【課題】位置測定装置における可動部材をできる限り他の部材と機械的に接続せずに成る高精度の位置測定装置を提供すること。
【解決手段】検出ユニット２０と信号ユニット３０を構造的に分離されたユニットとして形成し、検出ユニット２０を測定標準１０に対して少なくとも１つの測定方向ｘに沿って変位可能に配置し、光源から照射されるビームを信号ユニット３０から検出ユニット２０の方向へ照射し、少なくとも１対の部分ビームを検出ユニット２０から信号ユニット３０の方向へ照射し、検出ユニット２０及び信号ユニット３０を互いに平行な平面内に配置し、信号ユニット３０と検出ユニット２０の間におけるビームの少なくとも一部の拡がり方向を前記平面に対して垂直に配向するよう構成した。 （もっと読む）

【課題】移動体の進行方向を、簡便な手法によって精度よく検出することができるようにする。
【解決手段】物体検出センサ１によって、移動体としての車両Ｖ周囲の物体が検出される。ＧＰＳ３によって、誤差を含んだおおまかな車両Ｖの位置、方位が測位される。地図データ４と物体検出センサ１で検出された検出データとを、直交座標系を用いてマッチングさせて、車両Ｖの現在位置の測位が行われる。車両Ｖの位置を原点とする極座標系を用いて、地図データと検出データとをマッチングさせて、車両Ｖの進行方向が決定される。 （もっと読む）

【課題】高い回折効率を示し、精度良く位置検出を行える変位検出装置を提供することを目的とする。
【解決手段】台形または矩形のレリーフ形状をした回折格子を用いる。また、可干渉光を出射する光源部と、光源部から出射された光束を二つの光束に分割する光束分割部と、を含み、二つの光束をＰ偏光として回折格子上に照射させる照射光学系と、二つの光束が回折格子により回折されることによって生じる二つの第１回折光をそれぞれ反射し、回折格子上にＰ偏光として再入射させる反射光学系を備える。また、回折格子に再入射した二つの第１回折光が回折されて生じる二つの第２回折光を干渉させる干渉光学系と、干渉光学系により干渉した光を受光する受光部と、受光部において取得した干渉信号に基づいて、回折格子の位置情報を検出する位置検出部を備えるものとする。そして、回折格子のレリーフの周期を、回折格子に入射する可干渉光の波長の１．５倍以下とする。 （もっと読む）

【課題】自動的に基準軌跡の抽出と許容領域の生成とを実行することができ、容易に部品形状の変更に対応することができる塗布位置検査装置を提供する。
【解決手段】シール剤Ｓが塗布されたワークＷを撮像する撮像装置２と、撮像装置２によって撮像された撮影画像から、シール剤Ｓの塗布軌跡を抽出する軌跡抽出部４−１と、所定の基準軌跡を記憶する記憶部５と、軌跡抽出部４−１により抽出されたシール剤Ｓの塗布軌跡が、記憶装置５に記憶されている所定の基準軌跡を中心とする許容領域内に収まっているか否かを判定する形状判定部４−２とを備える。 （もっと読む）

【課題】検査装置の検査情報とレビュー装置で取得した観察情報とを用い、欠陥の高さ、屈折率、材質の情報を取得して欠陥材質・屈折率分析や、微細なパターン形状の三次元解析を行う方法、並びにこれを搭載した欠陥観察装置を提供する。
【解決手段】試料上の欠陥を観察する方法において、光が照射された試料からの反射・散乱光を受光した検出器からの検出信号を処理して検出した検査結果の情報を用いて観察対象の欠陥が存在する位置を走査電子顕微鏡で撮像して画像を取得し、この取得した観察対象の欠陥の像を用いて欠陥のモデルを作成し、作成された欠陥のモデルに対して光を照射したときに欠陥モデルから発生する反射・散乱光を検出器で受光した場合のこの検出器の検出値を算出し、この算出した検出値と実際に試料からの反射・散乱光を受光した検出器の検出値とを比較して観察対象の欠陥の高さ又は材質又は屈折率に関する情報を求めるようにした。 （もっと読む）

【課題】マスクの歪の影響によらずパターンの良否を正確に判定することのできる検査装置および検査方法を提供する。
【解決手段】マスク上の任意の少なくとも４点の座標を測定する（Ｓ１０１）。次いで、これらの少なくとも４点について、それぞれ対応する設計データの各座標との差を求め、最も差の大きい１点を選択する（Ｓ１０２）。次に、選択した１点と設計データの座標との差が予め設定した閾値を超えるか否かを判定する（Ｓ１０３）。閾値以下であれば、少なくとも４点全てを用いて、光学画像と参照画像との位置合わせを行う（Ｓ１０４）。一方、閾値を超える場合には、この点を除外し、残りの少なくとも３点を用いて位置合わせを行う（Ｓ１０５）。 （もっと読む）

【課題】パターンが形成される物体を保持する移動体を安定して位置制御する。
【解決手段】露光装置は、ウエハを保持して所定平面内で移動するウエハステージと、所定平面内でウエハステージとは独立に移動する計測ステージと、計測ステージの位置情報を計測する干渉計システム１１８と、ウエハステージの位置情報を計測する、干渉計システム１１８に比べて計測値の短期安定性が優れるエンコーダシステム（７０Ａ〜７０Ｆ）と、を備えている。このため、露光装置によると、干渉計システム１１８により計測ステージの位置情報が計測され、エンコーダシステム（７０Ａ〜７０Ｆ）によってウエハステージＷＳＴの位置情報が計測される。従って、パターンが形成されるウエハを保持するウエハステージを安定して位置制御することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】画像処理を用いてパレタイズ位置が特定可能な位置検出方法を提供する。
【解決手段】位置検出方法は、使用対象のパレット７０のＸ軸方向と、Ｘ軸に直交するＹ軸方向とに、ワーク６０を整列配置するパレタイズ位置を示すパレタイズパターンを撮像する工程と、前記パレタイズパターンの撮像データを用いて、Ｘ軸方向の列の輝度差、およびＹ軸方向の列の輝度差を検出して輝度検出パターンを作製する工程と、輝度検出パターンを用いてパレット７０の基準パレタイズパターンを特定する工程と、作業位置に載置されたパレット７０のパレタイズパターンを撮像する工程と、基準パレタイズパターンを、作業位置に配置されたパレット７０のパレタイズパターンと重なり合う位置に移動させて、作業基準位置Ｐに対する作業位置に載置されたパレット７０のパレタイズ位置を特定する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】受光素子が指向性を有している場合でも、検出範囲を広く設定することのできる光学式位置検出装置、および入力機能付き表示システムを提供すること。
【解決手段】光学式位置検出装置において、受光部１３は、受光素子１３０と、受光素子１３０に対する反射光Ｌ３の入射角度範囲を狭める入射角変換部１４とを備え、入射角変換部１４は、入射部１４８、第１反射面１４１、第２反射面１４２、および第３反射面１４３を備えた入射角変換用導光路１４０を有している。このため、対象物体Ｏｂで反射した検出光Ｌ２（反射光Ｌ３）は、入射部１４８から入射した後、第１反射面１４１と第２反射面１４２との間で反射を繰り返しながらＸＹ平面に沿って第１反射面１４１と第２反射面１４２との間で進行し、その後、第３反射面１４３でＺ軸方向に反射して、受光素子１３０の受光面１３１に入射する。このため、受光面１３１に対する入射角度が狭い。 （もっと読む）

【課題】微小な電子部品であっても、その外形を示すエッジを正確に検出することができる基板の外観検査装置および外観検査方法を提供する。
【解決手段】照明パターン選択手段（照明パターン選択部４７）は、複数の方向からの照明光を同時に照射する照明パターン１と、照明パターン１よりも高い輝度で複数の方向からの照明光を別々に照射する照明パターン２と、から照明光照射手段（照明２０）による照明光の照射パターンを選択し、画像取得手段（カメラ１０）は、照明パターン２が選択された場合には、別々に照射された複数の方向別の照明光毎に画像を取得する。このようにして取得した画像には、電子部品の実装面に略平行な面（上面）および実装面に略垂直な面（側面）により形成されるエッジが、電子部品の側面からの拡散光によって電子部品の外形として表され、エッジ検出手段（エッジ検出部４８）はこれらの画像から電子部品の外形を示すエッジを検出する。 （もっと読む）

【課題】物体上の複数のマークを効率的に、かつ高精度に検出する。
【解決手段】少なくとも１軸方向に関する検出領域が互いに異なる複数のアライメント系で、少なくともその１軸方向に関して互いに異なる位置に配置されたウエハ上のマークを検出するマーク検出方法であって、複数のアライメント系の検出領域にそれぞれウエハ上のマークを移動するステップ３１５と、ウエハをＺ方向にスキャンして複数のアライメント系の検出信号及びデフォーカス量に対応するフォーカス信号を取り込むステップ３１６と、複数のアライメント系の検出信号とフォーカス信号とからフォーカス信号のオフセットを求めるステップ３１７とを有する。 （もっと読む）

【課題】物体の位置の測定に有利な技術を提供する。
【解決手段】第１ヘッド１１２ａ、１１２ｃ又は第２ヘッド１１３ａで第１物体に対する第２物体の相対的な位置を測定する第１測定部１１０と、第１物体に対する第２物体の相対的な位置を求める処理を行う処理部と、を有し、処理部は、第１ヘッド１１２ａ、１１２ｃ及び第２ヘッド１１３ａのうち一方のヘッドで以前に検出された回折格子１１１ａ、１１１ｂ上の位置を他方のヘッドの視野の中心に位置決めした状態で一方のヘッドで以前に検出された回折格子上の位置とは別の位置を一方のヘッドで検出する処理を、一方のヘッドが回折格子の全面を検出するまで繰り返して回折格子の変形量を求める第１処理と、回折格子の変形量に基づいて、第１ヘッド１１２ａ、１１２ｃ又は第２ヘッド１１３ａで測定された第１物体に対する第２物体の相対的な位置を補正する第２処理と、を行う。 （もっと読む）

【課題】対象物体が検出用光源を配置した領域の外側に位置しても内側に位置しても対象物体の位置を検出できる光学式位置検出装置を提供する。
【解決手段】光学式位置検出装置１０において、検出用光源部１２が検出光Ｌ２を射出した際に対象物体Ｏｂで反射した検出光を光検出部３０で検出して対象物体Ｏｂの座標を検出する。検出空間１０Ｒからみたときに、光検出部３０は、複数の検出用光源部１２より内側に位置するとともに、複数の検出用光源部１２は各々、第１の発光素子１２Ａ１〜１２Ｄ１と第２の発光素子１２Ａ２〜１２Ｄ２とを備えている。従って、第１の発光素子１２Ａ１〜１２Ｄ１が点灯した際の光検出部３０での受光強度と第２の発光素子１２Ａ２〜１２Ｄ２が点灯した際の光検出部３０での受光強度との比較結果に基づいて対象物体Ｏｂが検出用光源部１２より外側に位置しても内側に位置しても対象物体Ｏｂの位置を検出することができる。 （もっと読む）

【課題】光ビーム照射装置の空間的光変調器の傾きとヘッド部の傾きとを容易に判別して、光ビームの歪みを抑制し、描画精度を向上させる。
【解決手段】光ビーム照射装置２０から照射される光ビームを受光する受光装置５１をチャック１０に設け、光ビーム照射装置２０のヘッド部２０ａを回転する回転機構２８を設ける。回転機構２８によりヘッド部２０ａを回転する前と回転した後に、光ビーム照射装置２０から照射された光ビームを受光装置５１により受光する。ヘッド部２０ａを回転する前後の、受光装置５１により受光した光ビームの位置の変化から、光ビーム照射装置２０の空間的光変調器２５の傾きとヘッド部２０ａの傾きとを判別し、判別結果に基づき、空間的光変調器の傾き又はヘッド部２０aの傾きを補正する。 （もっと読む）

【課題】車両に搭載された車載装置にて取得される車両の世界座標系と路側装置にて取得される車両のカメラ座標系との対応テーブルを作成する処理の効率化を図る。
【解決手段】車両の世界座標系の位置座標データを取得するとともに、光源／熱源を、その間隔が不均等となるパターンで間欠出力する車載装置２０と、車両を撮影する路側装置１０と、車載装置２０における光源／熱源の出力タイミング情報と、路側装置１０にて撮影された画像に含まれる光源／熱源の出力タイミングとに基づいて、車両の世界座標系の位置座標データと車両のカメラ座標系の位置座標データとを時刻同期させ、車両についての世界座標系の位置座標データとカメラ系座標の位置座標データとの対応テーブルを作成する位置対応テーブル作成部３０とを有する。 （もっと読む）

【課題】ウェーハの表面に生じうる特定欠陥をより確実に検出することが可能な検出方法、検出システムおよび検出プログラムを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の特定欠陥の検出方法は、ウェーハの表面に光を照射して該ウェーハの表面上の欠陥の位置に対応して検出される輝点の面内位置情報である輝点マップを取得する工程（Ｓ１０１）と、前記輝点マップにおいて、特定欠陥の発生が予想される領域である判定対象領域と、該判定対象領域以外の所定領域である参照領域とを特定し、前記判定対象領域における輝点密度の、前記参照領域における輝点密度に対する比を算出する工程（Ｓ１０２）と、算出された前記比の値に基づいて、前記特定欠陥の発生の有無を判定する工程（Ｓ１０３）と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】集積回路のような電子素子の製造において、光計測を用いた測定の精度を改善する方法及びシステムを提供する。また、調節可能なレジストの光学特性を変化させる方法及びシステムを提供する。
【解決手段】その調節可能なレジスト層は反応性ガス、液体、プラズマ、放射線若しくは熱エネルギー又はこれらを結合させたものを用いて処理されて良い。それによってフォトレジストは露光前に第１組の光学特性と異なる第２組の光学特性を得て、露光波長で又はその近傍の放射線に対して透明ではなくなり、ＯＴＳＭ構造４２０が光線４２５、４２６及び４２７を反射する。 （もっと読む）

【課題】液浸法で露光を行う露光装置の液体に接する部分に異常があるかどうかを効率的に判定する。
【解決手段】露光光ＥＬで投影光学系ＰＬと液体１とを介して基板Ｐを露光する露光方法において、液体１に接する接液部を光学的に観察し、得られる第１画像データを記憶する第１工程と、接液部の液体１との接触後、例えば液浸露光後に接液部を光学的に観察して第２画像データを得る第２工程と、第１画像データと第２画像データとを比較して、その観察対象部の異常の有無を判定する第３工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】各吐出ノズルの吐出量を正確に把握し、精度良く全ノズルの吐出量を調整することができる塗布方法および塗布装置を提供する。
【解決手段】吐出ノズルから液滴を吐出し、基板へ塗布を行う吐出工程と、吐出ノズルから吐出した液滴の着弾面積を測定する測定工程と、前記吐出工程における各吐出ノズルの制御量を調節する調節工程と、を有する塗布方法において、前記調節工程では、前記吐出工程が行われる前に実施された前記測定工程の過去データの蓄積から得られる統計データにもとづいて、この吐出工程における各吐出ノズルの制御量の調節を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】種々の形状のマークの識別を可能とする。
【解決手段】電子部品Ｃを基板Ｋに実装する際に、電子部品又は基板に付されたマークＭを撮像した撮像画像データによるマークの識別に用いられる画像処理方法であって、マークの撮像画像データから当該マークの中心位置を特定する中心特定工程と、マークの中心位置からマークの撮像画像データの極座標変換データを取得するデータ変換工程と、極座標変換データにおける背景とマークとの境界線の形状的特徴からマークの形状を判別する形状判別工程と備えている。 （もっと読む）