【課題】 エンコーダで位置を計測しつつ、移動体を所望の方向へ精度良く駆動する。
【解決手段】 駆動装置により、ウエハステージＷＳＴのＹ軸方向の位置情報を計測するエンコーダ６２Ａの計測値とそのエンコーダによって計測されるスケール３９Ｙ₁の平面度に関する情報とに基づいて、ウエハステージＷＳＴがＹ軸方向に駆動される。この場合、駆動装置は、そのエンコーダの計測値に含まれるスケールの平面度に起因する計測誤差をスケールの平面度に関する情報に基づいて補正した補正後の計測値に基づいて、ウエハステージを所定方向に駆動することが可能である。従って、スケールの凹凸に影響を受けることなく、エンコーダを用いてウエハステージを精度良く所定方向に駆動することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】低コスト化を図れる導膜製造装置、製造した電気機械変換素子、液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】第１のアライメント調整工程では着弾位置２５１をカメラ２０５で捕捉し着弾位置２５１がカメラ２０５の撮影撮影基準位置２５２に一致するように基板又は液滴吐出ヘッド２０１を相対的に移動する。第２のアライメント調整工程ではレーザレッドによってレーザ光を照射して照射跡を形成し照射跡をカメラ２０５で捕捉し照射跡がカメラ２０５の撮影撮影基準位置２５２に一致するように基板又はレーザヘッドを相対的に移動する。第３のアライメント調整工程では基板上に予め形成されているアライメントマークを撮像手段２０５で撮影したアライメントマークの形状に基づいて基板の向きを検知して基板の向きの調整を行いアライメントマークを撮像手段２０５の撮影基準位置に一致するように基板を移動することで基板の組付け位置の調整を行う。 （もっと読む）

【課題】パターンのムラ欠陥の生じない描画条件を導出し、製品の歩留まりを向上する。
【解決手段】基板上に描画するパターンのムラ欠陥が発生しない描画条件を導出する方法であって、基板上に形成するパターンを生成するパターン情報生成工程Ｓ１と、パターンに対して、複数の描画項目の組み合わせによる、２通り以上の描画条件を設定する描画条件設定工程Ｓ２と、前記生成されたパターンを抜き取り、補助基板上に、前記各描画条件のもとに、矩形領域をなす補助パターンを形成する補助パターン描画工程Ｓ３と、補助基板に対して照明光を入射し、補助パターンから生じる回折光を光電変換素子にて画像として取得し、ムラ欠陥に関するムラ評価値とムラ発生周期とを求めことにより、複数の描画条件の中からムラ欠陥が生じない描画条件を導出する描画条件判定工程Ｓ４とを含むパターンの描画条件導出方法である。 （もっと読む）

【課題】通常姿勢の人間に対する検知性能を維持しつつ、さらに、小動物などの誤検知防止と匍匐侵入などをする人間の確実な検知との両立をも実現可能なレーザースキャンセンサを提供する。
【解決手段】レーザー距離計１１０と、スキャン機構１２０と、距離データ取得部１３０と、メモリ１６０と、取得された距離情報の中から人体に対応する可能性がある物体を検知するとともに、その物体の高さおよび幅をメモリ１６０に記憶されている設置状態情報にも基づいて算出し、算出された物体高さが所定高さ以上の場合はその物体の検知が第１所定時間以上継続したときに人体であると判定するとともに、算出された前記物体高さが前記所定高さ未満の場合はその物体の検知が前記第１所定時間よりも長い第２所定時間以上継続したときに人体であると判定する人体判定部１４０と、警告出力制御部１５０とを備える。 （もっと読む）

【課題】シリコンなどのウエハー上にレーザー光を用いて露光することで描画を行う描画装置において、ナノミクロンオーダーの高精度な位置決めを行うこと。
【解決手段】レーザー光を一定方向に往復させて所定の間隔でドットパターンの描画を行う光学素子用の描画装置であって、レーザー光を照射する照明光学系と、
基盤を載置するＸＹステージと前記照明光学系と前記ＸＹステージとの相対位置を測定する前記ＸＹステージ上に設置されたナノスケールと、前記基盤上の描画信号の基準位置とその描画信号波形データ出力と、前記ナノスケールによって測定された往路のドットパターンの描画終了位置から、復路のドットパターンの描画開始位置を抽出する軸制御ユニットと、前記軸制御ユニットによって抽出された描画開始位置から描画を開始するように前記照明光学系の位置を補正する位置補正手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】点状対象物の３次元位置決め用の顕微鏡装置と顕微鏡法を提供する。
【解決手段】顕微鏡装置には、点状対象物を、焦点配光４０、４０’の形態で２つの別個の画像空間に結像する２つの結像光学系２６、２６’と、且つそれぞれの画像空間で配置された検出面２７、２７’の検出点にて、分析可能な光点を捕捉する２つの検出ユニット２８、２８’と、２つの検出面２７、２７’の検出点を相互にペアで対応させ、且つ２つの光点を分析することによって点状対象物の横方向ｘ−ｙ位置および軸方向ｚ位置を確認する評価ユニットと、が含まれる。２つの結像光学系には、それぞれの検出ユニットの検出面に垂直な検出軸に対して、それぞれの焦点配光を斜めに向ける光学手段が含まれる。２つの焦点配光の傾斜が相互に反対であることにより、点状対象物のｚ位置の変化に応じて２つの光点が、反対方向にシフトする。 （もっと読む）

【課題】地物表面の三次元形状を表す点群データに基づいて地物の壁面を自動的に検出する。
【解決手段】部分空間設定手段２０は解析の対象空間を垂直面で分割して、柱状の複数の部分空間を設定する。部分空間選択手段２２は部分空間のうち予め設定した閾値以上の高低差を有する点群を含むものを注目部分空間として選択する。ブロック空間設定手段２４は注目部分空間を水平面で分割して、縦に積み重なる複数のブロック空間を設定する。水平面内探索手段２６はブロック空間ごとに、水平面内の線分のうち、水平面に射影された点群が予め設定した基準以上に近傍に集まるものを探索して水平面内における壁面の位置と定める。 （もっと読む）

【課題】貼合わせウェハ全体について厚さを測定できる装置の提供。
【解決手段】貼合わせウェハ１の厚さ測定光学系及び観察光学系と、測定光学系から出力される信号を用いて貼合わせウェハ１の厚さを算出する信号処理装置とを具え、測定光学系は、第１の波長域の測定用光源３０と、この測定光を投射して光スポットを形成する対物レンズ１７と、その反射光の光検出手段４０とを有し、観察光学系は、前記第１の波長域とは異なる第２の波長域の観察用照明光を放出する照明光源４１と、照明光を投射する対物レンズ１７と、その反射光を受光して２次元画像を撮像する撮像装置４８とを有する。これらで共通の対物レンズ１７と測定光源及び観察光源との間の光路中には、前記測定光学系と観察光学系とを光学的に結合する波長選択性を有するカップリング素子３４を配置する。撮像装置４８は、前記測定光により形成された光スポットの像が重畳された像を撮像する。 （もっと読む）

【課題】検出光の進行方向および検出光の進行方向に交差する方向の双方における検出範囲を拡張することのできる光学式位置検出装置、位置検出システム、および入力機能付き表示システムを提供すること。
【解決手段】位置検出システム１において、光源部１２は、検出光Ｌ２を放射状に出射するとともに、検出光Ｌ２の放射角度範囲において一方側から他方側に向かって強度が変化する光強度分布を形成し、受光部１３は、光強度分布が形成された検出対象空間１０Ｒに位置する対象物体Ｏｂで反射した検出光Ｌ２を受光する。光源はレーザー光源１４であり、レーザー光源１４から出射されたレーザー光（検出光Ｌ２）を可動ミラー１１によって走査する。 （もっと読む）

【課題】 複数の視点から撮像した画像に基づいて、より広範囲における任意の被写体の位置情報を取得する。
【解決手段】 上記課題を解決するために、本発明の画像処理装置は、第一の画像と、前記第一の画像とは異なる視点から撮像した第二の画像とを取得する取得手段と、前記第一の画像および前記第二の画像それぞれにおける被写体の特徴点を検出する検出手段と、前記第一の画像および前記第二の画像に基づいて、前記被写体の位置情報を算出する算出手段とを有し、 前記算出手段は、前記第一の画像および前記第二の画像の両方において前記特徴点が検出された場合、前記特徴点それぞれに基づいて、前記位置情報および前記被写体に対応する被写体モデルを算出し、前記第一の画像および前記第二の画像のいずれかのみにおいて前記特徴点が検出された場合は、前記被写体モデルを参照して、前記情報を算出することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】被測定対象に施される遮熱コーティングの膜厚を効率良く正確に測定することが可能な膜厚測定装置及び膜厚測定方法を提供することを目的とする。
【解決手段】膜厚測定装置１は、タービン翼１１に形成された遮熱コーティング膜の膜厚を測定するＥＣＴセンサ４と、遮熱コーティング膜の膜厚を測定する地点であるタービン翼１１上の測定地点を記憶している記憶手段９と、タービン翼１１の形状を測定するレーザ変位計５と、レーザ変位計５によって測定された測定されたタービン翼１１の形状と、記憶手段９に記憶されているタービン翼１１上の測定地点に基づいて、ＥＣＴセンサ４による実際の膜厚測定に適した実測定地点を算出する測定位置算出手段８と、測定位置算出手段８によって算出された実測定地点に基づいて、ＥＣＴセンサ４を駆動して、ＥＣＴセンサ４の測定位置を調整するアーム駆動手段６とを備える。 （もっと読む）

【課題】原板が有する凹凸パターンを容易にかつ高い位置精度で基板上の転写液層にインプリントすることのできる技術を提供する。
【解決手段】原板Ｍの凹凸パターンＰ面が基板Ｓ上に塗布された転写液層ＵＶＲに接触した状態で、原板Ｍおよび基板Ｓのそれぞれに形成されたアライメントマークＡＬを、１つの認識手段により、両アライメントマークＡＬが重なる方向から同時に撮像して得られた１つの画像から両アライメントマークＡＬの位置を別々に認識処理することで原板Ｍと基板Ｓとのアライメントを行う。そのため、撮像された原板Ｍおよび基板Ｓのアライメントマーク画像に相対的な位置誤差が生じるおそれがなく、振動や異なる走査タイミングに起因する位置誤差が生じることを防止できる。 （もっと読む）

【課題】レーザー光の照射位置の制御や照射位置の制御にかかる装置レイアウトの自由度を向上する。
【解決手段】カメラ１０と、レーザーポインタ２０が照射するレーザー光の照射位置を含む範囲をカメラ４０が撮像するようにレーザーポインタ２０とカメラ４０とを載置され、レーザーポインタ２０とカメラ４０とを一緒に回動させるポインタマニピュレータ３０と、ポインタマニピュレータの回動を制御する制御装置５０と、を備え、制御装置５０は、カメラ４０が撮像する画像Ｐ２とカメラ１０が撮像する画像Ｐ１とを取得し、画像Ｐ２内における画像Ｐ１の位置を特徴点マッチングにより特定し、画像Ｐ１と画像Ｐ２と前記位置とに基づいて、ポインタマニピュレータ３０の回動を制御する。 （もっと読む）

【課題】誤差の影響を受けにくいが大きな空間を占有しない、改善された精密測定システムを提供する。
【解決手段】本体の動きを検出するシステムであって、本体と、基準フレームに対して実質的に静止して取り付けられた第１回折格子４０，４２と、本体に取り付けられた第２回折格子５０，５２と、第１および第２回折格子で回折された一つ以上の放射ビームを受け取り、基準フレームに対する本体の動きを検出するように構成された検出器６０，６１，６２，６３と、を備え、検出器６０，６１，６２，６３が本体に結合され、本体に対して移動可能である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、実際の道路環境において、反射光（楕円偏光）の楕円軸が車両の車軸方向あるいは高さ方向に対して傾いている場合であっても、正確に路肩を検出することができる新規な車両運転支援装置を提供することを目的とする。
【解決手段】偏光撮像手段の画素毎に直交する２つの偏光方向をもつ偏光素子を設け、該偏光素子の偏光検出軸を所定の角度範囲で変更させながら、２つの偏光方向に対応する光強度の比を監視し、当該光強度比が最初の極値に達したときの光強度に基づいて偏光状態特徴量を算出する。この偏光状態特徴量が所定の閾値を超える領域を路肩として検出し、その位置情報に基づいて、操舵制御手段、走行速度制御手段、警告手段等を制御することによって車両の運転支援を行う。 （もっと読む）

【課題】過去のトロリ線データと現在のトロリ線データとで走行位置を正確に一致させることを可能としたトロリ線データ比較装置を提供する。
【解決手段】車両の屋根上に配置されて鉛直上方のトロリ線を撮影するラインセンサカメラ２と、ラインセンサカメラ２から入力される映像信号を収録する画像録画部と、画像録画部から現在のトロリ線画像を入力するラインセンサ画像入力部５ａ、現在のトロリ線画像からトロリ線の摩耗及び偏位を抽出する摩耗・偏位抽出部５ｂ、過去のトロリ線画像と現在のトロリ線画像とから車両の偏位の位置ずれ量を検出する偏位位置ずれ検出部５ｃ、及び位置ずれ量を現在のトロリ線画像に反映し、過去のトロリ線画像と比較する摩耗量比較部５ｄを備える画像処理部とから構成した。 （もっと読む）

【課題】ユーザにとっての利便性により優れた情報処理装置及び情報処理方法を提供すること。
【解決手段】本技術に係る第１の側面である情報処理システムは、１つの検体を同一方向に切断することによって得られた複数の切片が離散的に載置されたスライドを撮影して得た画像データを取得する取得部と、前記取得された画像データにおける個々の前記切片を含む同一形状の複数の検体領域を検出して、個々の前記検体領域それぞれの前記画像データの座標空間における位置を相対的に示す位置情報を算出する検出部と、前記算出された位置情報を記憶する第１の記憶部と、前記記憶された位置情報をもとに前記検体領域間での表示の切り替えを行う制御部とを具備する。 （もっと読む）

【課題】複数回印刷ヘッドを走査して爪部に印刷を施す場合に、ｎ回目の走査終了後ｎ＋１回目の走査までの間に指が動いてしまった場合でも、走査ごとの画像のずれを防いで高品質の印刷を行うことのできるネイルプリント装置及び印刷制御方法を提供する。
【解決手段】爪部Ｔを複数の領域に分けて複数回の走査により１つのデザイン画像を印刷する場合に、各回の走査開始前（Ｓ３）に爪部Ｔの位置情報を取得する（Ｓ２）とともに、ｎ＋１回目の走査を開始する前に、ｎ回目の走査開始前の爪部Ｔの位置情報とｎ＋１回目の走査開始前の爪部Ｔの位置情報とを比較して（Ｓ８）爪部Ｔの位置変化を検出して（Ｓ９）、ｎ＋１回目の走査開始前に爪部Ｔの位置変化が検出されたときは、爪部Ｔの位置変化に応じて、ｎ＋１回目の走査を行う際の印刷開始位置を補正し（Ｓ１０）、この補正後の印刷開始位置から、次の印刷を開始するように印刷制御する（Ｓ９）。 （もっと読む）

【課題】原板が有する凹凸パターンを容易にかつ高い位置精度で基板上の転写液層にインプリントすることのできる技術を提供する。
【解決手段】原板Ｍの凹凸パターンＰ面が基板Ｓ上に塗布された転写液層に接触した状態で、原板Ｍおよび基板のそれぞれに形成されたアライメントマークを、１つの認識手段３により、両アライメントマークが重なる方向から、一方のアライメントマークを撮像した後、他方のアライメントマークを撮像し、得られた両アライメントマークの画像にそれぞれ位置誤差補正処理を行う。そのため、補正後の両アライメントマーク画像を用いて高精度なアライメントを行うことが可能になる。 （もっと読む）

【課題】汎用性の高い校正原器を提供し、一つの校正原器で種々の形状計測装置の横座標の校正を可能にする。
【解決手段】形状計測装置の横座標を校正する際にワークの代わりに配置される校正原器２０に、入射角度に係わらず光を元来た方向に反射する再帰性光学素子２１を設け、この再帰性光学素子２１によって測定光Ｌｍを反射させる。校正原器２０は、再帰性光学素子２１によって反射するため、種々の曲率半径の測定光を元来た方向に反射することができ、これによって、種々の形状計測装置の横座標の校正に使用することができる。 （もっと読む）