説明

表示装置

【課題】点灯検査用回路の一部を表示領域の周辺に形成するようにして、半導体チップ搭載領域の面積が小さくなってしまう場合に対処するともに、当該検査の不都合が生じないように構成した表示装置の提供。
【解決手段】ドレイン信号線と接続される第1点灯検査用回路、ゲート信号線と接続される第2点灯検査用回路を表示領域の周辺に形成し、
半導体チップ搭載領域における前記半導体チップの出力バンプと接続される端子のそれぞれと前記ドレイン信号線および前記ゲート信号線と接続される各引き出し線における断線を検査する第3検査用回路を前記半導体チップ搭載領域に形成する。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は表示装置に係り、特に、点灯検査用回路を具備する表示装置に関する。
【背景技術】
【0002】
たとえば液晶表示装置は、液晶を挟持して対向配置される一対の基板のうち、一方の基板の液晶側の面に、x方向に延在しy方向に並設されるゲート信号線とy方向に延在しx方向に並設されるドレイン信号線が形成され、これら各信号線で囲まれた矩形状の領域を画素の領域として構成している。表示領域はこれら各画素の集合体によって形成される。
【0003】
それぞれの画素には、少なくとも、ゲート信号線からの走査信号によってオンする薄膜トランジスタと、このオンされた薄膜トランジスタを通してドレイン信号線からの映像信号から供給される画素電極を備えている。
【0004】
そして、このような液晶表示装置において、表示領域の外側の領域の一部に、ゲート信号線あるいはドレイン信号線の断線等を検査するための点灯検査用回路が形成されているものが知られている。
【0005】
図4は、液晶を介して対向配置される第1基板、第2基板のうち第1基板(図中、符号SUB1で示す)の液晶側の面(主面)に形成された等価回路を示した図である。なお、図4は、本発明の実施例を示す図1と対応づけて描画している。このため、図4の以下に示す説明以外の構成は図1に基づく説明を参照されたい。
【0006】
図4において、第1基板SUB1の中央に複数の画素の集合体からなる表示領域(表示部)ARがある。表示領域ARには、図中x方向に延在されy方向に並設されるゲート信号線GLおよび図中y方向に延在されx方向に並設されるドレイン信号線DLが形成され、各画素の領域はこれら信号線によって画されている。ゲート信号線GLおよびドレイン信号線DLは各画素を独立に駆動させる信号線となっている。
【0007】
また、表示領域ARの外側であって第1基板SUB1の図中下側の辺部には、半導体チップがフェースダウンされる搭載領域(半導体チップ搭載領域)SLRがある。半導体チップは表示領域ARの各画素を駆動する表示駆動回路である。そして、この半導体チップ搭載領域SLRには点灯検査用回路QDが形成されている。
【0008】
この点灯検査用回路QDは、たとえば次に示すように形成されている。まず、半導体チップ搭載領域SLRには、半導体チップの各出力バンプと接続される複数の端子TMが図中x方向に並設されて形成されている。これら端子TMは、図中左側から、ゲート信号線GLと接続される端子群GT1、ドレイン信号線DLと接続される端子群DT、ゲート信号線GLと接続される端子群GT2からなっている。なお、ゲート信号線GLにおいて、端子群GT1と端子群GT2とを備えるのは、表示領域ARに図中y方向に2分割された図中下側の領域の各ゲート信号線GLが図中左側に引き出されて端子群GT1に接続され、図中上側の領域の各ゲート信号線GLは図中右側に引き出されて端子群GT2に接続されるようになっているからである。
【0009】
各端子TMに対して表示領域ARと反対側には、各端子TMにそれぞれ対応づけられて複数の検査用薄膜トランジスタITFが図中x方向に並設されて形成され、これら検査用薄膜トランジスタITFの各ゲート電極は、それぞれ共通接続され、検査用端子TGに接続されている。検査端子TGに信号を供給することによって、検査用薄膜トランジスタITFの全てをオンにすることができるようになっている。
【0010】
点灯検査用回路QDは、前記端子TM、前記検査用薄膜トランジスタITFと、後述の検査用信号線ILによって構成されている。ここで、説明の便宜上、端子群GT1の各端子TM、これら端子TMに対応づけられて形成された検査用薄膜トランジスタITF、これら検査用薄膜トランジスタITFを介して前記端子TMと接続される複数の検査用信号線ILからなる点灯検査用回路QDを第2点灯検査用回路(L)QD2lとする。また、端子群DTの各端子TM、これら端子TMに対応づけられて形成された検査用薄膜トランジスタITF、これら検査用薄膜トランジスタITFを介して前記端子TMと接続される複数の検査用信号線ILからなる点灯検査用回路QDを第1点灯検査用回路QD1とする。さらに、端子群GT2の各端子TM、これら端子TMに対応づけられて形成された検査用薄膜トランジスタITF、これら検査用薄膜トランジスタITFを介して前記端子TMと接続される複数の検査用信号線ILからなる点灯検査用回路を第2点灯検査用回路(R)QD2rとする。
【0011】
第2点灯検査用回路(L)QD2lの検査用信号線ILは、検出用薄膜トランジスタITFに対して端子群GT1と反対側の領域に、たとえば4本、図中x方向に延在しy方向に並設されて形成されている。これらの検査用信号線ILを、検出用薄膜トランジスタITF側から順次、IL1、IL2、IL3、IL4と命名した場合、端子群GT1のたとえば左側から数えて1番目の端子は検出薄膜トランジスタITFを介して検査用信号線IL1に接続され、2番目の端子は検出薄膜トランジスタITFを介して検査用信号線IL2に接続され、3番目の端子は検出薄膜トランジスタITFを介して検査用信号線IL3に接続され、4番目の端子は検出薄膜トランジスタITFを介して検査用信号線IL4に接続されている。そして、5番目以降は、再び、検査用信号線IL1、IL2、IL3、IL4、IL1、……の順で接続されるようになっている。
【0012】
第1点灯検査用回路QD1の検査用信号線ILは、検出用薄膜トランジスタITFに対して端子群DTと反対側の領域に、たとえば3本、図中x方向に延在しy方向に並設されて形成されている。これらの検査用信号線ILを、検出用薄膜トランジスタITF側から順次、IL1、IL2、IL3と命名した場合、端子群DTのたとえば左側から数えて1番目の端子は検出薄膜トランジスタITFを介して検査用信号線IL1に接続され、2番目の端子は検出薄膜トランジスタITFを介して検査用信号線IL2に接続され、3番目の端子は検出薄膜トランジスタITFを介して検査用信号線IL3に接続されている。そして、4番目以降は、再び、検査用信号線IL1、IL2、IL3、IL1、……の順で接続されるようになっている。
【0013】
第2点灯検査用回路(R)QD2rの検査用信号線ILは、検出用薄膜トランジスタITFに対して端子群GT1と反対側の領域に、たとえば4本、図中x方向に延在しy方向に並設されて形成されている。これらの検査用信号線ILを、検出用薄膜トランジスタITF側から順次、IL1、IL2、IL3、IL4と命名した場合、端子群GT2のたとえば左側から数えて1番目の端子は検出薄膜トランジスタITFを介して検査用信号線IL1に接続され、2番目の端子は検出薄膜トランジスタITFを介して検査用信号線IL2に接続され、3番目の端子は検出薄膜トランジスタITFを介して検査用信号線IL3に接続され、4番目の端子は検出薄膜トランジスタITFを介して検査用信号線IL4に接続されている。そして、5番目以降は、再び、検査用信号線IL1、IL2、IL3、IL4、IL1、……の順で接続されるようになっている。
【0014】
また、検査回路を開示した文献として、特許文献1がある。特許文献1は表示領域を囲む周辺領域を小さくする技術を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0015】
【特許文献1】特開2004−101863号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0016】
近年、半導体チップにおいて、その幅(バンプの並設方向に直交する方向の幅)が小さくなる傾向にあり、また、バンプ(特に出力バンプ)が狭ピッチとなるように構成されてきている。
【0017】
このため、半導体チップ搭載領域の面積は小さくなり、上述した構成からなる点灯検査用回路QDは、半導体チップ搭載領域内にのみ形成することが困難な状態となりつつある。
【0018】
そこで、本発明者は、前記点灯検査用回路QDを、複数(たとえば3個)に分割させ、分割された点灯検査用回路QDをそれぞれ表示領域ARの周辺に配置させることを試みた。
【0019】
図5は、このように構成した第1基板SUB1の液晶側の面における等価回路であり、図4と対応させて描画した図となっている。図5において、第1点灯検査用回路QD1は、ドレイン信号線DLの前記端子TMに引き出される側(半導体チップ搭載領域SLR)とは反対側(表示領域ARに対して図中上側)の領域に形成されている。第2点灯検用回路(L)QD2lは、ゲート信号線GLの前記端子TMに引き出される側とは反対側(表示領域ARに対して図中左上側)の領域に形成されている。第2点灯検用回路(R)QD2rは、ゲート信号線GLの前記端子TMに引き出される側とは反対側(表示領域ARに対して図中右下側)の領域に形成されている。これにより、半導体チップ搭載領域SLRには、点灯検査用回路QDが形成されていない構成となり、今後、半導体チップのサイズが充分に小さくなっても、その半導体チップに対応できる構成となる。
【0020】
しかし、このように構成した場合、半導体チップ搭載領域SLRにおける各端子TMと表示領域AR内のゲート信号線GL、およびドレイン信号線DLとを接続する引き出し配線(図中府符号GW1、GW2、DWで示す)に断線が生じている場合に、第1点灯検査用回路QD1、第2点灯検用回路(L)QD2l、および第2点灯検用回路(R)QD2rによって、当該断線を検査することができないという不都合が生じるに至った。
【0021】
本発明の目的は、点灯検査用回路の一部を表示領域の周辺に形成するようにして、半導体チップ搭載領域の面積が小さくなってしまう場合に対処するとともに、当該検査の不都合が生じないように構成した表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0022】
本発明の表示装置は、半導体チップ搭載領域SLRに、第3点灯検査用回路を設けるようにし、この第3点灯検査用回路によって、半導体チップ搭載領域SLRにおける各端子TMと表示領域AR内のゲート信号線GL、およびドレイン信号線DLとを接続する引き出し配線GW1、GW2、DWに生じた断線を検査できるようにしたものである。
【0023】
本発明の構成は、たとえば、以下のようなものとすることができる。
【0024】
(1)本発明の表示装置は、基板上に表示領域と半導体チップ搭載領域とを有し、
前記表示領域には、第1方向に延在され前記第1方向に交差する第2方向に並設されたゲート信号線と、前記第2方向に延在され前記第1方向に並設されるドレイン信号線とが形成され、
前記半導体チップ搭載領域には、搭載される半導体チップの出力バンプが接続される複数の端子が形成され、
前記端子のそれぞれは、前記ゲート信号線あるいは前記ドレイン信号線に引き出し配線を介して接続された表示装置であって、
前記ドレイン信号線の前記引き出し配線が形成されている側と反対側に、それぞれのドレイン信号線に対応して並設されゲート電極を共通とする複数の検査用薄膜トランジスタと、前記検査用薄膜トランジスタの並設方向に延在され前記並設方向と交差する方向に並設されたn個の検査用信号線と、を備え、互いに隣接されたn個の前記信号線のそれぞれは、対応する検査用薄膜トランジスタを介して複数の前記検査用信号線に割り振られて接続されている第1点灯検査用回路と、
前記ゲート信号線の前記引き出し配線が形成されている側と反対側に、それぞれのゲート信号線に対応して並設されゲート電極を共通とする複数の検査用薄膜トランジスタと、前記検査用薄膜トランジスタの並設方向に延在され前記並設方向と交差する方向に並設されたm個の検査用信号線と、を備え、互いに隣接されたm個の前記信号線のそれぞれは、対応する検査用薄膜トランジスタを介して複数の前記検査用信号線に割り振られて接続されている第2点灯検査用回路と、
前記半導体チップ搭載領域に、前記端子のそれぞれに対応して並設されゲート電極を共通とする複数の検査用薄膜トランジスタと、
前記端子のうち前記ゲート信号線と接続された端子を第1端子とした場合、これら第1端子が、対応する検査用薄膜トランジスタを介して接続された1個の第1検査用信号線と、
前記端子のうち前記ドレイン信号線と接続された端子を第2端子とした場合、これら第2端子が、対応する検査用薄膜トランジスタを介して接続された1個の第2検査用信号線とを備える第3点灯検査用回路とが形成されていることを特徴とする。
【0025】
(2)本発明の表示装置は、基板上に表示領域と半導体チップ搭載領域とを有し、
前記表示領域には、第1方向に延在され前記第1方向に交差する第2方向に並設されたゲート信号線と、前記第2方向に延在され前記第1方向に並設されるドレイン信号線とが形成され、
前記半導体チップ搭載領域には、搭載される半導体チップの出力バンプが接続される複数の端子が形成され、
前記端子のそれぞれは、前記ゲート信号線あるいは前記ドレイン信号線に引き出し配線を介して接続された表示装置であって、
前記半導体チップ搭載領域に、前記ドレイン信号線に接続される前記端子に対応して並設されゲート電極を共通とする複数の検査用薄膜トランジスタと、前記検査用薄膜トランジスタの並設方向に延在され前記並設方向と交差する方向に並設されたn個の検査用信号線と、を備え、互いに隣接されたn個の前記信号線のそれぞれは、対応する検査用薄膜トランジスタを介して複数の前記検査用信号線に割り振られて接続されている第1点灯検査用回路と、
前記ゲート信号線の前記引き出し配線が形成されている側と反対側に、それぞれのゲート信号線に対応して並設されゲート電極を共通とする複数の検査用薄膜トランジスタと、前記検査用薄膜トランジスタの並設方向に延在され前記並設方向と交差する方向に並設されたm個の検査用信号線と、を備え、互いに隣接されたm個の前記信号線のそれぞれは、対応する検査用薄膜トランジスタを介して複数の前記検査用信号線に割り振られて接続されている第2点灯検査用回路と、
前記半導体チップ搭載領域に、前記ドレイン信号線に接続される前記端子のそれぞれに対応して並設されゲート電極を共通とする複数の検査用薄膜トランジスタと、前記検査用薄膜トランジスタの並設方向に延在され前記並設方向と交差する方向に並設された1個の検査用信号線と、を備え、前記端子のそれぞれは、対応する検査用薄膜トランジスタを介して前記検査用信号線に接続されている第3点灯検査用回路とが形成されていることを特徴とする。
【0026】
なお、上記した構成はあくまで一例であり、本発明は、技術思想を逸脱しない範囲内で適宜変更が可能である。また、上記した構成以外の本発明の構成の例は、本願明細書全体の記載または図面から明らかにされる。
【発明の効果】
【0027】
このように構成した表示装置は、点灯検査用回路の一部を表示領域の周辺に形成するようにして、半導体チップ搭載領域の面積が小さくなってしまう場合に対処するともに、当該検査の不都合が生じないように構成することができる。
【0028】
本発明のその他の効果については、明細書全体の記載から明らかにされる。
【図面の簡単な説明】
【0029】
【図1】本発明の表示装置の実施例1を示す構成図で、液晶表示装置の液晶を挟持して対向配置される第1基板および第2基板のうち、第1基板の液晶側の面における等価回路を示している。
【図2】図1のII−II線における断面図である。
【図3】本発明の表示装置の実施例2を示す構成図で、図1に対応した図となっている。
【図4】従来の表示装置の例を示す構成図で、図1に対応させて描画している。
【図5】従来の表示装置の不都合を回避させるようにして構成した場合のさらなる不都合を示した提案図である。
【発明を実施するための形態】
【0030】
本発明の実施例を図面を参照しながら説明する。なお、各図および各実施例において、同一または類似の構成要素には同じ符号を付し、説明を省略する。
【実施例1】
【0031】
本実施例における表示装置の主な特徴は、ゲート電極を共通とする複数のドレイン信号線検査用薄膜トランジスタと、ドレイン信号線検査用薄膜トランジスタを介してドレイン信号線に接続するドレイン信号線検査用信号線とを備える第1点灯検査用回路と、ゲート電極を共通とする複数のゲート信号線検査用薄膜トランジスタと、ゲート信号線検査用薄膜トランジスタを介してゲート信号線に接続するゲート信号線検査用信号線とを備える第2点灯検査用回路と、半導体チップ搭載領域に、端子のそれぞれに対応して設けられ且つゲート電極を共通とする複数の引き出し配線検査用薄膜トランジスタと、引き出し配線検査用薄膜トランジスタを介してゲート信号線に接続される第1検査用信号線と、引き出し配線検査用薄膜トランジスタを介してドレイン信号線に接続される第2検査用信号線とを備える第3点灯検査用回路とが形成されている。
【0032】
〈概略構成〉
図1は、本発明の表示装置の実施例1を液晶表示装置を例に挙げて示している。図1は、液晶を介して対向配置される第1基板、第2基板のうち第1基板(図中、符号SUB1で示す)の液晶側の面(主面)に形成された等価回路を示している。
【0033】
図1において、第1基板SUB1の主面の中央部には、複数の画素PIXがマトリックス状に配置された表示領域(表示部)ARが形成されている。また表示領域ARを囲むようにして静電保護回路SPCが形成されている。また、静電保護回路SPCの外側であって、図中下側の領域において、半導体チップ(図示せず)が搭載される領域(半導体チップ搭載領域)SLRを有し、この半導体チップ搭載領域SLRには点灯検査用回路QDの一部(第3点灯検査用回路QD3)が形成されるようになっている。
【0034】
なお、半導体チップ搭載領域SLRには、半導体チップの出力バンプと接続される端子TMが図中x方向に並設されて形成されている。これら端子TMは、図中左側から、後述のゲート信号線GLと引き出し線(図中符号GW1で示す)を介して接続される端子群GT1、後述のドレイン信号線DLと引き出し線(図中符号DWで示す)接続される端子群DT、後述のゲート信号線GLと引き出し線(図中符号GW2で示す)を介して接続される端子群GT2を備え、また他に、後述のコモン信号線CLと接続される端子等も備えている。ここで、ゲート信号線GLにおいて、その端子群GT1と端子群GT2とを備えるのは、表示領域ARに図中y方向に2分割された図中下側の領域の各ゲート信号線GLが図中左側に引き出されて端子群GT1に接続され、図中上側の領域の各ゲート信号線GLは図中右側に引き出されて端子群GT2に接続されるように構成されているからである。半導体チップ搭載領域SLRには、半導体チップの各入力バンプと接続される複数の端子も形成されているが、この端子およびこの端子と接続され第1基板SUB1の端辺に引き出される配線の図示は省略している。
【0035】
また、静電保護回路SPCの外側であって、図中上側の領域において、点灯検査用回路QDの一部(第1点灯検査用回路QD1)が形成されるようになっている。また、静電保護回路SPCの外側であって、図中左上側の領域において、点灯検査用回路QDの一部(第2点灯検査用回路(L)QD2l)が形成されるようになっている。また、静電保護回路SPCの外側であって、図中右下側の領域において、点灯検査用回路QDの一部(第2点灯検査用回路(R)QD2r)が形成されるようになっている。
【0036】
第1基板SUB1と液晶を介して対向配置される第2基板(図示せず)は、前記半導体チップ搭載領域SLRを含む第1基板SUB1の図中下側の辺部を露呈させるようにして配置されるようになっている。第2基板の周辺には、この第2基板と第1基板SUB1との固着を図るシール材(図示せず)が形成され、このシール材は第1基板SUB1と第2基板との間に挟持される液晶(図示せず)を封止するようになっている。
【0037】
また、半導体チップ搭載領域SLRの近傍には複数の検査用端子(図中正方枠で示している)が形成され、これら検査用端子は、前記点灯検査用回路に電気的に接続されるようになっている。
【0038】
〈表示領域AR〉
前記表示領域ARには、図中x方向に延在しy方向に並設される複数のゲート信号線GL、および図中y方向に延在しx方向に並設される複数のドレイン信号線DLが形成されている。隣接する一対のゲート信号線GLと隣接する一対のドレイン信号線DLとで囲まれた領域は画素領域を構成し、これら画素領域には、ゲート信号線GLからの走査信号によってオンされる薄膜トランジスタTFTと、この薄膜トランジスタTFTを通してドレイン信号線DLからの映像信号が供給される画素電極PXと、この画素電極PXとの間に電界を生じせしめる対向電極CTとが備えられている。図中x方向に並設される各画素PIXの対向電極CTはコモン信号線CLに接続され、このコモン信号線CLを通して前記映像信号に対して基準となる基準信号が供給されるようになっている。
【0039】
なお、前記表示領域ARにおける各画素は、図中y方向に並設されるもの同士(画素列)で、カラー表示の3原色のうちの一つの色を共通に担当するようになっている。図中左側から右側にかけて、たとえば順次赤色(R)、緑色(G)、青色(B)が担当され、以降、この順番が繰り返されるようになっている。
【0040】
〈静電保護回路SPC〉
静電保護回路SPCは、次に示すようにして構成されている。まず、前記表示領域ARを囲むようにして、接地されたアース線ELが形成されている。そして、このアース線ELと各ゲート信号線GLとの交差部において、アース線ELとこのアース線ELの前後に走行する同一のゲート信号線GLにそれぞれ逆方向に配置される一対のダイオードD1、D2が接続されている。同様に、アース線ELとドレイン信号線DLとの交差部において、アース線ELとこのアース線ELの前後に走行する同一のドレイン信号線DLにそれぞれ逆方向に配置される一対のダイオードD1、D2が接続されている。この静電保護回路SPCは、たとえば、静電気の侵入をダイオードD1、D2を通して前記アース線ELに導くことによって各画素PIXにおける薄膜トランジスタTFTの破壊を保護できるようになっている。
【0041】
〈第1点灯検査用回路QD1〉
第1点灯検査用回路QD1は、上述したように、静電保護回路SPCの外側であって、図中上側の領域において形成されている。この領域には、各ドレイン信号線DLに対応づけられて複数の検査用薄膜トランジスタITFが図中x方向に並設されて形成され、これら検査用薄膜トランジスタITFの各ゲート電極は、それぞれ共通接続され、検査用端子TG2に引き出されている。検査用端子TG2に信号を供給することによって、検査用薄膜トランジスタITFの全てをオンにすることができるようになっている。
【0042】
検査用薄膜トランジスタITFに対して表示領域ARと反対側には、図中x方向に延在しy方向に並設されたたとえば3本の検査用信号線IL(検査用薄膜トランジスタITF側から符号IL1、IL2、IL3で示す)が形成されている。検査用信号線IL1は、たとえば赤色(R)を担当する画素列におけるドレイン信号線DLと、このドレイン信号線DLに対応して設けられた検査用薄膜トランジスタITFを介在させて接続されている。検査用信号線IL2は、たとえば緑色(G)を担当する画素列におけるドレイン信号線DLと、このドレイン信号線DLに対応して設けられた検査用薄膜トランジスタITFを介在させて接続されている。検査用信号線IL3は、青色(B)を担当する画素列におけるドレイン信号線DLと、このドレイン信号線DLに対応して設けられた検査用薄膜トランジスタITFを介在させて接続されている。
【0043】
また、検査用信号線IL1、IL2、IL3の一端側は、第1基板SUB1のたとえば図中右側の辺部を走行し、半導体装置SECの搭載領域の近傍に配置される検査用端子に接続されるようになっている。検査用信号線IL1は検査用端子Rに接続され、検査用信号線IL2は検査用端子Gに接続され、検査用信号線IL3は検査用端子Bに接続されるようになっている。
【0044】
このように構成された第1点灯検査用回路QD1は、後述の第2点灯検査用回路(L)QD21、第2点灯検査用回路(R)QD2rを駆動させて各ゲート信号線GLに検査用信号を供給した後に、第1点灯検査用回路QD1の検査用薄膜トランジスタITFを全てオンにした状態で、検査用信号線IL1、IL2、IL3に、たとえば順次、検査用信号を供給することにより、赤色(R)を担当する画素列の各画素、緑色(G)を担当する画素列の各画素、青色(B)を担当する画素列の各画素を点灯させることができる。この場合、点灯していない画素列がある場合、その画素列のドレイン信号線DLに断線が生じていることが確認できる。
【0045】
〈第2点灯検査用回路(L)QD2l〉
第2点灯検査用回路(L)QD2lは、上述したように、静電保護回路SPCの外側であって、図中左上側の領域において形成されている。この領域には、各ゲート信号線GLのうち2分割された図中上側の領域の各ゲート信号線GLに対応づけられて複数の検査用薄膜トランジスタITFが図中y方向に並設されて形成され、これら検査用薄膜トランジスタITFの各ゲート電極は、それぞれ共通接続され、検査用端子TG3に引き出されている。検査用端子TG3に信号を供給することによって、検査用薄膜トランジスタITFの全てをオンにすることができるようになっている。
【0046】
検査用薄膜トランジスタITFに対して表示領域ARと反対側には、図中y方向に延在しx方向に並設されたたとえば4本の検査用信号線(検査用薄膜トランジスタITF側から符号IL1、IL2、IL3、IL4で示す)が形成されている。
【0047】
検査用信号線ILが4本で形成されているのは次の理由による。すなわち、本実施例の場合、各ゲート信号線GLの第2点灯検査用回路QD(L)QD2lに接続される側と反対側の端部が2層構造による引き出し配線GW2を介して端子TMに接続されている。図2は、図1のII−II線における断面図で、第1基板SUB1上に、偶数番目の引き出し配線GW1(図中符号GW1eで示す)と奇数番目の引き出し配線GW1(図中符号GW1o)とが層を異ならしめた2層構造で形成されていることを示している。図中、符号GIは薄膜トランジスタTFTのゲート絶縁膜を兼ねる層間絶縁膜となっている。引き出し配線GW2を隣接するもの同士で層を異ならしめて形成することによって、各引き出し配線を互いに狭めて配置でき、これら引き出し配線GW2によって占められる面積を小さくするようにしている。第2点灯検査用回路QD(L)QD2lに4本の検査用信号線ILを備えることで、絶縁膜を介して互いに隣接する引き出し配線GW2のショートをも検査することができるようになる。このことから、引き出し配線をたとえば1層で構成する場合、2本の検査用信号線ILで済むことになり、この場合において、検査用信号線を2本とするようにしてもよい。
【0048】
ゲート信号線GLは、表示領域ARのたとえば上側から4本のそれぞれにおいて、対応する各検査用薄膜トランジスタITFを介して、順次、検査用信号線IL1、検査用信号線IL2、検査用信号線IL3、検査用信号線IL4に接続され、次の4本のそれぞれにおいて同様の接続がなされ、以降、繰り返されるようになっている。
【0049】
また、検査用信号線IL1、IL2、IL3、IL4の一端側は、第1基板SUB1の左側の辺部を走行し、半導体装置SECの搭載領域の近傍に配置される検査用端子に接続されるようになっている。検査用信号線IL1は検査用端子G5に接続され、検査用信号線IL2は検査用端子G6に接続され、検査用信号線IL3は検査用端子G7に接続され、検査用信号線IL4は検査用端子G8に接続されるようになっている。
【0050】
このように構成された第2点灯検査用回路(L)QD2lは、第2点灯検査用回路(L)QD2lの検査用薄膜トランジスタITFを全てオンにした状態で、検査用信号線IL1、IL2、IL3、IL4に、たとえば順次、検査用信号を供給する。これにより、表示領域ARにおける画素行を4個おきに選択でき、この選択は図中下段方向に切り替えられるようになる。そして、その際に、前記第1点灯検査用回路QD1を駆動させてドレイン信号線DLに検査用信号を供給することにより、所望の箇所の画素を点灯させることができる。この場合、点灯しない画素によって、当該画素に接続されるドレイン信号線DL等の断線を発見できるようになる。また、隣接する検査用信号線IL(たとえば検査用信号線IL1とIL2)に同時に検査用信号を供給し、該当する画素行の画素の点灯、非点灯によって、当該画素行におけるゲート信号線GLの断線あるいはショートを発見できるようになる。
【0051】
〈第2点灯検査用回路(R)QD2r〉
第2点灯検査用回路(R)QD2rは、上述したように、静電保護回路SPCの外側であって、図中右下側の領域において形成されている。この領域には、各ゲート信号線GLのうち2分割された図中下側の領域の各ゲート信号線GLに対応づけられて複数の検査用薄膜トランジスタITFが図中y方向に並設されて形成され、これら検査用薄膜トランジスタITFの各ゲート電極は、それぞれ共通接続され、検査用端子TG1に引き出されている。検査用端子TG1に信号を供給することによって、検査用薄膜トランジスタITFの全てをオンにすることができるようになっている。
【0052】
検査用薄膜トランジスタITFに対して表示領域ARと反対側には、図中y方向に延在しx方向に並設された4本の検査用信号線IL(検査用薄膜トランジスタITF側から符号IL1、IL2、IL3、IL4で示す)が形成されている。検査用信号線ILが4本で形成されているのは第2点灯検査用回路(L)QD2lの場合と同様の理由による。
【0053】
また、検査用信号線IL1、IL2、IL3、IL4の一端側は、第1基板SUB1の右側の辺部を走行し、半導体装置SECの搭載領域の近傍に配置される検査用端子に接続されるようになっている。検査用信号線IL1は検査用端子G4に接続され、検査用信号線IL2は検査用端子G3に接続され、検査用信号線IL3は検査用端子G2に接続され、検査用信号線IL4は検査用端子G1に接続されるようになっている。
【0054】
このように構成された第2点灯検査用回路(R)QD2rは、前記第2点灯検査用回路(L)QD2lの説明で述べたようにして動作させることができる。
【0055】
〈第3点灯検査用回路QD3〉
第3点灯検査用回路QD3は、上述したように、半導体チップ搭載領域SLRに形成されている。各端子TMに対して表示領域ARと反対側に、各端子TMにそれぞれ対応づけられて複数の検査用薄膜トランジスタITFが図中x方向に並設されて形成され、これら検査用薄膜トランジスタITFの各ゲート電極は、それぞれ共通接続され、検査用端子TGに引き出されている。検査端子TGに信号を供給することによって、検査用薄膜トランジスタITFの全てをオンにすることができるようになっている。
【0056】
検査用薄膜トランジスタITFに対して表示領域ARと反対側には、図中y方向に延在する1個の検査用信号線ILg1が形成されている。この検査用信号線ILg1は、ゲート信号線GLと接続された端子群GT1と対向して設けられ、端子群GT1の各端子TMは、対応する検査用トランジスタITFを介して前記検査用信号線ILg1に接続されている。検査用信号線ILg1は検査用端子GBに引き出されている。
【0057】
また、検査用薄膜トランジスタITFに対して表示領域ARと反対側には、図中y方向に延在する1個の検査用信号線ILdが形成されている。この検査用信号線ILdは、ドレイン信号線GLと接続された端子群DTと対向して設けられ、端子群DTの各端子TMは、対応する検査用トランジスタITFを介して前記検査用信号線ILdに接続されている。検査用信号線ILdは検査用端子SDに引き出されている。
【0058】
さらに、検査用薄膜トランジスタITFに対して表示領域ARと反対側には、図中y方向に延在する1個の検査用信号線ILg2が形成されている。この検査用信号線ILg2は、ゲート信号線GLと接続された端子群GT2と対向して設けられ、端子群GT2の各端子TMは、対応する検査用トランジスタITFを介して前記検査用信号線ILg2に接続されている。検査用信号線ILdは検査用端子GUに引き出されている。
【0059】
このように構成された第3点灯検査用回路QD3は、たとえば、検査用端子TGに信号を供給することにより、検査用薄膜トランジスタITFの全てをオンにし、検査用端子GB、検査用端子SD、検査用端子GUに信号を供給するように駆動させることができる。このようにした場合、表示領域ARの全ての画素PIXが点灯するようになる。このように全ての画素PIXが点灯した場合には、ゲート信号線GLおよびドレイン信号線DLに断線が生じていないことを確信することができる。しかし、行方向(図中x方向)に並列される画素に、あるいは列方向(図中y方向)に並列される画素に非点灯が生じている場合には、該当するゲート信号線GLあるいはドレイン信号線DLに断線が生じていることを判定できる。そして、ゲート信号線GLあるいはドレイン信号線DLに断線が生じている場合において、第1点灯検査用回路QD1、第2点灯検査用回路(L)QD2l、第2点灯検査用回路(R)QD2rの駆動による画素の点灯具合と比較することによって、ゲート信号線GLの引き出し線GW1、GW2、およびドレイン信号線DLの引き出し線DWにおいて断線が生じていることを確認することができるようになる。
【実施例2】
【0060】
本実施例における表示装置の主な特徴は、半導体チップ搭載領域に、ゲート電極を共通とする複数のドレイン信号線検査用薄膜トランジスタと、ドレイン信号線検査用薄膜トランジスタを介してドレイン信号線に接続するドレイン信号線検査用信号線と、を備える第1点灯検査用回路と、ゲート電極を共通とする複数のゲート信号線検査用薄膜トランジスタと、ゲート信号線検査用薄膜トランジスタを介してゲート信号線に接続するゲート信号線検査用信号線とを備える第2点灯検査用回路と、半導体チップ搭載領域に、ゲート信号線に接続される端子のそれぞれに対応して設けられ且つゲート電極を共通とする複数の引き出し配線検査用薄膜トランジスタと、引き出し配線検査用薄膜トランジスタを介してゲート信号線に接続される引き出し配線検査用信号線と、を備える第3点灯検査用回路とが形成されている。
【0061】
図3は、本発明の表示装置の実施例2を液晶表示装置を例に挙げて示した図で、図1と対応づけて描画した図となっている。
【0062】
図3において、図1と比較して異なる構成は、図1に示した第1点灯検査用回路QD1を半導体チップ搭載領域SLR内に形成したことにある。すなわち、図3に示すように、複数の端子TMに対応づけられて複数の検査用薄膜トランジスタITFが図中x方向に並設されて形成されている。これら検査用薄膜トランジスタITFは、図1に示した検査用薄膜トランジスタITFをそのまま用いることができる。すなわち、これら検査用薄膜トランジスタITFは、検査用端子TG2に信号を供給することによって、全てオンにできるように構成される。
【0063】
検査用薄膜トランジスタITFに対し表示領域ARと反対側であって、端子群DT(ドレイン信号線DLと接続される端子群)と対向する部分には、図中x方向に延在しy方向に並設された3本の検査用信号線IL1、IL2、IL3が形成されている。検査用信号線IL1は、たとえば赤色(R)を担当する画素列のドレイン信号線DLと接続される端子TMと、対応する検査用薄膜トランジスタITFを介在させて接続されている。検査用信号線IL2は、たとえば緑色(G)を担当する画素列のドレイン信号線DLと接続される端子TMと、対応する検査用薄膜トランジスタITFを介在させて接続されている。検査用信号線IL3は、青色(B)を担当する画素列のドレイン信号線DLと接続される端子TMと、対応する検査用薄膜トランジスタITFを介在させて接続されている。
【0064】
また、検査用信号線IL1、IL2、IL3の一端側は、半導体チップ搭載領域SLRの近傍に配置される検査用端子に接続されるようになっている。実施例1で示したと同様に、検査用信号線IL1は検査用端子Rに接続され、検査用信号線IL2は検査用端子Gに接続され、検査用信号線IL3は検査用端子Bに接続されるようになっている。
【0065】
なお、端子群GT1、あるいは端子群GT2においては、実施例1の場合と同様に構成されている。すなわち、端子群GT1に対して表示領域ARと反対側には、図中y方向に延在する1個の検査用信号線ILg1が形成されている。端子群GT1の各端子TMは、対応する検査用トランジスタITFを介して前記検査用信号線ILg1に接続されている。検査用信号線ILg1は検査用端子GBに引き出されている。また、端子群GT2に対して表示領域ARと反対側には、図中y方向に延在する1個の検査用信号線ILg2が形成されている。端子群GT2の各端子TMは、対応する検査用トランジスタITFを介して前記検査用信号線ILg2に接続されている。検査用信号線ILg2は検査用端子GUに引き出されている。
【0066】
半導体チップ搭載領域SLRにおいて、第1点灯検査用回路QD1を形成するスペース的な余裕がある場合には、上述した構成とすることができる。そして、実施例1で説明したと同様の効果を奏することができる。
【実施例3】
【0067】
実施例1、実施例2では、いずれも、表示領域ARを、ドレイン信号線DLの走行方向に2分割し、その一方を第1領域、他方を第2領域とした場合、前記第1領域のゲート信号線GLに接続されて形成される前記第2点灯検査用回路QD2を前記表示領域ARに対して一方の側(たとえば図中左側)に形成し、前記第2領域のゲート信号線GLに接続されて形成される前記第2点灯検査用回路QD2を前記表示領域ARに対して他方の側(図中右側)に形成するようにしたものである。しかし、これに限定されることはなく、全てのゲート信号線GLにおいて、一方の側を引き出し線GWを介して端子TMに接続させるようにし、第2点灯検査用回路QD2は、ゲート信号線GTの他方の側に、すなわち、表示領域ARに対して一方の側にのみ形成するようにしてもよい。
【実施例4】
【0068】
上述した各実施例では、いずれも、液晶表示装置を例に挙げて示したものである。しかし、たとえば有機EL表示装置等のような他の表示装置にも適用することができる。有機EL表示装置等においても同様の課題があるからである。
【0069】
以上、本発明を実施例を用いて説明してきたが、これまでの各実施例で説明した構成はあくまで一例であり、本発明は、技術思想を逸脱しない範囲内で適宜変更が可能である。また、それぞれの実施例で説明した構成は、互いに矛盾しない限り、組み合わせて用いてもよい。
【符号の説明】
【0070】
SUB1……第1基板、PIX……画素、AR……表示領域、SPC……静電保護回路、SLR……半導体チップ搭載領域、QD……点灯検査用回路、QD1……第1点灯検査用回路、QD2l……第2点灯検査用回路(L)、QD2r……第2点灯検査用回路(R)、TM……端子、GT1……端子群(ゲート信号線の)、DT……端子群(ドレイン信号線の)、GT2……端子群(ゲート信号線の)、GL……ゲート信号線、GW1、GW1o、GW1e、GW2……引き出し線(ゲート信号線の)、DL……ドレイン信号線、DW……引き出し線(ドレイン信号線の)、CL……コモン信号線、TFT……薄膜トランジスタ、PX……画素電極、CT……対向電極、EL……アース線、D1、D2……ダイオード、ITF……検査用薄膜トランジスタ、IL、IL1、IL2、IL3、IL4、ILd、ILg1、ILg2……検査用信号線、GI……層間絶縁膜。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
基板上に表示領域と半導体チップ搭載領域とを有し、
前記表示領域には、第1方向に延在され前記第1方向に交差する第2方向に並設されたゲート信号線と、前記第2方向に延在され前記第1方向に並設されるドレイン信号線とが形成され、
前記半導体チップ搭載領域には、搭載される半導体チップの出力バンプが接続される複数の端子が形成され、
前記端子のそれぞれは、前記ゲート信号線あるいは前記ドレイン信号線に引き出し配線を介して接続された表示装置であって、
ゲート電極を共通とする複数のドレイン信号線検査用薄膜トランジスタと、前記ドレイン信号線検査用薄膜トランジスタを介して前記ドレイン信号線に接続するドレイン信号線検査用信号線と、を備える第1点灯検査用回路と、
ゲート電極を共通とする複数のゲート信号線検査用薄膜トランジスタと、前記ゲート信号線検査用薄膜トランジスタを介して前記ゲート信号線に接続するゲート信号線検査用信号線と、を備える第2点灯検査用回路と、
前記半導体チップ搭載領域に、前記端子のそれぞれに対応して設けられ且つゲート電極を共通とする複数の引き出し配線検査用薄膜トランジスタと、前記引き出し配線検査用薄膜トランジスタを介して前記ゲート信号線に接続される第1検査用信号線と、前記引き出し配線検査用薄膜トランジスタを介して前記ドレイン信号線に接続される第2検査用信号線とを備える第3点灯検査用回路とが形成されていることを特徴とする表示装置。
【請求項2】
前記第1点灯検査用回路のドレイン信号線検査用信号線は3本からなっていることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
【請求項3】
ゲート信号線の引き出し配線において、偶数番目の引き出し配線と奇数番目の引き出し配線とが層を異ならしめた2層構造で形成され、
前記第2点灯検査用回路の検査用信号線は4本からなっていることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
【請求項4】
ゲート信号線の引き出し配線は、それぞれ1層構造となっており、
前記第2点灯検査用回路の検査用信号線は2本からなっていることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
【請求項5】
前記表示領域は、ドレイン信号線の走行方向に2分割し、その一方を第1領域、他方を第2領域とし、
前記第1領域のゲート信号線に接続されて形成される前記第2点灯検査用回路は、前記表示領域に対して一方の側に形成され、
前記第2領域のゲート信号線に接続されて形成される前記第2点灯検査用回路は、前記表示領域に対して他方の側に形成されていることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
【請求項6】
基板上に表示領域と半導体チップ搭載領域とを有し、
前記表示領域には、第1方向に延在され前記第1方向に交差する第2方向に並設されたゲート信号線と、前記第2方向に延在され前記第1方向に並設されるドレイン信号線とが形成され、
前記半導体チップ搭載領域には、搭載される半導体チップの出力バンプが接続される複数の端子が形成され、
前記端子のそれぞれは、前記ゲート信号線あるいは前記ドレイン信号線に引き出し配線を介して接続された表示装置であって、
前記半導体チップ搭載領域に、ゲート電極を共通とする複数のドレイン信号線検査用薄膜トランジスタと、前記ドレイン信号線検査用薄膜トランジスタを介して前記ドレイン信号線に接続するドレイン信号線検査用信号線と、を備える第1点灯検査用回路と、
ゲート電極を共通とする複数のゲート信号線検査用薄膜トランジスタと、前記ゲート信号線検査用薄膜トランジスタを介して前記ゲート信号線に接続するゲート信号線検査用信号線と、を備える第2点灯検査用回路と、
前記半導体チップ搭載領域に、前記ゲート信号線に接続される前記端子のそれぞれに対応して設けられ且つゲート電極を共通とする複数の引き出し配線検査用薄膜トランジスタと、前記引き出し配線検査用薄膜トランジスタを介して前記ゲート信号線に接続される引き出し配線検査用信号線と、を備える第3点灯検査用回路とが形成されていることを特徴とする表示装置。
【請求項7】
前記第1点灯検査用回路の検査用信号線は3個からなっていることを特徴とする請求項6に記載の表示装置。
【請求項8】
ゲート信号線の引き出し配線において、偶数番目の引き出し配線と奇数番目の引き出し配線とが層を異ならしめた2層構造で形成され、
前記第2点灯検査用回路の検査用信号線は4個からなっていることを特徴とする請求項6に記載の表示装置。
【請求項9】
ゲート信号線の引き出し配線は、それぞれ1層構造となっており、
前記第2点灯検査用回路の検査用信号線は2個からなっていることを特徴とする請求項6に記載の表示装置。
【請求項10】
前記表示領域は、ドレイン信号線の走行方向に2分割し、その一方を第1領域、他方を第2領域とした場合、
前記第1領域のゲート信号線に接続されて形成される前記第2点灯検査用回路は、前記表示領域に対して一方の側に形成され、
前記第2領域のゲート信号線に接続されて形成される前記第2点灯検査用回路は、前記表示領域に対して他方の側に形成されていることを特徴とする請求項6に記載の表示装置。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【公開番号】特開2011−154161(P2011−154161A)
【公開日】平成23年8月11日(2011.8.11)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2010−15150(P2010−15150)
【出願日】平成22年1月27日(2010.1.27)
【出願人】(502356528)株式会社 日立ディスプレイズ (2,552)
【出願人】(506087819)パナソニック液晶ディスプレイ株式会社 (443)
【Fターム(参考)】