透明フイルムおよびそれを用いた液晶表示装置
【解決手段】 下記式（Ｉ）および（II）で定義されるＲｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）が、下記式（III）且つ（IV）を満たす透明フイルムである。
（Ｉ）Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
（II）Ｒｔｈ（λ）＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
（III）０≦｜Ｒｅ（６３０）｜≦５０
（IV）Ｒｔｈ（４００）×Ｒｔｈ（７００）≦０かつ０≦｜Ｒｔｈ（７００）−Ｒｔｈ（４００）｜≦１５０
［式中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ（λ）は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。またｎｘはフイルム面内の遅相軸方向の屈折率であり、ｎｙはフイルム面内の進相軸方向の屈折率であり、ｎｚはフイルムの厚み方向の屈折率であり、ｄはフイルムの厚さである。］
（Ｉ）Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
（II）Ｒｔｈ（λ）＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
（III）０≦｜Ｒｅ（６３０）｜≦５０
（IV）Ｒｔｈ（４００）×Ｒｔｈ（７００）≦０かつ０≦｜Ｒｔｈ（７００）−Ｒｔｈ（４００）｜≦１５０
［式中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ（λ）は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。またｎｘはフイルム面内の遅相軸方向の屈折率であり、ｎｙはフイルム面内の進相軸方向の屈折率であり、ｎｚはフイルムの厚み方向の屈折率であり、ｄはフイルムの厚さである。］
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（Ｉ）および（II）で定義されるＲｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）が、下記式（III）且つ（IV）を満たす透明フイルム。
（Ｉ）Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
（II）Ｒｔｈ（λ）＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
（III）０≦｜Ｒｅ（６３０）｜≦５０
（IV）Ｒｔｈ（４００）×Ｒｔｈ（７００）≦０かつ０≦｜Ｒｔｈ（７００）−Ｒｔｈ（４００）｜≦１５０
［式中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ（λ）は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。またｎｘはフイルム面内の遅相軸方向の屈折率であり、ｎｙはフイルム面内の進相軸方向の屈折率であり、ｎｚはフイルムの厚み方向の屈折率であり、ｄはフイルムの厚さである。］
【請求項２】
熱可塑性ノルボルネン系樹脂を含有する請求項１に記載の透明フイルム。
【請求項３】
セルロースアシレートを含有する請求項１に記載の透明フイルム。
【請求項４】
前記セルロースアシレートが、アシル置換度が、２．８５〜３．００のセルロースアシレートである請求項３に記載の透明フイルム。
【請求項５】
前記セルロースアシレート中のアシル置換基が、実質的にアセチル基、プロピオニル基及びブタノイル基から選ばれる２種類からなり、その全置換度が２．５０〜３．００であるセルロースアシレートからなる請求項３または４の透明フイルム。
【請求項６】
Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）を低下させ得る化合物を少なくとも１種含む請求項１の透明フイルム。
【請求項７】
フイルムのＲｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）を低下させ、且つオクタノール−水分配係数（ＬｏｇＰ値）が０〜７である化合物を少なくとも１種、フイルム固形分に対して０．０１〜３０重量％含む請求項１の透明フイルム。
【請求項８】
フイルムのＲｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）を低下させ、オクタノール−水分配係数（ＬｏｇＰ値）が０〜７であり、且つ下記一般式（１）〜（１９）のいずれかで表される化合物の少なくとも１種を、フイルム固形分に対して０．０１〜３０重量％含む請求項１の透明フイルム：
【化７３】
式中、Ｒ11〜Ｒ13はそれぞれ独立に、炭素数が１〜２０の脂肪族基を表し；Ｒ11〜Ｒ13は互いに連結して環を形成してもよい；
【化７４】
一般式（２）および（３）中、Ｚは炭素原子、酸素原子、硫黄原子または−ＮＲ25−を表し；Ｒ25は水素原子またはアルキル基を表し；Ｚを含んで構成される５または６員環は置換基を有していてもよく；Ｙ21及びＹ22はそれぞれ独立に、炭素数が１〜２０の、エステル基、アルコキシカルボニル基、アミド基またはカルバモイル基を表し、Ｙ21及びＹ22は互いに連結して環を形成してもよく；ｍは１〜５の整数を表し、ｎは１〜６の整数を表す；
【化７５】
一般式（４）〜（１２）中、Ｙ31〜Ｙ70はそれぞれ独立に、炭素数が１〜２０の エステル基、炭素数が１〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数が１〜２０ のアミド基、炭素数が１〜２０のカルバモイル基またはヒドロキシ基を表し； Ｖ31〜Ｖ43はそれぞれ独立に水素原子または炭素数１〜２０の脂肪族基を表し ；Ｌ31〜Ｌ80はそれぞれ独立に、原子数０〜４０かつ、炭素数０〜２０の２価 の飽和の連結基を表し；ここで、Ｌ31〜Ｌ80の原子数が０であるということは 、連結基の両端にある基が直接に単結合を形成していることを意味し；Ｖ31〜 Ｖ43およびＬ31〜Ｌ80は、さらに置換基を有していてもよい；
【化７６】
式中、Ｒ1aはアルキル基またはアリール基を表し；Ｒ2aおよびＲ3aは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはアリール基を表し；Ｒ1a、Ｒ2aおよびＲ3aの炭素原子数の総和は１０以上であり、各々、アルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい；
【化７７】
式中、Ｒ4aおよびＲ5aはそれぞれ独立に、アルキル基またはアリール基を表し；Ｒ4aおよびＲ5aの炭素原子数の総和は１０以上であり、各々、アルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい；
【化７８】
式中、Ｒ1b、Ｒ2bおよびＲ3bはそれぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表し；Ｘ15は下記の連結基群１から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基を表し；Ｙ15は水素原子、アルキル基、アリール基またはアラルキル基を表す；
（連結基群１）
単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ4b−、アルキレン基及びアリーレン基、Ｒ4bは水素原子、アルキル基、アリール基またはアラルキル基を表す；
【化７９】
式中、Ｑ1、Ｑ2およびＱ3はそれぞれ独立に、５又は６員環を表し；Ｘ16はＢ、Ｃ−Ｒ（Ｒは水素原子または置換基を表す）、Ｎ、Ｐ、Ｐ＝Ｏを表す；
【化８０】
式中、Ｘ17はＢ、Ｃ−Ｒ（Ｒは水素原子または置換基を表す）、又はＮを表し；Ｒ11c、Ｒ12c、Ｒ13c、Ｒ14c、Ｒ15c、Ｒ21c、Ｒ22c、Ｒ23c、Ｒ24c、Ｒ25c、Ｒ31c、Ｒ32c、Ｒ33c、Ｒ34c及びＲ35cはそれぞれ水素原子または置換基を表す；
【化８１】
式中、Ｒ1dはアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ2dおよびＲ3dはそれぞれ独立に水素原子、アルキル基またはアリール基を表し；アルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい。
【化８２】
式中、Ｒ4d、Ｒ5dおよびＲ6dはそれぞれ独立にアルキル基またはアリール基を表し；アルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい。
【請求項９】
フイルムの｜Ｒｔｈ（７００）−Ｒｔｈ（４００）｜を低下させ得る化合物を少なくとも１種含む請求項１の透明フイルム。
【請求項１０】
フイルムの膜厚が１０〜１２０μｍである請求項１の透明フイルム。
【請求項１１】
請求項１の透明フイルムと、Ｒｅ（６３０）が０〜２００ｎｍであり、且つ｜Ｒｔｈ（６３０）｜が０〜４００ｎｍである光学異方性層とを有する光学補償フイルム。
【請求項１２】
請求項１の透明フイルム、又は請求項１１の光学補償フイルムの少なくとも１枚と、偏光子とを有する偏光板。
【請求項１３】
下記式（Ｉ）及び（II）でそれぞれ定義されるＲｅ（λ）及びＲｔｈ（λ）が、下記式（III）及び（IV）を満たす透明フイルムを有する液晶表示装置：
（Ｉ）Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ、
（II）Ｒｔｈ（λ）＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ、
（III）０≦｜Ｒｅ（６３０）｜≦５０、
（IV）Ｒｔｈ（４００）×Ｒｔｈ（７００）≦０で、且つ０≦｜Ｒｔｈ（７００）−Ｒｔｈ（４００）｜≦１５０、
［式中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ（λ）は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）であり；ｎｘはフイルム面内の遅相軸方向の屈折率であり；ｎｙはフイルム面内の進相軸方向の屈折率であり；ｎｚはフイルムの厚み方向の屈折率であり；及びｄはフイルムの厚さである。
【請求項１４】
少なくとも一方に電極を有する対向配置された一対の基板と、該一対の基板間に挟持され、ネマチック液晶材料を含み、黒表示時に該ネマチック液晶材料の液晶分子が前記一対の基板の表面に対して略並行に配向し、厚さｄ（μｍ）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄが０．２〜１．０μｍである液晶層とを有する液晶セル、及び該液晶セルを挟持して配置された第一及び第二の偏光膜を有する液晶表示装置であって、
前記第一及び第二の偏光膜の少なくとも一方と前記液晶セルとの間に透明フイルムを有し、該透明フイルムの下記式（Ｉ）及び（II）でそれぞれ定義されるＲｅ（λ）及びＲｔｈ（λ）が、下記式（III）及び（IV）を満たす液晶表示装置：
（Ｉ）Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ、
（II）Ｒｔｈ（λ）＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ、
（III）０≦｜Ｒｅ（６３０）｜≦５０、
（IV）Ｒｔｈ（４００）×Ｒｔｈ（７００）≦０で、且つ０≦｜Ｒｔｈ（７００）−Ｒｔｈ（４００）｜≦１５０、
式中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ（λ）は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）であり；ｎｘはフイルム面内の遅相軸方向の屈折率であり；ｎｙはフイルム面内の進相軸方向の屈折率であり；ｎｚはフイルムの厚み方向の屈折率であり；及びｄはフイルムの厚さである。
【請求項１５】
さらに第一及び第二の光学補償フィルムを含み、前記第一偏光膜、第二光学補償フイルム、第一光学補償フイルム、前記液晶セル、前記透明フイルム、前記第二偏光膜がこの順序で配置され、前記第二光学補償フイルムのＲｅが１００ｎｍ以下で、且つ厚み方向のレターデーションＲｔｈが２００ｎｍ以下であり、前記第一光学補償フイルムが、屈折率異方性が負で光軸が層面に対して実質的に平行であり、該第一光学補償フイルムの遅相軸が第一偏光膜の透過軸及び黒表示時の液晶分子の遅相軸方向に平行であり、及び該第一光学補償フイルムのＲｅが５０ｎｍ〜４００ｎｍである請求項１４の液晶表示装置。
【請求項１６】
前記第一光学補償フイルム及び第二光学補償フイルムの少なくとも一方が、ディスコチック液晶性化合物を少なくとも含む請求項１５の液晶表示装置。
【請求項１７】
さらに第一及び第二の光学補償フィルムを含み、前記第一偏光膜、第二光学補償フイルム、第一光学補償フイルム、前記液晶セル、前記透明フイルム及び前記第二偏光膜がこの順序で配置され、
前記第二光学補償フイルムのＲｅが１００ｎｍ以下で、且つ厚み方向のレターデーションＲｔｈが２００ｎｍ以下であり、且つ前記第一光学補償フイルムのＲｅが１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下で、且つ面内の屈折率ｎｘとｎｙ（ｎｘ≧ｎｙ）、厚さ方向の屈折率ｎｚ、及びフイルムの厚さｄを用いて Ｎｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）で定義される前記第一光学補償フイルムのＮｚが０．２〜０．８である請求項１４の液晶表示装置。
【請求項１８】
前記第一光学補償フイルム及び第二光学補償フイルムの少なくとも一方が、二軸延伸フイルムである請求項１７の液晶表示装置。
【請求項１】
下記式（Ｉ）および（II）で定義されるＲｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）が、下記式（III）且つ（IV）を満たす透明フイルム。
（Ｉ）Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
（II）Ｒｔｈ（λ）＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
（III）０≦｜Ｒｅ（６３０）｜≦５０
（IV）Ｒｔｈ（４００）×Ｒｔｈ（７００）≦０かつ０≦｜Ｒｔｈ（７００）−Ｒｔｈ（４００）｜≦１５０
［式中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ（λ）は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。またｎｘはフイルム面内の遅相軸方向の屈折率であり、ｎｙはフイルム面内の進相軸方向の屈折率であり、ｎｚはフイルムの厚み方向の屈折率であり、ｄはフイルムの厚さである。］
【請求項２】
熱可塑性ノルボルネン系樹脂を含有する請求項１に記載の透明フイルム。
【請求項３】
セルロースアシレートを含有する請求項１に記載の透明フイルム。
【請求項４】
前記セルロースアシレートが、アシル置換度が、２．８５〜３．００のセルロースアシレートである請求項３に記載の透明フイルム。
【請求項５】
前記セルロースアシレート中のアシル置換基が、実質的にアセチル基、プロピオニル基及びブタノイル基から選ばれる２種類からなり、その全置換度が２．５０〜３．００であるセルロースアシレートからなる請求項３または４の透明フイルム。
【請求項６】
Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）を低下させ得る化合物を少なくとも１種含む請求項１の透明フイルム。
【請求項７】
フイルムのＲｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）を低下させ、且つオクタノール−水分配係数（ＬｏｇＰ値）が０〜７である化合物を少なくとも１種、フイルム固形分に対して０．０１〜３０重量％含む請求項１の透明フイルム。
【請求項８】
フイルムのＲｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）を低下させ、オクタノール−水分配係数（ＬｏｇＰ値）が０〜７であり、且つ下記一般式（１）〜（１９）のいずれかで表される化合物の少なくとも１種を、フイルム固形分に対して０．０１〜３０重量％含む請求項１の透明フイルム：
【化７３】
式中、Ｒ11〜Ｒ13はそれぞれ独立に、炭素数が１〜２０の脂肪族基を表し；Ｒ11〜Ｒ13は互いに連結して環を形成してもよい；
【化７４】
一般式（２）および（３）中、Ｚは炭素原子、酸素原子、硫黄原子または−ＮＲ25−を表し；Ｒ25は水素原子またはアルキル基を表し；Ｚを含んで構成される５または６員環は置換基を有していてもよく；Ｙ21及びＹ22はそれぞれ独立に、炭素数が１〜２０の、エステル基、アルコキシカルボニル基、アミド基またはカルバモイル基を表し、Ｙ21及びＹ22は互いに連結して環を形成してもよく；ｍは１〜５の整数を表し、ｎは１〜６の整数を表す；
【化７５】
一般式（４）〜（１２）中、Ｙ31〜Ｙ70はそれぞれ独立に、炭素数が１〜２０の エステル基、炭素数が１〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数が１〜２０ のアミド基、炭素数が１〜２０のカルバモイル基またはヒドロキシ基を表し； Ｖ31〜Ｖ43はそれぞれ独立に水素原子または炭素数１〜２０の脂肪族基を表し ；Ｌ31〜Ｌ80はそれぞれ独立に、原子数０〜４０かつ、炭素数０〜２０の２価 の飽和の連結基を表し；ここで、Ｌ31〜Ｌ80の原子数が０であるということは 、連結基の両端にある基が直接に単結合を形成していることを意味し；Ｖ31〜 Ｖ43およびＬ31〜Ｌ80は、さらに置換基を有していてもよい；
【化７６】
式中、Ｒ1aはアルキル基またはアリール基を表し；Ｒ2aおよびＲ3aは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはアリール基を表し；Ｒ1a、Ｒ2aおよびＲ3aの炭素原子数の総和は１０以上であり、各々、アルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい；
【化７７】
式中、Ｒ4aおよびＲ5aはそれぞれ独立に、アルキル基またはアリール基を表し；Ｒ4aおよびＲ5aの炭素原子数の総和は１０以上であり、各々、アルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい；
【化７８】
式中、Ｒ1b、Ｒ2bおよびＲ3bはそれぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表し；Ｘ15は下記の連結基群１から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基を表し；Ｙ15は水素原子、アルキル基、アリール基またはアラルキル基を表す；
（連結基群１）
単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ4b−、アルキレン基及びアリーレン基、Ｒ4bは水素原子、アルキル基、アリール基またはアラルキル基を表す；
【化７９】
式中、Ｑ1、Ｑ2およびＱ3はそれぞれ独立に、５又は６員環を表し；Ｘ16はＢ、Ｃ−Ｒ（Ｒは水素原子または置換基を表す）、Ｎ、Ｐ、Ｐ＝Ｏを表す；
【化８０】
式中、Ｘ17はＢ、Ｃ−Ｒ（Ｒは水素原子または置換基を表す）、又はＮを表し；Ｒ11c、Ｒ12c、Ｒ13c、Ｒ14c、Ｒ15c、Ｒ21c、Ｒ22c、Ｒ23c、Ｒ24c、Ｒ25c、Ｒ31c、Ｒ32c、Ｒ33c、Ｒ34c及びＲ35cはそれぞれ水素原子または置換基を表す；
【化８１】
式中、Ｒ1dはアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ2dおよびＲ3dはそれぞれ独立に水素原子、アルキル基またはアリール基を表し；アルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい。
【化８２】
式中、Ｒ4d、Ｒ5dおよびＲ6dはそれぞれ独立にアルキル基またはアリール基を表し；アルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい。
【請求項９】
フイルムの｜Ｒｔｈ（７００）−Ｒｔｈ（４００）｜を低下させ得る化合物を少なくとも１種含む請求項１の透明フイルム。
【請求項１０】
フイルムの膜厚が１０〜１２０μｍである請求項１の透明フイルム。
【請求項１１】
請求項１の透明フイルムと、Ｒｅ（６３０）が０〜２００ｎｍであり、且つ｜Ｒｔｈ（６３０）｜が０〜４００ｎｍである光学異方性層とを有する光学補償フイルム。
【請求項１２】
請求項１の透明フイルム、又は請求項１１の光学補償フイルムの少なくとも１枚と、偏光子とを有する偏光板。
【請求項１３】
下記式（Ｉ）及び（II）でそれぞれ定義されるＲｅ（λ）及びＲｔｈ（λ）が、下記式（III）及び（IV）を満たす透明フイルムを有する液晶表示装置：
（Ｉ）Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ、
（II）Ｒｔｈ（λ）＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ、
（III）０≦｜Ｒｅ（６３０）｜≦５０、
（IV）Ｒｔｈ（４００）×Ｒｔｈ（７００）≦０で、且つ０≦｜Ｒｔｈ（７００）−Ｒｔｈ（４００）｜≦１５０、
［式中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ（λ）は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）であり；ｎｘはフイルム面内の遅相軸方向の屈折率であり；ｎｙはフイルム面内の進相軸方向の屈折率であり；ｎｚはフイルムの厚み方向の屈折率であり；及びｄはフイルムの厚さである。
【請求項１４】
少なくとも一方に電極を有する対向配置された一対の基板と、該一対の基板間に挟持され、ネマチック液晶材料を含み、黒表示時に該ネマチック液晶材料の液晶分子が前記一対の基板の表面に対して略並行に配向し、厚さｄ（μｍ）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄが０．２〜１．０μｍである液晶層とを有する液晶セル、及び該液晶セルを挟持して配置された第一及び第二の偏光膜を有する液晶表示装置であって、
前記第一及び第二の偏光膜の少なくとも一方と前記液晶セルとの間に透明フイルムを有し、該透明フイルムの下記式（Ｉ）及び（II）でそれぞれ定義されるＲｅ（λ）及びＲｔｈ（λ）が、下記式（III）及び（IV）を満たす液晶表示装置：
（Ｉ）Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ、
（II）Ｒｔｈ（λ）＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ、
（III）０≦｜Ｒｅ（６３０）｜≦５０、
（IV）Ｒｔｈ（４００）×Ｒｔｈ（７００）≦０で、且つ０≦｜Ｒｔｈ（７００）−Ｒｔｈ（４００）｜≦１５０、
式中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ（λ）は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）であり；ｎｘはフイルム面内の遅相軸方向の屈折率であり；ｎｙはフイルム面内の進相軸方向の屈折率であり；ｎｚはフイルムの厚み方向の屈折率であり；及びｄはフイルムの厚さである。
【請求項１５】
さらに第一及び第二の光学補償フィルムを含み、前記第一偏光膜、第二光学補償フイルム、第一光学補償フイルム、前記液晶セル、前記透明フイルム、前記第二偏光膜がこの順序で配置され、前記第二光学補償フイルムのＲｅが１００ｎｍ以下で、且つ厚み方向のレターデーションＲｔｈが２００ｎｍ以下であり、前記第一光学補償フイルムが、屈折率異方性が負で光軸が層面に対して実質的に平行であり、該第一光学補償フイルムの遅相軸が第一偏光膜の透過軸及び黒表示時の液晶分子の遅相軸方向に平行であり、及び該第一光学補償フイルムのＲｅが５０ｎｍ〜４００ｎｍである請求項１４の液晶表示装置。
【請求項１６】
前記第一光学補償フイルム及び第二光学補償フイルムの少なくとも一方が、ディスコチック液晶性化合物を少なくとも含む請求項１５の液晶表示装置。
【請求項１７】
さらに第一及び第二の光学補償フィルムを含み、前記第一偏光膜、第二光学補償フイルム、第一光学補償フイルム、前記液晶セル、前記透明フイルム及び前記第二偏光膜がこの順序で配置され、
前記第二光学補償フイルムのＲｅが１００ｎｍ以下で、且つ厚み方向のレターデーションＲｔｈが２００ｎｍ以下であり、且つ前記第一光学補償フイルムのＲｅが１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下で、且つ面内の屈折率ｎｘとｎｙ（ｎｘ≧ｎｙ）、厚さ方向の屈折率ｎｚ、及びフイルムの厚さｄを用いて Ｎｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）で定義される前記第一光学補償フイルムのＮｚが０．２〜０．８である請求項１４の液晶表示装置。
【請求項１８】
前記第一光学補償フイルム及び第二光学補償フイルムの少なくとも一方が、二軸延伸フイルムである請求項１７の液晶表示装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【公表番号】特表２００７−５３０９８９（Ｐ２００７−５３０９８９Ａ）
【公表日】平成１９年１１月１日（２００７．１１．１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−５３３３８５（Ｐ２００６−５３３３８５）
【出願日】平成１７年３月２４日（２００５．３．２４）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＪＰ２００５／００６２０９
【国際公開番号】ＷＯ２００５／０９３４７６
【国際公開日】平成１７年１０月６日（２００５．１０．６）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成１９年１１月１日（２００７．１１．１）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年３月２４日（２００５．３．２４）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＪＰ２００５／００６２０９
【国際公開番号】ＷＯ２００５／０９３４７６
【国際公開日】平成１７年１０月６日（２００５．１０．６）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
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