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Fターム[2C057AP32]の内容

インクジェット(粒子形成、飛翔制御) (80,135) | ヘッドの製造 (18,267) | 加工方法 (12,269) | エッチング使用 (2,606) | ドライエッチング (708)

Fターム[2C057AP32]に分類される特許

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【課題】給電部に導電性部材を設けて平坦化することで、当該給電部の平坦化した部分を、外部装置に安定して接続し、圧電体にクラックを生じにくくすることができるインクジェットヘッドを提供すること。
【解決手段】本発明のインクジェットヘッドは、インク吐出部を有し、インク供給路を形成する開口を有するスペーサ、及び圧電体からなる振動板が交互に積層された積層圧電体と、前記インク吐出部に配設されたノズルプレートと、を有するインクジェットヘッドであって、前記積層圧電体は、更に、前記積層圧電体間に設けられた隙間に挿入される導電性部材により形成された、前記圧電体へ給電するための給電部を備え、前記給電部の一部では、前記導電性部材及び前記積層圧電体が平坦化され、当該平坦化された給電部の一部から、接続素子を介して外部装置と接続する。 (もっと読む)


【課題】本発明はインクジェットヘッドアセンブリー及びその製造方法に関する。
【解決手段】本発明によるインクジェットヘッドアセンブリーは、インク流路が形成されるインクジェットヘッドプレートと、上記インクジェットヘッドプレート内の圧力チャンバに対応するように形成され、上記圧力チャンバからノズルへとインクを吐出するための駆動力を提供する圧電アクチュエーターと、上記インクジェットヘッドプレート上に積層され、外部から流入されるインクを上記インクジェットヘッドプレートの流入口に移動させる流路が形成されるパッケージ部と、上記パッケージ部に貫通形成されるビアに充填され、上記圧電アクチュエーターと電気的に接続する電気接続部を含むことができる。 (もっと読む)


【課題】ノズル内のメニスカス位置を精度よく制御することにより、インク液滴の吐出性能の向上を図るノズルプレートの製造方法を提供することである。
【解決手段】液体が吐出するノズルを有するノズルプレートにおいて、前記ノズルの内面は、前記液体が吐出する吐出口から順に、親液性を有する第1親液面、撥液性を有する撥液面、親液性を有する第2親液面が形成されていること、を特徴とする。 (もっと読む)


【課題】耐久性のある撥液性コーティングを流体噴射装置に施す。
【解決手段】流体噴射装置のノズル板を形成する方法は、多層基板の第一面に穴をエッチングにより形成する工程と、穴内にライナーを付ける工程と、ライナーの閉端部を露出させるように多層基板の第二面から層を除去する工程と、撥液性コーティングをライナーの閉端部及びライナーの閉端部を囲む領域に施す工程と、ノズルを開けるようにライナーの閉端部を除去する工程と、を含む。 (もっと読む)


【課題】圧電体層の結晶性を向上し良好な変位特性が安定して得られる圧電素子を備えた液体噴射ヘッドの製造方法及び圧電素子の形成方法を提供する。
【解決手段】流路形成基板用ウエハー110の表面に第1の電極膜60を形成する工程と、第1の電極膜上に第1の強誘電体膜71aを形成する工程と、この第1の強誘電体膜71a上に形成したレジスト膜をマスクとして第1の強誘電体膜71a及び第1の電極膜60をエッチングする工程と、酸素プラズマアッシングによってレジスト膜を除去する第1の除去工程と、保護用レジスト膜を形成する工程と、最終的に有機剥離液で処理することによりレジスト膜及び保護用レジスト膜を除去する第2の除去工程と、残りの強誘電体膜を形成する工程と、強誘電体膜上に第2の電極膜を形成後、第2の電極膜及び強誘電体膜をパターニングして圧電素子を形成する工程と、を有する。 (もっと読む)


【課題】絶縁性が高くリーク電流の発生を抑制することができ且つ環境負荷の少ない液体噴射ヘッド及び液体噴射装置を提供する。
【解決手段】ノズル開口21に連通する圧力発生室12と、圧電体層70と前記圧電体層70に設けられた電極60,80とを備えた圧電素子300と、を具備し、前記圧電体層70は、鉄酸マンガン酸ビスマスとチタン酸ビスマスカリウムを含むペロブスカイト構造を有する複合酸化物である液体噴射ヘッド1とする。 (もっと読む)


【課題】液体による液体流路の壁面の浸食を抑制し、液滴の噴射特性を長期に亘って良好に維持することができる液体噴射ヘッド及びその製造方法並びに液体噴射装置を提供することを目的とする。
【解決手段】振動板50の流路形成基板10側の最表層が、酸化ジルコニウムからなる絶縁体膜51で構成されていると共に、流路形成基板10の表面には、耐液体性を有する材料からなる保護膜20が液体流路の壁面を覆って設けられている構成とする。 (もっと読む)


【課題】保護膜と圧電体層との密着性が向上した圧電素子等を提供すること。
【解決手段】本発明に係る圧電素子は、基板の上に形成された第1電極と、前記第1電極の上に形成された圧電体層と、前記圧電体層の上に形成された第2電極と、少なくとも前記圧電体層の側面を覆う保護膜と、を含み、前記圧電体層の前記側面は、前記第2電極から前記第1電極に向かう方向に沿って延びる複数の溝を有する。 (もっと読む)


【課題】インク流路内に気泡が滞留することに起因するインク吐出効率の低下を招くおそれがなく、高画質の画像記録を行うことのできるインクジェットヘッドを提供する。
【解決手段】ガラス基板1とシリコン基板2とが積層一体化された積層体10と、インクが供給される圧力室4と、該圧力室4内のインクを吐出させるノズルとを有すると共に、前記圧力室4から前記ノズルの出口7に向かうインク流路が前記ガラス基板1と前記シリコン基板2とに亘って貫通形成されてなるインクジェットヘッドにおいて、インク流路のうちガラス基板1に貫通形成される部分の出口側の内面は、出口に向けて次第に拡径する形状を有しており、ガラス基板1からシリコン基板2にかけて貫通形成されたインク流路のうち、ガラス基板1に貫通形成される部分の出口直径をD1、前記シリコン基板2に貫通形成される部分の入口直径をD2としたとき、D1≦D2である。 (もっと読む)


【課題】製造過程におけるシリコンウエハーの欠けや割れの発生を抑制できると共に、異
物の発生を抑制することができるシリコンデバイスの製造方法及び液体噴射ヘッドの製造
方法を提供する。
【解決手段】第1のウエハー110上に圧力発生素子を形成すると共に、第2のウエハー
130上に第1の基板10が収まる深さの凹部131を形成し、第2のウエハー130の
凹部131内に第1のウエハー110を接合して接合体200を形成し、第2のウエハー
130の第1のウエハー110が接合された面の少なくとも外周部に耐エッチング性を有
する材料からなる保護膜150を形成してこの保護膜150で第2のウエハー110の表
面を覆い、接合体200の第1のウエハー110側の面を、第1のウエハー110の表面
と第2のウエハー130の表面とが同一平面となるまで加工し、その後、接合体200を
所定サイズの複数のチップに分割する。 (もっと読む)


【課題】圧電素子の圧電体層の大粒化を防止し、しかも圧電体層のパターニングの際のエッチングストップ層としての機能も有する圧電アクチュエーターの製造方法を提供する。
【解決手段】下電極膜60、圧電体層70及び上電極膜80を具備する圧電素子300と、振動板と、を備えた圧電アクチュエーターの製造方法であって、LaNiO(x=2.5乃至2.75)膜からなるLNO層56を振動板50,55上に形成する工程と、LNO層56上にエッチングを用いてパターニングし、下電極60を形成する工程と、LNO層56及び下電極60上にエッチングを用いてパターニングし、圧電体層70を形成する工程と、圧電体層70上にエッチングを用いてパターニングし、上電極80を形成する工程と、を有する。 (もっと読む)


【課題】第1の貫通口と連通する複数の第2の貫通口が形状精度よく形成された構造体を歩留まりよく得ることが可能なシリコン基板の加工方法を提供する。
【解決手段】第1のシリコン基板102と、第2のシリコン基板101と、第1のシリコン基板102と、第2のシリコン基板101との間に設けられ、複数の凹部109が設けられた中間層103と、の組を用意し、第1のシリコン基板102の中間層103との接合面の裏の面側から、第1のマスクを使用して第1のシリコン基板102をエッチングして第1の貫通口107を形成し、中間層103の複数の凹部109に対応する部分を露出させ、凹部109の底部部分を除去して中間層に複数の開口を形成し、開口が形成された中間層をマスクとして第2のシリコン基板101に第2のエッチングを行うことにより第2の貫通口108を形成する。 (もっと読む)


【課題】密着層の表面を均一に不動態化する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、吐出エネルギーを発生する発熱部と、該発熱部の上に配置された保護層と、該保護層の上に配置された導電性を有する密着層と、該密着層の上であって少なくとも前記発熱部の上方の領域に配置された上部保護層と、を有し、前記上部保護層は、電気化学反応により溶出する金属を含みかつ加熱により前記溶出を妨げるほどの酸化膜を形成しない材料で構成され、前記密着層を介して電気的に接続されている、液体吐出ヘッド用基板の製造方法であって、前記密着層の表面を酸素を含むガスを放電させることにより酸化し、密着層酸化部を形成する工程を含むことを特徴とする液体吐出ヘッド用基板の製造方法である。 (もっと読む)


【目的】上下2段に配置した圧力室にそれぞれ対応する絞り部の加工時間及び加工コストを抑制可能なインクジェットヘッドを提供すること。
【構成】複数の層からなる積層体によって構成され、前記積層体内に設けられた圧力室内のインクを圧力発生手段によってノズルから吐出するインクジェットヘッドであって、前記積層体を構成する第1の層12に形成された第1の圧力室121に連通する第1のインク供給路50に設けられた第1の絞り部52と、前記積層体を構成する第2の層13に形成された第2の圧力室131に連通する第2のインク供給路70に設けられた第2の絞り部72とを有し、前記第1の絞り部52と前記第2の絞り部72は、共に前記積層体中の同一の層に形成されていることを特徴とするインクジェットヘッド。 (もっと読む)


【課題】 変位量の低下を抑制した強誘電体薄膜を形成することができる強誘電体薄膜形
成用組成物、液体噴射ヘッドの製造方法、及びアクチュエーター装置の製造方法を提供す
る。
【解決手段】 ABOの化学式を有するペロブスカイト構造の強誘電体薄膜をゾル−ゲ
ル法により形成するための強誘電体薄膜形成用組成物であって、強誘電体薄膜を構成する
有機金属化合物と、水とを少なくとも含むゾルからなり、前記ゾルは、Bサイトを構成し
得る金属の総量をXmol/kgとし、未反応水分量をYmol/kgとしたとき、2X
<Y<5Xを満たすようにする。 (もっと読む)


【課題】鉛を含有せず、圧電特性が優れた圧電素子を有する液体噴射ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】ノズル開口に連通する圧力発生室と、第1電極と、前記第1電極上に形成され鉄マンガン酸ビスマスランタンを含む圧電体層と、前記圧電体層上に形成された第2電極と、を備えた圧電素子と、を具備し、前記圧電体層は、結晶が(111)面に優先配向している。 (もっと読む)


【課題】変位量が大きく、且つ駆動効率の優れた薄膜アクチュエータ、及びインクジェットヘッドを提供する。
【解決手段】駆動信号により膜面に沿った方向に伸縮する変位膜を有する薄膜層と、薄膜層の両端または周縁を固定し、駆動信号による変位膜の伸長により、該薄膜層を膜面に垂直な方向に変位させる基板と、を備えた薄膜アクチュエータであって、薄膜層は、非駆動時、膜面に沿った初期の圧縮応力を有し、薄膜層の変位量は、圧縮応力の大きさにより変化し、圧縮応力の値は、駆動時、薄膜層の変位量を最大にする圧縮応力の値よりも小さい。 (もっと読む)


【課題】最適駆動式圧電メンブレンの製造方法を提供する。
【解決手段】上部電極フィルムEtopと下部電極フィルムEbotの間に置かれた圧電材料フィルム30と、該圧電フィルムを担持する弾性フィルム20とを含む薄膜多層を基板10の上に構成するメンブレンの製造方法であって、少なくとも1つの変曲点が画定されるような形でフィルムの平面に対し平行な軸に沿って前記メンブレンの少なくとも1つの凹面/凸面曲率を決定することで、凹状部分と凸状部分またはその逆に対応する第1の領域と第2の領域を画定するステップと、圧電材料フィルムと、下部電極フィルムと上部電極フィルムとを含む薄膜多層を基板表面上に被着させるステップと、フィルム面に対して垂直な電場を内部に印加する第1のメンブレン領域と、フィルムの平面に対して平行な電場を印加する第2の領域とを画定するように電極フィルムのうちの少なくとも一方を構造化するステップとを含む。 (もっと読む)


【課題】液滴吐出ヘッドにおけるドット抜け及び温度変化を容易かつリアルタイムに検出することを可能とする液滴吐出ヘッド、液滴吐出装置、及びノズル基板の製造方法を提供する。
【解決手段】液滴吐出ヘッドは、液滴を吐出する複数のノズル孔10及びノズル孔10のそれぞれを中心として各ノズル孔10の縁に形成された温度センサー28を少なくとも有するノズル基板12と、底壁が振動板22を構成し、ノズル基板12の複数のノズル孔10に連通して吐出液を収容する複数の圧力室26を有し、ノズル基板12に積層されるキャビティ基板14と、振動板22を駆動する個別電極18を有し、キャビティ基板14に積層される電極基板16と、ノズル孔10に存在する吐出液の量により変化する温度によって液滴吐出状況の良否を判断する吐出検出回路34と、を有する。 (もっと読む)


【課題】安定した変位特性を有し、信頼性の低下を抑えたアクチュエーター装置の製造方法、このアクチュエーター装置を備えた液体噴射ヘッドの製造方法およびこの液体噴射ヘッドを備えた液体噴射装置の製造方法を得ること。
【解決手段】フォトリソエッチ工程の段階で、下電極60が形成される領域を残して、振動板52上の第1圧電体層71が除去されるが、フォトリソエッチ工程後に、第1圧電体層71、下電極60および振動板52にわたって、4nm以上、20nm以下の厚みのチタン酸ジルコン酸鉛を含む第2圧電体層72を形成する。第2圧電体層72が、下電極60に形成された第1圧電体層71および第2圧電体層72上に形成される第3圧電体層73と同じチタン酸ジルコン酸鉛なので、第1圧電体層71と第2圧電体層72との界面付近および第2圧電体層72と第3圧電体層73との界面付近で組成不安定相を生じにくくできる。 (もっと読む)


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