均一性の高い反射防止膜を有し、なおかつ額縁の小さな表示パネルを実現することができる。
【０１１５】
尚、表示パネルにおいて、電気的信号の外部と接続する領域に平坦化膜を設けることはその部分を保護するという効果もある。つまり、平坦化膜には表示パネルに直接、反射防止膜を塗布する際に電気的な接続箇所を保護するという効果も期待できる。
【０１１６】
（液晶表示パネルの実施形態３）
次に本発明に係る液晶表示パネルのその他の実施の形態について図面を参照して説明する。図１３及び図１４はそれぞれ本発明に係る液晶表示パネルの１実施例の概略構成を示す斜視図及び断面構造の概略を示す模式図である。また、図１５は本発明に係る液晶表示パネルとバックライト装置を組み合わせた表示装置の断面構造の概略を示す模式図である。
【０１１７】
本実施の形態の液晶表示パネルは上記液晶表示パネル（液晶表示パネルの実施形態１）において、第２の透明基板２１の第１の透明基板２０側の面上であって、第１の透明基板２０に覆われない領域の少なくとも一部に、第１の光学フィルム３０の第１の透明基板
２０側とは反対側の面においてその高さが略同じとなる第１の平坦化膜７０を備える。また、第２の透明基板２１の第１の透明基板２０とは逆側の面上であって、第１の透明基板２０に覆われない領域に相当する部分の少なくとも一部には、第２の光学フィルム３１の第２の透明基板２１側とは反対側の面においてその高さが略同じとなる第２の平坦化膜
７１を備え、さらにこの液晶表示パネルは少なくともその表示領域及び第１または第２の平坦化膜の少なくとも一部であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜１０を有し、さらに少なくとも表示領域のおもて面とは逆の面（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備えるもので、上記実施形態と同じ部材には同じ符号を付け詳細な説明は省略する。
【０１１８】
本実施の形態の液晶表示パネルは、第２の透明基板２１のおもて面側であって、第１の透明基板２０が重なっていない領域に新に平坦化膜７０を設けることで液晶表示パネルのおもて面の段差を減らし、平坦な領域を増やすものである。この際、第１の光学フィルム３０の厚みも考慮して、液晶表示パネルのおもて面を平坦化することが望ましい。したがって、平坦化膜７０は第２の透明基板上だけでなく、第１の透明基板２０上や第１の光学フィルム３０上にも形成することで液晶表示パネルのおもて面をより広い領域に渡って平坦化するようにしても良い。
【０１１９】
また、本実施の形態の液晶表示パネルは、第２の透明基板２１のうら面側であって、第１の透明基板２０が重なっていない領域に相当する部分に新に平坦化膜７１を設けることで液晶表示パネルのうら面の段差を減らし、平坦な領域を増やすものである。この際、第２の光学フィルム３１の厚みも考慮して、液晶表示パネルのうら面を平坦化することが望ましい。したがって、平坦化膜７１は第２の透明基板上だけでなく、第２の光学フィルム３１上にも形成することで液晶表示パネルのうら面をより広い領域に渡って平坦化するようにしても良い。
【０１２０】
平坦化膜７０，７１としては有機材料や無機材料を使用することができ、透明であっても不透明であってもよい。ただし、平坦化膜７０，７１を第１の光学フィルム３０のおもて面や第２の光学フィルムのうら面上にも形成する場合は、可視光に対して透明であることが望ましい。比較的容易に段差をなくすためには有機系の材料を用いることが望ましい。また、反射防止膜を塗布する際の耐性も考慮することが必要である。
【０１２１】
ここで、塗布法により反射防止膜を形成する場合、反射防止膜を形成すべき面に段差があると、その段差に起因して膜厚が均一にならない。このため段差部とその近傍では光学特性が均質な反射防止膜が形成できない。
【０１２２】
しかしながら、本実施の形態の様に液晶表示パネルのおもて面とうら面の両面の段差を平坦化膜により減らし、段差部を表示領域から遠ざけることで、少なくとも表示領域では光学特性の均一性の高い反射防止膜が実現できる。
【０１２３】
尚、液晶表示パネルの場合には、第２の透明基板にマトリクス状に配置した複数の画素を構成する電極を備え、さらに画像信号などの電気的信号を外部と接続する領域を有し、この電気的信号の外部との接続を所定の一方向から行う構造とすると、平坦化膜を設ける領域は電気的信号を外部と接続する領域と兼用できるため、特に額縁の大きさを拡大することなく、表示領域において光学特性の均一性の高い反射防止膜が実現できる。
【０１２４】
換言すると、表示領域において光学特性の均一性の高い反射防止膜を有し、なおかつ額縁の小さな表示パネルを実現することができる。
【０１２５】
（ＯＬＥＤ表示パネルの実施形態３）
次に本発明に係るＯＬＥＤ表示パネルの他の実施の形態について図面を参照して説明する。図１６は本発明に係るＯＬＥＤ表示パネルの１実施例の概略構成を示す斜視図であり、図１７及び図１８はそれぞれ本発明に係るＯＬＥＤ表示パネルの１実施例の断面構造の概略を示す模式図である。
【０１２６】
本実施の形態のＯＬＥＤ表示パネルは上記ＯＬＥＤ表示パネル（ＯＬＥＤ表示パネルの実施形態１）において、発光素子を有する基板１２１は封止手段１２０よりも面積が大きく、発光素子を有する基板１２１と封止手段１２０が重なる領域に表示領域を有するものである。また、発光素子を有する基板１２１の封止手段１２０側の面上であって、封止手段１２０に覆われない領域の少なくとも一部には、封止手段１２０の発光素子を有する基板１２１とは逆側の面においてその高さが略同じとなる平坦化膜１７０を備える。さらにこのＯＬＥＤ表示パネルは少なくともその表示領域及び平坦化膜の少なくとも一部であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜１００を有し、さらに少なくとも表示領域のおもて面とは逆の面（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備える。
【０１２７】
従って、上記実施形態と同じ部材には同じ符号を付け詳細な説明は省略する。
【０１２８】
本実施の形態のＯＬＥＤ晶表示パネルは発光素子を有する基板１２１のおもて面側であって、封止手段１２０が重なっていない領域に新に平坦化膜１７０を設けることでOLED表示パネルのおもて面の段差を減らし、平坦な領域を増やすものである。この際、光学フィルム１３０の厚みも考慮して、ＯＬＥＤ表示パネルのおもて面を平坦化することが望ましい。したがって、平坦化膜１７０は発光素子を有する基板１２１上だけでなく、封止手段１２０上や光学フィルム１３０上にも形成することでＯＬＥＤ表示パネルのおもて面をより広い領域に渡って平坦化するようにしても良い。
【０１２９】
平坦化膜１７０としては有機材料や無機材料を使用することができ、透明であっても不透明であってもよい。ただし、平坦化膜１７０を光学フィルム１３０のおもて面上にも形成する場合は、可視光に対して透明であることが望ましい。比較的容易に段差をなくすためには有機系の材料を用いることが望ましい。また、反射防止膜を塗布する際の耐性も考慮することが必要である。
【０１３０】
ここで、塗布法により反射防止膜を形成する場合、反射防止膜を形成すべき面に段差があると、その段差に起因して膜厚が均一にならない。このため段差部とその近傍では光学特性が均質な反射防止膜が形成できない。しかしながら、本実施の形態の様にＯＬＥＤ表示パネルのおもて面の段差を平坦化膜により減らし、段差部を表示領域から遠ざけることで、少なくとも表示領域では光学特性の均一性の高い反射防止膜が実現できる。
【０１３１】
尚、ＯＬＥＤ表示パネルの場合、発光素子を有する基板に画像信号などの電気的信号を外部と接続する領域を有し、この電気的信号の外部との接続を所定の一方向から行う構造とすると、平坦化膜を設ける領域は電気的信号を外部と接続する領域と兼用することで、特に額縁の大きさを拡大することなく、表示領域において光学特性の均一性の高い反射防止膜が実現できる。
【０１３２】
換言すると、表示領域において光学特性の均一性の高い反射防止膜を有し、なおかつ額縁の小さな表示パネルを実現することができる。
【０１３３】
尚、表示パネルにおいて、電気的信号の外部と接続する領域に平坦化膜を設けることはその部分を保護するという効果もある。つまり、平坦化膜には表示パネルに直接、反射防止膜を塗布する際に電気的な接続箇所を保護するという効果も期待できる。
【０１３４】
（ＯＬＥＤ表示パネルの実施形態４）
次に本発明に係るＯＬＥＤ表示パネルのその他の実施の形態について図面を参照して説明する。図１９は本発明に係るＯＬＥＤ表示パネルの１実施例の概略構成を示す斜視図であり、図２０及び図２１はそれぞれ本発明に係るＯＬＥＤ表示パネルの１実施例の断面構造の概略を示す模式図である。
【０１３５】
本実施の形態のＯＬＥＤ表示パネルは上記ＯＬＥＤ表示パネル（ＯＬＥＤ表示パネルの実施形態２）において、画像光は発光素子を有する透明な基板１２３側から取り出すものであり、さらに透明な基板１２３の封止手段１２４とは反対側の面には少なくとも一つの偏光層を含む光学フィルム１３１を備える。また、透明な基板１２３の封止手段１２４とは逆側の面上であって、なおかつ光学フィルム１３１に覆われない領域の少なくとも一部には、光学フィルム１３１の透明な基板１２３とは反対側の面において、その高さが略同じとなる平坦化膜１７１を備える。さらにこのＯＬＥＤ表示パネルは少なくともその表示領域及び平坦化膜１７１の少なくとも一部であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜１００を有し、さらに少なくとも表示領域のおもて面とは逆の面
（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備えるものである。
【０１３６】
従って、上記実施形態と同じ部材には同じ符号を付け詳細な説明は省略する。本実施の形態のＯＬＥＤ表示パネルは発光素子を有する基板１２３のおもて面側であって、光学フィルム１３１が配置されていない領域に新に平坦化膜１７１を設けることでＯＬＥＤ表示パネルのおもて面の段差を減らし、平坦な領域を増やすものである。したがって、平坦化膜１７１は発光素子を有する基板１２３上だけでなく、光学フィルム１３１上にも形成することでＯＬＥＤ表示パネルのおもて面をより広い領域に渡って平坦化するようにしても良い。
【０１３７】
平坦化膜１７１としては有機材料や無機材料を使用することができ、透明であっても不透明であってもよい。ただし、平坦化膜１７１を光学フィルム１３１のおもて面上にも形成する場合は、可視光に対して透明であることが望ましい。比較的容易に段差をなくすためには有機系の材料を用いることが望ましい。また、反射防止膜を塗布する際の耐性も考慮することが必要である。
【０１３８】
ここで、塗布法により反射防止膜を形成する場合、反射防止膜を形成すべき面に段差があると、その段差に起因して膜厚が均一にならない。このため段差部とその近傍では光学特性が均質な反射防止膜が形成できない。しかしながら、本実施の形態の様にＯＬＥＤ表示パネルのおもて面の段差を平坦化膜により減らし、段差部を表示領域から遠ざけることで、少なくとも表示領域では光学特性の均一性の高い反射防止膜が実現できる。
【０１３９】
尚、ＯＬＥＤ表示パネルの場合、発光素子を有する基板に画像信号などの電気的信号を外部と接続する領域を有し、この電気的信号の外部との接続を所定の一方向から行う構造とすると、平坦化膜を設ける領域は電気的信号を外部と接続する領域と兼用することで、特に額縁の大きさを拡大することなく、表示領域において光学特性の均一性の高い反射防止膜が実現できる。
換言すると、表示領域において光学特性の均一性の高い反射防止膜を有し、なおかつ額縁の小さな表示パネルを実現することができる。
【０１４０】
（液晶表示パネルの実施形態４）
次に本発明に係る液晶表示パネルのその他の実施の形態について図面を参照して説明する。図２２及び図２３はそれぞれ本発明に係る液晶表示パネルの１実施例の概略構成を示す斜視図及び断面構造の概略を示す模式図である。また、図２４は本発明に係る液晶表示パネルとバックライト装置を組み合わせた表示装置の断面構造の概略を示す模式図である。
【０１４１】
本実施の形態の液晶表示パネルは上記液晶表示パネル（液晶表示パネルの実施形態１）において、第２の透明基板２１が第１の透明基板２０よりも面積が大きく、第２の透明基板２１と第１の透明基板２０が重なる領域に表示領域を有するものである。また、第１の光学フィルム３２及び第２の光学フィルム３３は第１の透明基板２０よりもその面積が大きく、さらに第２の透明基板２１の第１の透明基板に覆われない領域の少なくとも一部を覆うものである。さらにこの液晶表示パネルは第１または第２の光学フィルム上であって、少なくともその表示領域及び第２の透明基板２１の第１の透明基板２０に覆われない領域の少なくとも一部であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜を有し、さらに少なくとも表示領域のおもて面とは逆の面（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備えるものである。
【０１４２】
従って、上記実施形態と同じ部材には同じ符号を付け詳細な説明は省略する。
【０１４３】
本実施の形態の液晶表示パネルでは、面積を拡大した光学フィルム上に反射防止膜を形成することになる。つまり、液晶表示パネル上の段差の影響を受けることなく、表示領域よりも広い領域に反射防止膜を形成することができるため、少なくとも表示領域では光学特性の均一性の高い反射防止膜が実現できる。換言すると、表示領域において光学特性の均一性の高い反射防止膜を有し、なおかつ額縁の小さな表示パネルを実現することができる。
【０１４４】
尚、液晶表示パネルの場合であれば、光学フィルムの面積を拡大した領域と電気的信号を外部と接続する領域を重ね合わすことができるため、特に表示パネルの額縁の大きさを拡大することなく、表示領域において光学特性の均一性の高い反射防止膜が実現できる。
【０１４５】
また、第１の光学フィルムと第２の光学フィルムの面積は第１の透明基板よりも大きく、第２の透明基板以下とすることが望ましい。第１の光学フィルムと第２の光学フィルムの面積は第１の透明基板よりも大きくするのは液晶表示パネル上の段差の影響を受けることなく、表示領域よりも広い領域に反射防止膜を形成することができるため望ましい。また、第１の光学フィルムと第２の光学フィルムの面積を第２の透明基板以下にすることは液晶表示パネルの外形寸法を無駄に大きくしないためである。
【０１４６】
従って、望ましい光学フィルムの外形は、液晶表示パネルが電気的信号を外部と接続する方向（辺）と直交する方向の長さは第１の透明基板と略一致させ、これと直交する方向の長さは第１の透明基板以上、第２の透明基板以下の長さにすることである。
【０１４７】
尚、本液晶表示パネルの場合、大面積化した第１の光学フィルム３２が第２の透明基板２２上に備えられる構造物、例えばドライバなどの半導体チップ４０に当たりゆがむことがないよう、第１の透明基板２０の厚み以下に薄くする、或いは光学フィルムが接触しない場所、例えばＦＰＣ上に備えるようにする必要がある。
【０１４８】
（ＯＬＥＤ表示パネルの実施形態５）
次に本発明に係るＯＬＥＤ表示パネルのその他の実施の形態について図面を参照して説明する。図２５は本発明に係るＯＬＥＤ表示パネルの１実施例の概略構成を示す斜視図であり、図２６及び図２７はそれぞれ本発明に係るＯＬＥＤ表示パネルの１実施例の断面構造の概略を示す模式図である。
【０１４９】
本実施の形態のＯＬＥＤ表示パネルは上記ＯＬＥＤ表示パネル（ＯＬＥＤ表示パネルの実施形態１）において、発光素子を有する基板１２１は封止手段１２０よりも面積が大きく、これらが重なる領域に表示領域を有するものであり、光学フィルム１３２は封止手段１２０よりも面積が大きく、さらに発光素子を有する基板１２１の封止手段１２０に覆われない領域の少なくとも一部を覆うものである。
【０１５０】
さらにこのＯＬＥＤ表示パネルは光学フィルム１３２上であって、少なくともその表示領域及び発光素子を有する基板１２１の封止手段１２０に覆われない領域の少なくとも一部であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜１００を有し、さらに少なくとも表示領域のおもて面とは逆の面（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備えるものである。
【０１５１】
従って、上記実施形態と同じ部材には同じ符号を付け詳細な説明は省略する。
【０１５２】
本ＯＬＥＤ表示パネルは面積を拡大した光学フィルム上に反射防止膜を形成することになる。つまり、ＯＬＥＤ表示パネル上の段差の影響を受けることなく、表示領域よりも広い領域に反射防止膜を形成することができるため、少なくとも表示領域では光学特性の均一性の高い反射防止膜が実現できる。
【０１５３】
また、ＯＬＥＤ表示パネルの場合、発光素子を有する基板に画像信号などの電気的信号を外部と接続する領域を有し、この電気的信号の外部との接続を所定の一方向から行う構造とすると、光学フィルムの面積を拡大した領域と電気的信号を外部と接続する領域とを重ね合わせられるため、特に表示パネルの額縁の大きさを拡大することなく、表示領域において光学特性の均一性の高い反射防止膜が実現できる。換言すると、表示領域において光学特性の均一性の高い反射防止膜を有し、なおかつ額縁の小さな表示パネルを実現することができる。
【０１５４】
尚、光学フィルムの面積は封止手段以上、発光素子を有する基板以下とすることが望ましい。光学フィルムの面積は封止手段よりも大きくするのはＯＬＥＤ表示パネル上の段差の影響を受けることなく、表示領域よりも広い領域に反射防止膜を形成することができるため望ましい。また、光学フィルムの面積を発光素子を有する基板以下とすることは表示パネルの外形寸法を無駄に大きくしないためである。
【０１５５】
従って、望ましい光学フィルムの外形は、表示パネルが電気的信号を外部と接続する方向（辺）と直交する方向の長さは発光素子を有する基板と略一致させ、これと直交する方向の長さは封止手段以上、発光素子を有する基板以下の長さにすることである。
【０１５６】
（ＯＬＥＤ表示パネルの実施形態６）
次に本発明に係るＯＬＥＤ表示パネルのその他の実施の形態について図面を参照して説明する。図２８は本発明に係るＯＬＥＤ表示パネルの１実施例の概略構成を示す斜視図であり、図２９及び図３０はそれぞれ本発明に係るＯＬＥＤ表示パネルの１実施例の断面構造の概略を示す模式図である。
【０１５７】
本実施の形態のＯＬＥＤ表示パネルは上記ＯＬＥＤ表示パネル（ＯＬＥＤ表示パネルの実施形態２）において、発光素子を有する透明な基板１２３は封止手段１２４よりも面積が大きく、これらが重なる領域に表示領域を有するものであり、光学フィルム１３３は封止手段１２４よりも面積が大きく、さらに発光素子を有する透明な基板１２３の封止手段１２４に覆われない領域に相当する部分の少なくとも一部を覆うものである。
【０１５８】
さらにこのＯＬＥＤ表示パネルは光学フィルム１３３上であって、少なくともその表示領域及び発光素子を有する透明な基板１２３の封止手段１２４に覆われない領域に相当する部分の少なくとも一部であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜１００を有し、さらに少なくとも表示領域のおもて面とは逆の面（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備えるものである。
【０１５９】
従って、上記実施形態と同じ部材には同じ符号を付け詳細な説明は省略する。
【０１６０】
本ＯＬＥＤ表示パネルは面積を拡大した光学フィルム上に反射防止膜を形成することになる。つまり、ＯＬＥＤ表示パネル上の段差の影響を受けることなく、表示領域よりも広い領域に反射防止膜を形成することができるため、少なくとも表示領域では光学特性の均一性の高い反射防止膜が実現できる。
【０１６１】
また、ＯＬＥＤ表示パネルの場合、発光素子を有する基板に画像信号などの電気的信号を外部と接続する領域を有し、この電気的信号の外部との接続を所定の一方向から行う構造とすると、光学フィルムの面積を拡大した領域と電気的信号を外部と接続する領域とを重ね合わせられるため、特に表示パネルの額縁の大きさを拡大することなく、表示領域において光学特性の均一性の高い反射防止膜が実現できる。換言すると、表示領域において光学特性の均一性の高い反射防止膜を有し、なおかつ額縁の小さな表示パネルを実現することができる。
【０１６２】
尚、光学フィルムの面積は発光素子を有する基板と同等かそれより少し小さめとすることが望ましい。光学フィルムの面積は大きければ大きいほど表示領域内でより均一性の高い反射防止膜を実現しやすくなるため望ましい。また、光学フィルムの面積を発光素子を有する基板以下とすることは表示パネルの外形寸法を無駄に大きくしないためである。
【０１６３】
従って、望ましい光学フィルムの外形は、表示パネルが電気的信号を外部と接続する方向（辺）と直交する方向の長さは発光素子を有する基板と略一致させ、これと直交する方向の長さは封止手段以上、発光素子を有する基板以下の長さにすることである。
【０１６４】
（反射防止膜の実施形態）
次に本発明に係る反射防止膜に好適な実施の形態ついて説明する。本発明に係る反射防止膜は、無機酸化物微粒子とバインダーから形成されていることが望ましい。バインダーは反射防止膜のバインダーとして機能するものである。また基本的にこの膜は少なくとも無機酸化物微粒子、及びバインダーと溶剤を混合した塗料を基板に塗布・加熱によって成膜する。バインダーがシリカゾル，エポキシ樹脂モノマー，メラミン樹脂モノマー等の熱硬化性物質の場合は重合、即ち塗膜の熱硬化を促進するための触媒も塗料に極少量添加される。また、本実施形態にかかわる反射防止膜は、単層プロセスで形成可能であり、多層プロセスで形成しても良い。ただし、低コスト化のためには単層プロセスであることが望ましい。
【０１６５】
本実施形態にかかわる反射防止膜の形成方法の概略について図３３を用いて説明する。
【０１６６】
バインダーと溶剤の混合物１１と無機酸化物微粒子１２からなる反射防止膜塗料１３を表示パネル上に膜厚が均一になるように塗布する（工程Ａ）。
【０１６７】
加熱して塗膜を固化させる際、溶剤が気化して空隙１５が内部にある反射防止膜１０
（または１００）が形成される（工程Ｂ）。
【０１６８】
図３４は本実施形態の反射防止膜の一例についての走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）の断面写真であり、基板上に図３３［Ｂ］で示した反射防止膜を形成したものの一例である（なお、図３４の膜表面には極薄く白金が蒸着されている）。
【０１６９】
膜中の粒子は無機酸化物の酸化ケイ素であり、それらをシリカゾルのバインダーで固定している。図３４のＳＥＭ写真から膜内に明るい部分と、暗い部分があるが、エネルギー分散型Ｘ線分光法（ＥＤＸ）で測定した結果明るい部分には酸化ケイ素が多く存在し、反対に暗い部分には酸化ケイ素の存在割合が小さいことが確認できた。よって、酸化ケイ素が少ない部分は反射防止膜塗料を加熱する際溶剤が気化することで形成された空隙１５と考えられる。
【０１７０】
膜の主成分である酸化ケイ素の屈折率は約１.５であり、空隙の屈折率は約１.０であるので、膜中に占める空隙の割合を適切化することで屈折率を所望の値に制御することができる。
【０１７１】
また、熱硬化時の溶剤の気化が空隙形成に寄与することから用いる溶剤の沸点、及び基板に塗料を塗布後の熱硬化温度によっても空隙の形成は制御できる。次に、ＳＥＭの断面写真から、空隙は膜内部には存在するが、膜表面には少ないことがわかる。空隙が膜表面に多いと膜表面の凹凸が大きくなり、それによって布などで拭いたときに引っ掛かりやすくなるが、表面凹凸が小さいと引っ掛かりが少なくなるので、膜が剥がれたり傷ついたりしにくい。よって、膜の物理的強度が高くなる。
【０１７２】
以下に反射防止膜用の塗料材料の説明、及び成膜の詳細を記述する。
（１）塗料材料
塗料材料はバインダー，無機酸化物微粒子，溶剤からなる。これらに関して下記に記述する。
（１−１）バインダー
塗膜材料としては、透明性の高い有機系或いは無機系の高分子材料，高分子化可能な材料が挙げられる。
【０１７３】
有機系の高分子材料としては、熱可塑性の高分子材料が挙げられる。具体的にはアクリル樹脂，ポリスチレン，スチレン−アクリル共重合体，ポリエステル樹脂，ポリ塩化ビニル，エチレン−酢酸ビニル共重合体，ポリエチレンテレフタレート樹脂，ポリ塩化ビニリデン樹脂，ポリカーボネート樹脂等が挙げられる。有機系の高分子化可能な材料としては、熱硬化性の高分子材料が挙げられる。具体的には脂肪族骨格のポリアミック酸誘導体等が挙げられる。
【０１７４】
無機系の高分子材料としては、加水分解性残基を有するケイ素化合物（一般名はシリカゾル），加水分解性残基を有するチタン化合物（一般名はチタニアゾル）等が挙げられる。これらはアルコキシシラン、あるいはアルコキシチタンが分子量数千程度に重合した化合物であり、アルコール系の溶剤に可溶の状態である。これらを加熱することにより酸化ケイ素、或いは酸化チタンのバインダーを形成できる。
【０１７５】
無機系の高分子化可能な材料としてはアミノ基やクロル基，メルカプト基等各種置換基を有するアルコキシシラン等が挙げられる。具体的な材料は後述する加水分解性残基を有するケイ素化合物の記述の中で示す。
【０１７６】
加水分解性残基を有するケイ素化合物の一つとしてシリカゾルが挙げられる。これは加熱によって酸化ケイ素に変化する物質である。次にシリカゾルの一般的な調製方法は以下の通りである。テトラアルコキシシランを弱酸性条件で加温するとアルコキシ基が加水分解して水酸基となり、これが近傍のアルコキシシラン基と反応しケイ素−酸素―ケイ素の結合を形成しながら高分子量化したものを示す。一般に平均分子量は数千である。
【０１７７】
シリカゾルを作製する際用いられるテトラアルコキシシランとしてはテトラメトキシシラン，テトラエトキシシラン，テトラプロポキシシラン，テトライソプロポキシシラン，テトライソブトキシシラン，テトラブトキシシラン等が挙げられる。これ以外にはアルコキシシラン基の代わりに塩素基を有するケイ素化合物、例えば四塩化ケイ素等も挙げられる。
【０１７８】
シリカゾル以外に加水分解性残基を有するケイ素化合物としては、テトラアルコキシシラン以外に、アミノ基やクロル基，メルカプト基等を有する化合物を含まれる。具体的には３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
（１−２）無機酸化物微粒子
無機酸化物微粒子としては酸化ケイ素，酸化アルミニウム，酸化チタン，酸化セリウム等の無色の微粒子が挙げられる。
（１−２−１）無機酸化物微粒子の粒子径・形状
無機酸化物微粒子は球形の場合、膜に入射した光が散乱しないよう粒子径は波長の１／２以下が望ましい。可視光の波長領域が３８０ｎｍ〜７８０ｎｍであるので、この範囲で散乱しないための粒子径は１９０ｎｍ以下が望ましい。可視領域については、納谷嘉信著、１９８４年２月１０日第２版 産業色彩学、朝倉書店、２ページに記載がある。これより大きいと入射した光が散乱するため膜が濁って見える。また無機酸化物微粒子が鎖状の場合も上記と同様の理由で粒子の短軸の径は１９０ｎｍ以下にすることが望ましい。また、無機酸化物微粒子は、粒子径の異なるもの、あるいは形状の異なるものを複数種類用いても構わない。
（１−２−２）無機酸化物微粒子選定の付帯事項
用いる溶剤への分散性が不十分であると、凝集により大きな二次粒子になってしまい、やはり膜が濁って見えてしまうという問題がある。そこで、できれば酸化ケイ素微粒子を良好に分散できる溶剤を使用するのが良いのであるが、基板の種類によってはそのような溶剤を使用できない場合も考えられる。そこでそのような場合には適切な分散剤を添加することでこの問題に対処する。
【０１７９】
酸化ケイ素微粒子としてはコロイダルシリカが好適である。コロイダルシリカとしては例えば日産化学製オルガノシリカゾル，スノーテックス等が挙げられる。これら微粒子は表面に水酸基を多数有しているため親水性が高い。またこれらを部材として形成した反射防止膜は親水性であると同時に極めて抵抗が低い。具体的には１×１０10〜１０×１０10Ω程度である。この値はガラス（１０12〜１０16台），アクリル樹脂（１０16台），ポリカーボネート樹脂（１０16台），ＰＥＴ樹脂（１０16台）等の１００分の１〜百万分の１と非常に小さい。そのため、チリ等の埃が付着しにくい。よって、本発明の膜を基板表面に設けた表示装置は、乾燥した室内でも長時間にわたりチリが付着しくい。故に、一般家庭，オフィス等に設置される表示装置に形成する膜の部材としては好適である。
【０１８０】
また、後述するアルコキシシラン基を有するパーフルオロポリエーテル化合物系、或いはパーフルオロアルキル化合物系の撥液剤を処理し、撥液性を持たせることも可能である。
【０１８１】
酸化ケイ素以外に屈折率が小さく好適な酸化アルミニウムに関しても表面に水酸基を多数有するアルミナゾルは低抵抗率の膜を形成する点で好適である。
（１−３）溶剤
塗料の溶剤はバインダーを溶解、或いは一様に分散できるものが有効である。前述のバインダーとして好適の加水分解性残基を有するケイ素化合物と、無機酸化物微粒子として好適である酸化ケイ素微粒子を有する塗料の場合はアルコール系の溶剤が好適である。具体的にはエタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、tert−ブタノール、ｎ−ペンタノール、イソペンタノール、tert−ペンタノール等が挙げられる。
（２）製膜方法
本実施形態の反射防止膜は基板の前処理，塗布，加熱によって形成される。単層プロセスで形成可能であり、多層プロセスで形成しても良いが低コスト化のためには単層プロセスとすることが望ましい。更に耐擦性を向上させるため、加熱後の後処理を行うこともある。これらの詳細について記述する。
（２−１）前処理
前処理では塗料を均一に付着させるため、表示パネル表面の洗浄，濡れ性向上を行うことが望ましい。通常、表示パネルの表面には偏光板が配置され、偏光板を構成する保護フィルムは鹸化処理されており、このまま使用することが可能である。
（２−２）塗布方法
塗布はスピンコート，ディップコート，バーコート，アプリケーターによるコート，スプレーコート，フローコート等の方法が考えられるが、表示パネルに直接膜を形成すること、及び、表示パネルの５つの面を同時に成膜することを考慮すると、ディップコート
（浸漬）が好適である。
【０１８２】
適切な膜厚に制御するためには塗料の濃度、及び塗布条件を適正化する必要がある。例えば、ディップコートの場合は浸漬時間と引き上げ速度などが塗布条件として挙げられる。
【０１８３】
また、波長λの光線において反射率を最小にするための屈折率ｎの層の厚さｄは、ｄ＝λ／（４ｎ）で表される。反射率は、可視光である３８０〜７８０ｎｍの波長の中でも、人間の視感度の最も高い波長で反射率が最小になるように反射防止膜の膜厚ｄを設定することが好ましい。人間の視感度には個人差があるが、納谷嘉信著、１９８４年２月１０日第２版 産業色彩学、朝倉書店、４〜８ページに記載の明所視比視感度曲線で、相対分光感度の極大値の波長、つまり明るい環境で人間の視感度が最も高い波長(λ)は５５５ｎｍ付近である。また、反射率を理論的に０％にできる反射防止膜の屈折率は、適用する基材の屈折率で決まり、基材の屈折率の平方根が反射防止膜の屈折率となる。表示パネルの最表面には偏光板の保護フィルムなどの透明樹脂フィルムが配置され、これらの屈折率は
１.４９〜１.５４程度なので屈折率１.２２〜１.２４の反射防止膜を用いることが望まれる。以上より、５５５ｎｍの波長において、屈折率１.５ の基材の反射光を理論的に０％にできる反射防止膜の膜厚は、１１６ｎｍである。反射防止膜が無い場合の表示パネル表面の反射率は約４％あるので、少なくとも反射率を４％以下にできる反射防止膜の膜厚は９０ｎｍから１４０ｎｍの範囲である。このときの反射率と膜厚の関係を図３５に示す。
（２−３）加熱
塗布工程後、溶剤を揮発させる、或いはバインダーによっては重合を進行させるために加熱を行う。
【０１８４】
ところで、加熱温度は溶剤の沸点以外に表示パネルの耐熱温度以下にする必要があり、またバインダーとして熱硬化性の材料を用いた場合は熱硬化温度以上にする必要がある。そのためこれら要求を満たすよう溶剤の選定，バインダー材料の選定を行う必要がある。更に加熱後の冷却で膜と表示パネルの体積収縮率に差があると、膜の剥離，表示パネルの変形等の問題が起こる可能性があるので、表示パネルと膜は材質の似通ったもの、或いは線膨張率の近いものを選択することが望ましい。さらに、表示パネルの前面と後面に同じ膜厚の膜を形成することが膜と表示パネルの線膨張率の違いによる反りを防止するためには望ましい。
（２−４）後処理概要
熱硬化によって本発明の反射防止膜は形成されるが、これに撥液性を有する含フッ素化合物からなる層が形成されることによって、表面の防汚性が向上する。ただし撥液性を有する含フッ素化合物からなる層の厚さは形成された反射防止膜の反射防止効果を低下させることがないよう、極めて薄く製膜する必要がある。人間の視感度の高い５５５ｎｍの波長において、反射率への影響が１％未満となる撥液層の膜厚は、６ｎｍ未満である。
【０１８５】
なお撥液性を有する含フッ素化合物からなる層の形成形態は下記２種類挙げられる。
・撥液性を有する含フッ素化合物からなる塗膜
撥液性を有する含フッ素化合物からなる塗膜を形成する方法である。表面を塗膜で被覆することにより撥液性を発揮するものである。そのため、反射防止膜が低抵抗の場合、撥液性の含フッ素化合物が被覆されるため、表面抵抗が高まり、結果的にチリ等の埃を付着しやすくなる可能性がある。
【０１８６】
この膜を形成する材料としては、サイトップ(旭硝子社製)，ＩＮＴ３０４ＶＣ（ＩＮＴスクリーン社製）等が挙げられる。これらを溶剤で希釈後、塗布し、加熱することにより溶剤を揮発させ、場合によっては熱硬化させることにより製膜する。
・パーフルオロポリエーテル化合物、或いはパーフルオロアルキル化合物を結合
末端に水酸基等と結合可能なアルコキシシラン基を有するパーフルオロポリエーテル化合物、或いはパーフルオロアルキル化合物を反射防止膜に結合させる方法である。具体的には下記で示されるような化合物を反射防止膜に結合される。
【０１８７】
【化１】
【０１８８】
この場合、反射防止膜表面を完全に被覆するのではなく、反射防止膜上に草のようにパーフルオロポリエーテル鎖、或いはパーフルオロアルキル鎖が生えているような状況になる。反射防止膜の表面が完全に被覆されているわけではないので膜が１０11Ω以下の低抵抗の場合、この方法を行った後も膜は低抵抗性を維持することが可能となる。
【０１８９】
更にこれらパーフルオロポリエーテル鎖、或いはパーフルオロアルキル鎖を表面に形成することで、表面の潤滑性も向上する。そのため、擦れによる表面の物理的ダメージを緩和し、耐擦性の高い表面を形成することができる。
（２−５）後処理で用いる撥液剤
（２−４）で記述したように撥液剤としては末端にアルコキシシラン基を有するパーフルオロポリエーテル化合物、或いはパーフルオロアルキル化合物が有効である。下記に撥液剤、及び撥液膜形成方法を示す。
（ａ）撥液剤
末端にアルコキシシラン基を有するパーフルオロポリエーテル化合物、或いはパーフルオロアルキル化合物としては具体的には以下の化合物１〜１２があげられる。
【０１９０】
【化２】
【０１９１】
【化３】
【０１９２】
【化４】
【０１９３】
【化５】
【０１９４】
【化６】
【０１９５】
【化７】
【０１９６】
【化８】
【０１９７】
【化９】
【０１９８】
【化１０】
【０１９９】
【化１１】
【０２００】
【化１２】
【０２０１】
【化１３】
【０２０２】
このうち化合物１〜８は以下に示す合成方法を実行することで得られる。化合物９〜
１２は化合物名がそれぞれ１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリメトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリエトキシシラン、１Ｈ，
１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリメトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリエトキシシランとしてヒドラス化学社より上市されている。また、その他の市販材料としてはダイキン工業社製オプツールＤＳＸが挙げられる。これら化合物を一般式で表すと以下のようになる。
【０２０３】
【化１４】
【０２０４】
（化合物１の合成）
デュポン社製クライトックス１５７ＦＳ−Ｌ（平均分子量２５００）（２５重量部）を３Ｍ社製ＰＦ−５０８０（１００重量部）に溶解し、これに塩化チオニル（２０重量部）を加え、攪拌しながら４８時間還流する。塩化チオニルとＰＦ−５０８０をエバポレーターで揮発させクライトックス１５７ＦＳ−Ｌの酸クロライド（２５重量部）を得る。これにＰＦ−５０８０（１００重量部），チッソ（株）製サイラエースＳ３３０（３重量部），トリエチルアミン（３重量部）を加え、室温で２０時間攪拌する。反応液を昭和化学工業製ラジオライトファインフローＡでろ過し、ろ液中のＰＦ−５０８０をエバポレーターで揮発させ、化合物１（２０重量部）を得た。
（化合物２の合成）
チッソ（株）製サイラエースＳ３３０（３重量部）の代わりにチッソ（株）製サイラエースＳ３６０（３重量部）を用いる以外は化合物１の合成と同様にして化合物２（２０重量部）を得た。
（化合物３の合成）
デュポン社製クライトックス１５７ＦＳ−Ｌ（平均分子量２５００）（２５重量部）の代わりにダイキン工業社製デムナムＳＨ（平均分子量３５００）（３５重量部）を用いる以外は化合物１の合成と同様にして化合物３（３０重量部）を得た。
（化合物４の合成）
チッソ（株）製サイラエースＳ３３０（３重量部）の代わりにチッソ（株）製サイラエースＳ３６０を用い、デュポン社製クライトックス１５７ＦＳ−Ｌ(平均分子量２５００)（２５重量部）の代わりにダイキン工業社製デムナムＳＨ（平均分子量３５００）（３５重量部）を用いる以外は化合物１の合成と同様にして化合物４（３０重量部）を得た。
（化合物５の合成）
デュポン社製クライトックス１５７ＦＳ−Ｌ（平均分子量２５００）（２５重量部）の代わりにダイキン工業社製７Ｈ−ドデカフルオロヘプタン酸(分子量３４６.０６)（３.５重量部）を用いる以外は化合物１の合成と同様にして化合物５（３.５重量部）を得た。
（化合物６の合成）
デュポン社製クライトックス１５７ＦＳ−Ｌ（平均分子量２５００）（２５重量部）の代わりにダイキン工業社製７Ｈ−ドデカフルオロヘプタン酸(分子量３４６.０６)（３.５重量部）を用い、チッソ（株）社製サイラエースＳ３１０（２重量部）の代わりにチッソ（株）社製サイラエースＳ３２０（２重量部）を用いる以外は化合物１の合成と同様にして化合物６（３.５重量部）を得た。
（化合物７の合成）
デュポン社製クライトックス１５７ＦＳ−Ｌ（平均分子量２５００）（２５重量部）の代わりにダイキン工業社製９Ｈ−ヘキサデカフルオロノナン酸（分子量４４６.０７）
（４.５重量部）を用いる以外は化合物１の合成と同様にして化合物７（４.５重量部）を得た。
（化合物８の合成）
デュポン社製クライトックス１５７ＦＳ−Ｌ（平均分子量２００）（２５重量部）の代わりにダイキン工業社製９Ｈ−ヘキサデカフルオロノナンサン（分子量４４６.０７）
（４.５重量部）を用い、チッソ（株）製サイラエースＳ３１０（２重量部）の代わりにチッソ（株）サイラエースＳ３２０（２重量部）を用いる以外は化合物１の合成と同様にして化合物８（４.５重量部）を得た。
（ｂ）撥液膜形成方法
末端にアルコキシシラン基を有するパーフルオロポリエーテル化合物、或いはパーフルオロアルキル化合物を用いる撥液膜形成方法は以下の通りである。
【０２０５】
まず末端にアルコキシシラン基を有するパーフルオロポリエーテル化合物、或いはパーフルオロアルキル化合物を溶剤に溶解する。濃度は塗布方法によっても異なってくるが、概ね０.０１〜１.０重量％程度である。フッ素系の溶剤として具体的には３Ｍ社のＦＣ−７２，ＦＣ−７７,ＰＦ−５０６０,ＰＦ−５０８０,ＨＦＥ−７１００,ＨＦＥ−７２００、デュポン社製バートレルＸＦ等が挙げられる。こうしてパーフルオロポリエーテル化合物、或いはパーフルオロアルキル化合物を溶解した液（以後撥液処理剤と記述）を調製する。
【０２０６】
次に反射防止膜表面に撥液処理剤を塗布し、加熱する。塗布方法としてディップコート法が好適である。
【０２０７】
（表示装置を備える機器の実施の形態）
次に本発明の表示装置を備える機器の実施の形態について説明する。図３１は本発明の表示装置を備える機器の一実施例の概略構成を模式的に示す断面図である。また、図３２は本発明の表示装置を備える機器の表示装置近傍の概略構成を模式的に示す一部断面図である。
【０２０８】
この機器は、テンキー等から構成される入力手段４００と、保護板３００と、表示装置５と、これらを保持する筐体を備える。
【０２０９】
保護板３００は透明で割れにくく、その表面の機械的な強度が強いことが望まれる。保護板としてはアクリル樹脂やポリカーボネート樹脂などの樹脂板を使用することができる。
【０２１０】
表示装置５は上記実施の形態で例示した液晶表示パネルとバックライト装置を組み合わせた液晶表示装置、あるいはＯＬＥＤ表示パネル（ＯＬＥＤ表示装置）を用いる。この場合、反射防止膜は光学フィルム上に形成されており、低反射を実現するような低屈折率な膜の場合には、硬度や耐擦はガラス表面の様に高くはできない。そこで、本機器では表示装置５の前面に透明な保護板３００を備え、保護板３００と表示装置５の間には空隙500を設ける。さらに、保護板３００は機器前面側の筐体２００で保持し、表示装置５は機器裏面側の筐体２１０で保持するようにする。
【０２１１】
この場合、前面側の外部より表示装置近傍に加わる機械的な力は保護板と機器の筐体に加わり、表示装置表面に機械的力が加わることを防止できるため、表示装置表面の反射防止膜に強度の弱い膜を使用していても不具合の発生を防止することできる。
【図面の簡単な説明】
【０２１２】
【図１】本発明の液晶表示パネルの概略構成を示す斜視図である。
【図２】本発明の液晶表示パネルの断面構造の概略を示す模式図である。
【図３】本発明の液晶表示装置の断面構造の概略を示す模式図である。
【図４】本発明の有機発光ダイオード表示パネルの概略構成を示す斜視図である。
【図５】本発明の有機発光ダイオード表示パネルの断面構造の概略を示す模式図である。
【図６】本発明の有機発光ダイオード表示パネルの断面構造の概略を示す模式図である。
【図７】本発明の有機発光ダイオード表示パネルの概略構成を示す斜視図である。
【図８】本発明の有機発光ダイオード表示パネルの断面構造の概略を示す模式図である。
【図９】本発明の有機発光ダイオード表示パネルの断面構造の概略を示す模式図である。
【図１０】本発明の液晶表示パネルの概略構成を示す斜視図である。
【図１１】本発明の液晶表示パネルの断面構造の概略を示す模式図である。
【図１２】本発明の液晶表示装置の断面構造の概略を示す模式図である。
【図１３】本発明の液晶表示パネルの概略構成を示す斜視図である。
【図１４】本発明の液晶表示パネルの断面構造の概略を示す模式図である。
【図１５】本発明の液晶表示装置の断面構造の概略を示す模式図である。
【図１６】本発明の有機発光ダイオード表示パネルの概略構成を示す斜視図である。
【図１７】本発明の有機発光ダイオード表示パネルの断面構造の概略を示す模式図である。
【図１８】本発明の有機発光ダイオード表示パネルの断面構造の概略を示す模式図である。
【図１９】本発明の有機発光ダイオード表示パネルの概略構成を示す斜視図である。
【図２０】本発明の有機発光ダイオード表示パネルの断面構造の概略を示す模式図である。
【図２１】本発明の有機発光ダイオード表示パネルの断面構造の概略を示す模式図である。
【図２２】本発明の液晶表示パネルの概略構成を示す斜視図である。
【図２３】本発明の液晶表示パネルの断面構造の概略を示す模式図である。
【図２４】本発明の液晶表示装置の断面構造の概略を示す模式図である。
【図２５】本発明の有機発光ダイオード表示パネルの概略構成を示す斜視図である。
【図２６】本発明の有機発光ダイオード表示パネルの断面構造の概略を示す模式図である。
【図２７】本発明の有機発光ダイオード表示パネルの断面構造の概略を示す模式図である。
【図２８】本発明の有機発光ダイオード表示パネルの概略構成を示す斜視図である。
【図２９】本発明の有機発光ダイオード表示パネルの断面構造の概略を示す模式図である。
【図３０】本発明の有機発光ダイオード表示パネルの断面構造の概略を示す模式図である。
【図３１】本発明の表示装置を備える機器の一実施例の概略構成を模式的に示す断面図である。
【図３２】本発明の表示装置を備える機器の表示装置近傍の概略構成を模式的に示す一部断面図である。
【図３３】本発明の反射防止膜の形成方法の概略説明図である。
【図３４】本発明の反射防止膜の一例を示す断面写真である。
【図３５】本発明の反射防止膜の膜厚と反射率の関係の一例を示す図である。
【符号の説明】
【０２１３】
１…液晶表示パネル、２…バックライト装置、３…有機発光ダイオード表示パネル、５…表示装置、１０，１００…反射防止膜、１１…バインダーと溶剤の混合物、１２…無機酸化物微粒子、１３…反射防止膜塗料、１５，１２２，１２５，５００…空隙、２０…第１の透明基板、２１…第２の透明基板、２２…液晶層、２３…シール材、３０，３２…第１の光学フィルム、３１，３３…第２の光学フィルム、４０，１４０，１４１…半導体チップ、５０，１５０，１５１…フレキシブルプリント回路板（ＦＰＣ）、６０…導光板、６１…光源、６２…反射板、６３…光学部材、７０，１７０，１７１…平坦化膜、１２０，１２４…封止手段、１２１，１２３…基板、１３０，１３１,１３２,１３３…光学フィルム、２００，２１０…筐体、３００…保護板。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の透明基板と第２の透明基板と、これら透明基板の間に液晶層を有する液晶表示パネルであって、前記液晶表示パネルは少なくともその表示領域であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜を有し、さらに少なくとも前記表示領域に相当する部分のおもて面とは逆の面と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備えることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項２】
マトリクス状に配置した複数の画素を構成する発光素子を有する基板と、封止手段とを有する有機発光ダイオード表示パネルであって、前記有機発光ダイオード表示パネルは少なくともその表示領域であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜を有し、さらに少なくとも表示領域に相当する部分のおもて面とは逆の面（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備えることを特徴とする有機発光ダイオード表示パネル。
【請求項３】
第１の透明基板と第２の透明基板と、これら透明基板の間に液晶層を有する液晶表示パネルにおいて、第２の透明基板は第１の透明基板よりも面積が大きく、第２の透明基板と第１の透明基板が重なる領域に表示領域を有するものであり、第２の透明基板の第１の透明基板側の面上であって、第１の透明基板に覆われない領域の少なくとも一部には、第１の透明基板の第２の透明基板とは逆側の面においてその高さが略同じとなる平坦化膜を備え、さらにこの液晶表示パネルは少なくともその表示領域及び平坦化膜の少なくとも一部であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜を有し、さらに少なくとも表示領域に相当する部分のおもて面とは逆の面（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備えることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項４】
第１の透明基板と第２の透明基板と、これら透明基板の間に液晶層を有する液晶表示パネルであって、第１の透明基板には第２の透明基板とは反対側の面に少なくとも一つの偏光層を含む第１の光学フィルムを備え、第２の透明基板には第１の透明基板とは反対側の面に少なくとも一つの偏光層を含む第２の光学フィルムを備え、第２の透明基板は第１の透明基板よりも面積が大きく、第２の透明基板と第１の透明基板が重なる領域に表示領域を有するものであり、第２の透明基板の第１の透明基板側の面上であって、第１の透明基板に覆われない領域の少なくとも一部には、第１の光学フィルムの第１の透明基板側とは反対側の面においてその高さが略同じとなる第１の平坦化膜を備え、第２の透明基板の第１の透明基板とは逆側の面上であって、第１の透明基板に覆われない領域の少なくとも一部には、第２の光学フィルムの第２の透明基板側とは反対側の面においてその高さが略同じとなる第２の平坦化膜を備え、さらにこの液晶表示パネルは少なくともその表示領域及び第１または第２の平坦化膜の少なくとも一部であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜を有し、さらに少なくとも表示領域に相当する部分のおもて面とは逆の面（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備えることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項５】
マトリクス状に配置した複数の画素を構成する発光素子を有する基板と、封止手段とを有する有機発光ダイオード表示パネルにおいて、発光素子を有する基板は封止手段よりも面積が大きく、発光素子を有する基板と封止手段が重なる領域に表示領域を有するものであり、発光素子を有する基板の封止手段側の面上であって、封止手段に覆われない領域の少なくとも一部には、封止手段の発光素子を有する基板とは逆側の面においてその高さが略同じとなる平坦化膜を備え、さらにこのＯＬＥＤ表示パネルは少なくともその表示領域及び平坦化膜の少なくとも一部であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜を有し、さらに少なくとも表示領域に相当する部分のおもて面とは逆の面
（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備えることを特徴とする有機発光ダイオード表示パネル。
【請求項６】
マトリクス状に配置した複数の画素を構成する発光素子を有する基板と、封止手段とを有する有機発光ダイオード表示パネルにおいて、画像光は発光素子を有する基板側から取り出すものであり、さらに発光素子を有する基板の封止手段とは反対の面には少なくとも一つの偏光層を含む光学フィルムを備え、発光素子を有する基板の封止手段とは逆側の面上であって、なおかつ光学フィルムに覆われない領域の少なくとも一部には、光学フィルムの発光素子を有する基板とは反対側の面において、その高さが略同じとなる平坦化膜を備え、さらにこのＯＬＥＤ表示パネルは少なくともその表示領域及び平坦化膜の少なくとも一部であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜を有し、さらに少なくとも表示領域に相当する部分のおもて面とは逆の面（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備えることを特徴とする有機発光ダイオード表示パネル。
【請求項７】
第１の透明基板と第２の透明基板と、これら透明基板の間に液晶層を有する液晶表示パネルであって、第１の透明基板には第２の透明基板とは反対側の面に少なくとも一つの偏光層を含む第１の光学フィルムを備え、第２の透明基板には第１の透明基板とは反対側の面に少なくとも一つの偏光層を含む第２の光学フィルムを備え、第２の透明基板は第１の透明基板よりも面積が大きく、第２の透明基板と第１の透明基板が重なる領域に表示領域を有するものであり、第１の光学フィルム及び第２の光学フィルムは第１の透明基板よりもその面積が大きく、さらに第２の透明基板の第１の透明基板に覆われない領域の少なくとも一部を覆うものであり、さらにこの液晶表示パネルは第１または第２の光学フィルム上であって、少なくともその表示領域及び第２の透明基板の第１の透明基板に覆われない領域の少なくとも一部であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜を有し、さらに少なくとも表示領域に相当する部分のおもて面とは逆の面（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備えることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項８】
マトリクス状に配置した複数の画素を構成する発光素子を有する基板と、封止手段とを有する有機発光ダイオード表示パネルにおいて、発光素子を有する基板と封止手段のうち、画像光を取り出す側の最表面に少なくとも一つの偏光層を含む光学フィルムを備え、発光素子を有する基板は封止手段よりも面積が大きく、これらが重なる領域に表示領域を有するものであり、光学フィルムは封止手段よりも面積が大きく、さらに発光素子を有する基板の封止手段に覆われない領域の少なくとも一部を覆うものであり、さらにこのOLED表示パネルは光学フィルム上であって、少なくともその表示領域及び発光素子を有する基板の封止手段に覆われない領域の少なくとも一部であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜を有し、さらに少なくとも表示領域に相当する部分のおもて面とは逆の面（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備えることを特徴とする有機発光ダイオード表示パネル。
【請求項９】
第２の透明基板にマトリクス状に配置した複数の画素を構成する電極を備え、さらに画像信号などの電気的信号を外部と接続する領域を有し、この電気的信号の外部との接続を所定の一方向から行う構造とし、光学フィルムの面積を拡大した領域と電気的信号を外部と接続する領域を重ね合わすことを特徴とする請求項７に記載の液晶表示パネル。
【請求項１０】
発光素子を有する基板に画像信号などの電気的信号を外部と接続する領域を有し、この電気的信号の外部との接続を所定の一方向から行う構造とし、光学フィルムの面積を拡大した領域と電気的信号を外部と接続する領域と重ね合わせること特徴とする請求項８に記載の有機発光ダイオード表示パネル。
【請求項１１】
無機酸化物からなる微粒子と、バインダーと、空隙とを有する反射防止膜であって、膜の一方の表面における算術平均粗さ（Ｒａ）が６ｎｍ未満とする反射防止膜であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の表示パネル。
【請求項１２】
無機酸化物からなる微粒子と、バインダーと、空隙とを有する反射防止膜において、前記バインダーは前記基板の部材と同じ部材を主成分とすることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の表示パネル。
【請求項１３】
無機酸化物からなる微粒子と、バインダーと、空隙とを有する反射防止膜において、前記空隙の密度は、空気と接する膜表面より、膜内部の方が高いものとすることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の表示パネル。
【請求項１４】
反射防止膜の膜表面の抵抗が１０11Ω未満であることを特徴とする請求項１１〜請求項１３に記載の表示パネル。
【請求項１５】
反射防止膜の表面に撥液層を有し、該撥液層と水との接触角が１００°以上１８０°以下であることを特徴とする請求項１１〜請求項１３に記載の表示パネル。
【請求項１６】
表示パネルと、その前面側に配置する透明な保護板と、前記表示パネル及び前記保護板の間に空気層を有する表示装置を備える機器において、前記保護板は前記表示パネルの表示領域よりも面積が大きく、さらに前記表示装置と前記保護板は独立して筐体に固定されることを特徴とする機器。
【請求項１】
第１の透明基板と第２の透明基板と、これら透明基板の間に液晶層を有する液晶表示パネルであって、前記液晶表示パネルは少なくともその表示領域であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜を有し、さらに少なくとも前記表示領域に相当する部分のおもて面とは逆の面と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備えることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項２】
マトリクス状に配置した複数の画素を構成する発光素子を有する基板と、封止手段とを有する有機発光ダイオード表示パネルであって、前記有機発光ダイオード表示パネルは少なくともその表示領域であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜を有し、さらに少なくとも表示領域に相当する部分のおもて面とは逆の面（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備えることを特徴とする有機発光ダイオード表示パネル。
【請求項３】
第１の透明基板と第２の透明基板と、これら透明基板の間に液晶層を有する液晶表示パネルにおいて、第２の透明基板は第１の透明基板よりも面積が大きく、第２の透明基板と第１の透明基板が重なる領域に表示領域を有するものであり、第２の透明基板の第１の透明基板側の面上であって、第１の透明基板に覆われない領域の少なくとも一部には、第１の透明基板の第２の透明基板とは逆側の面においてその高さが略同じとなる平坦化膜を備え、さらにこの液晶表示パネルは少なくともその表示領域及び平坦化膜の少なくとも一部であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜を有し、さらに少なくとも表示領域に相当する部分のおもて面とは逆の面（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備えることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項４】
第１の透明基板と第２の透明基板と、これら透明基板の間に液晶層を有する液晶表示パネルであって、第１の透明基板には第２の透明基板とは反対側の面に少なくとも一つの偏光層を含む第１の光学フィルムを備え、第２の透明基板には第１の透明基板とは反対側の面に少なくとも一つの偏光層を含む第２の光学フィルムを備え、第２の透明基板は第１の透明基板よりも面積が大きく、第２の透明基板と第１の透明基板が重なる領域に表示領域を有するものであり、第２の透明基板の第１の透明基板側の面上であって、第１の透明基板に覆われない領域の少なくとも一部には、第１の光学フィルムの第１の透明基板側とは反対側の面においてその高さが略同じとなる第１の平坦化膜を備え、第２の透明基板の第１の透明基板とは逆側の面上であって、第１の透明基板に覆われない領域の少なくとも一部には、第２の光学フィルムの第２の透明基板側とは反対側の面においてその高さが略同じとなる第２の平坦化膜を備え、さらにこの液晶表示パネルは少なくともその表示領域及び第１または第２の平坦化膜の少なくとも一部であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜を有し、さらに少なくとも表示領域に相当する部分のおもて面とは逆の面（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備えることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項５】
マトリクス状に配置した複数の画素を構成する発光素子を有する基板と、封止手段とを有する有機発光ダイオード表示パネルにおいて、発光素子を有する基板は封止手段よりも面積が大きく、発光素子を有する基板と封止手段が重なる領域に表示領域を有するものであり、発光素子を有する基板の封止手段側の面上であって、封止手段に覆われない領域の少なくとも一部には、封止手段の発光素子を有する基板とは逆側の面においてその高さが略同じとなる平坦化膜を備え、さらにこのＯＬＥＤ表示パネルは少なくともその表示領域及び平坦化膜の少なくとも一部であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜を有し、さらに少なくとも表示領域に相当する部分のおもて面とは逆の面
（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備えることを特徴とする有機発光ダイオード表示パネル。
【請求項６】
マトリクス状に配置した複数の画素を構成する発光素子を有する基板と、封止手段とを有する有機発光ダイオード表示パネルにおいて、画像光は発光素子を有する基板側から取り出すものであり、さらに発光素子を有する基板の封止手段とは反対の面には少なくとも一つの偏光層を含む光学フィルムを備え、発光素子を有する基板の封止手段とは逆側の面上であって、なおかつ光学フィルムに覆われない領域の少なくとも一部には、光学フィルムの発光素子を有する基板とは反対側の面において、その高さが略同じとなる平坦化膜を備え、さらにこのＯＬＥＤ表示パネルは少なくともその表示領域及び平坦化膜の少なくとも一部であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜を有し、さらに少なくとも表示領域に相当する部分のおもて面とは逆の面（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備えることを特徴とする有機発光ダイオード表示パネル。
【請求項７】
第１の透明基板と第２の透明基板と、これら透明基板の間に液晶層を有する液晶表示パネルであって、第１の透明基板には第２の透明基板とは反対側の面に少なくとも一つの偏光層を含む第１の光学フィルムを備え、第２の透明基板には第１の透明基板とは反対側の面に少なくとも一つの偏光層を含む第２の光学フィルムを備え、第２の透明基板は第１の透明基板よりも面積が大きく、第２の透明基板と第１の透明基板が重なる領域に表示領域を有するものであり、第１の光学フィルム及び第２の光学フィルムは第１の透明基板よりもその面積が大きく、さらに第２の透明基板の第１の透明基板に覆われない領域の少なくとも一部を覆うものであり、さらにこの液晶表示パネルは第１または第２の光学フィルム上であって、少なくともその表示領域及び第２の透明基板の第１の透明基板に覆われない領域の少なくとも一部であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜を有し、さらに少なくとも表示領域に相当する部分のおもて面とは逆の面（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備えることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項８】
マトリクス状に配置した複数の画素を構成する発光素子を有する基板と、封止手段とを有する有機発光ダイオード表示パネルにおいて、発光素子を有する基板と封止手段のうち、画像光を取り出す側の最表面に少なくとも一つの偏光層を含む光学フィルムを備え、発光素子を有する基板は封止手段よりも面積が大きく、これらが重なる領域に表示領域を有するものであり、光学フィルムは封止手段よりも面積が大きく、さらに発光素子を有する基板の封止手段に覆われない領域の少なくとも一部を覆うものであり、さらにこのOLED表示パネルは光学フィルム上であって、少なくともその表示領域及び発光素子を有する基板の封止手段に覆われない領域の少なくとも一部であって、なおかつ観察者側の面（おもて面）となる部分に反射防止膜を有し、さらに少なくとも表示領域に相当する部分のおもて面とは逆の面（うら面）と、３つの端面に前記反射防止膜と同じ材料の膜を備えることを特徴とする有機発光ダイオード表示パネル。
【請求項９】
第２の透明基板にマトリクス状に配置した複数の画素を構成する電極を備え、さらに画像信号などの電気的信号を外部と接続する領域を有し、この電気的信号の外部との接続を所定の一方向から行う構造とし、光学フィルムの面積を拡大した領域と電気的信号を外部と接続する領域を重ね合わすことを特徴とする請求項７に記載の液晶表示パネル。
【請求項１０】
発光素子を有する基板に画像信号などの電気的信号を外部と接続する領域を有し、この電気的信号の外部との接続を所定の一方向から行う構造とし、光学フィルムの面積を拡大した領域と電気的信号を外部と接続する領域と重ね合わせること特徴とする請求項８に記載の有機発光ダイオード表示パネル。
【請求項１１】
無機酸化物からなる微粒子と、バインダーと、空隙とを有する反射防止膜であって、膜の一方の表面における算術平均粗さ（Ｒａ）が６ｎｍ未満とする反射防止膜であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の表示パネル。
【請求項１２】
無機酸化物からなる微粒子と、バインダーと、空隙とを有する反射防止膜において、前記バインダーは前記基板の部材と同じ部材を主成分とすることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の表示パネル。
【請求項１３】
無機酸化物からなる微粒子と、バインダーと、空隙とを有する反射防止膜において、前記空隙の密度は、空気と接する膜表面より、膜内部の方が高いものとすることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の表示パネル。
【請求項１４】
反射防止膜の膜表面の抵抗が１０11Ω未満であることを特徴とする請求項１１〜請求項１３に記載の表示パネル。
【請求項１５】
反射防止膜の表面に撥液層を有し、該撥液層と水との接触角が１００°以上１８０°以下であることを特徴とする請求項１１〜請求項１３に記載の表示パネル。
【請求項１６】
表示パネルと、その前面側に配置する透明な保護板と、前記表示パネル及び前記保護板の間に空気層を有する表示装置を備える機器において、前記保護板は前記表示パネルの表示領域よりも面積が大きく、さらに前記表示装置と前記保護板は独立して筐体に固定されることを特徴とする機器。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【図２８】
【図２９】
【図３０】
【図３１】
【図３２】
【図３３】
【図３４】
【図３５】
【図２】
【図３】
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【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【図２８】
【図２９】
【図３０】
【図３１】
【図３２】
【図３３】
【図３４】
【図３５】
【公開番号】特開２００７−６５５２３（Ｐ２００７−６５５２３Ａ）
【公開日】平成１９年３月１５日（２００７．３．１５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−２５４３０６（Ｐ２００５−２５４３０６）
【出願日】平成１７年９月２日（２００５．９．２）
【出願人】（５０２３５６５２８）株式会社 日立ディスプレイズ (2,552)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年３月１５日（２００７．３．１５）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年９月２日（２００５．９．２）
【出願人】（５０２３５６５２８）株式会社 日立ディスプレイズ (2,552)
【Ｆターム（参考）】
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