【課題】画像処理によらず、測定位置を適切に調整することができるエッチングモニタリング装置を提供する。
【解決手段】本発明に係るエッチングモニタリング装置は、光源１０から被処理基板Ｓ上に導入される入射スポット光の照射位置を移動させるための微小移動ステージ１６と、被処理基板Ｓ上を入射スポット光の光径以下の間隔で走査した照射位置の各々に対し、CCDラインセンサ１８により取得される検出信号から干渉成分の強度を取得する干渉強度取得部２５と、干渉強度取得部２５により取得された干渉成分の強度に基づき、その強度が最大となる被処理基板Ｓ上の位置を探索し、その位置をエッチング深さの測定位置とするよう照射位置を移動させる測定位置決定部２６と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】複数レイヤ試料の２つのレイヤ間のオーバレイ誤差を決定する方法を提供する。
【解決手段】試料の第１レイヤから形成される第１構造および第２レイヤから形成される第２構造をそれぞれ有する複数の周期的ターゲットについて、光学システムを用い、周期的ターゲットのそれぞれについて光学信号が計測される。第１および第２構造の間には既定義されたオフセットが存在する。散乱計測オーバレイ技術を用いて既定義されたオフセットに基づいて周期的ターゲットからの前記計測された光学信号を分析することによって第１および第２構造間のオーバレイ誤差が決定される。本光学システムは、反射計、偏光計、画像化、干渉計、および／または走査角システムのうちの任意の１つ以上を備える。 （もっと読む）

【課題】複数のレーザー変位計を用い、チャックのθ方向の傾きを精度良く検出して、基板のθ方向の位置決めを精度良く行う。
【解決手段】第２のステージ（Ｙステージ１６）に複数のレーザー変位計４３を設けて、複数のレーザー変位計４３をチャック１０ａ，１０ｂと共にＸＹ方向へ移動し、第２のステージに冷却装置を設けて、第２のステージが搭載されたガイド（Ｙカイド１５）で発生する熱により第２のステージが変形するのを防止しながら、複数のレーザー変位計４３によりチャック１０ａ，１０ｂの変位を複数箇所で測定する。測定結果からチャック１０ａ，１０ｂのθ方向の傾きを検出し、検出結果に基づき、第３のステージ（θステージ１７）によりチャック１０ａ，１０ｂをθ方向へ回転して、基板１のθ方向の位置決めを行う。 （もっと読む）

【課題】実質的に同程度の時間及び正確さで、異なる画像の欠陥検出を実行する。
【解決手段】本発明に係る欠陥検出方法は、工業用部品に関する入力画像を受け取るステップと、上記入力画像に関するモデルタイプを受け取るステップと、上記モデルタイプに対応するモデル画像を取得するステップと、上記モデル画像と上記入力画像との間の画像間変換を推定するステップと、上記推定された画像間変換に基づいて上記モデル画像及び上記入力画像を共通座標系に変換することによって位置合わせされた入力画像と位置合わせされたモデル画像とを取得するステップと、上記入力画像及び上記モデル画像に関する複数の画像差分ベクトルを形成するステップと、上記入力画像に関するラベルされた分類マップを生成する統計分類モデルを、上記複数の画像差分ベクトルに対して適用するステップと、を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】検査感度を向上させることができるパターン検査装置を提供する。
【解決手段】第１の検出データと前記第１の遅延データとから解像限界以下のパターンのデータを抽出する第１の抽出部３３と、前記抽出された第１の検出データに係るデータの注目画素に対する周辺領域の出力レベルの平均値を演算し、前記抽出された第１の検出データに係るデータの出力レベルと前記平均値との差を演算する第１の出力変位演算部３４ａと、前記抽出された第１の遅延データに係るデータの注目画素に対する周辺領域の出力レベルの平均値を演算し、前記抽出された第１の遅延データに係るデータの出力レベルと前記平均値との差を演算する第２の出力変位演算部３４ｂと、前記第１及び第２の出力変位演算部による演算結果に基づいて、パターン欠陥を検出する。 （もっと読む）

【課題】検査完了までに要する時間の増加を抑制しつつ詳細な欠陥レビュー検査を可能にする。
【解決手段】基板検査装置１は、基板ＷをＸ方向へ搬送する基板搬送ユニット２２と、Ｘ方向へ搬送中の基板Ｗにおける欠陥を検出するラインスキャンカメラ１５、ラインスキャンカメラ駆動部１１５、欠陥検出部１２１および制御部１０１と、検出された欠陥の画像を同搬送中に取得するレビューカメラ１９、レビューカメラ駆動部１１９および制御部１０１と、を備える。 （もっと読む）

【課題】単一ビームや単針を走査する方法と比べて短時間にパターンを検査することができるパターン形成部材の検査方法及び装置、並びにパターン形成部材を提供する。
【解決手段】被転写材料に転写すべきパターン３とプラズモン共鳴構造体４とを有するパターン形成部材１を準備し、プラズモン共鳴構造体４に光を照射してプラズモン共鳴構造体４のプラズモン共鳴の吸収特性を計測し、吸収特性に基づいてパターン３を検査する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、エッジの変形、或いはコントラストの変動等に依らず、高精度にパターンマッチングを行うパターンマッチング方法，画像処理装置、及びコンピュータプログラムの提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するための一態様として、以下に設計データに基づいて形成されたテンプレートを用いて、画像上でパターンマッチングを実行するパターンマッチング方法、或いは装置であって、パターンの輪郭を定義する線分によって、区分けされる内側領域、及び／又は外側領域について、画像の特徴量を求め、当該特徴量が所定の条件を満たした位置をマッチング位置，マッチング位置候補、或いは誤ったマッチング位置と決定するパターンマッチング方法、及び装置を提案する。 （もっと読む）

【課題】欠陥検査装置では検出倍率を上げて微細欠陥検出感度を向上させるため、焦点深
度が浅くなり、環境変動によって結像位置がずれ、欠陥検出感度が不安定になる課題があ
る。
【解決手段】被検査基板を搭載して所定方向に走査するＸＹステージと、被検査基板上の
欠陥を斜めから照明し、その欠陥を上方に配した検出光学系で検出する方式で、この結像
状態を最良の状態に保つために、温度及び気圧の変化に対して、結像位置変化を補正する
機構を備えたことを特徴とする欠陥検査装置。 （もっと読む）

【課題】小型であり、かつ構成部材の位置合せが容易なエンコーダ装置を提供する。
【解決手段】エンコーダヘッド２０は、光源部からの計測光をスケール５（回折格子）に向けて反射させる第１プリズム２１と、第１プリズム２１により反射された計測光を二つの直線偏光に分割する偏光ビームスプリッタ膜２２と、偏光ビームスプリッタ膜２２を透過した直線偏光を円偏光に変換してスケール５上の一方の位置に照射させる第１波長板２３と、偏光ビームスプリッタ膜２２で反射した直線偏光を円偏光に変換してスケール５上の他方の位置に照射させる第２波長板２４と、スケール５で反射回折した±１次回折光を干渉させて光検出器に向けて反射させる第２プリズム２５とを有し、偏光ビームスプリッタ膜２２が第１プリズム２１と第２プリズム２５に挟まれて設けられ第１プリズム２１、第２プリズム２５および偏光ビームスプリッタ膜２２が一体に形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高さ検査における検出誤差を低減させる。
【解決手段】検出装置１００は、光源２０１を有し、前記光源から発せられた光を対象物面１０１に照明する照明光学系２００と、前記対象物１０１に前記照明光学系２００からの照明光を照明して、反射光を集光する対物レンズ２１８と、前記対物レンズ２１８を通過した前記反射光を結像する結像光学系と、前記対象物１０１と共役な、前記照明光学系２００内の点に設置した照明スリット２１０と、結像光学系内のビームスプリッタ２２２と、前記2つに分岐された光線の一方の結像点より前に設置された前側検出スリット２３０と、他方の結像点より後に設置された後側検出スリット２４０と、前記前側検出スリットを通過透過光をそれぞれ独立に受光する複数の前側検出光量センサ２５２と、それぞれの透過光をそれぞれ独立に受光する複数の後側検出光量センサ２５４と、を少なくとも備える。 （もっと読む）

【課題】被加工物の上面位置を計測する高さ位置計測装置およびレーザー加工機を提供する。
【解決手段】発光源からの光を第１の経路に導き、反射光を第２の経路に導く光分岐手段と、第１の経路に導かれた光を平行光に形成するコリメーションレンズによって平行光に形成された光を被加工物に導く対物レンズと、コリメーションレンズと対物レンズとの間に配設され、対物レンズ側の端面に反射ミラーが形成され、光路長を伸ばす透明体からなる円筒状の基準光路長設定部材と、反射ミラーによって反射し第１の光分岐手段から第２の経路に導かれた反射光と、被加工物で反射し第１の光分岐手段から第２の経路に導かれた反射光との干渉を回折する回折格子と、回折した反射光の所定の波長域における光強度を検出するイメージセンサーからの検出信号に基づいてチャックテーブルの表面から被加工物の上面までの距離を求める制御手段とを具備している。 （もっと読む）

【課題】被計測物に損害を与えずに、被計測物の形状を正確に計測する。
【解決手段】形状測定装置１１は、スペックルパターン２が投影された被計測物１を撮像する撮像装置１３、１４を備え、撮像装置１３で撮像された画像と、撮像装置１４で撮像された画像とから被計測物１の形状を計測するものである。被計測物１に対して、スペックルパターン２を白色光によって投影する投影装置１２を備えている。撮像装置１３と撮像装置１４は、撮像装置１３で撮像された被計測物１の画像と、撮像装置１４で撮像された被計測物１の画像とが互いに角度がずれて撮像される位置に、配置されている。 （もっと読む）

【課題】参照画像と光学画像との高精度な位置合わせを行う方法および装置を提供することを目的とする。
【解決手段】パターン検査装置は、残差２乗和演算による光学画像と参照画像との位置ずれ量を取得するＳＳＤアライメント演算部３１０と、最小二乗法により、前記光学画像と前記補正された参照画像との合わせ位置からの位置ずれ量を演算する最小二乗法アライメント演算部３２０と、前記光学画像と前記残差２乗和および前記最小二乗法を用いて補正された参照画像とを比較する比較回路１０８と、を備え、前記ＳＳＤアライメント演算部３１０による演算を最初として、前記ＳＳＤアライメント演算部３１０と前記最小二乗法アライメント演算部３２０は、交互に同回数だけ複数回演算を繰り返し、比較回路１０８は、複数回演算が繰り返された結果得られた位置に補正された参照画像と前記光学画像とを比較することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】平面度が高く高精度なパターンを有する校正用ボードと、この校正用ボードを備えることにより、光学機器を校正するための画像取得が容易で、高精度な校正が可能な校正用装置を提供する。
【解決手段】光学機器の校正用装置１００を、ボード本体１１、このボード本体１１の一面に形成されたチェッカーパターン１２、及び、このチェッカーパターン１２の原点Ｐを挟んで点対称に形成された少なくとも２つ以上の基準部１３を有する校正用ボード１０と、照明装置２０と、校正用ボード１０に対して照明装置２０の反対側に配置する光学機器であるカメラ本体３０を保持し、校正用ボード１０に対してカメラ本体３０を相対移動させる雲台４０と、から構成する。 （もっと読む）

【課題】 真空チャンバー内に配置される計測装置において計測光学系等を好適に使用することを目的とする。
【解決手段】 真空チャンバー内に配置される計測装置であって、
真空チャンバーの内部に配置され、基板の位置または高さを計測する計測光学系と、
計測光学系の少なくとも一部を密封して覆うカバーと、カバー内に気体を供給および排出するための配管と、
配管を介してカバー内に供給または排出される気体の量を制御することによってカバー内の圧力を制御する圧力制御手段と、
を備え、カバーには透明板が設けられ、
圧力制御手段は、カバー内の圧力変動を抑え、かつ、カバー内外に所定の圧力差が生じるように気体の量を制御し、
計測光学系は、圧力差によって透明板が変形することによって生じる収差を補正するように構成されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ２次以上の回折光および迷光の発生を抑え、位置検出信号のＳ／Ｎ比を改善し検出精度の向上を図る。
【解決手段】 屈折率ｎの保護層１２で格子面１１ａが覆われた回折格子１１のピッチをｄ、照射される可干渉光の真空中の波長をλ_０とした時、ｄ＜２λ_０／ｎ とし、上記回折格子１１への可干渉光の入射角θ_０を
｜ｓｉｎθ_０｜＜（２λ_０／ｄｎ）−１
なる式を満たす角度に設定し、１次回折光を位置検出に使用する。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で素材、板厚、端面の状態等を含めたガラス基板等の状態の検査を行うことが可能なガラス基板検査装置及びガラス基板製造方法を提供することを目的としている。
【解決手段】画像データを解析する解析手段を有し、前記解析手段は、前記画像データから特定の色の画像データを抽出する色抽出手段と、前記色抽出手段により抽出された前記特定の色の画像データを含む第一の所定領域の画像データの色の変化に基づき前記ガラス基板の端面に対する加工が行われているか否かを検出する端面状態検出手段と、
を有する。 （もっと読む）

【課題】電極パターンまたは配線パターンに安定的に焦点を合わせることができる画像取得装置、欠陥修正装置および画像取得方法を提供すること。
【解決手段】本発明は、欠陥が生じている基板１１１の一部を拡大した画像を取得する欠陥修正装置１００であって、基板１１１の一部を撮像する撮像部１２１と、基板１１１を載置したステージを移動するステージ移動部１１３と、対物レンズ１２９の基板１１１に対する焦点合わせを行う合焦検出部１２３と、ステージ移動部１１３を制御して、合焦検出部１２３が焦点合わせを行う場合に合焦検出領域から基板１１１の画像取得対象領域内に含まれる欠陥を退避させるステージ制御部１５６と、合焦検出部１２３による焦点合わせ後の焦点条件を固定する合焦制御部１５５と、合焦制御部１５５による焦点条件の固定後に撮像部１２１に基板の一部を撮像させる撮像制御部１５３とを備える。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で素材、板厚、端面の状態等を含めたガラス基板等の状態の検査を行うことが可能なガラス基板検査装置及びガラス基板の製造方法を提供することを目的としている。
【解決手段】画像データを解析する解析手段を有し、前記解析手段は、前記画像データの所定領域内における色に基づき前記ガラス基板の素材を判別する判別手段と、前記ガラス基板の板厚を算出する板厚算出手段と、前記ガラス基板の端面に対する加工が行われているか否かを検出する端面状態検出手段と、を有する。 （もっと読む）